DE1439723C3 - Vorrichtung zur gleichzeitigen Untersuchung von Objektoberflächen mittels Elektronenbeugung und elektronenmikroskopischer Abbildung - Google Patents
Vorrichtung zur gleichzeitigen Untersuchung von Objektoberflächen mittels Elektronenbeugung und elektronenmikroskopischer AbbildungInfo
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Description
3 4
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vakuum gebracht wird. Um das ganze Emissions-Vorrichtung
der eingangs genannten Art zu schaffen, Elektronen-Mikroskop ist ein Gehäuse 24 mit Durchbei
welcher das Objekt nicht unter Hochspannung Sichtscheibe 25 α angebracht, das die gefahrlose Besteht,
so daß eine einfache Bedienung möglich ist. dienung und Betrachtung des Elektronenbildes da-Dies
wird erfindungsgemäß dadurch erreicht, daß das 5 durch erlaubt, daß es in leitender Verbindung mit
Elektronen-Emissions-Mikroskop mit einem geerde- dem Gehäuse 3 des Elektronenbeugungsgerätes steht,
ten, mit einem Gehäuse des Elektronenbeugungs- welches normalerweise geerdet ist.
gerätes elektrisch leitend und vakuumdicht verbun- Die für die Zentrierung der Anode 18 und der
gerätes elektrisch leitend und vakuumdicht verbun- Die für die Zentrierung der Anode 18 und der
denen Gehäuse versehen und mit einem Projektiv Anodenblende 19 notwendigen Kreuztische 25 bzw.
ausgestattet ist, das auf Hochspannung liegt, und daß io 26 sind aus Isoliermaterial angefertigt, so daß die
im Gehäuse des Elektronen-Emissions-Mikroskopes Zentrierung während des Betriebes durch die geerdemindestens
ein Einblickfenster zur Beobachtung des ten Zentriertriebe 27 und 28 möglich ist. Zum Zwecke
Leuchtschirmes und eine berührungssichere Hoch- der Grobscharfstellung des Bildes wird das ganze
spannungs-Durchführung vorgesehen sind. Hierbei Emissions-Elektronen-Mikroskop mit Hilfe einer geliegen
alle Bedienungselemente für Zentrierungen und 15 erdeten vakuumdichten Verschiebevorrichtung 29 auf
Verschiebungen auf Erdpotential und sind somit be- das Objekt 4 zu oder von demselben weggeschoben,
rührungssicher. Da die gleichzeitige Aufnahme von Die Feinscharfstellung erfolgt in bekannter Weise
Beugungsbild und Emissionsbild desselben Objektes durch Variation der Spannung an der Zwischenan
sich schon eine ganze Reihe von Einstellungen elektrode 17.
und damit eine ungewöhnliche Konzentration des 20 Die Zentriervorrichtung 16 ist so ausgebildet, daß
Bedienenden erfordert, ist es offensichtlich, daß die das Emissionsmikroskop eine Drehbewegung ausberührungssichere
Ausführung der Vorrichtung einen führen kann, deren Mittelpunkt im Objekt 4, also in
großen Fortschritt bedeutet, weil sie überhaupt erst der Achse 14 des Beugungsgerätes, liegt. Damit kann
ein praktisches Arbeit ermöglicht. Außerdem erlaubt das Emissionsmikroskop immer senkrecht zur Objektdie
elektrische Verbindung zwischen dem Gehäuse 25 oberfläche gestellt werden, auch wenn diese zum
der beiden Geräte eine vakuumdichte Verbindung der Zwecke der Einstellung des Beugungswinkels leicht
Vakuumräume, wodurch die zusätzlichen Vakuum- geneigt wird.
