DE10359576A1 - Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit Download PDF

Info

Publication number
DE10359576A1
DE10359576A1 DE10359576A DE10359576A DE10359576A1 DE 10359576 A1 DE10359576 A1 DE 10359576A1 DE 10359576 A DE10359576 A DE 10359576A DE 10359576 A DE10359576 A DE 10359576A DE 10359576 A1 DE10359576 A1 DE 10359576A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
optical unit
optical element
supporting part
projection objective
optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE10359576A
Other languages
English (en)
Inventor
Manfred Pilz
Christian Dr. Münster
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE10359576A priority Critical patent/DE10359576A1/de
Priority to JP2004382556A priority patent/JP2005191579A/ja
Priority to US11/015,696 priority patent/US7387395B2/en
Publication of DE10359576A1 publication Critical patent/DE10359576A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70258Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/02Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
    • G02B17/06Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
    • G02B17/0647Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using more than three curved mirrors
    • G02B17/0663Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using more than three curved mirrors off-axis or unobscured systems in which not all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry, e.g. at least one of the mirrors is warped, tilted or decentered with respect to the other elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/62Optical apparatus specially adapted for adjusting optical elements during the assembly of optical systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)

Abstract

Bei einem Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit (7) mit einem von einer Kreisform abweichenden optischen Element (13) für eine abbildende Optik (1), insbesondere für ein Projektionsobjektiv in der Halbleiter-Lithographie im EUV-Bereich, ist ein Tragteil (8) vorgesehen, das mit Referenzflächen (10, 14, 15) zur Justage in der Optik (1) versehen wird, wonach das optische Element (13) mit dem Tragteil (8) verbunden wird. Anschließend wird ein Nullpunkt (17) zu dem optischen Element (13) festgelegt, der einen Bezugspunkt mit einem in der Optik (1) festgelegten Nullpunkt (18) beim Einbau der optischen Einheit (7) in die Optik (1) bildet.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit mit einem von der Kreisform abweichenden optischen Element für eine abbildende Optik, insbesondere für ein Projektionsobjektiv in der Halbleiter-Lithographie im EUV-Bereich.
  • Die Erfindung betrifft auch eine optische Einheit mit einem optischen Element für eine abbildende Optik.
  • Bei Projektionsobjektiven in der Halbleiter-Lithographie zur Herstellung von Halbleiterelementen, die im EUV-Bereich bei Wellenlängen um 11 bis 13 nm arbeiten, werden äußerst hohe Anforderungen an die optischen Elemente gestellt. Dies gilt z.B. zum einen für die optische Nutzfläche innerhalb einer bestimmten Spezifikation (Passe, Rauheit) bezüglich der Fertigung und zum anderen auch für eine spätere Justage bezüglich einer sehr exakten Einbaulage in ein Objektiv. Dies betrifft insbesondere Spiegel, welche anstelle von Linsen bei den vorstehend genannten sehr kurzen Wellenlängen erforderlich werden. Da die optische Nutzfläche des optischen Elementes für die spätere Justage bezüglich ihrer Lage bis auf wenige μ bekannt sein muss, sind an der optischen Einheit, z.B. dem Spiegel, mehrere Referenzflächen vorzusehen, die dann – entsprechend bezogen auf einen Nullpunkt – Referenzflächen für den Einbau bilden. Um mit den Referenzflächen die geforderten Genauigkeitsspezifikationen zu erfüllen, ist hierfür ein sehr hoher wirtschaftlicher Aufwand erforderlich. Bei einem von der Kreisform abweichenden optischen Element, z.B. einem Spiegelelement oder einem Prisma, sind die vorstehend genannten Probleme noch deutlich größer.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde ein Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit mit einem von der Kreisform abweichenden optischen Element, insbe sondere eines Spiegels, und eine danach hergestellte optische Einheit zu schaffen, bei welchem sich die geforderten Genauigkeiten und die exakte Justage bezüglich eines Einbaus in ein Objektiv mit geringerem Aufwand realisieren lassen.
  • Erfindungsgemäß wird dies durch ein Verfahren gelöst, bei dem das von der Kreisform abweichende optische Element mit einem Tragteil versehen wird, das mit Referenzflächen zur Justage in der Optik versehen wird, wonach das optische Element mit dem Tragteil zu einer optischen Einheit verbunden und ein Nullpunkt zu dem optischen Element festgelegt wird, der einen Bezugspunkt mit einem in der Optik festgelegten Nullpunkt beim Einbau der optischen Einheit in die Optik bildet.
