DE10209058B4 - Method and bit pattern for determining a kinematic measured variable - Google Patents

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Abstract

Verfahren zur Bestimmung einer kinematischen Messgröße zur Positionsbestimmung, wobei ein bewegliches Objekt (1) relativ zu einem stationären Objekt (2) bewegt wird, ein auf dem beweglichen und/oder stationären Objekt (1, 2) angeordnetes spezifisches, aus positionsbezogenen Bitmustergruppen (3) zusammengesetztes Bitmuster (4) während der gegenseitigen Relativbewegung der Objekte (1, 2) abgetastet und das Abtastsignal von einer Auswerteeinheit (5) in eine kinematische Messgröße umgesetzt wird, wobei jedes Einzelbit (7) einer Bitmustergruppe (3) durch ein Einzelabtastelement (8) einer Abtasteinrichtung (6) abgetastet wird, dadurch gekennzeichnet, dass auch Übergänge (16) zwischen Einzelbits (7) erfasst werden, wozu mittels einer Vergleichseinrichtung (13) eine aktuell mit einer analogen Bitauflösung (23) abgetastete Bitmustergruppe (3) mit abgespeicherten Informationen über zumindest diese oder alle Bitmustergruppen (3) verglichen wird, wodurch mit einer Genauigkeit von einem Bruchteil der Ausdehnung eines Einzelbits (7) festgestellt wird, ob eine Verschiebung um weniger als ein Einzelbit vorliegt.Method for determining a kinematic measurement variable for position determination, wherein a moving object (1) is moved relative to a stationary object (2), a specific position-related bit pattern group (3) arranged on the movable and / or stationary object (1, 2) composite bit pattern (4) during mutual relative movement of the objects (1, 2) sampled and the scanning signal from an evaluation unit (5) is converted into a kinematic measurand, each single bit (7) of a bit pattern group (3) by a Einzelabtastelement (8) a scanning device (6) is scanned, characterized in that also transitions (16) between individual bits (7) are detected, for which by means of a comparison device (13) currently scanned with an analog bit resolution (23) bit pattern group (3) with stored information about at least one or all of the bit pattern groups (3) is compared, whereby with an accuracy of one Fraction of the extent of a single bit (7) is determined whether a shift by less than a single bit is present.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung einer kinematischen Messgröße zur Positionsbestimmung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.The invention relates to a method for determining a kinematic measured variable for position determination according to the preamble of claim 1.

Ein gattungsgemäßes Verfahren ist bekannt aus DE 30 35 774 A1 , bei dem die relative Lage zweier Teile zueinander mit einem digitalen Positionsgeber in ein elektrisches Signal umgesetzt wird. Bei dem digitalen Positionsgeber sind auf dem einen Teil eine Anzahl von Markierungen und auf dem anderen Teil eine geringere Anzahl von jeweils einer Markierung zugeordneten Aufnahmeelementen angeordnet, wobei die Folge der Markierungen so gestaltet ist, dass an den Aufnahmeelementen bei jeder Position ein unterschiedliches Bitmuster anliegt.A generic method is known from DE 30 35 774 A1 in which the relative position of two parts to one another is converted into an electrical signal by means of a digital position transmitter. In the case of the digital position transmitter, a number of markings are arranged on one part and a smaller number of receiving elements assigned to each mark on the other part, the sequence of markings being designed such that a different bit pattern is applied to the receiving elements at each position.

Aus US 3 702 471 A ist eine Vorrichtung zum Bereitstellen einer absoluten Positionsangabe eines bewegbaren Objekts durch eine Folge von binären, digitalen Elementen bekannt. Die Elemente erstrecken sich über den Bewegungsbereich, um eine Chain-Code Sequenz von verschiedenen digitalen Mustern zu bilden.Out US Pat. No. 3,702,471 For example, a device for providing an absolute position indication of a movable object by a sequence of binary digital elements is known. The elements span the range of motion to form a chain code sequence of various digital patterns.

US 4 628 298 A beschreibt einen Chain-Code Positionsgeber, der absolute Positionsinformationen aus einer einzelnen Code-Spur bereitstellt. US 4,628,298 A. describes a chain code locator that provides absolute position information from a single code track.

DE 196 38 911 A1 betrifft einen Drehwinkelsensor mit einer im Wesentlichen kreisförmig angeordneten Codespur. Um nicht nur den absoluten Drehwinkel eines Codierelementes bestimmen zu können, sondern auch die augenblickliche Umdrehungszahl, sind mehrere spiralförmig zueinander angeordnete Codespuren vorgesehen. DE 196 38 911 A1 relates to a rotation angle sensor having a substantially circularly arranged code track. In order not only to be able to determine the absolute rotation angle of a coding element, but also the instantaneous number of revolutions, a plurality of code tracks arranged spirally to one another are provided.

Aus US 4 631 519 A ist eine Positionsmessvorrichtung bekannt, die die relative Position zweier Elemente durch Auslesen eines kodierten Streifens misst. Der Streifen trägt Code-Elemente in eine Pseudo-Zufalls-Binär-Sequenz, die durch ein Fotodetektor-Array ausgelesen werden können.Out US 4 631 519 A For example, a position measuring device is known which measures the relative position of two elements by reading out a coded strip. The strip carries code elements in a pseudo-random binary sequence that can be read by a photodetector array.

DE 37 03 327 A1 beschreibt ein Positionsmessverfahren, das auf der Verfolgung eines Interferenzmusters beruht, welches entsteht, wenn Strichgitter verschiedener Strichdichte überlagert werden. DE 37 03 327 A1 describes a position measuring method based on the tracking of an interference pattern which results when superimposing grating lines of different line density.

Aus DE 195 41 768 A1 ist eine Vorrichtung zur Positionsbestimmung bekannt. Die Vorrichtung umfasst eine Maximalfolge von 2Z – 1 Binärelementen, die jeweils einen festen Abstand zueinander haben, eine erste Reihe von Z Sensoren zum Messen der Binärelemente und eine zweiten Reihe von Z Sensoren zum Messen der Binärelemente, die zu den Sensoren der ersten Reihe versetzt angeordnet sind.Out DE 195 41 768 A1 a device for position determination is known. The apparatus comprises a maximal length of 2 Z - 1 binary elements, each having a fixed distance to each other, a first row of Z sensors for measuring the binary elements and a second series of Z sensors for measuring the binary elements, the offset relative to the sensors of the first row are arranged.

DE 195 13 829 A1 betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Positionsbestimmung mit relativ geringem Aufwand. Es ist eine Anordnung von aufeinanderfolgenden Feldern vorgesehen, die jeweils eine Binärzahl enthalten, deren Position bekannt ist, wobei die Binärzahlen eine eindeutige Zahlenfolge bilden. DE 195 13 829 A1 relates to a device and a method for position determination with relatively little effort. An arrangement of successive fields is provided, each containing a binary number whose position is known, the binary numbers forming a unique sequence of numbers.

Es sind beispielsweise Verfahren zur Messung kinematischer Messgrößen bekannt, bei denen ein einem beweglichen Objekt ein Maßstab angeordnet ist, mittels dem die entsprechende Stellungen des beweglichen Objekts relativ zum stationären Objekt ablesbar ist. Eine weitere bekannte Möglichkeit zur Bestimmung insbesondere der Position ist ein Potentiometer oder ein linearer Widerstand, relativ zu welchem sich ein Kontakt bei Bewegung des beweglichen Objekts verstellt, so dass sich der erfasste Widerstand ändert.For example, methods for measuring kinematic measured variables are known, in which a scale is arranged for a movable object, by means of which the corresponding positions of the movable object relative to the stationary object can be read. Another known possibility for determining, in particular, the position is a potentiometer or a linear resistor, relative to which a contact moves as the movable object moves, so that the detected resistance changes.

