DE1210319B - Light metering device in photographic cameras - Google Patents

Description

Belichtungsmeßeinrichtung in fotografischen Kameras Die Erfindung betrifft die Anordnung eines fotoelektrischen Wandlers in fotografischen Kameras, deren Sucherstrahlengang eine Bildebene besitzt.Exposure Meter in Photographic Cameras The invention concerns the arrangement of a photoelectric converter in photographic cameras, whose viewfinder beam path has an image plane.

Es ist bei den genannten Kameras bekannt, einen fotoelektrischen Wandler im Sucherstrahlengang anzubringen. Insbesondere ist es bei Spiegelreflexkameras bekannt, eine Fotozelle auf der Suchermattscheibe zu lagern und diese Zelle von außen verschiebbar zu machen, um damit alle Punkte der Mattscheibe abtasten zu können. Leider hat diese Vorrichtung den Nachteil, daß die Fotozelle eine relativ große Flächenausdehnung besitzt, so daß beim Meßvorgang ein nicht unwesentlicher Teil der Mattscheibe abgedeckt ist. Besonders unangenehm ist"daß immer gerade derjenige Bildausschnitt dunkel verbleibt, an dem im Moment gemessen wird.A photoelectric converter is known from the cameras mentioned to be attached in the viewfinder beam path. In particular, it is with SLR cameras known to store a photocell on the viewfinder matt screen and this cell from to make it movable on the outside so that all points on the screen can be scanned. Unfortunately, this device has the disadvantage that the photocell is a relatively large one Has surface area, so that a not insignificant part during the measuring process the screen is covered. It is particularly uncomfortable that "always just the one The image section that is currently being measured remains dark.

Dieser Nachteil ist erfindungsgemäß dadurch behoben, daß als fotoelektrischer Wandler der Belichtungsmeßeinrichtung ein bekannter offener oder geschlossener rahmenförmiger Fotowiderstand verwandt und in der Bildebene des Sucherstrahlenganges angeordnet ist.This disadvantage is eliminated according to the invention in that as a photoelectric The transducer of the exposure metering device is a known open or closed frame-shaped Photoresistor related and arranged in the image plane of the viewfinder beam path is.

Die Rahmenbreite des Fotowiderstandes kann relativ schmal gehalten sein, d. h. unter 1 mm Breite, wenn man jede der erforderlichen zwei Elektroden etwa 0,25 mm breit macht und zwischen ihnen eine 0,3 mm breite CdS-Schicht beläßt. Bei dieser geringen Rahmenbreite macht sich die vom Widerstand abgedeckte Bildfläche nicht mehr störend bemerkbar; es sind vielmehr praktisch alle Bildpunkte gut zu übersehen.The frame width of the photo resistor can be kept relatively narrow be, d. H. under 1mm width when using each of the required two electrodes makes about 0.25 mm wide and leaves a 0.3 mm wide layer of CdS between them. With this narrow frame width, the image area covered by the resistor is made no longer noticeable disturbing; rather, practically all pixels are good too overlook.

Ein weiterer Vorteil ergibt sich daraus, daß letzterer nur einen Streifen einer CdS-Schicht besitzt, so daß es dem Benutzer ohne weiteres möglich ist, einen gewünschten Bildpunkt mit diesem Streifen zur Dekkung zu bringen. Dieser Vorteil besteht insbesondere gegenüber Fotowiderständen mit Kammelektroden und flächenhafter Ausdehnung. Bei diesen ist es für den Benutzer nicht möglich, festzustellen oder auch nur abzuschätzen, ob ein gewünschter Bildpunkt auf die CdS-Schicht fällt und damit die Belichtungsmessung beeinflußt, oder ob er gerade auf eine Elektrode fällt und somit nicht an der Belichtungsmessung teilnimmt.Another advantage arises from the fact that the latter has only one strip a CdS layer, so that it is easily possible for the user to have a to bring the desired pixel with this strip to cover. This advantage exists in particular compared to photoresistors with comb electrodes and more extensive Expansion. With these it is not possible for the user to determine or also only to estimate whether a desired pixel falls on the CdS layer and so that it affects the exposure metering, or whether it just falls on an electrode and thus does not take part in the exposure measurement.