  • Erfindungsgemäß wird nunmehr an einer von dem Benutzer festgelegten Stelle ein Nullpunkt "irgendwo" an dem mit einem von einer Kreisform abweichenden optischen Element, z.B. in der Mitte einer Sphären- oder Asphärenfläche eines Spiegels, festgelegt. Auf diesen Nullpunkt werden dann die Referenzflächen bezogen, wobei die erhaltenen Werte dann entsprechend für einen Einbau in eine Optik, z.B. einem Objektiv mitgegeben und es auf diese Weise möglich wird das optische Element, z.B. eine Asphärenfläche, exakt auf einen anderen Nullpunkt in der Optik zu beziehen.
  • Eines der wesentlichen Merkmale der Erfindung liegt darin, dass die optische Einheit mit dem optischen Element und dem Tragteil nicht monolytisch aus einem Teil hergestellt ist, sondern dass sie aus mehreren Teilen, zumindest aus zwei Teilen, besteht, nämlich dem Tragteil und dem eigentlichen optischen Element. Dabei kann das optische Element ebenfalls noch aus einem Grundkörper gebildet werden, auf dem dann das eigentliche von der Kreisform abweichende optische Element aufgebaut wird, wie z.B. ein Spiegel in Form einer Asphäre, der aus einem sogenannten Parent gebildet ist.
  • Durch die Aufteilung der optischen Einheit auf mehrere Einzelteile können die Einzelteile jeweils separat mit der geforder ten hohen Genauigkeit und gegebenenfalls mit den erforderlichen Referenzflächen gefertigt werden.
  • In einer sehr vorteilhaften Ausführung der Erfindung können die folgenden Referenzflächen vorgesehen werden:
    • a) wenigstens drei koplanare Befestigungsflächen, die eine Referenzebene bilden,
    • b) eine in einem Winkel zu den koplanaren Referenzflächen liegende erste Anlagekante des Tragteiles und
    • c) eine zweite Anlagestelle, durch die translatorische Verschiebungen entlang der ersten Anlagekante vermieden werden.
  • Durch die wenigstens drei koplanaren Referenzflächen, über die später ggf. auch eine Befestigung mit bzw. in der Optik erfolgen kann, wird in einem ersten Schritt eine Referenzebene festgelegt. Diese Referenzebene ist in vorteilhafter Weise die gleiche Ebene, auf der bzw. an der das eigentliche optische Element, z.B. ein Spiegel befestigt wird. Dies kann z.B. durch ein Ansprengen an entsprechend hochgenaue Flächen erfolgen. Die Referenzebene kann senkrecht zur z-Achse (optische Achse) liegen.
  • Durch die erste, vorzugsweise senkrecht zu den koplanaren Befestigungsflächen liegende Anlagekante werden Drehungen auf der durch die koplanaren Befestigungsflächen gebildeten Referenzebene ausgeschaltet bzw. wird die Lage auf der Referenzebene festgelegt.
  • Durch die zweite Anlagestelle, die vorzugsweise ebenfalls eine Anlagekante ist, werden dann in einem letzten Schritt translatorische Verschiebungen entlang der ersten Anlagekante vermieden. Auf diese Weise ist die Lage des optischen Elementes exakt bezüglich der Referenzflächen und bezogen auf den Nullpunkt des optischen Elements festgelegt.
  • Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den übrigen Unteransprüchen und aus dem nachfolgend anhand der Zeichnung prinzipmäßig beschriebenen Ausführungsbeispiel.
  • Es zeigt:
  • 1 eine schematische Darstellung eines Projektionsobjektives mit mehreren Spiegeln als optische Elemente;
  • 2 eine Draufsicht auf einen Spiegel als optische Einheit mit einem Tragteil;
  • 3 eine Seitenansicht des Spiegels nach der 2;
  • 4 eine Draufsicht auf einen Parent;
  • 5 einen Teilschnitt durch eine optische Einheit mit einem Prisma; und
  • 6 eine perspektivische Ansicht eines Tragkörpers für das Prisma nach 5.
  • Das in der 1 dargestellte Projektionsobjektiv 1 als Optik ist für die Halbleiter-Lithographie im EUV-Bereich zur Herstellung von Halbleiterelementen vorgesehen. Zur Belichtung dient eine Lichtquelle, z.B. eine Plasmaquelle 2, die über ein Beleuchtungssystem 3 Belichtungsstrahlen 4 auf eine Maske (Retikel) 5 sendet. In die Maske 5 ist die Struktur eingeformt, die die Strahlen nach Durchgang durch das Objektiv 1 auf einem Wafer 6 mit entsprechend verkleinertem Maßstab abbildet. Der Belichtungsstrahl 4 wird in dem Projektionsobjektiv 1 in bekannter Weise über mehrere Spiegel 7 als optische Einheiten umgeleitet, bevor er auf den Wafer 6 trifft. Die von einer Kreisform abweichenden Spiegel 7 sind jeweils über ein Tragteil 8 in nicht näher dargestellter Weise, z.B. über Schrauben (siehe Bohrungen in 2) mit dem Gehäuse des Objektives 1 verbunden. Das Tragteil 8 ist hierzu mit drei über den Umfang verteilt angeordneten