Schließlich ist noch eine Möglichkeit insbesondere zur Positionsbestimmung bekannt, bei der im gleichen linearen Abstand Schlitze oder dergleichen in einem Maßstab angeordnet sind. Diese Schlitze werden erfasst und gezählt, um entsprechende Relativpositionen von beweglichem Objekt und stationärem Objekt zu bestimmen. Statt einer linearen Anordnung solcher Schlitze ist auch bereits eine Encoderscheibe mit Schlitzen in konstantem Abstand in Umfangsrichtung bekannt, die durch Lichtdetektoren oder dergleichen erfasst und anschließend gezählt werden.Finally, another possibility is known, in particular for position determination, in which slits or the like are arranged on a scale at the same linear distance. These slots are detected and counted to determine corresponding relative positions of the moving object and the stationary object. Instead of a linear arrangement of such slots, an encoder disk with slots at a constant spacing in the circumferential direction is already known, which are detected by light detectors or the like and then counted.

Nachteilig bei diesen bekannten Verfahren ist, dass zusätzlich zur Abtastung der gleichartigen und gleich beabstandeten Unterteilungen auf dem entsprechenden Maßstab, wie beispielsweise Schlitze in einer Encoderscheibe, die entsprechenden Unterteilungen zusätzlich zur Abtastung aufsummiert werden müssen. Erst durch diese Aufsummierung ist eine entsprechende Positionsinformation zu erhalten. Weiterhin ist bei solchen Messwertaufnehmern nicht ohne weiteres erkennbar, in welcher Richtung sich tatsächlich bewegt wird, da beispielsweise bei einer geradlinigen Bewegung nicht ohne weiteres feststellbar ist, ob sich nach links oder rechts bewegt wird. Dies gilt analog für eine drehende Kodierscheibe, bei der die Drehrichtung nicht ohne weiteres durch den Messwertaufnehmer feststellbar ist.A disadvantage of these known methods is that in addition to scanning the similar and equally spaced subdivisions on the appropriate scale, such as slots in an encoder disk, the corresponding subdivisions must be summed in addition to the sample. Only by this summation a corresponding position information is obtained. Furthermore, it is not readily apparent in such transducers, in which direction is actually moved, since for example in a rectilinear motion is not easily determined whether it is moved to the left or right. This applies analogously to a rotating coding disk, in which the direction of rotation can not be easily determined by the measuring transducer.

Schließlich ist noch ein Nachteil, dass bei Ausfall einer Elektronik des Messwertaufnehmers die Relativposition zwischen bewegbarem Objekt und stationärem Objekt nicht mehr feststellbar ist, und bis an ein Ende des möglichen Relativbewegungsbereichs zurückbewegt werden muss, um die entsprechende Positionsbestimmung erneut durchführen zu können.Finally, it is a further disadvantage that in case of failure of an electronics of the transducer, the relative position between the movable object and the stationary object is no longer detectable, and must be moved back to an end of the possible relative movement range in order to perform the appropriate position determination again.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein verbessertes Verfahren zu schaffen, bei dem die jeweilige Position in einfacher Weise und ohne Zurückkehren bis an Enden des Bewegungsbereichs feststellbar ist. The invention has for its object to provide an improved method in which the respective position can be determined in a simple manner and without returning to the ends of the range of motion.

Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst. Dabei wird ein auf einem beweglichen und/oder stationären Objekt angeordnetes spezifisches, aus positionsbezogenen Bitmustergruppen zusammengesetztes Bitmuster während der gegenseitigen Relativbewegung abgetastet und das Abtastsignal von einer Auswerteeinheit in eine kinematische Messgröße umgesetzt.This object is solved by the features of claim 1. In this case, a arranged on a movable and / or stationary object specific, composed of position-related bit pattern groups bit pattern is sampled during mutual relative movement and converted the scanning signal from an evaluation in a kinematic variable.

Durch die Änderung des Bitmusters in Relativbewegungsrichtung und die verschiedenen positionsbezogenen Bitmustergruppen ist einerseits in einfacher Weise die tatsächliche Richtung der Bewegung feststellbar. In welcher Weise sich das Bitmuster ändert ist bekannt, und durch die Abtastung des Bitmusters ist daher einfach feststellbar, in welche Richtung die Bewegung erfolgt. Da außerdem die entsprechenden Bitmustergruppen des Bitmusters positionsbezogen sind, ist auch bei einem vorübergehenden Ausfall einer entsprechenden Elektronik der Auswerteeinrichtung in einfacher Weise bei erneuter Infuktionsnahme möglich, die gegenwärtige Relativposition zwischen beweglichem und stationärem Objekt zu erfassen. Dabei ist es höchstens notwendig, das bewegliche Objekt so weit relativ zum stationären zu verschieben, dass die nächstliegende Bitmustergruppe wieder eindeutig erfasst wird. Auf keinen Fall ist eine Rückbewegung des beweglichen Objekts bis an ein Ende des Bewegungsbereichs notwendig, um von dort die Positionsbestimmung beziehungsweise die Bestimmung der entsprechenden kinematischen Messgröße erneut durchzuführen.By changing the bit pattern in the direction of relative movement and the different position-related bit pattern groups on the one hand in a simple way the actual direction of movement can be determined. The way in which the bit pattern changes is known, and the sampling of the bit pattern therefore makes it easy to determine in which direction the movement takes place. In addition, since the respective bit pattern groups of the bit pattern are position-related, it is possible to detect the current relative position between the moving object and stationary object in a simple manner upon renewed infusion even with a temporary failure of a corresponding electronics of the evaluation device. At the most, it is necessary to move the movable object relative to the stationary one so far that the closest bit pattern group is again clearly detected. In no case is a return movement of the movable object to an end of the movement range necessary in order to carry out the position determination or the determination of the corresponding kinematic measurement variable again from there.

Schließlich ist in diesem Zusammenhang noch von Vorteil, dass eine Aufsummierung der abgetasteten Unterteilungen eines entsprechenden Maßstabs beim Anmeldungsgegenstand nicht notwendig ist. Statt dessen ist durch jede positionsbezogene Bitmustergruppe die Relativposition zwischen beweglichem und stationärem Objekt eindeutig bestimmt.Finally, in this context is still advantageous that a summation of the scanned subdivisions of a corresponding scale in the subject of the application is not necessary. Instead, the relative position between the movable and the stationary object is uniquely determined by each position-related bit pattern group.

Um eine schnelle Bestimmung der kinematischen Messgröße durchführen zu können, kann eine Abtasteinrichtung jedes Einzelbit einer Bitmustergruppe einzeln und aufeinanderfolgend abtasten. Je nach Anzahl der zu einer Bitmustergruppe gehörenden Einzelbits wird das Ergebnis der Abtastung für diese Anzahl von Einzelbits zusammengefasst und dadurch ist die Abtastung der Bitmustergruppe gegeben.In order to be able to carry out a rapid determination of the kinematic measured variable, a scanning device can scan each individual bit of a bit pattern group individually and consecutively. Depending on the number of individual bits belonging to a bit pattern group, the result of the sampling is combined for this number of individual bits and thereby the sampling of the bit pattern group is given.

Soll die Abtastung noch weiter beschleunigt werden, kann eine Abtasteinrichtung auch alle Bits einer Bitmustergruppe gleichzeitig abtasten.If the sampling is to be accelerated even further, a sampling device can also sample all bits of a bit pattern group at the same time.

Um die Zuordnung zwischen Einzelbit und Abtasteinrichtung zu verbessern, wird jedes Einzelbit einer Bitmustergruppe durch ein Einzelabtastelement der Abtasteinrichtung abgetastet.To improve the association between single bit and scanner, each single bit of a bit pattern group is sampled by a single sample element of the scanner.

Um eine möglichst große Auflösung bei der Bestimmung der kinematischen Messgröße zu erhalten, sind in Relativbewegungsrichtung benachbarte Bitmustergruppen um jeweils ein Einzelbit relativ zueinander verschoben. Das heißt, man erhält die zu einer bereits abgetasteten Bitmustergruppe nächst benachbarte Bitmustergruppe durch Verschiebung der Bitmustergruppe um ein Einzelbit. In diesem Zusammenhang ist es weiterhin von Vorteil, dass nach Abtastung einer Bitmustergruppe die dieser folgende Bitmustergruppe sich durch Abtastung nur des verschobenen Einzelbits aus der bereits vorher abgetasteten Bitmustergruppe ergibt, wobei noch zu beachten ist, dass für das durch die Verschiebung neu hinzugekommene Einzelbit an einem Ende der Bitmustergruppe am anderen Ende ein Einzelbit wegfällt, so dass die Gesamtanzahl der Einzelbits einer Bitmustergruppe konstant bleibt.In order to obtain the greatest possible resolution in the determination of the kinematic measured variable, adjacent bit pattern groups are displaced relative to one another by a single bit in the relative direction of movement. That is, one obtains the next adjacent bit pattern group to an already sampled bit pattern group by shifting the bit pattern group by a single bit. In this context, it is also advantageous that after sampling a bit pattern group, the following bit pattern group is obtained by sampling only the shifted single bit from the previously sampled bit pattern group, wherein it should be noted that for the newly added by the shift single bit on a At the other end of the bit pattern group, a single bit is eliminated, so that the total number of individual bits of a bit pattern group remains constant.

