DE1099564B - Verfahren und Einrichtung zur Anreicherung von schwerersiedenden Stoffen bei der Zerlegung von Gasgemischen durch Tieftemperaturrektifikation - Google Patents

Verfahren und Einrichtung zur Anreicherung von schwerersiedenden Stoffen bei der Zerlegung von Gasgemischen durch Tieftemperaturrektifikation

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DE1099564B DEG27904A DEG0027904A DE1099564B DE 1099564 B DE1099564 B DE 1099564B DE G27904 A DEG27904 A DE G27904A DE G0027904 A DEG0027904 A DE G0027904A DE 1099564 B DE1099564 B DE 1099564B
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Description

DEUTSCHES
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Einrichtung zur Anreicherung von im Ausgangsgemisch in sehr geringer Menge vorhandenen Beimengungen, die schwerer als das schwersiedende Hauptprodukt sieden, bei der Abtrennung der Hauptmenge des Schwersiedenden durch Rektifikation, insbesondere bei der Tieftemperaturgaszerlegung, beispielsweise zur Gewinnung eines Krypton-Xenon-Konzentrates bei der Luftzerlegung.
Bisher war es bei der Gewinnung von Krypton und Xenon bei der Luftzerlegung üblich, Anteile von etwa einem Millionstel in der Ausgangsmenge mit Flüssigkeitsmengen von etwa einem Zehntel bis einem Zwanzigstel der zu behandelnden Gasmenge aus der Luft bzw. aus dem Schwersiedenden, also Sauerstoff, auszuwaschen, um dann in anschließenden Stufenrektifikationsprozessen vom etwa zehnfachen Gehalt der im Ausgangsgemisch enthaltenen Menge bis auf den zehntausend- bis hunderttausendfachen Gehalt bzw. bis zur Reinheit anzureichern. Bei der Anreicherung aus Sauerstoff sollte hierbei einerseits kein Sauerstoff verlorengehen, andererseits begrenzen aber unerwünschte, ebenfalls schwerer als Sauerstoff siedende Verunreinigungen der Ausgangsluft, wie CH4, C2H2 und andere Kohlenwasserstoffe, wegen der Gefahr der Bildung explosionsfähiger Gemische mit Sauerstoff die Konzentrationserhöhung der einzelnen Anreicherungsstufen und erfordern deshalb die Zwischenschaltung besonderer Reinigungsprozesse, wie Adsorptionen oder Kontaktverbrennungen.
Dem Gegenstand der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein neues, gegenüber den bekannten Verfahren verbessertes Verfahren zur Gewinnung bzw. Ausscheidung von schwerersiedenden, in geringen Anteilen im Ausgangsgemisch vorkommenden Begleitstoffen bei der Zerlegung durch Tieftemperaturrektifikatiion zu schaffen.
Dies wird dadurch erreicht, daß die Hauptmenge des Schwersiedenden einen ader mehrere Böden über dem Säulensumpf einer Rektifikationssäule gasförmig oder flüssig entnommen wird und die schwerersiedenden Beimengungen unterhalb der Entnahmestelle der Hauptmenge des Schwersiedenden durch Rektifikation in der Säulensumpfflüssigkeit des indirekt beheizten Säulensumpfes angereichert werden und diesem ein flüssiges Konzentrat der schwerersiedenden Beimengungen entnommen wird.
Der Vorteil des Verfahrens ist, daß es für die Gewinnung bzw. Anreicherung des Schwerersiedenden auf den bisher in der ersten Stufe besonders hohen Bedarf an Waschflüssigkeit verzichtet, indem es nur die Waschflüssigkeit der Hauptsäule zur Anreicherung des Schwerersiedenden mitbenutzt und damit den erforderlichen Energieaufwand verringert. Ein Verfahren und Einrichtung
zur Anreicherung von schwerersiedenden
Stoffen bei der Zerlegung
von Gasgemischen
durch Tieftemperaturrektifikation
Anmelder:
Gesellschaft für Linde's Eismaschinen
Aktienges ells chaf t,
Zweigniederlassung Höllriegelskreuth,
Höllriegelskreuth bei München
Max Seidel, München-Solln,
ist als Erfinder genannt worden
weiterer Vorteil ist, daß das Verfahren die störenden und gefahrbringenden Verunreinigungen in einfacher Weise zu entfernen gestattet bzw. für bestimmte Verunreinigungen deren gleichzeitige Anreicherung mit dem zu gewinnenden Produkt weitgehend vermindert und damit den möglichen Anreicherungssprung für das gewünschte Produkt je Anreicherungsstufe vergrößert.
