DE1222476B - Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen Halbleiterkoerpern durch Ziehen aus einer Schmelze - Google Patents

Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen Halbleiterkoerpern durch Ziehen aus einer Schmelze

Info

Publication number
DE1222476B
DE1222476B DES72899A DES0072899A DE1222476B DE 1222476 B DE1222476 B DE 1222476B DE S72899 A DES72899 A DE S72899A DE S0072899 A DES0072899 A DE S0072899A DE 1222476 B DE1222476 B DE 1222476B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
melt
coil
carrier body
induction coil
semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DES72899A
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Werner Spielmann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DES72899A priority Critical patent/DE1222476B/de
Priority to CH1454061A priority patent/CH401918A/de
Priority to GB5825/62A priority patent/GB932758A/en
Priority to FR890437A priority patent/FR81272E/fr
Priority to US178746A priority patent/US3275419A/en
Publication of DE1222476B publication Critical patent/DE1222476B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/14Heating of the melt or the crystallised materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/20Controlling or regulating
    • C30B15/22Stabilisation or shape controlling of the molten zone near the pulled crystal; Controlling the section of the crystal
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T117/00Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10T117/10Apparatus
    • Y10T117/1004Apparatus with means for measuring, testing, or sensing
    • Y10T117/1008Apparatus with means for measuring, testing, or sensing with responsive control means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T117/00Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10T117/10Apparatus
    • Y10T117/1024Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
    • Y10T117/1032Seed pulling
    • Y10T117/1068Seed pulling including heating or cooling details [e.g., shield configuration]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. CL:
BOId
Deutsche Kl.: 12c-2
Nummer: 1222476
Aktenzeichen: S 72899IV c/12 c
Anmeldetag: 9. März 1961
Auslegetag: 11. August 1966
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen Halbleiterkörpern durch Ziehen aus einer bis unter den Schmelzpunkt unterkühlten, gegebenenfalls dotierten Schmelze, bei dem die mit einer Heiz-Vorrichtung erwärmte Halbleiterschmelze von einem aus dem gleichen Halbleitermaterial bestehenden Träger gehalten und der der Ziehstelle benachbarte Teil der Schmelze unterkühlt wird, nach Patent 1162 329. Die Erfindung sieht dabei vor, daß in an sich bekannter Weise die durch Änderung der Oberflächenform und des Volumens der Schmelze während des Ziehens bedingte Abweichung des in einer die Schmelze umgebenden Induktionsspule fließenden Stromes von einem Sollwert in einer Regelvorrichtung als Steuerwert zur Beeinflussung der Schmelze benutzt wird und daß damit die Vorschubgeschwindigkeit des in Ziehrichtung fortlaufend in die Induktionsspule nachgeführten Trägerkörpers gesteuert wird. Bevorzugt wird dabei ein Trägerkörper verwendet, der über seine ganze, in Ziehrichtung verlaufende Länge einen konstanten Durchmesser aufweist.
Damit kann beim Dendritenziehen, bei dem auf der dem Trägerkörper zugewandten Seite der Schmelze festes Halbleitermaterial aufgeschmolzen und der in der Umgebung des Keimkristalls bzw. des anwachsendenDendriten befindliche Teil der Schmelze unterkühlt werden soll, ein gleichmäßiges Dendritenwachstum erzielt werden, da sich die unterkühlte Zone während des ganzen Ziehvorgangs jeweils an derselben Stelle befindet und außerdem auch die Aufschmelzung des Halbleitermaterials am selben Ort erfolgt.
Die Nachführung des zu schmelzenden Halbleitermaterials erfolgt proportional der Masse des entstandenen Dendritenbandes. Dabei wird das Halbleitermaterial kontinuierlich in die Heizspule nachgeführt.
Eine nähere Erläuterung der Erfindung wird im folgenden an Hand eines Ausführungsbeispiels gegeben.
In der Figur ist ein Trägerkörper 1 mit über seiner ganzen Länge konstantem Durchmesser dargestellt, aus dessen Schmelzkuppe 2 ein bandförmiger Halbleiterkörper 5 in Richtung des Pfeiles 15 gezogen wird. Diese Anordnung ist dabei entsprechend dem Hauptpatent in einem nicht dargestellten Reaktionsgefäß, das insbesondere mit einem Schutzgas hoher Wärmeleitfähigkeit gefüllt oder von diesem durchströmt wird, angeordnet. Der Trägerkörper kann dabei z. B. aus Germanium, Silicium oder einer Verfahren zum Herstellen von langgestreckten,