Soll beispielsweise eine kinematische Messgröße bei einer linearen Bewegung erfasst werden, kann das Bitmuster entlang einer im Wesentlichen gradlinigen Bahn abgetastet werden.If, for example, a kinematic measured variable is to be detected in a linear movement, the bit pattern can be scanned along a substantially rectilinear path.

Soll entsprechend eine Drehbewegung erfasst werden, kann das Bitmuster entlang einer im Wesentlichen kreisförmig gekrümmten Bahn abgetastet werden. Dabei kann diese kreisförmig gekrümmte Bahn auch als Schraubenlinie oder Spirale ausgebildet sein, wenn sich beispielsweise das bewegliche Objekt schraubenförmig zum stationären Objekt bewegt.If a rotational movement is to be detected correspondingly, the bit pattern can be scanned along a substantially circularly curved path. In this case, this circularly curved path may also be formed as a helix or spiral, for example, when the movable object moves helically to the stationary object.

Es ist selbstverständlich, dass in irgendeiner Weise die Einzelbits abgetastet werden müssen. Zur Abtastung können beispielsweise die Merkmale oder Zustände eines Einzelbits dienen. Bei einem Ausführungsbeispiel kann das Einzelbit beispielsweise zwei unterschiedliche körperliche Merkmale alternativ aufweisen. Ein Beispiel für solche körperlichen Merkmale ist eine Vertiefung oder Erhöhung im beweglichen oder stationären Objekt. Diese körperlichen Merkmale sind durch entsprechende Ausbildungen der Abtasteinrichtung feststellbar. Die Ausbildung der körperlichen Merkmale kann ebenfalls am stationären Objekt erfolgen, wobei die Abtasteinrichtung am jeweils anderen Objekt angeordnet ist. Es ist ebenfalls möglich, sowohl Bitmuster als auch Abtasteinrichtungen an beiden Objekten vorzusehen, wodurch sich eine redundante Bestimmung der kinematischen Messgrößen in einfacher Weise ergibt.It is understood that in some way the individual bits must be sampled. For example, the features or states of a single bit can be used for sampling. For example, in one embodiment, the single bit may alternatively comprise two different physical features. An example of such physical features is a depression or elevation in the moving or stationary object. These physical features can be detected by appropriate designs of the scanner. The formation of the physical features can also take place on the stationary object, wherein the scanning device is arranged on the respective other object. It is also possible to provide both bit patterns and scanning devices on both objects, resulting in a redundant determination of the kinematic variables in a simple manner.

Bei einer andere Ausbildungsform kann das Einzelbit beispielsweise unterschiedlich Reflektionsvermögen als Merkmal aufweisen. Soll jedes Einzelbit zwei Merkmale aufweisen können, so kann es beispielsweise gut und schlecht reflektierend sein, wobei das Reflektionsvermögen durch entsprechende Abtasteinrichtungen mit Leuchtdioden oder dergleichen feststellbar ist. Bei einem noch weiteren Ausführungsbeispiel kann jedes Einzelbit alternativ beispielsweise zwei unterschiedlich elektrisch leitfähige Zustände aufweisen. Das heißt, das Bitmuster besteht aus unterschiedlich elektrisch leitfähigen Einzelbits.For example, in another embodiment, the single bit may have different reflectivity as a feature. Should every one Single bit may have two features, it may for example be good and bad reflective, the reflectivity by appropriate scanning devices with LEDs or the like can be determined. In a still further embodiment, each single bit alternatively may comprise, for example, two different electrically conductive states. That is, the bit pattern consists of different electrically conductive single bits.

Bei einem noch weiteren Ausführungsbeispiel können sich die Zustände des Einzelbits in ihrem magnetischen Verhalten unterscheiden. Das heißt, die Einzelbits können unterschiedlich magnetisiert sein.In yet another embodiment, the states of the single bit may differ in their magnetic behavior. That is, the individual bits can be magnetized differently.

Es besteht weiterhin die Möglichkeit, dass auch zwei oder auch mehr Bitmustergruppen insbesondere gleichzeitig durch die Abtasteinrichtung abgetastet werden. Dies hätte den Vorteil, dass an unterschiedlichen Stellen von beweglichem und stationärem Objekt eine Bestimmung der kinematischen Messgröße alternativ oder auch gleichzeitig möglich ist.There is also the possibility that two or even more bit pattern groups are scanned in particular simultaneously by the scanning device. This would have the advantage that a determination of the kinematic measured variable is alternatively or simultaneously possible at different locations of the movable and stationary object.

In diesem Zusammenhang besteht ebenfalls die Möglichkeit, dass die Bitmuster redundant abgetastet werden. Dies kann beispielsweise dadurch erfolgen, dass Bitmuster und Abtasteinrichtungen an beiden Objekten vorgesehen sind.In this context, there is also the possibility that the bit patterns are scanned redundantly. This can be done, for example, by providing bit patterns and scanning devices on both objects.

Je nach Erfordernis kann eine Kodierung einer positionsbezogenen Bitmustergruppe durch drei, vier, fünf, sechs, sieben, acht oder mehr Einzelbits erfolgen. Die jeweilige Breite eines Einzelbits kann dabei relativ gering sein, so dass sich die Auflösung der kinematischen Messgröße entsprechend erhöhen lässt.Depending on the requirement, a coding of a position-related bit pattern group can be effected by three, four, five, six, seven, eight or more individual bits. The respective width of a single bit can be relatively low, so that the resolution of the kinematic measurement variable can be increased accordingly.

Um beispielsweise bei Ausfall einer Spannungsversorgung von Auswerte- oder Abtasteinrichtung auch nach Wiederinbetriebnahme direkt eine Information über die Relativposition von den Objekten zu erhalten, kann eine Speichereinrichtung insbesondere nicht flüchtig die jeweils zuletzt abgetastete Bitmustergruppe speichern. Es besteht natürlich ebenfalls die Möglichkeit, nach Wiederinbetriebnahme von Auswerte- oder Abtasteinrichtung beispielsweise die Relativposition direkt durch Abtasten der aktuellen Bitmustergruppe wieder zu bestimmen.In order to obtain information about the relative position of the objects, for example, even in the event of a power supply failure of the evaluation or scanning device, even after restarting, a memory device can, in particular non-volatile, store the respectively last sampled bit pattern group. Of course, it is also possible, for example, to re-establish the evaluation or scanning device to determine the relative position directly by scanning the current bit pattern group again.

Um eine Information über den gesamten Bewegungsbereich zu erhalten, kann wenigstens einmal die Speichereinrichtung eine Gesamtmesssignalinformation für den Gesamtbewegungsbereich der Abtasteinrichtung und/oder zumindest einer Anzahl von Einzelabtastelementen abspeichern.In order to obtain information about the entire range of motion, the memory device can store at least once a total measurement signal information for the total movement range of the scanning device and / or at least a number of individual scanning elements.