Das Verfahren nach der Erfindung soll am Beispiel der schwerer als Sauerstoff siedenden Edelgase Krypton und Xenon bei der Tieftemperaturrektifikation von Luft bzw. bei der Sauerstoffgewinnung beschrieben werden. Das Verfahren ist jedoch nicht auf dieses Anwendungsbeispiel beschränkt. Es läßt sich immer anwenden, wenn aus einem Flüssigkeit^- oder Gasgemisch Spuren der am tiefsten siedenden Stoffe gewonnen werden sollen. Ein weiteres Anwendungsbeispiel wäre die Abtrennung von Spuren reinen Äthans bei der Gewinnung von Methan aus Grubengas.
Im Falle der Abtrennung der schwerer als Sauerstoff siedenden Edelgase Krypton und Xenon bei der Luftzerlegung kommen als unerwünschte Verunreinigungen vor allem C2H2 und CH4 in Betracht. C2H, kann wie alle schwereren Kohlenwasserstoffe in Adsorbern gut vom flüssigen ader gasförmigen Sauerstoff getrennt werden. Sehr viel schwerer und infolgedessen unvollkommener lassen sich dagegen leichtere Kohlenwasserstoffe, insbesondere CH4, adsorbieren. Bei der normalen Sauerstoffgewinnung aus Luft
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mittels Tieftemperaturrektifikation verursacht das zugeführt werden, während nur der Dampf in den CH4 in den in Industrieluft üblicherweise vorkotn- Dampfraum des Säulensumpfes zurückgeführt wird, menden Konzentrationen keine besonderen Schwierig- Aus dem Säulensumpf fließt dann dem Verdamp-
keiten, sondern geht in den erzeugten Sauerstoff über, fungskreislauf nur so viel Flüssigkeit zu, daß die in ohne daß eine bedenkliche Annäherung an die 5 Dampf form zum Säulensumpf zurückgeleitete Menge Explosionsgrenze erfolgt.- Wenn jedoch, wie bei der ersetzt wird. Damit wird im Verdampf ungskreislauf bisher üblichen Kryptongewdnnung, die Anreicherung eine Totalverdampfung bewirkt, die dazu führt, daß des Kryptons in Sauerstoff durch Rektifikation in der Dampf die gleiche Zusammensetzung hat wie die Kolonnen mit sehr vielen Böden durchgeführt wird, Säulensumpf flüssigkeit. Die dm Verhältnis zur vergelangt das in einer Vorkonzentrationsstufe vor- io dampften Kreislaufmenge geringe Restflüssigkeitshandene C H4 natiezu vollständig in die höhere Konzen- menge im Abscheider bekommt also eine wesentlich trationsstuf e des Kryptons "und begrenzt die Krypton- höhere Konzentration an Krypton und Xenon als der anreicherung dadurch, daß sich die CH4-Konzen- in die Säule zurückgeleitete Dampf. Die Konzentration der Explosionsgrenze nähert. tration von Krypton und Xenon kann etwa das 25-
Das Verfahren nach der Erfindung schränkt die 15 bis 35-fache gegenüber der Konzentration dm Dampf Rektifikation als Anreicherungsmethode in der ersten bzw. in der Säulensumpfflüssigkeit betragen. Ein Teil Anreicherungsstufe weitgehend ein und schließt sie der angereicherten Kreislaufflüssigkeit kann nun als in den späteren Anreicherungsstufen völlig aus. Zwischenprodukt zur weiteren Nachreinigung außer-Weiterhin verzichtet es in der ersten Anreicherung«- halb des Luftzerlegungsapparates entnommen werden, stufe auf den dort bisher hohen Bedarf an Wasch- 20 Zu einem Konzentrat gleicher Anreicherung geflüssigkeit, indem es die für die Sauerstoffgewinnung langt man, wenn man aus dem vom Abscheider des erforderliche Waschflüssigkeit der Sauerstoffsäule zur Kreislaufes zum Säulensumpf zurückfließenden Dampf Kryptonvoranreicherung mitbenutzt, und zwar durch eine kleine Menge auskondensiert. Es ist daher uner-Entnahme des gewonnenen Sauerstoffes einen oder heblich, daß der Dampf bei seiner Rückleitung in den nur wenige Säulenböden oberhalb des Reinsauerstoff- 35 Säulensumpf noch verhältnismäßig viel Krypton und sumpfes. Der so begrenzte, unterhalb der Sauerstoff- Xenon enthält, da diese umlaufenden Krypton- und