DE1222476B - Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen Halbleiterkoerpern durch Ziehen aus einer Schmelze - Google Patents
Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen Halbleiterkoerpern durch Ziehen aus einer SchmelzeInfo
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. CL:
BOId
Deutsche Kl.: 12c-2
Nummer: 1222476
Aktenzeichen: S 72899IV c/12 c
Anmeldetag: 9. März 1961
Auslegetag: 11. August 1966
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen
Halbleiterkörpern durch Ziehen aus einer bis unter den Schmelzpunkt unterkühlten, gegebenenfalls
dotierten Schmelze, bei dem die mit einer Heiz-Vorrichtung erwärmte Halbleiterschmelze von einem
aus dem gleichen Halbleitermaterial bestehenden Träger gehalten und der der Ziehstelle benachbarte
Teil der Schmelze unterkühlt wird, nach Patent 1162 329. Die Erfindung sieht dabei vor, daß in an
sich bekannter Weise die durch Änderung der Oberflächenform und des Volumens der Schmelze während
des Ziehens bedingte Abweichung des in einer die Schmelze umgebenden Induktionsspule fließenden
Stromes von einem Sollwert in einer Regelvorrichtung als Steuerwert zur Beeinflussung der Schmelze
benutzt wird und daß damit die Vorschubgeschwindigkeit des in Ziehrichtung fortlaufend in die Induktionsspule
nachgeführten Trägerkörpers gesteuert wird. Bevorzugt wird dabei ein Trägerkörper verwendet,
der über seine ganze, in Ziehrichtung verlaufende Länge einen konstanten Durchmesser aufweist.
Damit kann beim Dendritenziehen, bei dem auf der dem Trägerkörper zugewandten Seite der
Schmelze festes Halbleitermaterial aufgeschmolzen und der in der Umgebung des Keimkristalls bzw. des
anwachsendenDendriten befindliche Teil der Schmelze unterkühlt werden soll, ein gleichmäßiges Dendritenwachstum
erzielt werden, da sich die unterkühlte Zone während des ganzen Ziehvorgangs jeweils an
derselben Stelle befindet und außerdem auch die Aufschmelzung des Halbleitermaterials am selben
Ort erfolgt.
Die Nachführung des zu schmelzenden Halbleitermaterials erfolgt proportional der Masse des entstandenen
Dendritenbandes. Dabei wird das Halbleitermaterial kontinuierlich in die Heizspule nachgeführt.
Eine nähere Erläuterung der Erfindung wird im folgenden an Hand eines Ausführungsbeispiels gegeben.
In der Figur ist ein Trägerkörper 1 mit über seiner ganzen Länge konstantem Durchmesser dargestellt,
aus dessen Schmelzkuppe 2 ein bandförmiger Halbleiterkörper 5 in Richtung des Pfeiles 15 gezogen
wird. Diese Anordnung ist dabei entsprechend dem Hauptpatent in einem nicht dargestellten Reaktionsgefäß, das insbesondere mit einem Schutzgas hoher
Wärmeleitfähigkeit gefüllt oder von diesem durchströmt wird, angeordnet. Der Trägerkörper kann
dabei z. B. aus Germanium, Silicium oder einer Verfahren zum Herstellen von langgestreckten,
insbesondere dendritischen Halbleiterkörpern
durch Ziehen aus einer Schmelze
insbesondere dendritischen Halbleiterkörpern
durch Ziehen aus einer Schmelze
Zusatz zum Patent: 1162 329
Anmelder:
Siemens & Halske Aktiengesellschaft,
Berlin und München,
München 2, Witteisbacherplatz 2
Als Erfinder benannt:
Dr. Werner Spielmann, Barbizon (Frankreich) - -
AmBv-Verbindung bestehen. Zum Aufheizen der
Schmelze dient die Induktionsspule 3. Um eine Unterkühlung der Schmelze zu erzielen, ist ein Kurzschlußring
4 vorgesehen, durch dessen Feld eine Schwächung des durch die Spule 3 erzeugten Induktionsstromes im oberen Teil der Schmelze und damit die
geforderte Unterkühlung erzielt wird. Die Unterkühlung der oberen Zone der Schmelze kann aber
auch durch andere Mittel, wie sie im Hauptpatent bereits näher erläutert wurden, erfolgen. Während
des Ziehens des dendritischen Kristalls 5 wird der Trägerkörper 1 in Richtung des Pfeiles 16 nachgeführt.
Die mit 17 bezeichnete Grenze flüssig-fest liegt immer am gleichen Ort, und besonders die
unterkühlte, mit 18 bezeichnete Zone der Schmelze befindet sich jeweils an derselben Stelle. Die Lage
der Schmelzstelle 17 und der unterkühlten Zone 18 ist vom Volumen und der Oberflächenform der
Schmelzzone 2 abhängig. Einem bestimmten Volumen und einer bestimmten Oberflächenform der
Schmelzzone entspricht dabei ein bestimmter Wert des in der Induktionsspule 3 fließenden Stroms.
