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Die Erfindung betrifft ein Laserstrahlmarkierungsverfahren.
Ferner betrifft die Erfindung eine Markierungsvorrichtung zur Laserstrahlmarkierung eines
Zielsubstrats.
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Aus dem Fachartikel von S. Kasch „Rissfreies
und spannungsarmes Beschriften von Glas mit Nd: YAG-Laserstrahlen" in: Laser Magazin
4/1999, Seiten 8 bis 11, ist ein Verfahren zum Markieren mittels
Laserstrahlung nach dem Oberbegriff des Anspruches 1 beschrieben,
bei dem eine mit einem Markierungsmaterial versehene Substratfolie
relativ zu einem Zielsubstrat angeordnet und das Markierungsmaterial
mit einem Transfer- und Konversionsstrahl bestrahlt wird. Das Markierungsmaterial
wird auf diese Weise zum Zielsubstrat transferiert und mit diesem
haftfest verbunden.
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Das Markierungsmaterial wird mit
dem Transfer/Konversions-Laserstrahl nicht nur auf das Zielsubstrat
transferiert, sondern auch mit dem Zielsubstrat verbunden. Das Markierungsmaterial
liegt somit nach dem Transferschritt nicht im Wesentlichen lose
auf dem Zielsubstrat auf und muss daher nicht bis zu einem gegebenenfalls
erst später
erfolgenden Fixierungsschritt für
das transferierte Markierungsmaterial mit größter Vorsicht gehandhabt werden,
um die beim Transfer erreichte Ortsauflösung nicht nachträglich noch
durch zum Beispiel ein laterales Verwischen des transferierten Markierungsmaterials
zu gefährden.
Auf diese Weise ist neben einer Ortauflösung, die zum Beispiel derjenigen
des bekannten Verfahrens nach der
US 6 177 151 B1 vergleichbar ist, auch eine
gute Handhabbarkeit des Zielsubstrates gegeben. Es können nicht
nur Sichtmarkierungen, also zum Beispiel Beschriftungen, sondern
auch Funktionsmarkierungen erzeugt wer den. Derartige Funktionsmarkierungen
können
zum Beispiel eine besonderes hohe Leitfähigkeit aufweisen, so dass
hierdurch Leiterbahnen auf dem Zielsubstrat erzeugt werden können. Funktionsmarkierungen
können
sich zum Beispiel auch durch Materialeigenschaften wie einen definierten
elektrischen Widerstand, bestimmte magnetische Eigenschaften oder
besondere katalytische Eigenschaften auszeichnen.
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Aus dem Fachartikel von D. B. Crisey „Direct writing
of conformal mesoscopic electronic devices by MAPLE DW" in: Applied Surface
Science, 2000, S. 345–352
ist ein Transfer- und Konversionsverfahren bekannt, bei dem das
zu transferierende Material auf einer Seite eines Trägersubstrats
aufgebracht und dem Zielsubstrat zugewandt angeordnet wird. Dieses Verfahren
dient nicht zum Markieren.
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Ein Laserstrahlmarkierungsverfahren
sowie eine hierfür
geeignete Markierungsvorrichtung sind aus der
US 6 177 151 B1 bekannt.
Dort wird Markierungsmaterial auf einer Seite eines Trägersubstrats aufgebracht,
das Trägersubstrat
wird relativ zum Zielsubstrat derart angeordnet, dass die Trägersubstratseite,
die das Markierungsmaterial trägt,
dem Zielsubstrat zugewandt ist, und schließlich wird zur Transferierung
des Markierungsmaterials dieses mit einem Transfer-Laserstrahl bestrahlt.
