DE10229249A1

DE10229249A1 - Refraktives Projektionsobjektiv mit einer Taille

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Publication number: DE10229249A1
Application number: DE10229249A
Authority: DE
Inventors: Karl-Heinz Schuster
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2002-03-01
Filing date: 2002-06-28
Publication date: 2003-09-04
Also published as: US6891683B2; US20040120051A1

Abstract

Refraktives Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einer Linsenanordnung, bei dem alle Linsen aus einem Material bestehen und das eine bildseitige numerische Apertur (NA) von größer 0,7 aufweist, wobei das die Linsenanordnung (21) transmittierende Lichtbündel (23) im Bereich vor einer in der Linsenanordnung (21) angeordneten Systemblende (19) auf der Länge gleich dem größten Lichtbündeldurchmesser (25) oder des maximalen Linsendurchmessers in der Linsenanordnung (21) größer als 85% des größten Lichtbündeldurchmessers (25) oder des maximalen Linsendurchmessers ist.

Description

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem refraktiven Projektionsobjektiv, ein refraktives Projektionsobjektiv selbst sowie ein Verfahren zur Herstellung mikrostrukturierter Bauteile bei dem eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem refraktiven Projektionsobjektiv verwendet wird. Bei diesem refraktiven Projektionsobjektiv bestehen alle Linsen aus einem Material, wobei das Projektionsobjektiv eine bildseitige numerische Apertur von größer 0,7 aufweist.
Aus der DE 198 18 444 A1 sind refraktive Projektionsobjektive, die für eine Belichtungswellenlänge von 248,4 nm ausgelegt sind, bekannt, wobei die Linsen der Projektionsobjektive aus einem Material bestehen, das bei der Belichtungswellenlänge eine Brechzahl von 1,50839, wie Quarzglas, aufweist.
Weiterhin ist es aus dieser Schrift bereits bekannt, dass auftretende Bildfehler durch den gezielten Einsatz von Asphären korrigiert werden können. So ist es aus dieser Schrift entnehmbar, dass insbesondere durch vorsehen einer Asphäre in der ersten Linsengruppe, bei der es sich um eine Linsengruppe positiver Brechkraft handelt, auftretende Verzeichnung korrigiert werden kann. Weiterhin ist es aus dieser Schrift bekannt, dass durch vorsehen einer Asphäre in der zweiten Linsengruppe, die negative Brechkraft aufweist und durch die eine erste Taille gebildet wird, auftretende Eintrittspupillenaberrationen korrigiert werden können. Weiterhin ist es bekannt, dass durch vorsehen einer asphärischen Linsenoberfläche in der dritten Linsengruppe auftretendes Koma minimiert werden kann, wobei die dritte Linsengruppe positive Brechkraft aufweist und zwischen den zwei Taillen, zweite und vierte Linsengruppe angeordnet ist. Ebenfalls kann durch vorsehen einer Asphäre in der sechsten Linsengruppe, die positive Brechkraft aufweist und direkt vor dem Wafer angeordnet ist, ebenfalls das Auftreten von Koma minimiert werden. Durch vorsehen einer Asphäre in der fünften Linsengruppe, die positive Brechkraft aufweist, können insbesondere mit hoher numerische Apertur zusammenhängende Aberrationen, insbesondere sphärische Aberration, korrigiert werden. Eine derartige Korrektur ist auch durch vorsehen einer Asphäre in der vierten Linsengruppe möglich, sofern die Asphäre nahe an der Bildebene angeordnet ist.
Aus der US 5,668,672 ist es bekannt, dass chromatische Aberrationen durch den Einsatz von Quarzglas kombiniert mit einem Fluoridmaterial als Linsenmaterial korrigiert werden können. Weiterhin ist aus der DE 199 39 038 A1 ein refraktives Projektionsobjektiv bekannt, bei dem chromatische Aberrationen durch die Kombination von zwei oder mehr Sorten von Fluoridkristallen korrigiert wird. Weiterhin weist das in Fig. 11 gezeigte Projektionsobjektiv, das für die Wellenlänge 157 nm ausgelegt ist, mehrere Asphären auf. Für diese Wellenlänge sind insbesondere als Linsenmaterialien Kalziumfluorid und Lithiumfluorid vorgesehen.
Weiterhin ist es aus der US 09/694878 bekannt, insbesondere für die Farbfehlerkorrektur bei einem für die Wellenlänge 193 nm ausgelegten Objektiv einzelne Linsen aus Calciumfluorid für die Korrektur von Abbildungsfehler vorzusehen, wobei die Mehrzahl der Linsen aus Quarzglas besteht. Die numerische Apertur des in Fig. 1 gezeigten Projektionsobjektives beträgt 0,7. Dieses refraktive Projektionsobjektiv umfasst eine negative Linsengruppe, durch die eine ausgeprägte Taille bereitgestellt wird, die mit G2 bezeichnet ist.
Aus der US 09/44063, EP 1006387, ist ein Projektionsobjektiv bekannt, das eine Linsenanordnung, die ebenfalls für die Wellenlänge von 193 nm ausgelegt ist. Diese Linsenanordnung weist eine numerische Apertur von 0,7 auf. Bei dieser Linsenanordnung ist wiederum eine Materialmischung von Quarzglas und Calciumfluorid vorgesehen. Weiterhin weisen die aus dieser Schrift bekannten Projektionsobjektive mindestens zwei Linsengruppen mit negativer Brechkraft auf, durch die jeweils deutlich eine Taille ausgebildet wird.
Aus der EP 1 139 138 A1 sind refaktive Linsenanordnungen bekannt, wobei die eingesetzten Linsen aus den Materialien Calciumfluorid und Quarzglas bestehen. Es ist ein Ausführungsbeispiel gezeigt, bei dem alle Linsen aus Calciumfluorid bestehen, wobei dieses Objektiv für eine Belichtungswellenlänge von 157 nm ausgelegt ist. Die weiteren gezeigt Linsenanordnungen sind für die Belichtungswellenlänge von 193 nm ausgelegt. Alle gezeigten Linsenanordnungen weisen eine Mehrzahl von Asphären auf.