Befestigungsabschnitten 9 versehen, die jeweils Befestigungsflächen 10 aufweisen. Die Befestigungsflächen 10 der Befestigungsabschnitte 9 bilden gleichzeitig Referenzflächen und sind hierzu koplanar zueinander, d.h. sie liegen in der gleichen Ebene. Diese Ebene ist gleichzeitig auch eine mit hoher Genauigkeit gefertigte Planfläche 11 des Tragteiles 8. Auf die Planfläche 11 des Tragteiles 8 wird ein Grundkörper 12 aufgelegt, in welchem auf der von dem Tragteil 8 abgewandten Seite eine Spiegelfläche 13 als optisches Element eingeformt wird. Die Unterseite des Grundkörpers 12 ist mit entsprechend hoher Genauigkeit gefertigt, wodurch sie durch Ansprengen mit dem Tragteil 8 verbunden werden kann.
  • Selbstverständlich ist es nicht unbedingt erforderlich, dass die Referenzflächen gleichzeitig die Befestigungsflächen bilden. Im Bedarfsfalle können diese auch an einer anderen Stelle zusammen eine Referenzebene bilden. In vorteilhafter Weise sollte man jedoch die Referenzflächen in diesem Falle gleichzeitig mit den Befestigungsflächen 10 bearbeiten. Hierzu sollten die Referenzflächen 10 dann möglichst unmittelbar benachbart zu den Befestigungsflächen 10 liegen.
  • Anstelle einer Einformung der Spiegelfläche 13 (Asphäre) in den Grundkörper 12 kann auch eine separate auf den Grundkörper 12 aufgesetzte Spiegelfläche 13 als Freiformfläche vorgesehen werden. In diesem Falle ist dafür zu sorgen, dass die Unterseite der Asphäre eine Planfläche mit entsprechend hoher Genauigkeit aufweist oder erhält, über die dann die Verbindung mit dem Grundkörper 12 erfolgt.
  • Die Oberseite der Spiegelfläche 13, nämlich die Asphärenfläche, kann an stelle eines einzelnen außeraxialen Ellipsenabschnitt auch aus einem Parent 15 hergestellt werden, wie aus 4 ersichtlich. Aus dem Parent 15 werden hierzu die benötigten außeraxialen Abschnitte als Spiegelflächen 13 herausgeschnitten und entsprechend auf ihren Unterseiten für das Ansprengen vorbereitet. Der Vorteil dieses Herstellungsverfahrens besteht unter anderem darin, dass die für die Fertigung wichtigen "Überläufe" 16 an den optischen Flächen intrinsisch vorhanden sein können. Dies bedeutet es müssen keine Polierüberläufe, welche bis zu 9 mm betragen können, für die Fertigung der optischen Nutzfläche vorgehalten werden. Damit kann der Spiegel 13 deutlich kompakter hergestellt werden, womit ein im allgemeinen knapp vorhandener Bauraum noch optimaler ausgenutzt wird.
  • Zur Lagebestimmung der Spiegelfläche bzw. der Asphäre 13 dienen die Referenzflächen an dem Tragteil 8. Dabei bilden – wie erwähnt – die erste Referenzebene die drei koplanaren Befestigungsflächen 10. Eine Lagefestlegung auf der Referenzebene bezüglich einer Achse, z.B. der x-Achse, erfolgt durch eine erste Anlagekante 14, die durch eine Längsseite des Tragteiles 8 gebildet wird.
  • Durch eine weitere zweite Anlagestelle in Form einer Anlagekante 15, welche in einem Winkel zu der Anlagekante 14 liegt, werden translatorische Verschiebungen entlang der Anlagekante 14 vermieden bzw. wird der letzte Freiheitsgrad des Tragteiles 8 festgelegt.
  • Mit den vorstehend genannten Referenzflächen, nämlich den Befestigungsflächen 10, den beiden Anlagekanten 14 und 15 ist es möglich das System zu justieren. Hierzu wird ein Nullpunkt 17 z.B. in der Mitte der Asphärenfläche 13 festgelegt, womit die Lage der Asphärenfläche bezüglich der Referenzflächen bekannt ist. Die daraus gewonnenen Werte werden dann zum Systemeinbau des optischen Elementes über das Tragteil 8 als optische Einheit in das Objektiv 1 entsprechend weitergegeben, wobei dieser Nullpunkt relativ zu einem Nullpunkt 18 in dem Objektiv, der ebenfalls entsprechend vorher frei festlegbar ist, festgelegt wird. Der Nullpunkt 18 in dem Objektiv kann z.B. an eine bestimmte Stelle auf der Innenseite des Gehäuses des Objektives 1 oder auch an irgendeine Stelle auf der optischen Achse gelegt werden.
  • Auf diese Weise gelingt es das optische Element, in diesem Falle die Asphärenfläche 13, mit dem vorher bei der Herstel lung festgelegten Nullpunkt 17 auf den Nullpunkt 18 in dem Objektiv zu beziehen, womit nicht nur eine entsprechend genaue Justage möglich wird, sondern auch bei einem Ausbau und einem anschließenden Wiedereinbau eine exakte Reproduzierbarkeit erreicht wird.
  • Mit den drei Referenzflächen kann man das Tragteil 8 für einen Einbau in das Objektiv 1 auf einfache Weise antasten und damit entsprechend exakt justieren.