Ein weiteres Laserstrahlmarkierungsverfahren ist aus dem Fachartikel „Metal
deposition from a supported metal film using an excimer Laser" von J. Bohandy et
al., J. Appl. Phys., 60 (4), 1538, 1986, bekannt. Auch hier wird durch
Bestrahlung eines Markierungsmaterials mit einem Transfer-Laserstrahl
dieses hin zu einem Zielsubstrat transferiert. Aus der
US 6 075 223 A sind ein Markierungsverfahren
sowie eine hierfür
geeignete Vorrichtung bekannt, bei dem ein Markierungsmaterial,
welches Stoffe enthält,
die für
die Strahlung eines Lasers absorbierend sind, als dünne Schicht
auf ein zu markierendes Substrat aufgebracht und anschließend durch
direkte Bestrahlung mit Laserstrahlung mit dem Substrat verbunden
wird. Zur Markierungstechnik nach der
US 6 075 223 A existiert eine Reihe von Alternativen
zur Verbindung eines Markierungsmaterial-Pulvers mit einem Zielsubstrat
durch Laserbestrahlung. Beispiele derartiger Markierungsverfahren
finden sich im Fachartikel „Two
novel additive procecces to create circuitry: direct laser writing
and direct electrostatic transfer deposition" von P. Soszek, Circuit World, 19 (4),
12, 1993, in der
EP
0 277 325 A1 , in der
US 4 853 252 A sowie im Fachartikel „Selective
metallization of ceramic substrates" von G. Kaus, IBM Technical Disclosure
Bulletin, 15 (9), 2855 (1973). Diese bekannten Verfahren haben hinsichtlich
der erreichbaren Ortsauflösung
für die
aufzubringende Markierung beziehungsweise hinsichtlich der Handhabung
des Zielsubstrates nach dem Transferschritt noch Verbesserungspotential.
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Es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung,
ein Laserstrahlmarkierungsverfahren der eingangs genannten Art derart
weiterzubilden, dass neben einer hohen Ortsauflösung auch eine ausreichend
problemlose Handhabung des Zielsubstrates nach dem Transferschritt
möglich
ist.
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Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch
ein Laserstrahlmarkierungsverfahren mit den Merkmalen des Kennzeichnungsteils
des Anspruchs 1.
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Das Markierungsmaterial ist derart
in Ausnehmungen des Trägersubstrats
aufgenommen, dass der Transfer in einer Vorzugsrichtung erfolgt. Dies
erhöht
die Flexibilität
bei der Auswahl des Markierungsmaterials, da auch derartiges Markierungsmaterial
zum Einsatz kommen kann, welches zu einem Transfer mit in Bezug
auf die Strahlrichtung des Transfer-Laserstrahls, die im Regelfall mit der
Transferrichtung übereinstimmt,
lateraler Bewegungskomponente neigt. Zudem kann bei entsprechender
Anordnung des Transfersubstrats zum Zielsubstrat das Transfersubstrat
die Funktion „Verbinden
des Markierungsmaterials" zumindest
teilweise mit übernehmen.
Der typische Durchmesser der Ausnehmungen kann hierbei an die gewünschte oder
die erreichbare Ortsauflösung
des Laserstrahlsmarkierungsverfahrens angepasst sein.
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Die Bestrahlung kann beim erfindungsgemäßen Laserstrahlmarkierungsverfahren
von der dem Markierungsmaterial abgewandten Seite des Trägersubstrats
her erfolgen. Dies vereinfacht die baulichen Anforderungen an eine
Vorrichtung zur Erzeugung des Transfer-Laserstrahls. Trägersubstratmaterialien,
welche für
den Transfer-Laserstrahl ausreichend transparent sind, sind aus
der
US 6 177 151 B1 bekannt.
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Die Bestrahlung des Markierungsmaterials kann
scannend erfolgen. Dies erhöht
die Prozessgeschwindigkeit und -genauigkeit bei der Durchführung des
Laserstrahlmarkierungsverfahrens. Die Weite des Scan-Rasters kann hierbei
abhängig
von der gewünschten
beziehungsweise der erreichbaren Ortsauflösung der Markierung gewählt werden.
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Bei einer bevorzugten Ausführungsform
des Laserstrahlmarkierungsverfahrens wird das Markierungsmaterial
erst mit einem Transfer-Laserstrahl und dann mit einem Konversions-Laserstrahl
bestrahlt. Mit dem Transfer-Laserstrahl
wird das Markierungsmaterial vom Trägersubstrat zum Zielsubstrat
transferiert. Mit dem Konversions-Laserstrahl kann das Markierungsmaterial
anschließend
mit dem Zielsubstrat verbunden werden. Die erreichbare Ortsauflösung ist
bei einem derartigen Laserstrahlmarkierungsverfahren gegeben durch
die bessere Ortsauflösung
desjenigen der beiden Schritte „Transfer" und „Verbinden". Gegebenenfalls können also beide Schritte ortsaufgelöst, zum
Beispiel durch eine entsprechende Einstrahlung eines fokussierten Transfer-Laserstrahls
und/oder Konversions-Laserstrahls erfolgen. Alternativ kann aber
auch nur ein Laserstrahl ortsaufgelöst eingestrahlt werden. Mit
dem Transfer-Laserstrahl und/oder dem Konversions-Laserstrahl können hierbei
insbesondere Materialeigenschaften des Markierungsmaterials verändert werden.
