DE102023201560A1 - COMPONENT AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM - Google Patents

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DE102023201560A1
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Willi Anderl
Thomas Woerle
Dominik Gollmer
Joachim Hartjes
Marwene Nefzi
Felix Wetterich
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Carl Zeiss SMT GmbH
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Abstract

Ein Bauteil (100A - 100V) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend einen Grundkörper (102, 102A, 102B) mit einem Hohlraum (104), eine Tilgermasse (124), die in dem Hohlraum (104) aufgenommen ist, und ein Dämpfungsmaterial (110), das ebenfalls in dem Hohlraum (104) aufgenommen ist, wobei die Tilgermasse (124) zumindest teilweise in das Dämpfungsmaterial (110) eingebettet ist.A component (100A - 100V) for a projection exposure system (1), comprising a base body (102, 102A, 102B) with a cavity (104), an absorber mass (124) which is accommodated in the cavity (104), and a damping material (110), which is also accommodated in the cavity (104), the absorber mass (124) being at least partially embedded in the damping material (110).

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Bauteil für eine Projektionsbelichtungsanlage und eine Projektionsbelichtungsanlage mit zumindest einem derartigen Bauteil.The present invention relates to a component for a projection exposure system and a projection exposure system with at least one such component.

Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.Microlithography is used to produce microstructured components, such as integrated circuits. The microlithography process is carried out using a lithography system which has an illumination system and a projection system. The image of a mask (reticle) illuminated by the illumination system is projected by means of the projection system onto a substrate, for example a silicon wafer, which is coated with a light-sensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system, in order to project the mask structure onto the light-sensitive coating of the substrate transferred to.

Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt, Linsen, eingesetzt werden.Driven by the pursuit of ever smaller structures in the production of integrated circuits, EUV lithography systems are currently being developed which use light with a wavelength in the range from 0.1 nm to 30 nm, in particular 13.5 nm. In such EUV lithography systems, reflecting optics, i.e. mirrors, must be used instead of - as before - refracting optics, i.e. lenses, due to the high absorption of light of this wavelength by most materials.

Im Betrieb einer derartigen Lithographieanlage ist es nicht vermeidbar, dass Schwingungen in diese eingekoppelt werden. Diese Schwingungen können beispielsweise aus der Durchleitung von Kühlwasser durch Komponenten der Lithographieanlage resultieren. Auch durch Bodenschwingungen oder durch einen Retikelverlagerungsantrieb der Lithographieanlage können Schwingungen in die Lithographieanlage eingebracht werden. Um die Schwingungen zu dämpfen, ist es möglich, Dämpfungselemente zwischen sich bewegende Massen einzufügen.When operating such a lithography system, it cannot be avoided that vibrations are coupled into it. These vibrations can result, for example, from the passage of cooling water through components of the lithography system. Vibrations can also be introduced into the lithography system by ground vibrations or by a reticle displacement drive of the lithography system. In order to dampen the vibrations, it is possible to insert damping elements between moving masses.

Die DE 10 2016 215 204 A1 beschreibt eine Schwingungsentkopplungs- und Dämpfungsvorrichtung für Bauteile von Projektionsbelichtungsanlagen. Die Schwingungsentkopplungs- und Dämpfungsvorrichtung weist mindestens ein Stabteil und mindestens an einem Ende des Stabteils ein Gelenk auf, mit dem ein über das Gelenk an dem Stabteil angelenktes Element um mindestens eine Achse zu dem Stabteil verkippbar ist, wobei das Stabteil hohl ausgebildet ist.The DE 10 2016 215 204 A1 describes a vibration decoupling and damping device for components of projection exposure systems. The vibration decoupling and damping device has at least one rod part and at least at one end of the rod part a joint with which an element articulated to the rod part via the joint can be tilted about at least one axis relative to the rod part, the rod part being hollow.

Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein verbessertes Bauteil für eine Projektionsbelichtungsanlage bereitzustellen.Against this background, an object of the present invention is to provide an improved component for a projection exposure system.

Demgemäß wird ein Bauteil für eine Projektionsbelichtungsanlage vorgeschlagen. Das Bauteil umfasst einen Grundkörper mit einem Hohlraum, eine Tilgermasse, die in dem Hohlraum aufgenommen ist, und ein Dämpfungsmaterial, das ebenfalls in dem Hohlraum aufgenommen ist, wobei die Tilgermasse zumindest teilweise in das Dämpfungsmaterial eingebettet ist.Accordingly, a component for a projection exposure system is proposed. The component comprises a base body with a cavity, an absorber mass that is accommodated in the cavity, and a damping material that is also accommodated in the cavity, the absorber mass being at least partially embedded in the damping material.

Dadurch, dass die Tilgermasse und das Dämpfungsmaterial in dem Hohlraum aufgenommen sind, ist es möglich, Bauraum zu sparen, da das Anbringen der Tilgermasse und/oder des Dämpfungsmaterials außenseitig an dem Bauteil verzichtbar ist. Ferner kann dadurch, dass das Dämpfungsmaterial in dem Hohlraum vorgesehen ist, für das Dämpfungsmaterial ein Werkstoff verwendet werden, der aufgrund seines Ausgasungsverhaltens grundsätzlich für einen Einsatz unter EUV-Bedingungen weniger geeignet ist. Durch ein Versiegeln des Hohlraums kann ein derartiger ausgasender Werkstoff dennoch für das Dämpfungsmaterial verwendet werden. Dies ermöglicht den Einsatz unterschiedlichster Werkstoffe für das Dämpfungsmaterial und erweitert somit einen möglichen Einsatzbereich des Bauteils.Because the absorber mass and the damping material are accommodated in the cavity, it is possible to save installation space, since attaching the absorber mass and/or the damping material to the outside of the component is unnecessary. Furthermore, because the damping material is provided in the cavity, a material can be used for the damping material that is fundamentally less suitable for use under EUV conditions due to its outgassing behavior. By sealing the cavity, such an outgassing material can still be used for the damping material. This enables the use of a wide variety of materials for the damping material and thus expands the possible area of application of the component.

Das Bauteil kann grundsätzlich ein beliebiges Maschinenelement, wie beispielsweise eine Feder, ein Lager, insbesondere ein Wälzlager oder ein Gleitlager, oder eine beliebige andere Komponente der Projektionsbelichtungsanlage sein. Das Bauteil kann auch ein optisches Element, insbesondere ein Spiegel, sein. Das Bauteil kann auch ein Kühler sein, auf dem ein oder mehrere optische Elemente montiert sind. Ferner kann auch das optische Element, insbesondere ein Spiegel, selbst als Kühler gebaut sein. Das Bauteil kann auch als Komponente bezeichnet werden. Daher können vorliegend die Begriffe „Bauteil“ und „Komponente“ beliebig gegeneinander getauscht werden. Dem Bauteil beziehungsweise dem Grundkörper ist bevorzugt ein Koordinatensystem mit einer Breitenrichtung oder x-Richtung, einer Tiefenrichtung oder y-Richtung und einer Hochrichtung oder z-Richtung zugeordnet. Die Richtungen sind senkrecht zueinander orientiert.The component can in principle be any machine element, such as a spring, a bearing, in particular a roller bearing or a plain bearing, or any other component of the projection exposure system. The component can also be an optical element, in particular a mirror. The component can also be a cooler on which one or more optical elements are mounted. Furthermore, the optical element, in particular a mirror, can itself be constructed as a cooler. The component can also be referred to as a component. Therefore, the terms “component” and “component” can be interchanged at will. The component or the base body is preferably assigned a coordinate system with a width direction or x-direction, a depth direction or y-direction and a vertical direction or z-direction. The directions are oriented perpendicular to each other.

Das Bauteil kann plattenförmig sein. Insbesondere kann das Bauteil eine Tragplatte (Engl.: Pre Assembly Frame, PAF) eines Facettenspiegels einer Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage sein. Für den Fall, dass das Bauteil eine wie zuvor erwähnte Tragplatte ist, können an dem Bauteil mehrere Facetten des zuvor erwähnten Facettenspiegels verschwenkbar gelagert sein. In diesem Fall ist das Bauteil Teil der Beleuchtungsoptik. Das Bauteil kann jedoch auch Teil einer Projektionsoptik der Projektionsbelichtungsanlage sein.The component can be plate-shaped. In particular, the component can be a support plate (pre assembly frame, PAF) of a facet mirror of an illumination optics of the projection exposure system. In the event that the component is a support plate as mentioned above, several facets of the previously mentioned facet mirror can be pivotably mounted on the component. In this case, the component is part of the lighting optics. The construction However, part can also be part of a projection optics of the projection exposure system.

Der Grundkörper kann auch als Basiskörper bezeichnet werden. Der Grundkörper kann aus einem metallischen Werkstoff gefertigt sein. Beispielsweise kann der Grundkörper aus einer Stahllegierung oder aus einer Kupferlegierung gefertigt sein. Auch andere metallische Werkstoffe können eingesetzt werden. Alternativ kann der Grundkörper auch aus einem keramischen Werkstoff, aus Glas oder einer Glaskeramik gefertigt sein. Es ist auch möglich, den Grundkörper aus einem geeigneten Kunststoffmaterial zu fertigen. Für den Fall, dass das Bauteil ein optisches Element ist, können als verwendete Materialien insbesondere Silizium, Keramiken, Gläser, insbesondere ein sogenanntes Ultra Low Expansion Glass (ULE), Glaskeramiken, beispielsweise Zerodur, oder dergleichen eingesetzt werden.The basic body can also be referred to as a base body. The base body can be made of a metallic material. For example, the base body can be made from a steel alloy or a copper alloy. Other metallic materials can also be used. Alternatively, the base body can also be made of a ceramic material, glass or a glass ceramic. It is also possible to manufacture the base body from a suitable plastic material. In the event that the component is an optical element, the materials used can in particular be silicon, ceramics, glasses, in particular a so-called Ultra Low Expansion Glass (ULE), glass ceramics, for example Zerodur, or the like.

Der Hohlraum kann beispielsweise eine in den Grundkörper eingebrachte Bohrung, Aussparung oder Ausnehmung sein. Der Grundkörper kann mehrere Hohlräume aufweisen. Der Hohlraum weist eine Innenwandung auf, welche den Hohlraum umgrenzt oder umschließt. Der Grundkörper kann den Hohlraum vollständig umschließen oder einkapseln. In diesem Fall schließt der Grundkörper den Hohlraum von einer Umgebung des Bauteils ab. Eine Fluidverbindung zwischen dem Hohlraum und der Umgebung ist dann nicht vorgesehen. Dies ermöglicht insbesondere den Einsatz von ausgasenden Werkstoffen für das Dämpfungsmaterial.The cavity can, for example, be a hole, recess or recess made in the base body. The base body can have several cavities. The cavity has an inner wall which delimits or encloses the cavity. The base body can completely enclose or encapsulate the cavity. In this case, the base body closes off the cavity from the surroundings of the component. A fluid connection between the cavity and the environment is then not provided. This enables, in particular, the use of outgassing materials for the damping material.

Alternativ kann der Hohlraum auch mit der Umgebung verbunden sein. Hierzu können beispielsweise geeignete Bohrungen oder Durchbrüche vorgesehen sein. Eine Fluidverbindung zwischen dem Hohlraum und der Umgebung ist in diesem Fall vorgesehen. Durch die zuvor erwähnten Bohrungen oder Durchbrüche kann der Hohlraum mit dem Dämpfungsmaterial befüllt werden. Die Bohrungen oder Durchbrüche können nach dem Befüllen des Hohlraums mit dem Dämpfungsmaterial fluiddicht verschlossen werden.Alternatively, the cavity can also be connected to the environment. For this purpose, suitable holes or openings can be provided, for example. A fluid connection between the cavity and the environment is provided in this case. The cavity can be filled with the damping material through the previously mentioned holes or openings. The holes or openings can be sealed in a fluid-tight manner after the cavity has been filled with the damping material.

Der Hohlraum kann beispielsweise mit Hilfe eines abtragenden Verfahrens, wie beispielsweise Fräsen oder Bohren, hergestellt werden. Ferner kann der Grundkörper auch aus mehreren Unterbauteilen zusammengesetzt sein, welche durch Schweißen, Löten oder Kleben miteinander verbunden werden. Der Hohlraum kann mit einer Stützstruktur versehen sein. Die elastischen Eigenschaften des Grundkörpers ändern sich durch den Hohlraum hierdurch nur in geringem Maße. Die Stützstruktur kann eine Fachwerkstruktur sein.The cavity can be produced, for example, using a removal process such as milling or drilling. Furthermore, the base body can also be composed of several sub-components, which are connected to one another by welding, soldering or gluing. The cavity can be provided with a support structure. The elastic properties of the base body only change to a small extent due to the cavity. The support structure can be a truss structure.

Als Herstellungsverfahren für den Grundkörper eignen sich auch additive oder generative Fertigungsverfahren, insbesondere sogenannte 3D-Druckverfahren. Bei der Verwendung eines additiven Fertigungsverfahrens kann der Grundkörper aus einem pulverförmigen Werkstoff schichtweise um den Hohlraum herum aufgebaut werden. In dem Bereich des Grundkörpers, in dem der Hohlraum vorgesehen werden soll, wird der pulverförmige Werkstoff dementsprechend nicht aufgeschmolzen oder versintert. Der pulverförmige Werkstoff kann nach dem Herstellen des Grundkörpers aus dem Hohlraum entfernt werden. Hierzu kann eine geeignete Bohrung oder ein Durchbruch vorgesehen sein. Der pulverförmige Werkstoff kann auch zumindest zum Teil in dem Hohlraum belassen werden und als Dämpfungsmaterial fungieren. Das Dämpfungsmaterial ist in diesem Fall dann ein Pulver beziehungsweise der pulverförmige Werkstoff.Additive or generative manufacturing processes, in particular so-called 3D printing processes, are also suitable as manufacturing processes for the base body. When using an additive manufacturing process, the base body can be built up in layers around the cavity from a powdery material. In the area of the base body in which the cavity is to be provided, the powdery material is accordingly not melted or sintered. The powdery material can be removed from the cavity after the base body has been produced. A suitable hole or breakthrough can be provided for this purpose. The powdery material can also be left at least partially in the cavity and act as a damping material. In this case, the damping material is then a powder or the powdery material.

Die Tilgermasse ist innerhalb des Hohlraums angeordnet. Die Tilgermasse kann plattenförmig sein. Insbesondere kann die Tilgermasse eine quaderförmige oder würfelförmige Geometrie aufweisen. Die Tilgermasse kann eine Kantenlänge von wenigen Millimetern oder sogar von einem Bruchteil eines Millimeters aufweisen. Alternativ kann die Tilgermasse auch zylinderförmig sein. Grundsätzlich kann die Tilgermasse jedoch jede beliebige Geometrie aufweisen. Die Tilgermasse ist vorzugsweise an den Grundkörper angebunden und so mit diesem gekoppelt. Die Tilgermasse kann mit Hilfe des Dämpfungsmaterials mit dem Grundkörper wirkverbunden sein. Beispielsweise ist die Tilgermasse mit Hilfe des Dämpfungsmaterials mit dem Grundkörper verklebt. Die Tilgermasse kann innerhalb des Hohlraums schwingen. Die Tilgermasse wird dabei ausgelenkt. Vorzugsweise weist die Tilgermasse dieselbe Eigenfrequenz wie der Grundkörper auf, deren Amplituden für eine bestmögliche Performance des Bauteils gedämpft werden sollen.The absorber mass is arranged within the cavity. The absorber mass can be plate-shaped. In particular, the absorber mass can have a cuboid or cube-shaped geometry. The absorber mass can have an edge length of a few millimeters or even a fraction of a millimeter. Alternatively, the absorber mass can also be cylindrical. In principle, however, the absorber mass can have any geometry. The absorber mass is preferably connected to the base body and thus coupled to it. The absorber mass can be operatively connected to the base body with the help of the damping material. For example, the absorber mass is glued to the base body with the help of the damping material. The absorber mass can oscillate within the cavity. The absorber mass is deflected. The absorber mass preferably has the same natural frequency as the base body, the amplitudes of which should be dampened for the best possible performance of the component.

Die Tilgermasse kann auch als Tilgerelement bezeichnet werden. Die Begriffe „Tilgermasse“ und „Tilgerelement“ können daher beliebig gegeneinander getauscht werden. Die Tilgermasse ist bevorzugt nicht identisch mit dem Dämpfungsmaterial. Das heißt insbesondere, dass die Tilgermasse und das Dämpfungsmaterial zwei voneinander getrennte Bauteile oder Komponenten sind. Dies schließt jedoch nicht aus, dass das Dämpfungsmaterial dazu genutzt wird, die Tilgermasse mit dem Grundkörper zu verbinden, insbesondere zu verkleben. Das heißt, dass das Dämpfungsmaterial fest mit der Tilgermasse verbunden sein kann. Eine derartige Verbindung kann auch mit Hilfe eines additiven oder generativen Fertigungsverfahrens hergestellt werden. Dabei werden die Tilgermasse und der Grundkörper beispielsweise zusammen aus einem Pulverbett schichtweise aufgebaut.The absorber mass can also be referred to as an absorber element. The terms “absorber mass” and “absorber element” can therefore be exchanged for each other as desired. The absorber mass is preferably not identical to the damping material. This means in particular that the absorber mass and the damping material are two separate parts or components. However, this does not exclude the possibility that the damping material is used to connect, in particular to glue, the absorber mass to the base body. This means that the damping material can be firmly connected to the absorber mass. Such a connection can also be produced using an additive or generative manufacturing process. The absorber mass and the base body are constructed together in layers, for example from a powder bed.

Die Tilgermasse und das Dämpfungsmaterial bilden zusammen einen innerhalb des Hohlraums angeordneten Schwingungstilger (Engl.: Tuned Mass Damper, TMD). Die Tilgermasse und das Dämpfungsmaterial beziehungsweise der Schwingungstilger sind somit geeignet, ein schwingendes Verhalten des Grundkörpers aufgrund einer beliebigen Anregung möglichst breitbandig zu dämpfen. Der Schwingungstilger ist dahingehend optimiert, dass in das Bauteil eingebrachte Schwingungen optimal gedämpft werden. Das Bauteil kann eine beliebige Anzahl von derartigen Schwingungstilgern umfassen. Jedem Hohlraum ist bevorzugt zumindest ein derartiger Schwingungstilger zugeordnet. Ferner können auch mehrere Tilgermassen innerhalb eines gemeinsamen Hohlraums angeordnet sein. Der Schwingungstilger kann auch als Mikrotilger bezeichnet werden oder ist ein Mikrotilger. Der Schwingungstilger ist somit in das Bauteil, insbesondere in den Grundkörper, integriert.The absorber mass and the damping material together form a vibration absorber (Tuned Mass Damper, TMD) arranged within the cavity. The absorber mass and the damping material or the vibration absorber are therefore suitable for damping the oscillating behavior of the base body as broadly as possible due to any excitation. The vibration absorber is optimized so that vibrations introduced into the component are optimally dampened. The component can include any number of such vibration absorbers. Each cavity is preferably assigned at least one such vibration absorber. Furthermore, several absorber masses can also be arranged within a common cavity. The vibration absorber can also be referred to as a microtilger or is a microtilger. The vibration absorber is thus integrated into the component, in particular into the base body.

Der Hohlraum ist zumindest teilweise mit dem Dämpfungsmaterial gefüllt. Vorzugsweise ist der Hohlraum nicht vollständig mit dem Dämpfungsmaterial gefüllt. Hierdurch ist es möglich, dass die Tilgermasse eine Relativbewegung gegenüber dem Grundkörper durchführen kann, wobei das Dämpfungsmaterial die Tilgermasse jedoch nicht blockiert. Ein weiterer Vorteil besteht darin, dass ein Volumenausgleich bei Temperaturunterschieden, beispielsweise im Betrieb oder beim Transport, möglich ist. Der Grundkörper umschließt oder umkapselt das Dämpfungsmaterial. Zum Einfüllen des Dämpfungsmaterials in den Hohlraum können in dem Grundkörper entsprechende Öffnungen vorgesehen sein, die einen Zugang zu dem Hohlraum ermöglichen.The cavity is at least partially filled with the damping material. Preferably the cavity is not completely filled with the damping material. This makes it possible for the absorber mass to carry out a relative movement relative to the base body, but the damping material does not block the absorber mass. Another advantage is that volume compensation is possible in the event of temperature differences, for example during operation or transport. The base body encloses or encapsulates the damping material. To fill the damping material into the cavity, corresponding openings can be provided in the base body, which enable access to the cavity.

Als Dämpfungsmaterial können grundsätzlich thermoplastische Polymere, wie beispielsweise Polystyrole oder Polyvinylchloride, Gummi-Werkstoffe, Polyisoprene, Phenolharze, Melamine, Epoxidharze oder andere Klebstoffe oder dergleichen verwendet werden. Falls die zu dämpfenden Relativbewegungen der Tilgermasse sehr gering sind, ist es auch möglich, niedrigviskose Polymere oder Flüssigkeiten für das Dämpfungsmaterial zu verwenden. Aufgrund der Kapselung des Dämpfungsmaterials in dem Hohlraum können auch Öle oder andere Flüssigkeiten eingesetzt werden.In principle, thermoplastic polymers such as polystyrenes or polyvinyl chlorides, rubber materials, polyisoprenes, phenolic resins, melamines, epoxy resins or other adhesives or the like can be used as the damping material. If the relative movements of the absorber mass to be dampened are very small, it is also possible to use low-viscosity polymers or liquids for the damping material. Due to the encapsulation of the damping material in the cavity, oils or other liquids can also be used.