  • Aus Stabilitätsgründen kann vorgesehen werden, dass auf der von dem optischen Element abgewandten Seite des Tragteiles 8 ein Unterteil 20 angeordnet wird. Auf diese Weise können auch Spannungen, die z.B. durch Beschichtungen in dem optischen Element entstehen, minimiert werden. Das Unterteil 20 kann ebenfalls durch ein Ansprengen mit dem Tragteil 8 verbunden erden. Hierzu müssen selbstverständlich die einander zugewandten Flächen des Tragteiles 8 und des Unterteiles 20 entsprechend hoch genau gefertigt sein.
  • In vorteilhafter Weise wird man alle Teile der optischen Einheit, die somit aus der Asphäre 13, dem Tragteil 8 und dem Unterteil 20 bestehen kann, aus dem gleichen Material herstellen. Als Material für das optische Element ist z.B. Zerodur geeignet, da es einen sehr kleinen Wärmeausdehnungskoeffizienten besitzt. Ebenso ist ULE, (Hersteller Fa. Corning) geeignet.
  • Nachfolgend sind beispielsweise zwei Verfahren zum Herstellen einer optischen Einheit prinzipmäßig beschrieben:
    In einem ersten Schritt wird das Tragteil 8 hergestellt. Anschließend wird der Grundkörper 12 hergestellt, wonach der Grundkörper 12 mit dem Tragteil 8 verbunden wird. Anschließend erfolgt die Bearbeitung der Oberfläche des eigentlichen optischen Elementes 13 (Spiegelfläche oder Asphärenfläche) auf dem Grundkörper 12.
  • Bei dem zweiten Verfahren wird ebenfalls in einem ersten Schritt das Tragteil 8 hergestellt. Anschließend stellt man ein Parent 15 her und bearbeitet dieses entsprechend, wobei man nach Ausarbeitung aus dem Parent 15 entsprechend den gewünschten außeraxialen Ellipsenabschnitt als Spiegelfläche 13 herausschneidet. Abschließend wird der Grundkörper 12 oder das Tragteil 8 mit dem herausgeschnittenen axialen Ellipsenabschnitt verbunden.
  • Die 5 zeigt eine Ausführungsform einer optischen Einheit mit einem zylinderförmigen Grundkörper 12, an dessen vorderen Stirnseite das optische Element 13 angeordnet ist, in einem Teilschnitt.
  • Der Grundkörper 12 ist zur Verbindung mit dem Tragteil 8' mit einem Hilfsstück 19 versehen, das an der von dem optischen Element 13 abgewandten Stirnseite des Grundkörers 12 mit diesem verbunden ist. Der Grundkörper 12 ist in einer Aussparung 20 des Tragkörpers 8' gelagert, wobei der Tragkörper 8' in diesem Falle eine Prismaform aufweist, wie dies aus der perspektivischen Darstellung in der 6 ersichtlich ist. Das Hilfsstück 19 mit dem Grundkörper 12 liegt auf einer der beiden rechtwinklig zueinander angeordneten Seiten des Tragkörpers 8' an. Dabei handelt es sich um die Seite mit der Aussparung 20, in der der Hilfskörper 12 gelagert ist. Selbstverständlich muss die Aussparung 20 nicht kreisförmig sein. Sie ist vielmehr dem Querschnitt des Grundkörpers 12 anzupassen, welcher selbstverständlich ebenfalls nicht zylinderförmig sein muss, sondern z.B. auch eine Rechteckform aufweisen kann.
  • Bei dem optischen Element 13 kann es sich beispielsweise um eine Asphäre handeln, die z.B. aus dem in der 4 dargestellten Parent 15 herausgeformt ist.
  • Ebenso kann als optisches Element ein Prisma 13' an der vorderen Stirnseite des Grundkörpers 12 angeordnet sein, wie dies in der 5 gestrichelt dargestellt ist.
  • Ziel bei der Ausführungsform nach der 5 ist es, Winkelfehler des Nullpunktes 17 des optischen Elementes 13 bezüglich des Nullpunktes 18 in der Optik kleiner als 10 Winkelsekunden, vorzugsweise kleiner 3 Winkelsekunden zu halten, wobei der Nullpunkt 17 wieder ein willkürlich an dem optischen Element 13 gewählter Nullpunkt und "18" der in der Optik 1 willkürlich festgelegte Nullpunkt ist. Auf diese Weise erfolgt beim Einbau des optischen Elementes 13 wiederum eine exakte und wiederholbare Zuordnung.
  • Das Hilfsstück 19 wird z.B. durch Ansprengen mit dem Grundkörper 12 und dem Tragteil 8' verbunden. Die optische Einheit nach der 5 mit dem Grundkörper 12, dem Hilfsstück 19 und dem Tragkörper 8' besitzt in gleicher Weise Referenzflächen, wie das Ausführungsbeispiel nach den 1 bis 3 mit der Spiegelfläche 13 als optischem Element. Aus Übersichtlichkeitsgründen sind diese jedoch nicht dargestellt.
  • Bei dem nachfolgend beispielsweise dargestellten Herstellverfahren wird in einem ersten Schritt der Tragkörper 8' hergestellt, wobei Winkelfehler γ < 3'' Winkelsekunden, vorzugsweise < 1 Winkelsekunde sein sollten. Der Ebenheitsfehler sollte < 10 μ, vorzugsweise < 1 μ sein. Der Winkel γ ist dabei der Winkel der Rechtwinkligkeit des prismaförmigen Tragkörpers 8'. Anschließend wird das planparallele Hilfsstück 19 hergestellt, wonach der Grundkörper 12 mit dem Hilfsstück 19 und gleichzeitig auch mit dem Tragkörper 8', z.B. durch Ansprengen, verbunden wird.
  • Im Bedarfsfalle können die einzelnen Teile der optischen Einheit auch auf andere Weise miteinander verbunden werden, wie z.B. durch Kleben. Allerdings wird man im allgemeinen ein Ansprengen bevorzugen, um ein Einbringen von Kleberspannungen zu vermeiden.