Ein Beispiel für
eine derartige Materialeigenschaft ist die Substrathaftfähigkeit
des Markierungsmaterials, die im Zuge des Transfers zunächst herabgesetzt
und nach dem Transfer wieder erhöht
werden muss. Auch andere Materialeigenschaften, wie zum Beispiel
die oben genannten oder auch die Farbe des Markierungsmaterials,
können
geändert
werden.
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Sollen mehrere ausgewählte Elemente
von Markierungsmaterial transferiert werden, sind zwei Strategien
der sequentiellen Bestrahlung möglich: die
ausgewählten
Elemente des Markierungsmaterials können bei einer ersten Strategie
erst jeweils mit dem Transfer- und dann mit dem Konversions-Laserstrahl
bestrahlt werden, bevor das jeweils nächste Element des Markierungsmaterials
bestrahlt wird. Eine derartige Sequenz minimiert den Zeitraum, während dem
das transferierte Markierungselement auf dem Zielsubstrat vorliegt,
ohne mit diesem bereits ausreichend fest verbunden zu sein.
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Alternativ hierzu können bei
einer zweiten Strategie zunächst
alle ausgewählten
Elemente mit dem Transfer-Laserstrahl und dann mit dein Konversions-Laserstrahl
bestrahlt werden. Eine derartige Sequenz ist prozesstechnisch insbesondere
dann einfach zu realisieren, wenn sich der Transfer- und der Konversions-Laserstrahl
unterscheiden, da bei einer derartigen Se quenz dann nicht ständig zwischen
dem Transfer- und dem Konversions-Laserstrahl umgeschaltet werden muss.
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Der Transfer-Laserstrahl und der
Konversions-Laserstrahl können
von der gleichen Strahlungsquelle erzeugt werden. Hierdurch wird
nicht nur das Laserstrahlmarkierungsverfahren vereinfacht, sondern
es werden auch die Anforderungen an eine hierzu benötigte Vorrichtung
herabgesetzt. Dies gilt insbesondere dann, wenn der Transfer-Laserstrahl
und der Konversions-Laserstrahl
identisch sind, da dann ein Umschalten zwischen diesen beiden Laserstrahlen
entfällt.
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Der Transfer-Laserstrahl kann eine
höhere Intensität haben
als der Konversions-Laserstrahl. Eine hochintensive Bestrahlung
des Markierungsmaterials führt
zu Effekten, die den Transfer eher begünstigen als die Bestrahlung
mit geringerer Intensität
aber vergleichbarer mittlerer Leistung. Insbesondere kann der Transfer-Laserstrahl
durch eine Güteschaltung
erzeugt werden, die bei der Erzeugung des Konversions-Laserstrahls
nicht zum Einsatz kommt. Mit einem Laseraufbau können auf diese Weise sowohl
der Transfer-Laserstrahl als auch der Konversions-Laserstrahl erzeugt
werden.
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Als Markierungsmaterial kann ein
Polymer-Komposit-Material mit einer polymeren Matrix und einem metallischen
Füller
eingesetzt sein. Prinzipiell kann als Markierungsmaterial jedes
Material eingesetzt werden, mit dein gleichzeitig ein Transfer zum
Zielsubstrat sowie eine Verbindung mit diesem möglich sind. Da die Strahlparameter
für den
Transfer-Laserstrahl einerseits und den Konversions-Laserstrahl
andererseits mit entsprechendem Aufwand nahezu beliebig unabhängig voneinander
eingestellt werden können,
lassen sich praktisch für
jede der dort genannten Markierungsmaterialien Transfer- und Konversions-Laserstrahleigenschaften
angeben, die das erfindungsgemäße Laserstrahlmarkierungsverfahren
ermöglichen.