Der rahmenförmige Fotowiderstand läßt sich in der erfindungsgemäßen Weise mit den genannten Vorteilen sowohl in der Bildebene .eines Durchsichtsuchers, als auch in Kameras mit Spiegelreflexsucher anordnen. Für Spiegelreflexkameras, bei denen sich in der Bildebene des Sucherstrahlenganges eine Mattscheibe oder eine Feldlinse befindet, wird vorgeschlagen, den rahmenförmigen Fotowiderstand der Matt-Scheibe oder der Feldlinse unmittelbar benachbart anzuordnen.The frame-shaped photo resistor can be used in the invention Way with the advantages mentioned both in the image plane of a see-through viewer, as well as in cameras with SLR viewfinder. For SLR cameras, in which there is a ground glass or a Field lens is suggested, the frame-shaped photo resistor of the matt disc or to be arranged immediately adjacent to the field lens.

Besitzt die Mattscheibe oder die Feldlinse eine Entfernungsmeßvorrichtung, z. B. in Form eines Ablenkkeilpaares oder eines Rasterkeilfeldes, so wird vorgeschlagen, den rahmenförmigen Fotowiderstand derart zu gestalten und anzuordnen, daß er gerade die Grenze, z. B. zwischen Rasterkeilfeld und Mattscheibe, abdeckt. Diese Grenze erscheint dem Benutzer als schmaler schwarzer Ring, und wenn sie durch den Fotowiderstand abgedeckt wird, -ergibt sich für den Benutzer lediglich eine geringfügige Verbreiterung dieses ohnehin vorhandenen Ringes, was nicht weiter störend ins Gewicht fällt.If the ground glass or field lens has a distance measuring device, z. B. in the form of a pair of whipstocks or a grid wedge field, it is proposed to design and arrange the frame-shaped photoresistor in such a way that it is straight the limit, e.g. B. between the wedge field and focusing screen, covers. This limit appears to the user as a narrow black ring, and when it passes through the photo resistor is covered, there is only a slight broadening for the user this already existing ring, which is not a problem.

Zweckmäßigerweise wird der Fotowiderstand zwisehen zwei Glasplatten etwa von der Größe der Mattscheibe bzw. Feldlinse gelagert, diese Scheiben werden verschweißt und mit einem Schutzgas gefüllt. Gegen Lichteinfall aus dem Okular muß der Widerstand naturgemäß abgedeckt, z. B. ablackiert, sein. Die Zuführung zu den Elektroden wird nach außen geführt und dort, gegebenenfalls mittels lösbarer Kontakte, mit dem übrigen Belichtungsmesserstromkreis verbunden.The photoresistor is expediently between two glass plates about the size of the ground glass or field lens, these disks are welded and filled with a protective gas. Must protect against incidence of light from the eyepiece the resistance naturally covered, z. B. lacquered, be. The feed to the Electrodes are led to the outside and there, if necessary by means of detachable contacts, connected to the rest of the light meter circuit.

Letzteres ist insbesondere dann erforderlich, wenn, wie weiter vorgeschlagen wird, die Glasplatten des Fotowiderstandes mit -der Mattscheibe oder Feldlinse zu einer baulichen Einheit verbunden und diese Einheit in der Kamera auswechselbar ist.The latter is particularly necessary if, as further proposed the glass plates of the photo resistor with -the ground glass or field lens to connected to a structural unit and this unit can be exchanged in the camera is.