Ferner können für das Dämpfungsmaterial auch beliebige Pulver, insbesondere metallische, keramische oder auf Kunststoffen basierende Pulver, Sande oder andere Schüttgüter eingesetzt werden. Wie zuvor erwähnt, kann für den Fall, dass der Grundkörper mit Hilfe eines generativen Fertigungsverfahrens hergestellt ist, auch ein pulverförmiger Werkstoff als Dämpfungsmaterial fungieren, aus dem der Grundkörper schichtweise aufgebaut ist. In diesem Fall ist ein zusätzlicher Schritt des Einbringens des Dämpfungsmaterials in den Hohlraum verzichtbar. Vorzugsweise wird jedoch zumindest ein Teil des pulverförmigen Dämpfungsmaterials aus dem Hohlraum entfernt, so dass die Tilgermasse eine Relativbewegung gegenüber dem Grundkörper durchführen kann. Zum Entfernen des überflüssigen pulverförmigen Werkstoffs aus dem Hohlraum kann eine Bohrung oder dergleichen vorgesehen sein.Furthermore, any powder, in particular metallic, ceramic or plastic-based powder, sand or other bulk materials, can also be used for the damping material. As mentioned above, if the base body is manufactured using a generative manufacturing process, a powdery material can also act as a damping material, from which the base body is constructed in layers. In this case, an additional step of introducing the damping material into the cavity is unnecessary. However, at least part of the powdery damping material is preferably removed from the cavity so that the absorber mass can carry out a relative movement with respect to the base body. A hole or the like can be provided to remove the unnecessary powdery material from the cavity.

Darunter, dass die Tilgermasse zumindest teilweise in das Dämpfungsmaterial „eingebettet“ ist, ist vorliegend insbesondere zu verstehen, dass das Dämpfungsmaterial die Tilgermasse zumindest teilweise umgibt. Die Tilgermasse liegt somit in oder zumindest auf dem Dämpfungsmaterial. Das Dämpfungsmaterial kann die Tilgermasse auch vollständig umgeben. Wie zuvor erwähnt, ist der Hohlraum jedoch nicht vollständig mit dem Dämpfungsmaterial gefüllt, so dass eine Auslenkung der Tilgermasse innerhalb des Hohlraums durch das Dämpfungsmaterial nicht verhindert wird. Bei Relativbewegungen der Tilgermasse gegenüber dem Grundkörper innerhalb des Hohlraums wirkt das Dämpfungsmaterial jedoch dämpfend auf die Bewegung der Tilgermasse.In the present case, the fact that the absorber mass is at least partially “embedded” in the damping material is to be understood as meaning that the damping material at least partially surrounds the absorber mass. The absorber mass is therefore in or at least on the damping material. The damping material can also completely surround the absorber mass. As previously mentioned, however, the cavity is not completely filled with the damping material, so that a deflection of the absorber mass within the cavity is not prevented by the damping material. However, when the absorber mass moves relative to the base body within the cavity, the damping material has a damping effect on the movement of the absorber mass.

Gemäß einer Ausführungsform umfasst das Bauteil ferner ein Federelement, das ebenfalls in dem Hohlraum aufgenommen ist, wobei die Tilgermasse mit Hilfe des Federelements an den Grundkörper angebunden ist.According to one embodiment, the component further comprises a spring element, which is also accommodated in the cavity, the absorber mass being connected to the base body with the aid of the spring element.

Das Federelement kann eine Blattfeder oder ein Blattfederelement sein. Daher kann das Federelement auch als Blattfederelement bezeichnet werden. Das Federelement kann jedoch eine beliebige andere Feder sein. Das Federelement kann auch drahtförmig oder saitenförmig sein. Das Federelement verbindet die Tilgermasse mit dem Grundkörper. Der Grundkörper, die Tilgermasse, das Dämpfungsmaterial und das Federelement bilden ein Feder-Masse-System. Das Federelement ist bevorzugt Teil des zuvor erwähnten Schwingungstilgers, der auch die Tilgermasse und das Dämpfungsmaterial aufweist. Das Federelement ist jedoch nicht zwingend erforderlich. Die Tilgermasse kann auch mit Hilfe des Dämpfungsmaterials selbst an den Grundkörper angebunden oder mit diesem gekoppelt sein. In diesem Fall fungiert das Dämpfungsmaterial sowohl als Dämpfer als auch als Feder des zuvor erwähnten Feder-Masse-Systems beziehungsweise des Schwingungstilgers.The spring element can be a leaf spring or a leaf spring element. Therefore, the spring element can also be referred to as a leaf spring element. However, the spring element can be any other spring. The spring element can also be wire-shaped or string-shaped. The spring element connects the absorber mass to the base body. The base body, the absorber mass, the damping material and the spring element form a spring-mass system. The spring element is preferably part of the previously mentioned vibration absorber, which also has the absorber mass and the damping material. However, the spring element is not absolutely necessary. The absorber mass can also be connected to or coupled to the base body using the damping material itself. In this case, the damping material acts both as a damper and as a spring of the previously mentioned spring-mass system or the vibration absorber.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind der Grundkörper, die Tilgermasse und das Federelement einstückig, insbesondere materialeinstückig, ausgebildet.According to a further embodiment, the base body, the absorber mass and the spring element are formed in one piece, in particular in one piece of material.

„Einstückig“ oder „einteilig“ bedeutet vorliegend, dass der Grundkörper, die Tilgermasse und das Federelement ein gemeinsames Bauteil bilden und nicht aus unterschiedlichen Unterbauteilen zusammengesetzt sind. Hierzu kann das Bauteil mit einem wie zuvor erwähnten additiven Fertigungsverfahren hergestellt sein. „Materialeinstückig“ bedeutet vorliegend, dass der Grundkörper, die Tilgermasse und das Federelement durchgängig aus demselben Werkstoff gefertigt sind. Insbesondere können das Federelement und die Tilgermasse Teil des Grundkörpers sein. Das Federelement und die Tilgermasse sind innerhalb des Grundkörpers, nämlich insbesondere innerhalb des Hohlraums, platziert.“One-piece” or “one-piece” means in the present case that the base body, the absorber mass and the spring element forms a common component and is not composed of different sub-components. For this purpose, the component can be manufactured using an additive manufacturing process as mentioned above. “One-piece material” in this case means that the base body, the absorber mass and the spring element are made entirely from the same material. In particular, the spring element and the absorber mass can be part of the base body. The spring element and the absorber mass are placed within the base body, namely in particular within the cavity.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das Dämpfungsmaterial ein pulverförmiger Werkstoff, wobei der Grundkörper und die Tilgermasse mit Hilfe eines additiven Fertigungsverfahrens aus dem pulverförmigen Werkstoff gefertigt sind.According to a further embodiment, the damping material is a powdery material, with the base body and the absorber mass being manufactured from the powdery material using an additive manufacturing process.

Der pulverförmige Werkstoff kann ein Metallpulver sein. Beispielsweise wird das Bauteil mit Hilfe des sogenannten selektiven Laserschmelzens (Engl.: Selective Laser Melting, SLM) hergestellt. Für den Fall, dass der pulverförmige Werkstoff ein Kunststoffmaterial ist, kann das selektive Lasersintern (Engl.: Selective Laser Sintering, SLS) als Herstellungsverfahren eingesetzt werden. Insbesondere wird das Bauteil mit dem Grundkörper, der Tilgermasse und dem Federelement aus einem Pulverbett aufgebaut. Bei dem Fertigen des Bauteils kann der pulverförmige Werkstoff zumindest zum Teil in dem Hohlraum belassen werden, um als Dämpfungsmaterial zu fungieren. Um eine Relativbewegung der Tilgermasse gegenüber dem Grundkörper zu erlauben, ist der Hohlraum vorzugsweise nur teilweise mit dem pulverförmigen Werkstoff ausgefüllt. Hierzu kann beispielsweise nach dem Herstellen des Bauteils mit dem additiven Fertigungsverfahren ein Teil des in dem Hohlraum aufgenommenen pulverförmigen Werkstoffs aus dem Hohlraum entfernt werden. Hierzu können geeignete Bohrungen oder Öffnungen vorgesehen sein.The powdery material can be a metal powder. For example, the component is manufactured using so-called selective laser melting (SLM). In the event that the powdery material is a plastic material, selective laser sintering (SLS) can be used as a manufacturing process. In particular, the component with the base body, the absorber mass and the spring element is constructed from a powder bed. When manufacturing the component, the powdered material can be left at least partially in the cavity in order to function as a damping material. In order to allow a relative movement of the absorber mass relative to the base body, the cavity is preferably only partially filled with the powdery material. For this purpose, for example, after producing the component using the additive manufacturing process, part of the powdery material contained in the cavity can be removed from the cavity. Suitable holes or openings can be provided for this purpose.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Dämpfungsmaterial einen Füllstoff auf, dessen Partikelgröße größer als eine Spaltbreite eines zwischen der Tilgermasse und einer Innenwandung des Hohlraums vorgesehenen Spalts ist.According to a further embodiment, the damping material has a filler whose particle size is larger than a gap width of a gap provided between the absorber mass and an inner wall of the cavity.

Vorzugsweise ist der Füllstoff kugelförmig. In diesem Fall weist der Füllstoff eine Vielzahl von Partikeln auf, die kugelförmig sind. Die Partikel können als Kugeln bezeichnet werden. In diesem Fall entspricht die Partikelgröße einem Partikeldurchmesser oder Kugeldurchmesser. Dadurch, dass die Partikelgröße größer als die Spaltbreite ist, kann vermieden werden, dass bei einem Befüllen des Hohlraums mit dem Dämpfungsmaterial das Dämpfungsmaterial den Hohlraum vollständig ausgefüllt. Dies kann dadurch erreicht werden, dass der Füllstoff ein Eindringen des Dämpfungsmaterials in Spalte verhindert, die schmaler als die Partikelgröße, insbesondere als der Partikeldurchmesser, sind. Der Füllstoff kann beispielsweise Kugeln, insbesondere Glaskugeln oder Stahlkugeln, aufweisen. Mit anderen Worten kann der Füllstoff kugelförmig sein. Es sind grundsätzlich beliebige Werkstoffe möglich. Beispielsweise können auch Kunststoffe sowie Hohlkugeln mit dem Vorteil einer Deformationsmöglichkeit bei Temperaturdehnungen des Füllstoffs eingesetzt werden. Hierdurch ist ein Volumenausgleich erzielbar. Neben dem Füllstoff kann das Dämpfungsmaterial beispielsweise einen wie zuvor erwähnten Klebstoff, ein beliebiges Polymer oder dergleichen, aufweisen. Das Dämpfungsmaterial ist in diesem Fall dann ein mit dem Füllstoff gefüllter Klebstoff oder ein Polymer. Das mit dem Füllstoff gefüllte Dämpfungsmaterial ist insbesondere pastös oder flüssig.Preferably the filler is spherical. In this case, the filler has a plurality of particles that are spherical. The particles can be referred to as spheres. In this case, the particle size corresponds to a particle diameter or spherical diameter. Because the particle size is larger than the gap width, it can be avoided that when the cavity is filled with the damping material, the damping material completely fills the cavity. This can be achieved in that the filler prevents the damping material from penetrating into gaps that are narrower than the particle size, in particular than the particle diameter. The filler can, for example, have balls, in particular glass balls or steel balls. In other words, the filler can be spherical. In principle, any materials are possible. For example, plastics and hollow spheres can also be used with the advantage of being able to deform when the filler expands at temperature. This makes it possible to achieve volume compensation. In addition to the filler, the damping material can, for example, have an adhesive as mentioned above, any polymer or the like. In this case, the damping material is then an adhesive or a polymer filled with the filler. The damping material filled with the filler is in particular pasty or liquid.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das Bauteil mehrere Hohlräume, wobei jedem Hohlraum eine Tilgermasse und das Dämpfungsmaterial zugeordnet sind, und wobei die Hohlräume matrixartig angeordnet sind, um in dem Bauteile eine Tilgerschicht zu bilden.According to a further embodiment, the component comprises a plurality of cavities, with each cavity being assigned an absorber mass and the damping material, and with the cavities being arranged in a matrix-like manner in order to form an absorber layer in the component.

Die Anzahl der Hohlräume ist grundsätzlich beliebig. In jedem Hohlraum ist eine Tilgermasse aufgenommen, welche mit einem wie zuvor erwähnten Federelement an den Grundkörper angebunden ist. Jeder Hohlraum ist zumindest teilweise mit dem Dämpfungsmaterial gefüllt. „Matrixartig“ oder „musterartig“ bedeutet vorliegend insbesondere, dass die Hohlräume in Zeilen und in Spalten angeordnet sind. Das heißt insbesondere, dass jeder Hohlraum von vier weiteren Hohlräumen umgeben sein kann. Die Anzahl der Hohlräume ist jedoch beliebig. Mit anderen Worten kann jeder Hohlraum von einer beliebigen Anzahl weiterer Hohlräume umgeben sein. Unter einer „Tilgerschicht“ ist vorliegend eine Anordnung einer beliebigen Anzahl von Hohlräumen zu verstehen, bei der jedem Hohlraum eine Tilgermasse und ein Federelement zugeordnet ist, mit dessen Hilfe die Tilgermasse mit dem Grundkörper verbunden ist. Insbesondere weist die Tilgerschicht eine Vielzahl wie zuvor erwähnter Schwingungstilger auf. Innerhalb der Tilgerschicht ist es möglich, unterschiedliche Federelemente mit unterschiedlichen Federeigenschaften und/oder unterschiedliche Tilgermassen einzusetzen. Hierdurch ist es möglich, die Tilgerschicht genau auf den Anwendungsfall des Bauteils abzustimmen.The number of cavities is basically arbitrary. An absorber mass is accommodated in each cavity, which is connected to the base body with a spring element as mentioned above. Each cavity is at least partially filled with the damping material. “Matrix-like” or “pattern-like” in this case means in particular that the cavities are arranged in rows and columns. This means in particular that each cavity can be surrounded by four further cavities. However, the number of cavities is arbitrary. In other words, each cavity can be surrounded by any number of other cavities. In the present case, an “absorber layer” is to be understood as an arrangement of any number of cavities, in which each cavity is assigned an absorber mass and a spring element, with the help of which the absorber mass is connected to the base body. In particular, the absorber layer has a large number of vibration absorbers as mentioned above. Within the absorber layer it is possible to use different spring elements with different spring properties and/or different absorber masses. This makes it possible to tailor the absorber layer precisely to the application of the component.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das Bauteil ferner eine massive Schicht, wobei die Tilgerschicht und die massive Schicht übereinander oder nebeneinander platziert sind.According to a further embodiment, the component further comprises a solid layer, with the absorber layer and the solid layer being placed one above the other or next to one another.

Insbesondere sind die massive Schicht und die Tilgerschicht entlang der zuvor erwähnten Hochrichtung oder z-Richtung des Bauteils übereinander angeordnet. Die massive Schicht und die Tilgerschicht können auch entlang der zuvor erwähnten Tiefenrichtung oder y-Richtung des Bauteils nebeneinander angeordnet sein. Dabei können mehrere unterschiedliche Tilgerschichten und/oder mehrere unterschiedliche massive Schichten vorgesehen sein. Es kann eine beliebige Anzahl von Tilgerschichten und/oder massiven Schichten vorgesehen sein. Die Tilgerschichten und/oder die massiven Schichten können auch ineinandergreifen. Unter einer „massiven Schicht“ ist vorliegend ein Bereich oder eine Schicht des Bauteils zu verstehen, in der keine wie zuvor erwähnten Hohlräume mit Tilgermassen vorgesehen sind.In particular, the solid layer and the absorber layer are arranged one above the other along the aforementioned vertical direction or z-direction of the component. The solid layer and the absorber layer can also be arranged next to one another along the aforementioned depth direction or y-direction of the component. Several different absorber layers and/or several different solid layers can be provided. Any number of absorber layers and/or solid layers can be provided. The absorber layers and/or the solid layers can also interlock. In the present case, a “solid layer” is understood to mean an area or a layer of the component in which no cavities with absorber masses are provided as mentioned above.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die massive Schicht zumindest einen Kühlkanal auf.According to a further embodiment, the solid layer has at least one cooling channel.

Durch den Kühlkanal kann eine Kühlflüssigkeit, beispielsweise Kühlwasser, geleitet werden, um Wärme von dem Bauteil abzuführen. Vorzugsweise ist das Bauteil in diesem Fall plattenförmig. Insbesondere kann das Bauteil eine wie zuvor erwähnte Tragplatte eines Facettenspiegels sein. Mit Hilfe der Kühlkanäle ist es möglich, von Facetten des Facettenspiegels über Wärmeleitung in das Bauteil eingeleitete Wärme abzuführen. Dies ermöglicht eine aktive Kühlung des Facettenspiegels. Strömungsinduzierte Schwingungen (Engl.: Flow Induced Vibrations, FIV) können mit Hilfe des Schwingungstilgers oder der Schwingungstilger gedämpft werden.A cooling liquid, for example cooling water, can be passed through the cooling channel in order to remove heat from the component. In this case, the component is preferably plate-shaped. In particular, the component can be a support plate of a facet mirror, as mentioned above. With the help of the cooling channels, it is possible to dissipate heat introduced into the component from facets of the facet mirror via heat conduction. This enables active cooling of the facet mirror. Flow-induced vibrations (FIV) can be dampened using the vibration absorber or vibration absorbers.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die Hohlräume fluidisch voneinander getrennt oder die Hohlräume sind fluidisch miteinander verbunden.According to a further embodiment, the cavities are fluidly separated from one another or the cavities are fluidly connected to one another.

„Fluidisch voneinander getrennt“ bedeutet vorliegend, dass die Hohlräume nicht miteinander in Fluidverbindung stehen. Somit kann beispielsweise das Dämpfungsmaterial nicht von einem Hohlraum in einen anderen Hohlraum gelangen. „Fluidisch miteinander verbunden“ bedeutet dementsprechend vorliegend insbesondere, dass die Hohlräume mit entsprechenden Bohrungen oder Durchbrüchen miteinander verbunden sind. Dies kann beispielsweise genutzt werden, um mehrere Hohlräume gleichzeitig mit dem Dämpfungsmaterial zu füllen.“Fluidically separated from one another” means in this case that the cavities are not in fluid communication with one another. This means, for example, that the damping material cannot pass from one cavity into another cavity. “Fluidically connected to one another” means in this case, in particular, that the cavities are connected to one another with corresponding bores or openings. This can be used, for example, to fill several cavities with the damping material at the same time.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das Bauteil ferner mehrere Tilgermassen, die in dem Hohlraum aufgenommen sind, wobei die Tilgermassen an eine in den Hohlraum aufgenommene Stützstruktur angebunden sind.According to a further embodiment, the component further comprises a plurality of absorber masses which are accommodated in the cavity, the absorber masses being connected to a support structure accommodated in the cavity.

Auch in diesem Fall bilden die Tilgermassen eine Tilgerschicht. Die Tilgerschicht weist dann allerdings nur einen Hohlraum auf, in dem die mehreren Tilgermassen angeordnet sind. Die Stützstruktur kann eine Vielzahl von säulenförmigen Stützelementen aufweisen, die durch den Hohlraum verlaufen. Insbesondere verlaufen die Stützelemente entlang der Hochrichtung oder z-Richtung durch den Hohlraum. An den Stützelementen sind die Tilgermassen mit Hilfe von wie zuvor erwähnten Federelementen angebunden.In this case too, the absorber masses form a absorber layer. However, the absorber layer then only has one cavity in which the several absorber masses are arranged. The support structure may include a plurality of columnar support elements extending through the cavity. In particular, the support elements run through the cavity along the vertical direction or z-direction. The absorber masses are connected to the support elements with the help of spring elements as mentioned above.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind der Hohlraum und die Tilgermasse rotationssymmetrisch zu einer gemeinsamen Symmetrieachse aufgebaut.According to a further embodiment, the cavity and the absorber mass are constructed rotationally symmetrically to a common axis of symmetry.