Das genannte Polymer-Komposit-Material, bei dem als polymere Matrix zum
Beispiel ABS, als metallischer Füller
zum Beispiel Ag zum Einsatz kommen können, stellt in diesem Zusammenhang
relativ geringe Strahlparameteranforderungen an eine Kombination
aus Transfer-Laserstrahl und Konversions-Laserstrahl. Prinzipiell
ist es bei der Verwendung eines derartigen Markierungsmaterials
möglich,
denselben Laserstrahl als Transfer-Laserstrahl einerseits und als Konversions-Laserstrahl
andererseits einzusetzen. Vorzugsweise weist das Markierungsmaterial
Zusatzstoffe auf, welche die Laserstrahl-Wellenlänge des Transfer-Laserstrahls
und/oder des Konversions-Laserstrahls absorbieren. Alternativ oder
zusätzlich
zu den vorstehend genannten Markierungsmaterial-Varianten kann auch
ein Markierungsmaterial mit einem Basismaterial aus Glas, Keramik
oder Metall eingesetzt sein. Beispiele derartiger Markierungsmaterialien
finden sich in der
US
6 075 223 A .
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Bevorzugt haben die Ausnehmungen
folgende alternative Formen: zylinderförmig, wabenförmig oder
rechteckig. Derartige Formen lassen sich dicht auf dem Trägersubstrat
packen.
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Wenn das Trägersubstrat aus einem flexiblen
Material ist, kann das Trägersubstrat
räumlich
optimal an das Zielsubstrat angepasst sein. Dies ist insbesondere
bei einem unebenen Zielsubstrat von Vorteil. Das flexible Trägersubstrat
kann dann, wenn es Ausnehmungen zur Aufnahme des Markierungsmaterials
aufweist, zum Beispiel direkt auf das Zielsubstrat aufgeklebt werden.
Beispiele für
das flexible Material des Trägersubstrats
sind ein amorpher Kunststoff wie PS, SAN, PC, PMMA oder PVC oder
ein teilkristalliner Standardkunststoff wie PP oder PE. Andere Materialbeispiele
für das
Trägersubstrat,
die insbesondere für
den Transfer hochschmelzender Materialkombinationen zum Einsatz
kommen können,
sind Gläser
oder einkristalline Verbindungen.
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Eine weitere Aufgabe der Erfindung
ist es, eine Markierungsvorrichtung zur Laserstrahlmarkierung eines
Zielsubstrats zu schaffen, welche neben einer hohen Markierungs-Ortsauflösung auch
eine gute Handhabbarkeit des Zielsubstrats im Zuge des Laserstrahlmarkierungsverfahrens
gewährleistet.
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Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch
eine Markierungsvorrichtung mit den Merkmalen nach Anspruch 12.
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Die Vorteile der Markierungsvorrichtung
entsprechen im Wesentlichen denjenigen des Laserstrahlmarkierungsverfahrens.
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Eine Fokussier-Einrichtung der Führungseinrichtung
erhöht
die erreichbare Ortsauflösung
der Markierungsvorrichtung. Beim Einsatz eines Konversi ons-Laserstrahls,
der vom Transfer-Laserstrahl verschieden ist, können verschiedene Fokussiereinrichtungen
für den
Transfer-Laserstrahl einerseits und den Konversions-Laserstrahl
andererseits vorgesehen sein. Wenn der Transfer-Laserstrahl und
der Konversions-Laserstrahl von der gleichen Fokussiereinrichtung
fokussiert werden, kann eine Fokalebene für beide Laserstrahlen im Bereich
des zu transferierenden Markierungsmaterials so gewählt werden, dass
sowohl für
den Transfer als auch für
die Verbindung des Markierungsmaterials ausreichende Strahlparameter
vorliegen. Alternativ kann die Fokussiereinrichtung auch so ausgelegt
sein, dass der Transfer-Laserstrahl in einer anderen Fokalebene
fokussiert wird als der Konversions-Laserstrahl.