Claims (45)

  1. Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit (7) mit einem von einer Kreisform abweichenden optischen Element (13), für eine abbildende Optik (1), insbesondere für ein Projektionsobjektiv in der Halbleiter-Lithographie im EUV-Bereich, mit einem Tragteil (8), das mit Referenzflächen (10, 14, 15) zur Justage in der Optik (1) versehen wird, wonach das optische Element (13) mit dem Tragteil (8) zu der optischen Einheit (7) verbunden und ein Nullpunkt (17) zu dem optischen Element (13) festgelegt wird, der einen Bezugspunkt mit einem in der Optik (1) festgelegten Nullpunkt (18) beim Einbau der optischen Einheit (7) in die Optik (1) bildet.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass folgende Referenzflächen vorgesehen werden: a) wenigstens drei koplanare Referenzflächen (10), die eine Referenzebene bilden, b) eine in einem Winkel zu den koplanaren Referenzflächen (10) liegende erste Anlagekante (14) des Tragteiles ( 8) , und c) eine zweite Anlagestelle (15), durch die translatorische Verschiebungen entlang der ersten Anlagekante (14) vermieden werden.
  3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die drei eine Referenzebene bildenden Referenzflächen (10) senkrecht zur optischen Achse (z-Achse) liegen.
  4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Anlagekante (14) senkrecht zu der Referenzebene liegt.
  5. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Anlagestelle (15) als Anlagekante ausgebildet ist.
  6. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Referenzflächen (10) gleichzeitig die Befestigungsflächen (10) bilden, an denen die optische Einheit (7) mit der Optik (1) verbunden wird.
  7. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Referenzflächen (10) gleichzeitig mit den Befestigungsflächen (10) bearbeitet werden.
  8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Tragteil (8) auf der von dem optischen Element (13) abgewandten Seite mit einem Unterteil (20) versehen wird.
  9. Verfahren nach Anspruch 1 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Teile (13, 18, 20) durch Ansprengen miteinander verbunden werden.
  10. Verfahren nach Anspruch 1 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Teile (13, 18, 20) durch Kleben miteinander verbunden werden.
  11. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element (13) mit einem Grundkörper (12) versehen wird, der mit einer Planfläche zur Verbindung mit dem Tragteil (8) versehen wird, und dass auf dem Grundkörper (12) ein Spiegel als optisches Element (13) gebildet wird.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass der Spiegel (13) als Teil einer Freiformfläche (Asphäre) gebildet wird.
  13. Verfahren nach Anspruch 1 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Teile (13, 8, 20) der optischen Einheit (7) aus einem gleichen Material, insbesondere einem Material mit sehr geringer Wärmeausdehnung, hergestellt werden.
  14. Optische Einheit mit einem von einer Kreisform abweichenden optischen Element (13) für eine abbildende Optik (1), insbesondere für ein Projektionsobjektiv in der Halbleiter- Lithographie im EUV-Bereich, und mit einem Tragteil (8), das mit Referenzflächen (10, 14 ,15) zur Justage in der Optik (1) versehen ist, wobei das Tragteil (8) mit dem optischen Element (13) verbunden ist, und wobei die Referenzflächen (10, 14, 15) auf einen Nullpunkt zum optischen Element (13) bezogen sind, der einen Bezugspunkt mit einem in der Optik (1) festgelegten Nullpunkt (18) beim Einbau der optischen Einheit (7) in die Optik bildet.
  15. Optische Einheit nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass an dem Tragteil (8) folgende Referenzflächen vorgesehen sind: a) wenigstens drei koplanare Referenzflächen (10), die eine Referenzebene bilden, b) eine in einem Winkel zu den koplanaren Referenzflächen (10) liegende erste Anlagekante (14) des Tragteiles (8) und c) eine zweite Anlagestelle (15), durch die translatorische Verschiebungen entlang der ersten Anlagekante (14) vermieden werden.
  16. Optische Einheit nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass die drei eine Referenzebene bildenden Referenzflächen (10) senkrecht zur optischen Achse (z-Achse) liegen.
  17. Optische Einheit nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Anlagekante (14) senkrecht zu der Referenzebene liegt.
  18. Optische Einheit nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Anlagestelle (15) als Anlagekante ausgebildet ist.
  19. Optische Einheit nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Referenzflächen (10) gleichzeitig die Befestigungsflächen (10) bilden, an denen die optische Einheit (7) mit der Optik (1) verbunden ist.
  20. Optische Einheit nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Referenzflächen (10) benachbart zu den Befestigungsflächen (10) liegen.
  21. Optische Einheit nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass das Tragteil (8) auf der von dem optischen Element (13) abgewandten Seite mit einem Unterteil (16) versehen ist.
  22. Optische Einheit nach Anspruch 15 oder 21, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Teile (13, 8, 20) der optischen Einheit durch Ansprengen miteinander verbunden sind.