Insbesondere kann auch der Grundkörper rotationssymmetrisch zu der Symmetrieachse aufgebaut sein. Der Grundkörper kann stabförmig oder rohrförmig sein. Der Grundkörper kann einen kreisförmigen Querschnitt aufweisen. Der Hohlraum kann mittig in dem Grundkörper vorgesehen sein. Insbesondere kann auch das Federelement rotationssymmetrisch zu der Symmetrieachse aufgebaut sein. In diesem Fall können die Tilgermasse und/oder das Federelement zylinderförmig sein, wobei das Federelement im Vergleich zu der Tilgermasse einen wesentlich kleineren Durchmesser oder Querschnitt aufweist, um eine elastische Verformung des Federelements zu ermöglichen.In particular, the base body can also be constructed rotationally symmetrical to the axis of symmetry. The base body can be rod-shaped or tubular. The base body can have a circular cross section. The cavity can be provided centrally in the base body. In particular, the spring element can also be constructed rotationally symmetrical to the axis of symmetry. In this case, the absorber mass and/or the spring element can be cylindrical, with the spring element having a significantly smaller diameter or cross section compared to the absorber mass in order to enable elastic deformation of the spring element.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das Bauteil ferner mehrere Tilgermassen, die zum Bilden einer Tilgerkette auf einen Draht aufgefädelt sind. Unter einem „Draht“ ist vorliegend ein Bauteil zu verstehen, das aufgrund seiner geringen Materialstärke elastisch und auch plastisch verformbar ist. Der Draht kann einen beliebigen Querschnitt aufweisen. Der Draht kann im Querschnitt kreisrund oder rechteckförmig sein. Der Draht kann beispielsweise aus einer Stahllegierung oder einer Aluminiumlegierung gefertigt sein. Es können für den Draht auch hochfeste Stahllegierungen eingesetzt werden. Der Draht kann flexibel sein. Der Draht kann auch geflochten sein. Insbesondere kann der Draht auch eine Saite sein. Die Tilgermassen sind vorzugsweise zylinderförmig und weisen jeweils eine mittige Bohrung auf, durch welche der Draht hindurchgeführt ist. Die Tilgermassen sind entlang des Drahts beabstandet voneinander angeordnet. Der Draht kann fest mit den Tilgermassen verbunden sein. Beispielsweise sind die Tilgermassen auf den Draht aufgeklemmt, aufgeschweißt und/oder aufgelötet.According to a further embodiment, the component further comprises a plurality of absorber masses which are threaded onto a wire to form a absorber chain. In the present case, a “wire” is understood to mean a component that is elastic and also plastically deformable due to its low material thickness. The wire can have any cross section. The wire can be circular or rectangular in cross section. The wire can be made, for example, from a steel alloy or an aluminum alloy. High-strength steel alloys can also be used for the wire. The wire can be flexible. The wire can also be braided. In particular, the wire can also be a string. The absorber masses are preferably cylindrical and each have a central hole through which the wire is passed. The absorber masses are arranged at a distance from one another along the wire. The wire can be firmly connected to the absorber masses. For example, the absorber masses are clamped, welded and/or soldered onto the wire.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die Tilgerkette mehrere auf den Draht aufgefädelte Abstandshalter auf, wobei die Tilgermassen und die Abstandshalter abwechselnd angeordnet sind.According to a further embodiment, the absorber chain has a plurality of spacers threaded onto the wire, with the absorber masses and the spacers being arranged alternately.

Das heißt insbesondere, dass zwischen zwei Tilgermassen ein Abstandshalter und zwischen zwei Abstandshaltern eine Tilgermasse angeordnet ist. Die Abstandshalter sind vorzugsweise scheibenförmig. Die Abstandshalter weisen im Vergleich zu den Tilgermassen vorzugsweise einen größeren Durchmesser auf. Die Abstandshalter können fest mit der Innenwandung des Hohlraums verbunden sein. Beispielsweise sind diese mit der Innenwandung verschweißt oder verlötet. Die Abstandshalter können auch derart ausgebildet sein, dass diese die Tilgermassen zumindest abschnittsweise in sich aufnehmen können.This means in particular that a spacer is arranged between two absorber masses and an absorber mass is arranged between two spacers. The spacers are preferably disc-shaped. The spacers preferably have a larger diameter compared to the absorber masses. The spacers can be firmly connected to the inner wall of the cavity. For example, these are welded or soldered to the inner wall. The spacers can also be designed in such a way that they can accommodate the absorber masses at least in sections.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist an der Tilgermasse ein Dämpfungselement und/oder ein Federelement angebracht, das sich an dem Grundkörper abstützt.According to a further embodiment, a damping element and/or a spring element is attached to the absorber mass and is supported on the base body.

Insbesondere stützt sich das Dämpfungselement und/oder das Federelement an der Innenwandung des Hohlraums ab. Jeder Tilgermasse können mehrere Dämpfungselemente und/oder mehrere Federelemente zugeordnet sein. Alternativ können die Dämpfungselemente auch zwischen den Tilgermassen angeordnet sein. In diesem Fall sind mehrere Tilgermassen vorgesehen, welche eine wie zuvor erwähnte Tilgerkette bilden.In particular, the damping element and/or the spring element is supported on the inner wall of the cavity. Each absorber mass can be assigned several damping elements and/or several spring elements. Alternatively, the damping elements can also be arranged between the absorber masses. In this case, several absorber masses are provided, which form an absorber chain as mentioned above.

Ferner wird eine Projektionsbelichtungsanlage mit zumindest einem derartigen Bauteil vorgeschlagen.Furthermore, a projection exposure system with at least one such component is proposed.

Die Projektionsbelichtungsanlage kann mehrere derartige Bauteile umfassen. Beispielsweise kann das Bauteil eine wie zuvor erwähnte Tragplatte eines Facettenspiegels der Projektionsbelichtungsanlage sein. Das Bauteil kann jedoch grundsätzlich ein beliebiges Maschinenelement, wie beispielsweise eine Feder, ein Lager oder dergleichen, sein. Die Projektionsbelichtungsanlage kann eine EUV-Lithographieanlage sein. EUV steht für „Extreme Ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Die Projektionsbelichtungsanlage kann auch eine DUV-Lithographieanlage sein. DUV steht für „Deep Ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm.The projection exposure system can include several such components. For example, the component can be a support plate of a facet mirror of the projection exposure system, as mentioned above. However, the component can in principle be any machine element, such as a spring, a bearing or the like. The projection exposure system can be an EUV lithography system. EUV stands for “Extreme Ultraviolet” and describes a wavelength of working light between 0.1 nm and 30 nm. The projection exposure system can also be a DUV lithography system. DUV stands for “Deep Ultraviolet” and describes a wavelength of work light between 30 nm and 250 nm.

„Ein“ ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.In the present case, “on” is not necessarily to be understood as limiting it to exactly one element. Rather, several elements, such as two, three or more, can also be provided. Any other counting word used here should not be understood to mean that there is a limitation to exactly the number of elements mentioned. Rather, numerical deviations upwards and downwards are possible, unless otherwise stated.

Die für das Bauteil beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für die vorgeschlagene Projektionsbelichtungsanlage entsprechend und umgekehrt.The embodiments and features described for the component apply accordingly to the proposed projection exposure system and vice versa.

Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.Further possible implementations of the invention also include combinations of features or embodiments described above or below with regard to the exemplary embodiments that are not explicitly mentioned. The person skilled in the art will also add individual aspects as improvements or additions to the respective basic form of the invention.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.

  • 1 zeigt einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithographie;
  • 2 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 3 zeigt die Detailansicht III gemäß 2;
  • 4 zeigt erneut die Detailansicht III gemäß 2;
  • 5 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 6 zeigt eine weitere schematische Ansicht des Bauteils gemäß 5;
  • 7 zeigt eine schematische Schnittansicht des Bauteils gemäß der Schnittlinie VII-VII der 5;
  • 8 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils gemäß der Schnittlinie VII-VII der 5;
  • 9 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils gemäß der Schnittlinie VII-VII der 5;
  • 10 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils gemäß der Schnittlinie VII-VII der 5;
  • 11 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 12 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 13 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils gemäß 12;
  • 14 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils gemäß 12;
  • 15 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 16 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils gemäß der Schnittlinie XVI-XVI der 15;
  • 17 zeigt eine stark schematisierte Ansicht des Bauteils gemäß 15;
  • 18 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 19 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 20 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 21 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 22 zeigt die Detailansicht XXII gemäß 21;
  • 23 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 24 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 25 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 26 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 27 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 28 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils gemäß der Schnittlinie XXVIII-XXVIII der 15;
  • 29 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 30 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 31 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils gemäß der Schnittlinie XXXI-XXXI der 30;
  • 32 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 33 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils gemäß der Schnittlinie XXXIII-XXXIII der 32;
  • 34 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 35 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils gemäß der Schnittlinie XXXV-XXXV der 34;
  • 36 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 37 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils gemäß der Schnittlinie XXXVII-XXXVII der 36;
  • 38 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils gemäß der Schnittlinie XXXVII-XXXVII der 36;
  • 39 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 40 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1;
  • 41 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils für die Projektionsbelichtungsanlage gemäß 1; und
  • 42 zeigt eine schematische Detailschnittansicht einer Ausführungsform einer Messmaschine.
Further advantageous refinements and aspects of the invention are the subject of the subclaims and the exemplary embodiments of the invention described below. The invention is further explained in more detail using preferred embodiments with reference to the accompanying figures.
  • 1 shows a schematic meridional section of a projection exposure system for EUV projection lithography;
  • 2 shows a schematic sectional view of an embodiment of a component for the projection exposure system according to 1 ;
  • 3 shows the detailed view III according to 2 ;
  • 4 again shows the detailed view III according to 2 ;
  • 5 shows a schematic view of a further embodiment of a component for the projection exposure system according to 1 ;
  • 6 shows another schematic view of the component according to 5 ;
  • 7 shows a schematic sectional view of the component according to section line VII-VII of 5 ;
  • 8th shows a further schematic sectional view of the component along section line VII-VII of 5 ;
  • 9 shows a further schematic sectional view of the component along section line VII-VII of 5 ;
  • 10 shows a further schematic sectional view of the component along section line VII-VII of 5 ;
  • 11 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 12 shows a schematic sectional view of another embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 13 shows a further schematic sectional view of the component according to 12 ;
  • 14 shows a further schematic sectional view of the component according to 12 ;
  • 15 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 16 shows a further schematic sectional view of the component according to section line XVI-XVI of 15 ;
  • 17 shows a highly schematic view of the component according to 15 ;
  • 18 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 19 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 20 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 21 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 22 shows the detailed view XXII according to 21 ;
  • 23 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 24 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 25 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 26 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 27 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 28 shows a further schematic sectional view of the component according to section line XXVIII-XXVIII of 15 ;
  • 29 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 30 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 31 shows a further schematic sectional view of the component according to section line XXXI-XXXI of 30 ;
  • 32 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 33 shows a further schematic sectional view of the component according to section line XXXIII-XXXIII of 32 ;
  • 34 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 35 shows a further schematic sectional view of the component according to section line XXXV-XXXV of 34 ;
  • 36 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 37 shows a further schematic sectional view of the component according to the section line XXXVII-XXXVII of 36 ;
  • 38 shows a further schematic sectional view of the component according to the section line XXXVII-XXXVII of 36 ;
  • 39 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 40 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ;
  • 41 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component for the projection exposure system 1 ; and
  • 42 shows a schematic detailed sectional view of an embodiment of a measuring machine.

In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.In the figures, identical or functionally identical elements have been given the same reference numerals, unless otherwise stated. Furthermore, it should be noted that the representations in the figures are not necessarily to scale.

1 zeigt eine Ausführungsform einer Projektionsbelichtungsanlage 1 (Lithographieanlage), insbesondere einer EUV-Lithographieanlage. Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Licht- beziehungsweise Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssystem 2 separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem 2 die Lichtquelle 3 nicht. 1 shows an embodiment of a projection exposure system 1 (lithography system), in particular an EUV lithography system. One embodiment of a lighting system 2 of the projection exposure system 1 has, in addition to a light or radiation source 3, lighting optics 4 for illuminating an object field 5 in an object plane 6. In an alternative embodiment, the light source 3 can also be provided as a module separate from the other lighting system 2. In this case, the lighting system 2 does not include the light source 3.

Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 9, insbesondere in einer Scanrichtung, verlagerbar.A reticle 7 arranged in the object field 5 is exposed. The reticle 7 is held by a reticle holder 8. The reticle holder 8 can be displaced via a reticle displacement drive 9, in particular in a scanning direction.

In der 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches Koordinatensystem mit einer x-Richtung x, einer y-Richtung y und einer z-Richtung z eingezeichnet. Die x-Richtung x verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung y verläuft horizontal und die z-Richtung z verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der 1 längs der y-Richtung y. Die z-Richtung z verläuft senkrecht zur Objektebene 6.In the 1 For explanation purposes, a Cartesian coordinate system with an x-direction x, a y-direction y and a z-direction z is shown. The x-direction x runs perpendicularly into the drawing plane. The y-direction y is horizontal and the z-direction z is vertical. The scanning direction is in the 1 along the y-direction y. The z direction z runs perpendicular to the object plane 6.

Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.The projection exposure system 1 includes projection optics 10. The projection optics 10 is used to image the object field 5 into an image field 11 in an image plane 12. The image plane 12 runs parallel to the object plane 6. Alternatively, an angle other than 0 ° is also between the object plane 6 and the Image level 12 possible.

Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung y verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.A structure on the reticle 7 is imaged on a light-sensitive layer of a wafer 13 arranged in the area of the image field 11 in the image plane 12. The wafer 13 is held by a wafer holder 14. The wafer holder 14 can be displaced in particular along the y-direction y via a wafer displacement drive 15. The displacement, on the one hand, of the reticle 7 via the reticle displacement drive 9 and, on the other hand, of the wafer 13 via the wafer displacement drive 15 can take place in synchronization with one another.

Bei der Lichtquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Lichtquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 16 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Engl.: Laser Produced Plasma, mit Hilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Engl.: Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Engl.: Free-Electron-Laser, FEL) handeln.The light source 3 is an EUV radiation source. The light source 3 emits in particular EUV radiation 16, which is also referred to below as useful radiation, illumination radiation or illumination light. The useful radiation 16 in particular has a wavelength in the range between 5 nm and 30 nm. The light source 3 can be a plasma source, for example an LPP source (Laser Produced Plasma, plasma generated with the help of a laser) or a DPP source (Gas Discharged Produced Plasma). It can also be a synchrotron-based radiation source. The light source 3 can be a free electron laser (FEL).

Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Lichtquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Engl.: Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.The illumination radiation 16, which emanates from the light source 3, is focused by a collector 17. The collector 17 can be a collector with one or more ellipsoidal and/or hyperboloid reflection surfaces. The at least one reflection surface of the collector 17 can be in grazing incidence (GI), i.e. with angles of incidence greater than 45 °, or in normal incidence (Normal Incidence, NI), i.e. with angles of incidence smaller than 45 ° Illumination radiation 16 is applied. The collector 17 can be structured and/or coated on the one hand to optimize its reflectivity for the useful radiation and on the other hand to suppress false light.

Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Lichtquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.After the collector 17, the illumination radiation 16 propagates through an intermediate focus in an intermediate focus plane 18. The intermediate focus plane 18 can represent a separation between a radiation source module, having the light source 3 and the collector 17, and the illumination optics 4.

Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. The lighting optics 4 comprises a deflection mirror 19 and, downstream of it in the beam path, a first facet mirror 20. The deflection mirror 19 can be a flat deflection mirror or alternatively a mirror with an effect that influences the bundle beyond the pure deflection effect. Alternatively or additionally, the deflection mirror 19 can be designed as a spectral filter which separates a useful light wavelength of the illumination radiation 16 from false light of a wavelength that deviates from this.

Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche auch als Feldfacetten bezeichnet werden können. Von diesen ersten Facetten 21 sind in der 1 nur beispielhaft einige dargestellt.If the first facet mirror 20 is arranged in a plane of the illumination optics 4, which is optically conjugate to the object plane 6 as a field plane, it is also referred to as a field facet mirror. The first facet mirror 20 includes a large number of individual first facets 21, which also can be referred to as field facets. Of these first facets 21 are in the 1 just a few are shown as examples.

Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.The first facets 21 can be designed as macroscopic facets, in particular as rectangular facets or as facets with an arcuate or part-circular edge contour. The first facets 21 can be designed as flat facets or alternatively as convex or concave curved facets.

Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 A1 bekannt ist, können die ersten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.Like, for example, from the DE 10 2008 009 600 A1 is known, the first facets 21 themselves can also each be composed of a large number of individual mirrors, in particular a large number of micromirrors. The first facet mirror 20 can in particular be designed as a microelectromechanical system (MEMS system). For details see the DE 10 2008 009 600 A1 referred.

Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung y.Between the collector 17 and the deflection mirror 19, the illumination radiation 16 runs horizontally, i.e. along the y-direction y.

Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1 , der EP 1 614 008 B1 und der US 6,573,978 .A second facet mirror 22 is located downstream of the first facet mirror 20 in the beam path of the illumination optics 4. If the second facet mirror 22 is arranged in a pupil plane of the illumination optics 4, it is also referred to as a pupil facet mirror. The second facet mirror 22 can also be arranged at a distance from a pupil plane of the lighting optics 4. In this case, the combination of the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22 is also referred to as a specular reflector. Specular reflectors are known from US 2006/0132747 A1 , the EP 1 614 008 B1 and the US 6,573,978 .

Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.The second facet mirror 22 comprises a plurality of second facets 23. In the case of a pupil facet mirror, the second facets 23 are also referred to as pupil facets.

Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 A1 verwiesen.The second facets 23 can also be macroscopic facets, which can have, for example, round, rectangular or even hexagonal edges, or alternatively they can be facets composed of micromirrors. In this regard, reference is also made to the DE 10 2008 009 600 A1 referred.

Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.The second facets 23 can have flat or alternatively convex or concave curved reflection surfaces.

Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Engl.: Fly's Eye Integrator) bezeichnet.The lighting optics 4 thus forms a double faceted system. This basic principle is also known as the honeycomb condenser (Fly's Eye Integrator).

Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der zweite Facettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 10 2017 220 586 A1 beschrieben ist.It may be advantageous not to arrange the second facet mirror 22 exactly in a plane that is optically conjugate to a pupil plane of the projection optics 10. In particular, the second facet mirror 22 can be arranged tilted relative to a pupil plane of the projection optics 10, as is the case, for example, in FIG DE 10 2017 220 586 A1 is described.

Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.With the help of the second facet mirror 22, the individual first facets 21 are imaged into the object field 5. The second facet mirror 22 is the last beam-forming mirror or actually the last mirror for the illumination radiation 16 in the beam path in front of the object field 5.

Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Objektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Grazing Incidence Spiegel) umfassen.In a further embodiment of the illumination optics 4, not shown, transmission optics can be arranged in the beam path between the second facet mirror 22 and the object field 5, which contributes in particular to the imaging of the first facets 21 into the object field 5. The transmission optics can have exactly one mirror, but alternatively also two or more mirrors, which are arranged one behind the other in the beam path of the lighting optics 4. The transmission optics can in particular include one or two mirrors for perpendicular incidence (NI mirror, normal incidence mirror) and/or one or two mirrors for grazing incidence (GI mirror, grazing incidence mirror).

Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.The lighting optics 4 has the version in the 1 is shown, after the collector 17 exactly three mirrors, namely the deflection mirror 19, the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.

Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.In a further embodiment of the lighting optics 4, the deflection mirror 19 can also be omitted, so that the lighting optics 4 can then have exactly two mirrors after the collector 17, namely the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.

Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.The imaging of the first facets 21 into the object plane 6 by means of the second facets 23 or with the second facets 23 and a transmission optics is generally only an approximate image.

Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.The projection optics 10 comprises a plurality of mirrors Mi, which are numbered consecutively according to their arrangement in the beam path of the projection exposure system 1.

Bei dem in der 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl von Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.At the one in the 1 In the example shown, the projection optics 10 includes six mirrors M1 to M6. Alternatives with four, eight, ten, twelve or another number of mirrors Mi are also possible. The projection optics 10 is a double obscured optics. The penultimate mirror M5 and the last mirror M6 each have a passage opening for the illumination radiation 16. The projection optics 10 has an image-side numerical aperture that is larger than 0.5 and which can also be larger than 0.6 and, for example, 0.7 or can be 0.75.

Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hochreflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.Reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as free-form surfaces without an axis of rotational symmetry. Alternatively, the reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as aspherical surfaces with exactly one axis of rotational symmetry of the reflection surface shape. The mirrors Mi, like the mirrors of the lighting optics 4, can have highly reflective coatings for the lighting radiation 16. These coatings can be designed as multilayer coatings, in particular with alternating layers of molybdenum and silicon.

Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung y zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung y kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12.The projection optics 10 has a large object image offset in the y direction y between a y coordinate of a center of the object field 5 and a y coordinate of the center of the image field 11. This object image offset in the y direction y can be in be approximately as large as a z-distance between the object plane 6 and the image plane 12.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, βy in x- und y- Richtung x, y auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (βx, βy) = (+/- 0,25, /+- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab 6 bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab 6 bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.The projection optics 10 can in particular be anamorphic. In particular, it has different imaging scales βx, βy in the x and y directions x, y. The two imaging scales βx, βy of the projection optics 10 are preferably (βx, βy) = (+/- 0.25, /+- 0.125). A positive magnification 6 means an image without image reversal. A negative sign for the image scale 6 means an image with image reversal.

Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung x, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1.The projection optics 10 thus leads to a reduction in size in the x direction x, that is to say in the direction perpendicular to the scanning direction, in a ratio of 4:1.

Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung y, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1.The projection optics 10 leads to a reduction of 8:1 in the y direction y, that is to say in the scanning direction.

Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung x, y, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.Other image scales are also possible. Image scales of the same sign and absolutely the same in the x and y directions x, y, for example with absolute values of 0.125 or 0.25, are also possible.

Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung x, y im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung x, y sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1 .The number of intermediate image planes in the x and y directions x, y in the beam path between the object field 5 and the image field 11 can be the same or, depending on the design of the projection optics 10, can be different. Examples of projection optics with different numbers of such intermediate images in the x and y directions x, y are known from US 2018/0074303 A1 .

Jeweils eine der zweiten Facetten 23 ist genau einer der ersten Facetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der ersten Facetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die ersten Facetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten zweiten Facetten 23.One of the second facets 23 is assigned to exactly one of the first facets 21 to form an illumination channel for illuminating the object field 5. This can in particular result in lighting based on Köhler's principle. The far field is broken down into a large number of object fields 5 using the first facets 21. The first facets 21 generate a plurality of images of the intermediate focus on the second facets 23 assigned to them.

Die ersten Facetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten zweiten Facette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.The first facets 21 are each imaged onto the reticle 7 by an assigned second facet 23, superimposed on one another, in order to illuminate the object field 5. The illumination of the object field 5 is in particular as homogeneous as possible. It preferably has a uniformity error of less than 2%. Field uniformity can be achieved by overlaying different lighting channels.

Durch eine Anordnung der zweiten Facetten 23 kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der zweiten Facetten 23, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting oder Beleuchtungspupillenfüllung bezeichnet.By arranging the second facets 23, the illumination of the entrance pupil of the projection optics 10 can be geometrically defined. By selecting the illumination channels, in particular the subset of the second facets 23 that guide light, the intensity distribution in the entrance pupil of the projection optics 10 can be adjusted. This intensity distribution is also referred to as the lighting setting or lighting pupil filling.

Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.A likewise preferred pupil uniformity in the area of defined illuminated sections of an illumination pupil of the illumination optics 4 can be achieved by redistributing the illumination channels.

Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrieben.Further aspects and details of the illumination of the object field 5 and in particular the entrance pupil of the projection optics 10 are described below.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.The projection optics 10 can in particular have a homocentric entrance pupil. This can be accessible. It can also be inaccessible.

Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 10, welche das Zentrum des zweiten Facettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.The entrance pupil of the projection optics 10 can be adjusted regularly with the second facet lens gel 22 does not illuminate exactly. When imaging the projection optics 10, which images the center of the second facet mirror 22 telecentrically onto the wafer 13, the aperture rays often do not intersect at a single point. However, an area can be found in which the pairwise distance of the aperture beams becomes minimal. This surface represents the entrance pupil or a surface conjugate to it in local space. In particular, this surface shows a finite curvature.

Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. It may be that the projection optics have 10 different positions of the entrance pupil for the tangential and sagittal beam paths.

In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.In this case, an imaging element, in particular an optical component of the transmission optics, should be provided between the second facet mirror 22 and the reticle 7. With the help of this optical element, the different positions of the tangential entrance pupil and the sagittal entrance pupil can be taken into account.

Bei der in der 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 4 ist der zweite Facettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 definiert ist. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist.At the in the 1 As shown in the arrangement of the components of the illumination optics 4, the second facet mirror 22 is arranged in a surface conjugate to the entrance pupil of the projection optics 10. The first facet mirror 20 is tilted relative to the object plane 6. The first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane that is defined by the deflection mirror 19. The first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane that is defined by the second facet mirror 22.

2 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform eines Bauteils 100A für eine wie zuvor erwähnte Projektionsbelichtungsanlage 1. 3 und 4 zeigen jeweils die Detailansicht III gemäß der 2. Nachfolgend wird auf die 2 bis 4 gleichzeitig Bezug genommen. 2 shows a schematic sectional view of an embodiment of a component 100A for a projection exposure system 1 as mentioned above. 3 and 4 show the detailed view III according to the 2 . Below we will refer to the 2 until 4 referred to at the same time.

Das Bauteil 100A ist eine Feder, insbesondere eine Zylinderfeder. Das Bauteil 100A kann daher auch als federndes Bauteil oder Feder bezeichnet werden. Das Bauteil 100A umfasst einen Grundkörper 102, der vorliegend rohrförmig ist. Der Grundkörper 102 kann ein schraubenförmig oder spiralförmig gebogenes Rohr sein. Der Grundkörper 102 umschließt einen Hohlraum 104. Eine Innenwandung 106 des Grundkörpers 102 ist dem Hohlraum 104 zugewandt. Die Innenwandung 106 wird nachfolgend als Innenwandung des Hohlraums 104 bezeichnet. Eine Außenwandung 108 des Grundkörpers 102 ist dem Hohlraum 104 abgewandt.The component 100A is a spring, in particular a cylinder spring. The component 100A can therefore also be referred to as a resilient component or spring. The component 100A comprises a base body 102, which in the present case is tubular. The base body 102 can be a helically or spirally bent tube. The base body 102 encloses a cavity 104. An inner wall 106 of the base body 102 faces the cavity 104. The inner wall 106 is referred to below as the inner wall of the cavity 104. An outer wall 108 of the base body 102 faces away from the cavity 104.

Der Hohlraum 104 ist zumindest teilweise mit einem Dämpfungsmaterial 110 gefüllt. Der Hohlraum 104 kann vollständig oder zumindest teilweise mit dem Dämpfungsmaterial 110 gefüllt sein. Der Grundkörper 102 umschließt oder umkapselt das Dämpfungsmaterial 110. Zum Einfüllen des Dämpfungsmaterials 110 in den Hohlraum 104 können eine, zwei oder mehrere Öffnungen in dem Grundkörper 102 vorgesehen sein, die einen Zugang zu dem Hohlraum 104 ermöglichen. In dem Dämpfungsmaterial 110 kann eine Tilgermasse (nicht gezeigt) eingebettet sein, auf die nachfolgend noch im Detail eingegangen wird.The cavity 104 is at least partially filled with a damping material 110. The cavity 104 can be completely or at least partially filled with the damping material 110. The base body 102 encloses or encapsulates the damping material 110. To fill the damping material 110 into the cavity 104, one, two or more openings can be provided in the base body 102, which enable access to the cavity 104. An absorber mass (not shown) can be embedded in the damping material 110, which will be discussed in detail below.

Vorliegend kann der Grundkörper 102 aus einem biegsamen Rohr gewickelt und vor oder nach dem Wickeln mit dem Dämpfungsmaterial 110 befüllt werden. Beispielsweise kann das Dämpfungsmaterial 110 in den Hohlraum 104 eingespritzt oder eingegossen werden. Der Grundkörper 102 kann das Dämpfungsmaterial 110 derart umschließen, dass dieses gasdicht in dem Grundkörper 102 eingekapselt ist. Hierdurch ist es möglich, für das Dämpfungsmaterial 110 Materialien zu verwenden, die für eine Verwendung unter EUV-Bedingungen aufgrund ihres Ausgasungsverhaltens eher ungeeignet sind.In the present case, the base body 102 can be wound from a flexible tube and filled with the damping material 110 before or after winding. For example, the damping material 110 can be injected or cast into the cavity 104. The base body 102 can enclose the damping material 110 in such a way that it is encapsulated in a gas-tight manner in the base body 102. This makes it possible to use materials for the damping material 110 that are rather unsuitable for use under EUV conditions due to their outgassing behavior.

Als Dämpfungsmaterial 110 können grundsätzlich thermoplastische Polymere, wie beispielsweise Polystyrole oder Polyvinylchloride, Gummi-Werkstoffe, Polyisoprene, Phenolharze, Melamine, Epoxidharze oder andere Klebstoffe oder dergleichen verwendet werden. Falls die zu dämpfenden Relativbewegungen sehr gering sind, ist es möglich, niedrigviskose Polymere oder Flüssigkeiten für das Dämpfungsmaterial 110 zu verwenden. Aufgrund der vielfältigen Kapselungsmöglichkeiten kommen auch Öle oder andere Flüssigkeiten für das Dämpfungsmaterial 110 in Frage. Ferner können für das Dämpfungsmaterial 110 auch beliebige Pulver, insbesondere metallische, keramische, oder auf Kunststoffen basierende Pulver, Sande oder andere Schüttgüter eingesetzt werden.In principle, thermoplastic polymers such as polystyrenes or polyvinyl chlorides, rubber materials, polyisoprenes, phenolic resins, melamines, epoxy resins or other adhesives or the like can be used as the damping material 110. If the relative movements to be damped are very small, it is possible to use low-viscosity polymers or liquids for the damping material 110. Due to the diverse encapsulation options, oils or other liquids can also be used for the damping material 110. Furthermore, any powders, in particular metallic, ceramic, or plastic-based powders, sands or other bulk materials, can also be used for the damping material 110.

Im Zusammenspiel mit einer generativen oder additiven Fertigung des Grundkörpers 102 kann das Dämpfungsmaterial 110 in Form eines pulverförmigen Werkstoffs auch von dem Hohlraum 104 komplett umschlossen sein. Der Grundkörper 102 wird in diesem Fall schichtweise aus dem pulverförmigen Werkstoff um den Hohlraum 104 herum aufgebaut. Innerhalb des Hohlraums 104 wird der pulverförmige Werkstoff jedoch nicht aufgeschmolzen oder versintert, sondern verbleibt pulverförmig. Für den Fall, dass ein Pulver als Dämpfungsmaterial 110 fungiert, ist es vorteilhaft, wenn das Dämpfungsmaterial 110 den Hohlraum 104 nicht vollständig ausfüllt, so dass eine Bewegung des Pulvers innerhalb des Hohlraums 104 möglich ist.In conjunction with generative or additive manufacturing of the base body 102, the damping material 110 can also be completely enclosed by the cavity 104 in the form of a powdery material. In this case, the base body 102 is built up in layers from the powdery material around the cavity 104. However, within the cavity 104, the powdery material is not melted or sintered, but remains in powder form. In the event that a powder functions as a damping material 110, it is advantageous if the damping material 110 does not completely fill the cavity 104, so that movement of the powder within the cavity 104 is possible.

Die Verwendbarkeit von Polymeren im Vakuum ist grundsätzlich von deren Oberflächen im Vakuum abhängig. Beispielsweise können großflächige Klebungen mit einem wenig ausgasenden Polymer insgesamt schlechter für die Vakuumqualität sein als kleinflächige Klebungen mit einem Polymer mit einer relativ hohen Ausgasrate. Bei der Verwendung eines derartigen Polymers als Dämpfungsmaterial 110 ist es aufgrund der Kapselung des Polymers in dem Hohlraum 104 des Grundkörpers 102 möglich, eine größere Vielfalt an Polymeren mit guten dämpfenden Eigenschaften zu verwenden, als es möglich wäre, wenn aus diesem Polymer gefertigte dämpfenden Elemente an der Außenwandung 108 des Grundkörpers 102 angeordnet wären.The usability of polymers in a vacuum basically depends on their surfaces in a vacuum. For example, large-area bonds with a low-outgassing polymer can be worse overall for vacuum quality than small-area bonds with a polymer with a relatively high outgassing rate. When using such a polymer as damping material 110, due to the encapsulation of the polymer in the cavity 104 of the base body 102, it is possible to use a greater variety of polymers with good damping properties than would be possible if damping elements made from this polymer the outer wall 108 of the base body 102 would be arranged.

Zudem ist es möglich, vorhandene Befüllöffnungen zum Befüllen des Hohlraums 104 zu verschließen, um die Ausgasrate des Dämpfungsmaterials 110 zu reduzieren. Das Verschließen der Befüllöffnungen kann beispielsweise mit Hilfe eines Verpressens, insbesondere bei Rohren, Drähten oder Blattfedern, Verschraubens, Verschweißens, Verklebens von Stopfen oder dergleichen erfolgen.It is also possible to close existing filling openings for filling the cavity 104 in order to reduce the outgassing rate of the damping material 110. The filling openings can be closed, for example, by pressing, especially with pipes, wires or leaf springs, screwing, welding, gluing plugs or the like.

5 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100B. 6 zeigt eine weitere schematische Ansicht des Bauteils 100B. 5 shows a schematic view of another embodiment of a component 100B. 6 shows another schematic view of component 100B.

7 bis 10 zeigen jeweils eine schematische Schnittansicht des Bauteils 100B gemäß der Schnittlinie VII-VII der 5. Nachfolgend wird auf die 5 bis 10 gleichzeitig Bezug genommen. 7 until 10 each show a schematic sectional view of the component 100B according to section line VII-VII of the 5 . Below we will refer to the 5 until 10 referred to at the same time.

Das Bauteil 100B umfasst einen wie zuvor erwähnten Grundkörper 102, der nun allerdings als Blattfeder ausgebildet ist. Der Grundkörper 102 kann an einer festen Welt 112 eingespannt sein. Der Grundkörper 102 koppelt ein weiteres Bauteil 114 mit der festen Welt. Das Bauteil 114 kann beispielsweise einer der Spiegel 19, 20, 22, M1 bis M6 sein. Das Bauteil 114 ist mit Hilfe des Bauteils 100B an der festen Welt 112 gelagert.The component 100B includes a base body 102 as mentioned above, which is now designed as a leaf spring. The base body 102 can be clamped to a fixed world 112. The base body 102 couples another component 114 to the solid world. The component 114 can be, for example, one of the mirrors 19, 20, 22, M1 to M6. The component 114 is mounted on the fixed world 112 with the help of the component 100B.

Wie die 5 und 6 zeigen, kann der Grundkörper 102 ausgelenkt oder verformt werden. Hierbei wird der Grundkörper 102 mit Hilfe eines elastischen Verformens desselben von einem unausgelenkten Zustand Z 1 in einen ausgelenkten Zustand Z2 verbracht. Die Verformung erfolgt mit Hilfe eines Aufbringens einer Kraft F. Die Kraft F kann auf das Bauteil 114 aufgebracht werden. Sobald die Kraft F nicht mehr wirkt, verformt sich das Bauteil 100B selbstständig von dem ausgelenkten Zustand Z2 zurück in den unausgelenkten Zustand Z 1.As the 5 and 6 show, the base body 102 can be deflected or deformed. Here, the base body 102 is brought from an undeflected state Z1 into a deflected state Z2 with the aid of an elastic deformation thereof. The deformation occurs with the help of applying a force F. The force F can be applied to the component 114. As soon as the force F is no longer effective, the component 100B automatically deforms from the deflected state Z2 back to the undeflected state Z1.

Wie die 7 zeigt, weist der Grundkörper 102 einen Hohlraum 104 auf, der mit einem wie zuvor erwähnten Dämpfungsmaterial 110 (nicht gezeigt) gefüllt ist. Der Hohlraum 104 kann eine langesteckte rechteckförmige Geometrie aufweisen. Ferner können, wie in der 8 gezeigt, auch mehrere nebeneinander angeordnete Hohlräume 104 vorgesehen sein, von denen nur einer mit einem Bezugszeichen versehen ist. Die Hohlräume 104 können miteinander verbunden oder voneinander getrennt sein.As the 7 shows, the base body 102 has a cavity 104 which is filled with a damping material 110 (not shown) as mentioned above. The cavity 104 may have an elongated rectangular geometry. Furthermore, as in the 8th shown, several cavities 104 arranged next to one another can also be provided, only one of which is provided with a reference number. The cavities 104 can be connected to one another or separate from one another.

Alternativ können auch mehrere übereinander platzierte Hohlräume 104 vorgesehen sein, wie dies in der 9 gezeigt ist. Ferner ist es auch möglich, eine Vielzahl nebeneinander und übereinander angeordneter Hohlräume 104 vorzusehen (10).Alternatively, several cavities 104 placed one above the other can also be provided, as shown in FIG 9 is shown. Furthermore, it is also possible to provide a large number of cavities 104 arranged next to one another and one above the other ( 10 ).

Die Hohlräume 104 können insbesondere mit Hilfe abtragender Verfahren, wie beispielsweise Fräsen, hergestellt werden. Ferner ist es auch möglich, den Grundkörper 102 aus Einzelteilen und durch ein Fügen mehrerer dünner Unterbauteile herzustellen. Das Fügen dieser Unterbauteile kann durch Schweißen, Löten oder Kleben erfolgen. Gegebenenfalls können die Unterbauteile auch mit Hilfe des Dämpfungsmaterials 110 miteinander verklebt werden.The cavities 104 can be produced in particular using abrasive processes, such as milling. Furthermore, it is also possible to produce the base body 102 from individual parts and by joining several thin sub-components. These sub-components can be joined by welding, soldering or gluing. If necessary, the sub-components can also be glued together using the damping material 110.

Die elastischen Eigenschaften des Grundkörpers 102 ändern sich durch den Hohlraum 104 oder die Hohlräume 104 nur in geringem Maße, wenn der Hohlraum 104 oder die Hohlräume 104 mit einer ausreichenden Stützstruktur (nicht gezeigt), insbesondere in der Form einer Fachwerkstruktur, versehen sind. Die Stützstruktur kann für den Fall, dass der Grundkörper 102 mit Hilfe eines additiven Fertigungsverfahrens hergestellt wird, direkt bei der Herstellung des Grundkörpers 102 in den Hohlraum 104 eingebracht werden.The elastic properties of the base body 102 change only to a small extent due to the cavity 104 or the cavities 104 if the cavity 104 or the cavities 104 are provided with a sufficient support structure (not shown), in particular in the form of a truss structure. If the base body 102 is produced using an additive manufacturing process, the support structure can be introduced into the cavity 104 directly during the production of the base body 102.

Grundsätzlich weist der Grundkörper 102 ein ausgeprägtes elastisches Verhalten auf. Als Materialen für den Grundkörper 102 kommen Metalle und Metalllegierungen aller Art, wie beispielsweise Edelstahl, Aluminium, Kupfer, Titan oder dergleichen, in Betracht. Ferner ist es grundsätzlich auch möglich, Kunststoffe oder Keramiken für den Grundkörper 102 einzusetzen.Basically, the base body 102 has a pronounced elastic behavior. Metals and metal alloys of all kinds, such as stainless steel, aluminum, copper, titanium or the like, can be considered as materials for the base body 102. Furthermore, it is also possible in principle to use plastics or ceramics for the base body 102.

Als Herstellungsverfahren für den Grundkörper 102 eignen sich, wie zuvor erwähnt, insbesondere additive oder generative Fertigungsmöglichkeiten, die zur Herstellung von Grundkörpern 102 mit Hohlräumen 104, die dann mit dem Dämpfungsmaterial 110 gefüllt werden, einen fast unbegrenzten Lösungsraum bieten. Ein Beispiel für ein additives oder generatives Fertigungsverfahren ist der sogenannte 3D-Druck. Der Grundkörper 102 kann schichtweise oder lagenweise aus einem Pulverbett aufgebaut werden.As previously mentioned, additive or generative manufacturing options are particularly suitable as manufacturing methods for the base body 102, which offer an almost unlimited solution space for producing base bodies 102 with cavities 104, which are then filled with the damping material 110. An example of an additive or generative manufacturing process is so-called 3D printing. The base body 102 can be constructed in layers or layers from a powder bed.

Für den Fall, dass der Grundkörper 102 aus einem metallischen Werkstoff hergestellt wird, kann als Fertigungsverfahren beispielsweise das selektive Laserschmelzen (Engl.: Selective Laser Melting, SLM) eingesetzt werden. Für den Fall, dass der Grundkörper 102 aus einem Kunststoffmaterial hergestellt wird, kann als Fertigungsverfahren beispielsweise das selektive Lasersintern (Engl.: Selective Laser Sintering, SLS) eingesetzt werden.In the event that the base body 102 is made from a metallic material, selective laser melting (SLM), for example, can be used as a manufacturing method. In the event that the base body 102 is made from a plastic material, selective laser sintering (SLS), for example, can be used as a manufacturing method.

Durch die Möglichkeiten, dreidimensionale Fachwerkstrukturen innerhalb des Hohlraums 104 erzeugen zu können, ist es möglich, Grundkörper 102 zu gestalten, die sich in ihren statischen Eigenschaften nur minimal von einem massiven Bauteil unterscheiden, wohingegen das Gewicht und vor allem die dämpfenden Eigenschaften deutlich vorteilhafter sind. Alternativ kann der Grundkörper 102 mit Bohrungen versehen werden, die im Anschluss mit dem Dämpfungsmaterial 110 gefüllt werden können. In dem Dämpfungsmaterial 110 kann eine Tilgermasse (nicht gezeigt) eingebettet sein, auf die nachfolgend noch im Detail eingegangen wird.Due to the possibilities of being able to create three-dimensional truss structures within the cavity 104, it is possible to design base bodies 102 whose static properties differ only minimally from a solid component, whereas the weight and, above all, the damping properties are significantly more advantageous. Alternatively, the base body 102 can be provided with holes that can then be filled with the damping material 110. An absorber mass (not shown) can be embedded in the damping material 110, which will be discussed in detail below.

11 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100C. Das Bauteil 100C ist ein Lager, insbesondere ein Wälzlager. Das Bauteil 100C umfasst einen ersten Grundkörper 102A und einen zweiten Grundkörper 102B. Der erste Grundkörper 102A ist ein Innenring des Bauteils 100C. Der zweite Grundkörper 102B ist ein Außenring des Bauteils 100C. Der zweite Grundkörper 102B ist bezüglich des ersten Grundkörpers 102A um eine Drehachse 116 verdrehbar. 11 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100C. The component 100C is a bearing, in particular a rolling bearing. The component 100C includes a first base body 102A and a second base body 102B. The first base body 102A is an inner ring of the component 100C. The second base body 102B is an outer ring of the component 100C. The second base body 102B can be rotated about an axis of rotation 116 with respect to the first base body 102A.