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In der nachfolgenden Zeichnung zeigen:
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1 eine
Markierungsvorrichtung zur Laserstrahlmarkierung eines Zielsubstrats
ausgehend. von einem Trägersubstrat
in einer schematischen und teils perspektivischen Darstellung, die,
was den Transfer von Markierungsmaterial vom Trägersubstrat zum Zielsubstrat
angeht, Stand der Technik darstellt und dem Verständnis des
grundsätzlichen
Aufbaus bei der Laserstrahlbeschriftung dienen soll; und
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2 ein
Trägersubstrat,
welches ein Ausführungsbeispiel
der Erfindung darstellt.
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Eine in 1 insgesamt mit dem Bezugszeichen 1 bezeichnete
Markierungsvorrichtung dient zur Laserstrahlmarkierung eines Zielsubstrats 2.
Hierzu wird mittels eines Laserstrahls 3 eine Markierungsmaterialschicht 4,
welche von einem Trägersubstrat 5 getragen
ist, hoch ortsaufgelöst
auf das Zielsubstrat 2 übertragen.
Sowohl das Zielsubstrat 2 als auch das Träger substrat 5 sind
eben und rechteckig, können im
Prinzip aber auch jede andere Form annehmen. Das Trägersubstrat 5 kann
alternativ auch aus einem flexiblen Material sein. Hierzu gehören zum
Beispiel amorphe Kunststoffe wie PS, SAN, PC, PMMA, PVC sowie teilkristalline
Standardkunststoffe wie PP oder PE.
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Das Markierungsmaterial, welches
die Markierungsmaterialschicht 4 aufbaut, ist ein Polymer-Komposit-Material
und besteht aus einer polymeren Matrix und einem metallischen Füller. Als
polymere Matrix kann zum Beispiel ABS vorgesehen sein. Ein metallisches
Füllmaterial
ist zum Beispiel Silber. Zudem kann das Markierungsmaterial einen den
Laserstrahl 3 absorbierenden Zusatzstoff enthalten.
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Zur Veranschaulichung dieser ortsaufgelösten Übertragung
ist das Zielsubstrat 2 in 1 durch ein
gestricheltes Liniennetz schematisch schachbrettartig in Zielzonen
Zij unterteilt. Der Index i bezeichnet hierbei
die in der perspektivischen Darstellung der 1 horizontal verlaufenden „Zeilen" der Zielzonen und
der Index j bezeichnet die in der perspektivischen Darstellung der 1 schräg von links unten nach rechts
oben verlaufenden „Spalten" der Zielzonen. Die
Zielzone in 1 links
unten ist demnach mit Z11 bezeichnet und
die in 1 rechts oben liegende
Zielzone mit Z48. Die Zielzonen haben eine typische
Ausdehnung von 50 μm × 50 μm.
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Auf der Zielzone Z34 liegt
ein in 1 schematisch
als quaderförmiger
Block dargestelltes Markierungselement 6, welches aus Markierungsmaterial
besteht und von der Markierungsmaterialschicht 4 hin zum
Zielsubstrat 2 transferiert ist. Alle anderen Zielzonen
auf dein Zielsubstrat 2 sind leer.
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In gleicher Weise wie das Zielsubstrat 2 in Zielzonen
Zij unterteilt ist, ist auch die Markierungsmaterialschicht 4 in
Markierungselement-Zonen MEij unterteilt.
Der Zielzone Z11 ist also ein dieser benachbart
angeordnetes Markierungselement ME11 zugeordnet.
Die Markierungsmaterialschicht 4 ist komplett bis auf das
fehlende Markierungselement ME34, welches
als Markierungselement 6 auf das Zielsubstrat 2 übertragen
ist. Zur Veranschaulichung ist das fehlende Markierungselement ME34 der Markierungsmaterialschicht 4 in 1 mit durchgezogenen Linien dargestellt.
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Zur Erzeugung des Laserstrahls 3 dient
ein in 1 stark schematisch
wiedergegebener Laser 7. Dieser weist zwei Endspiegel 8, 9 auf.
Der in 1 linke Endspiegel 8 ist
für den
Laserstrahl 3 vollständig
reflektierend ausgeführt.
Der in 1 rechte Endspiegel 9 ist
für den
Laserstrahl 3 teildurchlässig. Zwischen den Endspiegeln 8, 9 ist
ein Festkörper-Lasermedium 10 angeordnet.
Zwischen dem Festkörper-Lasermedium 10 und
dem in 1 rechten Endspiegel 9 ist
als Güteschaltungsmedium
ein Q-Switch-Element 11 angeordnet. Der Laser 7 ist
ein Festkörperlaser.
