Die
Erfindung betrifft eine Anordnung zur hochgenauen Positionierung
und Messung von auf Objekttischen angeordneten Objekten und ist
insbesondere zur Positionierung und Messung der Position von auf
diesen Tischen angeordneten Objekten vorgesehen. Die Anwendung der
Anordnung ist z. B. vorgesehen bei der Herstellung von Mikrostrukturen auf
Wafern bei der Chip- und Schaltkreisherstellung in der Mikroelektronikindustrie.The
The invention relates to an arrangement for highly accurate positioning
and measuring objects arranged on object tables and
in particular for positioning and measuring the position of
provided these objects arranged objects. The application of
Arrangement is z. B. provided in the production of microstructures
Wafers in chip and circuit manufacturing in the microelectronics industry.
Um
ein auf einem Objekt- oder Koordinatentisch angeordnetes Objekt
im Raum eindeutig zu positionieren, sind Bewegungen des Tisches
in sechs Freiheitsgraden erforderlich. Es sind dieses drei lineare
Verschiebungen entlang der karthesischen Koordinatenachsen x, y
und z sowie drei Drehungen um diese Koordinatenachsen. Die Koordinatentische sind
so aufgebaut, daß der
das Objekt tragende Tisch alle diese sechs Bewegungen ausführen kann.Around
an object placed on an object or coordinate table
Clearly positioning in the room are movements of the table
required in six degrees of freedom. It is this three linear
Shifts along the Cartesian coordinate axes x, y
and z and three rotations about these coordinate axes. The coordinate tables are
built so that the
the object carrying table can perform all these six movements.
Allgemein
bekannte Koordinatentische sind als Kreuztische mit orthogonal übereinander
angeordneten Führungen
für Bewegungen
in x- und y-Richtung, bei denen zusätzlich Positionierantriebe für die z-Richtung
vorgesehen sind. Es ist auch allgemein bekannt, zur meßtechnischen
Erfassung dieser Bewegungen interferometrische Laser-Meßsysteme einzusetzen.
Solche Koordinatentische besitzen an orthogonalen Seiten Meßreflektoren
für die
interferometrische Meßsysteme.
Die zugehörigen
Interferometer sind die Meßbezugspunkte,
von denen aus die Messung definiert ist. Da die Interferometer außerhalb
des Bereiches liegen, in dem die Tischbewegung erfolgt, haben die
Meßbezugspunkte
relativ große
räumliche
Abstände
voneinander und von dem Meßobjekt
bzw. vom Koordinatentisch, so daß die Meßergebnisse erheblich von mechanischen
und thermischen Einflüssen
abhängen.
Positionier- und Meßgenauigkeiten
im Nanome terbereich sind daher kaum oder nur mit großem technischen
Aufwand möglich.
Entsprechende Positioniersysteme sind beispielsweise aus US 5 764 361 und DE 195 05 033 A1 bekannt.Commonly known coordinate tables are arranged as cross tables with orthogonally arranged guides for movements in the x and y directions, in which positioning drives for the z direction are additionally provided. It is also generally known to use interferometric laser measuring systems for the metrological detection of these movements. Such coordinate tables have measuring reflectors for the interferometric measuring systems on orthogonal sides. The associated interferometers are the measurement reference points from which the measurement is defined. Since the interferometers are outside the range in which the table movement takes place, the Meßbezugspunkte have relatively large spatial distances from each other and from the DUT or from the coordinate table, so that the measurement results depend significantly on mechanical and thermal influences. Positioning and measuring accuracy in Nanome terbereich are therefore hardly or only with great technical effort possible. Corresponding positioning systems are for example off US 5,764,361 and DE 195 05 033 A1 known.
Auch
Positioniersysteme auf Stützen
mit variablen Längen
nach Art eines Hexapods sind aus DE 199 38 602 A1 und US 5 604 593 bekannt, bei denen die
Bewegungen interferentiell mit in den Stützen integrierten Interferometern
erfaßt
werden.Also positioning systems on supports with variable lengths in the manner of a hexapod are out DE 199 38 602 A1 and US 5 604 593 in which the movements are detected interferentially with interferometers integrated in the supports.
Aus US 5 764 361 , DD 296 754 und DD 296 755 sind mehrachsige Interferometermeßsysteme bekannt.
In diesen Druckschriften sind kompakte Interferometer für eine,
zwei oder drei Achsen beschrieben, die in einem Interferometerblock
angeordnet sind. Hier sind für
eine Achsrichtung drei Interferometer erforderlich, welche der Positions- und Winkelmessung
in jeweils zwei senkrecht zur Strahlrichtung liegenden Achsen dienen.
Für die
Koordinatenrichtungen x, y und z ist jeweils ein Meßreflektor
vorgesehen. Bei Antastung der Reflektoren mit außen liegenden Interferometern
werden maximal drei Interferometer für jede Achse benötigt, welche
in einem kompakten Block ausgeführt
sein können.
Kompakte Interferometer für
mehr als drei Achsen sind jedoch nicht beschrieben.Out US 5,764,361 . DD 296 754 and DD 296 755 Multi-axis interferometric measuring systems are known. These references describe compact interferometers for one, two or three axes arranged in an interferometer block. Here three interferometers are required for one axial direction, which serve the position and angle measurement in each case two axes perpendicular to the beam direction axes. For the coordinate directions x, y and z, a measuring reflector is provided in each case. When probing the reflectors with external interferometers, a maximum of three interferometers are required for each axis, which can be implemented in a compact block. However, compact interferometers for more than three axes are not described.
Aus "APPLIED OPTICS"/Vol. 33, No. 1/1
January 1994, Seite 32, 1 und dem zugehörigen Text
ist ein Mikroscanning-Tisch bekannt, welcher in den drei Koordinaten
X, Y und Z bewegbar ist. Zur Bestimmung der Position des Tisches
sind drei außerhalb
des Tisches angeordnete Laserinterferometer vorgesehen. Die den
einzelnen Koordinaten zugeordneten Meßreflektoren in Form von Tripelspiegeln
sind an den drei senkrecht zueinander verlaufenden Flächen des
Tisches angebracht.From "APPLIED OPTICS" / Vol. 33, No. 1/1 January 1994, page 32, 1 and the accompanying text, a micro-scanning table is known, which is movable in the three coordinates X, Y and Z. To determine the position of the table, three laser interferometers arranged outside the table are provided. The measuring reflectors associated with the individual coordinates in the form of triple mirrors are mounted on the three mutually perpendicular surfaces of the table.