Zwischen dem ersten Grundkörper 102A und dem zweiten Grundkörper 102B sind mehrere Wälzkörper 118, insbesondere Kugeln, platziert. Jeder Grundkörper 102A, 102B weist einen wie zuvor erläuterten Hohlraum 104 auf, der zumindest teilweise mit einem wie zuvor erwähnten Dämpfungsmaterial 110 gefüllt ist. Innerhalb des jeweiligen Hohlraums 104 kann auch eine wie zuvor erwähnte Tilgermasse (nicht gezeigt) platziert werden.Several rolling bodies 118, in particular balls, are placed between the first base body 102A and the second base body 102B. Each base body 102A, 102B has a cavity 104 as explained above, which is at least partially filled with a damping material 110 as mentioned above. An absorber mass (not shown) as mentioned above can also be placed within the respective cavity 104.

Das Bauteil 100C kann nicht nur als Wälzlager ausgebildet sein. Grundsätzlich kann das Bauteil 100C jedes beliebige Maschinenelement sein. Beispielsweise kann das Bauteil 100C ein Gleitlager, ein Zahnrad, eine Kupplung, eine Nabe, eine Nocke, ein Riementrieb oder dergleichen sein. Insbesondere kann das Bauteil 100C, beispielsweise mit Hilfe generativer oder additiver Fertigungsmethoden, mit einem geeigneten Hohlraum 104 ausgestaltet werden, der die statische Steifigkeit nur gering reduziert und im Gegenzug durch die Füllung mit dem Dämpfungsmaterial 110 in das Bauteil 100C eingeleitete oder auf dieses übertragenen Schwingungen optimal dämpft. In dem Dämpfungsmaterial 110 kann eine Tilgermasse (nicht gezeigt) eingebettet sein, auf die nachfolgend noch im Detail eingegangen wird.The component 100C cannot only be designed as a rolling bearing. In principle, the component 100C can be any machine element. For example, the component 100C may be a plain bearing, a gear, a clutch, a hub, a cam, a belt drive, or the like. In particular, the component 100C can be designed, for example with the aid of generative or additive manufacturing methods, with a suitable cavity 104, which only slightly reduces the static rigidity and, in return, optimally oscillations introduced into or transmitted to the component 100C by the filling with the damping material 110 dampens. An absorber mass (not shown) can be embedded in the damping material 110, which will be discussed in detail below.

Im Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage 1 werden Schwingungen in diese eingekoppelt. Die Schwingungen können beispielsweise aus der Durchleitung von Kühlwasser durch Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage 1 resultieren. Auch durch Bodenschwingungen oder durch den Retikelverlagerungsantrieb 9 können Schwingungen in die Projektionsbelichtungsanlage 1 eingebracht werden.During operation of the projection exposure system 1, vibrations are coupled into it. The vibrations can, for example, result from the passage of cooling water through components of the projection exposure system 1. Vibrations can also be introduced into the projection exposure system 1 by ground vibrations or by the reticle displacement drive 9.

Insbesondere die Facettenspiegel 20, 22 der Beleuchtungsoptik 4 bilden ein System mit vielen Massen in Form der Facetten 21, 23 und Kopplungselementen, beispielsweise in der Form von Federn, das mit einer bestimmten Frequenz schwingt. Aufgrund der unterschiedlichen Massen und Kopplungselemente werden an Schnittstellen eingebrachte Schwingungen verändert, so dass die Facetten 21, 23 mit einer bestimmten Amplitude schwingen, die für die optische Performance der Beleuchtungsoptik 4 einen bestimmten Wert nicht überschreiten dürfen. Die Einfügung von Dämpfungselementen zwischen sich bewegenden Massen ist grundsätzlich ein gutes Konzept, um diese Schwingungen zu dämpfen, dessen Realisierung jedoch oft aufwändig ist.In particular, the facet mirrors 20, 22 of the lighting optics 4 form a system with many masses in the form of the facets 21, 23 and coupling elements, for example in the form of springs, which oscillates at a certain frequency. Due to the different masses and coupling elements, vibrations introduced at interfaces are changed so that the facets 21, 23 oscillate with a certain amplitude, which must not exceed a certain value for the optical performance of the lighting optics 4. The insertion of damping elements between moving masses is generally a good concept to dampen these vibrations, but its implementation is often complex.

12 bis 14 zeigen schematische Schnittansichten einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100D. In diesem Fall ist das Bauteil 100D eine Tragplatte (Engl.: Pre Assembly Frame, PAF) des Facettenspiegels 20. An dem Bauteil 100D sind die ersten Facetten 21 verschwenkbar gelagert. Bei dem Bauteil 100D kann es sich jedoch auch um eine Tragplatte des Facettenspiegels 22 handeln. Alternativ kann das Bauteil 100D auch ein direkt gekühlter Spiegel sein, der in der Beleuchtungsoptik 4 oder in der Projektionsoptik 10 der Projektionsbelichtungsanlage 1 eingesetzt werden kann. 12 until 14 show schematic sectional views of a further embodiment of a component 100D. In this case, the component 100D is a support plate (Pre Assembly Frame, PAF) of the facet mirror 20. The first facets 21 are pivotably mounted on the component 100D. However, the component 100D can also be a support plate of the facet mirror 22. Alternatively, the component 100D can also be a directly cooled mirror that can be used in the illumination optics 4 or in the projection optics 10 of the projection exposure system 1.

Das Bauteil 100D umfasst einen plattenförmigen Grundkörper 102. Beispielsweise ist der Grundkörper 102 eine Stahlplatte oder eine Aluminiumplatte. Als weitere Werkstoffe sind Keramiken oder Kupfer einsetzbar. Der Grundkörper 102 weist eine Vielzahl von Kühlkanälen 120, von denen nur einer mit einem Bezugszeichen versehen ist, auf. Durch die Kühlkanäle 120 wird eine Kühlflüssigkeit, beispielsweise Kühlwasser, geleitet. Grundsätzlich weist der Grundkörper 102 eine endliche Steifigkeit auf, so dass der Grundkörper 102 durch das Einleiten der Kühlflüssigkeit zu Schwingungen (Engl.: Flow Induced Vibrations, FIV), insbesondere zu Biegeschwingungen, angeregt werden kann.The component 100D comprises a plate-shaped base body 102. For example, the base body 102 is a steel plate or an aluminum plate. Ceramics or copper can be used as other materials. The base body 102 has a plurality of cooling channels 120, only one of which is provided with a reference number. A cooling liquid, for example cooling water, is passed through the cooling channels 120. Basically, the base body 102 has a finite rigidity, so that the base body 102 can be excited to oscillations (flow induced vibrations, FIV), in particular to bending oscillations, by introducing the cooling liquid.

Diese Schwingungen können sich einer bestimmten Vergrößerung auf die ersten Facetten 21 übertragen. Daher ist es vorteilhaft, direkt an oder in dem Grundkörper 102 eine Dämpfungsmöglichkeit vorzusehen. Hierzu weist der Grundkörper 102, wie in der 12 gezeigt, einen Hohlraum 104 auf, der mit einem wie zuvor erwähnten Dämpfungsmaterial 110 (nicht gezeigt) gefüllt ist.These vibrations can have a certain magnification on the first facets 21 transferred. It is therefore advantageous to provide a damping option directly on or in the base body 102. For this purpose, the base body 102, as in the 12 shown, a cavity 104 which is filled with a damping material 110 (not shown) as mentioned above.

Wie in der 13 gezeigt, können auch mehrere miteinander verbundene oder voneinander getrennte Hohlräume 104 vorgesehen sein, von denen nur einer mit einem Bezugszeichen versehen ist. Ferner kann in dem Hohlraum 104, wie in der 14 gezeigt ist, zusätzlich zu dem Dämpfungsmaterial 110 eine Stützstruktur 122 vorgesehen sein, welche die Steifigkeit des Grundkörpers 102 erhöht. Die Stützstruktur 122 kann eine Fachwerkstruktur sein oder als fachwerkartig bezeichnet werden.Like in the 13 shown, several interconnected or separate cavities 104 can also be provided, only one of which is provided with a reference number. Furthermore, in the cavity 104, as in the 14 is shown, in addition to the damping material 110, a support structure 122 may be provided, which increases the rigidity of the base body 102. The support structure 122 may be a truss structure or may be referred to as truss-like.

Der Hohlraum 104 beziehungsweise die Hohlräume 104 können durch ein Fügen von Einzelteilen hergestellt werden. Als Fertigungsverfahren kommen Schweißen, Löten, Kleben oder dergleichen zur Anwendung. Besonders bevorzugt sind jedoch generative oder additive Fertigungsmöglichkeiten, die eine enorme Flexibilität in der Gestaltung des Hohlraums 104 beziehungsweise der Hohlräume 104 bieten.The cavity 104 or the cavities 104 can be produced by joining individual parts. Welding, soldering, gluing or the like are used as manufacturing processes. However, generative or additive manufacturing options that offer enormous flexibility in the design of the cavity 104 or the cavities 104 are particularly preferred.

Grundsätzlich ändert das Dämpfungsmaterial 110 bei einer Deformation desselben seine Form. Somit ist es wünschenswert, innerhalb des Hohlraums 104 einen gewissen Bauraum zu schaffen, der zumindest in einem gewissen Temperaturbereich einen Formausgleich des Dämpfungsmaterials 110 ermöglicht. Ein derartiger Formausgleich kann beispielsweise bei einem Befüllen des Hohlraums 104 durch Luft- oder Gasblasen in dem Dämpfungsmaterial 110 realisiert werden.Basically, the damping material 110 changes its shape when it is deformed. It is therefore desirable to create a certain installation space within the cavity 104, which enables the shape of the damping material 110 to be compensated for at least in a certain temperature range. Such a shape compensation can be realized, for example, when filling the cavity 104 by air or gas bubbles in the damping material 110.

Alternativ können dem Dämpfungsmaterial 110 auch ein Füllstoff in Form von Kugeln, insbesondere massive Kugeln, elastisch verformbare Kugeln, Hohlkugeln oder dergleichen, beigemischt sein. Ferner ist es auch möglich, elastische Ausgleichselemente, beispielsweise in der Form von Membranen, in dem umgebenden Grundkörper 102 vorzusehen. Derartige Membranen können durch Außenwandungen oder durch weitere ungefüllte jedoch vollständig umschlossene Hohlräume verwirklicht werden.Alternatively, a filler in the form of spheres, in particular solid spheres, elastically deformable spheres, hollow spheres or the like, can also be added to the damping material 110. Furthermore, it is also possible to provide elastic compensating elements, for example in the form of membranes, in the surrounding base body 102. Such membranes can be realized through outer walls or through other unfilled but completely enclosed cavities.

Grundsätzlich sind die möglichen Amplituden innerhalb des Hohlraum 104 sehr klein. Um dennoch eine ausreichende Dämpfung zu erhalten, kann ein sehr niedrigviskoses Dämpfungsmaterial 110 eingesetzt werden. Alternativ ist es möglich, zusätzliche, gedämpfte Zusatzmassen, sogenannte Mikrotilger, mit derselben Eigenfrequenz wie der Grundkörper 102 einzusetzen.Basically, the possible amplitudes within the cavity 104 are very small. In order to still obtain sufficient damping, a very low-viscosity damping material 110 can be used. Alternatively, it is possible to use additional, damped additional masses, so-called microtilgers, with the same natural frequency as the base body 102.

15 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100E. 16 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils 100E gemäß der Schnittlinie XVI-XVI gemäß der 15. 17 zeigt eine sehr stark schematisierte Ansicht des Bauteils 100E. Nachfolgend wird auf die 15 bis 17 gleichzeitig Bezug genommen. 15 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100E. 16 shows a further schematic sectional view of the component 100E along section line XVI-XVI according to FIG 15 . 17 shows a very schematic view of component 100E. Below we will refer to the 15 until 17 referred to at the same time.

Das Bauteil 100E kann eine wie zuvor erwähnte Tragplatte mit Kühlkanälen 120 (nicht gezeigt) sein. Das Bauteil 100E umfasst einen Grundkörper 102 mit mehreren wie zuvor erwähnten Hohlräume 104, von denen nur einer mit einem Bezugszeichen versehen ist. Jeder Hohlraum 104 wird von einer Innenwandung 106 begrenzt. Jeder Hohlraum 104 ist zumindest teilweise mit einem wie zuvor erwähnten Dämpfungsmaterial 110 (nicht gezeigt) befüllt.The component 100E can be a support plate with cooling channels 120 (not shown) as mentioned above. The component 100E comprises a base body 102 with a plurality of cavities 104 as mentioned above, only one of which is provided with a reference number. Each cavity 104 is delimited by an inner wall 106. Each cavity 104 is at least partially filled with a damping material 110 (not shown) as mentioned above.

In jedem Hohlraum 104 ist ein Tilgerelement oder eine Tilgermasse 124 angeordnet, die mit Hilfe eines Federelements 126 an den Grundkörper 102 angebunden ist. In unterschiedlichen Hohlräumen 104 können unterschiedlich geformte Tilgermassen 124 vorgesehen sein. Die Tilgermassen 124 können sich beispielsweise in ihrer Geometrie und/oder oder ihrem Gewicht voneinander unterscheiden. Auch die Federelemente 126 können sich in ihren Geometrien voneinander unterscheiden. Hierdurch können Federelemente 126 mit unterschiedlichen Steifigkeiten verwirklicht werden. Die Tilgermassen 124 können plattenförmig sein. Die Federelemente 126 sind vorzugsweise Blattfederelemente und können daher auch als solche bezeichnet werden.An absorber element or an absorber mass 124 is arranged in each cavity 104, which is connected to the base body 102 with the aid of a spring element 126. Differently shaped absorber masses 124 can be provided in different cavities 104. The absorber masses 124 can differ from one another, for example, in their geometry and/or their weight. The spring elements 126 can also differ from one another in their geometries. As a result, spring elements 126 with different stiffnesses can be implemented. The absorber masses 124 can be plate-shaped. The spring elements 126 are preferably leaf spring elements and can therefore also be referred to as such.

Nachfolgend wird davon ausgegangen, dass nur eine Tilgermasse 124 und ein Federelement 126 vorgesehen sind. Die Tilgermasse 124, das Federelement 126 und der Grundkörper 102 können ein einstückiges, insbesondere ein materialeinstückiges, Bauteil bilden. „Einstückig“ oder „einteilig“ heißt dabei, dass die Tilgermasse 124, das Federelement 126 und der Grundkörper 102 ein gemeinsames Bauteil bilden und nicht aus unterschiedlichen Unterbauteilen zusammengesetzt sind. „Materialeinstückig“ bedeutet dabei, dass die Tilgermasse 124, das Federelement 126 und der Grundkörper 102 durchgehend aus demselben Material gefertigt sind.It is assumed below that only one absorber mass 124 and one spring element 126 are provided. The absorber mass 124, the spring element 126 and the base body 102 can form a one-piece component, in particular a one-piece material component. “In one piece” or “in one piece” means that the absorber mass 124, the spring element 126 and the base body 102 form a common component and are not composed of different sub-components. “One-piece material” means that the absorber mass 124, the spring element 126 and the base body 102 are made entirely of the same material.

Beispielsweise kann das Bauteil 100E mit Hilfe eines generativen oder additiven Fertigungsverfahrens hergestellt werden. Die Tilgermasse 124 zusammen mit dem Federelement 126 kann somit monolithisch in den additiv gefertigten Grundkörper 102 integriert werden. Die Tilgermasse 124 und das Federelement 126 können in das nicht gezeigte Dämpfungsmaterial 110 eingebettet sein. „Eingebettet“ bedeutet vorliegend, dass die Tilgermasse 124 zumindest teilweise mit dem Dämpfungsmaterial 110 bedeckt ist. Unter „eingebettet“ kann vorliegend jedoch auch verstanden werden, dass das Dämpfungsmaterial 110 die Tilgermasse 124 zumindest kontaktiert. Bevorzugt füllt das Dämpfungsmaterial 110 den Hohlraum 104 nicht vollständig aus, so dass die Tilgermasse 124 eine Bewegung innerhalb des Hohlraums 104 vollziehen kann.For example, the component 100E can be manufactured using a generative or additive manufacturing process. The absorber mass 124 together with the spring element 126 can thus be monolithically integrated into the additively manufactured base body 102. The absorber mass 124 and the spring element 126 can be embedded in the damping material 110, not shown. “Embedded” in the present case means that the absorber mass 124 is at least partially with the damping material 110 is covered. However, in the present case, “embedded” can also be understood to mean that the damping material 110 at least contacts the absorber mass 124. Preferably, the damping material 110 does not completely fill the cavity 104, so that the absorber mass 124 can move within the cavity 104.

Als Dämpfungsmaterial 110 kann ein pulverförmiger Werkstoff oder Ausgangsstoff, beispielsweise ein Metallpulver, fungieren, der zum Aufbau des Grundkörpers 102 mit der integrierten Tilgermasse 124 und dem Federelement 126 verwendet wird. Dieser Ausgangsstoff wird allerdings in den Bereichen des Hohlraums 104, in denen weder die Tilgermasse 124 noch das Federelement 126 vorgesehen sind, nicht aufgeschmolzen oder versintert und fungiert so als pulverförmiges Dämpfungsmaterial 110. Das Dämpfungsmaterial 110 ist somit mit dem pulverförmigen Ausgangsstoff identisch. Ein zusätzlicher Arbeitsschritt des Einfüllens des Dämpfungsmaterials 110 in den Hohlraum 104 ist daher verzichtbar.A powdery material or starting material, for example a metal powder, which is used to build the base body 102 with the integrated absorber mass 124 and the spring element 126, can act as the damping material 110. However, this starting material is not melted or sintered in the areas of the cavity 104 in which neither the absorber mass 124 nor the spring element 126 are provided and thus functions as a powdery damping material 110. The damping material 110 is therefore identical to the powdery starting material. An additional step of filling the damping material 110 into the cavity 104 is therefore unnecessary.

Bei der additiven Fertigung des Bauteils 100E ist es möglich, in der z-Richtung z eine Dicke des Federelements 126 ab etwa 0,1 mm zu erreichen. Vorteilhaft ist es, wenn an der Tilgermasse 124 und/oder an dem Grundkörper 102 Aufbauschrägen 128, 130, 132, 134 hin zu dem Federelement 126 vorgesehen werden. Die Aufbauschrägen 128, 130, 132, 134 können eine Neigung von beispielsweise mindestens 45° in beiden, zu einer Aufbaurichtung oder Aufwachsrichtung 136, die entlang der x-Richtung x orientiert ist, senkrechten Richtungen, vorliegend die y-Richtung y und die z-Richtung z, aufweisen. Es wird damit ein Überhang geschaffen. Es kann jedoch grundsätzlich ein beliebiger, von 45° abweichender Winkel für die Aufbauschrägen 128, 130, 132, 134 gewählt werden.When additively manufacturing the component 100E, it is possible to achieve a thickness of the spring element 126 starting from approximately 0.1 mm in the z direction. It is advantageous if construction slopes 128, 130, 132, 134 towards the spring element 126 are provided on the absorber mass 124 and/or on the base body 102. The construction slopes 128, 130, 132, 134 can have an inclination of, for example, at least 45 ° in both directions perpendicular to a construction direction or growth direction 136, which is oriented along the x-direction x, in the present case the y-direction y and the z-direction. direction z. This creates an overhang. However, in principle, any angle other than 45° can be selected for the construction slopes 128, 130, 132, 134.

Wie die 17 zeigt, bildet das Bauteil 100E ein Feder-Masse-System umfassend den Grundkörper 102, die Tilgermasse 124, das Federelement 126, das die Tilgermasse 124 an den Grundkörper 102 anbindet, und das als Dämpfer des Feder-Masse-Systems fungierende Dämpfungsmaterial 110. Das Dämpfungsmaterial 110, die Tilgermasse 124 und das Federelement 126 bilden zusammen einen Schwingungstilger 138 (Engl.: Tuned Mass Damper, TMD). Das Federelement 126 ist jedoch nicht zwingend Teil des Schwingungstilgers 138. Für den Fall, dass kein Federelement 126 vorgesehen ist, kann das Dämpfungsmaterial 110 sowohl als Dämpfer als auch als Feder des Feder-Masse-Systems beziehungsweise des Schwingungstilgers 138 fungieren.As the 17 shows, the component 100E forms a spring-mass system comprising the base body 102, the absorber mass 124, the spring element 126, which connects the absorber mass 124 to the base body 102, and the damping material 110, which acts as a damper of the spring-mass system Damping material 110, the absorber mass 124 and the spring element 126 together form a vibration absorber 138 (Tuned Mass Damper, TMD). However, the spring element 126 is not necessarily part of the vibration absorber 138. In the event that no spring element 126 is provided, the damping material 110 can function both as a damper and as a spring of the spring-mass system or the vibration absorber 138.