insbesondere dendritischen Halbleiterkörpern
durch Ziehen aus einer Schmelze
Zusatz zum Patent: 1162 329
Anmelder:
Siemens & Halske Aktiengesellschaft,
Berlin und München,
München 2, Witteisbacherplatz 2
Als Erfinder benannt:
Dr. Werner Spielmann, Barbizon (Frankreich) - -
AmBv-Verbindung bestehen. Zum Aufheizen der Schmelze dient die Induktionsspule 3. Um eine Unterkühlung der Schmelze zu erzielen, ist ein Kurzschlußring 4 vorgesehen, durch dessen Feld eine Schwächung des durch die Spule 3 erzeugten Induktionsstromes im oberen Teil der Schmelze und damit die geforderte Unterkühlung erzielt wird. Die Unterkühlung der oberen Zone der Schmelze kann aber auch durch andere Mittel, wie sie im Hauptpatent bereits näher erläutert wurden, erfolgen. Während des Ziehens des dendritischen Kristalls 5 wird der Trägerkörper 1 in Richtung des Pfeiles 16 nachgeführt. Die mit 17 bezeichnete Grenze flüssig-fest liegt immer am gleichen Ort, und besonders die unterkühlte, mit 18 bezeichnete Zone der Schmelze befindet sich jeweils an derselben Stelle. Die Lage der Schmelzstelle 17 und der unterkühlten Zone 18 ist vom Volumen und der Oberflächenform der Schmelzzone 2 abhängig. Einem bestimmten Volumen und einer bestimmten Oberflächenform der Schmelzzone entspricht dabei ein bestimmter Wert des in der Induktionsspule 3 fließenden Stroms.
Wie in Patent 1162 329 erläutert wird, haben zwei schmelzflüssige Körper des gleichen Materials, die mit einer Anordnung nach der Figur, also einem Parallelresonanzkreis, gebildet aus der Induktionsspule 3 und ihrer Parallelkapazität 7 und dem speisenden Hochfrequenzgenerator 8, zum Schmelzen gebracht werden können, dann die gleiche Oberflächen-
609 609/239
form und das gleiche Volumen (Zonenfülligkeit), wenn die Verschiebung der Resonanzfrequenz des Schwingkreises beim Einbringen dieser Körper in die Spule 3 und Aufschmelzen gleich groß sind. Die Zonenfülligkeit ist bei vorgegebenem Schmelzmaterial und vorgegebenen elektrischen Daten der Schmelzanordnung eine Funktion der Geometrie des Systems Spule/Schmelze.
Ändert sich während des Ziehens die Lage der Schmelzstelle 17 und die Lage der unterkühlten Zone 18 durch Anwachsen des Halbleitermaterials der Schmelze an dem dendritischen Halbleiterkörper, so ändert sich auch der Strom in der Induktionsspule 3. Diese Stromänderung bewirkt über eine Regelvorrichtung ein Nachführen des Trägerkörpers 1 in Richtung des Pfeiles 16, bis der Strom in der Spule wieder den Sollwert hat. Beim Ausführungsbeispiel dient die Induktionsspule 3 gleichzeitig als Heizspule. Es kann aber auch eine gesonderte Spule zum Aufheizen der Zone vorgesehen sein.
Die Änderung des Stroms bewirkt in der Induktionsspule eine Änderung des Anodengleichstroms des Hochfrequenzgenerators 8 und damit eine Änderung des Spannungsabfalls am Widerstand 9. Dieser Spannungsabfall wird in einer Kompensationsschaltung mit einem Sollwertgeber, z. B. einer Batterie 10, verglichen. Eine Abweichung des Anodenstroms des Hochfrequenzgenerators 8, bedingt durch eine Abweichung des Stroms in der Spule 3 vom Sollwert, bewirkt einen Strom in der Kompensationsschaltung, der mittels eines Magnetverstärkers 11, insbesondere mittels zweier Magnetverstärker in Gegentaktschaltung, verstärkt wird. Eine Abweichung des Spulenstroms vom Sollwert hat also eine veränderliche Ausgangsspannung am Magnetverstärker zur Folge, welche die Drehgeschwindigkeit eines Gleichstrommotors 12 regelt. Die Antriebswelle dieses Motors führt das Halbleitermaterial des Trägerkörpers 1 über eine mechanische Umsetzung, z. B. über ein Getriebe 14, und ein Zahnrad 13 in die Heizspule 3 hinein. Die Regelung über Magnetverstärker hat den Vorteil, daß bei einer starken Abweichung des Spulenstroms vom Sollwert eine schnelle Nachregelung erfolgt, während bei einer nur geringen Abweichung die Nachregelung langsamer vor sich geht, d. h., der durch die Abweichung vom Sollwert bedingte Strom in der Kompensationsschaltung wird durch den Magnetverstärker kontinuierlich verstärkt und damit ein kontinuierlicher Nachschub des Halbleitermaterials in die Heizspule erreicht.