Aus US 5 064 289 ist eine interferometrische Anordnung
zur Messung und Positionierung von Objekttischen und darauf angeordneten
Objekten bekannt, bei welcher der Objekttisch auf einer Kreuzschlittenanordnung
in zwei Koordinatenrichtungen verstellbar ist. Die Anordnung umfaßt Laserlichtquellen,
strahlenführende
Elemente sowie Meß- und Referenzreflektoren,
wobei die beiden Meßreflektoren an
orthogonalen, außen
am Objekttisch vorgesehenen Flächen
angeordnet sind. Nachteilig ist, daß die Strahlenführung zu
den, den Koordinatenrichtungen zugeordneten Meßreflektoren durch erhebliche
Luftwege erfolgt und somit den Umwelteinflüssen, die die Messungen und
Positionierungen negativ beeinflussen, unterworfen ist.Out US 5 064 289 an interferometric arrangement for measuring and positioning of object tables and objects arranged thereon is known, in which the object table is adjustable on a cross slide arrangement in two coordinate directions. The arrangement comprises laser light sources, radiation-guiding elements and measuring and reference reflectors, wherein the two Meßreflektoren are arranged on orthogonal, provided on the outside of the stage surfaces. The disadvantage is that the beam guidance to the, the coordinate directions associated Meßreflektoren done by significant airways and thus the environmental influences that adversely affect the measurements and positioning, is subjected.
In
der US 2003/0030818
A1 ist ein interferometrisches Meßsystem mit einem aus Teilblöcken zusammengesetzten
Interferometerblock beschrieben, welches zur Positionie rung und
Messung der Position eines Wafertisches dient. Gemessen werden die Längen und
Entfernungen entlang zweier Koordinatenachsen und die Drehung um
die dritte Koordinatenachse eines karthesischen Koordinatensystems. Die
Ermittlung von Längen
entlang dreier Koordinatenachsen und von Drehungen (Rotationen)
um diese Koordinatenachsen ist nicht möglich.In the US 2003/0030818 A1 is described an interferometric measuring system with an assembled from sub-blocks interferometer block, which serves for positioning tion and measurement of the position of a wafer table. The lengths and distances along two coordinate axes and the rotation around the third coordinate axis of a Cartesian coordinate system are measured. The determination of lengths along three coordinate axes and of rotations about these coordinate axes is not possible.
Aus
der US 2002/01
911 91 A1 ist ferner ein integrierter, aus λ/4-Platten,
Reproreflektoren und Rhomboidelementen zusammengesetzter Interferonmeterblock
eines interferonmetrischen Meßsystems
für die
Messung von Verschiebungen entlang mehrerer Koordinatenachsen und
von Rotationen um mehrere Koordinatenachsen bekannt, wobei die einzelnen
Elemente dieses Blockes durch Kitten miteinander verbunden sind.From the US 2002/01 911 91 A1 Furthermore, an integrated, composed of λ / 4 plates, Reproreflektoren and Rhomboidelementen interferon meter block an interferometric measuring system for the measurement of shifts along several coordinate axes and rotations about a plurality of coordinate axes known, the individual elements of this block are connected by kitten.
So
liegt der Erfindung die Aufgabe zu Grunde, eine Anordnung zur hochgenauen
Positionierung und Messung von auf Objekttischen angeordneten Objekten
zu schaffen, welche kompakt aufgebaut und weitestgehend invariant
gegen Umwelteinflüsse ist
und mit welcher sehr genaue Messungen und Positionierungen in sechs
Freiheitsgraden weitestgehend frei von mechanischen und thermischen
Einflüssen
durchgeführt
werden.Thus, the invention is based on the object, an arrangement for high-precision positioning and to provide measurement of object arranged on object tables, which is compact and largely invariant against environmental influences and with which very accurate measurements and positioning in six degrees of freedom are performed largely free of mechanical and thermal influences.
Erfindungsgemäß wird diese
Aufgabe mit einem Positioniersensorsystem nach dem Oberbegriff des
Hauptanspruches mit dessen kennzeichnenden Mitteln gelöst. In den
Unteransprüchen
sind Einzelheiten und weitere Ausführungen offenbart.According to the invention this
Task with a Positionierensorsystem according to the preamble of
Hauptanspruches solved with its characterizing means. In the
dependent claims
Details and further embodiments are disclosed.
So
ist es vorteilhaft, wenn die sechs Interferometer des Interferometerblockes
so angeordnet sind, daß jeder
Teilblock drei Interferometer umfaßt.So
it is advantageous if the six interferometers of the interferometer block
are arranged so that everyone
Part block includes three interferometers.
Um
den Einfluß äußerer Bedingungen,
insbesondere den Temperatureinfluß, auf die Messungen und Positionierungen
weitestgehend zu beseitigen, sind vorteilhaft die Strahlengänge, insbesondere
die Referenzstrahlengänge,
der sechs Interferometer weitestgehend bzw. vollständig innerhalb
des Interferometerblockes angeordnet sind. Das betrifft alle Strahlengänge mit
Ausnahme der zu den Meßreflektoren
geführten
Meßstrahlengänge.Around
the influence of external conditions,
in particular the temperature influence on the measurements and positioning
To be largely eliminated, the beam paths are advantageous, in particular
the reference beam paths,
the six interferometers largely or completely within
are arranged of the interferometer block. This applies to all beam paths with
Exception to the measuring reflectors
out
Meßstrahlengänge.
Um
eine stabile und kompakte Bauweise des Interferometerblockes zu
erreichen, sind die beiden Teilblöcke durch Ansprengen oder Kitten
an einer Trennebene zu einer Einheit miteinander verbunden sind.Around
a stable and compact design of the interferometer block too
reach, are the two sub-blocks by wringing or kitten
are connected together at a parting plane to form a unit.
In
Sinne einer kompakten Einheit ist es auch vorteilhaft, wenn ein
jeder der beiden Teilblöcke strahlenführende Elemente,
Interferometer sowie Reflektoren in Form von Referenzreflektoren
umfaßt.In
In the sense of a compact unit, it is also advantageous if a
each of the two sub-blocks radiating elements,
Interferometers and reflectors in the form of reference reflectors
includes.
Es
ist ferner vorteilhaft, daß mindestens
ein Strahlenteilerwürfel
auch mindestens eine polarisationsoptisch wirksame Teilerfläche aufweist.It
is also advantageous that at least
a beam splitter cube
Also has at least one polarization optically effective splitter surface.
Zur
Strahlenführung
innerhalb des Interferometerblockes sind vorteilhaft die strahlenführenden Elemente
als Strahlenteilerwürfel
und/oder 90°-Strahlumlenker
(Reflektoren) ausgebildet. Als Strahlumlenker können auch Dachkantprismen vorgesehen
sein.to
radioguide
Within the interferometer block, the radiation-guiding elements are advantageous
as a beam splitter cube
and / or 90 ° beam deflector
(Reflectors) formed. As a beam deflector and roof prisms can be provided
be.
Von
Vorteil und in Sinne einer effektiven Fertigung des Interferometerwürfels ist
es, wenn die strahlenführenden
Elemente und/oder die Referenzreflektoren an den Teilblöcken angesprengt
oder angekittet sind.From
Advantage and in terms of an effective production of the interferometer cube is
it, if the radiating
Elements and / or the reference reflectors at the sub-blocks sprinkled
or are cemented.