  23. Optische Einheit nach Anspruch 15 oder 21, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Teile (13, 8, 20) der optischen Einheit durch Kleben miteinander verbunden sind.
  24. Optische Einheit nach Anspruch 15 oder 21, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Teile (13, 8, 20) aus einem gleichen Material, insbesondere einem Material mit sehr geringer Wärmeausdehnung, gebildet sind.
  25. Optische Einheit nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass ein Grundkörper (12) mit einer Planfläche vorgesehen ist, über die der Grundkörper (12) mit dem Tragteil (8) verbunden ist, und dass der Grundkörper (12) eine Spiegelfläche als optisches Element (13) aufweist.
  26. Optische Einheit nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelfläche (13) als Freiformfläche (Asphäre) in den Grundkörper (12) eingeformt ist.
  27. Optische Einheit nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelfläche (13) aus einem Parent (15) gebildet ist, aus welchem die Spiegelfläche (13) ausgeschnitten ist.
  28. Projektionsobjektiv für die Halbleiterlithographie im EUV- Bereich mit wenigstens einer optischen Einheit mit einem von einer Kreisform abweichenden optischen Element (13) und mit einem Tragteil (8), das mit Referenzflächen (10, 14, 15) zur Justage in der Optik (1) versehen ist, wobei das optische Element (13) mit dem Tragteil (8) zu der optischen Einheit (7) verbunden und ein Nullpunkt (17) zu dem optischen Element (13) festgelegt ist, der einen Bezugspunkt mit einem in dem Projektionsobjektiv (1) festgelegten Nullpunkt (18) beim Einbau der optischen Einheit (7) in das Projektionsobjektiv (1) bildet.
  29. Projektionsobjektiv nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, dass folgende Referenzflächen vorgesehen sind: a) wenigstens drei koplanare Referenzflächen (10), die eine Referenzebene bilden, b) eine in einem Winkel zu den koplanaren Referenzflächen (10) liegende erste Anlagekante (14) des Tragteiles (8) und c) eine zweite Anlagestelle (15), durch die translatorische Verschiebungen entlang der ersten Anlagekante (14) vermieden werden.
  30. Projektionsobjektiv nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, dass die drei eine Referenzebene bildende Referenzfläche (10) senkrecht zur optischen Achse (z-Achse) liegen.
  31. Projektionsobjektiv nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Anlagekante (14) senkrecht zu der Referenzfläche (10) liegt.
  32. Projektionsobjektiv nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Anlagestelle (15) als Anlagekante ausgebildet ist.
  33. Projektionsobjektiv nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, dass die Referenzflächen (10) gleichzeitig die Befestigungsflächen bilden, mit denen die optische Einheit (7) in dem Projektionsobjektiv befestigt ist.
  34. Projektionsobjektiv nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, dass das Tragteil (8) auf der von dem optischen Element (13) abgewandten Seite mit einem Unterteil (20) versehen wird.
  35. Projektionsobjektiv nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Teile (13, 18, 20) der optischen Einheit (7) durch Ansprengen oder Kleben miteinander verbunden werden.
  36. Projektionsobjektiv nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element (13) mit einem Grundkörper (12) versehen ist, der mit dem Tragteil (8) verbunden ist.
  37. Projektionsobjektiv nach Anspruch 36, dadurch gekennzeichnet, dass der Grundkörper (12) mit einer Spiegelfläche als optischem Element (13) versehen ist.
  38. Projektionsobjektiv nach Anspruch 36, dadurch gekennzeichnet, dass der Grundkörper (12) mit einer Planfläche zur Verbindung mit dem Tragteil (8) versehen ist.
  39. Projektionsobjektiv nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, dass der Grundkörper (12) über ein Hilfsstück (19) mit dem Tragteil (8') verbunden ist.
  40. Projektionsobjektiv nach Anspruch 39, dadurch gekennzeichnet, dass das Tragteil (8') in Prismaform ausgebildet ist.
  41. Projektionsobjektiv nach Anspruch 40, dadurch gekennzeichnet, dass der Grundkörper (12) in einer Aussparung (20) des Tragteiles (8') gelagert ist.
  42. Projektionsobjektiv nach Anspruch 39 und 41, dadurch gekennzeichnet, dass das Hilfsstück (19) an der von dem optischen Element (13) abgewandten Seite des Grundkörpers (12) angeordnet ist.
  43. Projektionsobjektiv nach Anspruch 42, dadurch gekennzeichnet, dass das Hilfsstück (19) auf der von dem optischen Element (13) abgewandten Rückseite einer Wand des Tragteiles (8') anliegt, in der sich die Aussparung (20) befindet.
  44. Projektionsobjektiv nach einem der Ansprüche 28 bis 43, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element eine Asphäre ist.
  45. Projektionsobjektiv nach einem der Ansprüche 28 bis 43, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element ein Prisma (13') ist.
DE10359576A 2003-12-18 2003-12-18 Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit Withdrawn DE10359576A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10359576A DE10359576A1 (de) 2003-12-18 2003-12-18 Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit
JP2004382556A JP2005191579A (ja) 2003-12-18 2004-12-16 光学ユニットを製造する方法
US11/015,696 US7387395B2 (en) 2003-12-18 2004-12-17 Optical units

