Sekundärelektronen-Vervielfacher für Szintillationsmessungen Bei Sekundärelektronen-Vervielfachern,
die für Szintillationsmessungen verwendet werden sollen, kommt es darauf an, daß
die von den Primärelektronen getroffene Sekundäremissionsschicht über ihre ganze
Fläche eine möglichst gleichmäßige Emission hat, so daß die Anzahl der von einem
auftreffenden Primärelektron ausgelösten Sekundärelektronen über die gesamte Fläche
möglichst gleich ist. Wenn diese Bedingung nicht erfüllt ist, können bei der Zählung
einzelner Teilchen leicht Fehler entstehen.Secondary electron multiplier for scintillation measurements For secondary electron multipliers,
which are to be used for scintillation measurements, it is important that
the secondary emission layer hit by the primary electrons over its whole
Surface has an emission that is as uniform as possible, so that the number of one
impinging primary electron triggered secondary electrons over the entire surface
is as equal as possible. If this condition is not met, you can count
individual particles easily create errors.
Diese Forderung läßt sich bei der Herstellung der Sekundäremissionsschichten
jedoch nicht erfüllen, da es nicht gelingt, die ganze zur Emission von Sekundärelektronen
dienende Fläche so gleichmäßig zu formieren, daß die genannte Bedingung eingehalten
wird.This requirement can be met in the production of the secondary emission layers
however do not meet, since it does not succeed in the whole to the emission of secondary electrons
to form the serving surface so evenly that the stated condition is met
will.
Die Erfindung geht von der Tatsache aus, daß eine Sekundäremissionsschicht
um so gleichmäßiger emittiert, je kleiner sie im Verhältnis zur ganzen zur Verfügung
stehenden formierten Fläche ist. Gemäß der Erfindung sollen daher bei einem Sekundärelektronen-Vervielfacher
für Szintillationsmessungen der mit mehreren Prallelektroden und einer nicht extrem
kleinen ersten Prallelektrode, ferner mit einer im Vergleich zu dieser großen Photokathode
sowie mit elektronenoptischen Mitteln zur Fokussierung der Photoelektronen auf die
erste Prallelektrode ausgestattet ist, die Photoelektronen durch die Elektronenoptik
nur auf einen die Größenordnung von 1 % einnehmenden Bruchteil der Gesamtfläche
der ersten Prallelektrode konzentriert werden.The invention is based on the fact that a secondary emission layer
the more evenly it is emitted, the smaller it is in relation to the total available
standing formed surface is. According to the invention, therefore, in a secondary electron multiplier
for scintillation measurements with multiple impact electrodes and one not extreme
small first impact electrode, furthermore with a compared to this large photocathode
as well as with electron optical means for focusing the photoelectrons on the
first impact electrode is equipped, the photoelectrons through the electron optics
only to a fraction of the order of magnitude of 1% of the total area
the first impact electrode are concentrated.
Bei Szintillationsmessungen ist die auf die erste Prallplatte des
Vervielfachersystems auftreffendeEnergie so gering, daß trotz einer sehr kleinen
Auftrefffläche der Elektronen keine schädliche Belastungen, die eventuell zu Veränderungen
der Sekundäremissionseigenschaften führen könnten, auftreten können. Durch die erfindungsgemäße
Maßnahme wird die Wahrscheinlichkeit, daß die Anzahl der von einem auf die Sekundäremissionsfläche
auftreffenden Primärelektron ausgelösten Sekundärelektronen über die ganze Fläche
der Sekundäremissionsschicht möglichst gleichmäßig ist, erheblich größer als bei
den bisher für diese Zwecke bekannten Anordnungen. So wird z. B. bei einer Prallplatte
mit 2 cm2 Flächeninhalt von einer Teilfläche mit nur 1 mm Durchmesser eher eine
gleichmäßige Sekundäremission zu erwarten sein als von der gesamten Fläche der betreffenden
Prallplatte.For scintillation measurements, the one on the first baffle plate of the
Multiplier system so small that despite a very small
Impact surface of the electrons does not have any harmful loads that may lead to changes
secondary emission properties can occur. By the invention
Measure is the probability that the number of one on the secondary emission area
When the primary electron hits the secondary electrons over the entire surface
the secondary emission layer is as uniform as possible, considerably larger than with
the arrangements previously known for this purpose. So z. B. with a baffle plate
with a surface area of 2 cm2, a partial area with a diameter of only 1 mm is more likely to be
uniform secondary emission can be expected than from the entire surface of the relevant
Baffle plate.
Die Größe der einigermaßen gleichmäßig emittierenden Fläche hängt
dabei von der Form der Prallplatte und der Art der Formierung ab.The size of the fairly evenly emitting area depends
it depends on the shape of the baffle plate and the type of formation.
Es ist zwar bereits vorgeschlagen worden, am Eingang eines Vervielfachersystems
kleine Prallplatten zu verwenden und die von einer vergleichsweise großen Kathodenfläche
ausgehenden Photoelektronen mit Hilfe elektronenoptischer Mittel auf die erste Prallplatte
des Vervielfachersystems zu konzentrieren. Offenbar hat man dabei aber nicht erkannt,
daß es nicht auf die Größe der Prallplatte, sondern auf eine möglichst gleichmäßig
emittierende Sekundäremissionsfläche ankommt, um bei der Durchführung von Szintillationsmessungen
einwandfreie Meßergebnisse zu erzielen. Es ist dagegen einleuchtend, daß von Prallplatten
verschiedener Größen die größere eher die Möglichkeit bietet, eine bestimmte Sekundäremissionsfläche,
beispielsweise von 1 mm Durchmesser, mit annähernd gleichmäßiger Sekundäremission
zu liefern.Although it has already been proposed at the entrance of a multiplier system
to use small baffles and those of a comparatively large cathode area
outgoing photoelectrons with the help of electron-optical means on the first baffle plate
of the multiplier system. Apparently, however, one did not recognize
that it does not affect the size of the baffle plate, but as evenly as possible
emitting secondary emission area matters when performing scintillation measurements
to achieve perfect measurement results. On the other hand, it is evident that from baffles
different sizes the larger one rather offers the possibility of a certain secondary emission area,
for example 1 mm in diameter, with almost uniform secondary emission
to deliver.