Als Festkörper-Lasermedium 10 kommen
in Frage: Nd:YAG, Nd:YLF oder Nd:YVO4.
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Alternative Laser 7 sind
zudem frequenzkonvertierte gütegeschaltete
Festkörperlaser,
zum Beispiel ein frequenzverdreifachter Nd:YAG-Laser mit einer Wellenlänge von
355 nm. Weitere Alternativen sind ein Diodenlaser oder ein Faserlaser.
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Typische Wellenlängen für den Laserstrahl 3 liegen
zwischen 800 und 1800 nm. Alternativ können auch Wellenlängen im
Bereich zwischen 400 und 800 nm oder im Bereich zwischen 200 und
400 nm vorgesehen sein.
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Der vom in 1 rechten Endspiegel 9 durchgelassene
Laserstrahl 3 durchtritt zunächst eine ebenfalls stark schematisch
wiedergegebene Bündelformungsoptik 12.
Diese passt den Durchmesser sowie die Divergenz des Laserstrahls 3 an die
Erfordernisse der nachfolgenden Strahlführung an. Bei der Bündelführungsoptik 12 kann
es sich zum Beispiel um ein Objektiv handeln. Nach Durchtritt durch
die Bündelführungsoptik 12 wird
der Laserstrahl 3 von einem galvanischen Scannerspiegel 13 um
circa 90° umgelenkt.
Der galvanische Scannerspiegel 13 ist um eine in einer
Spiegelebene des galvanischen Scannerspiegels 13 und gleichzeitig
in der Zeichenebene der 1 liegende
erste Schwenkachse 14 sowie um eine ebenfalls in der Spiegelebene
liegende und senkrecht auf der Zeichenebene der 1 stehende zweite Schwenkachse 15 schwenkbar,
wie durch die Pfeile 14a, 15a angedeutet.
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Nach der Reflexion am galvanischen
Scannerspiegel 13 durchtritt der Laserstrahl 3 eine
Planfeldoptik 17, die im einfachsten Fall als Plankonvexlinse
ausgebildet sein kann. Im Anschluss daran durchtritt der Laserstrahl 3 zunächst das
Trägersubstrat 5 und
danach an der Stelle des Markierungselements ME34 die
Markierungsmaterialschicht 4. Anschließend trifft der Laserstrahl 3 das
Zielsubstrat 2 im Bereich der Zielzone Z34.
Die Bündelformungsoptik 12,
der galvanische Scanner 13 und die Planfeldoptik 17 bilden
eine optische Führungseinrichtung zur
Führung
des Laserstrahls 3 vom Laser 7 zum Trägersubstrat 5.
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Die Fokussierwirkung der Planfeldoptik 17 ist derart,
dass der Fokus des Laserstrahls 3 in guter Näherung mittig
zwischen der Markierungsmaterialschicht 4 und dein Markierungselement 6 auf
der Zielzone Z34 in einer Fokalebene 18 liegt.
Im Bereich des fehlenden Markierungselements ME34 und
im Bereich des Markierungselements 6 auf der Zielzone Z34 hat der Laserstrahl 3 daher im
Wesentlichen den gleichen Durchmesser und damit die gleiche Intensität.
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Die Markierungsvorrichtung 1 arbeitet
folgendermaßen:
Zunächst wird
die Markierungsmaterialschicht 4 in an sich bekannter Weise
auf das Trägersubstrat 5 aufgebracht.
Anschließend
wird das Trägersubstrat 5 relativ
zum Zielsubstrat 2 so angeordnet, dass die Seite des Trägersubstrats 5,
die das Markierungsmaterial 4 trägt, dem Zielsubstrat 2 zugewandt
ist. Die Substrate 2 und 5 werden hierbei aneinander
so angenähert, dass
der Luftspalt zwischen der Markierungsmaterialschicht 4 und
dem Zielsubstrat 2 senkrecht zu den Substraten 2, 5 nur
eine sehr geringe Ausdehnung im Bereich einiger 10 bis einiger 100 μm hat.