entnahmestelle liegende Säulenteil bewirkt in Ver- Xenonmengen von dem zwischen Rückleitungseinbindung mit dem ebenfalls als Säulenboden wirkenden, führung und Sauer stoff entnahme liegenden Säulenzur Erzeugung der Rektifikationsdämpfe beheizten boden zurückgehalten und dem Kreislauf wiederholt Säulensumpf eine Anreicherung des Kryptons in 30 zugeführt werden. Das neugebildete, konzentriertere der niederlaufenden Sauerstoffflüssigkeit, aber eine Kondensat kann nun in einem zweiten Umlauf verwegen der geringen Bodenzahl dieses Säulenab- dampfungskreislauf ähnlicher Art wie der bereits schnittes wesentlich geringere Anreicherung des beschriebene, am Säulensumpf angeschlossene, gegegegenüber Krypton leichtersiedenden CH4. benenfalls unter Einschaltung eines weiteren C2H2-
Das im Säulensumpf gleichzeitig mit Krypton und 35 Adsorbers, noch weiter angereichert werden. Dabei Xenon angereicherte C2H2 wird entfernt, indem eine werden 'die noch Krypton und vor allem CH4 entTeilmenge der Sumpfflüssigkeit über einen- Adsorber haltenden Dämpfe wieder in dem zum Säulensumpf umgewälzt wird, wobei die im flüssigen krypton- zurückgeleiteten Dampfstrom des ersten Kreislaufes haltigen Sauerstoff des Säulensumpfes angereicherten vor oder nach der Teilkondensationsstelle zur Bildung C2H2-Mengen nahezu vollständig entfernt werden. 40 des für den zweiten Kreislauf erforderlichen Konden-Die von C2H2 gereinigte Flüssigkeit kann nua_ sates eingeführt.
wieder in den Säulensumpf zurückgeführt werden, Durch die Hintereinanderschaltung zweier konzen-
wenn auf eine weitere Anreicherung verzichtet wird. trationssteigernder Kreisläufe kann in der ersten In einem solchen System ist die Anreicherung von Anreicherungsstufe in der Luftzerlegungssäule unterKrypton nur durch die gleichzeitige, aber in gerin- 45 halb der Sauerstoffentnahmestelle mit wenigen Böden, gerem Ausmaß erfolgende CH4-Anreicherung be- vorzugsweise mit nur einem dazwischenliegenden grenzt. Sie beträgt bei den geringen CH4-Gehalten Rektifikationsboden, das Krypton und Xenon in geder verarbeiteten Luft etwa 0,1%. Jedoch wird nügendem Maße zurückgehalten bzw. angereichert wegen des großen Flüssigkeitsinhaltes des Säulen- werden und nahezu ohne Kryptonverluste eine weitsumpfes lange Zeit benötigt, um diese Anreicherung 50 gehende Ausschleusung des CH4 aus den Anreichezu erzielen, und bei Betriebsstörungen können große rungskreisläufen in den entnommenen Sauerstoff Mengen bereits angereicherten Kryptons verloren- erzielt werden. Dies ermöglicht bei gleicher CH4-Vergehen, unreinigung der Zerlegungsluft eine weitergehende
Um einen Kreislauf von mit Krypton und Xenon Krypton-Xenon-Anreicherung, die durch eine wesentangereichertem flüssigem Sauerstoff durch den C2H2- 55 lieh geringere gleichzeitige CH4-Anreicherung be-Adsorber zu gewährleisten, muß die Flüssigkeit be- grenzt ist.
wegt werden. Dazu können mechanische Mittel, wie Das aus den Anreicherungsstufen mit einem oder
Pumpen, dienen. An Stelle von mechanischen Pumpen zwei Kreisläufen entnommene Krypton-Xenon-Konkann die Flüssigkeit auch durch Einleiten von zentrat wind auf einer ebenen Platte, deren Tempe-Dämpfen, bei der Kryptongewinnung von Sauerstoff- 60 ratur hoch über dem Siedepunkt des Konzentrats liegt, dämpfen nach Art der bekannten Mammutpumpe, in bekannter Weise total verdampft, in ebenfalls durch den Adsorberkreislauf getrieben werden. Solche bekannter Weise von enthaltenen C2H2- und CH4-umwälzend wirkenden Dämpfe können auch vorteil- Anteilen durch Kontaktverbrennung gereinigt und haft aus der Umlaufflüssigkeit selbst durch Beheizen anschließend zur weiteren getrennten Reinigung abgederselben in einem Umlaufverdampfer gewonnen wer- 65 führt.
