DE1195135B - Process for improving the electrical conductivity of thin, light-permeable oxide layers applied to substrates such as glass and plastics, in particular by vacuum vapor deposition - Google Patents

Description

Verfahren zur Verbesserung der elektrischen Leitfähigkeit von auf Unterlagen, wie Glas und Kunststoffen, insbesondere durch Vakuumbedampfen aufgebrachten dünnen, lichtdurchlässigen oxydischen Schichten Für verschiedene technische Zwecke besteht Nachfrage nach dünnen, nichtmetallischen Schichten, die elektrisch leitend sind. Unter anderem werden solche Schichten für elektrische Abschirmungen benötigt, die gleichzeitig lichtdurchlässig sein sollen. Ein weiteres Anwendungsbeispiel sind Schichten zum Schutze gegen elektrostatische Aufladungen auf Fenstern von empfindlichen Meßgeräten. Hierfür wurden sehr häufig dünne, noch lichtdurchlässige Metallschichten verwendet, welche aber den Nachteil haben, daß sie sehr stark spiegeln und deshalb die Ablesung der Skala je nach Beleuchtung erheblich beeinträchtigen. Ein anderes Problem, zu dessen Lösung dünne, elektrisch leitende und zugleich möglichst lichtdurchlässige Überzüge gebraucht werden, betrifft die Sichtfreihaltung bei Fenstern, die einer Vereisungsgefahr ausgesetzt sind. Es ist vorgeschlagen worden, solche Fenster mit einer lichtdurchlässigen, elektrisch leitenden Schicht zu überziehen, welche durch Stromdurchgang beheizt werden kann, um die Eisbildung zu verhindern.Process for improving the electrical conductivity of on Documents such as glass and plastics, in particular applied by vacuum vapor deposition thin, translucent oxide layers for various technical purposes there is a demand for thin, non-metallic layers that are electrically conductive are. Among other things, such layers are required for electrical shielding, which should be translucent at the same time. Another application example are Layers to protect against electrostatic charges on windows of sensitive Measuring devices. Very often thin, still translucent metal layers were used for this used, but which have the disadvantage that they reflect very strongly and therefore significantly affect the reading of the scale depending on the lighting. Another Problem, the solution of which is thin, electrically conductive and at the same time as light-permeable as possible Coverings are needed, concerns the privacy of windows, which one Are exposed to the risk of icing. It has been suggested to use such windows to coat a translucent, electrically conductive layer, which through Current passage can be heated to prevent ice formation.

Zahlreiche Anwendungsmöglichkeiten von nichtmetallischen, lichtdurchlässigen, elektrisch leitenden Schichten gibt es weiter bei elektronischen und elektronisch-optischen Geräten und Vorrichtungen. Elektronische Bildwandler, Bildverstärker und Fernsehröhren aller Art seien als Beispiele genannt. Bei vielen Anwendungen der Halbleitertechnik sind auch solche elektrisch leitende nichtmetallische Schichten von Bedeutung, die nicht lichtdurchlässig sind.Numerous application possibilities of non-metallic, translucent, There are also electrically conductive layers in electronic and electronic-optical Devices and devices. Electronic image converters, image intensifiers and television tubes of all kinds are given as examples. In many applications in semiconductor technology Also of importance are those electrically conductive non-metallic layers that are not translucent.

Bekanntlich werden für die angeführten Zwecke die verschiedensten Substanzen in Form dünner Schichten auf Unterlagen aufgebracht, z. B. wurden die Oxyde der Elemente Zinn, Kadmium, Antimon, Indium, Kupfer, Zink, Vanadium, Chrom, Mangan und Kobalt schon benutzt. Die Schichten wurden mittels Vakuumaufdampfung, Kathodenzerstäubung oder mittels chemischer Verfahren aufgebracht. Bei allen diesen Schichten ergibt sich das Problem, wie eine möglichst große elektrische Leitfähigkeit erreicht werden kann.As is well known, the most varied of uses are used for the stated purposes Substances applied in the form of thin layers on substrates, e.g. B. were the Oxides of the elements tin, cadmium, antimony, indium, copper, zinc, vanadium, chromium, Manganese and cobalt already used. The layers were vacuum evaporation, Cathode sputtering or applied by means of chemical processes. With all of these Layers the problem arises, such as the greatest possible electrical conductivity can be reached.