pumpen für das Emissionsmikroskop eingespart wer- Die Verschiebevorrichtung 29 dient nicht nur der
den können. Grobscharfstellung des Bildes, sie dient auch dazu,
Die Erfindung ist im folgenden an Hand der 30 das Emissionsmikroskop ganz aus der Innenkammer
F i g. 2 an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert. 11 zurückzuziehen, um andere Zusatzgeräte zum
Vom Elektronenbeugungsgerät ist ein Teil der Elektronenbeugungsgerät, wie beispielsweise eine
Beugungskammer 3 mit den Kondensorlinsen 2 ge- Ionenätzvorrichtung, ein Lichtmikroskop oder eine
zeichnet sowie die gekühlte Innenkammer 11 und das Temperatursonde für die Messung der Oberflächen-Objekt
4. Dieses ist in bekannter Weise auf einen 35 temperatur des Objektes, einzuführen. Vorteilhaft wird
heizbaren oder kühlbaren Goniometerkopf aufgesetzt, das Elektronen-Emissions-Mikroskop zusammen mit
der Translations- und Rotationsbewegungen im Va- solchen weiteren Zusatzgeräten für die Beobachtung
kuum erlaubt, beispielsweise die Einstellung des Beu- oder Beeinflussung der Objektoberfläche auf einen
gungswinkels zu dem in der Achse 14 des Beugungs- Flansch 15 montiert, welcher als Revolverteller ausgerätes
liegenden Elektronenstrahl. Auf einem Flansch 40 gebildet ist, der unter Vakuum gedreht werden kann,
15 an der Beugungskammer 3 ist ein vakuumdichter wobei die montierten Zusatzgeräte abwechslungsweise
Zentrierkopf 16 angebracht, welcher das Elektronen- vor das Objekt zu stehen kommen. Das gute Va-Emissions-Mikroskop
trägt. Dieses besteht in bekann- kuum in der Innenkammer verhindert dann eine ter Weise aus einem elektrostatischen Immersions- Kontamination der Objektoberfläche. Durch die Zenobjektiv
mit der Zwischenelektrode 17, der Anode 45 triervorrichtung 16 und die Verschiebevorrichtung 29
18 und der Anodenblende 19 sowie einem elektro- wird der Abstand der Befestigung der Elektroden 17,
statischen Projektiv 20, 32 und einem Leuchtschirm 18 an den isolierten Tragtisch 30 bzw. 25 vom Ob-21.
Das Projektiv könnte auch elektromagnetischer jekt 4 ungewöhnlich groß.
Art sein. Da die Elektroden trotzdem bis in die unmittelbare
Art sein. Da die Elektroden trotzdem bis in die unmittelbare
Das Elektronen-Emissions-Mikroskop ist vakuum- 50 Nähe des Objektes reichen müssen, ist eine Konstrukmäßig
mit dem Elektronenbeugungsgerät verbunden tion notwendig, bei welcher der Abstand vom Be-
und wird durch dessen Vakuumanlage ausgepumpt. festigungspunkt auf den isolierten Tragtisch 30 bzw.
Die ganze Einheit Anode 18, Anodenblende 19, äußere 25 der Elektroden 17 bzw. 18 bis zu ihrer Bohrung
Projektivelektroden 20 oder Gehäuse des magneti- 31 mindestens sechsmal größer wird als der mittlere
sehen Projektives und Leuchtschirm 21 befindet sich 55 Durchmesser der Elektroden.
auf positiver Hochspannung, welche mit Hilfe der Wenn ein elektrostatisches Projektiv verwendet
Durchführung 22 ins Vakuum eingeführt wird. Die wird, so liegen vorteilhaft die äußeren Elektroden 20
Zwischenelektrode 17 befindet sich auf der Spannung auf derselben Hochspannung wie die Anode, wähdes
Gehäuses 3 oder auf Hochspannung oder auf rend die Mittelelektrode 32 auf Gehäusepotential liegt,
einer Spannung, die zwischen beiden Spannungen 60 In diesem Fall wird die Mittelelektrode 32 vorteilhaft
liegt und welche mit Hilfe der Durchführung 23 ins direkt mit dem Gehäuse 24 verbunden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (8)
1. Vorrichtung zur gleichzeitigen Untersuchung emissionsmikroskop mit einem elektrostatischen
von Objektoberflächen mittels Elektronenbeugung Immersionsobjektiv und einem Leuchtschirm.