Um die Auflösung bei der Messung der kinematischen Größe zu verbessern, vergleicht eine Vergleichseinrichtung eine aktuelle Messsignalinformation der Abtasteinrichtung mit der Gesamtmesssignalinformation zur Bestimmung von insbesondere Übergängen zwischen den Einzelbits. Dadurch ist mit höherer Genauigkeit als der Auflösung durch die Einzelbits die Relativposition zwischen bewegbarem Objekt und stationärem Objekt feststellbar. Diese entsprechende Auflösung hängt mit der Auflösung der entsprechenden Messsignalinformation zusammen. Diese Auflösung ist so hoch, dass eine Messung und Auswertung der aktuellen Messsignalinformation im Wesentlichen analog oder zumindest quasi analog durchführbar ist. Auf diese Weise ist die Auflösung durch die Einzelbits erheblich gesteigert.In order to improve the resolution during the measurement of the kinematic variable, a comparison device compares a current measurement signal information of the sampling device with the total measurement signal information for determining in particular transitions between the individual bits. As a result, the relative position between the movable object and the stationary object can be detected with a higher accuracy than the resolution by the individual bits. This corresponding resolution is related to the resolution of the corresponding measurement signal information. This resolution is so high that a measurement and evaluation of the current measurement signal information can be carried out substantially analogously or at least virtually analogously. In this way, the resolution is considerably increased by the single bits.

Das Bitmuster weist eine Mehrzahl von aus Einzelbits zusammengesetzten Bitmustergruppen auf. Benachbarte Bitmustergruppen ergeben sich durch Verschieben der Bitmustergruppen relativ zueinander um zumindest ein Einzelbit.The bit pattern has a plurality of bit pattern groups composed of individual bits. Adjacent bit pattern groups result by shifting the bit pattern groups relative to each other by at least a single bit.

Ein solches Bitmuster ist auch in anderer Weise als zur Bestimmung einer kinematischen Messgröße einsetzbar. Beispielsweise kann es bestimmte Positionen entlang eines Gegenstandes eindeutig kennzeichnen, wobei jeder entsprechenden Bitmustergruppe eine bestimmte Position entlang des Gegenstandes zugeordnet ist. Durch diese Positionszuordnung erfolgt gleichzeitig eine eindeutige Kodierung einer solchen Position, so dass sie zur Zuordnung eines weiteren Gegenstands zum mit dem Bitmuster versehenen Gegenstand verwendet werden kann. Weitere Einsätze für ein solches Bitmuster sind offensichtlich.Such a bit pattern can also be used in other ways than for determining a kinematic measured variable. For example, it may uniquely identify certain positions along an object with each corresponding bit pattern group associated with a particular position along the object. At the same time, by means of this position assignment a clear coding of such a position takes place, so that it can be used for the assignment of a further object to the object provided with the bit pattern. Other uses for such a bit pattern are obvious.

Es sei weiterhin angemerkt, dass auch mehrere Bitmuster hintereinander angeordnet sein können, falls die aufeinander abfolgenden Bitmuster sich durch ein weiteres Charakteristikum unterscheiden. Beispielsweise könnte eine unterschiedliche Farbe der hintereinanderfolgenden Bitmuster ein Unterscheidungskriterium sein. Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel können die Einzelbits eines Bitmusters beispielsweise durch unterschiedlich körperliche Merkmale voneinander unterschieden sein, während die Einzelbits eines weiteren Bitmusters sich beispielsweise in ihrer Leitfähigkeit, ihrem magnetischen Verhalten oder in einem anderen erfassbaren Charakteristikum unterscheiden. Ebenfalls besteht die Möglichkeit, dass solche Bitmuster nicht hintereinander, sondern versetzt zueinander angeordnet sind, wodurch sich beispielsweise die Auflösung im Vergleich zu nur einem Bitmuster in einfacher Weise erhöhen lässt. Eine Möglichkeit eines solchen Versetzens von zwei Bitmustern relativ zueinander ist die Anordnung auf Lücke von zwei Bitmustern. Dieser Gedanke ist ebenfalls auf drei, vier oder mehr Bitmuster übertragbar.It should also be noted that a plurality of bit patterns can also be arranged one behind the other if the successive bit patterns differ by a further characteristic. For example, a different color of the consecutive bit patterns could be a distinguishing criterion. In a further embodiment, the individual bits of a bit pattern may be distinguished from one another, for example by different physical features, while the individual bits of a further bit pattern differ, for example, in their conductivity, their magnetic behavior or in another detectable characteristic. It is also possible that such bit patterns are arranged one behind the other, but offset from one another, whereby, for example, the resolution can be increased in a simple manner in comparison with only one bit pattern. One way to offset two bit patterns relative to each other is to have the gap space of two bit patterns. This idea is also transferable to three, four or more bit patterns.

Durch die Verschiebung der einzelnen Bitmustergruppen relativ zueinander überlappen sich benachbarte Bitmustergruppen und unterscheiden sich nur in einer Anzahl von Einzelbits geringer als die Anzahl der eine Bitmustergruppe bildenden Einzelbits. Die Bitmustergruppen sind positionsbezogen, so dass jede Bitmustergruppe ein eindeutig einer bestimmten Position zuordbar ist. As a result of the displacement of the individual bit pattern groups relative to one another, adjacent bit pattern groups overlap and only differ in a number of individual bits less than the number of individual bits forming a bit pattern group. The bit pattern groups are positionally related so that each bit pattern group is uniquely assignable to a particular position.

Es sind verschiedene Möglichkeiten denkbar, die Einzelbits in ihrem Informationsgehalt zu kennzeichnen. Beispielsweise können jedem Einzelbit spezifische, variierbarere Merkmale oder Zustände eines Körpers oder Teilkörpers zugeordnet werden, wobei die kinematische Größe des Körpers beziehungsweise des Teilkörpers zu ermitteln ist. Beispiele für solche spezifischen Merkmale oder Zustände sind Erhöhungen/Vertiefungen, unterschiedliches Reflektionsvermögen, unterschiedliche elektrische Leitfähigkeit, unterschiedliches magnetisches Verhalten, unterschiedliche Farben usw.. Die entsprechenden Merkmale beziehungsweise Zustände sind durch eine entsprechende Abtasteinrichtung abtastbar und dann durch eine Auswerteeinrichtung in eine entsprechende kinematische Messgröße umsetzbar.There are various possibilities conceivable to mark the individual bits in their information content. For example, each individual bit can be assigned specific, more variable characteristics or states of a body or partial body, wherein the kinematic size of the body or of the partial body is to be determined. Examples of such specific features or states are elevations / depressions, different reflectivity, different electrical conductivity, different magnetic behavior, different colors, etc. The corresponding features or states can be scanned by a corresponding scanning device and then converted by an evaluation device into a corresponding kinematic measurement variable ,

Die das Bitmuster bildenden Einzelbits können in unterschiedlicher Weise je nach Erfordernis angeordnet sein. Eine lineare, eine kreisförmige oder auch eine spiralförmige Anordnung sind denkbar.The individual bits forming the bit pattern may be arranged in different ways as required. A linear, a circular or a spiral arrangement are conceivable.

Jeder Bitmustergruppe ist ein Dezimalwert eineindeutig zuordbar. Dies bedeutet, dass die Zuordnung in beide Richtungen eindeutig ist, so dass sowohl jeder Bitmustergruppe genau ein Dezimalwert als auch jedem Dezimalwert genau eine Bitmustergruppe zugeordnet ist. Die Kodierung der Bitmustergruppen erfolgt analog.Each bit pattern group is one-decimal one-to-one. This means that the assignment in both directions is unique, so that each bit pattern group is assigned exactly one decimal value and every decimal value is assigned exactly one bit pattern group. The coding of the bit pattern groups takes place analogously.

Ein Beispiel für eine solche Kodierung des Bitmusters ist ein binäres Bitmuster.An example of such coding of the bit pattern is a binary bit pattern.

Bei der Realisierung der Einzelbits und deren Abtastung durch eine zugehörige Abtasteinrichtung hat es sich in vorteilhafter Weise ergeben, dass nicht nur jedes Einzelbit an sich, sondern auch Übergänge zwischen Einzelbits erfassbar sind. Durch die Erfassung solcher Übergänge wird die Auflösung zur Bestimmung der kinematischen Messgröße in einfacher Weise erhöht. Dies erfolgt dadurch, dass mittels einer Vergleichseinrichtung eine aktuell abgetastete Bitmustergruppe mit abgespeicherten Informationen über zumindest diese oder gegebenenfalls alle Bitmustergruppen verglichen wird. Durch diesen Vergleich ist dann feststellbar, ob eine Verschiebung um weniger als ein Einzelbit vorliegt, so dass die Position auch mit einer Genauigkeit von einem Bruchteil der Ausdehnung eines Einzelbits bestimmbar ist.In the realization of the individual bits and their sampling by an associated sampling device, it has been found in an advantageous manner that not only each single bit per se, but also transitions between individual bits can be detected. By detecting such transitions, the resolution for determining the kinematic parameter is increased in a simple manner. This is done by comparing a currently sampled bit pattern group with stored information about at least these or possibly all bit pattern groups by means of a comparison device. It can then be determined by this comparison whether there is a shift by less than a single bit, so that the position can also be determined with an accuracy of a fraction of the extent of a single bit.