Der Schwingungstilger 138 kann auch als Mikrotilger bezeichnet werden. Das Bauteil 100E kann eine beliebige Anzahl von Schwingungstilgern 138 umfassen. Diese Schwingungstilger 138 können identisch sein oder sich voneinander unterscheiden. Im letztgenannten Fall können beispielsweise unterschiedliche Steifigkeiten der Federelemente 126, unterschiedliche Werkstoffe für das Dämpfungsmaterial 110 und/oder unterschiedliche Tilgermassen 124 eingesetzt werden. Somit kann eine Vielzahl von Tilgermassen-Eigenfrequenzen realisiert und somit eine gute breitbandige Dämpfung des Bauteils 100E erreicht werden.The vibration absorber 138 can also be referred to as a micro absorber. The component 100E can include any number of vibration absorbers 138. These vibration absorbers 138 can be identical or different from each other. In the latter case, for example, different stiffnesses of the spring elements 126, different materials for the damping material 110 and/or different absorber masses 124 can be used. A large number of absorber mass natural frequencies can thus be realized and thus good broadband damping of the component 100E can be achieved.

18 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100F. 18 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100F.

Das Bauteil 100F kann eine wie zuvor erwähnte Tragplatte sein. Das Bauteil 100F weist einen wie zuvor erwähnten Grundkörper 102 auf, der zumindest teilweise mit einer wie zuvor erwähnten fachwerkartigen Stützstruktur 122 versehen ist. Die Stützstruktur 122 sorgt dafür, dass das Bauteil 100F im Vergleich zu einem massiven Bauteil dieselbe oder zumindest annähernd dieselbe Steifigkeit aufweist.The component 100F can be a support plate as mentioned above. The component 100F has a base body 102 as mentioned above, which is at least partially provided with a truss-like support structure 122 as mentioned above. The support structure 122 ensures that the component 100F has the same or at least approximately the same rigidity compared to a solid component.

In der Stützstruktur 122, die beispielsweise mit Hilfe eines additiven Fertigungsverfahrens hegestellt ist, ist eine Vielzahl von Hohlräumen 104, von denen nur einer mit einem Bezugszeichen versehen ist, vorgesehen. Die Hohlräume 104 sind matrixartig angeordnet. „Matrixartig“ oder „musterartig“ heißt vorliegend insbesondere, dass die Hohlräume 104 in Zeilen und Spalten gleichmäßig verteilt angeordnet sind.A plurality of cavities 104, only one of which is provided with a reference number, are provided in the support structure 122, which is produced, for example, using an additive manufacturing process. The cavities 104 are arranged like a matrix. “Matrix-like” or “pattern-like” in this case means in particular that the cavities 104 are arranged evenly distributed in rows and columns.

Jedem Hohlraum 104 ist eine wie zuvor erwähnte Tilgermasse 124 zugeordnet, die mit Hilfe eines jeweiligen Federelements 126 einstückig, insbesondere materialeinstückig, an die Stützstruktur 122 angebunden ist. Die Stützstruktur 122 ist fachwerkartig. Die Hohlräume 104 sind zumindest teilweise mit dem Dämpfungsmaterial 110 (nicht gezeigt) gefüllt. Das Dämpfungsmaterial 110 kann, wie zuvor erwähnt, pulverförmig sein. Das Dämpfungsmaterial 110 kann bei der additiven Fertigung der Stützstruktur 122, der Tilgermasse 124 und des Federelements 126 in den Hohlräumen 104 verbleiben. Die Tilgermassen 124 und die Federelemente 126 sind vorzugsweise alle identisch.Each cavity 104 is assigned a damper mass 124 as mentioned above, which is connected to the support structure 122 in one piece, in particular in one piece of material, with the aid of a respective spring element 126. The support structure 122 is truss-like. The cavities 104 are at least partially filled with the damping material 110 (not shown). The damping material 110 may be powdery, as previously mentioned. The damping material 110 can remain in the cavities 104 during the additive manufacturing of the support structure 122, the absorber mass 124 and the spring element 126. The absorber masses 124 and the spring elements 126 are preferably all identical.

Es ist somit vorteilhafterweise möglich, in dem Bauteil 100F „Schichten“ mit Tilgermassen 124 vorzusehen, die durch additive Fertigung ohne kostspieligen Zusatzaufwand fertigbar sind. Als Aufwachsrichtung 136 bei der additiven Fertigung ist dabei wieder die x-Richtung x zu beachten. Die Tilgermassen 124 können rechteckförmig, insbesondere quadratisch, sein. Eine Kantenlänge der Tilgermassen 124 kann wenige Millimeter betragen.It is therefore advantageously possible to provide “layers” with absorber masses 124 in the component 100F, which can be produced by additive manufacturing without costly additional effort. The x-direction x must again be taken into account as the growth direction 136 in additive manufacturing. The absorber masses 124 can be rectangular, in particular square. An edge length of the absorber masses 124 can be a few millimeters.

19 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100G. 19 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100G.

Das Bauteil 100G kann ebenfalls eine wie zuvor erwähnte Tragplatte sein. Das Bauteil 100G unterscheidet sich von dem Bauteil 100F nur dadurch, dass die in der Stützstruktur 122 vorgesehenen Hohlräume 104 mit Hilfe von Öffnungen oder Durchbrüchen 140, von denen nur einer mit einem Bezugszeichen versehen ist, miteinander verbunden sind. Die Durchbrüche 140 können zum Befüllen der Hohlräume 104 mit dem Dämpfungsmaterial 110 (nicht gezeigt) dienen. Die Durchbrüche 140 können bei der additiven Fertigung des Bauteils 100G ausgespart werden.The component 100G can also be a support plate as mentioned above. The component 100G differs from the component 100F only in that the cavities 104 provided in the support structure 122 are connected to one another using openings or openings 140, only one of which is provided with a reference number. The openings 140 can be used to fill the cavities 104 with the damping material 110 (not shown). The openings 140 can be left out during the additive manufacturing of the component 100G.

20 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100H. 20 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100H.

Das Bauteil 100H ist eine wie zuvor erwähnte Tragplatte. Das Bauteil 100H umfasst eine massive Schicht 142, die wie zuvor erwähnte Kühlkanäle 120 umfasst. Entlang der z-Richtung z betrachtet ist unterhalb der massiven Schicht 142 eine Tilgerschicht 144 mit einer Vielzahl an Hohlräumen 104, in denen Tilgermassen 124 angeordnet sind, die mit Hilfe von Federelementen 126 an einen Grundkörper 102 des Bauteils 100H angebunden sind, vorgesehen. Die massive Schicht 142 und die Tilgerschicht 144 sind einstückig, insbesondere materialeinstückig, ausgebildet.The component 100H is a support plate as mentioned above. The component 100H includes a solid layer 142, which includes cooling channels 120 as previously mentioned. Viewed along the z direction z, an absorber layer 144 with a plurality of cavities 104 in which absorber masses 124 are arranged, which are connected to a base body 102 of the component 100H with the aid of spring elements 126, is provided below the solid layer 142. The solid layer 142 and the absorber layer 144 are formed in one piece, in particular in one piece of material.

Die Hohlräume 104 sind mit einem wie zuvor erläuterten Dämpfungsmaterial 110 (nicht gezeigt) zumindest teilweise gefüllt. Die Hohlräume 104 sind mit Hilfe von Durchbrüchen 140 miteinander verbunden. Jedem Hohlraum 104 können vier derartige Durchbrüche 140 zugeordnet sein, mit deren Hilfe jeder Hohlraum 104 mit zwei benachbarten Hohlräumen 104 verbunden ist. Entlang der z-Richtung z betrachtet benötigt die Tilgerschicht 144 nur eine geringe Bauhöhe von 2 bis 5 mm. Die Tilgerschicht 144 umfasst eine Vielzahl von Schwingungstilgern 138 (nicht gezeigt). Die Schwingungstilger 138 sind innerhalb der Tilgerschicht 144 matrixartig oder musterartig angeordnet.The cavities 104 are at least partially filled with a damping material 110 (not shown) as explained above. The cavities 104 are connected to one another using openings 140. Each cavity 104 can be assigned four such openings 140, with the help of which each cavity 104 is connected to two adjacent cavities 104. Viewed along the z-direction z, the absorber layer 144 only requires a low overall height of 2 to 5 mm. The absorber layer 144 includes a large number of vibration absorbers 138 (not shown). The vibration absorbers 138 are arranged in a matrix or pattern within the absorber layer 144.

21 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100I. 22 zeigt die Detailansicht XXII gemäß der 21. Nachfolgend wird auf die 21 und 22 gleichzeitig Bezug genommen. 21 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100I. 22 shows the detailed view XXII according to the 21 . Below we will refer to the 21 and 22 referred to at the same time.

Das Bauteil 100I ist eine wie zuvor erwähnte Tragplatte. Das Bauteil 100I unterscheidet sich von dem Bauteil 100H nur dadurch, dass Zusatzkanäle 146, 148 vorgesehen sind, die entlang der z-Richtung z betrachtet oberhalb und unterhalb der Tilgerschicht 144 platziert sind. Die Zusatzkanäle 146, 148 können jedoch auch neben Hohlräumen 104 der Tilgerschicht 144 auf demselben Niveau bezüglich der z-Richtung z betrachtet angeordnet sein. In diesem Fall können die Zusatzkanäle 146, 148 entlang der y-Richtung y betrachtet jeweils neben der Tilgerschicht 144 platziert sein. Es können beliebig viele Tilgerschichten 144 vorgesehen sein. Jeder Zusatzkanal 146, 148 mündet über eine Öffnung oder einen jeweiligen Durchbruch 150, 152 in jeweils einen Hohlraum 104. Die Hohlräume 104 sind in diesem Fall nicht direkt, sondern über die Zusatzkanäle 146, 148 und die Durchbrüche 150, 152 indirekt miteinander verbunden.The component 100I is a support plate as mentioned above. The component 100I differs from the component 100H only in that additional channels 146, 148 are provided, which are placed above and below the absorber layer 144 when viewed along the z-direction z. However, the additional channels 146, 148 can also be arranged next to cavities 104 of the absorber layer 144 at the same level as viewed in the z-direction z. In this case, the additional channels 146, 148 can each be placed next to the absorber layer 144, viewed along the y-direction y. Any number of absorber layers 144 can be provided. Each additional channel 146, 148 opens into a respective cavity 104 via an opening or a respective opening 150, 152. In this case, the cavities 104 are not directly connected to one another, but indirectly via the additional channels 146, 148 and the openings 150, 152.

Wie zuvor erwähnt, weist die Tilgerschicht 144 eine Vielzahl von Hohlräumen 104 auf, wobei jedem Hohlraum 104 eine Tilgermasse 124 und ein die Tilgermasse 124 mit einem Grundkörper 102 des Bauteils 100I verbindendes Federelement 126 zugeordnet ist. Mit Hilfe der Zusatzkanäle 146, 148 ist eine Befüllung der Hohlräume 104 mit einem Dämpfungsmaterial 110 möglich. In diesem Fall wird das Dämpfungsmaterial 110 erst nach der, insbesondere additiven, Fertigung des Bauteils 100I in die Hohlräume 104 eingebracht. Das Dämpfungsmaterial 110 füllt die Hohlräume 104 bevorzugt nur teilweise aus, so dass eine Auslenkung der Tilgermasse 124 möglich ist.As previously mentioned, the absorber layer 144 has a plurality of cavities 104, with each cavity 104 being assigned an absorber mass 124 and a spring element 126 connecting the absorber mass 124 to a base body 102 of the component 100I. With the help of the additional channels 146, 148, the cavities 104 can be filled with a damping material 110. In this case, the damping material 110 is only introduced into the cavities 104 after the component 100I has been manufactured, in particular additively. The damping material 110 preferably only partially fills the cavities 104, so that a deflection of the absorber mass 124 is possible.

Wie die 22 zeigt, kann das Dämpfungsmaterial 110 mit einem kugelförmigen Füllstoff 154 gefüllt sein. Der Füllstoff 154 kann Glaskugeln oder Stahlkugeln umfassen. Dabei ist ein Durchmesser einzelner Partikel des Füllstoffs 154 größer als eine Spaltbreite s eines zwischen der Tilgermasse 124 und der Innenwandung 106 des Hohlraums 104 vorgesehenen Spalts 156. Der Füllstoff 154 kann somit nicht durch den Spalt 156 hindurchtreten. Somit wird eine vollständige Füllung des Hohlraums 104 mit dem Dämpfungsmaterial 110 verhindert. Die Spaltbreite s kann dabei beispielsweise 0,1 bis 0,5 mm betragen.As the 22 shows, the damping material 110 can be filled with a spherical filler 154. The filler 154 may include glass balls or steel balls. A diameter of individual particles of the filler 154 is larger than a gap width s of a gap 156 provided between the absorber mass 124 and the inner wall 106 of the cavity 104. The filler 154 can therefore not pass through the gap 156. This prevents the cavity 104 from being completely filled with the damping material 110. The gap width s can be, for example, 0.1 to 0.5 mm.

23 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100J. 23 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100J.

Das Bauteil 100J kann ebenfalls eine wie zuvor erwähnte Tragplatte sein. In diesem Fall ist eine Vielzahl an Tilgermassen 124 in einem gemeinsamen Hohlraum 104 angeordnet. Der Hohlraum 104 ist zumindest teilweise mit einem wie zuvor erwähnten Dämpfungsmaterial 110 (nicht gezeigt) gefüllt.The component 100J can also be a support plate as mentioned above. In this case, a large number of absorber masses 124 are arranged in a common cavity 104. The cavity 104 is at least partially filled with a damping material 110 (not shown) as mentioned above.

Die Tilgermassen 124 sind mit Hilfe von Federelementen 126 an eine Stützstruktur 158 angebunden, die eine Vielzahl an säulenförmigen Stützelementen 158A aufweist, welche entlang der z-Richtung z durch den Hohlraum 104 verlaufen und einstückig, insbesondere materialeinstückig, an einen Grundkörper 102 des Bauteils 100J angebunden sind. Die Stützstruktur 158 ist innerhalb des Hohlraums 104 platziert. Im Gegensatz zu der Stützstruktur 122 ist die Stützstruktur 158 bevorzugt nicht fachwerkartig, sondern säulenförmig.The absorber masses 124 are connected with the help of spring elements 126 to a support structure 158, which has a large number of columnar support elements 158A, which run along the z-direction Device z run through the cavity 104 and are connected in one piece, in particular in one piece of material, to a base body 102 of the component 100J. The support structure 158 is placed within the cavity 104. In contrast to the support structure 122, the support structure 158 is preferably not truss-like, but rather columnar.

Jedes Stützelement 158A geht mit Hilfe von Übergangsbereichen 158B, 158C in den Grundkörper 102 über. Die Übergangsbereiche 158B, 158C können Schrägen sein. Die Stützstruktur 158 wird entlang der Aufwachsrichtung 136 Schicht für Schicht aufgebaut und trägt die Tilgermassen 124. Somit kann eine ausreichend steife Stützstruktur 158 mit einem großen Hohlraum 104 zum Befüllen verwirklicht werden, wobei hierfür eine teilweise Befüllung des Hohlraums 104, wie zuvor erläutert, möglich ist.Each support element 158A merges into the base body 102 with the help of transition areas 158B, 158C. The transition areas 158B, 158C can be slopes. The support structure 158 is built up layer by layer along the growth direction 136 and carries the absorber masses 124. A sufficiently rigid support structure 158 with a large cavity 104 for filling can thus be realized, with partial filling of the cavity 104 being possible for this purpose, as explained above .

24 zeigt eine schematische Detailansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100K. 24 shows a schematic detailed view of a further embodiment of a component 100K.

Das Bauteil 100K kann ebenfalls eine wie zuvor erwähnte Tragplatte sein. Das Bauteil 100K unterscheidet sich von dem Bauteil 100F gemäß der 18 nur dadurch, dass Federelemente 126 vorgesehen sind, die sich in ihren Geometrien voneinander unterscheiden und nicht identisch sind, wie dies in der 18 gezeigt ist. Beispielsweise unterscheiden sich die Federelemente 126 entlang der y-Richtung y betrachtet in ihrer Breite. Hierdurch können unterschiedliche Federsteifigkeiten verwirklicht werden.The component 100K can also be a support plate as mentioned above. The component 100K is different from the component 100F according to the 18 only in that spring elements 126 are provided, which differ from one another in their geometries and are not identical, as in the 18 is shown. For example, the spring elements 126 differ in their width when viewed along the y-direction y. This allows different spring stiffnesses to be achieved.

Dies ermöglicht beispielsweise eine Kombination verschiedener Geometrien der Federelemente 126 innerhalb einer Tilgerschicht 144, um möglichst viele Eigenmoden zu dämpfen. Zusätzlich ist eine Variation der Tilgermassen 124, beispielsweise hinsichtlich deren Gewicht, möglich. Somit ist eine sehr breitbandige Dämpfung des Grundkörpers 102 möglich.This enables, for example, a combination of different geometries of the spring elements 126 within a damper layer 144 in order to dampen as many natural modes as possible. In addition, a variation of the absorber masses 124, for example with regard to their weight, is possible. A very broadband attenuation of the base body 102 is therefore possible.

25 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100L. 25 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100L.

Das Bauteil 100L ist stabförmig oder rohrförmig. Das Bauteil 100L umfasst einen rohrförmigen Grundkörper 102, der rotationssymmetrisch zu einer Mittel- oder Symmetrieachse 160 aufgebaut sein kann. Der Grundkörper 102 weist mehrere Hohlräume 104 auf. Jedem Hohlraum 104 ist eine Tilgermasse 124 zugeordnet, die mit Hilfe eines Federelements 126 an den Grundkörper 102 angebunden ist. Die Hohlräume 104 können zumindest teilweise mit einem wie zuvor beschriebenen Dämpfungsmaterial 110 (nicht gezeigt) gefüllt sein. Die Tilgermassen 124 und/oder die Federelemente 126 können rotationssymmetrisch zu der Symmetrieachse 160 aufgebaut sein.The component 100L is rod-shaped or tubular. The component 100L includes a tubular base body 102, which can be constructed rotationally symmetrical to a central or symmetry axis 160. The base body 102 has several cavities 104. Each cavity 104 is assigned an absorber mass 124, which is connected to the base body 102 with the aid of a spring element 126. The cavities 104 can be at least partially filled with a damping material 110 (not shown) as described above. The absorber masses 124 and/or the spring elements 126 can be constructed rotationally symmetrical to the axis of symmetry 160.

26 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100M. 26 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100M.

Das Bauteil 100M ist ebenfalls stabförmig oder rohrförmig. Das Bauteil 100M unterscheidet sich von dem Bauteil 100L nur dadurch, dass die in dem Grundkörper 102 vorgesehenen Hohlräume 104 mit Hilfe von Durchbrüchen 140 miteinander verbunden sind. Dies ermöglicht ein nachträgliches Befüllen der Hohlräume 104 mit dem Dämpfungsmaterial 110 (nicht gezeigt).The component 100M is also rod-shaped or tubular. The component 100M differs from the component 100L only in that the cavities 104 provided in the base body 102 are connected to one another using openings 140. This enables the cavities 104 to be subsequently filled with the damping material 110 (not shown).

27 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100N. 28 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils 100N gemäß der Schnittlinie XXVIII-XXVIII der 27. 27 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100N. 28 shows a further schematic sectional view of the component 100N according to section line XXVIII-XXVIII of 27 .

Das Bauteil 100N umfasst einen rohrförmigen Grundkörper 102 mit einem Hohlraum 104, der sich durch den gesamten Grundkörper 102 hindurcherstreckt. Der Grundkörper 102 kann spiralförmig gebogen sein. Somit kann das Bauteil 100N eine Feder, insbesondere eine Zylinderfeder, sein. In dem Hohlraum 104 sind mehrere Tilgermassen 124 aufgenommen.The component 100N comprises a tubular base body 102 with a cavity 104 which extends through the entire base body 102. The base body 102 can be bent in a spiral shape. The component 100N can therefore be a spring, in particular a cylinder spring. Several absorber masses 124 are accommodated in the cavity 104.

Die Tilgermassen 124 können auf einen Draht 162 aufgefädelt sein. Ferner trägt der Draht 162 auch mehrere Abstandshalter 164, die zwischen den Tilgermassen 124 angeordnet sind. Die Tilgermassen 124, der Draht 162 und die Abstandshalter 164 bilden eine Tilgerkette 166, die in den Hohlraum 104 einschiebbar ist. Der Hohlraum 104 kann zusätzlich mit einem wie zuvor beschriebenen Dämpfungsmaterial 110 (nicht gezeigt) gefüllt sein.The absorber masses 124 can be threaded onto a wire 162. Furthermore, the wire 162 also carries several spacers 164, which are arranged between the absorber masses 124. The absorber masses 124, the wire 162 and the spacers 164 form an absorber chain 166 which can be inserted into the cavity 104. The cavity 104 can additionally be filled with a damping material 110 (not shown) as described above.