Der Einsatz beispielsweise von Calciumfluorid bei einer für die Belichtungswellenlänge von 193 nm ausgelegten Linsenanordnung ist mit dem Nachteil verbunden, dass dieses Material zum einen schwerer verfügbar ist wie Quarzglas und zum anderen auch wesentlich teurer ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, refraktive Linsenanordnungen bzw. eine Projektionsbelichtungsanlage für Mikrolithographie mit einem refraktiven Projektionsobjektiv mit einer hohen numerischen Apertur und guten optische Eigenschaften bereitzustellen.
Weiterhin lag der Erfindung die Aufgabe zugrunde, refraktive Linsenanordnungen für die Mikrolithographie zu schaffen, die sich bei hoher numerischer Apertur durch geringe Farblängsfehler auszeichnen.
Weiterhin lag der Erfindung die Aufgabe zugrunde refraktive Linsenanordnungen bereitzustellen, dessen Herstellkosten reduziert sind.
Die der Erfindung zu Grunde liegenden Aufgaben wurde durch die im Patentanspruch 1 gegebenen Merkmale gelöst. Durch die Maßnahme, dass alle Linsen aus einem Material bestehen, konnten die Herstellkosten reduziert werden, da schon allein dadurch, dass unterschiedlichste Materialien beschafft werden müssen, höhere Kosten verursacht werden, vermieden wurde.
Weiterhin ist es Aufgabe der Erfindung, ein rein refraktives Objektiv aus nur einem Linsenmaterial anzugeben, dass als Mikrolithographie-Projektionsobjektiv mit großer bildseitiger numerischer Apertur und großem Bildfeld bezüglich auftretender Farbfehler eine gute Korrektur aufweist. Da die Farbfehler mit zunehmender Bandbreite des Beleuchtungslichtes zunehmen, wurde es erst durch den Einsatz eines in bezug auf die Farbfehler, insbesondere Farblängsfehler, besonders gut korrigierten Objektives möglich, die Anforderungen an eine Einengung der Bandbreite des Beleuchtungslichtes zu reduzieren, ohne das eine Verschlechterung der Bildqualität akzeptiert werden musste.
Das Objektiv soll besonders für die Wellenlängen 157 Nanometer und 193 Nanometer geeignet sein. Überraschend wurde gefunden, dass auch unter den komplexen Randbedingungen eines hochwertigen Mikrolithographie-Projektionsobjektives Maßnahmen hinsichtlich der Anordnung und Ausbildung der Linsen möglich sind, die für ein Linsenmaterial mit gegebener Dispersion eine deutliche Senkung der chromatischen Längsaberration ergeben, so hat es sich als vorteilhaft herausgestellt, positive Brechkraft zum Bild hin zu verschieben, um den Farblängsfehler klein zu halten. Negative Linsen mit kleinem Bündelquerschnitt müssen objektseitig fern der Systemblende angeordnet sein.
Die für eine derartige Linsenanordnung notwendige hochwertige Petzval-Korrektur erfordert die Ausbildung von Taillen mit negativer Brechkraft. Durch die Maßnahme negative Linsen mit kleinem Büschelquerschnitt objektseitig, fern der Systemblende anzuordnen, kann der Farblängsfehler klein gehalten werden. Es hat sich weiterhin als vorteilhaft herausgestellt, positive Brechkraft zum Bild hin zu verschieben.
Die Anordnung von aus einer Positivlinse und einer Negativlinse bestehenden Dubletts nach der ersten Taille mit großem Linsendurchmesser von mindestens 85% des maximalen Linsendurchmessers bzw. Lichtbüscheldurchmessers, geben eine optimale Korrekturmöglichkeit bezüglich aller aperturbehafteter außeraxialer Bildfehler ohne eine Erzeugung von Farblängsfehlern.
Gerade der Bereich vor der Systemblende und der Blendenbereich selbst ist prädestiniert für das entstehen von Farblängsfehlern. Aufgrund dieser Problematik hat sich als vorteilhaft herausgestellt, in dem Bereich vor und um die Systemblende herum Dubletts anzuordnen, bei denen jeweils eine Positivlinse vorgesehen ist, der ein nahestehender Partner umgekehrter Brechkraft bei ähnlichen Lichtbüscheldurchmesser zugeordnet ist. Es hat sich insbesondere als vorteilhaft herausgestellt Dubletts vorzusehen, die eine Gesamtbrechkraft aufweisen, die kleiner ist als 20% der Brechkraft zwischen Blende und Wafer beträgt. Die äußere Form der Dubletts gleicht einem dicken durchgebogenen Meniskus, der eine relativ geringe Brechkraft ausweist.
Es hat sich als vorteilhaft herausgestellt einen Rest einer zweiten Taille durch zwei aufeinanderfolgende negativ Linsen, die zwischen zwei positiv Linsen angeordnet sind vorzusehen. Aufgrund des großen Linsendurchmessers dieser Negativlinsen wird der Lichtbündeldurchmesser in dieser zweiten Taille nur geringfügig, insbesondere weniger als 10%, ausgehend von dem maximalen Linsendurchmesser vor dieser Taille eingeschnürt, was sich vorteilhaft auf den Farblängsfehler auswirkt. Der Farblängsfehler wird auch mit chromatischer Längsaberration bezeichnet.
Durch den Einsatz von Asphären in einer Eröffnungslinsengruppe, die aus Negativlinsen besteht, wird eine Entspannung der Möglichkeiten der Petzvalkorrektur, insbesondere der Bildschalenkorrektur, erreicht. Weitere vorteilhafte Maßnahmen sind in weiteren Ansprüchen beschrieben.
Anhand der folgenden Ausführungsbeispiele wird die Erfindung näher beschrieben. Diese Beispiele sind nicht einschränkend zu verstehen. Es zeigt:
Fig. 1 Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie;
Fig. 2 Refraktives Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie für die Belichtungswellenlänge 193 nm, dass bei einer Baulänge von 1340,7 mm eine numerische Apertur von 0,8 aufweist;
Fig. 3 Projektionsobjektiv für die Wellenlänge 193 nm, dass bei einer Baulänge von 1344 mm eine numerische Apertur von 0,85 aufweist;
Fig. 4 Projektionsobjektiv für die Belichtungswellenlänge 157 nm, dass bei einer Baulänge von 1390 mm eine numerische Apertur von 0,85 aufweist;
Fig. 5 Projektionsobjektiv für die Wellenlänge 157 nm mit einer Baulänge von 1300 mm;
Fig. 6 Projektionsobjektiv für die Wellenlänge 193 nm mit einer Baulänge von 1200 mm.
