DE102023123691A1 - Deposition station and device for producing contact metallizations - Google Patents

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Abscheidungsstation, umfassend eine Beckenanordnung (11) mit einem einen Prozessraum (12) ausbildenden Becken (13) zur Aufnahme einer Lösung aus in einer Flüssigkeit gelöstem Metall, insbesondere Nickel, Zink, Palladium, Gold oder dergleichen, zur, vorzugsweise stromlosen, Abscheidung auf einem in den Prozessraum aufnehmbaren Objekt, insbesondere auf einer Anschlussfläche eines in den Prozessraum aufnehmbaren Wafers, wobei das Becken zumindest einen Zulauf (17) zur Einleitung der Lösung in das Becken aufweist, wobei das Becken eine den Zulauf des Beckens zumindest mitausbildende Perforation (18) aufweist, welche dazu eingerichtet ist, die Lösung homogen in den Prozessraum einzuleiten. Des Weiteren betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zur Erzeugung von Kontaktmetallisierungen auf Anschlussflächen von Wafern, umfassend zumindest eine Abscheidungsstation.The invention relates to a deposition station, comprising a basin arrangement (11) with a basin (13) forming a process chamber (12) for receiving a solution of metal dissolved in a liquid, in particular nickel, zinc, palladium, gold or the like, for deposition, preferably without current, on an object that can be accommodated in the process chamber, in particular on a connection surface of a wafer that can be accommodated in the process chamber, wherein the basin has at least one inlet (17) for introducing the solution into the basin, wherein the basin has a perforation (18) which at least co-forms the inlet of the basin and is designed to introduce the solution homogeneously into the process chamber. Furthermore, the invention relates to a device for producing contact metallizations on connection surfaces of wafers, comprising at least one deposition station.

Description

Die Erfindung betrifft eine Abscheidungsstation, umfassend eine Beckenanordnung mit einem einen Prozessraum ausbildenden Becken zur Aufnahme einer Lösung aus in einer Flüssigkeit gelöstem Metall, insbesondere Nickel, Zink, Palladium, Gold oder dergleichen, zur, vorzugsweise stromlosen, Abscheidung auf einem in den Prozessraum aufnehmbaren Objekt, insbesondere auf einer Anschlussfläche eines in den Prozessraum aufnehmbaren Wafers, wobei das Becken zumindest einen Zulauf zur Einleitung der Lösung in das Becken aufweist. Weiter betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zur Erzeugung von Kontaktmetallisierungen auf Anschlussflächen von Wafern, umfassend zumindest eine derartige Abscheidungsstation.The invention relates to a deposition station, comprising a basin arrangement with a basin forming a process chamber for receiving a solution of metal dissolved in a liquid, in particular nickel, zinc, palladium, gold or the like, for deposition, preferably without current, on an object that can be accommodated in the process chamber, in particular on a connection surface of a wafer that can be accommodated in the process chamber, wherein the basin has at least one inlet for introducing the solution into the basin. The invention further relates to a device for producing contact metallizations on connection surfaces of wafers, comprising at least one such deposition station.

Die Erzeugung von Kontaktmetallisierungen, die fachterminologisch auch als Under Bump Metallizations (UBM) bezeichnet werden, auf den Anschlussflächen von Chips erfolgt standardmäßig auf Waferebene, das heißt, dass der gesamte Wafer mit der Vielzahl darauf ausgebildeter Chips vor der Vereinzelung der Chips aus dem Wafer einen chemischen Prozess durchläuft, bei dem auf den Anschlussflächen der Chips, die im Ausgangszustand eine Oberflächenmetallisierung aus Aluminium oder Kupfer aufweisen, die als Under Bump Metallization bezeichnete Zwischenmetallisierung aufgebracht wird, welche als Haftgrund für nachfolgend aufgebrachte Lotbumps aus einem Lotmaterial dient. Erst nachfolgend der Aufbringung der Lotbumps erfolgt schließlich die Vereinzelung der Chips aus dem Wafer.The production of contact metallizations, which are also referred to in technical terms as under bump metallizations (UBM), on the connection surfaces of chips is carried out as standard at the wafer level, which means that the entire wafer with the large number of chips formed on it is formed before the chips are separated from the wafer chemical process in which the intermediate metallization known as under bump metallization is applied to the connection surfaces of the chips, which in the initial state have a surface metallization made of aluminum or copper, which serves as an adhesive base for subsequently applied solder bumps made of a solder material. Only after the solder bumps have been applied are the chips separated from the wafer.

Eine Vorrichtung zur Erzeugung von derartigen Kontaktmetallisierungen, welche beispielsweise aus der CN 203760439 U bekannt ist, umfasst regelmäßig eine Abscheidungsstation mit einem einen Prozessraum ausbildenden Becken zur Aufnahme beispielsweise einer Nickel-Lösung, welche im Regelfall Nickel gelöst in Salpetersäure aufweist. Bei einem in den Prozessraum aufgenommenen Wafer kann dann als Kontaktmetall Nickel aus der Nickel-Lösung auf einer Anschlussfläche des Wafers abgeschieden werden. Die Abscheidungsstation weist weiter regelmäßig eine Zirkulationspumpe auf, welche die Nickel-Lösung umwälzend den Prozessraum mit der zirkulierenden Nickel-Lösung beaufschlagt. Eine Einleitung der Lösung in das Becken bzw. in den Prozessraum erfolgt über einen Zulauf des Beckens, welcher in der Praxis durch eine einfache Öffnung bzw. ein einfaches Loch ausgebildet ist, welche bzw. welches beispielsweise in einer Bodenwand des Beckens ausgebildet sein kann.A device for producing such contact metallizations, which, for example, from CN 203760439 U is known, regularly includes a deposition station with a basin forming a process space for receiving, for example, a nickel solution, which usually has nickel dissolved in nitric acid. In the case of a wafer taken into the process space, nickel can then be deposited as a contact metal from the nickel solution on a connection surface of the wafer. The deposition station also regularly has a circulation pump, which circulates the nickel solution and supplies the circulating nickel solution to the process space. The solution is introduced into the basin or into the process space via an inlet of the basin, which in practice is formed by a simple opening or a simple hole, which can be formed, for example, in a bottom wall of the basin.