Wie in Patent 1162 329 erläutert wird, haben zwei schmelzflüssige Körper des gleichen Materials, die
mit einer Anordnung nach der Figur, also einem Parallelresonanzkreis, gebildet aus der Induktionsspule
3 und ihrer Parallelkapazität 7 und dem speisenden Hochfrequenzgenerator 8, zum Schmelzen gebracht
werden können, dann die gleiche Oberflächen-
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form und das gleiche Volumen (Zonenfülligkeit), wenn die Verschiebung der Resonanzfrequenz des
Schwingkreises beim Einbringen dieser Körper in die Spule 3 und Aufschmelzen gleich groß sind. Die
Zonenfülligkeit ist bei vorgegebenem Schmelzmaterial und vorgegebenen elektrischen Daten der Schmelzanordnung
eine Funktion der Geometrie des Systems Spule/Schmelze.
Ändert sich während des Ziehens die Lage der Schmelzstelle 17 und die Lage der unterkühlten
Zone 18 durch Anwachsen des Halbleitermaterials der Schmelze an dem dendritischen Halbleiterkörper,
so ändert sich auch der Strom in der Induktionsspule 3. Diese Stromänderung bewirkt über eine
Regelvorrichtung ein Nachführen des Trägerkörpers 1 in Richtung des Pfeiles 16, bis der Strom in der
Spule wieder den Sollwert hat. Beim Ausführungsbeispiel dient die Induktionsspule 3 gleichzeitig als
Heizspule. Es kann aber auch eine gesonderte Spule zum Aufheizen der Zone vorgesehen sein.
Die Änderung des Stroms bewirkt in der Induktionsspule eine Änderung des Anodengleichstroms
des Hochfrequenzgenerators 8 und damit eine Änderung des Spannungsabfalls am Widerstand 9. Dieser
Spannungsabfall wird in einer Kompensationsschaltung mit einem Sollwertgeber, z. B. einer Batterie
10, verglichen. Eine Abweichung des Anodenstroms des Hochfrequenzgenerators 8, bedingt durch
eine Abweichung des Stroms in der Spule 3 vom Sollwert, bewirkt einen Strom in der Kompensationsschaltung,
der mittels eines Magnetverstärkers 11, insbesondere mittels zweier Magnetverstärker in
Gegentaktschaltung, verstärkt wird. Eine Abweichung des Spulenstroms vom Sollwert hat also eine veränderliche Ausgangsspannung am Magnetverstärker
zur Folge, welche die Drehgeschwindigkeit eines Gleichstrommotors 12 regelt. Die Antriebswelle dieses Motors führt das Halbleitermaterial des Trägerkörpers
1 über eine mechanische Umsetzung, z. B. über ein Getriebe 14, und ein Zahnrad 13 in die
Heizspule 3 hinein. Die Regelung über Magnetverstärker hat den Vorteil, daß bei einer starken Abweichung
des Spulenstroms vom Sollwert eine schnelle Nachregelung erfolgt, während bei einer nur
geringen Abweichung die Nachregelung langsamer vor sich geht, d. h., der durch die Abweichung vom
Sollwert bedingte Strom in der Kompensationsschaltung wird durch den Magnetverstärker kontinuierlich
verstärkt und damit ein kontinuierlicher Nachschub des Halbleitermaterials in die Heizspule erreicht.
Claims (3)
1. Verfahren zum Herstellen von langgestreckten, insbesondere dendritischen Halbleiterkörpern
durch Ziehen aus einer bis unter den Schmelzpunkt unterkühlten, gegebenenfalls dotierten
. Schmelze, bei. dem die mit einer Heizvorrichtung erwärmte Halbleiterschmelze von einem aus dem
gleichen Halbleitermaterial bestehenden Träger gehalten und der der Ziehstelle benachbarte Teil
der Schmelze unterkühlt wird, nach Patent 1162 329, dadurch gekennzeichnet, daß
in an sich bekannter Weise die durch Änderung der Oberflächenform und des Volumens der
Schmelze während des Ziehens bedingte Abweichung des in einer die Schmelze umgebenden
Induktionsspule fließenden Stroms von einem Sollwert in einer Regelvorrichtung als Steuerwert
zur Beeinflussung der Schmelze benutzt wird und daß damit die Vorschubgeschwindigkeit des in
Ziehrichtung fortlaufend in die Induktionsspule nachgeführten Trägerkörpers gesteuert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Trägerkörper verwendet
wird, der über seine ganze, in Ziehrichtung verlaufende Länge einen konstanten Durchmesser
aufweist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Änderung des
Spulenstroms bewirkte Änderung des Anodenstroms eines die Spule speisenden Generators
mittels zweier Magnetverstärker in Gegentaktschaltung kontinuierlich verstärkt wird.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Französische Patentschrift Nr. 1222189.
Französische Patentschrift Nr. 1222189.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
609 609/239 8.66 © Bundesdruckerei Berlin
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