Der Vorteil des Aufbaus des Bauteils 100N liegt darin, dass es nicht erforderlich ist, den Grundkörper 102 und die Tilgermassen 124 aus demselben Werkstoff zu fertigen. Basismaterial in Form eines Rohr-Halbzeug als Grundkörper 102 kann beispielsweise ein hochfester Stahl sein und die Befüllung mit der Tilgerkette 166 und dem Dämpfungsmaterial 110 kann beispielsweise nach einem Umformen des Grundkörpers 102 erfolgen.The advantage of the construction of the component 100N is that it is not necessary to manufacture the base body 102 and the absorber masses 124 from the same material. Base material in the form of a semi-finished tubular product as the base body 102 can, for example, be a high-strength steel and the filling with the absorber chain 166 and the damping material 110 can take place, for example, after the base body 102 has been reshaped.

Auf diese Art und Weise ist eine kompakte Spiralfeder mit einem Außendurchmesser ab etwa 2 bis 3 mm herstellbar. Anstelle des blattfederförmigen Federelements 126 ist der Draht 162 vorgesehen, an dem die Tilgermassen 124 und die Abstandshalter 164 vorab befestigt werden können. Das Befestigen kann beispielsweise durch Verschweißen, Klemmen, Verkleben, Löten, Aufschrumpfen oder dergleichen erfolgen.In this way, a compact spiral spring with an outside diameter of approximately 2 to 3 mm can be produced. Instead of the leaf spring-shaped spring element 126, the wire 162 is provided, to which the absorber masses 124 and the spacers 164 can be attached in advance. Fastening can be done, for example, by welding, clamping, Gluing, soldering, shrinking or the like.

Durch die Kombination unterschiedlicher Tilgermassen 124 ist wieder eine breitbandige Dämpfung möglich. Die Fixierung der Abstandshalter 164 an dem rohrförmigen Grundkörper 102 kann durch ein leichtes Verquetschen des Grundkörpers 102, durch ein Verschweißen, wobei Schweißpunkte von außen angebracht werden können, Verkleben, Einschrumpfen oder dergleichen erfolgen. Die Abstandshalter 164 können Bohrungen oder Durchbrüche 168 aufweisen, so dass das Dämpfungsmaterial 110 bei dem Füllen des Hohlraums 104 durch die Abstandshalter 164 hindurchtreten kann.By combining different absorber masses 124, broadband damping is again possible. The spacers 164 can be fixed to the tubular base body 102 by slightly squeezing the base body 102, by welding, where welding points can be attached from the outside, by gluing, shrinking or the like. The spacers 164 can have bores or openings 168 so that the damping material 110 can pass through the spacers 164 when the cavity 104 is filled.

29 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100O. 29 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100O.

Das Bauteil 100O ist im Gegensatz zu dem Bauteil 100N nicht rohrförmig, sondern blockförmig oder plattenförmig. Das Bauteil 100O umfasst einen Grundkörper 102 mit mehreren Hohlräumen 104. Jedem Hohlraum 104 ist eine Tilgerkette 166 mit mehreren Tilgermassen 124, die abwechselnd mit Abstandshaltern 164 auf einen Draht 162 aufgefädelt sind, vorgesehen. Die Hohlräume 104 können mit einem wie zuvor erläuterten Dämpfungsmaterial 110 (nicht gezeigt) zumindest teilweise gefüllt sein.In contrast to the component 100N, the component 100O is not tubular, but block-shaped or plate-shaped. The component 100O comprises a base body 102 with several cavities 104. Each cavity 104 is provided with an absorber chain 166 with several absorber masses 124, which are alternately threaded onto a wire 162 with spacers 164. The cavities 104 can be at least partially filled with a damping material 110 (not shown) as explained above.

Hierbei sind verschiedene Geometrien der Tilgermassen 124 und/oder Durchmesser des Drahtes 162 möglich, um möglichst viele Eigenmoden abzudecken und eine sehr breitbandige Dämpfung des Bauteils 100O zu ermöglichen. Auch kann der Draht 162 wie eine Gitarrensaite ausgestaltet sein, um dessen Elastizität weiter zu senken und niedrigere Eigenmoden zu realisieren. Die Dämpfung erfolgt dann noch breitbandiger.Different geometries of the absorber masses 124 and/or diameters of the wire 162 are possible in order to cover as many intrinsic modes as possible and to enable very broadband damping of the component 100O. The wire 162 can also be designed like a guitar string in order to further reduce its elasticity and realize lower eigenmodes. The attenuation then takes place even more broadly.

30 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100P. 31 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils 100P gemäß der Schnittlinie XXXI-XXXI der 30. 30 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100P. 31 shows a further schematic sectional view of the component 100P according to the section line XXXI-XXXI of 30 .

Das Bauteil 100P umfasst einen Grundkörper 102, durch den sich ein Hohlraum 104 erstreckt. In dem Hohlraum 104 ist eine wie zuvor erwähnte Tilgerkette 166 aufgenommen. Die Tilgerkette 166 umfasst in diesem Fall keine Abstandshalter 164, sondern mehrere auf einen Draht 162 aufgefädelte Tilgermassen 124, die einander kontaktieren können. Jede Tilgermasse 124 weist mehrere, beispielsweise drei, Nuten 170 auf, die gleichmäßig über einen Umfang der jeweiligen Tilgermasse 124 verteilt angeordnet sind. In den Nuten 170 ist ein wie zuvor erwähntes Dämpfungsmaterial 110 aufgenommen, das den Hohlraum 104 teilweise ausfüllt.The component 100P comprises a base body 102 through which a cavity 104 extends. A damper chain 166 as mentioned above is accommodated in the cavity 104. In this case, the absorber chain 166 does not include any spacers 164, but rather several absorber masses 124 threaded onto a wire 162, which can contact each other. Each absorber mass 124 has several, for example three, grooves 170, which are arranged evenly distributed over a circumference of the respective absorber mass 124. A damping material 110, as mentioned above, is accommodated in the grooves 170 and partially fills the cavity 104.

32 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100Q. 33 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils 100Q gemäß der Schnittlinie XXXIII-XXXIII der 32. 32 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100Q. 33 shows a further schematic sectional view of the component 100Q according to the section line XXXIII-XXXIII of the 32 .

Das Bauteil 100Q unterscheidet sich von dem Bauteil 100P nur dadurch, dass das Dämpfungsmaterial 110 mit einem wie zuvor erwähnten Füllstoff 154 gefüllt ist. Der Füllstoff 154 weist kugelförmige Partikel auf.The component 100Q differs from the component 100P only in that the damping material 110 is filled with a filler 154 as mentioned above. The filler 154 has spherical particles.

34 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100R. 35 zeigt eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils 100R gemäß der Schnittlinie XXXV-XXXV der 34. 34 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100R. 35 shows a further schematic sectional view of the component 100R according to the section line XXXV-XXXV of 34 .

Das Bauteil 100R umfasst einen Grundkörper 102 mit einem Hohlraum 104, in dem eine Tilgerkette 166 aufgenommen ist. Die Tilgerkette 166 umfasst eine Vielzahl an Tilgermassen 124 und Abstandshalter 164, die abwechselnd auf einen Draht 162 aufgefädelt sind. Die Abstandshalter 164 umfassen mehrere Nuten 172, die gleichmäßig über einen Umfang der Abstandshalter 164 verteilt angeordnet sind. In den Nuten 170 ist ein mit einem Füllstoff 154 gefülltes Dämpfungsmaterial 110 aufgenommen.The component 100R comprises a base body 102 with a cavity 104 in which an absorber chain 166 is accommodated. The absorber chain 166 includes a large number of absorber masses 124 and spacers 164, which are alternately threaded onto a wire 162. The spacers 164 include a plurality of grooves 172 which are arranged evenly distributed over a circumference of the spacers 164. A damping material 110 filled with a filler 154 is accommodated in the grooves 170.

Zum Fertigen des Bauteils 110R wird zunächst die Tilgerkette 166 hergestellt. Hierzu werden abwechselnd Tilgermassen 124 und Abstandshalter 164 auf den Draht 162 aufgefädelt und fixiert. Das Fixieren kann mit Hilfe eines Verpressens oder Verschweißens erfolgen. Anschließend wird der Grundkörper 102 mit dem Hohlraum 104, beispielsweise in Form einer Bohrung, versehen. Die Tilgerkette 166 wird in den Hohlraum 104 eingefädelt. Anschließend werden die Abstandshalter 164 mit Hilfe des Dämpfungsmaterials 110 fixiert.To manufacture the component 110R, the absorber chain 166 is first manufactured. For this purpose, absorber masses 124 and spacers 164 are alternately threaded onto the wire 162 and fixed. Fixing can be done by pressing or welding. The base body 102 is then provided with the cavity 104, for example in the form of a bore. The absorber chain 166 is threaded into the cavity 104. The spacers 164 are then fixed with the help of the damping material 110.

Dabei verhindert der Füllstoff 154, der vorzugsweise kugelförmige Partikel aufweist, eine Ausbreitung des Dämpfungsmaterials 110 in dem gesamten Hohlraum 104. Hierzu wird ein Kugeldurchmesser der Partikel des Füllstoffs 154 größer gewählt als eine Spaltbreite zwischen den Abstandshaltern 164 und der Innenwandung 106 des Hohlraums 104. Anschließend wird ein zwischen den Tilgermassen 124 und den Abstandshaltern 164 vorgesehener Hohlraum mit dem ungefüllten Dämpfungsmaterial 110 gefüllt. „Ungefüllt“ bedeutet dabei, dass das Dämpfungsmaterial 110 in dem zuletzt genannten Bereich den Füllstoff 154 nicht aufweist.The filler 154, which preferably has spherical particles, prevents the damping material 110 from spreading throughout the entire cavity 104. For this purpose, a spherical diameter of the particles of the filler 154 is chosen to be larger than a gap width between the spacers 164 and the inner wall 106 of the cavity 104. Then A cavity provided between the absorber masses 124 and the spacers 164 is filled with the unfilled damping material 110. “Unfilled” means that the damping material 110 does not have the filler 154 in the last-mentioned area.

36 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100S. 37 und 38 zeigen jeweils eine weitere schematische Schnittansicht des Bauteils 100S gemäß der Schnittlinie XXXVII-XXXVII der 36. 36 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100S. 37 and 38 each show another Schematic sectional view of the component 100S according to the section line XXXVII-XXXVII of 36 .

Das Bauteil 100S umfasst einen Grundkörper 102 mit einem Hohlraum 104, in dem eine Tilgerkette 166 aufgenommen ist. Die Tilgerkette 166 umfasst eine Vielzahl an Tilgermassen 124, die auf einen Draht 162 aufgefädelt sind. An den Tilgermassen 124 sind Dämpfungselemente 174 angebracht. Die Dämpfungselemente 174 können auch als Feder- und Dämpfungselemente bezeichnet werden. Jeder Tilgermasse 124 können mehrere Dämpfungselemente 174 zugeordnet sein.The component 100S includes a base body 102 with a cavity 104 in which an absorber chain 166 is accommodated. The absorber chain 166 includes a large number of absorber masses 124 which are threaded onto a wire 162. Damping elements 174 are attached to the absorber masses 124. The damping elements 174 can also be referred to as spring and damping elements. Each absorber mass 124 can be assigned several damping elements 174.

Die Dämpfungselemente 174 werden zum Herstellen des Bauteils 100S zunächst an den Tilgermassen 124 befestigt. Beispielsweise können die Dämpfungselemente 174 mit den Tilgermassen 124 verklebt oder an diese anvulkanisiert werden. Die Dämpfungselemente 174 können rotationssymmetrisch aufgebaut sein, wie dies in der 37 gezeigt ist. Alternativ können die Dämpfungselemente 174 als verschiedene azimutal angeordnete Streifen ausgebildet sein, wie dies in der 38 gezeigt ist. Gegebenenfalls können auch abwechselnd federnde und dämpfende Elemente an den Tilgermassen 124 angeordnet werden.The damping elements 174 are first attached to the absorber masses 124 to produce the component 100S. For example, the damping elements 174 can be glued to the absorber masses 124 or vulcanized onto them. The damping elements 174 can be constructed rotationally symmetrically, as shown in FIG 37 is shown. Alternatively, the damping elements 174 can be designed as different azimuthally arranged strips, as shown in FIG 38 is shown. If necessary, resilient and damping elements can also be arranged alternately on the absorber masses 124.

Zum Fertigen einer Tilgerkette 166 werden die Tilgermassen 124 auf einen Draht 162 aufgefädelt und fixiert. Das Fixieren kann beispielsweise mit Hilfe eines Verpressens oder Verschweißens erfolgen. Das Fixieren kann alternativ oder zusätzlich auch mit Hilfe eines Lötens und/oder eines Verklebens erfolgen. Anschließend wird der Hohlraum 104 in den Grundkörper 102 eingebracht. Hierzu kann eine Bohrung in dem Grundkörper 102 hergestellt werden. Anschließend wird die Tilgerkette 166 in den Hohlraum 104 aufgenommen. Dabei können sich die Dämpfungselemente 174 verformen.To produce an absorber chain 166, the absorber masses 124 are threaded onto a wire 162 and fixed. Fixing can be done, for example, by pressing or welding. Alternatively or additionally, fixing can also be done with the help of soldering and/or gluing. The cavity 104 is then introduced into the base body 102. For this purpose, a hole can be made in the base body 102. The absorber chain 166 is then added to the cavity 104. The damping elements 174 can deform.

39 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100T. 39 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100T.

Das Bauteil 100T umfasst einen Grundkörper 102 mit einem Hohlraum 104. Im Gegensatz zu dem Bauteil 100S ist jedoch keine wie zuvor erwähnte Tilgerkette 166 vorgesehen, sondern mehrere nicht miteinander verbundene Tilgermassen 124 sind in den Hohlraum 104 eingeschoben, insbesondere in diesen eingepresst.The component 100T comprises a base body 102 with a cavity 104. In contrast to the component 100S, however, no absorber chain 166 as mentioned above is provided, but rather several absorber masses 124 that are not connected to one another are inserted into the cavity 104, in particular pressed into it.

An den Tilgermassen 124 sind Dämpfungselemente 174 sowie zusätzliche Federelemente 176 angebracht. Die Dämpfungselemente 174 sind unschraffiert dargestellt, wohingegen die Federelemente 176 schraffiert dargestellt sind. Jeder Tilgermasse 124 können mehrere Dämpfungselemente 174 und mehrere Federelemente 176 zugeordnet sein.Damping elements 174 and additional spring elements 176 are attached to the absorber masses 124. The damping elements 174 are shown unhatched, whereas the spring elements 176 are shown hatched. Each absorber mass 124 can be assigned several damping elements 174 and several spring elements 176.

40 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100U. 40 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100U.

Das Bauteil 100U umfasst einen Grundkörper 102 mit einem Hohlraum 104. Im Gegensatz zu dem Bauteil 100T sind in dem Hohlraum 104 mehrere Tilgermassen 124 aufgenommen, zwischen denen wie zuvor erwähnte Dämpfungselemente 174 angeordnet sind. Die Dämpfungselemente 174 sind, wie zuvor erwähnt, unschraffiert dargestellt. Jeder Tilgermasse 124 sind mehrere Federelemente 176 zugeordnet, die schraffiert dargestellt sind. Die Dämpfungselemente 174 sind mittig in dem Hohlraum 104 platziert. Die Tilgermassen 124 bilden zusammen mit den Dämpfungselementen 174 eine wie zuvor erwähnte Tilgerkette 166.The component 100U comprises a base body 102 with a cavity 104. In contrast to the component 100T, the cavity 104 accommodates several absorber masses 124, between which damping elements 174 are arranged as mentioned above. As previously mentioned, the damping elements 174 are shown unhatched. Each absorber mass 124 is assigned several spring elements 176, which are shown hatched. The damping elements 174 are placed centrally in the cavity 104. The absorber masses 124, together with the damping elements 174, form an absorber chain 166 as mentioned above.

41 zeigt eine schematische Schnittansicht einer weiteren Ausführungsform eines Bauteils 100V. 41 shows a schematic sectional view of a further embodiment of a component 100V.

Das Bauteil 100V umfasst einen Grundkörper 102 mit einem Hohlraum 104. In dem Hohlraum 104 sind mehrere Tilgermassen 124 aufgenommen, von denen in der 41 lediglich eine gezeigt ist. Jeder Tilgermasse 124 sind mehrere Dämpfungselemente 174 zugeordnet, die in der Orientierung der 41 sowohl nach schräg oben als auch nach schräg unten weisen. Somit kann die Tilgermasse 124 auch Schwingungen entlang und entgegen der z-Richtung z durchführen.The component 100V comprises a base body 102 with a cavity 104. A plurality of absorber masses 124 are accommodated in the cavity 104, of which in the 41 only one is shown. Each absorber mass 124 is assigned several damping elements 174, which are in the orientation of the 41 point both upwards and downwards. The absorber mass 124 can therefore also carry out oscillations along and against the z-direction z.

Die Ausführungsformen des Bauteils 100O bis 100V gemäß den 29 bis 41 können beispielsweise als gekühlte Spiegel in der Beleuchtungsoptik 4 oder in der Projektionsoptik 10 oder ganz allgemein als Komponenten, die nicht durch additive Fertigung hergestellt werden oder bei denen unterschiedliche Werkstoffe von Tilgermassen 124, Federelementen 176 und Grundkörper 102 von Vorteil sind, eingesetzt werden.The embodiments of the component 100O to 100V according to 29 until 41 can be used, for example, as cooled mirrors in the illumination optics 4 or in the projection optics 10 or more generally as components that are not produced by additive manufacturing or in which different materials of absorber masses 124, spring elements 176 and base body 102 are advantageous.

42 zeigt eine schematische Detailschnittansicht einer Ausführungsform einer Messmaschine 200. 42 shows a schematic detailed sectional view of an embodiment of a measuring machine 200.

Gebräuchliche Stähle, insbesondere auch nichtrostende Stähle, und Aluminiumwerkstoffe übertragen bedingt durch ihre Gefügestruktur Schwingungsenergie erheblich besser als nichtmetallische Werkstoffe. Stahl ist bei derartigen Messmaschinen 200 und Optikkomponenten als Konstruktionswerkstoff aber auf Grund seiner vielseitigen positiven Werkstoffeigenschaften wie Steifigkeit, Wärmeleitfähigkeit oder Festigkeit und Härte, unabdingbar.Due to their microstructure, common steels, especially stainless steels, and aluminum materials transmit vibration energy significantly better than non-metallic materials. However, steel is indispensable as a construction material for such measuring machines 200 and optical components due to its versatile positive material properties such as stiffness, thermal conductivity or strength and hardness.

Da aber Messmaschinen 200 und Optikkomponenten unerwünschten mechanischen Anregungen aus dem Boden oder benachbarten aktiven Bauteilen unterliegen, die nicht komplett durch Kompensationselemente, wie zum Beispiel Isolatoren, vermieden werden können, muss diese Bewegungsenergie mittels Dissipation abgefangen werden, um Mess- und Abbildungsfehler zu vermeiden. Zum einen sind diese Mess- und Abbildungsaberrationen Ursache für fehlerhafte Messungen und zum anderen können Messmaschinen 200 dann nicht ihre volle Arbeitsgeschwindigkeit entfalten. Des Weiteren werden oft Kalibrierprozesse der Antriebseinheiten und Sensoreinheiten durch hohe Hintergrundschwingungen gestört.However, since measuring machines 200 and optical components are subject to undesirable mechanical stimuli from the ground or neighboring active components, which cannot be completely avoided by compensation elements such as insulators, this kinetic energy must be absorbed by means of dissipation in order to avoid measurement and imaging errors. On the one hand, these measurement and imaging aberrations are the cause of incorrect measurements and, on the other hand, measuring machines 200 cannot then develop their full working speed. Furthermore, calibration processes of the drive units and sensor units are often disrupted by high background vibrations.

Auch Einmalereignisse, wie beispielsweise das Absetzen von Vorrichtungen und Prüflingen in der Nähe der Messmaschine 200, insbesondere bei schweren Optiken, führt oftmals zu Impulseinträgen entweder direkt in die Messmaschine 200 oder über den Bodenweg. Je länger die Messmaschine 200 braucht, um diese Schwingungsenergie zu absorbieren, umso ungenauer wird der Messprozess und umso anfälliger sind Mess- und Kalibrierprozesse.Even one-off events, such as placing devices and test objects near the measuring machine 200, especially with heavy optics, often lead to impulse inputs either directly into the measuring machine 200 or via the ground path. The longer the measuring machine 200 takes to absorb this vibration energy, the less precise the measuring process becomes and the more vulnerable the measuring and calibration processes are.

Die Messmaschine 200 weist ein Bauteil 100W auf. Das Bauteil 100W kann beispielsweise ein Rahmen oder ein Fundament der Messmaschine 200 sein. Das Bauteil 100W weist einen Grundkörper 102 auf. In dem Grundkörper 102 ist eine Vielzahl von Hohlräumen 104 vorgesehen, von denen in der 42 nur einer mit einem Bezugszeichen versehen ist. Die Hohlräume 104 sind mit einem wie zuvor erwähnten Dämpfungsmaterial 110 in Form eines Pulvers zumindest teilweise aufgefüllt.The measuring machine 200 has a 100W component. The component 100W can be, for example, a frame or a foundation of the measuring machine 200. The component 100W has a base body 102. A plurality of cavities 104 are provided in the base body 102, of which in the 42 only one is provided with a reference number. The cavities 104 are at least partially filled with a damping material 110 in the form of a powder as mentioned above.