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen Halbleiterkörpern durch Ziehen aus einer bis unter den Schmelzpunkt unterkühlten, gegebenenfalls dotierten
. Schmelze, bei. dem die mit einer Heizvorrichtung erwärmte Halbleiterschmelze von einem aus dem gleichen Halbleitermaterial bestehenden Träger gehalten und der der Ziehstelle benachbarte Teil der Schmelze unterkühlt wird, nach Patent 1162 329, dadurch gekennzeichnet, daß in an sich bekannter Weise die durch Änderung der Oberflächenform und des Volumens der Schmelze während des Ziehens bedingte Abweichung des in einer die Schmelze umgebenden Induktionsspule fließenden Stroms von einem Sollwert in einer Regelvorrichtung als Steuerwert zur Beeinflussung der Schmelze benutzt wird und daß damit die Vorschubgeschwindigkeit des in Ziehrichtung fortlaufend in die Induktionsspule nachgeführten Trägerkörpers gesteuert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Trägerkörper verwendet wird, der über seine ganze, in Ziehrichtung verlaufende Länge einen konstanten Durchmesser aufweist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Änderung des Spulenstroms bewirkte Änderung des Anodenstroms eines die Spule speisenden Generators mittels zweier Magnetverstärker in Gegentaktschaltung kontinuierlich verstärkt wird.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Französische Patentschrift Nr. 1222189.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
609 609/239 8.66 © Bundesdruckerei Berlin
DES72899A 1961-03-09 1961-03-09 Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen Halbleiterkoerpern durch Ziehen aus einer Schmelze Pending DE1222476B (de)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES72899A DE1222476B (de) 1961-03-09 1961-03-09 Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen Halbleiterkoerpern durch Ziehen aus einer Schmelze
CH1454061A CH401918A (de) 1961-03-09 1961-12-14 Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere bandförmigen Halbleiterkörpern
GB5825/62A GB932758A (en) 1961-03-09 1962-02-15 Improvements in or relating to methods of making bodies of semi-conductor material
FR890437A FR81272E (fr) 1961-03-09 1962-03-08 Procédé et dispositif pour fabriquer des corps semi-conducteurs allongés, notamment en forme de ruban
US178746A US3275419A (en) 1961-03-09 1962-03-09 Method and apparatus for producing elongated strip-shaped crystalline semiconductor bodies

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES72899A DE1222476B (de) 1961-03-09 1961-03-09 Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen Halbleiterkoerpern durch Ziehen aus einer Schmelze

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1222476B true DE1222476B (de) 1966-08-11

Family

ID=7503551

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DES72899A Pending DE1222476B (de) 1961-03-09 1961-03-09 Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen Halbleiterkoerpern durch Ziehen aus einer Schmelze

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3275419A (de)
CH (1) CH401918A (de)
DE (1) DE1222476B (de)
GB (1) GB932758A (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3617392A (en) * 1968-10-29 1971-11-02 Semimetals Inc Power control for crystal growing
GB1434527A (en) * 1972-09-08 1976-05-05 Secr Defence Growth of crystalline material
US4220626A (en) * 1978-04-13 1980-09-02 Monsanto Company RF Induction heating circuits for float zone refining of semiconductor rods