Anhand von Fig. 1 wird zunächst der prinzipielle Aufbau einer Projektionsbelichtungsanlage 1, die ein refraktives Projektionsobjektiv 5 umfasst, beschrieben. Die Projektionsbelichtungsanlage 1 weist eine Belichtungseinrichtung 3 auf, die mit einer Einrichtung zur Einengung der Bandbreite versehen ist. Das Projektionsobjektiv 5 umfasst eine Linsenanordnung 21 mit einer Systemblende 19, wobei durch die Linsenanordnung 21 eine optische Achse 7 definiert wird. Zwischen Belichtungseinrichtung 3 und Projektionsobjektiv 5 ist eine Maske 9 angeordnet, die mittels eines Maskenhalters 11 im Strahlengang gehalten wird. Solche in der Mikrolithographie verwendeten Masken 9 weisen eine Mikrometer- bis Nanometerstruktur auf, die mittels des Projektionsobjektives 5 bis zu einem Faktor von 10, insbesondere um den Faktor 4, verkleinert auf eine Bildebene 13 abgebildet werden. In der Bildebene 13 wird ein durch einen Substrathalter 17 positioniertes Substrat bzw. ein Wafer 15 gehalten. Die noch auflösbaren minimalen Strukturen hängen von der Wellenlänge des für die Belichtung verwendeten Lichtes sowie von der numerischen Apertur des Projektionsobjektives 5 sowie von dem K Faktor der Belichtungseinrichtung 3 ab. Eine maximal erreichbare Auflösung der Projektionsbelichtungsanlage 1 nimmt mit abnehmender Wellenlänge des durch die Belichtungseinrichtung 3 bereitgestellten Lichtbüschels 23, durch den das Muster der Maske 9 mittels des Projektionsobjektives 5 auf den Wafer 15 abgebildet wird, zu.
Anhand der Fig. 2-6 wird der Aufbau verschiedener Linsenanordnungen 21 der Projektionsobjektiven 5, die für die Wellenlängen 193 nm und 157,6 nm ausgelegt sind, beschrieben.
Die in Fig. 2 dargestellte refraktive Linsenanordnung 21 ist für die Belichtungswellenlänge von 193 Nanometer ausgelegt und weist eine bildseitige numerische Apertur von 0,8 auf. Diese Linsenanordnung 21 umfasst 31 Linsen, von denen 9 mindestens eine asphärische Linsenoberfläche aufweisen. Solche Linsen werden auch mit Asphäre bezeichnet. Die Baulänge von Objektebene 0 zu Bildebene 0' beträgt 1340,7 mm.
Diese Linsenanordnung 21 ist in drei Linsengruppen LG1 bis LG3 unterteilbar. Die erste Linsengruppe LG1 weist positive Brechkraft auf und umfasst die Linsen mit den Flächen 2-15. Diese Linsengruppe ist wiederum unterteilbar in eine Eröffnungsgruppe EG1, die negative Brechkraft aufweist und die ersten drei Linsen umfasst. Die ersten beiden objektseitig angeordneten Linsen sind auf der dem Objekt zugewandten Seite mit einer Asphäre versehen, die auf einer konvexen Linsenoberfläche angeordnet ist. Diese ersten beiden Linsen weisen eine Durchbiegung zum Objekt hin auf.
Durch die auf die Eingangsgruppe EG1 folgenden Linsen wird ein Bauch gebildet. Diese dicken Positivlinsen haben einen positiven Effekt in Bezug auf die Petzvalsumme. Die letzte Linse der Linsengruppe LG1 ist auf der waferseitig angeordneten Linsenoberfläche asphärisiert. Diese dicken Positivlinsen liefern zusätzlich einen günstigen Beitrag in Bezug auf die Komakorrektur.
Die zweite Linsengruppe LG2 umfasst die Linsen mit den Linsenoberflächen 16-21. Die erste und die letzte Linsenoberfläche dieser Linsengruppe ist jeweils asphärisiert. Diese Linsengruppe weist negative Brechkraft auf und es wird durch diese Linsengruppe eine deutlich ausgeprägt Taille gebildet. Damit liefert diese Linsengruppe einen besonders wertvollen Beitrag zur Korrektur der sagitalen sphärischen Bildfehler höherer Ordnung. Gleichzeitig liefert die negative Gruppe den Hauptbeitrag zur Petzvalkorrektur, insbesondere zur Bildschalenebnung.
Auf die zweite Linsengruppe folgt die dritte Linsengruppe LG3, die durch die Linsen mit den Linsenoberflächen 22-64 gebildet wird. Diese Linsengruppe LG3 fällt durch ihre langgestreckte röhrenförmige Erscheinung auf. Durch einen langgestreckten Bereich vor der Systemblende 19, der einen Lichtbüscheldurchmesser bzw. einen Linsendurchmesser aufweist, der mindestens 85% des maximalen Linsendurchmessers bzw. maximalen Linsenbüscheldurchmessers beträgt, geprägt. Durch die Ausbildung eines derartigen Bereichs konnten unter Verwendung eines einzigen Linsenmaterials gute optische Eigenschaften, insbesondere im Bezug auf eine chromatische Längsaberration, erreicht werden. Gerade dieser Bereich vor der Systemblende 19 und der Bereich der Systemblende 19 selbst, ist für die Entstehung chromatischer Längsaberration besonders empfindlich. In diesem Ausführungsbeispiel sind vier Dubletts bestehend aus jeweils einer Positivlinse und einer Negativlinse vor der Systemblende 19 angeordnet. Ein weiteres Dublett bestehend aus einer Positivlinse gefolgt von einer Negativlinse ist nach der Systemblende 19 angeordnet. Durch eine auf diese Dubletts folgende dicke Positivlinse wird ein Grossteil der Brechkraft des Projektionsobjektives bereitgestellt. Ein Endbereich der dritten Linsengruppe LG3, der mit UG3d bezeichnet ist und die Linsen mit den Flächen 31-54 umfasst, wirkt sich vorteilhaft auf die negative Verzeichnung aus. Die Ausbildung dieses Endbereiches UG3d trägt auch zur Bereitstellung einer sehr hohen numerischen Apertur von 0,8 wesentlich bei und zwar durch kleine Einzelbeiträge zur sphärischen Aberration und Komazahl.
Eine schwach ausgebildete Taille durch zwei aufeinanderfolgende negativ Linsen, die vor der Systemblende angeordnet sind, sind mit UG3b bezeichnet. Durch die Linsen mit den Linsenoberflächen 22-29, mit UG3A bezeichnet, wird eine positive Untergruppe gebildet, die "entartet" einen Bauch darstellt.
Durch das in Fig. 2 beschriebene Projektionsobjektiv ist eine Fläche 10,5 × 26 mm belichtbar, wobei die Struktur des Objektives um den Faktor 4 verkleinert auf den Wafer abgebildet werden. TABELLE 1