den. Die umgewälzte Flüssigkeit kann dann zusammen Es ist auch möglich, nach dieser Reinigung eine
mit dem im Umlaufverdampfer gebildeten Dampf neue, dritte Konzentrierungsstufe nachzuschalten, die dem Säulensumpf zugeführt oder vorher in einem nach der Beseitigung der CH4- und C2H2-Reste keine Abscheider von diesen Dämpfen getrennt und dann Gefahr mehr bringt. Besonders einfach erfolgt diese dem Kreislauf vor oder nach dem Adsorber wieder 70 Anreicherung durch Teilverflüssigung unter Rück-
führung des nicht verflüssigten Restes in eine vorhergehende Anreicherungsstufe.
Im Falle der Gewinnung eines Krypton-Xenon-Konzentrates kann diese Teilverflüssigung durch Hochdruckabdrosselung nach einer Gegenstromabkühlung durch den nicht verflüssigten Rest des Konzentrates erfolgen. Das Konzentrat wird vor oder nach der Verdichtung von den Kontaktverbrennungsprodukten CO2 und H2O gereinigt. Durch ein solches Verflüssigungsverfahren können beispielsweise 5 bis 15 °/o des Konzentrates der Vorstufe verflüssigt und erheblich höher angereichert werden.
Die unverflüssigten, im Gegenstrom zu dem abzukühlenden verdichteten Konzentrat geführten, etwas ärmeren Dämpfe können zuerst zur Beheizung des Umkufverdampfers der zweiten Anreicherungsstufe verwendet und dabei abgekühlt und dann .in die aufsteigende Umwälzkreislaufflüssigkeit im unteren Teil des aufsteigenden Umwälzweges der Flüssigkeit eingeleitet werden, um die Umwälzung zu fördern.
Die Beheizung des Umlaufverdampfers kann im Falle der Gewinnung oder Ausscheidung von schwerersiedenden Stoffen bei der Tieftemperaturgaszerlegung durch kondensierendes Gas oder Gasgemisch und die Teilkondensation für den zweiten Umwälzkreislauf durch ein verdampfendes, flüssiges Gas oder Gasgemisch bewirkt werden.
Die Zeichnung stellt ein Ausführungsbeispiel des Gegenstandes der Erfindung dar.
Die Tieftemperaturanlage selbst wurde nicht dargestellt. Von einem Zweisäulen-Rektifikationsapparat ist nur der für die Erfindung interessierende Teil schematisch gezeichnet.
1 ist der obere Teil der Drucksäule, 2 der untere Teil der Niederdrucksäule. Die dargestellten Anlagen dienen der Anreicherung von Krypton und Xenon bei der Tieftemperaturzerlegung der Luft. Bei 3 wird ein oder mehrere Böden oberhalb der Sumpfflüssigkeit gasförmiger Sauerstoff entnommen. Bei 4 wird flüssiger Sauerstoff, in dem sich schwerersiedende Produkte angereichert haben, dem Sumpf des unteren Teiles 2 der N'iederdrucksäule entnommen und durch den Adsorber 5 geführt, in dem Azetylen und höhere Kohlenwasserstoffe adsorbiert werden. Durch die Leitung 6 fließt die gereinigte Flüssigkeit zum Abscheider 8, aus dem der gasförmige Teil durch Leitung 9 zum Fuß des unteren Teiles 2 der Niederdrucksäule zurückgeleitet wird, während der flüssige Teil über die Leitung 4 a zum Säulensumpf zurückströmt. Wenn keine höhere Anreicherung erzielt werden soll, kann das Produkt mit Hilfe des Ventils 10 durch Leitung 11 entnommen werden. Um eine Strömung in dem Adsorberkreislauf zu erzielen, kann durch die Leitung 7 Sauerstoffdampf eingeleitet werden. Es ist auch möglich, zu diesem Zweck in die Leitung 6 eine mechanische Pumpe einzuschalten.