Nachteilhaft bei einer derartigen Abscheidungsstation ist insbesondere, dass die Lösung durch einen derartigen Zulauf nicht homogen in den Prozessraum eingeleitet werden kann, so dass in dem Prozessraum kein homogener Fluss der Lösung ausgebildet werden kann, wodurch das Metall nicht gleichmäßig auf der Anschlussfläche des Wafers abgeschieden werden kann. Der vorstehende Nachteil führt dazu, dass eine Qualität der mittels der Abscheidungsstation bzw. der die Abscheidungsstation umfassenden Vorrichtung zur Erzeugung von Kontaktmetallisierungen erzeugten Kontaktmetallisierungen erheblich beeinträchtigt wird.A particular disadvantage of such a deposition station is that the solution cannot be introduced homogeneously into the process space through such an inlet, so that no homogeneous flow of the solution can be formed in the process space, as a result of which the metal is not deposited uniformly on the connection surface of the wafer can. The above disadvantage means that the quality of the contact metallizations produced by means of the deposition station or the device comprising the deposition station for producing contact metallizations is significantly impaired.

Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Abscheidungsstation sowie eine Vorrichtung zur Erzeugung von Kontaktmetallisierungen vorzuschlagen, welche eine Erzeugung von Kontaktmetallisierungen mit einer höheren Qualität ermöglicht.The present invention is therefore based on the object of proposing a deposition station and a device for producing contact metallizations, which enables the production of contact metallizations with a higher quality.

Diese Aufgabe wird durch eine Abscheidungsstation mit den Merkmalen des Anspruchs 1 und eine Vorrichtung zur Erzeugung von Kontaktmetallisierungen mit den Merkmalen des Anspruchs 26 gelöst.This object is achieved by a deposition station having the features of claim 1 and a device for producing contact metallizations having the features of claim 26.

Die erfindungsgemäße Abscheidungsstation umfasst eine Beckenanordnung mit einem einen Prozessraum ausbildenden Becken zur Aufnahme einer Lösung aus in einer Flüssigkeit gelöstem Metall, insbesondere Nickel, Zink, Palladium, Gold oder dergleichen, zur, vorzugsweise stromlosen, Abscheidung auf einem in den Prozessraum aufnehmbaren Objekt, insbesondere einer Anschlussfläche eines in den Prozessraum aufnehmbaren Wafers, wobei das Becken zumindest einen Zulauf zur Einleitung der Lösung in das Becken aufweist, wobei das Becken eine den Zulauf des Beckens zumindest mitausbildende Perforation aufweist, welche dazu eingerichtet ist, die Lösung homogen in den Prozessraum einzuleiten.The deposition station according to the invention comprises a basin arrangement with a basin forming a process space for receiving a solution of metal dissolved in a liquid, in particular nickel, zinc, palladium, gold or the like, for deposition, preferably without electricity, on an object, in particular an object, which can be received in the process space Connection surface of a wafer that can be accommodated in the process space, the basin having at least one inlet for introducing the solution into the basin, the basin having a perforation which at least co-forms the inlet of the basin and which is designed to introduce the solution homogeneously into the process space.

Erfindungsgemäß umfasst die Abscheidungsstation eine Beckenanordnung mit einem einen Prozessraum ausbildenden Becken zur Aufnahme einer Lösung aus in einer Flüssigkeit gelöstem Metall zur Abscheidung auf einem in den Prozessraum aufnehmbaren Objekt, insbesondere auf einer Anschlussfläche eines in den Prozessraum aufnehmbaren Wafers. Das Metall kann insbesondere Nickel sein. Bei der Lösung kann es sich folglich um eine Nickel-Lösung handeln, welche beispielsweise Nickel gelöst in Salpetersäure aufweisen kann. Bei einem in den Prozessraum aufgenommenen Wafer kann dann als Kontaktmetall Nickel aus der Nickel-Lösung auf der Anschlussfläche des Wafers abgeschieden werden. Jedoch kann es sich grundsätzlich auch um irgendein anderes geeignetes Metall handeln. Beispielsweise kann es sich bei dem Metall auch um Zink, Palladium oder Gold handeln. Vorteilhafterweise kann die Abscheidung stromlos erfolgen. Allerdings ist es auch denkbar, dass die Abscheidung galvanisch erfolgt. Als Objekt kommt grundsätzlich jeder zur Unterziehung eines Abscheidungsprozesses geeignete Gegenstand in Betracht, wobei ein Material des Objekts metallische Werkstoffe, Kunststoffe und/oder keramische Werkstoffe umfassen kann. Gegebenenfalls kann das Objekt bzw. das Material einer Vorbehandlung unterzogen werden, um nachfolgend die Abscheidung zu ermöglichen. Die Abscheidung kann auf einer Fläche des Objekts erfolgen. Vorteilhafterweise ist das Objekt ein Wafer, wobei die Abscheidung auf einer Anschlussfläche des Wafers erfolgen kann. Im Folgenden wird die Abscheidungsstation im Wesentlichen in Verbindung mit einem Wafer beschrieben. Dies soll nicht beschränkend wirken. Unter dem Begriff „Wafer“ kann im Folgenden auch das Objekt im Allgemeinen verstanden werden. Das Becken kann eine Öffnung aufweisen, durch welche der Wafer, vorzugsweise von oben, zur Durchführung eines Abscheidungsprozesses in den Prozessraum eingesetzt und nachfolgend wieder aus dem Prozessraum entfernt werden kann. Weiter kann das Becken eine rechteckige Grundfläche bzw. Querschnittsfläche aufweisen. Ferner kann das Becken eine Bodenwand und vier Seitenwände aufweisen. Die Bodenwand und die Seitenwände können den Prozessraum begrenzen, welcher sich von der Bodenwand bis zu der Öffnung erstrecken kann.According to the invention, the deposition station comprises a basin arrangement with a basin forming a process space for receiving a solution of metal dissolved in a liquid for deposition on an object that can be received in the process space, in particular on a connection surface of a wafer that can be received in the process space. The metal can in particular be nickel. The solution can therefore be a nickel solution, which can, for example, contain nickel dissolved in nitric acid. When a wafer is placed in the process space, nickel can then be deposited as a contact metal from the nickel solution on the connection surface of the wafer. However, in principle it can also be any other suitable metal. For example, the metal can also be zinc, palladium or gold. The deposition can advantageously be carried out without electricity. However, it is also conceivable that the Deposition takes place galvanically. In principle, any object suitable for undergoing a deposition process can be considered as an object, with a material of the object being able to include metallic materials, plastics and/or ceramic materials. If necessary, the object or material can be subjected to a pretreatment in order to subsequently enable deposition. The deposition can take place on a surface of the object. The object is advantageously a wafer, and the deposition can take place on a connection surface of the wafer. The deposition station is described below essentially in connection with a wafer. This is not intended to be limiting. In the following, the term “wafer” can also be understood to mean the object in general. The basin can have an opening through which the wafer can be inserted into the process space, preferably from above, to carry out a deposition process and subsequently removed from the process space again. Furthermore, the basin can have a rectangular base area or cross-sectional area. Furthermore, the basin can have a bottom wall and four side walls. The bottom wall and the side walls may define the process space, which may extend from the bottom wall to the opening.