ASPHAERISCHE KONSTANTEN

FLAECHE NR. 2

C0 0.0000
C1 2.14106637e-007
C2 -1.51669986e-011
C3 2.64769647e-015
C4 -3.99036396e-019
C5 2.47505843e-023
C6 -3.15802350e-028
C7 3.03036722e-032
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 4 C0 0.0000
C1 8.34485767e-008
C2 6.40722335e-012
C3 -1.82542397e-015
C4 2.34304470e-019
C5 -8.26711198e-024
C6 -7.65863767e-028
C7 6.41110903e-032
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 15 C0 0.0000
C1 -2.63006449e-008
C2 -2.79471341e-012
C3 -2.67096228e-016
C4 -1.35138372e-020
C5 -4.40665654e-024
C6 5.04322571e-028
C7 -7.87867135e-032
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 16 C0 0.0000
C1 3.25803022e-009
C2 -6.94860276e-013
C3 -1.78049294e-016
C4 -6.94438259e-021
C5 6.12556670e-024
C6 -1.48556644e-027
C7 1.00088938e-031
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 21 C0 0.0000
C1 4.82674733e-008
C2 1.36227355e-012
C3 -9.54833030e-017
C4 9.50143078e-022
C5 5.69193655e-025
C6 -3.40684947e-029
C7 2.94651178e-033
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 30 C0 0.0000
C1 -1.45094804e-009
C2 5.04456796e-013
C3 -5.09450648e-018
C4 -1.99406773e-022
C5 -1.14064975e-026
C6 5.78307927e-031
C7 -1.43630501e-035
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 36 C0 0.0000
C1 -1.43259985e-008
C2 -3.56045780e-013
C3 -7.68193084e-018
C4 -1.87091119e-022
C5 -1.28218449e-026
C6 3.62372568e-031
C7 -2.39455297e-035
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 46 C0 0.0000
C1 -7.44300951e-010
C2 -1.00597848e-013
C3 -1.16300854e-017
C4 3.24986044e-023
C5 5.82666461e-027
C6 -4.12661445e-031
C7 6.25538499e-036
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 47 C0 0.0000
C1 -7.10390913e-009
C2 1.80939707e-014
C3 -1.34383300e-017
C4 -1.50233953e-023
C5 7.80860338e-027
C6 -4.98388772e-031
C7 9.26846573e-036
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000
Anhand von Fig. 3 wird eine rein refraktive Linsenanordnung 21, die für die Belichtungswellenlänge von 157,6 nm ausgelegt ist, näher beschrieben. Die Baulänge dieses Linsenanordnung 21 beträgt 1344,0 mm gemessen von Objektebene 0 zu Bildebene 0'. Es ist ein Feld von 10,5 × 26 mm² belichtbar. Auch diese Linsenanordnung 21 weist wiederum in eine Eingangsgruppe EG1 auf, die durch die ersten objektseitig angeordneten, eine negative Brechkraft aufweisenden Linsen gebildet wird. Mit den darauffolgenden Linsen mit den Flächen 8-15 wird die Linsengruppe LG1 gebildet. Wiederum ist die letzte Linsenfläche 15 dieser Linsengruppe waferseitig asphärisiert.
Durch die darauffolgenden Linsen mit den Flächen 16-21 wird eine dritte Linsengruppe LG2 gebildet. Diese dritte Linsengruppe LG2 weist insgesamt negative Brechkraft auf und es wird durch diese Linsengruppe eine deutlich ausgeprägte Taille 29 gebildet. An diese Linsengruppe schließt sich eine vierte Linsengruppe LG3 an, die eine langgestreckte röhrenförmige Gestalt aufweist. In dieser vierten Linsengruppe ist eine Systemblende 19 angeordnet. Diese Linsengruppe LG3 weist auf der der dritten Linsengruppe LG2 zugewandten Seite eine Untergruppe UG3a auf, die geringe positive Brechkraft aufweist. Darauf folgt eine schwach ausgebildete Taille UG3b, die durch zwei negative Linsen gebildet wird, die einen großen Durchmesser, mindestens 85% des maximalen Durchmesser, aufweisen. Durch diese beiden aufeinanderfolgenden negativ Linsen wird eine schwache Taille UG3b gebildet. Diese Negativlinsen sind Teil der Dubletts D1 und D2. Weiterhin sind noch zwei weitere Dubletts, mit D3 und D4 bezeichnet, vor der Systemblende 19 angeordnet. Mit D5 ist ein weiteres Dublett bezeichnet, dass eine Doppelsphäre durch die Asphären auf den Linsenoberflächen 46 und 47 aufweist. Der Endbereich mit UG3d bezeichnet, umfasst eine Mehrzahl von dünnen Linsen, durch die das aufgeweitete Lichtbündel 23 auf den Wafer bzw. auf die Bildebene fokussiert wird.
Die in Fig. 3 gezeigte Linsenanordnung 21 ist ebenfalls für die Wellenlänge 193 nm ausgelegt und weist eine Baulänge von 1344 mm auf. Das mit dieser Linsenanordnung 21 belichtbare Feld beträgt 10,5 × 26 mm². Die numerische Apertur beträgt 0,85. Mit diesem Objektiv wird das Objekt 9 um den Faktor 4 verkleinert auf die Bildebene 13 abgebildet. Die genauen Linsendaten sind der Tabelle 2 zu entnehmen. TABELLE 2