Das Bitmuster kann aus unterschiedlichen Anzahlen von Einzelbits zusammengesetzt sein, wobei diese Anzahl unter anderem von der Art der Kodierung des Bitmusters und der Anzahl der Merkmale beziehungsweise Zustände, die für ein Einzelbit möglich sind, abhängt. Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel weist das Bitmuster 2n Einzelbits mit n als natürlicher Zahl und je Bitmustergruppe n Einzelbits auf. Ist beispielsweise n = 4, so werden 16 Einzelbits und Bitmustergruppen von jeweils vier Einzelbits verwendet. Da sich jede Bitmustergruppe gegebenenfalls durch Verschieben um nur ein Einzelbit aus der jeweils vorangehenden oder nachfolgenden Bitmustergruppe ergibt, sind auf diese Weise 16 Bitmustergruppen gegeben. Wie bei einem binären System üblich, ist in diesem Zusammenhang jeder Bitmustergruppe ein Dezimalwert von 0 bis 15 eineindeutig zuordbar, so dass 16 verschiedene Positionswerte abtastbar sind. Wie bereits vorangehend ausgesagt, sind ebenfalls Zwischenpositionswerte durch Übergänge zwischen den Einzelbits feststellbar.The bit pattern may be composed of different numbers of individual bits, this number depending among other things on the type of coding of the bit pattern and the number of features or states that are possible for a single bit. In a preferred embodiment, the bit pattern has 2 n individual bits with n as a natural number and per bit pattern group n individual bits. For example, if n = 4, 16 individual bits and bit pattern groups of four individual bits are used. Since each bit pattern group results, if necessary, by shifting by only a single bit from the respectively preceding or following bit pattern group, 16 bit pattern groups are given in this way. As is usual with a binary system, in this context each bit pattern group can be uniquely assigned a decimal value from 0 to 15, so that 16 different position values can be scanned. As already stated above, intermediate position values can also be determined by transitions between the individual bits.

Im Folgenden werden vorteilhafte Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Figuren erläutert.In the following, advantageous embodiments of the invention will be explained with reference to FIGS.

Es zeigen:Show it:

1 ein Bitmuster zur Positionsbestimmung eines beweglichen Objekts relativ zu einem stationären Objekt; 1 a bit pattern for determining the position of a movable object relative to a stationary object;

2 eine durch Einzelabtastelemente einer Abtasteinrichtung gemäß des erfindungsgemäßen Verfahrens erfasste Gesamtbewegungsinformation; 2 a total motion information acquired by single-scan elements of a scanner according to the method of the invention;

3 eine Skizze zur Erläuterung von Abtasteinrichtung und Bitmuster; 3 a sketch for explaining the scanner and bit pattern;

4 ein zweites Bitmuster; 4 a second bit pattern;

5 das Bitmuster nach 4 in serieller Anordnung; 5 the bit pattern after 4 in serial arrangement;

6 ein drittes Bitmuster; 6 a third bit pattern;

7 das Bitmuster nach 6 in serieller Anordnung, und 7 the bit pattern after 6 in a serial arrangement, and

8 eine serielle Anordnung eines weiteren Bitmusters. 8th a serial arrangement of another bit pattern.

In 1 ist ein erstes Bitmuster 4 zur Bestimmung einer kinematischen Messgröße wie beispielsweise einer Position dargestellt. Das Bitmuster 4 ist an einem stationären Objekt 2 vorgesehen. Es ist auf einer Innenseite 21 einer Bohrung des stationären Objekts 2 in Form von Bereichen unterschiedlicher Leitfähigkeit, Magnetisierung oder dergleichen ausgebildet. Einer ersten Bitmustergruppe 3 des Bitmusters 4 ist eine Abtasteinrichtung 6 eines beweglichen Objekts 1 zugeordnet, welches nur teilweise und prinzipiell dargestellt ist. Die Abtasteinrichtung 6 umfasst in dem dargestellten Ausführungsbeispiel vier Einzelabtastelemente 8, die ringförmig ausgebildet sind. Durch jedes der Einzelabtastelemente 8 ist das spezifische Merkmal oder der spezifische Zustand der Einzelbits 7 abtastbar. Das heißt, bei Einzelbits 7 mit unterschiedlicher Magnetisierung ist diese durch die Einzelabtastelemente 8 erfassbar. Sind entsprechend die Einzelbits 7 beispielsweise durch Vertiefungen oder Erhöhungen auf der Innenseite 21 des stationären Objekts 2 ausgebildet, so sind die Einzelabtastelemente 8 beispielsweise Fotodioden mit entsprechenden Sensoren, um die Vertiefungen und Erhöhungen erfassen zu können.In 1 is a first bit pattern 4 to determine a kinematic measurand such as a position shown. The bit pattern 4 is on a stationary object 2 intended. It is on an inside 21 a bore of the stationary object 2 in the form of regions of different conductivity, magnetization or the like educated. A first bit pattern group 3 of the bit pattern 4 is a scanner 6 a moving object 1 assigned, which is shown only partially and in principle. The scanning device 6 includes in the illustrated embodiment, four Einzelabtastelemente 8th , which are annular. Through each of the single-scan elements 8th is the specific feature or state of the individual bits 7 scannable. That is, for single bits 7 with different magnetization, this is due to the individual scanning elements 8th detectable. Are accordingly the individual bits 7 for example, by depressions or elevations on the inside 21 of the stationary object 2 formed, so are the Einzelabtastelemente 8th For example, photodiodes with corresponding sensors to detect the wells and elevations can.

Die Abtasteinrichtung 6 ist über eine entsprechende elektrische Verbindung mit einer Auswerteeinheit 5 verbunden. Diese weist eine Speichereinrichtung 10 und eine Vergleichseinrichtung 13 auf.The scanning device 6 is via a corresponding electrical connection with an evaluation unit 5 connected. This has a memory device 10 and a comparator 13 on.

Die Abtasteinrichtung 6 weist mit ihren vier Einzelabtastelementen 8 eine Breite 20 in Relativbewegungsrichtung 9 auf, die der Breite der Bitmustergruppe 3 entspricht. Bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel kann dabei die gesamte Bitmustergruppe 3 den gleichen Zustand, beziehungsweise das gleiche Merkmal aufweisen, wie in dem Bereich des Bitmusters 4, dem in 1 die Abtasteinrichtungen 6 zugeordnet ist. Andere Merkmalsbereiche 19 können sich über die Breite eines Einzelbits 7 oder über die Breite mehrerer Einzelbits erstrecken. Die Einzelbitbreite 18 entspricht dabei der Breite eines Einzelabtastelements 8.The scanning device 6 points with its four individual scanning elements 8th a width 20 in the direction of relative movement 9 on, the width of the bit pattern group 3 equivalent. In the illustrated embodiment, the entire bit pattern group can be used 3 have the same state or the same feature as in the area of the bit pattern 4 in the 1 the scanning devices 6 assigned. Other feature areas 19 can vary over the width of a single bit 7 or extend over the width of several individual bits. The single bit width 18 corresponds to the width of a Einzelabtastelements 8th ,

Es ist selbstverständlich, dass die Anordnung von Bitmuster 4 und Abtasteinrichtungen 6 auch umgekehrt erfolgen kann, das heißt, dass das Bitmuster 4 am beweglichen Objekt und die Abtasteinrichtung 6 am stationären Objekt angeordnet ist. Es ist ebenso möglich, dass sowohl bewegliches als auch stationäres Objekt sowohl über ein Bitmuster als auch eine Abtasteinrichtung verfügen.It goes without saying that the arrangement of bit patterns 4 and scanners 6 can also be reversed, that is, the bit pattern 4 on the moving object and the scanning device 6 is arranged on the stationary object. It is also possible that both moving and stationary objects have both a bit pattern and a scanning device.