Die Leitfähigkeit dünner Schichten ist bekanntlich nicht allein durch das verwendete Schichtmaterial bzw. dessen spezifische Leitfähigkeit in festem Zustand und die Schichtdicke gegeben, sondern hängt außerdem wesentlich von denHerstellungsbedingungen ab. Es ist bekannt, daß z. B. bei Aufdampfschichten die Aufdampfatmosphäre, der Druck, die Reinheit der Ausgangssubstanzen, die Geschwindigkeit der Verdampfung, die Temperatur der Unterlage während der Aufdampfung und andere Faktoren eine große Rolle spielen. Analoges gilt für die Kathodenzerstäubung und chemische Aufbringungsverfahren. Man hat daher nach Möglichkeiten gesucht, die Leitfähigkeit solcher Überzüge nachträglich in gewünschter Weise zu beeinflussen.As is well known, the conductivity of thin layers is not solely due to them the layer material used or its specific conductivity in the solid state and the layer thickness, but also depends largely on the manufacturing conditions away. It is known that e.g. B. in the case of vapor-deposition layers, the vapor-deposition atmosphere Pressure, the purity of the starting substances, the rate of evaporation, the temperature of the substrate during vapor deposition and other factors a large Role-play. The same applies to cathode sputtering and chemical application processes. We have therefore looked for ways of subsequently increasing the conductivity of such coatings to influence in the desired manner.

Erfindungsgemäß wird nun ein Verfahren zur Verbesserung der elektrischen Leitfähigkeit von auf Unterlagen, wie Glas und Kunststoffen, insbesondere durch Vakuumbedampfung aufgebrachten dünnen, lichtdurchlässigen oxydischen Schichten, die einen elektrischen Widerstand von wenigstens 10s Ohm pro Quadrat aufweisen, vorgeschlagen, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß die Schichten in Anwesenheit einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre einer elektrischen Glimmentladung ausgesetzt werden.According to the invention a method for improving the electrical Conductivity of on substrates such as glass and plastics, in particular through Thin, translucent oxide layers applied by vacuum vapor deposition, which have an electrical resistance of at least 10s ohms per square, proposed, which is characterized in that the layers are in the presence exposed to an electric glow discharge in an oxygen-containing atmosphere will.

An sich ist es bekannt, bei der Herstellung dünner Schichten elektrische Gasentladungen anzuwenden, z. B. um Schichtunterlagen vor der Bedampfung zu reinigen oder um Metallschichten nachträglich zu oxydieren. Neu ist aber die Erkenntnis, daß es möglich ist, den elektrischen Widerstand einer dünnen Schicht durch eine Behandlung in einer Glimmentladung erheblich herabzusetzen.It is known per se to use electrical power in the production of thin layers To apply gas discharges, e.g. B. to clean layer substrates before steaming or to subsequently oxidize metal layers. But what is new is the knowledge that it is possible to reduce the electrical resistance of a thin layer by a Reduce treatment in a glow discharge considerably.