ASPHAERISCHE KONSTANTEN

FLAECHE NR. 2

C0 0.0000
C1 1.28169760e-007
C2 -7.84396436e-012
C3 4.40001122e-016
C4 -7.79882973e-021
C5 -1.30623440e-023
C6 2.14846923e-027
C7 -1.41595024e-031
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 4 C0 0.0000
C1 8.23267830e-008
C2 2.76986901e-012
C3 -1.95568740e-016
C4 -7.24098423e-021
C5 1.06376091e-023
C6 -1.43486056e-027
C7 1.06511374e-031
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 15 C0 0.0000
C1 -7.43129292e-009
C2 -2.93262230e-012
C3 -2.03722650e-016
C4 -1.22563860e-020
C5 5.96520089e-025
C6 -1.46602552e-028
C7 1.53867443e-032
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 16 C0 0.0000
C1 -3.79251645e-008
C2 3.22483445e-012
C3 1.95986817e-016
C4 2.59408631e-020
C5 -1.79899203e-024
C6 -1.09069425e-029
C7 3.19439367e-033
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 21 C0 0.0000
C1 -1.34732963e-008
C2 2.75857068e-012
C3 1.90481938e-016
C4 2.08472207e-020
C5 -6.19866674e-025
C6 2.52896158e-028
C7 -1.80211827e-032
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 30 C0 0.0000
C1 -2.23816289e-009
C2 6.79079206e-013
C3 -2.77226923e-018
C4 -1.25547219e-022
C5 -1.58964362e-026
C6 6.91621100e-031
C7 -9.74826154e-036
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 36 C0 0.0000
C1 -1.48722851e-008
C2 -3.21783489e-013
C3 -1.94353769e-018
C4 -1.66369859e-022
C5 8.53060454e-028
C6 -4.40031159e-032
C7 -1.13839635e-036
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 46 C0 0.0000
C1 -1.29322449e-009
C2 -7.13114740e-014
C3 -9.86341305e-018
C4 7.04573131 e-023
C5 6.79406884e-027
C6 -5.13273315e-031
C7 8.48667932e-036
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 47 C0 0.0000
C1 -6.45902286e-009
C2 -2.38977080e-014
C3 -1.08609626e-017
C4 2.89713800e-023
C5 1.03658811e-026
C6 -6.18950334e-035
C7 1.10366044e-035
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000
Die in Fig. 4 dargestellte Linsenanordnung ist für die Belichtungswellenlänge 157 nm ausgelegt. Die Baulänge beträgt 1390,0 mm gemessen von Objektebene 0 zu Bildebene 0'. Mit dieser Linsenanordnung 21 ist ein Feld von 10,5 mm × 26 mm belichtbar. Der makroskopische Aufbau dieser Linsenanordnung unterscheidet sich nur unwesentlich von der in Fig. 3 dargestellten Linsenanordnung, so dass hier auf eine detaillierte Beschreibung verzichtet wird. Die genauen Linsendaten sind der Tabelle 3 zu entnehmen. TABELLE 3