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10359576A DE10359576A1 (de) 2003-12-18 2003-12-18 Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10359576A1 true DE10359576A1 (de) 2005-07-28

Family

ID=34672896

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10359576A Withdrawn DE10359576A1 (de) 2003-12-18 2003-12-18 Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7387395B2 (de)
JP (1) JP2005191579A (de)
DE (1) DE10359576A1 (de)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1950594A1 (de) 2007-01-17 2008-07-30 Carl Zeiss SMT AG Abbildende Optik, Projektionsbelichtunsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, durch das Herstellungsverfahren gefertigtes mikrostrukturiertes Bauelement sowie Verwendung einer derartigen abbildenden Optik
DE102009013720A1 (de) * 2009-03-20 2010-09-23 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Ausrichtung von Referenzkomponenten von Projektionsobjektiven, Projektionsobjektiv für die Halbleiterlithographie und Hilfselement
US7929114B2 (en) 2007-01-17 2011-04-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection optics for microlithography
US7999917B2 (en) 2007-07-17 2011-08-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system and microlithographic projection exposure apparatus including same
US8027022B2 (en) 2007-07-24 2011-09-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective
US8094380B2 (en) 2006-03-27 2012-01-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil
US8169694B2 (en) 2005-09-13 2012-05-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Catoptric objectives and systems using catoptric objectives
US8934085B2 (en) 2007-09-21 2015-01-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Bundle-guiding optical collector for collecting the emission of a radiation source
US8970819B2 (en) 2006-04-07 2015-03-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Microlithography projection optical system, tool and method of production

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012201075A1 (de) 2012-01-25 2013-07-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Anordnung, EUV-Lithographieanlage und Verfahren zum Konfigurieren einer optischen Anordnung
JP6390310B2 (ja) * 2013-09-27 2018-09-19 Toto株式会社 露光装置部材支持体
CN103969787B (zh) * 2014-05-22 2016-08-17 北京空间机电研究所 一种离轴四反镜头的初装定位方法
DE102014225199A1 (de) * 2014-12-09 2016-06-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Verbindungsanordnung für eine Lithographieanlage
CN113031296B (zh) * 2021-03-24 2022-08-19 长春长光智欧科技有限公司 可快速装调的金属基自由曲面三反光学***的装调方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19959616A1 (de) * 1999-12-10 2001-06-13 Volkswagen Ag Steuereinrichtung für ein automatisch und manuell schaltbares Schaltgetriebe in einem Kraftfahrzeug
DE29922034U1 (de) * 1999-12-15 2000-03-02 Texplorer Gmbh Bekleidungsstück, insbesondere Unterbekleidungsstück für Personen im Militär- und im Zivilschutzbereich
DE10016925A1 (de) * 2000-04-05 2001-10-11 Zeiss Carl Irisblende
DE10019562A1 (de) * 2000-04-20 2001-10-25 Zeiss Carl Vorrichtung zum Verbinden von Gehäusen oder Fassungen für optische Elemente
DE10026541A1 (de) * 2000-05-27 2001-11-29 Zeiss Carl Vorrichtung zur präzisen Positionierung eines Bauteils, insbesondere eines optischen Bauteiles
TW569055B (en) * 2000-06-17 2004-01-01 Zeiss Stiftung Device for mounting an optical element, for example a lens element in a lens
DE10039712A1 (de) * 2000-08-14 2002-02-28 Zeiss Carl Vorrichtung zum Verstellen der Lage zweier Bauelemente zueinander
DE10046379A1 (de) * 2000-09-20 2002-03-28 Zeiss Carl System zur gezielten Deformation von optischen Elementen
DE10050125A1 (de) * 2000-10-11 2002-04-25 Zeiss Carl Vorrichtung zum Temperaturausgleich für thermisch belastete Körper mit niederer Wärmeleitfähigkeit, insbesondere für Träger reflektierender Schichten oder Substrate in der Optik
DE10051706A1 (de) * 2000-10-18 2002-05-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
DE10053899A1 (de) * 2000-10-31 2002-05-08 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
JP2002260999A (ja) * 2000-12-08 2002-09-13 Carl-Zeiss-Stiftung Trading As Carl Zeiss 対物レンズの少なくとも1つの内部空間を気体洗浄するシステム
DE10100328A1 (de) * 2001-01-05 2002-07-11 Zeiss Carl Vorrichtung zur Aufnahme eines optischen Elements aus einem kristallinen Material
DE10100546A1 (de) * 2001-01-08 2002-07-11 Zeiss Carl Vorrichtung zur Verstellung eines optischen Elementes in einem Objektiv
DE10153147A1 (de) * 2001-10-27 2003-05-08 Zeiss Carl Verfahren zum Aufbringen eines Maßstabes auf einen Träger
DE10156884A1 (de) * 2001-11-20 2003-05-28 Zeiss Carl Smt Ag Vorrichtung zur Halterung einer Fassung eines optischen Elements
DE10200366A1 (de) * 2002-01-08 2003-07-17 Zeiss Optronik Gmbh Mehrkanalempfängersystem für winkelaufgelöste Laserentfernungsmessung
DE10215140B4 (de) * 2002-04-05 2012-12-06 Carl Zeiss Objektiv für eine Filmkamera
JP2004145264A (ja) * 2002-08-30 2004-05-20 Victor Co Of Japan Ltd 投射型表示装置
US6733369B1 (en) 2002-09-30 2004-05-11 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies, Ag Method and apparatus for polishing or lapping an aspherical surface of a work piece
US6816325B1 (en) * 2003-09-11 2004-11-09 Carl Zeiss Smt Ag Mounting apparatus for an optical element