Es war auch bekannt, durch Kathodenzerstäubung von Metallen in Sauerstoff hochisolierende Oxydschichten zu erzeugen. Die zerstäubten Metalle werden hierbei durch die Anwesenheit des Sauerstoffes während der elektrischen Gasentladung oxydiert. Bei diesem bekannten Verfahren wird die elektrische Leitfähigkeit der Ausgangssubstanz ganz wesentlich vermindert, indem das Metall in ein hochisoliertes Oxyd übergeführt wird. Es war ferner bekannt, dünne Schichten von ungesättigten Oxyden oder Schichten, die aus Gemischen von Metallen mit Oxyden bestehen, auf Unterlagen aufzudampfen und sie in einer Glimmentladung aufzuoaydieren, zu dem Zweck, eine bessere optische Durchlässigkeit zu erzielen. Auch dieses bekannte Verfahren führt zur Erhöhung des Widerstandes der behandelten Schichten. Die vorliegende Erfindung dagegen hat die Erniedrigung des elektrischen Widerstandes einer nichtmetallischen Schicht zum Gegenstand.It was also known by sputtering metals into oxygen to produce highly insulating oxide layers. The atomized metals are here oxidized by the presence of oxygen during the electrical gas discharge. In this known method, the electrical conductivity the starting substance is reduced quite significantly by transforming the metal into a highly insulated one Oxyd is transferred. It was also known to have thin layers of unsaturated Oxides or layers consisting of mixtures of metals with oxides on substrates to vaporize and tooaydate them in a glow discharge for the purpose of creating a to achieve better optical transmission. This known method also leads to increase the resistance of the treated layers. The present invention on the other hand, the lowering of the electrical resistance has a non-metallic one Layer to the subject.

Das Verfahren nach der Erfindung und eine zur Durchführung dieses Verfahrens geeignete Vorrichtung werden nachstehend an Hand der anliegenden Zeichnung beispielsweise erläutert.The method of the invention and one for carrying out the same Process suitable apparatus are shown below with reference to the accompanying drawing for example explained.

In der schematischen Zeichnung bedeutet 1 den Rezipienten, der mit Hilfe einer Pumpe 2 evakuiert werden kann. In diesem Rezipienten ist eine kalottenförmige Haltevorrichtung 3 für die mit der elektrisch leitenden Schicht zu bedampfenden Unterlagen 4, 4' usw-, z. B. Glasplatten, vorhanden. Außerdem befindet sich in dem Rezipienten ein Verdampfungssehiffchen 5 aus Molybdän mit entsprechenden Stromanschlüssen, in welchem die Aufdampfmaterialien erhitzt, geschmolzen und verdampft werden können. Die Leitung 6 gestattet über ein Ventil 7, aus einem . Sauerstoffbehälter 8 Sauerstoff in den Rezipienten einzulassen.In the schematic drawing, 1 denotes the recipient, which can be evacuated with the aid of a pump 2. In this recipient is a dome-shaped holding device 3 for the substrates 4, 4 ' etc. to be vapor-deposited with the electrically conductive layer, e.g. B. glass plates, available. In addition, there is an evaporation boat 5 made of molybdenum with corresponding power connections in the recipient, in which the evaporation materials can be heated, melted and evaporated. The line 6 allows a valve 7, from one. Oxygen tank 8 to let oxygen into the recipient.