ASPHAERISCHE KONSTANTEN

FLAECHE NR. 2

C0 0.0000
C1 1.13998854e-007
C2 -6.36178693e-012
C3 3.23659752e-016
C4 -5.32444727e-021
C5 -8.32495109e-024
C6 1.27324768e-027
C7 -7.83910573e-032
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 4 C0 0.0000
C1 7.54224753e-008
C2 2.18650725e-012
C3 -1.43119795e-016
C4 -4.77106422e-021
C5 6.81749068e-024
C6 -8.54589429e-028
C7 5.97164385e-032
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 15 C0 0.0000
C1 -6.96085201e-009
C2 -2.46245992e-012
C3 -1.57870389e-016
C4 -8.75762750e-021
C5 3.86817665e-025
C6 -9.00885871e-029
C7 8.78630596e-033
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 16 C0 0.0000
C1 -3.45865856e-008
C2 2.71322951e-012
C3 1.50235080e-016
C4 1.89751309e-020
C5 -1.30006219e-024
C6 6.16358831e-030
C7 1.17159428e-033
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 21 C0 0.0000
C1 -1.29712266e-008
C2 2.27339781e-012
C3 1.44782825e-016
C4 1.49868277e-020
C5 -4.08871955e-025
C6 1.55577307e-028
C7 -1.00785028e-032
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 30 C0 0.0000
C1 -2.06288424e-009
C2 5.71589058e-013
C3 -2.21154944e-018
C4 -8.89810821e-023
C5 -1.08068385e-026
C6 4.36847400e-031
C7 -5.73712694e-036
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 36 C0 0.0000
C1 -1.34482120e-008
C2 -2.70871166e-013
C3 -1.46625867e-018
C4 -1.23067852e-022
C5 6.79261614e-028
C6 -3.16281062e-032
C7 -5.79252063e-037
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 46 C0 0.0000
C1 -1.19258053e-009
C2 -6.06323614e-014
C3 -7.79480128e-018
C4 5.18508440e-023
C5 4.67224846e-027
C6 -3.31365069e-031
C7 5.12625482e-036
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 47 C0 0.0000
C1 -5.81614530e-009
C2 -2.06494325e-014
C3 -8.58899622e-018
C4 2.06606063e-023
C5 7.14078196e-027
C6 -3.99032238e-031
C7 6.64567245e-036
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000
Die in Fig. 5 dargestellt Linsenanordnung 21 ist ebenfalls für die Wellenlänge 157,6 nm ausgelegt. Dieses Linsenanordnung 21 unterscheidet sich maßgeblich dadurch, dass nur 3 Dubletts D1, D2 und D4 vor der Systemblende 19 angeordnet sind. Das in den vorhergehenden Figuren mit D3 zeichnete Dublett ist entfallen. Die beiden aufeinanderfolgenden Negativlinsen, durch die die zweite schwach ausgeprägte Taille gebildet wird, sind beabstandet voneinander angeordnet. Durch diese geänderte Anordnung und die Einsparung des Dublets D3 wird erreicht, dass das Linsenvolumen sinkt.
Die genauen Linsendaten sind der nachfolgenden Tabelle 4 zu entnehmen. TABELLE 4

ASPHAERISCHE KONSTANTEN

FLAECHE NR. 2

K 0.0000
C1 1.40076890e-007
C2 -9.37770559e-012
C3 5.50812946e-016
C4 6.20589318e-021
C5 -2.37140019e-023
C6 3.95180787e-027
07 -2.60792832e-031
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 4 K 0.0000
C1 9.46620092e-008
C2 3.31455802e-012
C3 -2.39290707e-016
C4 -1.71234783e-020
C5 1.74026756e-023
C6 -2.43020107e-027
C7 1.77431459e-031
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 15 K 0.0000
C1 -1.23543806e-008
C2 -3.08782621e-012
C3 -2.03630284e-016
C4 -8.16153110e-021
C5 1.74407091e-025
C6 -5.09307070e-029
C7 1.00885745e-032
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 16 K 0.0000
C1 -4.62416977e-008
C2 5.09342413e-012
C3 1.93873885e-016
C4 2.75889868e-020
C5 -1.64807233e-024
C6 -1.89286552e-028
C7 1.58124115e-032
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 21 K 0.0000
C1 -2.13181934e-008
C2 3.39572804e-012
C3 1.70428863e-016
C4 2.27977453e-020
C5 -9.47218587e-025
C6 2.65529506e-028
C7 -2.14888777e-032
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 30 K 0.0000
C1 -2.44196650e-009
C2 6.83785083e-013
C3 -4.77483094e-018
C4 -4.35836087e-023
C5 -1.74046992e-026
C6 6.83065300e-031
C7 -9.01251572e-036
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 32 K 0.0000
C1 -1.53715814e-008
C2 -3.53812954e-013
C3 -8.52862214e-019
C4 -2.84552357e-022
C5 3.34667441e-027
C6 -1.70981346e-031
C7 8.06815620e-038
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 42 K 0.0000
C1 -1.38703825e-009
C2 -7.42014625e-014
C3 -1.11669633e-017
C4 7.72614773e-023
C5 8.16034068e-027
C6 -6.36127613e-031
C7 1.09104108e-035
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 43 K 0.0000
C1 -6.81804423e-009
C2 -3.12076075e-014
C3 -1.22481799e-017
C4 2.99026626e-0.23
C5 1.23468742e-026
C6 -7.60144642e-031
C7 1.42018134e-035
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000
Die in Fig. 6 dargestellte Linsenanordnung 21 ist für die Wellenlänge 193 Nanometer ausgelegt. Das belichtbare Feld beträgt 10,5 mm × 26 mm. Die Baulänge von Objektebene 0' - Bildebene 0' beträgt 1200 mm. Die für die Herstellung erforderliche Materialmenge an Quarzglas beträgt lediglich 103 kg. Auch bei diesem Ausführungsbeispiel, genauso wie dem in Fig. 5 gezeigten Ausführungsbeispiel, sind insgesamt nur 4 Dubletts vorgesehen. Auch bei diesem Ausführungsbeispiel ist auf das Dublett, dass in den Fig. 2-4 mit D3 bezeichnet worden ist, entfallen. Die genauen Linsendaten sind der nachfolgenden Tabelle 5 zu entnehmen. Tabelle 5