Die
Erfindung soll nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden.
In der Zeichnung zeigenThe
Invention will be explained in more detail below using an exemplary embodiment.
In the drawing show
1 in
vereinfachter, perspektivischer Darstellung einen Objekttisch mit
Führungen,
Aktuatoren und Interferometerblock, 1 in a simplified, perspective view of a stage with guides, actuators and interferometer block,
2 die
weitere mögliche
Anordnung der Aktuatoren, 2 the further possible arrangement of the actuators,
3 die
Verbindungen der Aktuatoren mit dem Objekttisch, 3 the connections of the actuators with the stage,
4 einen
Interferometerblock mit ein- und ausgehenden Strahlenbündeln und
mit, den Koordinaten zugeordneten Reflektoren, 4 an interferometer block with incoming and outgoing beams and reflectors associated with the coordinates,
5 den
Interferometerblock in veränderter Lage, 5 the interferometer block in a different position,
6a und 6b den
Strahlenverlauf in dem einen Teilblock des Interferometerblockes
und 6a and 6b the beam path in the one sub-block of the interferometer block and
7a und 7b den
Strahlenverlauf im anderen Teilblock der Interferometerblockes. 7a and 7b the beam path in the other sub-block of the interferometer block.
In 1 ist
ein Objekttisch 1 perspektivisch dargestellt, auf welchem
das Objekt (nicht dargestellt), beispielsweise ein Wafer, angeordnet
ist. Der Objekttisch 1 ist in drei Koordinaten X, Y und
Z geführt
und kann um diese Koordinatenachsen X, Y und Z geschwenkt werden.
Auf einem Maschinenbett 2 sind Führungsschienen 3 und 4 vorgesehen,
auf denen Wagen 5, 6 und 7 verschiebbar
in X-Richtung gelagert sind (ein vierter Wagen ist in 1 nicht
sichtbar), die durch einen ersten Rahmen 8 fest miteinander
verbunden sind. Wagen 5, 6 und 7 sowie
der Rahmen 8 bilden zusammen den X-Tisch, auf welchem Führungsschienen 9 und 10 angeordnet
sind, auf denen durch einen zweiten Rahmen 11 starr verbundene
Wagen 12, 13 und 14 (der vierte Wagen
ist in 1 nicht sichtbar) gelagert sind. Wagen 12, 13 und 14 sowie
der Rahmen 11 bilden den Y-Tisch, auf dem der Objekttisch 1 in
Z-Richtung verstellbar und um die Koordinatenachse Z drehbar angeordnet
ist. Die Lagerung der Wagen auf den Führungen wird vorteilhaft durch
bekannte Kugelumlaufelemente realisiert. Zur hochgenauen Verstellung
des Objekttisches 1 in Z-Richtung sind Aktuatoren 15, 16 und 17 vorgesehen,
die zwischen dem Rahmen 11 und dem Objekttisch 1 angeordnet
sind. Eine Drehung des Objektti sches 1 um die Z-Achse wird
durch einen Aktuator 18 realisiert. Als Aktuatoren sind
vorteilhaft geeignete Piezoantriebe vorgesehen. Die Aktuatoren 15, 16, 17 und 18 sind
fest mit dem Rahmen 11 verbunden.In 1 is a stage 1 shown in perspective, on which the object (not shown), for example, a wafer, is arranged. The stage 1 is guided in three coordinates X, Y and Z and can be pivoted about these coordinate axes X, Y and Z. On a machine bed 2 are guide rails 3 and 4 provided on which carriage 5 . 6 and 7 slidably mounted in the X direction (a fourth carriage is in 1 not visible) through a first frame 8th are firmly connected. dare 5 . 6 and 7 as well as the frame 8th together form the X-table, on which guide rails 9 and 10 are arranged on which by a second frame 11 rigidly connected cars 12 . 13 and 14 (the fourth car is in 1 not visible) are stored. dare 12 . 13 and 14 as well as the frame 11 Form the Y-table on which the stage 1 adjustable in the Z direction and is arranged rotatably about the coordinate axis Z. The storage of the car on the guides is advantageously realized by known recirculating ball elements. For highly precise adjustment of the stage 1 in Z-direction are actuators 15 . 16 and 17 provided between the frame 11 and the stage 1 are arranged. A rotation of the Objektti cal 1 around the Z-axis is through an actuator 18 realized. As actuators advantageously suitable piezo drives are provided. The actuators 15 . 16 . 17 and 18 are stuck with the frame 11 connected.
Der
Objekttisch 1 ist als ein nach unten offenes, starres Bauteil
ausgeführt.
Unterhalb seiner, die Auflagefläche
für das
Objekt bildenden Abschlußplatte 19 sind
drei als Meß reflektoren 20, 21 und 22 dienende,
ebene Spiegel fest an orthogonal verlaufenden Aufnahmeflächen 23, 24 des
Objekttisches 1 fest angeordnet, wobei der eine Meßreflektor 22 (in 1 gestrichelt
dargestellt), welcher für
Messungen in Z-Richtung vorgesehen ist, die untere Fläche der
Abschlußplatte 19 bildet.The stage 1 is designed as a downwardly open, rigid component. Below his, the bearing surface for the object forming end plate 19 are three as measuring reflectors 20 . 21 and 22 Serving, level mirror fixed to orthogonal receiving surfaces 23 . 24 of the stage 1 firmly arranged, with a measuring reflector 22 (in 1 dashed lines), which is provided for measurements in the Z direction, the lower surface of the end plate 19 forms.
Im
unten offenen Raum des Objekttisches 1 ist ein Interferometerblock 25 des
interferometrischen Meßsystems,
vorzugsweise zentral, fest am Maschinenbett 2 angeordnet.In the below open space of the object table 1 is an interferometer block 25 the interferometric measuring system, preferably centrally, fixed to the machine bed 2 arranged.
Während in 1 die
Aktuatoren 15, 16, 17 und 18 an
den vier Ecken des Rahmens 11 angeordnet sind, also 90° zueinander,
zeigt 2 die Anordnung der Aktuatoren 15, 16, 17 und 18 um
60° zueinander
versetzt. Mit den den Aktuatoren 15, 16 und 17 zugeordneten
Pfeilen soll die zu realisierende Bewegung in Z-Richtung und mit
dem dem Aktuator 18 zugeordneten Pfeil die Drehung um die
Z-Koordinatenachse gekennzeichnet werden.While in 1 the actuators 15 . 16 . 17 and 18 at the four corners of the frame 11 are arranged, ie 90 ° to each other, shows 2 the arrangement of the actuators 15 . 16 . 17 and 18 offset by 60 ° to each other. With the actuators 15 . 16 and 17 associated arrows should be realized in the Z-direction and with the actuator to be realized 18 associated arrow rotation around the Z coordinate axis are marked.