Weiter ist eine stabförmige Glimmentladungselektrode 9 aus Aluminium vorhanden, welche isoliert durch die Wand des Rezipienten 1 hindurchgeführt ist und an eine Hochspannungsquelle 10 von einigen tausend Volt angeschlossen werden kann. 11 bedeutet eine drehbare Blende, mittels deren die Verdampfung aus dem Verdampfungsschiffchen 5 nach Belieben unterbrochen oder freigegeben werden kann. Am Rezipienten sind weiter Fenster 12, 13, 14 und 15 angebracht, durch welche hindurch die Aufdampfung beobachtet und- Messungen des Reflexions- und Transmissionskoeffizienten einer Testschicht, die auf dem Testglas 16 aufgedampft wird, durchgeführt werden können. Das Testglas 16 wird von einem Halter 17 getragen. Am Testglas sind außerdem zwei Elektroden 1- und 19 angebracht, wovon 18 über den metallischen Halter 17 mit dem Rezipienten 1 elektrisch verbunden ist, während die andere Elektrode (19) isoliert bei 20 durch die Wand des Rezipienten. geführt ist und zu einrein Ohmmeter 21 führt, mittels dessen nm den. elektrischen Widerstand der Testschicht atü' dem Testglas 16 während des Aufdampfens me&aen kann. Die Bedampfung, Messung und Beobachtung der Schicht auf dem Testglas erfolgt durch die Öffnung 22 in der Kalotte 3. Schichten gleicher Art wie auf dem Testglas werden bei der Bedampfung auch auf den Unterlagen 4, 4' niedergeschlagen.There is also a rod-shaped glow discharge electrode 9 made of aluminum, which is passed through the wall of the recipient 1 in an insulated manner and can be connected to a high voltage source 10 of a few thousand volts. 11 denotes a rotatable screen, by means of which the evaporation from the evaporation boat 5 can be interrupted or released as desired. Windows 12, 13, 14 and 15 are also attached to the recipient, through which the vapor deposition can be observed and measurements of the reflection and transmission coefficients of a test layer vapor deposited on the test glass 16 can be carried out. The test glass 16 is carried by a holder 17 . Two electrodes 1 and 19 are also attached to the test glass, 18 of which is electrically connected to the recipient 1 via the metallic holder 17, while the other electrode (19) is isolated at 20 through the wall of the recipient. is performed and leads to einrein ohmmeter 21, by means of which nm the. electrical resistance of the test layer atü 'the test glass 16 can measure during the vapor deposition. The vapor deposition, measurement and observation of the layer on the test glass takes place through the opening 22 in the dome 3. Layers of the same type as on the test glass are also deposited on the substrates 4, 4 'during the vapor deposition.

Die Herstellung einer Schicht nach der Erfindung kann nun beispielsweise folgendermaßen erfolgen. Die Unterlagen für die Schicht, z. B. Glasscheiben, werden zuerst in üblicher Weise gereinigt und in die Kalotte 3 eingesetzt. Wenn die Schichtträger aus Y.unststoffen, z. Baus PolMetaerylsäureester (Plexiglas) oder Polystyrol bestehen, werden sie zweck- i mäßigerweise zuerst mit heißem Wasser von maximal 70° C gewaschen und mit warmem, destilliertem Wasser nachgespült und eitrige Stunden in einem elektrischen Ofen bei maximal 80° C getrocknet. Sie sollen nachher nicht mehr lange an der atmosphärischen Luft liegen bleiben, sondern möglichst bald in den Rezipienten eingebracht werden. Der Rezipient wird alsdann evakuiert und mit reinem Sauerstoff mit einem Druck zwischen 1.10-1 und 1 . 10-s min Hg gefüllt. Anschließend wird zur nochmaligen Reinigung der Unterlagen eine Glimmentladung im Rezipienten mittels der Elektrode 9 durchgeführt. Diese wird mit einer Stromstärke von etwa 10 bis 300 Miniampere und einigen tausend Volt betrieben. Glasträger darf man auf diese Weise einige Minuten lang reinigen, Kunststoffträger höchstens 1 Minute.A layer according to the invention can now be produced, for example, as follows. The documents for the shift, e.g. B. Glass panes are first cleaned in the usual way and inserted into the dome 3. If the layers are made of Y.unststoffen, z. Baus PolMetaeryl acid ester (Plexiglas) or polystyrene, they are best washed i first with hot water at a maximum of 70 ° C and rinsed with warm, distilled water and dried purulent hours in an electric oven at a maximum of 80 ° C. They should not remain in the atmospheric air for long afterwards, but should be introduced into the recipient as soon as possible. The recipient is then evacuated and treated with pure oxygen at a pressure between 1.10-1 and 1. 10-s min Hg filled. Subsequently, a glow discharge is carried out in the recipient by means of the electrode 9 to clean the documents again. This is operated with a current of around 10 to 300 mini amperes and a few thousand volts. Glass supports can be cleaned in this way for a few minutes, plastic supports for a maximum of 1 minute.