ASPHAERISCHE KONSTANTEN

FLAECHE NR. 2

C0 0.0000
C1 1.52757338e-007
C2 -1.39394902e-011
C3 7.41376692e-016
C4 -3.46945761e-019
C5 8.95992656e-023
C6 -1.64136955e-026
C7 1.18641735e-030
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 4 C0 0.0000
C1 4.00562871e-008
C2 4.60196624e-012
C3 -3.47640954e-016
C4 1.69507580e-019
C5 -3.89922208e-023
C6 7.79027536e-027
C7 -5.53241761e-031
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 15 C0 0.0000
C1 5.47524591e-008
C2 5.05793043e-013
C3 3.05008775e-017
C4 -1.98253574e-021
C5 7.84443491e-025
C6 -1.27239733e-028
C7 6.73733553e-033
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 17 C0 0.0000
C1 -9.99718876e-008
C2 -8.52059462e-012
C3 -5.86845398e-016
C4 -6.64124324e-020
C5 -4.60657771e-024
C6 -5.51712065e-028
C7 0.00000000e+000
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 21 C0 0.0000
C1 -1.77390890e-008
C2 1.86160395e-012
C3 2.57697930e-016
C4 2.73779514e-020
C5 4.36917581e-024
C6 -1.21030389e-028
C7 7.05508252e-032
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 30 C0 0.0000
C1 -2.92222111e-009
C2 6.98720386e-013
C3 9.60282132e-018
C4 4.51192034e-022
C5 -8.63764902e-026
C6 2.79307913e-030
C7 -4.28143587e-035
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 31 C0 0.0000
C1 3.79088573e-009
C2 1.54225743e-013
C3 2.58122902e-018
C4 7.06529922e-022
C5 -4.65550297e-026
C6 1.02837481e-030
C7 2.54076903e-036
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 32 C0 0.0000
C1 -1.43835369e-008
C2 9.53138635e-014
C3 -7.72742465e-019
C4 -5.55446815e-023
C5 1.85136302e-026
C6 -1.44110574e-030
C7 3.72591227e-035
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 42 C0 0.0000
C1 -1.46322720e-009
C2 -7.32982723e-014
C3 -4.12559846e-018
C4 1.10568402e-022
C5 8.54286956e-027
C6 -8.34588063e-031
C7 1.97309537e-035
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 43 C0 0.0000
C1 -6.88182408e-009
C2 1.49845458e-014
C3 -3.68264031e-018
C4 1.78132275e-022
C5 6.62312346e-027
C6 -8.68541514e-031
C7 2.32817966e-035
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000 FLAECHE NR. 47 C0 0.0000
C1 1.62217387e-009
C2 -6.74169300e-014
C3 1.20108340e-018
C4 1.21664354e-023
C5 -1.11444071e-027
C6 1.08479154e-031
C7 -2.93513997e-036
C8 0.00000000e+000
C9 0.00000000e+000
Die asphärischen Linsenoberflächen werden durch die Gleichung:

beschrieben, wobei P(h) die Pfeilhöhe als Funktion des Radius h, also der Abstand von einer ebenen Fläche ist, die durch den Flächenscheitel geht und senkrecht zur optischen Achse orientiert ist. C₁ bis C_n sind die in den Tabellen angegebenen asphärischen Konstanten und C0 ist die konische Konstante. R ist der in den Tabellen angegebene Scheitelradius.
Bei der Frage nach dem für die Belichtung im Resist noch erträglichen Kontrastabfall, zeigt sich, dass der Kontrastabfall durch den Farblängsfehler eines Lithographieobjektives deutlich beeinflusst wird. Um die Bandbreite eines Systems über verschiedene Aperturen, Wellenlängen, Materialien und Strukturbreiten zu ermitteln, werden folgende maximale Zerstreuungskreise, die durch den Farblängsfehler induziert werden, vorgeschlagen:

Durchmesser des Zerstreuungskreises < 2,2 × Strukturbreite

und vorzugsweise

Durchmesser des Zerstreuungskreises < 2,0 × Strukturbreite
Der chromatisch induzierte Zerstreuungskreis soll bei maximaler Apertur und bei einem Δλ von der Hälfte der Lichtquellenbandbreite zur mittleren Arbeitswellenlänge ermittelt werden.
In der nachfolgenden Tabelle wurde die Bandbreite eines Systems für folgendes Verhältnis ermittelt:

Durchmesser des Chromatischen Zerstreuungskreises = 2,1 * Strukturbreite, dies ergibt einen Kontrastabfall von etwa 6,5% des polychromatischen Systems zum monochromatischen System für Gitterstrukturen.
Die Strukturbreite wurde nach der folgenden Formel bestimmt:
Dabei wurde ein K₁ von 0,32 gewählt. Der K₁-Wert variiert sinnvoller Weise zwischen 0,27 und 0,35. Die Kennziffer KCHL kann den Vergleich zwischen unterschiedlichen refraktiven Lithographiedesigns herstellen bezüglich der Erzeugung des chromatischen Längsfehlers unter den Bedingungen Bildfeld, Bandbreite der Lichtquelle und Materialdispersion der verwendeten Linsen. Besteht das Objektiv nur aus einem Material wird nur diese eine Materialdispersion benutzt. Besteht das Objektiv aus mehreren Materialien erhält jede Linse ein synthetisches Ersatzmaterial mit einer Brechzahl wie bisher, aber einer einheitlichen wählbaren Dispersion zur Errechnung des Ersatz CHL.