Im unteren Teil der 1 ist das Bitmuster 4 als serieller Code aus „0” und „1” dargestellt. Eine „0” entspricht dabei beispielsweise einem leitfähigen Zustand eines Einzelbits und eine „1” einem nicht leitfähigen Zustand. Durch die ersten vier Einzelbits 7 des Bitmusters 4 ist die erste Bitmustergruppe 3 bestimmt, die aus vier „0” besteht. Durch Verschieben der Bitmustergruppe um ein Einzelbit nach rechts in 1 ergibt sich eine anschließende Bitmustergruppe „0001”. Die weiteren Bitmustergruppen sind entsprechend in 1 um jeweils ein Einzelbit 7 nach rechts verschoben diagonal untereinander dargestellt. Jeder Bitmustergruppe 3 ist aufgrund der binären Kodierung ein Dezimalzahlenwert 15 zugeordnet. Die Zuordnung von Bitmustergruppe und Dezimalwert ist eineindeutig, so dass jeder Bitmustergruppe genau ein Dezimalwert und jedem Dezimalwert genau eine Bitmustergruppe zugeordnet ist. Aufgrund der 16 verschiedenen Dezimalwerte von 0 bis 15 ergeben sich die 16 verschiedenen Positionswerte 17 von 1 bis 16, die in der Spalte rechts außen in 1 neben den Dezimalwerten 15 dargestellt sind.In the lower part of the 1 is the bit pattern 4 represented as serial code from "0" and "1". For example, a "0" corresponds to a conductive state of a single bit and a "1" to a non-conductive state. By the first four single bits 7 of the bit pattern 4 is the first bit pattern group 3 determined, which consists of four "0". By moving the bit pattern group one bit to the right in 1 this results in a subsequent bit pattern group "0001". The further bit pattern groups are correspondingly in 1 in each case a single bit 7 shifted diagonally to the right. Each bit pattern group 3 is a decimal value due to binary coding 15 assigned. The assignment of bit pattern group and decimal value is one-to-one, so that each bit pattern group has exactly one decimal value and each decimal value has exactly one bit pattern group assigned to it. Due to the 16 different decimal values from 0 to 15, the 16 different position values result 17 from 1 to 16, in the column right outside in 1 next to the decimal values 15 are shown.

In 2 sind die verschiedenen Einzelbits 7 des Bitmusters 4 nach 1 vergrößert dargestellt zusammen mit einem prinzipiell dargestellten Einzelabtastelement 8. Dieses ist beispielsweise als Spule oder dergleichen zur Erfassung einer entsprechenden Magnetisierung der Einzelbits 7 ausgebildet. Durch Abfahren des Bitmusters 4 ist durch die Abtasteinrichtung 6, siehe auch 1, eine Gesamtmesssignalinformation 11 bestimmbar, die dem Gesamtbewegungsbereich 12 von beweglichem Objekt relativ zum stationären Objekt entspricht. Die Gesamtmesssignalinformation 11 enthält dabei entsprechende Signale, die sich durch die Einzelabtastelemente oder durch die Abtasteinrichtung beim Abtasten der Einzelbits 7 der Bitmustergruppen 3 beziehungsweise des Bitmusters 4 ergeben. Die entsprechenden Signalkurven sind in dem Graphen unterhalb des Bitmusters 4 dargestellt.In 2 are the different single bits 7 of the bit pattern 4 to 1 shown enlarged together with a principle shown Einzelabtastelement 8th , This is for example as a coil or the like for detecting a corresponding magnetization of the individual bits 7 educated. By tracing the bit pattern 4 is through the scanner 6 , see also 1 , a total measurement signal information 11 determinable, the total range of motion 12 of moving object relative to the stationary object. The total measurement signal information 11 In this case contains corresponding signals, which are determined by the Einzelabtastelemente or by the scanning device when scanning the individual bits 7 the bit pattern groups 3 or the bit pattern 4 result. The corresponding signal curves are in the graph below the bit pattern 4 shown.

Auf der Abszisse ist im Wesentlichen der Weg und auf der Ordinate die Amplitude des Messsignals dargestellt. Der Verlauf des Messsignals wird durch die Spule im Wesentlichen analog oder quasi analog erzeugt, so dass sich ein sehr exakter Verlauf der Gesamtmesssignalinformation 11 in Abhängigkeit vom Weg 22 ergibt.The abscissa shows essentially the path and the ordinate shows the amplitude of the measuring signal. The course of the measurement signal is generated by the coil substantially analog or quasi-analog, so that a very accurate course of the total measurement signal information 11 depending on the way 22 results.

Die Gesamtmesssignalinformation 11 ist bei einer ersten Abtastung des Bitmusters 4 beispielsweise in der Speichereinrichtung 10 der Auswerteeinheit 5, siehe 1, ablegbar. Wird anschließend eine Messsignalinformation 14 bei einer aktuellen Abtastung erhalten, wird diese mittels der Vergleichseinrichtung 13, siehe wiederum 1, mit der abgespeicherten Gesamtmesssignalinformation verglichen. Durch Vergleich der beiden Messsignalinformationen lässt sich die Relativposition von bewegbarem und stationärem Objekt über die Bitlänge 18, siehe 1, des Einzelbits 7 mit höherer Auflösung feststellen. Beispielsweise werden die Messsignalinformationen von einem, zwei, drei, vier oder mehr Einzelabtastelementen 8 miteinander verglichen und miteinander zur Deckung gebracht, so dass nicht nur Bitgenau die Position bestimmbar ist, sondern auch Übergänge 16 zwischen Einzelbits, Teilabschnitte zwischen den Einzelbits usw. erfassbar sind. Diese entsprechende Auflösung der Position ergibt sich im Wesentlichen aus der analogen Bitauflösung 23 nach 2 und der entsprechenden Bitbreite 18, siehe 1.The total measurement signal information 11 is at a first sample of the bit pattern 4 for example in the storage device 10 the evaluation unit 5 , please refer 1 , storable. Subsequently, a measurement signal information 14 obtained at a current scan, this is by means of the comparator 13 , see again 1 , compared with the stored total measurement signal information. By comparing the two measurement signal information can be the relative position of movable and stationary object on the bit length 18 , please refer 1 , the single bit 7 with higher resolution. For example, the measurement signal information becomes one, two, three, four or more single sample elements 8th compared with each other and brought to coincide, so that not only the exact position of the position can be determined, but also transitions 16 between individual bits, sections between the individual bits, etc. can be detected. This corresponding resolution of the position results essentially from the analog bit resolution 23 to 2 and the corresponding bit width 18 , please refer 1 ,

Durch die Aufzeichnung der Gesamtmesssignalinformation 11 bei einer ersten Abtastung und durch die Aufzeichnung einer entsprechenden aktuellen Messwertinformation ergibt sich außerdem die Möglichkeit, falls diese in einer nichtflüchtigen Speichereinrichtung 10 abgelegt sind, diese bei Ausfall der elektrischen Einrichtungen später bei erneuter Inbetriebnahme abzurufen und miteinander zu vergleichen und genau und direkt die Relativposition zwischen beweglichem und stationärem Objekt festzustellen. Dies ist auch bei den Bitmustern 4 an sich möglich, bei denen gegebenenfalls nur bei erneuter Inbetriebnahme die der Position der Abtasteinrichtung nächste spezifische Bitmustergruppe angefahren werden muss, falls keine genaue Zuordnung von Abtasteinrichtung und Bitmustergruppe vorliegt. By recording the total measurement signal information 11 in a first scan and by recording a corresponding current measured value information also results in the possibility, if this in a non-volatile memory device 10 are stored, retrieve them in case of failure of the electrical equipment later on re-commissioning and compare and accurately and directly determine the relative position between the movable and stationary object. This is also true for the bit patterns 4 in itself possible, in which, where appropriate, the position of the scanning device next specific bit pattern group must be approached only when restarting, if there is no accurate assignment of scanner and bit pattern group.