Da die Technik der Reinigung mittels Glimmentladung an sich bekannt ist, braucht auf ihre Einzelheiten hier nicht näher eingegangen zu werden. Man kann auch andere Anordnungen als die hier beschriebenen verwenden, die z. B. für Zwecke der Reinigung von Unterlagen vor der Aufdampfung in vielen Vakuumaufdampfanlagen eingebaut sind.Since the technique of cleaning by means of glow discharge is known per se need not be discussed in detail here. One can also use arrangements other than those described here, e.g. B. for purposes the cleaning of documents before vapor deposition in many vacuum vapor deposition systems are built in.

Nach dieser Vorbehandlung der Unterlage wird auf das beste erreichbare Vakuum evakuiert, das etwa 10-5 bis 10-s mm Hg betragen sollte. Während der folgenden Verfahrensschritte wird der Widerstand zwischen den Elektroden 18/19 mit dem Ohmmeter 21 laufend beobachtet. Der Isolationswiderstand des noch unbeschichteten Trägers beträgt gewöhnlich mehr als 1010 Ohm. Nun wird über das Ventil ? Sauerstoff in den Rezipienten eingelassen, und zwar bis auf einen Druck zwischen 1 - 10-3 und 1 - 10-5 mm Hg, darauf das Schiffchen 5, in welchem sich das unten beschriebene Verdampfungsmaterial befindet, langsam aufgeheizt, derart, daß etwa nach 2 Minuten 950° C erreicht werden. Die Substanz beginnt bei etwa 1000 bis 1100° C in größerer Menge zu verdampfen. Die Aufdampfgeschwindigkeit wird so gewählt, daß sich durch die Niederschlagung der Schicht auf dem Testglas eine Abnahme der optischen Transmission von etwa 100 auf 80% innerhalb von 5 bis 20 Minuten ergibt. Zugleich erhöht sich das Reflexionsvermögen von etwa 50 auf 80 bis 9004, und der elektrische Widerstand zwischen den Elektroden 18 und 19 sinkt auf etwa 107 bis 108 Ohm pro Quadrat ab. Es ist nicht zweckmäßig, eine dickere Schicht aufzudampfen, die einen niedrigeren Widerstand als 108 Ohm geben würde. Nach dem Aufdampfen der Schicht wird die Schiffchenheizung ausgeschaltet und über das Ventil 7 Sauerstoff in den Rezipienten eingeführt bis auf einen Druck zwischen l0-4 und 10-2 mm Hg. Während dieses Einlassens von Sauerstoff ändern sich die optischen Eigenschaften der aufgedampften Schicht nicht, wohl aber nimmt der elektrische Widerstand während dieses Schrittes um 10 bis 201% zu.After this pretreatment of the substrate, it is evacuated to the best achievable vacuum, which should be about 10-5 to 10-s mm Hg. During the following process steps, the resistance between the electrodes 18/19 is continuously monitored with the ohmmeter 21. The insulation resistance of the as yet uncoated carrier is usually more than 1010 ohms. Now will over the valve? Oxygen is let into the recipient, up to a pressure between 1 - 10-3 and 1 - 10-5 mm Hg, then the boat 5, in which the evaporation material described below is located, is slowly heated so that after about 2 Minutes 950 ° C can be reached. The substance begins to evaporate in larger quantities at around 1000 to 1100 ° C. The vapor deposition rate is chosen so that the deposition of the layer on the test glass results in a decrease in optical transmission from about 100 to 80% within 5 to 20 minutes. At the same time, the reflectivity increases from about 50 to 80 to 9004, and the electrical resistance between the electrodes 18 and 19 decreases to about 107 to 108 ohms per square. It is not practical to evaporate a thicker layer which would give a resistance lower than 108 ohms. After the vapor deposition of the layer, the boat heating is switched off and oxygen is introduced into the recipient via valve 7 up to a pressure between 10-4 and 10-2 mm Hg but the electrical resistance increases by 10 to 201% during this step.