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Anschließend wird mit dem Laser 7 zunächst ein
Transfer-Laserstrahl 3 erzeugt. Hierbei arbeitet das Q-Switch-Element 11,
sodass der Transfer-Laserstrahl
als eine intermittierende Strahlung mit einer Impulsdauer unterhalb
1 μs vorliegt.
Der galvanische Scannerspiegel 13 wird von einer in der
Zeichnung nicht dargestellten Steuereinrichtung angesteuert, sodass
der Transfer-Laserstrahl 3 in vorgegebener Weise die Markierungsmaterialschicht 4 derart
abrastert, dass vorgegebene Markierungselemente MEij von
einer ebenfalls vorgegebenen Anzahl von Impulsen des Transfer-Laserstrahls 3 getroffen
werden. Dies führt
dazu, dass die Haftung der vom Transfer-Laserstrahl 3 getroffenen
Markierungselemente MEij am Trägersubstrat 5 aufgehoben
wird und im Anschluss daran auf die jeweiligen Zielzonen Zij des Zielsubstrats 2 transferiert
werden. Nach Abschluss des Scan-Vorgangs für den Transfer-Laserstrahl 3 liegt
daher ein vorgegebenes Muster von Markierungselementen 6 auf
den vorgegebenen Zielzonen Zij des Zielsubstrats 2 vor.
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Im Anschluss hieran wird das Q-Switch-Element 11 im
Laser 7 deaktiviert und somit ein Konversions-Laserstrahl
erzeugt, der, da er in 1 den gleichen
Weg zurücklegt,
wie der vorstehend beschriebene Transfer-Laserstrahl, ebenfalls mit dein Bezugszeichen 3 bezeichnet
wird. Der Kon versions-Laserstrahl 3 ist ein ew-Strahl.
Alternativ ist es auch möglich,
einen Konversions-Laserstrahl als Impulsfolge einzelner Laserstrahlungsimpulse
mit im Vergleich zum Transfer-Laserstrahl langen Impulsdauern und
mit einer Impulsfolgefrequenz zum Beispiel in einer Größenordnung
von 10 kHz oder darüber
vorzusehen.
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Anschließend wird mit Hilfe des galvanischen
Scannerspiegels 13 das Zielsubstrat 2 in der gleichen
Weise mit dem Konversions-Laserstrahl 3 abgerastert, wie
dies vorstehend im Zusammenhang mit dem Transfer-Laserstrahl 3 beschrieben wurde. Auf
diese Weise werden alle auf das Zielsubstrat 2 transferierten
Markierungselemente 6 mit dem Konversions-Laserstrahl 3 bestrahlt.
Aufgrund der höheren
mittleren Leistung des Konversions-Laserstrahls 3 erwärmen sich
die mit dem Konversions-Laserstrahl 3 bestrahlten
Markierungselemente 6 derart, dass sie aufgrund der hierbei
stattfindenden Änderung
ihrer Materialeigenschaften, insbesondere ihrer Haftfähigkeit,
fest mit dem Zielsubstrat 2 verbunden werden. Alternativ
oder zusätzlich
zu einer derartigen, vom Konversions-Laserstrahl 3 initiierten Bindung
der Markierungselemente 6 an das Zielsubstrat 2 kann
der Konversions-Laserstrahl 3 auch die Änderung anderer Materialeigenschaften
der Markierungselemente 6 herbeiführen. Eine derartige Materialeigenschaft
kann zum Beispiel die Farbe des Markierungsmaterials sein.
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Das auf diese Weise mit am Zielsubstrat 2 haftenden
Markierungselementen 6 markierte Zielsubstrat 2 kann
dann entnommen werden.
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2 zeigt
eine erfindungsgemäße Ausführung des
Trägersubstrats 5 mit
einer Markierungsmaterialschicht 4, wobei diese Komponenten
die gleiche Funktion haben wie bei der Ausführungsform der Markierungsvorrichtung
1 nach 1 und daher mit den gleichen
Bezugszeichen bezeichnet werden.
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Das Trägersubstrat 5 weist
eine Vielzahl matrixartig angeordneter Näpfe Nij auf,
die als zylinderförmige
Sackausnehmungen 19 im Trägersubstrat 5 ausgeführt sind.
Wenn das Trägersubstrat 5 in
der Markierungsvorrichtung 1 montiert ist, öffnen sich
die Näpfe
Nij in Richtung auf das Zielsubstrat 2.