und elektronenmikroskopischer Abbildung, be- 5 Bei dem in F i g. 1 der Zeichnung schematisch darstehend
aus einem Elektronenbeugungsgerät und gestellten Elektronenbeugungsgerät handelt es sich
einem daran angebrachten Elektronenemissions- um ein Gerät, wie es beispielsweise in dem deutschen
mikroskop mit einem elektrostatischen Immer- Patent 1 221 744 vorgeschlagen wird. Die wichtigsionsobjektiv
und einem Leuchtschirm, dadurch sten Teile sind:
gekennzeichnet,^? das Elektronen- io Hn Elektronenstrahler L mit Hochspannungszu-
emissionsmikroskop mit einem geerdeten, mit führung 8
einem Gehäuse (3) des Elektronenbeugungs- eine oder mehrere Kondensorlinsen 2,
gerates elektrisch leitend undI vakuumdicht ver- ^ vakuumdichte Beugungskammer 3, die das
bundenen Gehäuse (24) versehen und mit einem Obiekt 4 enthält
Projekt«'ausgestattet ist, das auf Hochspannung 15 eme vakuumdich'te Beugungskammer 5 mit Fen-
hegt, und daß im Gehäuse (24) des Elektronen- ster6
emissionsmikroskop^ mindestens ein Einblick- Leuchtschirm und/oder Photoeinrichtung 7,
fenster (25 βI zur Beobachtung des Leuchtschir- fiine Evakuiervorrichtung mit Hochvakuum-
mes (21) und eine beruhrungssichere Hochspan- numr>en9
nungsdurchführung (22) vorgesehen sind. J so End Vorvakuumpumpen 10.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine der Elektro- Bekannt, aber nicht für alle Versuche erforderlich,
den (17, 18) des Immersionsobjektives auf einem ist ebenfalls die Einschließung des Präparates 4 in
vom Gehäuse (24) des Emissionselektronenmikro- eine ausheizbare Kühlfalle 11 mit Kühlmittelvorrat
skopes isolierten Tragtisch (30,25) befestigt ist. 25 12 und. separater Hochvakuumpumpe 13. Die Kühl-
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge- falle 11 besitzt öffnungen für den Elektronenstrahl
kennzeichnet, daß der isolierte Tragtisch (25) in und für andere Einrichtungen, wie für Entladung
mindestens zwei Koordinaten-Richtungen ver- durch langsame Elektronen, Ionenätzung, Aufdampschiebbar
ist. fung, Beobachtung durch ein Lichtmikroskop. Solche
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- 3° weiteren Zusätze sind aus der Literatur bekannt,
kennzeichnet, daß das Gehäuse (24) des Elek- Ein Reflexionsobjekt 4 kann gleichzeitig mit der tronenemissionsmikroskopes eine vakuumdichte Elektronenbeugung durch ein Lichtmikroskop beob: Verschiebevorrichtung (29) enthält, mit deren , achtet werden, um die Oberflächen-Topographie zu Hilfe das Mikroskop senkrecht zur Objektober- erkennen und den zu beugenden Elektronenstrahl an fläche verschiebbar ist. 35 die gewünschte Stelle auf dem Objekt zu bringen. Bei
kennzeichnet, daß das Gehäuse (24) des Elek- Ein Reflexionsobjekt 4 kann gleichzeitig mit der tronenemissionsmikroskopes eine vakuumdichte Elektronenbeugung durch ein Lichtmikroskop beob: Verschiebevorrichtung (29) enthält, mit deren , achtet werden, um die Oberflächen-Topographie zu Hilfe das Mikroskop senkrecht zur Objektober- erkennen und den zu beugenden Elektronenstrahl an fläche verschiebbar ist. 35 die gewünschte Stelle auf dem Objekt zu bringen. Bei
5. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- Zimmertemperatur kann dies mit guter Auflösung gekennzeichnet,
daß das Emissionselektronenmikro- schehen. Die Elektronenbeugung dient aber oft zur
skop in einer vakuumdichten Zentriervorrichtung Untersuchung von aufgeheizten Objekten mit Tempe-(16)
aufgehängt ist, welche eine Drehbewegung raturen bis 1500 oder 2000° C. Bei diesen Temperaum
einen Mittelpunkt ausführen kann, der sich in 40 türen muß das Objektiv des Lichtmikroskopes einen
der Achse (14) des Elektronenbeugungsgerätes größeren Abstand von der geheizten Objektoberfläche
befindet. haben, und damit wird die Auflösung des Licht-
6. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch ge- mikroskopes auf 1 μ oder mehr beschränkt,
kennzeichnet, daß das Elektronenbeugungsgerät . Um die Oberfläche auch bei hoher Temperatur eine das Objekt (4) umgebende kühlbare Innen- 45 mit guter Auflösung betrachten zu können, wäre die
kennzeichnet, daß das Elektronenbeugungsgerät . Um die Oberfläche auch bei hoher Temperatur eine das Objekt (4) umgebende kühlbare Innen- 45 mit guter Auflösung betrachten zu können, wäre die
. kammer (11) enthält und daß das Elektronen- Verwendung eines Elektronen-Emissions-Mikroskoemissionsmikroskop
mit Hilfe der Verschiebevor- pes vorteilhaft, wie es z. B. im Handbuch der Physik,
richtung (29) ohne Vakuumunterbrechung aus der Band 23, »Korpuskularoptik«, Springer-Verlag, Ber-Innenkammer
herausziehbar ist. Hn, 1956, S. 455 bis 460 (Ziffer 18), beschrieben ist.
7. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- 5° Die Elektronen könnten dabei thermisch oder durch
kennzeichnet, daß das Elektronenemissionsmikro- den zu beugenden Elektronenstrahl ausgelöst werden,
skop zusammen mit Zusatzgeräten auf einem Re- Die Verwendung eines solchen Emissions-Elektronenvolvertisch
(15) befestigt ist, so daß das Mikro- mikroskopes zur Präparatbeobachtung in einem
skop und die Zusatzgeräte wahlweise vor das Elektronendiffraktographen ist beschrieben von
Objekt gebracht werden können. 55 R. Amal, »Association d'un microscope ä emission
8. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge- et d'un diffractographe ä reflexion« in »Verhandlunkennzeichnet,
daß bei mindestens einer Elektrode gen 4. Internationaler Kongreß für Elektronenmikro-(17,
18) der Abstand vom Befestigungspunkt auf skopie«, Berlin, 1958, Verlag Springer, Berlin, 1960,
dem isolierten Tragtisch (30, 25) bis zur Bohrung S. 207 und 208. Dabei treten aber hauptsächlich zwei
(21) der Elektrode mindestens sechsmal so groß 6° Schwierigkeiten auf: Einerseits bewirkt der zu beuist
wie der mittlere Durchmesser der Elektrode. gende Elektronenstrahl eine Kontamination des Objekts,
anderseits liegt beim Elektronenbeugungsgerät das Objekt auf Erdpotential, bei den bekannten Elektronen-Emissions-Mikroskopen
auf Hochspannung.
65 Es muß also entweder das Gehäuse des Beugungs-
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur gleich- gerätes oder dasjenige des Mikroskopes auf Hochzeitigen Untersuchung von Objektoberflächen mittels spannung gebracht werden, was eine vernünftige BeElektronenbeugung
und elektronenmikroskopischer dienung unmöglich macht.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH1148963A CH409167A (de) | 1963-09-18 | 1963-09-18 | Vorrichtung zur elektronenoptischen Untersuchung von Objektoberflächen |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1439723A1 DE1439723A1 (de) | 1969-03-20 |
DE1439723B2 DE1439723B2 (de) | 1973-03-15 |
DE1439723C3 true DE1439723C3 (de) | 1973-10-04 |
Family
ID=4373983
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1439723A Expired DE1439723C3 (de) | 1963-09-18 | 1964-09-09 | Vorrichtung zur gleichzeitigen Untersuchung von Objektoberflächen mittels Elektronenbeugung und elektronenmikroskopischer Abbildung |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3363098A (de) |
CH (1) | CH409167A (de) |
DE (1) | DE1439723C3 (de) |
GB (1) | GB1031028A (de) |
NL (1) | NL6410713A (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH455959A (de) * | 1965-11-25 | 1968-05-15 | Balzers Patent Beteilig Ag | Elektronenemissionsmikroskop |
DE2514266C2 (de) * | 1975-03-27 | 1977-04-28 | Siemens Ag | Korpuskularstrahloptisches geraet mit zwei in strahlrichtung aufeinanderfolgenden teilraeumen unterschiedlicher druecke |
JPH01110204A (ja) * | 1987-10-23 | 1989-04-26 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡用走査トンネル顕微鏡 |
JP4262158B2 (ja) * | 2004-07-13 | 2009-05-13 | 株式会社日立ハイテクサイエンスシステムズ | 低真空走査電子顕微鏡 |
CN107481914B (zh) * | 2016-06-08 | 2023-06-06 | 清华大学 | 一种透射型低能量电子显微*** |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2281325A (en) * | 1941-08-20 | 1942-04-28 | Gen Electric | Electron microscope |
CH394629A (de) * | 1961-03-20 | 1965-06-30 | Trueb Taeuber & Co Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Aufnahme und Eichung von Elektronenbeugungsdiagrammen |
-
1963
- 1963-09-18 CH CH1148963A patent/CH409167A/de unknown
-
1964
- 1964-09-08 GB GB36713/64A patent/GB1031028A/en not_active Expired
- 1964-09-09 US US395222A patent/US3363098A/en not_active Expired - Lifetime
- 1964-09-09 DE DE1439723A patent/DE1439723C3/de not_active Expired
- 1964-09-15 NL NL6410713A patent/NL6410713A/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1031028A (en) | 1966-05-25 |
US3363098A (en) | 1968-01-09 |
DE1439723A1 (de) | 1969-03-20 |
NL6410713A (de) | 1965-03-19 |
DE1439723B2 (de) | 1973-03-15 |
CH409167A (de) | 1966-03-15 |
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