Um nun die elektrische Leitfähigkeit erfindungsgemäß zu verbessern, wird in Gegenwart der aufgedampften Schichten eine elektrische Glimmentladung in der bestehenden Sauerstoffatmosphäre durchgeführt. Diese Glimmentladungsbehandlung wird mit einer Stromstärke zwischen 5 bis 100 mA mit Hilfe der Elektrode 9 so lange betrieben, bis keine Veränderung der optischen Eigenschaften der Schichten mehr zu beobachten sind. Gleichzeitig ist es durch Beobachtung des elektrischen Widerstandes während der Beglimmung möglich, den Zeitpunkt festzustellen, an dem dieser sein Minimum erreicht und dann die Glimmentladung abzubrechen. Man erreicht auf diese Weise leicht Schichten mit einem Oberflächenwiderstand zwischen 102 und 104 Ohm pro Quadrat je nach Zusammensetzung der Verdampfungsmaterialien und der Schichtdicke. Die vorstehenden Widerstandswerte beziehen sich auf Schichtdicken von ungefähr 0,1 EL.In order to improve the electrical conductivity according to the invention, an electric glow discharge is generated in the presence of the vapor-deposited layers the existing oxygen atmosphere. This glow discharge treatment is with a current strength between 5 to 100 mA with the help of the electrode 9 so long operated until there is no longer any change in the optical properties of the layers are to be observed. At the same time it is by observing the electrical resistance during the determination it is possible to determine the point in time at which this will be Minimum reached and then to break off the glow discharge. One reaches on this Way easily layers with one Surface resistance between 102 and 104 ohms per square depending on the composition of the evaporation materials and the layer thickness. The above resistance values refer to layer thicknesses of about 0.1 tbsp.

Besonders zweckmäßig als Verdampfungsmaterial ist eine Legierung von Indium und Cer im Gewichtsverhältnis 10:1 bis 6:1. Dieses Material hat einen weichkörnigen Charakter und läßt sich leicht zerbröckeln bzw. zu einem groben Pulver zerreiben. Wenn dieses Material, wie vorstehend beschrieben, in Sauerstoff verdampft wird, erhält man Schichten, die vorwiegend Indiumoxyd enthalten. Andere sehr geeignete Materialien zur Durchführung der Erfindung sind reines Indium, Zink und Zinn. In gleicher Weise wie das genannte In-Ce-Gemisch können diese Elemente in Sauerstoffatmosphäre verdampft werden und ergeben auf den Unterlagen Schichten, die vorwiegend aus Indiumoxyd Zinnoxyd bzw. Zinkoxyd bestehen. Auch diese Schichten zeigen nach der beschriebenen Behandlung in einer Glimmentladung einen elektrischen Widerstand in der Größenordnung von 102 bis 104 Ohm, je nach gewählter Schichtdicke.An alloy of is particularly useful as the evaporation material Indium and cerium in a weight ratio of 10: 1 to 6: 1. This material has a soft grain Character and can be easily crumbled or ground to a coarse powder. When this material is vaporized in oxygen as described above, one obtains layers which mainly contain indium oxide. Others very suitable Materials for practicing the invention are pure indium, zinc and tin. In In the same way as the aforementioned In-Ce mixture, these elements can be used in an oxygen atmosphere are evaporated and result in layers, which are predominantly made of indium oxide Tin oxide or zinc oxide exist. These layers also show according to the one described Treatment in a glow discharge produces an electrical resistance of the order of magnitude from 102 to 104 ohms, depending on the selected layer thickness.