Erfindungsgemäß weist das Becken zumindest einen Zulauf zur Einleitung der Lösung in das Becken bzw. den Prozessraum auf, wobei das Becken eine den Zulauf des Beckens zumindest mitausbildende Perforation aufweist, welche dazu eingerichtet ist, die Lösung homogen in den Prozessraum bzw. in das Becken einzuleiten. Demnach ist vorgesehen, die Lösung nicht, wie im Stand der Technik, durch eine einfache Öffnung bzw. ein einfaches Loch, sondern durch eine Perforation in den Prozessraum einzuleiten, welche derart ausgebildet ist, dass die Lösung homogen bzw. gleichmäßig in den Prozessraum einströmen kann. Die Lösung kann dann unter Durchströmung der Perforation in den Prozessraum gelangen, wobei in dem Prozessraum ein im Wesentlichen homogener bzw. gleichmäßiger Fluss der Lösung ausgebildet werden kann, um ein gleichförmiges Abscheiden des Metalls auf der Anschlussfläche des Wafers zu erreichen. Im Ergebnis ermöglicht die erfindungsgemäße Abscheidungsstation damit eine Erzeugung von Kontaktmetallisierungen mit einer höheren Qualität.According to the invention, the basin has at least one inlet for introducing the solution into the basin or the process chamber, wherein the basin has a perforation which at least co-forms the inlet of the basin and which is designed to introduce the solution homogeneously into the process chamber or into the basin. Accordingly, it is provided that the solution is not introduced into the process chamber through a simple opening or a simple hole, as in the prior art, but through a perforation which is designed in such a way that the solution can flow homogeneously or evenly into the process chamber. The solution can then enter the process chamber by flowing through the perforation, wherein an essentially homogeneous or even flow of the solution can be formed in the process chamber in order to achieve uniform deposition of the metal on the connection surface of the wafer. As a result, the deposition station according to the invention thus enables contact metallizations of a higher quality to be produced.

Die Beckenanordnung bzw. das Becken kann in einen Fluidkreislauf einbindbar ausgebildet sein. Dazu kann die Beckenanordnung einen Zulauf zur Einleitung der Lösung von einem Bereich außerhalb der Beckenanordnung in die Beckenanordnung, wobei der Zulauf der Beckenanordnung durch den Zulauf des Beckens ausgebildet sein kann, und einen Ablauf zur Ausleitung der Lösung aus der Beckenanordnung zu dem Bereich außerhalb der Beckenanordnung aufweisen. Dadurch wird es dann grundsätzlich möglich, zur Ausbildung eines Fluidkreislaufes den Zulauf der Beckenanordnung mit dem Ablauf der Beckenanordnung, beispielsweise mittels einer Rohranordnung, fluidisch zu verbinden, so dass die Lösung über den Ablauf der Beckenanordnung aus der Beckenanordnung zu dem Bereich außerhalb der Beckenanordnung und nachfolgend über den Zulauf der Beckenanordnung aus dem Bereich außerhalb der Beckenanordnung zurück in die Beckenanordnung gelangen kann. Die Einbindbarkeit der Beckenanordnung bzw. des Beckens in den Fluidkreislauf ermöglicht es grundsätzlich, die Lösung, beispielsweise mittels einer Pumpeneinrichtung, in dem Fluidkreislauf in eine Zirkulationsbewegung zu versetzen, wodurch die Lösung in den Prozessraum eingeleitet werden kann bzw. in den Prozessraum einströmen kann. Zudem ermöglicht es die Einbindbarkeit der Beckenanordnung bzw. des Beckens in den Fluidkreislauf grundsätzlich, die Lösung, beispielsweise mittels einer Filtereinrichtung, während eines laufenden Prozesses zu reinigen.The basin arrangement or the basin can be designed to be integrated into a fluid circuit. For this purpose, the basin arrangement can have an inlet for introducing the solution from an area outside the basin arrangement into the basin arrangement, whereby the inlet of the basin arrangement can be formed by the inlet of the basin, and an outlet for discharging the solution from the basin arrangement to the area outside the basin arrangement. This then makes it fundamentally possible to fluidically connect the inlet of the basin arrangement to the outlet of the basin arrangement, for example by means of a pipe arrangement, in order to form a fluid circuit, so that the solution can pass from the basin arrangement to the area outside the basin arrangement via the outlet of the basin arrangement and then from the area outside the basin arrangement back into the basin arrangement via the inlet of the basin arrangement. The ability to integrate the basin arrangement or the basin into the fluid circuit basically makes it possible to set the solution into a circulating movement in the fluid circuit, for example by means of a pump device, whereby the solution can be introduced into the process space or can flow into the process space. In addition, the ability to integrate the basin arrangement or the basin into the fluid circuit basically makes it possible to clean the solution, for example by means of a filter device, during an ongoing process.