In Fig. 2 ist eine Anlage dargestellt, in der eine höhere Anreicherung des Kryptons und Xenons erreicht werden soll. Die Strömung durch den Adsorber wird in diesem Falle dadurch erzeugt, daß in die Leitung 6 ein Umlaufverdampfer 12 eingeschaltet wird, der die umwälzend wirkenden Sauerstoffdämpfe aus der Umlaufflüssigkeit selbst erzeugt. Zur Beheizung dieses UmI auf Verdampfers dient ein kondensierendes Gas. Das den Kopf des Abscheiders 8 verlassende gasförmige Produkt kann durch das Ventil 13 dem Fuß des unteren Teiles 2 der Niederdrucksäule wieder zugeleitet werden. Wird eine höhere Anreicherung gewünscht, wird das Ventil 13 ganz oder teilweise geschlossen, und das Gas strömt durch Ventil 14 und Leitung 16 in einen Kondensator 17, in dem ein Teil des Gases mit Hilfe des Kühlers 18 durch indirekten Wärmeaustausch vorzugsweise mit einem verdampfenden Gas kondensiert wird. Der nicht kondensierte Teil des Gases strömt durch Leitung 19 und Ventil 15 zum Fuß des unteren Teiles 2 der Niederdrucksäule zurück.
Die im Fuß des Kondensators 17 gesammelte Flüssigkeit strömt durch den Adsorber 20 und den Umlauferhitzer 21 zum Abscheider 22. Hier wird am oberen Ende wieder Gas entnommen und über die Leitung 23 in den Kondensator 17 geleitet, während der flüssige Teil teils im Kreislauf durch den Adsorber20 weiterströmt, teils durch Leitung 24 einem Totalverdampfer 25 zugeführt wird.
Das in diesem gebildete Gas wird in einem Wärmeaustauscher 26 angewärmt und gelangt dann in den Kontaktofen 27, in dem die störenden Kohlenwasserstoffe zu Kohlendioxyd und Wasser verbrannt werden. Das dabei entstehende Gas wird durch den \¥ärmeaustauscher 26 geführt, wobei es sich abkühlt, und strömt dann zur weiteren Abkühlung durch einen Wasserkühler 28. Ein Kompressor 29 komprimiert das Gas dann, und nach Durchströmen eines Geltrockners 30 kann es bei 31 abgenommen oder einer weiteren Anreicherungsstufe zugeführt werden.
Fig. 3 zeigt eine Anlage, bei der das komprimierte, angereicherte Produkt vom Geltrockner 30 über die Leitung 32 zu einem Wärmeaustauscher 33 geführt, dort gekühlt und über das Ventil 34 in den Abscheider 35 entspannt wird. Durch das Ventil 36 kann flüssiges, angereichertes Produkt entnommen werden. Das nicht verflüssigte, wieder ärmere Gas strömt durch Leitung 37 zum Wärmeaustauscher 33 und gelangt anschließend in die Mammutpumpe 38, wo es nach Gegenstromabkühlung dem zweiten Anreicherungskreislauf zugeführt wird.
Das Verfahren ist nicht auf die dargestellten Beispiele beschränkt, insbesondere ist es möglich, die dargestellten, einander entsprechenden Schaltelemente gegeneinander auszutauschen und die Anlage durch weitere Stufen zu erweitern.

Claims (23)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Anreicherung von im Ausgangsgemisch in sehr geringer Menge vorhandenen Beimengungen, die schwerer als das schwersiedende Hauptprodukt sieden, bei der Abtrennung der Hauptmenge des Schwersiedenden durch Rektifikation, insbesondere bei der Tieftemperaturgaszerlegung, beispielsweise zur Gewinnung eines Krypton-Xenon-Konzentrates bei der Luftzerlegung, dadurch gekennzeichnet, daß die Hauptmenge des Schwersiedenden einen oder mehrere Böden über dem Säulensumpf einer Rektifikationssäule gasförmig oder flüssig entnommen wird und die schwerersiedenden Beimengungen unterhalb der Entnahmestelle der Hauptmenge des Schwersiedenden durch Rektifikation in der Säulensumpfflüssigkeit des indirekt beheizten Säulensumpfes angereichert werden und diesem ein flüssiges Konzentrat der schwerersiedenden Beimengungen entnommen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die zu gewinnende Säulensumpfflüssigkeit zur Abtrennung schwerersiedender Bei mengungen über einen Adsorber umgewälzt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Umwälzung durch Verdampfen eines Teiles der über den Adsorber umgewälzten