Die Hohlräume 104 mit dem Dämpfungsmaterial 110 bilden eine zelluläre Dämpfungsstruktur 202. Ein Kantenbereich oder Randbereich 204 des Grundkörpers 102 ist hingegen massiv und weist keine mit dem Dämpfungsmaterial 110 gefüllten Hohlräume 104 auf. Der Grundkörper 102 ist mit Hilfe eines additiven oder generativen Verfahrens aufgebaut. Der Grundkörper 102 kann insbesondere aus einem pulverförmigen Werkstoff schichtweise aufgebaut werden. Dabei wird der pulverförmige Werkstoff im Bereich der Hohlräume 104 nicht versintert oder aufgeschmolzen, so dass die Hohlräume 104 mit dem Dämpfungsmaterial 110 in Form des pulverförmigen Werkstoffs gefüllt sind.The cavities 104 with the damping material 110 form a cellular damping structure 202. An edge region or edge region 204 of the base body 102, on the other hand, is solid and does not have any cavities 104 filled with the damping material 110. The base body 102 is constructed using an additive or generative process. The base body 102 can in particular be constructed in layers from a powdery material. The powdery material in the area of the cavities 104 is not sintered or melted, so that the cavities 104 are filled with the damping material 110 in the form of the powdery material.

Um (Mess-)Maschinenschwingungen gezielt zu unterdrücken, übernimmt die zelluläre Dämpfungsstruktur 202, deren Hohlräume 104 mit dem pulverförmigen Dämpfungsmaterial 110 gefüllt sind, welches unverschmolzen aus dem additiven Fertigungsprozess in den Hohlräumen 104 verbleibt, die Aufgabe, mechanische Bewegungsenergie in Wärmeenergie zu dissipieren und somit störende Vibrationen zu unterdrücken. Diese Hohlräume 104 sind so zu gestalten, dass die anderen technologischen Eigenschaften des Bauteils 100W, beispielsweise dessen Steifigkeit, Festigkeit, Anschlussgeometrien oder dergleichen, nicht oder nur geringfügig eingeschränkt werden.In order to specifically suppress (measuring) machine vibrations, the cellular damping structure 202, whose cavities 104 are filled with the powdery damping material 110, which remains unfused from the additive manufacturing process in the cavities 104, takes on the task of dissipating mechanical kinetic energy into thermal energy and thus to suppress disturbing vibrations. These cavities 104 are to be designed in such a way that the other technological properties of the component 100W, for example its rigidity, strength, connection geometries or the like, are not or only slightly restricted.

Die Wirkungsweise ist dabei wie folgt. Das pulverförmige Dämpfungsmaterial 110 ist in die vibrierenden Dämpfungsstruktur 202 eingeschlossen, die ihre Bewegungsenergie in das Dämpfungsmaterial 110 einleitet und dabei diese absorbiert. Durch Reib- und Kollisionskräfte wird die kinetische Energie dissipiert und als Folge die Schwingungsamplitude reduziert. Dabei tragen folgende Mechanismen zur Energiedissipation bei. Es erfolgt eine Kollision zwischen einer jeweiligen Wandung des jeweiligen Hohlraums 104 und Partikeln des Dämpfungsmaterials 110.The mode of operation is as follows. The powdery damping material 110 is enclosed in the vibrating damping structure 202, which introduces its kinetic energy into the damping material 110 and thereby absorbs it. The kinetic energy is dissipated by friction and collision forces and, as a result, the vibration amplitude is reduced. The following mechanisms contribute to energy dissipation. A collision occurs between a respective wall of the respective cavity 104 and particles of the damping material 110.

Es erfolgen Kollisionen zwischen den Partikeln des Dämpfungsmaterials 110 selbst. Es erfolgt Reibung zwischen den Partikeln des Dämpfungsmaterials 110 sowie Rollreibung zwischen den Partikeln des Dämpfungsmaterials 110. Funktionsintegrierte Dämpfer bilden eine Unterkategorie der Partikeldämpfer, die demselben „Modus Operandi“ folgen, das heißt mechanische Energie durch innere Reibung und Kollision zu dissipieren. Im Gegensatz zu konventionellen Partikeldämpfern liegt der Kosten- und Konstruktionsvorteil der Dämpfungsstruktur 202 auf der Hand.Collisions occur between the particles of the damping material 110 themselves. There is friction between the particles of the damping material 110 as well as rolling friction between the particles of the damping material 110. Functionally integrated dampers form a subcategory of particle dampers that follow the same “modus operandi”, i.e. mechanical energy through to dissipate internal friction and collision. In contrast to conventional particle dampers, the cost and design advantage of the damping structure 202 is obvious.

Die additive Fertigung senkt den Produktions-, Betriebs- und Montageaufwand enorm, da keine weiteren Maschinenelemente verschraubt werden müssen. In der Folge wird die Gewichts- und Kostenersparnis der Dämpfungsstruktur 202 verbessert. Mit Hilfe der additiven Fertigung kann die interne Struktur der Dämpfungsstruktur 202 durch das Einbringen der pulvergefüllten Hohlräume 104 mit verschiedenen Formen und Typen weiter optimiert werden, so dass die Hauptfunktionen an das Bauteil 100W optimiert werden, ohne andere zu vernachlässigen. Zum Beispiel kann durch eine geeignete Wahl der Form und Topologie der Hohlräume 104 ein Design entwickelt werden, das die gleiche Steifigkeit mit reduzierter Masse und verbesserter Dämpfungsantwort aufweist.Additive manufacturing reduces production, operating and assembly costs enormously because no additional machine elements need to be screwed together. As a result, the weight and cost savings of the damping structure 202 are improved. With the help of additive manufacturing, the internal structure of the damping structure 202 can be further optimized by introducing the powder-filled cavities 104 with different shapes and types, so that the main functions of the component 100W are optimized without neglecting others. For example, by appropriately choosing the shape and topology of the cavities 104, a design can be developed that has the same stiffness with reduced mass and improved damping response.

Weiterhin ist diese Art der Partikeldämpfung unkritisch in rauen Umgebungen und somit unempfindlich gegenüber mechanischen Einwirkungen, Öl, Umgebungstemperaturen oder dergleichen, während das Bauteil 100W auch sehr gut auch in Reinraumumgebungen eingesetzt werden kann. Darüber hinaus können Pulverdämpfer so ausgelegt werden, dass sie wenig empfindlich auf Erregungen in anderen Richtungen als einer Hauptrichtung reagieren, und sie sind effizient bei der Dämpfung von zufälligen, gaußförmigen oder deterministischen Erregungen.Furthermore, this type of particle damping is not critical in harsh environments and is therefore insensitive to mechanical influences, oil, ambient temperatures or the like, while the 100W component can also be used very well in clean room environments. In addition, powder dampers can be designed to be less sensitive to excitations in directions other than a main direction and are efficient at dampening random vibrations gene, Gaussian or deterministic excitations.

Aufgrund all dieser Eigenschaften sind funktionsintegrierte Dämpfer besonders nützlich in rauen Umgebungen, in Situationen, in denen keine elektrische oder hydraulische Energie übertragen werden kann, und bei chaotischen Schwingungen. Beispielsweise kann die Dämpfungsstruktur 202 auch bei folgenden Anwendungen eingesetzt werden kann. Anwendungsbeispiele sind insbesondere die Luft- und Raumfahrtindustrie, beispielsweise für Rotorblätter oder Flugzeugteile, die Automobilindustrie, beispielsweise für Motorölwannen oder Zahnräder, die Energiewirtschaft, beispielsweise für Windturbinen oder windbetriebene Masten, die medizinische Industrie, beispielsweise für die Dämpfung von Schwingungen einer oszillierenden Säge, oder die Bauindustrie, beispielsweise zur Erdbeben-Isolierung.Because of all of these characteristics, functionally integrated dampers are particularly useful in harsh environments, in situations where electrical or hydraulic energy cannot be transferred, and in chaotic vibrations. For example, the damping structure 202 can also be used in the following applications. Examples of applications include, in particular, the aerospace industry, for example for rotor blades or aircraft parts, the automotive industry, for example for engine oil pans or gears, the energy industry, for example for wind turbines or wind-powered masts, the medical industry, for example for damping vibrations of an oscillating saw, or the Construction industry, for example for earthquake isolation.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar.Although the present invention has been described using exemplary embodiments, it can be modified in many ways.

BEZUGSZEICHENLISTEREFERENCE SYMBOL LIST

11
ProjektionsbelichtungsanlageProjection exposure system
22
BeleuchtungssystemLighting system
33
Lichtquellelight source
44
BeleuchtungsoptikIllumination optics
55
ObjektfeldObject field
66
ObjektebeneObject level
77
RetikelReticule
88th
RetikelhalterReticle holder
99
RetikelverlagerungsantriebReticle displacement drive
1010
ProjektionsoptikProjection optics
1111
BildfeldImage field
1212
BildebeneImage plane
1313
Waferwafers
1414
Waferhalterwafer holder
1515
WaferverlagerungsantriebWafer displacement drive
1616
BeleuchtungsstrahlungIllumination radiation
1717
Kollektorcollector
1818
ZwischenfokusebeneIntermediate focal plane
1919
UmlenkspiegelDeflecting mirror
2020
erster Facettenspiegelfirst facet mirror
2121
erste Facettefirst facet
2222
zweiter Facettenspiegelsecond facet mirror
2323
zweite Facettesecond facet
100A100A
BauteilComponent
100B100B
BauteilComponent
100C100C
BauteilComponent
100D100D
BauteilComponent
100E100E
BauteilComponent
100F100F
BauteilComponent
100G100 G
BauteilComponent
100H100H
BauteilComponent
100I100I
BauteilComponent
100J100y
BauteilComponent
100K100K
BauteilComponent
100L100L
BauteilComponent
100M100M
BauteilComponent
100N100N
BauteilComponent
100O100O
BauteilComponent
100P100p
BauteilComponent
100Q100Q
BauteilComponent
100R100R
BauteilComponent
100S100p
BauteilComponent
100T100T
BauteilComponent
100U100U
BauteilComponent
100V100V
BauteilComponent
100W100W
BauteilComponent
102102
GrundkörperBasic body
102A102A
GrundkörperBasic body
102B102B
GrundkörperBasic body
104104
Hohlraumcavity
106106
Innenwandunginner wall
108108
Außenwandungouter wall
110110
DämpfungsmaterialDamping material
112112
feste Weltsolid world
114114
BauteilComponent
116116
DrehachseAxis of rotation
118118
Wälzkörperrolling elements
120120
KühlkanalCooling channel
122122
StützstrukturSupport structure
124124
Tilgermasseabsorber mass
126126
FederelementSpring element
128128
AufbauschrägeConstruction slope
130130
AufbauschrägeConstruction slope
132132
AufbauschrägeConstruction slope
134134
AufbauschrägeConstruction slope
136136
AufwachsrichtungGrowth direction
138138
SchwingungstilgerVibration absorber
140140
Durchbruchbreakthrough
142142
Massive SchichtSolid layer
144144
Tilgerschichtabsorber layer
146146
ZusatzkanalAdditional channel
148148
ZusatzkanalAdditional channel
150150
Durchbruchbreakthrough
152152
Durchbruchbreakthrough
154154
Füllstofffiller
156156
Spaltgap
158158
StützstrukturSupport structure
158A158A
StützelementSupport element
158B158B
ÜbergangsbereichTransition area
158C158C
ÜbergangsbereichTransition area
160160
SymmetrieachseAxis of symmetry
162162
Drahtwire
164164
AbstandshalterSpacers
166166
Tilgerketteabsorber chain
168168
Durchbruchbreakthrough
170170
NutNut
172172
NutNut
174174
DämpfungselementDamping element
176176
FederelementSpring element
200200
MessmaschineMeasuring machine
202202
DämpfungsstrukturDamping structure
204204
Randbereich Edge area
FF
KraftPower
M1M1
SpiegelMirror
M2M2
SpiegelMirror
M3M3
SpiegelMirror
M4M4
SpiegelMirror
M5M5
SpiegelMirror
M6M6
SpiegelMirror
ss
Spaltbreitegap width
xx
x-Richtungx direction
yy
y-Richtungy direction
ze.g
z-Richtungz direction
Z1Z1
ZustandCondition
Z2Z2
ZustandCondition

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • DE 102016215204 A1 [0005]DE 102016215204 A1 [0005]
  • DE 102008009600 A1 [0066, 0070]DE 102008009600 A1 [0066, 0070]
  • US 2006/0132747 A1 [0068]US 2006/0132747 A1 [0068]
  • EP 1614008 B1 [0068]EP 1614008 B1 [0068]
  • US 6573978 [0068]US 6573978 [0068]
  • DE 102017220586 A1 [0073]DE 102017220586 A1 [0073]
  • US 2018/0074303 A1 [0087]US 2018/0074303 A1 [0087]

Claims (15)

Bauteil (100A - 100V) für eine Projektionsbelichtungsanlage (1), aufweisend einen Grundkörper (102, 102A, 102B) mit einem Hohlraum (104), eine Tilgermasse (124), die in dem Hohlraum (104) aufgenommen ist, und ein Dämpfungsmaterial (110), das ebenfalls in dem Hohlraum (104) aufgenommen ist, wobei die Tilgermasse (124) zumindest teilweise in das Dämpfungsmaterial (110) eingebettet ist.Component (100A - 100V) for a projection exposure system (1), comprising a base body (102, 102A, 102B) with a cavity (104), an absorber mass (124), which is accommodated in the cavity (104), and a damping material (110), which is also accommodated in the cavity (104), wherein the absorber mass (124) is at least partially embedded in the damping material (110). Bauteil nach Anspruch 1, ferner umfassend ein Federelement (126), das ebenfalls in dem Hohlraum (104) aufgenommen ist, wobei die Tilgermasse (124) mit Hilfe des Federelements (126) an den Grundkörper (102) angebunden ist.Component according to Claim 1 , further comprising a spring element (126), which is also accommodated in the cavity (104), the absorber mass (124) being connected to the base body (102) with the aid of the spring element (126). Bauteil nach Anspruch 2, wobei der Grundkörper (102), die Tilgermasse (124) und das Federelement (126) einstückig, insbesondere materialeinstückig, ausgebildet sind.Component according to Claim 2 , wherein the base body (102), the absorber mass (124) and the spring element (126) are formed in one piece, in particular in one piece of material. Bauteil nach einem der Ansprüche 1-3, wobei das Dämpfungsmaterial (110) ein pulverförmiger Werkstoff ist, und wobei der Grundkörper (102) und die Tilgermasse (124) mit Hilfe eines additiven Fertigungsverfahrens aus dem pulverförmigen Werkstoff gefertigt sind.Component according to one of the Claims 1 - 3 , wherein the damping material (110) is a powdery material, and wherein the base body (102) and the absorber mass (124) are manufactured from the powdery material using an additive manufacturing process. Bauteil nach einem der Ansprüche 1-3, wobei das Dämpfungsmaterial (110) einen Füllstoff (154) aufweist, dessen Partikelgröße größer als eine Spaltbreite (s) eines zwischen der Tilgermasse (124) und einer Innenwandung (106) des Hohlraums (104) vorgesehenen Spalts (156) ist.Component according to one of the Claims 1 - 3 , wherein the damping material (110) has a filler (154) whose particle size is larger than a gap width (s) of a gap (156) provided between the absorber mass (124) and an inner wall (106) of the cavity (104). Bauteil nach einem der Ansprüche 1-5, ferner umfassend mehrere Hohlräume (104), wobei jedem Hohlraum (104) eine Tilgermasse (124) und das Dämpfungsmaterial (110) zugeordnet sind, und wobei die Hohlräume (104) matrixartig angeordnet sind, um in dem Bauteil (100D, 100E, 100F, 100G, 100H, 100I, 100J, 100K) eine Tilgerschicht (144) zu bilden.Component according to one of the Claims 1 - 5 , further comprising a plurality of cavities (104), each cavity (104) being assigned an absorber mass (124) and the damping material (110), and wherein the cavities (104) are arranged in a matrix-like manner in order to be in the component (100D, 100E, 100F , 100G, 100H, 100I, 100J, 100K) to form a absorber layer (144). Bauteil nach Anspruch 6, ferner umfassend eine massive Schicht (142), wobei die Tilgerschicht (144) und die massive Schicht (142) übereinander oder nebeneinander platziert sind.Component according to Claim 6 , further comprising a solid layer (142), the absorber layer (144) and the solid layer (142) being placed one above the other or next to one another. Bauteil nach Anspruch 7, wobei die massive Schicht (142) zumindest einen Kühlkanal (120) aufweist.Component according to Claim 7 , wherein the solid layer (142) has at least one cooling channel (120). Bauteil nach einem der Ansprüche 6-8, wobei die Hohlräume (104) fluidisch voneinander getrennt sind, oder wobei die Hohlräume (104) fluidisch miteinander verbunden sind.Component according to one of the Claims 6 - 8th , wherein the cavities (104) are fluidly separated from one another, or wherein the cavities (104) are fluidly connected to one another. Bauteil nach einem der Ansprüche 1-5, ferner umfassend mehrere Tilgermassen (124), die in dem Hohlraum (104) aufgenommen sind, wobei die Tilgermassen (124) an eine in dem Hohlraum (104) aufgenommene Stützstruktur (158) angebunden sind.Component according to one of the Claims 1 - 5 , further comprising a plurality of absorber masses (124) which are accommodated in the cavity (104), the absorber masses (124) being connected to a support structure (158) accommodated in the cavity (104). Bauteil nach einem der Ansprüche 1-5, wobei der Hohlraum (104) und die Tilgermasse (124) rotationssymmetrisch zu einer gemeinsamen Symmetrieachse (160) aufgebaut sind.Component according to one of the Claims 1 - 5 , wherein the cavity (104) and the absorber mass (124) are constructed rotationally symmetrically to a common axis of symmetry (160). Bauteil nach Anspruch 1, ferner umfassend mehrere Tilgermassen (124), die zum Bilden einer Tilgerkette (166) auf einen Draht (162) aufgefädelt sind.Component according to Claim 1 , further comprising a plurality of absorber masses (124) which are threaded onto a wire (162) to form a absorber chain (166). Bauteil nach Anspruch 12, wobei die Tilgerkette (166) mehrere auf den Draht (162) aufgefädelte Abstandshalter (164) aufweist, und wobei die Tilgermassen (124) und die Abstandshalter (164) abwechselnd angeordnet sind.Component according to Claim 12 , wherein the absorber chain (166) has a plurality of spacers (164) threaded onto the wire (162), and wherein the absorber masses (124) and the spacers (164) are arranged alternately. Bauteil nach einem der Ansprüche 1-13, wobei an der Tilgermasse (124) ein Dämpfungselement (174) und/oder ein Federelement (176) angebracht ist, das sich an dem Grundkörper (102) abstützt.Component according to one of the Claims 1 - 13 , wherein a damping element (174) and / or a spring element (176) is attached to the absorber mass (124), which is supported on the base body (102). Projektionsbelichtungsanlage (1) mit zumindest einem Bauteil (100A - 100V) nach einem der Ansprüche 1-14.Projection exposure system (1) with at least one component (100A - 100V) according to one of Claims 1 - 14 .
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6573978B1 (en) 1999-01-26 2003-06-03 Mcguire, Jr. James P. EUV condenser with non-imaging optics
US20060132747A1 (en) 2003-04-17 2006-06-22 Carl Zeiss Smt Ag Optical element for an illumination system
DE102008009600A1 (en) 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facet mirror e.g. field facet mirror, for use as bundle-guiding optical component in illumination optics of projection exposure apparatus, has single mirror tiltable by actuators, where object field sections are smaller than object field
DE102016215204A1 (en) 2016-08-16 2016-10-13 Carl Zeiss Smt Gmbh VIBRATION COUPLING AND DAMPING DEVICE
US20180074303A1 (en) 2015-04-14 2018-03-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical unit and projection exposure unit including same
DE102017220586A1 (en) 2017-11-17 2019-05-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Pupil facet mirror, illumination optics and optical system for a projection exposure apparatus

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6573978B1 (en) 1999-01-26 2003-06-03 Mcguire, Jr. James P. EUV condenser with non-imaging optics
US20060132747A1 (en) 2003-04-17 2006-06-22 Carl Zeiss Smt Ag Optical element for an illumination system
EP1614008B1 (en) 2003-04-17 2009-12-02 Carl Zeiss SMT AG Optical element for a lighting system
DE102008009600A1 (en) 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facet mirror e.g. field facet mirror, for use as bundle-guiding optical component in illumination optics of projection exposure apparatus, has single mirror tiltable by actuators, where object field sections are smaller than object field
US20180074303A1 (en) 2015-04-14 2018-03-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical unit and projection exposure unit including same
DE102016215204A1 (en) 2016-08-16 2016-10-13 Carl Zeiss Smt Gmbh VIBRATION COUPLING AND DAMPING DEVICE
DE102017220586A1 (en) 2017-11-17 2019-05-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Pupil facet mirror, illumination optics and optical system for a projection exposure apparatus

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