Die Perforation kann in Gestalt einer Lochanordnung ausgebildet sein, welche eine Mehrzahl bzw. Vielzahl von, vorzugsweise gleichartig ausgebildeten, Löchern aufweisen kann. Die Löcher können derart angeordnet sein, dass die Lösung gleichmäßig in jeden Bereich des Prozessraums einströmen kann. Die Löcher können einen Querschnitt mit beispielsweise einer kreisförmigen oder quadratischen Geometrie aufweisen. Eine Größe des Querschnitts der Löcher kann so gewählt sein, dass in dem Prozessraum ein optimaler Fluss der Lösung ausgebildet werden kann. Auch kann vorgesehen sein, dass die Größe des Querschnitts der Löcher in einer Durchflussrichtung der Lösung durch die Löcher betrachtet zunimmt oder abnimmt. Die Löcher können dann als Diffusoren oder Düsen fungieren. Grundsätzlich kann eine Geometrie bzw. eine Größe des Querschnitts geeignet gewählt sein. Die Perforation kann den Zulauf des Beckens auch vollständig ausbilden.The perforation can be designed in the form of a hole arrangement, which can have a plurality or multiplicity of, preferably identically designed, holes. The holes can be arranged in such a way that the solution can flow evenly into every area of the process space. The holes can have a cross-section with, for example, a circular or square geometry. A size of the cross-section of the holes can be selected so that an optimal flow of the solution can be formed in the process space. It can also be provided that the size of the cross-section of the holes increases or decreases when viewed in a flow direction of the solution through the holes. The holes can then function as diffusers or nozzles. In principle, a geometry or a size of the cross-section can be suitably selected. The perforation can also completely form the inlet of the basin.

Vorteilhafterweise kann der Zulauf des Beckens bodenseitig an dem Becken angeordnet sein, wobei eine Bodenwand des Beckens die Perforation aufweisen kann. Die Löcher der Lochanordnung können dann über eine, vorzugsweise gesamte, Fläche der Bodenwand des Beckens, vorzugsweise gleichmäßig, verteilt angeordnet sein. Dazu kann die Bodenwand des Beckens in Gestalt einer Lochplatte bzw. perforierten Platte ausgebildet sein. Die Lösung kann nach Einleitung in den Prozessraum dann in dem Prozessraum gleichmäßig nach oben strömen, um eine gleichförmige Abscheidung des Metalls auf der Anschlussfläche des Wafers zu erreichen. Alternativ oder zusätzlich kann auch zumindest eine Seitenwand des Beckens die Perforation aufweisen.Advantageously, the inlet of the basin can be arranged on the bottom side of the basin, wherein a bottom wall of the basin can have the perforation. The holes of the hole arrangement can then be arranged distributed, preferably evenly, over a, preferably entire, surface of the bottom wall of the pool. For this purpose, the bottom wall of the basin can be designed in the form of a perforated plate or perforated plate. After being introduced into the process space, the solution can then flow evenly upwards in the process space in order to achieve a uniform deposition of the metal on the connection surface of the wafer. Alternatively or additionally can at least one side wall of the pool also has the perforation.