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1222189A (fr) * 1958-04-22 1960-06-08 Siemens Ag Procédé d'étirage pour semi-conducteurs

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE962006C (de) * 1954-07-01 1957-04-18 Siemens Ag Verfahren zum induktiven Schmelzen, insbesondere Zonenziehen, von Halbleitern mittels einer Hochfrequenzspule
US2927008A (en) * 1956-10-29 1960-03-01 Shockley Transistor Corp Crystal growing apparatus
FR1235341A (fr) * 1958-03-05 1960-07-08 Siemens Ag Procédé et appareil de fabrication continue de tiges mono-cristallines minces
GB904100A (en) * 1959-09-11 1962-08-22 Siemens Ag A process for zone-by-zone melting of a rod of semi-conductor material using an induction coil as the heating means and an automatic arrangement for controlling the current through the coil
NL255530A (de) * 1959-09-11
US2992311A (en) * 1960-09-28 1961-07-11 Siemens Ag Method and apparatus for floatingzone melting of semiconductor rods

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1222189A (fr) * 1958-04-22 1960-06-08 Siemens Ag Procédé d'étirage pour semi-conducteurs

Also Published As

Publication number Publication date
US3275419A (en) 1966-09-27
CH401918A (de) 1965-11-15
GB932758A (en) 1963-07-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1135671B (de) Verfahren zum Herstellen eines pn-UEbergangs und/oder eines Gradienten eines elektrisch wirksamen Elements in einem Halbleiterkristall
EP2190612A1 (de) Verfahren und einrichtung zum elektromagnetischen rühren von elektrisch leitenden flüssigkeiten
DE2635093A1 (de) Vorrichtung zum ziehen eines halbleiter-einkristalls
DE1134967B (de) Verfahren zum Ziehen eines stabfoermigen kristallinen Halbleiterkoerpers
DE3007944A1 (de) Elektro-schweissgeraet
DE2456512C3 (de) Anordnung zur Regelung der Eintauchtiefe von Abschmelzelektroden in Elektroschlacke-Umschmelzöfen
DE2513923A1 (de) Automatische regeleinrichtung fuer die kristallherstellung
DE2732873C2 (de)
DE1222476B (de) Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen Halbleiterkoerpern durch Ziehen aus einer Schmelze
DE1230227B (de) Verfahren zur Herstellung von homogenen Koerpern aus Germanium-Silicium-Legierungen
DE1213547B (de) Elektronenstrahlofen
DE1298085B (de) Verfahren zur Herstellung von Einkristallen hoher Kristallguete durch Zonenschmelzen
DE964708C (de) Verfahren zum Herstellen von Zonen unterschiedlicher Dotierung in Halbleiterkristallen durch Ziehen des Kristalls aus der Schmelze
DE1218412B (de) Verfahren zum Herstellen von einkristallinem Halbleitermaterial
DE1924364A1 (de) Regeleinrichtung fuer eine Vorrichtung zur Elektroraffination von Metallen
DE1961521A1 (de) Kristallzieheinrichtung
DE2632614A1 (de) Vorrichtung zum ziehen eines einkristallinen koerpers aus einem schmelzfilm
DE1278413B (de) Verfahren zum Ziehen duenner stabfoermiger Halbleiterkristalle aus einer Halbleiterschmelze
DE1202248B (de) Verfahren zum Herstellen von bandfoermigen Halbleiterkristallen
DE977561C (de) Verfahren und Anordnung zur Herstellung von reinstem, kristallinem Halbleitermaterial
DE967930C (de) Halbleiter mit P-N-Schicht und Verfahren zu seiner Herstellung
AT234148B (de) Verfahren zum tiegellosen Ziehen von einkristallinen Halbleiterstäben
AT345487B (de) Einrichtung zum konstanthalten der bad- bzw. lichtbogenspannung
DE2247651B2 (de) Vorrichtung zur Steuerung des Durchmessers eines Halbleiterstabes
AT322124B (de) Regelverfahren und- einrichtung für elektroschlacken-umschmelzanlagen mit einer verzehrbaren und einer unverzehrbaren zusatzelektrode