3 zeigt
die beweglichen Verbindungen der auf dem Rahmen 11 angeordneten
Aktuatoren 15 bis 18 mit dem Objekttisch 1,
wobei diese Verbindungen so gestaltet werden, daß kleinste Positionsveränderungen
der beweglichen Teile der Aktuatoren, ohne mechanische Spannungen
zu erzeugen, auf den Meß-
oder Objekttisch 1 übertragen
werden. Das erfolgt beispielsweise in der Weise, daß der Aktuator 15 als
Drehpunkt durch eine Verbindung mittels einer in Kegelpfannen 27, 28 ruhenden
Kugel 28 mit dem Objekttisch 1 verbunden ist.
Die Auflage des Tisches 1 auf den Aktuatoren 16, 17 wird
durch eine auf Ebenen 29, 30 ruhende Kugel 31 realisiert.
Die Verbindung zwischen dem Objekttisch 1 und dem die Drehung
um die Z-Koordinatenachse realisierenden Aktuator 18 kann
beispielsweise durch eine Membran 32 erfolgen, welche so
gestaltet ist, daß sie
die Schwenkbewegung um die Z-Achse starr, also ohne Schlupf, überträgt, jedoch
Höhenbewegungen
des beweglichen Teils der Aktuatoren 15 bis 17 in
Z-Richtung federnd
ausgleicht. 3 shows the moving links on the frame 11 arranged actuators 15 to 18 with the stage 1 , These compounds are designed so that the smallest position changes of the moving parts of the actuators without generating mechanical stresses on the measuring or object table 1 be transmitted. This is done, for example, in such a way that the actuator 15 as a fulcrum through a connection by means of a cone in cones 27 . 28 resting ball 28 with the stage 1 connected is. The edition of the table 1 on the actuators 16 . 17 gets through one on levels 29 . 30 resting ball 31 realized. The connection between the stage 1 and the actuator realizing the rotation about the Z coordinate axis 18 For example, by a membrane 32 carried out, which is designed so that it transmits the pivotal movement about the Z-axis rigid, ie without slippage, but height movements of the movable part of the actuators 15 to 17 resiliently compensates in the Z direction.
Die 4 und 5 zeigen
den Interferometerblock 25 in perspektivischer Darstellung
in jeweils unterschiedlichen Ansichten. Der Interferometerblock 25 besteht
aus zwei durch Kitten oder Ansprengen zusammengefügte Teilblöcke 33 und 34, wobei
jeder dieser Teilblöcke 33 und 34 so
aufgebaut ist, daß er
die Funktion von drei Interferometern übernehmen kann. Die Verbindungsfläche, vorzugsweise eine
Kittfläche,
ist mit 35 in den betreffenden Figuren bezeichnet. Diese
Verbindungsfläche 35 zwischen den
Teilblöcken 33, 34 ist
als eine Strahlenteilerfläche
mit zumindest in Teilbereichen polarisierenden Eigenschaften ausgebildet.
Am Teilblock 34 sind strahlenführende, optische Elemente 36 bis 41 angeordnet
bzw. diesem zugeordnet, welche als strahlenumlenkende Einzelprismen 38, 41 und/oder
als an sich bekannte, aus Einzelprismen zusammengesetzte Strahlenteiler-
und/oder Umlenkprismen 36, 37, 39 und 40 ausgebildet
sind. Durch die strahlenführenden
Elemente 36 bis 41 wird das von der Laserlichtquelle
(nicht dargestellt) ausgesandte, in das strahlenführende,
optische Element 36 eintretende Laserlichtbündel E in
Teillichtbündel
E1 bis E6 aufgeteilt, welche in den Teilblock 34 eingestrahlt
und den einzelnen Interferometern zugeführt werden. Die Umlenkprismen
sind meist 90°-Umlenkprismen.The 4 and 5 show the interferometer block 25 in a perspective view in different views. The interferometer block 25 consists of two blocks assembled by kitten or wringing 33 and 34 where each of these sub-blocks 33 and 34 is constructed so that it can take over the function of three interferometers. The connecting surface, preferably a cemented surface, is with 35 in the relevant figures. This interface 35 between the sub-blocks 33 . 34 is designed as a beam splitter surface with at least partially polarizing properties. At the subblock 34 are ray-guiding, optical elements 36 to 41 arranged or assigned to this, which as radiation-deflecting single prisms 38 . 41 and / or as known per se, composed of individual prisms beam splitter and / or deflection prisms 36 . 37 . 39 and 40 are formed. Through the radiation-guiding elements 36 to 41 is emitted by the laser light source (not shown), in the beam-guiding optical element 36 entering laser light beam E divided into partial light bundles E1 to E6, which in the sub-block 34 irradiated and fed to the individual interferometers. The deflecting prisms are usually 90 ° Umm prisms.
In
den 4 und 5 sind ferner die drei Meßreflektoren 20, 21 und 22 dargestellt,
wobei der Meßreflektor 20 der
Y-Koordinate, der Meßreflektor 21 der
X-Koordinate und der Meßreflektor 22 der Z-Koordinate
zugeordnet ist. Auf diese Meßreflektoren 20, 21 und 22 treffen
die Meßstrahlenbündel M1 bis
M12 (4 und 5) der insgesamt sechs, in Interferometerblock 25 realisierten
Interferometer und werden an diesen Meßreflektoren 20, 21, 22 in den
Interferometerblock 25 zurückreflektiert, um an den Interferenzpunkten
der Interferometer im Innern des Blockes 25 mit den entsprechenden,
zu den einzelnen Interferometern gehörenden Referenzstrahlenbündeln zu
interferieren. Die Referenzstrahlengänge sind in den 4 und 5 nicht
dargestellt, da sie innerhalb der entsprechenden Teilblöcke 33 und 34 verlaufen.
Die die Interferenzpunkte verlassenden, und aus den Teilblöcken 33 und 34 des
Interferometerblockes 25 austretenden Strahlenbündel A1
bis A6 werden in an sich bekannter Weise, vorteilhaft durch Lichtwellenleiter,
Fotoempfängern
und einer Auswerteeinheit (nicht dargestellt) zugeführt. Aus den
von den Fotoempfängern
gelieferten Signalen werden in der Auswerteeinheit die Position
und die räumliche
Lage des Objekttisches 1 ermittelt. Der detaillierte Verlauf
der Strahlengänge
im Interferometerblock 25 wird weiter unten im Zusammenhang
mit den 6a, 6b, 7a und 7b erläutert.In the 4 and 5 are also the three measuring reflectors 20 . 21 and 22 shown, wherein the measuring reflector 20 the Y-coordinate, the measuring reflector 21 the X-coordinate and the measuring reflector 22 is assigned to the Z coordinate. On these Meßreflektoren 20 . 21 and 22 meet the measuring beams M1 to M12 ( 4 and 5 ) of the six, in the interferometer block 25 realized interferometer and are at these Meßreflektoren 20 . 21 . 22 into the interferometer block 25 reflected back to the interference points of the interferometer inside the block 25 to interfere with the corresponding, belonging to the individual interferometers reference beams. The reference beam paths are in the 4 and 5 not shown, as they are within the corresponding sub-blocks 33 and 34 run. The leaving the interference points, and from the sub-blocks 33 and 34 of the interferometer block 25 emerging beam A1 to A6 are in a conventional manner, advantageously by optical fibers, photoreceptors and an evaluation unit (not shown) supplied. From the signals supplied by the photoreceptors in the evaluation unit, the position and the spatial position of the object table 1 determined. The detailed course of the beam paths in the interferometer block 25 will be related below with the 6a . 6b . 7a and 7b explained.