Flüssigkeit nach dem Prinzip der Mammutpumpe bewirkt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das aus dem Säulensumpf entnommene, umgewälzte und teilweise verdampfte Flüssigkeitskonzentrat in einem Abscheider vom Dampf getrennt und zum Umlaufverdampfer bzw. Adsorber zurückgeleitet und der verdampfte Anteil durch Flüssigkeit aus dem Säulensumpf ergänzt wird, während der abgetrennte Dampf in den Dampf raum des Säulensumpfes zurückgeführt wird und dem Umwälzkreislauf ein weiter angereichertes flüssiges oder gasförmiges Konzentrat der schwerersiedenden Stoffe entnommen wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß aus dem vom Umwälzkreislauf abgetrennten Konzentratdampf durch Kühlung ein weiter angereichertes Konzentrat der schwerersiedenden Stoffe auskondensiert und entnommen wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Konzentrat erneut in einem besonderen Kreislauf unter Eindampfung umgewälzt und dabei höher konzentriert wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß in den Umwälzkreislauf eine Adsorption zur Abtrennung der schwerersiedenden Stoffe eingeschaltet wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß flüssig entnommenes Konzentrat der schwerersiedenden Stoffe nach Totalverdampfung von störenden Beimengungen beispielsweise durch Kontaktverbrennung gereinigt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß aus dem gereinigten Konzentrat durch Teilverflüssigung ein weiter verstärktes Konzentrat erzeugt und der nicht verflüssigte Rest in eine vorhergehende Konzentrationsstufe zurückgeführt wird.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Teilverflüssigung des gereinigten Konzentrates in bekannter Weise durch Hochdruckverdichtung, Trocknung und Abdrosselung nach Gegenstromwärmeaustausch mit dem nicht verflüssigten Restgas durchgeführt wird.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das wieder erwärmte, nicht verflüssigte Restgas zur Beheizung des Verdampfers der vorhergehenden Konzentrationsstufe verwendet, dabei abgekühlt und in die aufsteigende, umgewälzte Flüssigkeit eingeführt wird.
12. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die indirekte Kühlung durch ein verdampfendes flüssiges Gas oder Gasgemisch bewirkt wird.
13. Verfahren nach Anspruch 4 und 6, dadurch gekennzeichnet, daß die indirekten Verdampfungen durch ein kondensierendes Gas oder Gasgemisch bewirkt werden.
14. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine Rektifikationssäule am unteren Ende eine Entnahmestelle für die im Säulensumpf angereicherten schwerersiedenden Beimengungen und mindestens einen Rektifikationsboden höher eine Entnahmestelle für das schwersiedende Hauptprodukt aufweist.
15. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß 'ein Kreislauf, bestehend aus Adsorber und Umwälzeinrichtung, direkt mit dem Säulensumpf verbunden ist.
16. Einrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Adsorberkreislauf einen Umlaufverdampfer enthält.
17. Einrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß an den Adsorberkreislauf zwischen Umlaufverdampfer und Rektifikationssäule ein Abscheider für teilverdampfte Flüssigkeit angeschlossen ist mit einer Flüssigkeitsrückführungsleitung zum Kreislauf und einer Dampfrückführungsleitung zum Dampfraum des Säulensumpfes.
18. Einrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß in die Dampfrückführungsleitung vom Abscheider zum Säulensumpf ein Kondensator geschaltet ist.
19. Einrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß für die kondensierte Flüssigkeit ein Verdampfungskreislauf vorgesehen ist.
20. Einrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß in den Verdampfungskreislauf ein Adsorber geschaltet ist.
21. Einrichtung nach Anspruch 14, 15, 19 oder 20, gekennzeichnet durch eine Nachreinigungseinrichtung für das Konzentrat.
22. Einrichtung nach einem der Ansprüche 18, 19, 20 oder 21, dadurch gekennzeichnet, daß zur Verdampfung des flüssig entnommenen Konzentrates die Anlage mit einem Totalverdampfer verbunden ist.
23. Einrichtung nach Anspruch 22, gekennzeichnet durch einen Hochdruck-Gegenstrom-Drosselverflüssiger für eine Teilmenge des nachgereinigten Konzentrates, der für die Rückführung des nicht verflüssigten Restes mit dem Verdampfer des vorhergehenden Verdampfungskreislaufes verbunden ist.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 566 151.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
© 109 510/112 2.61
DEG27904A 1959-09-09 1959-09-09 Verfahren und Einrichtung zur Anreicherung von schwerersiedenden Stoffen bei der Zerlegung von Gasgemischen durch Tieftemperaturrektifikation Pending DE1099564B (de)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE1187248B (de) * 1963-03-29 1965-02-18 Linde Eismasch Ag Verfahren und Einrichtung zur Gewinnung von Sauerstoffgas mit 70 bis 98% O-Gehalt

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE566151C (de) * 1931-11-14 1932-12-16 Linde Eismasch Ag Gewinnung der Luftbestandteile mit hoeherem Siedepunkt als Sauerstoff

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