Einzelne Näpfe
Nij sind in gleicher Weise indiziert wie
die Zielzonen Zij und die Markierungselemente
MEij. Insgesamt liegen drei Zeilen und sechs
Spalten von Näpfen
Nij vor, deren Abstand zueinander dem Abstand der
Markierungselemente MEij nach 1 entspricht. Den Boden
der Näpfe
Nij bedeckt die Markierungsmaterialschicht 4.
Alternative Querschnittsformen der Näpfe Nij können sein:
wabenförmig,
das heißt
insbesondere symmetrisch sechseckig, rechteckig oder quadratisch.
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Nachfolgend wird ein Markierungsverfahren beschrieben,
bei welchem das Trägersubstrat 5 nach 2 zum Einsatz kommt. Erläutert werden
hierbei nur Unterschiede zum oben beschriebenen Verfahren in Zusammenhang
mit der Markierungsvorrichtung 1 der 1.
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Beim Bestrahlen der Markierungsmaterialschicht 4 in
ausgewählten
Näpfen
Nij des Trägersubstrats 5 nach 2 ergibt sich aufgrund der
zur Ebene des Trägersubstrats 5 senkrechten
Zylinderwände der
Näpfe Nij eine Transfer-Vorzugsrichtung senkrecht
zur Ebene des Trägersubstrats 5.
Diese Transfer-Vorzugsrichtung verringert die Gefahr, dass Markierungselemente
MEij beim Transfer vom Trägersubstrat 5 hin
zum Zielsubstrat 2 auseinanderlaufen, das heißt, dass
die Ortsauflösung
im Zuge des Markierungsverfahrens beeinträchtigt wird. Es können daher
beim Einsatz des Trägersubstrats 5 nach 2 auch Markierungsmaterialien
zum Einsatz koimmen, die aus relativ leichten Einzelpartikeln aufgebaut
sind. Derartige Markierungsmaterialien würden ohne den Einsatz von Näpfen 19
beim Transfer zum Auseinanderlaufen senkrecht zur Transfer-Vorzugsrichtung
neigen. Alternativ kann dank der Transfer-Vorzugsrichtung beim Einsatz
des Trägersubstrats 5 nach 2 auch ein größerer Abstand
zwischen dem Trägersubstrat 5 und
dem Zielsubstrat 2 vorgesehen sein, ohne dass es zu einer
Beeinträchtigung
der Ortsauflösung
beim Markieren kommt.
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Auf der Seite des Trägersubstrats 5,
die während
des Markierungsverfahrens dem Zielsubstrat zugewandt ist, kann das
Trägersubstrat 5 nach 2 eine dünne adhäsive Schicht 20 aufweisen.
Mit Hilfe der adhäsiven
Schicht 20 kann das Trägersubstrat 5 vor
der Beaufschlagung der Näpfe
Nij mit dem Laserstrahl 3 mit dem
Zielsubstrat 2 lösbar
haftend verbunden werden. In diesem Fall schließt das Zielsubstrat 2 die
Näpfe Nij an der dem Napfboden gegenüberliegenden
Seite ab, sodass der Durchmesser der Näpfe Nij eine
untere Grenze für
die Ortsauflösung
darstellt, die mit einem Laserstrahlmarkierungsverfahren, welches
ein derartig haftfähiges
Trägersubstrat 5 einsetzt,
erzielt werden kann. Nach der Bestrahlung des Markierungsmaterials
mit dem Transfer-Laserstrahl 3 ist das transferierte Markierungsmaterial
auch dann in den Näpfen
Nij eingeschlossen, wenn es nicht vollständig auf
dem Zielsubstrat 2 haftet. In dieser Hinsicht übernimmt
das Transfersubstrat 5 nach 2 zumindest
teilweise die Funktion „Verbinden
des Markierungsmaterials",
die ansonsten dein Konversions-Laserstrahl 3 zukommt.
Das haftfähige
Trägersubstrat 5 wird
nach Abschluss des Laserstrahlmarkierungsverfahrens einfach vorn
Zielsubstrat 2 wieder abgezogen, wobei nicht transferierte
Anteile der Markierungsmaterialschicht 4 in den Näpfen Nij verbleiben.