Wie
bereits ausgeführt,
umfaßt
ein jeder der beiden Teilblöcke 33, 34 drei
Interferometer. So umfaßt
der Teilblock 34 die drei für die Messungen der Positionen
des Objektti sches 1 in der X- und in der Y-Koordinate und
für die
Drehung oder Kippung des Tisches 1 um die Z-Koordinate
vorgesehenen Interferometer. Für
die Messungen von Positionen in der X-Koordinate sind das eintretende
Teillichtbündel
E2 und das austretende Strahlenbündel
A2 vorgesehen. Für
Messungen in der Y-Koordinate werden die eintretenden Teillichtbündel E1
und E3 und die den Interferenzblock 25 verlassenden Strahlenbündel A1 und
A3 genutzt. Eine Drehung oder Kippung des Objekttisches 1 um
die Z-Koordinatenachse kann in der Auswerteeinheit aus den beiden
ermittelten Positionen in Richtung der Y-Koordinate und aus dem
Abstand der Strahlenbündel
A1 und A3 bestimmt werden.As already stated, each of the two sub-blocks comprises 33 . 34 three interferometers. So includes the subblock 34 the three for the measurements of the positions of the Objektti cal 1 in the X and Y coordinates and for the rotation or tilting of the table 1 around the Z-coordinate interferometer provided. For the measurements of positions in the X-coordinate, the incoming partial light bundle E2 and the outgoing beam A2 are provided. For measurements in the Y-coordinate, the incoming partial light bundles E1 and E3 and the interference block 25 leaving beam A1 and A3 used. A rotation or tilting of the stage 1 The Z coordinate axis can be determined in the evaluation unit from the two determined positions in the direction of the Y coordinate and from the distance of the beam bundles A1 and A3.
Der
Teilblock 33 umfaßt,
wie bereits ausgeführt,
ebenfalls drei Interferometer mit Interferenzpunkten, an denen die
am der Z-Koordinate zugeordneten Meßreflektor 22 reflektierten
Meßstrahlenbündel M7
bis M12 und die im Innern des Interferometerblockes 25 verlaufenden
Referenzstrahlenbündel
interferieren. Diesen Interferometern sind die eintretenden Teilstrahlenbündel E4
bis E6 und die den Interferenzblock 25 verlassenden Strahlenbündel A4
bis A6 zugeordnet. Die den Interferometern zugeordneten, vorzugsweise
als Tripelprismen ausgestaltete Reflektoren 42 bis 49,
welche in den 4 und 5 sichtbar
sind, sind außen
an den Teilblöcken 33 und 34 angeordnet.
Diese Reflektoren 42 bis 50 (Reflektor 50 ist
nicht sichtbar), welche als an sich bekannte Tripelprismen ausgebildet
sind, sind vorteilhaft an den Teilblöcken 33, 34 angekittet.
Auf den den Meßreflektoren 20, 21, 22 zugewandten
Flächen
der Teilblöcke 33, 34 sind
ferner an den Austrittsstellen der Meßstrahlenbündel M1 bis M12 polarisationsoptisch wirksame λ/4-Platten
angeordnet, welche die Lage der Polarisationsebene der durchlaufenden
Strahlenbündel
verändern.The subblock 33 includes, as already stated, also three interferometers with interference points at which the zugeord at the Z coordinate Neten measuring reflector 22 reflected measuring beam M7 to M12 and the inside of the interferometer block 25 extending reference beam bundles interfere. These interferometers are the incoming partial beams E4 to E6 and the interference block 25 leaving beam A4 assigned to A6. The reflectors associated with the interferometers, preferably designed as triple prisms 42 to 49 which in the 4 and 5 are visible outside on the sub-blocks 33 and 34 arranged. These reflectors 42 to 50 (Reflector 50 is not visible), which are designed as triple prisms known per se, are advantageous to the sub-blocks 33 . 34 cemented. On the measuring reflectors 20 . 21 . 22 facing surfaces of the sub-blocks 33 . 34 are also arranged at the exit points of the measuring beam M1 to M12 polarization-optical effective λ / 4 plates, which change the position of the polarization plane of the continuous beam.
In
der Ansicht nach 4 sichtbar, sind auf der dem
Meßreflektor 22 zugewandten
Oberfläche 51 des
Teilblockes 33 an den Austrittsstellen der Meßstrahlenbündel M7
bis M12 polarisationsoptisch wirksame, die Polarisationsebene um
90° drehende λ/4-Platten 53, 54, 55 angeordnet.In the view after 4 visible, are on the measuring reflector 22 facing surface 51 of the subblock 33 at the exit points of the measuring beam M7 to M12 polarization optically effective, the plane of polarization by 90 ° rotating λ / 4 plates 53 . 54 . 55 arranged.
Die
im Inneren des Interferometerblockes 25 verlaufenden Referenzstrahlengänge jedes
einzelnen, besagten Interferometers liegen starr im Interferometerblock 25.
Die Referenzstrahlengänge
sind dabei der Weg zwischen den entsprechenden Schnittpunkten der
Referenzstrahlenbündel
mit der entsprechenden zugeordneten polarisationsteilenden Fläche des
jeweils zugeordneten Interferometers. Die starr im Interferometerblock 25 geführten Referenzstrahlengänge bieten
den großen
Vorteil, daß sie
invariant gegenüber äußeren, insbesondere temperaturbedingten
Einflüssen
sind. Es muß lediglich der
Temperatureinfluß auf
den Interferometerblock 25 beachtet werden. Durch Konstanthalten
der Temperatur und die Verwendung von beispielsweise Quarzglas für den Interferometerblock 25 können diese
temperaturbedingten Fehlereinflüsse
weitestgehend eliminiert bzw. vermieden werden.The inside of the interferometer block 25 extending reference beam paths of each individual, said interferometer are rigid in the interferometer block 25 , The reference beam paths are the path between the corresponding intersection points of the reference beam with the corresponding associated polarization-dividing surface of the respective associated interferometer. The rigid in the interferometer block 25 guided reference beam paths offer the great advantage that they are invariant to external, especially temperature-related influences. It only needs the temperature influence on the interferometer block 25 get noticed. By keeping the temperature constant and using, for example, quartz glass for the interferometer block 25 These temperature-induced errors can be largely eliminated or avoided.