In der Zeichnung ist die Erfindung am Ausführungsbeispiel einer einäugigen Spiegelreflexkamera mit auswechselbarer Feldlinse und Pentaprisma dargestellt. Es zeigt F i g. 1 eine Draufsicht auf die Kamera bei abgenommenem Pentaprisma, F i g. 2 schematisch einen Querschnitt durch die Kamera in der Ebene der optischen Achse, F i g. 3 eine schematische Darstellung der Elektrodenzuführung. Die einäugige Spiegelreflexkamera 1 besitzt u. a. ein Objektiv 2, einen Auslöseknopf 3, einen Zeitstellknopf 4, einen Rückspulknopf 5 sowie eine als Fresnel-Linse ausgebildete Feldlinse 6. In einen Rahmen 7 ist ein nicht dargestelltes Pentaprisma einsteckbar.In the drawing, the invention is based on the embodiment of a one-eyed Single-lens reflex camera shown with interchangeable field lens and pentaprism. It shows Fig. 1 shows a plan view of the camera with the pentaprism removed, F i G. 2 schematically shows a cross section through the camera in the plane of the optical axis, F i g. 3 shows a schematic representation of the electrode feed. the single-lens reflex camera 1 has inter alia. a lens 2, a release button 3, a time setting button 4, a rewind button 5 and one designed as a Fresnel lens Field lens 6. A pentaprism (not shown) can be inserted into a frame 7.

Die Feldlinse 6 ist im Durchstoßpunkt der optischen Achse 8 (F i g. 2) mit einem Ablenkkeilpaar 9 versehen, das in bekannter Weise als Entfernungsmeßvorrichtung dient. In Richtung des einfallenden Lichtes vor der Feldlinse 6 ist der rahmenförmige Fotowiderstand 10 zwischen zwei an den Rändern verschmolzenen Glasplatten 11 a, 11 b angeordnet und gegen Lichteinfall aus der Einblickrichtung mittels der Abdeckung 10a gesichert. Die Rahmenform des Fotowiderstandes ist im vorliegenden Ausführungsbeispiel zu einem Ring abgewandelt, und dieser Ring deckt die Grenzen 6a zwischen der Feldlinse 6 und dem Ablenkkeilfeld ab.The field lens 6 is provided with a pair of deflection wedges 9 at the point of penetration of the optical axis 8 (FIG. 2), which are used in a known manner as a distance measuring device. In the direction of the incident light in front of the field lens 6, the frame-shaped photoresistor 10 is arranged between two glass plates 11a, 11b fused at the edges and secured against incidence of light from the viewing direction by means of the cover 10a. In the present exemplary embodiment, the frame shape of the photoresistor is modified to form a ring, and this ring covers the boundaries 6a between the field lens 6 and the deflection wedge field.

Der eigentliche Fotowiderstand 10 besteht aus den Elektroden 12 und 13 (F i g. 3) und aus der zwischen diesen befindlichen CdS-Schicht 14. Die Zuleitungen 12 a und 13 a zu den Elektroden 12 und 13 tragen Kontaktzungen 14, 15, mit denen sie in an sich bekannter und daher nicht dargestellter Weise mit dem ebenfalls nichtweiter dargestelltenBelichtungsmesserstromkreis der Kamera verbunden sind. Lediglich der Meßwerkszeiger 16 und eine Skala der Blendenwerte 17 sind in F i g. 1 angedeutet.The actual photoresistor 10 consists of the electrodes 12 and 13 (FIG. 3) and the CdS layer 14 located between them. The leads 12 a and 13 a to the electrodes 12 and 13 carry contact tongues 14, 15 with which they are connected in a manner known per se and therefore not shown to the light meter circuit of the camera, which is also not further shown. Only the measuring mechanism pointer 16 and a scale of the aperture values 17 are shown in FIG. 1 indicated.