Die Zunahme und Abnahme des Signals nach 2 ergibt sich entsprechend durch die relative Positionierung des Einzelabtastelements 8 zu den Einzelbits 7, beziehungsweise zu den Übergängen 16 zwischen den verschiedenen Merkmals-/Zustandsbereichen 19.The increase and decrease of the signal after 2 results from the relative positioning of the Einzelabtastelements accordingly 8th to the individual bits 7 , or to the transitions 16 between the different feature / status areas 19 ,

In 3 sind eine Abtasteinrichtung und ein Bitmuster zur Erläuterung einiger messbarer Parameter dargestellt. Beispielsweise ist das Bitmuster 4 durch auf einem Bitmusterträger 24 angeordnete Bereiche 19 unterschiedlicher elektrischer Leitfähigkeit oder Magnetisierung gebildet. Die Anordnung dieser Bereich entspricht dabei der nach 1. Ein solcher Bitmusterträger 24 ist auch separat handhabbar und kann beispielsweise in eine Bohrung eines stationären Objekts, siehe 1, eingesetzt werden.In 3 a scanner and a bit pattern are shown to explain some measurable parameters. For example, this is the bit pattern 4 through on a bit pattern carrier 24 arranged areas 19 different electrical conductivity or magnetization formed. The arrangement of this area corresponds to the after 1 , Such a bit pattern carrier 24 is also handled separately and can, for example, in a hole of a stationary object, see 1 , are used.

Dem beweglichen Objekt 1 ist entsprechend ein Abtastträger 25 zugeordnet, der verschiedene Bereich 26 aufweist, in denen nicht dargestellte elektrische Spulen 8, sieheThe moving object 1 is accordingly a scanning carrier 25 assigned to the different area 26 having, in which not shown electric coils 8th , please refer

2, als Einzelabtastelemente mit im Wesentlichen jeweils gleicher Breite anordbar sind. 2 , can be arranged as Einzelabtastelemente having substantially the same width in each case.

Die nebeneinander angeordneten Spulen bilden zusammen die Abtasteinrichtung 6. Jedem Einzelabtastelement ist eine sogenannte mechanische Bitbreite 27 zugeordnet. Die gesamte Datenwortbreite beziehungsweise Breite 20 der Abtasteinrichtung 6 ergibt sich durch das Produkt der Anzahl der Einzelabtastelemente und dieser mechanischen Bitbreite 27.The juxtaposed coils together form the scanning device 6 , Each individual scanning element is a so-called mechanical bit width 27 assigned. The entire data word width or width 20 the scanner 6 results from the product of the number of individual scanning elements and this mechanical bit width 27 ,

Die Auflösung ergibt sich in diesem Zusammenhang als Quotient aus der analogen Bitauflösung 23 nach 2 und der mechanischen Bitbreite 27, wobei die analoge Bitauflösung beispielsweise in Schritt pro Bit und mechanische Bitbreite in mm pro Bit angegeben ist.The resolution results in this context as a quotient of the analog bit resolution 23 to 2 and the mechanical bit width 27 , where the analog bit resolution is specified, for example, in step per bit and mechanical bit width in mm per bit.

Die insgesamt zu messende Länge ergibt sich durch das Produkt aus mechanischer Bitbreite 27 und der um eins verminderten Maximalanzahl der möglichen Positionswerte 17 nach 1.The total length to be measured results from the product of mechanical bit width 27 and the reduced by one maximum number of possible position values 17 to 1 ,

Die gesamte Länge eines von der Abtasteinrichtung abzufahrenden Weges ergibt sich im Wesentlichen durch die Addition der Länge des Messweges und die Breite 20 der Abtasteinrichtung 6.The total length of a path to be traveled by the scanning device results essentially from the addition of the length of the measuring path and the width 20 the scanner 6 ,

Die maximale Länge eines Merkmals-/Zustandsbereichs 19 ergibt sich ebenfalls durch diese Breite 20 der Abtasteinrichtung 6.The maximum length of a feature / status area 19 also results from this width 20 the scanner 6 ,

In 4 und 5 ist ein weiteres Bitmuster 4 mit entsprechenden Bitmustergruppen 3 dargestellt. In diesem Fall sind dem Bitmuster 25 Dezimalwerte 15 beziehungsweise 32 Positionswerte 17 zuordbar. Jede Bitmustergruppe 3 umfasst in diesem Zusammenhang fünf Einzelbits 7.In 4 and 5 is another bit pattern 4 with corresponding bit pattern groups 3 shown. In this case, the bit pattern 2 is 5 decimal values 15 or 32 position values 17 assignable. Each bit pattern group 3 in this context comprises five individual bits 7 ,

Die verschiedenen Bitmustergruppen 3 ergeben sich wiederum durch Verschiebung um jeweils ein Einzelbit 7 entlang der seriellen Anordnung des Bitmusters 4 nach 5. In diesem Zusammenhang ist noch zu beachten, dass sich die Bitmustergruppen, die den jeweiligen Enden des Bitmusters 4 zugeordnet sind, durch zyklische Verschiebung ergeben, das heißt, das sich beispielsweise die viertletzte Bitmustergruppe „11110” nach 4 durch die letzten vier „1”-Werte rechts in 5 und durch die erste „0” links in 5 ergibt. Analog ergeben sich die dieser viertletzten Bitmustergruppe nach 4 folgenden drei Bitmustergruppen.The different bit pattern groups 3 result in turn by shifting by one single bit 7 along the serial arrangement of the bit pattern 4 to 5 , In this context, it should be noted that the bit pattern groups corresponding to the respective ends of the bit pattern 4 are assigned by cyclic shift, that is, for example, the fourth to last bit pattern group "11110" after 4 through the last four "1" values right in 5 and by the first "0" left in 5 results. Analogously, this fourth-to-last bit pattern group follows 4 following three bit pattern groups.

In 6 und 7 ist ein weiteres Bitmuster 4 und entsprechende Bitmustergruppen 3 dargestellt. In diesem Fall weist das Bitmuster 26 Einzelbits und jede Bitmustergruppe sechs Einzelbits auf. Auch in diesem Fall sind jeder Bitmustergruppe 3 jeweils ein Dezimalwert 15 und ein Positionswert 17 zugeordnet.In 6 and 7 is another bit pattern 4 and corresponding bit pattern groups 3 shown. In this case, the bit pattern has 2 6 individual bits and each bit pattern group six individual bits. Also in this case are each bit pattern group 3 one decimal value each 15 and a position value 17 assigned.

Die in den 4 und 6 weiterhin dargestellte Spalte zwischen den jeweiligen Bitmustern 3 und den Positions- beziehungsweise Dezimalwerten 17, 15 angeordnete Spalte entspricht dem jeweiligen Dezimalwert im Hexadezimalsystem.The in the 4 and 6 also shown column between the respective bit patterns 3 and the position or decimal values 17 . 15 arranged column corresponds to the respective decimal value in the hexadecimal system.

In 8 ist schließlich noch ein Bitmuster 4 mit 28 Einzelbits dargestellt. Zur Vereinfachung ist auf eine Darstellung der entsprechenden Bitmustergruppen 3 verzichtet worden, wobei in diesem Fall jede Bitmustergruppe acht Einzelbits umfasst und insgesamt 28 = 256 Positionen beziehungsweise die Dezimalwerte von 0 bis 255 darstellbar sind.In 8th is finally a bit pattern 4 represented by 2 8 individual bits. For simplicity, reference is made to a representation of the corresponding bit pattern groups 3 has been omitted, in which case each bit pattern group comprises eight individual bits and a total of 2 8 = 256 positions or the decimal values from 0 to 255 can be represented.

Im Folgenden wird kurz die Funktionsweise der Erfindung beschrieben.The operation of the invention will be briefly described below.

Das Bitmuster dient in serieller Anordnung beispielsweise zur Positionsbestimmung von zwei relativ zueinander bewegbaren Objekten. Verschiedene Bitmustergruppen 3 des Bitmusters 4 werden nach 1 abgetastet und durch die eineindeutige Zuordnung von Bitmustergruppe und Position ist auf diese Weise durch jede positionsbezogene Bitmustergruppe die Position zwischen beweglichem Objekt 1 und stationärem Objekt 2 direkt und ohne weitere Hilfsmaßnahmen feststellbar.The bit pattern is used in a serial arrangement, for example for determining the position of two relatively movable objects. Different bit pattern groups 3 of the bit pattern 4 be after 1 and by the one-to-one assignment of bit pattern group and position, in this way, by each position-related bit pattern group, the position between the moving object 1 and stationary object 2 directly and without further assistance detectable.