Die 6a und 6b zeigen
die Ausgestaltung des Teilblockes 34 des Interferometerblockes 25 in
verschiedenen Ansichten, welcher Strahlengänge von drei Interferometern
umfaßt,
die der Messung entlang der X- und der Y-Koordinate sowie der Messung
der Drehung um die Z-Koordinate dienen. Die Strahlengänge der
einzelnen Interferometer werden im Folgenden kurz erläutert.The 6a and 6b show the configuration of the sub-block 34 of the interferometer block 25 in various views, which includes beam paths of three interferometers, which serve the measurement along the X and Y coordinates and the measurement of the rotation about the Z coordinate. The beam paths of the individual interferometers are briefly explained below.
Im
Strahlengang des in X-Richtung messenden Interferometers wird das
in den Teilblock 34 eintretende Teillichtbündel E2
zu einer im Innern des Interferometerblockes 25 vorgesehenen
Polarisationsteilerschicht 52 geführt und an dieser in zwei Teilstrahlenbündel T21
und T22 aufgespaltet, wobei die Polarisationsebenen dieser Teilstrahlenbündel T21 und
T22 orthogonal zueinander liegen. Das die Polarisationsteilerschicht 52 passierende
Teilstrahlenbündel
T21 ist der Referenzstrahl im Strahlengang des in X-Richtung messenden
Interferometers und wird an Reflektor 45 parallel zurückgeworfen.
Das an der Polarisationsteilerschicht 52 reflektierte Teilstrahlenbündel T22
ist der Meßstrahl
des in X-Richtung messenden Interferometers. Dieses Teilstrahlenbündel T22 wird über eine
am Teilblock 34 angeordnete λ/4-Platte 56 zum Meßreflektor 21 gelenkt
und wird dort in sich selbst reflektiert. Bei dem erneuten Durchlaufen dieses
Teilstrahlenbündels
T22 durch die λ/4-Platte 56 wird
die Polarisationsebene des Teilstrahlenbündels 22 um 90° gedreht,
so daß dieser
die Polarisationsteilerschicht 52 passieren und zum Reflektor 45. gelangen
kann. Vom Reflektor 45 reflektiert, gelangt das Teilstrahlenbündel 22 durch
die Polarisationsteilerschicht 52 erneut zum Meßreflektor 21,
wird dort reflektiert und an der λ/4-Platte 56 wird
die Polarisationsebene des Teilstrahlenbündels 22 erneut um
90° gedreht.
An der Polarisationsteilerschicht 52, welche auch die Interferenzebene
des betreffenden Interferometers bildet, wird das Teilstrahlenbündel T22
reflektiert und interferiert mit dem am Reflektor 45' reflektierten
und die Polarisationsteilerschicht 52 durchlaufenden Teilstrahlenbündel T21
des Interferometers. Das Strahlenbündel A2 verläßt nach
Interferenz an der Schicht 52 den Interferometerblock 25 und
wird einem Fotoempfänger
(nicht dargestellt) zugeleitet. Aus den Fotoempfängersignalen werden in der
Auswerteeinheit dann die X-Meßwerte ermittelt.In the beam path of the measuring in the X direction interferometer is in the sub-block 34 entering partial light bundle E2 to one inside the interferometer block 25 provided polarization splitter layer 52 guided and split at this into two partial beams T21 and T22, wherein the polarization planes of these partial beams T21 and T22 are orthogonal to each other. The polarization splitter layer 52 passing partial beams T21 is the reference beam in the beam path of the measuring in the X direction interferometer and is at reflector 45 thrown back in parallel. That at the polarization splitter layer 52 reflected partial beams T22 is the measuring beam of the measuring in the X direction interferometer. This partial beam T22 is via one on the sub-block 34 arranged λ / 4 plate 56 to the measuring reflector 21 steered and is reflected there in itself. By re-passing through this partial beam T22 through the λ / 4 plate 56 becomes the plane of polarization of the partial beam 22 rotated by 90 °, so that this the polarization splitter layer 52 pass and to the reflector 45 , can get. From the reflector 45 reflected, the partial beam passes 22 through the polarization splitter layer 52 again to the measuring reflector 21 , is reflected there and on the λ / 4 plate 56 becomes the plane of polarization of the partial beam 22 rotated again by 90 °. At the polarization splitter layer 52 which also forms the interference plane of the relevant interferometer, the partial beam T22 is reflected and interferes with that at the reflector 45 ' reflected and the polarization splitter layer 52 passing partial beams T21 of the interferometer. The beam A2 leaves after interference at the layer 52 the interferometer block 25 and is supplied to a photoreceiver (not shown). The X-measured values are then determined in the evaluation unit from the photoreceiver signals.
Für die Messung
in Richtung der Y-Koordinate und für die Messung der Drehung um
die Z-Koordinate sind im Teilblock 34 des Interferometerblockes 25 zwei
weitere Interferometer integriert. Hier werden die beiden eintretenden
Teillichtbündel
E1 und E3 benutzt.For the measurement in the direction of the Y-coordinate and for the measurement of the rotation about the Z-coordinate are in the sub-block 34 of the interferometer block 25 integrated two more interferometers. Here the two entering partial light bundles E1 and E3 are used.
So
wird der eine dieser beiden Interferometerstrahlengänge gemäß den 6a und 6b wie folgt
geführt:
Das
in den Teilblock 34 des Interferometerblockes 25 eintretende
Teillichtbündel
E1 wird an der Polarisationsteilerschicht 52 in ein Teilstrahlenbündel T11
(Referenzstrahlenbündel)
und ein, das Meßstrahlenbündel des
einen Interferometers bildenden Teilstrahlenbündels T12 aufgespaltet. Das
Teilstrahlenbündel T11
wird am Reflektor 50 und an der Polarisationsteilerschicht 52 reflektiert.