In einer konstruktiv vorteilhaften Variante der Erfindung kann das Becken einen den Zulauf des Beckens mitausbildenden, unterhalb der Bodenwand des Beckens angeordneten Unterbau aufweisen, welcher einen von der Lösung durchströmbaren Hohlraum ausbilden kann, welcher zumindest von der Bodenwand des Beckens und einer Bodenwand des Unterbaus begrenzt werden kann, wobei das Becken einen den Zulauf des Beckens mitausbildenden, in eine zumindest die Bodenwand des Unterbaus durchgreifende Durchgangsöffnung eingesetzten Zulaufstutzen aufweisen kann, welcher an einem in den Hohlraum hineinragenden Abschnitt des Zulaufstutzens zumindest umfangseitig eine Perforation aufweisen kann, welche dazu eingerichtet sein kann, die Lösung in den Hohlraum einzuleiten. Die Lösung kann dann aus dem Abschnitt radial bzw. seitlich nach außen in den Hohlraum einströmen und von dort weiter nach oben durch die Perforation der Bodenwand des Beckens in den Prozessraum einströmen. Diese Ausbildung des Zulaufstutzens ermöglicht eine vorteilhafte Aufweitung bzw. Auffächerung eines Lösungsstroms in dem Hohlraum, welcher als Verteilerkammer fungieren kann, so dass die Flüssigkeit anschließend gleichmäßig durch alle Löcher der die Perforation der Bodenwand des Beckens ausbildenden Lochanordnung in den Prozessraum einströmen kann. Die Perforation des Zulaufstutzens kann ebenfalls durch eine Lochanordnung mit einer Mehrzahl bzw. Vielzahl von Löchern ausgebildet sein. Weiter kann der Abschnitt des Zulaufstutzens die Perforation auch stirnseitig aufweisen. Der Abschnitt des Zulaufstutzens kann vorteilhafterweise zylinderförmig ausgebildet sein, wobei die Löcher der Lochanordnung, vorzugsweise gleichmäßig, über eine, vorzugsweise gesamte, Mantelfläche des Abschnitts bzw. Zylinders verteilt sein können. Ferner kann der Ablaufstutzen flüssigkeitsdicht an der Bodenwand des Unterbaus anliegend in der Durchgangsöffnung angeordnet sein. Neben der Bodenwand kann der Unterbau vier Seitenwände aufweisen, welche den Hohlraum zusätzlich begrenzen können. Vorzugsweise kann der Zulaufstutzen zentral unterhalb der Bodenwand des Beckens angeordnet sein, so dass die Lösung zentral durch die Perforation der Bodenwand des Beckens hindurch in den Prozessraum einströmen kann. Die Perforation der Bodenwand des Beckens, der Unterbau sowie der Zulaufstutzen können zusammen den Zulauf des Beckens ausbilden.In a structurally advantageous variant of the invention, the basin can have a substructure which co-forms the inlet of the basin and is arranged below the bottom wall of the basin, which can form a cavity through which the solution can flow, which can be delimited at least by the bottom wall of the basin and a bottom wall of the substructure, wherein the basin can have an inlet nozzle which co-forms the inlet of the basin and is inserted into a through-opening which reaches through at least the bottom wall of the substructure, which can have a perforation at least on the circumference of a section of the inlet nozzle which protrudes into the cavity, which can be designed to introduce the solution into the cavity. The solution can then flow radially or laterally outwards from the section into the cavity and from there flow further upwards through the perforation in the bottom wall of the basin into the process space. This design of the inlet nozzle enables an advantageous widening or fanning out of a solution flow in the cavity, which can function as a distribution chamber, so that the liquid can then flow evenly into the process chamber through all the holes in the hole arrangement forming the perforation of the bottom wall of the basin. The perforation of the inlet nozzle can also be formed by a hole arrangement with a plurality or multiplicity of holes. Furthermore, the section of the inlet nozzle can also have the perforation on the front side. The section of the inlet nozzle can advantageously be cylindrical, wherein the holes in the hole arrangement can be distributed, preferably evenly, over a, preferably entire, surface area of the section or cylinder. Furthermore, the drain nozzle can be arranged in the through opening in a liquid-tight manner against the bottom wall of the substructure. In addition to the bottom wall, the substructure can have four side walls, which can additionally delimit the cavity. Preferably, the inlet nozzle can be arranged centrally below the bottom wall of the basin, so that the solution can flow centrally through the perforation of the bottom wall of the basin into the process chamber. The perforation of the bottom wall of the basin, the substructure and the inlet nozzle can together form the inlet of the basin.

Vorteilhafterweise kann das Becken einen, vorzugsweise seitlich an dem Becken angeordneten, Ablauf zur Ausleitung der Lösung aus dem Becken aufweisen. Vorzugsweise kann der Ablauf in einem Bereich nahe einer Kante einer Seitenwand des Beckens angeordnet sein, so dass die Lösung möglichst den gesamten Prozessraum durchströmen kann. Der Ablauf des Beckens kann durch eine einfache Öffnung bzw. ein einfaches Loch in der Seitenwand des Beckens ausgebildet sein. The basin can advantageously have an outlet, preferably arranged on the side of the basin, for discharging the solution from the basin. The outlet can preferably be arranged in an area near an edge of a side wall of the basin so that the solution can flow through as much of the process space as possible. The outlet of the basin can be formed by a simple opening or a simple hole in the side wall of the basin.

Vorteilhafterweise können Seitenwände des Beckens jeweils eine, vorzugsweise jeweils in einem Bereich einer Kante der Seitenwände ausgebildete, Perforation aufweisen, welche den Ablauf des Beckens ausbilden kann. Die Perforation der Seitenwände kann ebenfalls durch eine Lochanordnung mit einer Mehrzahl bzw. Vielzahl von Löchern ausgebildet sein, wobei eine Geometrie und eine Größe eines Querschnitts der Löcher geeignet gewählt sein können. Vorteilhafterweise können alle vier Seitenwände des Beckens eine derartige Perforation aufweisen, so dass die Lösung gleichmäßig aus dem Becken strömen kann, wodurch die Ausbildung eines gleichmäßigen Flusses der Lösung in dem Becken vorteilhaft weiter begünstigt werden kann. In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weist die Perforation bzw. die Lochanordnung zumindest eine, vorzugsweise genau eine, parallel zu der im Bereich der Öffnung des Beckens liegenden Kante verlaufende Reihe von Löchern auf.Advantageously, the side walls of the basin can each have a perforation, preferably in a region of an edge of the side walls, which can form the drain of the basin. The perforation of the side walls can also be formed by a hole arrangement with a plurality or multiplicity of holes, wherein a geometry and a size of a cross section of the holes can be suitably selected. Advantageously, all four side walls of the basin can have such a perforation so that the solution can flow evenly out of the basin, whereby the formation of a uniform flow of the solution in the basin can be advantageously further promoted. In a preferred embodiment of the invention, the perforation or the hole arrangement has at least one, preferably exactly one, row of holes running parallel to the edge in the region of the opening of the basin.