Natürlich ist nicht zu erwarten, daß jede Schicht aus einer beliebigen Substanz mit hohem elektrischem Widerstand durch eine elektrische Glimmentladung in eine elektrisch gut leitende Schicht verwandelt werden kann. Doch ist es, nachdem die grundsätzliche Möglichkeit, dünne, auf Unterlagen aufgebrachte nichtmetallische Schichten durch eine elektrische Glimmentladung besser elektrisch leitend zu machen, erkannt worden ist, für den Fachmann leicht, im Einzelfall durch einen einfachen Vorversuch festzustellen, ob es zweckmäßig ist, nach Vorschlag der Erfindung eine Glimmentladungsbehandlung auf eine vorliegende Schicht anzuwenden oder nicht.Of course, it is not to be expected that every layer will consist of an arbitrary one Substance with high electrical resistance due to an electrical glow discharge can be transformed into a highly electrically conductive layer. But it is after the basic possibility of thin, non-metallic applied to substrates To make layers more electrically conductive by means of an electric glow discharge, has been recognized, easily for the person skilled in the art, in individual cases by a simple Preliminary test to determine whether it is appropriate, according to the proposal of the invention To apply glow discharge treatment to a given layer or not.

Es können sowohl Schichten, die im Vakuumaufdampfverfahren hergestellt wurden, erfindungsgemäß behandelt werden, als auch solche, die durch Kathodenzerstäubung oder chemische Aufbringungsverfahren erzeugt worden sind. Besonders zweckmäßig ist die Anwendung aber speziell bei Aufdampfschichten, da diese normalerweise nicht geglimmt werden, die Anwendung des Glimmens zu dem erfindungsgemäßen Zweck hier also die größten Erfolge verspricht, während bei Schichten, die durch Kathodenzerstäubung hergestellt werden, es vielleicht möglich wäre, schon den Herstellungsprozeß selbst, der ja ebenfalls als eine Art Glimmentladung aufgefaßt werden kann, so zu leiten, daß eine gute elektrische Leitfähigkeit der Schicht erreicht wird, wodurch sich dann eine zusätzliche, keine Kathodenzerstäubung darstellende erfindungsgemäße Glimmentladungsbehandlung der fertigen Schicht erübrigen würde.Both layers that are produced in the vacuum vapor deposition process can be used were treated according to the invention, as well as those made by cathode sputtering or chemical deposition processes have been created. Is particularly useful the application, however, especially with vapor-deposition layers, since these are normally not the application of the glow for the purpose of the invention here So the greatest success promises while with layers produced by sputtering be manufactured, it might be possible to start the manufacturing process itself, which can also be understood as a kind of glow discharge, so to lead, that a good electrical conductivity of the layer is achieved, whereby then an additional glow discharge treatment according to the invention, which does not represent cathode sputtering the finished layer would be superfluous.

Bei Aufdampfschichten ist die Erfindungsgemäße Anwendung des Glimmens auch im Vergleich zu chemisch hergestellten Schichten vorteilhaft, da bei den meisten handelsüblichen Aufdampfanlagen alle notwendigen Einrichtungen (Vakuumrezipient, Hochspannungselektroden und -quellen) schon vorhanden sind und die Glimmung sich in den Herstellungsprozeß glatt einfügen läßt, während für chemisch hergestellte Schichten eine nachträgliche GlimmentladungsbehandIung einen etwas umständlichen, zusätzlichen Verfahrensschritt darstellt, der zusätzliche Einrichtungen erfordern würde.In the case of vapor-deposited layers, the use according to the invention is glow also advantageous in comparison to chemically produced layers, since most of them commercially available evaporation systems all the necessary equipment (vacuum recipient, High-voltage electrodes and sources) are already in place and the glow disappears Lets fit smoothly into the manufacturing process, while for chemically manufactured Layers a subsequent glow discharge treatment a somewhat cumbersome, represents an additional process step that require additional facilities would.