Das Teilstrahlenbündel
T12 passiert die Polarisationsteilerschicht 52 und durchläuft eine λ/4-Platte 57 in
Richtung des Meßreflektors 20,
wird dort reflektiert, durchläuft
abermals die λ/4-Platte 57,
wird an der Polarisationsteilerschicht 52 reflektiert und
zum Reflektor 46 geleitet und dort reflektiert. Dieses
Teilstrahlenbündel
T12 wird dann an der Polarisationsteilerschicht 52 erneut
in Richtung zum Meßreflektor 20 umgelenkt
und interferiert nach Reflexion am Meßreflektor 20 und
nach erneutem Passieren der λ/4-Platte 57 in
der Interferenzebene (Polarisationsteilerschicht 52) mit
dem Teilstrahlenbündel
T11 und verläßt als Strahlenbündel A1
den Strahlenteilerblock 25.Thus, one of these two interferometer beam paths according to 6a and 6b as follows:
That in the subblock 34 of the interferometer block 25 entering partial light bundle E1 is at the polarization splitter layer 52 in a partial beam T11 (reference beam) and a, the measuring beam of the interferometer forming a partial beam T12 split. The partial beam T11 is at the reflector 50 and at the polarization splitter layer 52 reflected. The partial beam T12 passes through the polarization splitter layer 52 and passes through a λ / 4 plate 57 in the direction of the measuring reflector 20 , is reflected there, again passes through the λ / 4-plate 57 , becomes at the polarization splitter layer 52 reflected and to the reflector 46 guided and reflected there. This partial beam T12 is then applied to the polarization splitter layer 52 again in Rich tion to the measuring reflector 20 deflected and interferes with reflection on the measuring reflector 20 and after passing the λ / 4 plate again 57 in the interference plane (polarization splitter layer 52 ) with the partial beam T11 and leaves as beam A1 the beam splitter block 25 ,
Der
andere dieser beiden, der Y-Koordinate zugeordneten Interferometerstrahlengänge wird
wie folgt geführt:
Das
Teillichtbündel
E3 wird nach Eintritt in den Teilblock 34 an der Polarisationsteilerschicht 52 in
ein Teilstrahlenbündel
T31 (Referenzstrahlenbündel) und
in ein Teilstrahlenbündel
T32 (Meßstrahlenbündel) aufgespaltet.
Das Teilstrahlenbündel
T31 wird am Reflektor 49 und an der Polarisationsteilerschicht 52 reflektiert.
Das die Polarisationsteilerschicht 52 passierende Teilstrahlenbündel T32
durchläuft
eine λ/4-Platte 58 in
Richtung Meßreflektor 20,
wird dort in sich reflektiert und durchläuft abermals die λ/4-Platte 58 wird
an der Polarisationsteilerschicht 52 in Richtung zum Reflektor 44 hin
umgelenkt und am Reflektor 44 reflektiert. Das Teilstrahlenbündel T32
wird dann an der Polarisationsteilerschicht 52 wieder in Richtung
des Meßreflektors 20 umgelenkt
und interferiert nach Reflexion am Reflektor 20 und nach
dem Passieren der λ/4-Platte 58 in
der Ebene der Polarisationsteilerschicht 52, welche die
Interferenzebene dieses Interferometers darstellt, mit dem Teilstrahlenbündel T31
und verläßt als Strahlenbündel A3
den Interferometerblock 25.The other of these two interferometer beam paths assigned to the Y coordinate is guided as follows:
The partial light bundle E3 is after entry into the sub-block 34 at the polarization splitter layer 52 split into a partial beam T31 (reference beam) and into a partial beam T32 (measuring beam). The partial beam T31 is at the reflector 49 and at the polarization splitter layer 52 reflected. The polarization splitter layer 52 passing partial beams T32 passes through a λ / 4-plate 58 in the direction of the measuring reflector 20 , is reflected in it and again passes through the λ / 4-plate 58 is at the polarization splitter layer 52 towards the reflector 44 deflected towards the reflector and 44 reflected. The partial beam T32 is then applied to the polarization splitter layer 52 again in the direction of the measuring reflector 20 deflected and interferes after reflection at the reflector 20 and after passing the λ / 4 plate 58 in the plane of the polarization splitter layer 52 , which represents the interference plane of this interferometer, with the partial beam T31 and leaves as beam A3 the interferometer block 25 ,
Die
den Interferometerblock 25 verlassenden Strahlenbündel A1
und A3 werden nicht dargestellten Fotoempfängern zugeleitet. Aus den Fotoempfängersignalen
werden in der Auswerteeinheit die Y-Meßwerte und Meßwerte für die Drehung
um die Z-Koordinate
ermittelt.The the interferometer block 25 leaving beam A1 and A3 are not shown photoreceptors fed. From the photoreceiver signals, the Y measurement values and measured values for the rotation about the Z coordinate are determined in the evaluation unit.
Die
eintretenden Teilstrahlen E1 bis E3 sind gegenüber den, den Teilblock 34 verlassenden
Teilbündeln
A1 bis A3 seitlich versetzt, was aus 6b zu
entnehmen ist.The incoming partial beams E1 to E3 are opposite to the partial block 34 leaving sub-beams A1 to A3 laterally offset, which is off 6b can be seen.
In
den 7a und 7b werden
die Strahlenverläufe
der dem Teilblock 33 des Interferometerblockes 25 zugeordneten
Interferometer dargestellt, welche für die Messungen in Richtung
der Z-Koordinate und für
die Messung der Drehungen um die X- und um die Y-Koordinate zuständig sind. Der Teilblock 33 umfaßt die Polarisationsteilerschichten 59 und 60,
in denen auch die Interferenzebenen der betreffenden Interferometer
liegen.In the 7a and 7b become the ray trajectories of the subblock 33 of the interferometer block 25 associated interferometer, which are responsible for the measurements in the direction of the Z-coordinate and for measuring the rotations about the X and the Y-coordinate. The subblock 33 includes the polarization splitter layers 59 and 60 , in which also the interference levels of the interferometer concerned are.
Wie
aus 7a hervorgeht, wird das in den Teilblock 33 des
Interferometerblockes 25 eintretende Teillichtbündel E4
an der Polarisationsteilerschicht 60 in ein Teilstrahlenbündel T41
und ein Teilstrahlenbündel
T42 aufgespaltet, wobei das Teilstrahlenbündel T41 das Referenzstrahlenbündel des
einen Interferometers des Blockes 33 ist. Das Teilstrahlenbündel T41
wird am Reflektor 43 zur Polarisationsteilerschicht 60 versetzt
(7b) zurückgeworfen.
Das die Polarisationsteilerschicht 60 passierende Teilstrahlenbündel T42,
welches das Meßstrahlenbündel dieses
Interferometers ist, durchläuft
die λ/4-Platte 55,
wird am Meßreflektor 22 reflektiert
und nach einem weiteren Passieren der λ/4-Platte 55 an der
Polarisationsteilerschicht 60 zum Reflektor 48 umgelenkt,
wo das Teilstrahlenbündel
T42 zur Polarisationsteilerschicht 60 zurück reflektiert
wird. An der Polarisationsteilerschicht 60 wird das Teilstrahlenbündel T42
abermals zum Meßreflektor 22 umgelenkt.