Da sich jede Bitmustergruppe durch Verschieben um ein Einzelbit gegenüber der vorangehenden beziehungsweise anschließenden Bitmustergruppe ergibt, ist es im Wesentlichen ausreichend, wenn nur dieses verschobene Einzelbit abgetastet und mit den bereits abgetasteten verbleibenden Einzelbits der entsprechenden Bitmustergruppe 3 zusammengefasst wird, um so alle Einzelbits 7 einer Bitmustergruppe 3 zu erfassen.Since each bit pattern group results from shifting by a single bit compared to the preceding or subsequent bit pattern group, it is essentially sufficient if only this shifted single bit is scanned and with the remaining individual bits of the corresponding bit pattern group already scanned 3 is summarized so all individual bits 7 a bit pattern group 3 capture.

Nach 2 ist bei Verschiebung eines Einzelabtastelements 8 auch ein Übergang 16 zwischen Bereichen 19 mit unterschiedlichen Merkmalen/Zuständen abtastbar, wobei diese Bereiche 19 einem oder mehreren Einzelbits 7 entsprechen. Dadurch ist die Auflösung vergrößert, da entsprechend auch die Übergänge zwischen den Einzelbits oder Gruppen von Einzelbits erfasst werden.To 2 is at displacement of a single-scan element 8th also a transition 16 between areas 19 scannable with different features / states, these areas 19 one or more individual bits 7 correspond. As a result, the resolution is increased, since the transitions between the individual bits or groups of individual bits are detected accordingly.

Andere Bitmuster mit 2n Einzelbits und Bitmustergruppen mit n Einzelbits sind ebenfalls verwendbar, wobei n eine natürliche Zahl ist.Other bit patterns with 2 n single bits and bit pattern groups with n single bits are also usable, where n is a natural number.

Claims (13)

Verfahren zur Bestimmung einer kinematischen Messgröße zur Positionsbestimmung, wobei ein bewegliches Objekt (1) relativ zu einem stationären Objekt (2) bewegt wird, ein auf dem beweglichen und/oder stationären Objekt (1, 2) angeordnetes spezifisches, aus positionsbezogenen Bitmustergruppen (3) zusammengesetztes Bitmuster (4) während der gegenseitigen Relativbewegung der Objekte (1, 2) abgetastet und das Abtastsignal von einer Auswerteeinheit (5) in eine kinematische Messgröße umgesetzt wird, wobei jedes Einzelbit (7) einer Bitmustergruppe (3) durch ein Einzelabtastelement (8) einer Abtasteinrichtung (6) abgetastet wird, dadurch gekennzeichnet, dass auch Übergänge (16) zwischen Einzelbits (7) erfasst werden, wozu mittels einer Vergleichseinrichtung (13) eine aktuell mit einer analogen Bitauflösung (23) abgetastete Bitmustergruppe (3) mit abgespeicherten Informationen über zumindest diese oder alle Bitmustergruppen (3) verglichen wird, wodurch mit einer Genauigkeit von einem Bruchteil der Ausdehnung eines Einzelbits (7) festgestellt wird, ob eine Verschiebung um weniger als ein Einzelbit vorliegt.Method for determining a kinematic measured variable for position determination, wherein a moving object ( 1 ) relative to a stationary object ( 2 ), one on the movable and / or stationary object ( 1 . 2 ) specific, position-related bit pattern groups ( 3 ) composite bit pattern ( 4 ) during mutual relative movement of the objects ( 1 . 2 ) and the scanning signal from an evaluation unit ( 5 ) is converted into a kinematic measured variable, each individual bit ( 7 ) a bit pattern group ( 3 ) by a single scanning element ( 8th ) a scanner ( 6 ) is scanned, characterized in that transitions ( 16 ) between individual bits ( 7 ), for which purpose by means of a comparison device ( 13 ) one currently with an analog bit resolution ( 23 ) sampled bit pattern group ( 3 ) with stored information about at least these or all bit pattern groups ( 3 ), whereby with an accuracy of a fraction of the extent of a single bit ( 7 ) is determined whether there is a shift by less than a single bit. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Abtasteinrichtung (6) jedes Einzelbit (7) einer Bitmustergruppe (3) einzeln und aufeinanderfolgend abtastet.Method according to claim 1, characterized in that the scanning device ( 6 ) each single bit ( 7 ) a bit pattern group ( 3 ) individually and sequentially scans. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Abtasteinrichtung (6) alle Einzelbits (7) einer Bitmustergruppe (3) gleichzeitig abtastet.Method according to claim 1, characterized in that the scanning device ( 6 ) all individual bits ( 7 ) a bit pattern group ( 3 ) simultaneously. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Bitmuster (4) entlang einer im Wesentlichen gradlinigen Bahn abgetastet wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the bit pattern ( 4 ) is scanned along a substantially rectilinear path. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Bitmuster (4) entlang einer im Wesentlichen kreisförmig gekrümmten Bahn abgetastet wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the bit pattern ( 4 ) is scanned along a substantially circular curved path. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Bitmuster (4) redundant abgetastet wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the bit pattern ( 4 ) is scanned redundantly. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Kodierung der positionsbezogenen Bitmustergruppe (3) durch vier, fünf, sechs, sieben, acht oder mehr Einzelbits (7) erfolgt.Method according to one of the preceding claims, characterized in that a coding of the position-related bit pattern group ( 3 ) by four, five, six, seven, eight or more individual bits ( 7 ) he follows. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Speichereinrichtung (10) zumindest die jeweils zuletzt abgetastete Bitmustergruppe (3) speichert.Method according to one of the preceding claims, characterized in that a memory device ( 10 ) at least the last sampled bit pattern group ( 3 ) stores. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Speichereinrichtung (10) eine Gesamtmesssignalinformation (11) für einen Gesamtbewegungsbereich (12) der Abtasteinrichtung (6) und/oder zumindest einer Anzahl von Einzelabtastelementen (8) abspeichert.Method according to Claim 8, characterized in that the memory device ( 10 ) a total measurement signal information ( 11 ) for a total range of motion ( 12 ) of the scanner ( 6 ) and / or at least a number of individual scanning elements ( 8th ) stores. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Vergleichseinrichtung (13) eine aktuelle Messsignalinformation (14) der Abtasteinrichtung (6) mit der Gesamtmesssignalinformation (11) zur Bestimmung insbesondere von Übergängen zwischen Einzelbits (7) vergleicht.Method according to claim 9, characterized in that the comparison device ( 13 ) a current measurement signal information ( 14 ) of the scanner ( 6 ) with the total measurement signal information ( 11 ) for determining, in particular, transitions between individual bits ( 7 ) compares. Vorrichtung zur redundanten Bestimmung einer kinematischen Messgröße nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass sowohl Bitmuster (4) als auch Abtasteinrichtungen (6) an beiden Objekten (1, 2) vorgesehen sind.Device for the redundant determination of a kinematic measured variable according to one of Claims 1 to 10, characterized in that both bit patterns ( 4 ) as well as scanning devices ( 6 ) on both objects ( 1 . 2 ) are provided. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Abtasteinrichtung (6) über eine elektrische Verbindung mit der Auswerteeinheit (5) verbunden ist, die eine Speichereinrichtung (10) und eine Vergleichseinrichtung (13) aufweist.Device according to claim 11, characterized in that the scanning device ( 6 ) via an electrical connection to the evaluation unit ( 5 ), which is a memory device ( 10 ) and a comparison device ( 13 ) having. Vorrichtung nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Zuordnung zwischen Einzelbit (7) einer Bitmustergruppe (3) und Abtasteinrichtung (6) derart ist, dass jedes Einzelbit (7) durch ein Einzelabtastelement (8) der Abtasteinrichtung (6) abgetastet wird. Apparatus according to claim 11 or 12, characterized in that the association between single bit ( 7 ) a bit pattern group ( 3 ) and scanner ( 6 ) is such that each single bit ( 7 ) by a single scanning element ( 8th ) of the scanner ( 6 ) is scanned.
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