Bei der Herstellung der Schichten im Aufdampfverfahren kann die Glimmentladungsbehandlung ebensogut während wie nach dem Aufdampfen angewendet werden. Bei sehr niedrigem Druck im Aufdampfraum, bei dem eine Glimmentladung an sich nicht mehr brennen würde, kann zur Aufrechterhaltung derselben eine Elektronen emittierende Hilfsglühkathode 23 im Aufdampfraum benutzt werden.When the layers are produced by vapor deposition, the glow discharge treatment can be used as well during as after vapor deposition. At very low Pressure in the evaporation room at which a glow discharge would no longer burn itself, can use an electron-emitting auxiliary incandescent cathode to maintain the same 23 can be used in the evaporation room.

Claims (7)

Patentansprüche: 1. Verfahren zur Verbesserung der elektrischen Leitfähigkeit von auf Unterlagen, wie Glas und Kunststoffen, insbesondere durch Vakuumbedampfen aufgebrachten dünnen, lichtdurchlässigen oxydischen Schichten, die einen elektrischen Widerstand von wenigstens 10s Ohm pro Quadrataufweisen,dadurch gekennzeichn e t, daß die Schichten in Anwesenheit einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre einer Glimmentladung ausgesetzt werden. Claims: 1. Method for improving electrical conductivity from on substrates such as glass and plastics, in particular by vacuum vapor deposition applied thin, translucent oxidic layers that create an electrical Have a resistance of at least 10s ohms per square, characterized by: that the layers of a glow discharge in the presence of an oxygen-containing atmosphere get abandoned. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Glimmentladungsbehandlung mit Hilfe einer Elektrode durchgeführt wird, welche aus demselben Metall besteht, da in der zu behandelnden Schicht chemisch gebunden ist. 2. The method according to claim 1, characterized in that the Glow discharge treatment is carried out with the help of an electrode, which is made of consists of the same metal, since it is chemically bonded in the layer to be treated. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Glimmentladung bei sehr niedrigem Druck durchgeführt und zur Aufrechterhaltung der Entladung eine Elektronen emittierende Glühkathode benutzt wird. 3. The method according to claim 1, characterized in that the glow discharge at carried out at very low pressure and an electron to maintain the discharge emitting hot cathode is used. 4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Glimmentladungsbehandlung bei den durch Vakuumbedampfen aufgebrachten Schichten gleichzeitig während des Aufdampfens in einer Sauerstoffatmosphäre durchgeführt wird. 4. The method according to claim 1, characterized in that that the glow discharge treatment for the layers applied by vacuum vapor deposition carried out simultaneously during vapor deposition in an oxygen atmosphere will. 5. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 auf Schichten aus Indiumoxyd. 5. Application of the method according to claim 1 to layers of indium oxide. 6. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 auf Mischschichten, die beim Aufdampfen einer aus Indium und Cer im Gewichtsverhältnis 10: 1 bis 6:1 bestehenden Legierung in sauerstoffhaltiger Atmosphäre erhalten werden. 6. Application of the method according to claim 1 to mixed layers which are obtained by vapor deposition of an alloy consisting of indium and cerium in a weight ratio of 10: 1 to 6: 1 in an oxygen-containing atmosphere. 7. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 auf Schichten aus Zinkoxyd: B. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 auf Schichten aus Oxyden der IV. Gruppe des Periodischen Systems. 9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Glimm- -entladungsbehandlung unter gleichzeitiger Messung der optischen Transmission und/oder Reflexion der zu behandelnden Schicht durchgeführt wird. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift Nr. 883 546; deutsche Auslegeschriften Nr. 1000 657, 1058805. 7. Application of the method according to claim 1 to layers of zinc oxide: B. Application of the method according to claim 1 to layers of oxides of group IV of the Periodic Table. 9. The method according to any one of claims 1 to 7, characterized in that the glow discharge treatment is carried out with simultaneous measurement of the optical transmission and / or reflection of the layer to be treated. Documents considered: German Patent No. 883 546; German explanatory documents No. 1000 657, 1058805.