Nach Reflexion am Meßreflektor 22 und
Durchlauf durch die λ/4-Platte 55 interferiert
das Teilstrahlenbündel T42
in der Ebene der Polarisationsteilerschicht 60 mit dem
Teilstrahlenbündel
T41 und verläßt als Strahlenbündel A4
den Interferometerblock 25.How out 7a This is the sub-block 33 of the interferometer block 25 entering partial light bundles E4 at the polarization splitter layer 60 split into a partial beam T41 and a partial beam T42, wherein the partial beam T41, the reference beam of an interferometer of the block 33 is. The partial beam T41 is at the reflector 43 to the polarization splitter layer 60 offset ( 7b ) thrown back. The polarization splitter layer 60 passing partial beams T42, which is the measuring beam of this interferometer, passes through the λ / 4-plate 55 , is at the measuring reflector 22 reflected and after further passing the λ / 4 plate 55 at the polarization splitter layer 60 to the reflector 48 deflected where the partial beam T42 to the polarization splitter layer 60 is reflected back. At the polarization splitter layer 60 is the partial beam T42 again to the measuring reflector 22 diverted. After reflection at the measuring reflector 22 and pass through the λ / 4 plate 55 the partial beam T42 interferes in the plane of the polarization splitter layer 60 with the partial beam T41 and leaves as beam A4 the interferometer block 25 ,
Das
in den Interferometerblock 25 eintretende, dem anderen
Interferometer des Teilblockes 33 zugeordnete Teillichtbündel E5
wird an der Polarisationsteilerschicht 60 aufgespaltet
in die Teilstrahlenbündel
T51 und Teilstrahlenbündel
T52, deren Führung
im Block 33 seitlich versetzt zur Strahlenführung im
ersten Interferometer erfolgt, wobei Reflexionen des Teilstrahlenbündels T51
und des Teilstrahlenbündels
T52 an den Re flektoren 42 und 47 erfolgen und
die λ/4-Platte 53 (nicht
sichtbar in 7a) mehrmals durch das Teilstrahlenbündel T52
durchlaufen wird. Nach Interferenz der Teilstrahlenbündel T51 und
T52 in der Ebene der Polarisationsteilerschicht 60 verläßt das Strahlenbündel A5
den Interferometerblock 25.That in the interferometer block 25 entering, the other interferometer of the sub-block 33 associated partial light bundle E5 is at the polarization splitter layer 60 split into the partial beams T51 and partial beams T52, whose leadership in the block 33 laterally offset to the beam guidance in the first interferometer, wherein reflections of the partial beam T51 and the partial beam T52 to the Re reflectors 42 and 47 done and the λ / 4 plate 53 (not visible in 7a ) is passed several times through the partial beam T52. After interference of the partial beams T51 and T52 in the plane of the polarization splitter layer 60 the beam A5 leaves the interferometer block 25 ,
Das
eintretende Teillichtbündel
E6 des dritten Interferometers des Teilblockes 33 wird
an der Polarisationsteilerschicht 59 in die Teilstrahlenbündel T61
und T62 aufgespaltet. Das Teilstrahlenbündel T61 wird an der Polarisationsteilerschicht 59 zum
Reflektor 48 (7a) umgelenkt und von dort zur
Polarisationsteilerschicht 59 zurück geleitet, wo es ebenfalls
umgelenkt wird. Das Teilstrahlenbündel T62 durchläuft die
Polarisationsteilerschicht 59 und die λ/4-Platte 54 zum Meßreflektor 22 und
wird dort zur Polarisationsteilerschicht 59 zurück geworfen.
Nach Umlenkung an der Polarisationsteilerschicht 59 und Reflexion
am Reflektor 42 (7b. in 7a durch Reflektor 43 verdeckt)
und abermaliger Umlenkung an der Polarisationsteilerschicht 59 in
Richtung des Meßreflektors 22 und
Reflexion an diesem Meßreflektor 22 interferiert
das Teilstrahlenbündel
T62 mit dem Teilstrahlenbündel
T61 und verläßt als Strahlenbündel A6
den Interferometerblock 25.The entering partial light bundle E6 of the third interferometer of the sub-block 33 is at the polarization splitter layer 59 split into the partial beams T61 and T62. The partial beam T61 is at the polarization splitter layer 59 to the reflector 48 ( 7a ) and from there to the polarization splitter layer 59 directed back where it is also redirected. The partial beam T62 passes through the polarization splitter layer 59 and the λ / 4 plate 54 to the measuring reflector 22 and becomes the polarization splitter layer there 59 thrown back. After deflection at the polarization splitter layer 59 and reflection at the reflector 42 ( 7b , in 7a by reflector 43 hidden) and repeated deflection at the polarization splitter layer 59 in the direction of the measuring reflector 22 and reflection on this measuring reflector 22 the partial beam T62 interferes with the partial beam T61 and leaves the interferometer block as the beam A6 25 ,
Die
Strahlenbündel
A4 bis A6 werden Fotoempfängern
zugeleitet, aus deren Signale in der Auswerteeinheit die entsprechenden
Meßwerte
in Richtung der Z-Koordinate und für die Drehungen um die X- und
um die Y-Koordinate ermittelt werden.The
ray beam
A4 to A6 become photo receivers
from whose signals in the evaluation the corresponding
readings
in the direction of the Z coordinate and for the rotations around the X and
to be determined by the Y coordinate.
-
11
-
Objekttischstage
-
22
-
Maschinenbettmachine bed
-
3,
43,
4
-
Führungsschienenguide rails
-
5,
6, 75,
6, 7
-
Wagendare
-
88th
-
Rahmenframe
-
9,
109
10
-
Führungenguides
-
1111
-
Rahmenframe
-
12,
13, 1412
13, 14
-
Wagendare
-
15,
16, 1715
16, 17
-
Aktuatoractuator
-
1818
-
Aktuatoractuator
-
1919
-
Abschlußplatteend plate
-
20,
21, 2220
21, 22
-
Meßreflektormeasuring reflector
-
23,
2423
24
-
Aufnahmeflächenreceiving surfaces
-
2525
-
InterferometerblockInterferometerblock
-
26,
2726
27
-
Kegelpfannenconical seats
-
2828
-
KugelBullet
-
29,
3029
30
-
Ebenelevel
-
3131
-
KugelBullet
-
3232
-
Membranmembrane
-
33,
3433
34
-
Teilblockpartial block
-
3535
-
Verbindungsflächeinterface
-
36
bis 4136
to 41
-
strahlenführende Elementeradiating elements
-
42
bis 5042
until 50
-
Reflektoren
(50 in den Figuren nicht sichtbar)Reflectors ( 50 not visible in the figures)
-
5151
-
Oberflächesurface
-
5252
-
PolarisationsteilerschichtPolarization splitting film
-
53
bis 5553
to 55
-
λ/4-Platteλ / 4 plate
-
56,
57, 5856
57, 58
-
λ/4-Platteλ / 4 plate
-
59,
6059,
60
-
PolarisationsteilerschichtPolarization splitting film
-
A1
bis A6A1
to A6
-
Strahlenbündelray beam
-
E1
bis E6E1
to E6
-
TeillichtbündelDivided light beam
-
M1
bis M12M1
to M12
-
Meßstrahlenbündelmeasurement beams
-
T11,
T21, T31, T41, T51, T61T11,
T21, T31, T41, T51, T61
-
Teilstrahlenbündel (Referenzstrahlenbündel)Partial beams (reference beams)
-
T12,
T22, T32, T42, T52, T62T12,
T22, T32, T42, T52, T62
-
Teilstrahlenbündel (Meßstrahlenbündel)Partial beams (measuring beams)