Vorteilhafterweise kann die Beckenanordnung ein weiteres Becken umfassen, wobei das Becken in das weitere Becken eingesetzt sein kann. Das weitere Becken kann ein Außenbecken und das Becken ein Innenbecken bilden. Diese Ausbildung der Beckenanordnung ermöglicht insbesondere eine Auslagerung von Komponenten, wie beispielsweise einer Füllstandmesseinrichtung und/oder einer Heizeinrichtung, welche das Becken bzw. der Prozessraum aufweisen kann, aus dem Prozessraum in das weitere Becken, wodurch ein in dem Prozessraum ausbildbarer Fluss der Lösung zur Verbesserung einer Qualität der Abscheidung des Metalls bzw. der Qualität der Kontaktmetallisierungen noch weiter vergleichmäßigt bzw. homogenisiert und zudem der Prozessraum volumenmäßig effektiver zur Anordnung des Wafers bzw. von Wafern ausgenutzt werden kann. Die Beckenanordnung kann zumindest zweiteilig ausgebildet sein und als Bauteile das Becken und das weitere Becken umfassen. Das Becken kann lösbar, beispielsweise mittels einer Mehrzahl von Schraubenmitteln der Beckenanordnung, mit dem weiteren Becken verbunden sein, was insbesondere eine vereinfachte Wartung der Beckenanordnung ermöglicht. Weiter kann das weitere Becken eine Öffnung aufweisen, in welche das Becken von oben eingesetzt sein kann. Zudem kann das weitere Becken eine rechteckige Grundfläche bzw. Querschnittsfläche aufweisen. Ferner kann das weitere Becken eine Bodenwand und vier Seitenwände aufweisen. Auch die Bodenwand des weiteren Beckens kann einen Durchgang aufweisen, welcher mit dem Durchgang der Bodenwand des Unterbaus fluchten kann, so dass der Durchgang der Bodenwand des weiteren Beckens und der Durchgang der Bodenwand des Unterbaus gemeinsam die Durchgangsöffnung ausbilden können, in welche der Ablaufstutzen eingesetzt sein kann. Dabei kann der Ablaufstutzen dann flüssigkeitsdicht an der Bodenwand des Unterbaus und an der Bodenwand des weiteren Beckens anliegend in der Durchgangsöffnung angeordnet sein. Weiter kann die Bodenwand des Unterbaus an der Bodenwand des weiteren Beckens anliegen oder von dieser beabstandet angeordnet sein. Ferner kann der Ablauf des Beckens dann zur Ausleitung der Lösung aus dem Becken in das weitere Becken vorgesehen sein.Advantageously, the basin arrangement can include a further basin, wherein the basin can be inserted into the further basin. The other pool can form an outdoor pool and the pool can form an indoor pool. This design of the basin arrangement in particular enables components, such as a level measuring device and/or a heating device, which the basin or the process space may have, to be moved out of the process space into the further basin, thereby improving a flow of solution that can be formed in the process space a quality of the deposition of the metal or the quality of the contact metallization is evened out or homogenized even further and the process space can also be used more effectively in terms of volume for arranging the wafer or wafers. The basin arrangement can be designed at least in two parts and include the basin and the other basin as components. The basin can be detachably connected to the other basin, for example by means of a plurality of screw means of the basin arrangement, which in particular enables simplified maintenance of the basin arrangement. Furthermore, the further basin can have an opening into which the basin can be inserted from above. In addition, the additional basin can have a rectangular base area or cross-sectional area. Furthermore, the further basin can have a bottom wall and four side walls. The bottom wall of the further basin can also have a passage, which can be aligned with the passage of the bottom wall of the substructure, so that the passage the bottom wall of the further basin and the passage of the bottom wall of the substructure can together form the through opening into which the drain connection can be inserted. The drain connection can then be arranged in a liquid-tight manner on the bottom wall of the substructure and on the bottom wall of the further basin in the through opening. Furthermore, the bottom wall of the substructure can rest on the bottom wall of the other basin or be arranged at a distance from it. Furthermore, the drain of the basin can then be provided for discharging the solution from the basin into the further basin.

Vorteilhafterweise kann das weitere Becken einen, vorzugsweise bodenseitig an dem weiteren Becken angeordneten, Ablauf zur Ausleitung der Lösung aus dem weiteren Becken aufweisen. Der Ablauf des weiteren Beckens kann zur Ausleitung der Flüssigkeit aus dem weiteren Becken in den Bereich außerhalb der Beckenanordnung vorgesehen sein. Der Ablauf des weiteren Beckens kann also den Ablauf der Beckenanordnung ausbilden. Weiter kann das weitere Becken zwei derartige Abläufe aufweisen, welche über einen Rohrabschnitt einer Rohranordnung der Abscheidungsstation miteinander verbunden sein können. Ein Ablauf kann an einem vorderen Ende der Bodenseite des weiteren Beckens und ein anderer Ablauf, vorzugsweise diagonal versetzt dazu, an einem hinteren Ende der Bodenseite des weiteren Beckens angeordnet sein, um eine effektive Ausleitung der Lösung aus dem weiteren Becken zu ermöglichen. Der Ablauf des weiteren Beckens kann durch eine einfache Öffnung bzw. ein einfaches Loch in der Bodenwand des weiteren Beckens ausgebildet sein.Advantageously, the additional basin can have an outlet, preferably arranged on the bottom of the additional basin, for discharging the solution from the additional basin. The outlet of the additional basin can be provided for discharging the liquid from the additional basin into the area outside the basin arrangement. The outlet of the additional basin can therefore form the outlet of the basin arrangement. Furthermore, the additional basin can have two such outlets, which can be connected to one another via a pipe section of a pipe arrangement of the separation station. One outlet can be arranged at a front end of the bottom side of the additional basin and another outlet, preferably diagonally offset therefrom, at a rear end of the bottom side of the additional basin in order to enable effective discharge of the solution from the additional basin. The outlet of the additional basin can be formed by a simple opening or a simple hole in the bottom wall of the additional basin.