CHL ist der chromatische Längsfehler
Δλ ist das Bandbreitenintervall
Y'max ist der maximale Bildfelddurchmesser.
Vorteilhafterweise gibt man die numerischen Werte für CHL, Δλ und Y'max alle in nm ein, für Δλ wählt man beispielsweise einen Wert von 1 nm. Um den Stand der Technik zu dokumentieren wurden aus der WO 01/50171 A1 die Beispiel m 1159a repräsentiert einen ganz typischen KCHL-Wert von 6,07 der nur in ganz engen Grenzen von allen refraktiven Lithographieobjektiven variiert. Ein so hoher KCHL-Wert von 6,64 für das Bespiel mit Bezeichnung m 1450a ist als Ausnahme nach oben gezeigt.
Werte deutlich unter 6,0 werden erstmalig mit den in hier gezeigten Ausführungsbeispielen erreicht. Insbesondere im Beispiel m 1656a wurde ein extrem kleiner KCHL bewiesen (KCHL = 4,71). Dieser ermöglicht es erstmalig für 193 nm und etwa 70 nm Strukturbreite nur SiO₂ als Linsenmaterial einzusetzen. Der völlige Verzicht auf CaF₂ bei 70 nm Strukturen und das Reduzieren des CaF₂ Volumens für noch kleinere Strukturen ist enormer wirtschaftlicher Vorteil. Die Objektive hier gezeigter Bauart besitzen:
Einen KCHL-Wert von < 5,3 vorzugsweise
einen KCHL-Wert von < 5,0 und ganz bevorzugt einen
KCHL-Wert von < 4,8 Bezugszeichenliste 1 Projektionsbelichtungsanlage
3 Beleuchtungseinrichtung
5 Projektionsobjektiv
7 optische Achse
9 Maske
11 Maskenhalter
13 Bildebene
15 Wafer
17 Substrathalter
19 Systemblende
21 Linsenanordnung
23 Lichtbündel
25 größter Lichtbündeldurchmesser
27 Lichtbündeldurchmesser
29 erste Taille

Claims

1. Refraktives Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einer Linsenanordnung bei dem alle Linsen aus einem Material bestehen und das eine bildseitige numerische Apertur (NA) von größer 0,7 aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass das die Linsenanordnung (21) transmittierende Lichtbündel (23) im Bereich vor einer in der Linsenanordnung (21) angeordneten Systemblende (19) auf der Länge gleich dem größten Lichtbündeldurchmesser (25) oder des maximalen Linsendurchmessers in der Linsenanordnung (21) größer als 85% des größten Lichtbündeldurchmessers (25) oder des maximalen Linsendurchmessers ist.

2. Refraktives Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie für eine Belichtungswellenlänge von kleiner 300 nm und vorzugsweise einer numerischen Apertur von mindestens 0,8, dadurch gekennzeichnet, dass alle Linsen aus einem Material bestehen und der Kennwert KCHL kleiner oder gleich 5,5, vorzugsweise kleiner oder gleich 5,0 und besonders bevorzugt 4,8 beträgt, wobei für den Kennwert KCHL gilt

CHL ist der chromatische Längsfehler
Δλ ist das Bandbreitenintervall
Y'max ist der maximale Bildfelddurchmesser.

3. Refraktives Projektionsobjektiv nach Anspruch 1 oder 2, das eine zwischen zwei Bäuchen angeordnete erste Taille aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass nach dieser ersten Taille (29) mindestens 4 Dubletts (D1-D5), bestehend aus einer Negativlinse und einer Positivlinse, angeordnet sind.

4. Refraktives Projektionsobjektiv nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, das eine zweite Taille aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Taille (UG3b) durch zwei aufeinanderfolgende Negativlinsen gebildet wird, die zwischen zwei Positivlinsen angeordnet sind, wobei die Positivlinsen jeweils auf der der jeweiligen Negativlinse der Taille (UG3b) zugewandten Seite eine konvexe Linsenoberfläche aufweisen.

5. Refraktives Projektionsobjektiv nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass in der zweite Taille (UG3b) der Lichtbündeldurchmesser (23) bzw. der Linsendurchmesser in der zweiten Taille mindestens 85% des maximalen Linsendurchmessers bzw. Lichtbündeldurchmessers (25) beträgt.

6. Refraktives Projektionsobjektiv nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass nach der ersten Taille (LG2) vier Dupletts(D1, D3, D4, D5) angeordnet sind, die aus einer Positivlinse, auf die direkt eine Negativlinse folgt, bestehen.

7. Refraktives Projektionsobjektiv nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand zwischen den zueinander gewandten Linsenoberflächen der Dupletts (D1-D5) kleiner als 10% des gemittelten Linsendurchmessers des jeweiligen Dupletts ist.

8. Refraktives Projektionsobjektiv nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die zueinander gewandten Linsenoberflächen von mindestens drei Dupletts einen Anstand aufweisen, der kleiner als 10 mm ist.

9. Refraktives Projektionsobjektiv nach mindestens einem der vorangegangen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten beiden Linsen der Linsenanordnung (21) negative Brechkraft aufweisen und zum Objekt hin durchgebogen sind.

10. Projektionsobjektiv, dass in drei Linsengruppen unterteilbar ist, wobei durch eine erste Linsengruppe, die positive Brechkraft aufweist, ein erster Bauch gebildet wird und durch eine zweite sich anschließende Linsengruppe, die negative Brechkraft aufweist, eine Taille gebildet wird, wobei auf diese zweite Linsengruppe eine lang gestreckte hintere Linsengruppe folgt, in der die Systemblende 19 angeordnet ist und die sich über 60% der Länge des Projektionsobjektives erstreckt.

11. Refraktives Projektionsobjektiv nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Taille (29) aus drei Negativlinsen besteht.

12. Refraktives Projektionsobjektiv nach mindestens einem der vorangegangen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten drei aufeinander folgenden Linsen (EG1) negative Brechkraft aufweisen.

13. Projektionsbelichtungsanlage der Mikolithographie, dadurch gekennzeichnet, dass die Projektionsbelichtungsanlage (1) ein Projektionsobjektiv (5) mit einer Linsenanordnung (21) nach mindestens einem der vorangegangen Ansprüche umfaßt.

14. Verfahren zur Herstellung mikrostrukturierter Bauteile, bei dem ein mit einer lichtempfindlichen Schicht versehenes Substrat (15) mittels einer Maske (9) und einer Projektionsbelichtungsanlage (1) mit einer Linsenanordnung (21) nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche durch ultraviolettes Laserlicht belichtet wird und gegebenenfalls nach Entwicklung der Lichtempfindlichen Schicht entsprechend einem auf der Maske (9) enthaltenem Muster strukturiert wird.