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8967817B2 (en) 2001-05-25 2015-03-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical system with at most 11.6% of the illuminated surfaces of the pupil plane being obscured
US8169694B2 (en) 2005-09-13 2012-05-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Catoptric objectives and systems using catoptric objectives
US9465300B2 (en) 2005-09-13 2016-10-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Catoptric objectives and systems using catoptric objectives
US8810927B2 (en) 2006-03-27 2014-08-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil
US8094380B2 (en) 2006-03-27 2012-01-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective and projection exposure apparatus with negative back focus of the entry pupil
US9482961B2 (en) 2006-04-07 2016-11-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Microlithography projection optical system, tool and method of production
US8970819B2 (en) 2006-04-07 2015-03-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Microlithography projection optical system, tool and method of production
US8208200B2 (en) 2007-01-17 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical system
EP1950594A1 (de) 2007-01-17 2008-07-30 Carl Zeiss SMT AG Abbildende Optik, Projektionsbelichtunsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, durch das Herstellungsverfahren gefertigtes mikrostrukturiertes Bauelement sowie Verwendung einer derartigen abbildenden Optik
US8643824B2 (en) 2007-01-17 2014-02-04 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection optics for microlithography
US8810903B2 (en) 2007-01-17 2014-08-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical system
US8018650B2 (en) 2007-01-17 2011-09-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical system
US9239521B2 (en) 2007-01-17 2016-01-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection optics for microlithography
US9298100B2 (en) 2007-01-17 2016-03-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical system
US7929114B2 (en) 2007-01-17 2011-04-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection optics for microlithography
US7999917B2 (en) 2007-07-17 2011-08-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system and microlithographic projection exposure apparatus including same
US8027022B2 (en) 2007-07-24 2011-09-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective
US8934085B2 (en) 2007-09-21 2015-01-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Bundle-guiding optical collector for collecting the emission of a radiation source
DE102009013720A1 (de) * 2009-03-20 2010-09-23 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Ausrichtung von Referenzkomponenten von Projektionsobjektiven, Projektionsobjektiv für die Halbleiterlithographie und Hilfselement

Also Published As

Publication number Publication date
US7387395B2 (en) 2008-06-17
JP2005191579A (ja) 2005-07-14
US20050134973A1 (en) 2005-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0090218B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Justieren und Montieren von optischen Bauteilen in optischen Geräten
DE10359576A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer optischen Einheit
DE102008046699B4 (de) Abbildende Optik
DE102006031654A1 (de) Facettenspiegel mit einer Vielzahl von Spiegelsegmenten
DE3116190C2 (de)
DE102012202170A1 (de) Positionsmanipulator für ein optisches Bauelement
EP0978005A1 (de) Miniaturisiertes optisches bauelement sowie verfahren zu seiner herstellung
DE102017210190A1 (de) Optisches Element
DE102011080819A1 (de) Facettenspiegel aus Facettenmodulen mit mehreren Facetten
DE102006020991B4 (de) Verfahren zum Herstellen eines Formkörpers aus Glas oder Glaskeramik
DE102022200400A1 (de) Verbindung von komponenten einer optischen einrichtung
DE10302664A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Facettenspiegels
WO2003067288A1 (de) Spiegelfacette für einen facettenspiegel
DE102020208284A1 (de) Messanordnung und Messverfahren zur Ermittlung der Position und/oder der Orientierung eines optischen Elements sowie Projektionsbelichtungsanlage
DE102020210886A1 (de) Messanordnung und Messverfahren zur Ermittlung der Position und/oder der Orientierung eines optischen Elements sowie Projektionsbelichtungsanlage
EP1164398A2 (de) Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes, z.B. einer Linse in einem Objektiv
DE102020211691A1 (de) Optisches system und lithographieanlage
DE102019201150A1 (de) Lithographieanlage
DE102014225199A1 (de) Verbindungsanordnung für eine Lithographieanlage
WO2003104897A2 (de) Objektiv, insbesondere projektionsobjektiv für die mikrolithographie
DE10136388A1 (de) System zum Vermessen eines optischen Systems, insbesondere eines Objektives
DE102017206039A1 (de) Spiegel, lithographieanlage und verfahren zum herstellen einer lithographieanlage
EP2316047B1 (de) Verfahren zur herstellung eines objektivs
DE102019203600B4 (de) Verfahren, optisches System und Lithographieanlage
EP1395859A2 (de) Justierverfahren, insbesondere laser-justierverfahren, und hierfür geeigneter aktor

Legal Events

Date Code Title Description
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: CARL ZEISS SMT GMBH, 73447 OBERKOCHEN, DE

8141 Disposal/no request for examination