Claims (1)

Patentansprüche: 1. Belichtungsmeßeinrichtung in fotografischen Kameras, deren Sucherstrahlengang eine Bildebene besitzt, dadurch gekennzeichnet, daß als fotoelektrischer Wandler der Belichtungsmeßeinrichtung ein bekannter offener oder geschlossener rahmenförmiger Fotowiderstand (10) verwandt und in der Bildebene des Sucherstrahlenganges angeordnet ist. z. Belichtungsmeßeinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der rahmenförmige Fotowiderstand (10) aus zwei Elektroden (12, 13) besteht, zwischen denen auf dem gesamten Rahmenumfang eine CdS-Schicht (14) geringer Breite angebracht und gegen Lichteinfall aus der Einblickrichtung abgedeckt ist. 3. Belichtungsmeßeinrichtung -nach den Ansprüchen 1 und 2 an Spiegelreflexkameras, bei denen sich in der Bildebene des Sucherstrahlenganges eine Mattscheibe oder eine Feldlinse befindet, dadurch gekennzeichnet, daß der rahmenförmige Fotowiderstand (10) der Mattscheibe oder der Feldlinse (6) unmittelbar benachbart angeordnet ist. 4. Belichtungsmeßeinrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2 an Spiegelreflexkameras, bei denen die Mattscheibe oder die Feldlinse einer Entfernungsmeßvorrichtung in Form eines Ablenkkeilpaares oder eines Rasterkeilfeldes versehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß der rahmenförmige Fotowiderstand (10) die Grenzlinie (6a) zwischen Mattscheibe oder Feldlinse (6) einerseits und dem Ablenkkeilfeld (9) oder Rasterkeilfeld andererseits abdeckt. 5. Belichtungsmeßeinrichtung nach den Ansprächen 1 bis- 4 an einäugigen Spiegelreflexkameras; bei denen die Mattscheibe oder Feldlinse auswechselbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß der rahmenförmige Fotowiderstand (10) mit der Mattscheibe oder der Feldlinse (6) zu einer baulichen Einheit verbunden ist. 6. Belichtungsmeßeinrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Zuleitungen (12a, 13a) zu den Elektroden (12, 13) des rahmenförmigen Fotowiderstandes (10) mit dem Belichtungsmesserstromkreis mittels lösbarer Kontakte (14, 15) verbunden .sind. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift Nr. 938 822; deutsche Auslegeschriften Nr. 1021711, 1089 259, 1054 831; deutsches Gebrauchsmuster Nr. 1861821; österreichische Patentschrift Nr: 228 626.Claims: 1. Exposure measuring device in photographic cameras, whose viewfinder beam path has an image plane, characterized in that as photoelectric transducer of the exposure metering device a known open or closed frame-shaped photo resistor (10) related and in the image plane of the Finder beam path is arranged. z. Exposure metering device according to claim 1, characterized in that the frame-shaped photoresistor (10) consists of two electrodes (12, 13), between which there is a CdS layer over the entire circumference of the frame (14) attached to a narrow width and against incidence of light from the viewing direction is covered. 3. Exposure measuring device -according to claims 1 and 2 of single lens reflex cameras, in which there is a ground glass or a Field lens is, characterized in that the frame-shaped photoresistor (10) the ground glass or the field lens (6) is arranged immediately adjacent. 4. Exposure measuring device according to claims 1 and 2 on single lens reflex cameras, where the ground glass or the field lens of a distance measuring device in Is provided in the form of a pair of whiskers or a grid wedge field, characterized in that that the frame-shaped photo resistor (10) the boundary line (6a) between the ground glass or field lens (6) on the one hand and the deflection wedge field (9) or raster wedge field on the other hand covers. 5. Exposure measuring device according to claims 1 to 4 on one-eyed Single lens reflex cameras; where the ground glass or field lens is exchangeable, characterized in that the frame-shaped photo resistor (10) with the ground glass or the field lens (6) is connected to form a structural unit. 6. Exposure meter according to claim 5, characterized in that the feed lines (12a, 13a) to the electrodes (12, 13) of the frame-shaped photo resistor (10) with the exposure meter circuit are connected by means of releasable contacts (14, 15). Considered publications: German Patent No. 938 822; German exposition No. 1021711, 1089 259, 1054 831; German utility model No. 1861821; Austrian patent specification No: 228 626.