In einer vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung kann der Zulauf des Beckens zur Einleitung der Lösung aus einem Bereich außerhalb der Beckenanordnung in das Becken, der Ablauf des Beckens zur Ausleitung der Lösung aus dem Becken in das weitere Becken und der Ablauf des weiteren Beckens zur Ausleitung der Lösung aus dem weiteren Becken zu dem Bereich außerhalb der Beckenanordnung vorgesehen sein.In an advantageous embodiment of the invention, the inlet of the basin can be provided for introducing the solution from an area outside the basin arrangement into the basin, the outlet of the basin can be provided for discharging the solution from the basin into the further basin and the outlet of the further basin can be provided for discharging the solution from the further basin to the area outside the basin arrangement.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung kann das Becken derart, vorzugsweise zentriert, in das weitere Becken eingesetzt sein, dass die Lösung durch den seitlich an dem Becken angeordneten Ablauf des Beckens aus dem Becken heraus in einen zumindest von Seitenwänden des Beckens und Seitenwänden des weiteren Beckens begrenzten Bereich des weiteren Beckens einleitbar sein kann, wobei die Seitenwände des Beckens jeweils in einem Bereich einer Kante der Seitenwände des Beckens einen, vorzugsweise senkrecht, von den Seitenwänden des Beckens in eine Richtung der Seitenwände des weiteren Beckens vorspringenden Rand aufweisen können, welcher derart an den Seitenwänden des weiteren Beckens anliegen kann, dass eine Öffnung bzw. verbleibende Öffnung des weiteren Beckens abgedeckt sein kann. Dadurch ist das weitere Becken bzw. die in dem weiteren Becken befindliche Lösung nach außen hin vor Verunreinigungen geschützt. Zudem ermöglicht die zentrierte Anordnung des Beckens in dem weiteren Becken ein gleichmäßiges Einströmen der Lösung aus dem Becken in das weitere Becken. Weiter können auch die Seitenwände des weiteren Beckens jeweils in einem Bereich einer Kante der Seitenwände des weiteren Beckens einen, vorzugsweise senkrecht, von den Seitenwänden des weiteren Beckens nach außen in den Bereich außerhalb der Beckenanordnung vorspringenden Rand aufweisen. Der Rand der Seitenwände des Beckens kann dann zumindest teilweise auf dem Rand der Seitenwände des weiteren Beckens aufliegen. Ferner können die Schraubenmittel, welche beispielsweise in den Rand der Seitenwände des Beckens und in die Seitenwände des weiteren Beckens eingreifen können, zur Befestigung des Beckens an dem weiteren Becken bzw. zu deren lösbarer Verbindung vorgesehen sein. In a preferred embodiment of the invention, the basin can be inserted into the further basin in such a way, preferably in a centered manner, that the solution can be introduced from the basin through the basin outlet arranged on the side of the basin into an area of the further basin that is delimited at least by side walls of the basin and side walls of the further basin, wherein the side walls of the basin can each have, in an area of an edge of the side walls of the basin, an edge that projects, preferably vertically, from the side walls of the basin in a direction of the side walls of the further basin, which edge can rest against the side walls of the further basin in such a way that an opening or remaining opening of the further basin can be covered. This protects the further basin or the solution in the further basin from external contamination. In addition, the centered arrangement of the basin in the further basin enables the solution to flow evenly from the basin into the further basin. Furthermore, the side walls of the additional basin can each have an edge, preferably perpendicular, that projects outwards from the side walls of the additional basin into the area outside the basin arrangement in an area of an edge of the side walls of the additional basin. The edge of the side walls of the basin can then at least partially rest on the edge of the side walls of the additional basin. Furthermore, the screw means, which can engage, for example, in the edge of the side walls of the basin and in the side walls of the additional basin, can be provided for fastening the basin to the additional basin or for detachably connecting them.

Vorteilhafterweise kann das weitere Becken zumindest einen, vorzugsweise seitlich an dem weiteren Becken angeordneten, Zulauf zur Einleitung der Lösung von einem Bereich außerhalb der Beckenanordnung in das weitere Becken aufweisen. Vorteilhafterweise kann das weitere Becken zwei derartige Zuläufe aufweisen. Die beiden Zuläufe können dann an verschiedenen Seitenwänden, vorzugsweise an gegenüberliegenden Seitenwänden, des weiteren Beckens angeordnet und mit einem Rohrabschnitt einer Rohranordnung der Abscheidungsstation miteinander verbunden sein, wobei der Rohrabschnitt seinerseits einen Anschluss zur Anbindung des Rohrabschnitts an den Fluidkreislauf aufweisen kann, um die, bevorzugt gefilterte, Lösung in den Rohrabschnitt und von dort über die beiden Zuläufe in das weitere Becken einleiten zu können. Der Anschluss kann über einen weiteren Rohrabschnitt der Rohranordnung beispielsweise an einer Filtereinrichtung der Abscheidungsstation angeschlossen sein. Der Zulauf des weiteren Beckens kann durch eine einfache Öffnung bzw. ein einfaches Loch in der Seitenwand des weiteren Beckens ausgebildet sein.Advantageously, the further basin can have at least one inlet, preferably arranged laterally on the further basin, for introducing the solution from an area outside the basin arrangement into the further basin. Advantageously, the further basin can have two such inlets. The two inlets can then be arranged on different side walls, preferably on opposite side walls, of the further basin and connected to one another with a pipe section of a pipe arrangement of the deposition station, the pipe section in turn being able to have a connection for connecting the pipe section to the fluid circuit, in order to do this, preferably filtered, solution can be introduced into the pipe section and from there via the two inlets into the further basin. The connection can be connected via a further pipe section of the pipe arrangement, for example to a filter device of the separation station. The inlet of the further basin can be formed by a simple opening or a simple hole in the side wall of the further basin.

Vorteilhafterweise kann das Becken derart ausgebildet sein, dass eine Transportaufnahme mit einer darin aufgenommenen Mehrzahl von Objekten, insbesondere von Wafern, von oben in das Becken einsetzbar sein kann. Dadurch ist es möglich, eine Mehrzahl von Wafern gleichzeitig dem Abscheidungsprozess zu unterziehen. Die Transportaufnahme kann in Gestalt eines Korbes ausgebildet sein. In der Transportaufnahme können die Wafer parallel nebeneinander, in gleichmäßigen Abständen, in vertikaler oder horizontaler Ausrichtung positioniert angeordnet sein. Auf der Bodenwand des Beckens können Auflageelemente des Beckens bzw. der Beckenanordnung angeordnet bzw. fixiert sein, auf welchen sich die Transportaufnahme mit den darin aufgenommenen Wafern abstützen kann.Advantageously, the basin can be designed in such a way that a transport receptacle with a plurality of objects, in particular wafers, accommodated therein can be inserted into the basin from above. This makes it possible to subject a plurality of wafers to the deposition process at the same time. The transport holder can be designed in the form of a basket. The wafers can be placed in the transport holder be arranged parallel to each other, at equal distances, positioned in a vertical or horizontal orientation. Support elements of the basin or the basin arrangement can be arranged or fixed on the bottom wall of the basin, on which the transport receptacle with the wafers accommodated therein can be supported.

Weiter kann die Abscheidungsstation eine Manipulatoreinrichtung zur Handhabung der Transportaufnahme aufweisen, welche insbesondere dazu eingerichtet sein kann, die Transportaufnahme in einer vertikalen Richtung zu bewegen, um die Transportaufnahme zur Durchführung eines Abscheidungsprozesses von oben in das Becken bzw. den Prozessraum einzusetzen und danach wieder aus dem Becken bzw. Prozessraum zu entfernen. Auch kann die Manipulatoreinrichtung Bestandteil einer Vorrichtung zur Erzeugung von Kontaktmetallisierungen sein, welche neben der Manipulatoreinrichtung die Abscheidungsstation umfassen kann. Gleichwohl ist es grundsätzlich auch möglich, die Transportaufnahme manuell zu bewegen.Furthermore, the deposition station can have a manipulator device for handling the transport holder, which can in particular be set up to move the transport holder in a vertical direction in order to insert the transport holder into the basin or the process chamber from above to carry out a deposition process and then remove it from the basin or the process chamber again. The manipulator device can also be part of a device for producing contact metallizations, which can include the deposition station in addition to the manipulator device. Nevertheless, it is also fundamentally possible to move the transport holder manually.

Vorteilhafterweise kann die Beckenanordnung eine Füllstandmesseinrichtung aufweisen, welche dazu eingerichtet sein kann, einen Füllstand zu messen. Dabei kann die Füllstandmesseinrichtung zur Messung des Füllstandes in dem Becken in dem Becken und/oder zur Messung des Füllstandes in dem weiteren Becken in dem weiteren Becken angeordnet sein. Vorteilhafterweise kann die Füllstandmesseinrichtung allein in dem weiteren Becken angeordnet sein, damit der Fluss der Lösung in dem Prozessraum nicht durch diese beeinträchtigt werden kann und der Prozessraum möglichst vollständig zur Anordnung von Wafern genutzt werden kann. Die Überwachung des Füllstandes ermöglicht es, insbesondere bei einem zu geringen Füllstand rechtzeitig neue bzw. frische Lösung nachdosieren bzw. nachfüllen zu können. Die Füllstandmesseinrichtung kann zumindest einen Füllstandsensor aufweisen. Dieser kann beispielsweise durch zwei Elektroden ausgebildet sein, zwischen welchen bei einem Erreichen eines bestimmten Füllstandes ein elektrischer Strom durch die Lösung leitbar sein kann.The basin arrangement can advantageously have a fill level measuring device which can be set up to measure a fill level. The fill level measuring device can be arranged in the basin to measure the fill level in the basin and/or in the further basin to measure the fill level in the further basin. The fill level measuring device can advantageously be arranged only in the further basin so that the flow of the solution in the process space cannot be impaired by it and the process space can be used as completely as possible for arranging wafers. Monitoring the fill level makes it possible to add or refill new or fresh solution in good time, particularly if the fill level is too low. The fill level measuring device can have at least one fill level sensor. This can be formed, for example, by two electrodes between which an electrical current can be conducted through the solution when a certain fill level is reached.

Vorteilhafterweise kann die Beckenanordnung und/oder die Abscheidungsstation eine Heizeinrichtung aufweisen, welche dazu eingerichtet sein kann, die Lösung zu erhitzen. Dadurch kann eine Temperatur der Lösung zur Erreichung von optimalen Abscheidungsbedingungen eingestellt bzw. angepasst werden. Dabei kann die Heizeinrichtung in dem Becken und/oder dem weiteren Becken angeordnet sein. Vorteilhafterweise kann die Heizeinrichtung allein in dem weiteren Becken angeordnet sein, damit der Fluss der Lösung in dem Prozessraum nicht durch diese beeinträchtigt werden kann und der Prozessraum möglichst vollständig zur Anordnung von Wafern genutzt werden kann. Die Heizeinrichtung kann in dem zwischen den Seitenwänden des Beckens und den Seitenwänden des weiteren Beckens ausgebildeten Bereich, vorzugsweise nur in einem unteren Teil des zwischen den Seitenwänden des Beckens und den Seitenwänden des weiteren Beckens ausgebildeten Bereichs, das Becken umfangseitig umgebend angeordnet sein. Diese Art der Anordnung der Heizeinrichtung ist nicht zuletzt platzsparend. Das Becken kann aus einem Material mit einer guten thermischen Leitfähigkeit, beispielsweise aus einem Metall, ausgebildet sein, so dass Wärme zwischen der in dem weiteren Becken befindlichen Lösung und der in dem Becken befindlichen Lösung ausgetauscht werden kann. Die Heizeinrichtung kann einen Heizkreislauf aufweisen, in welchem eine Heizflüssigkeit, beispielsweise heißes Wasser, zirkulieren kann. Weiter kann die Heizeinrichtung zur Regelung der Temperatur einen Temperaturregler aufweisen. Vorteilhafterweise kann die Heizeinrichtung oberflächentemperaturkontrolliert sein, insbesondere um eine lokale Überhitzung zu vermeiden. Weiter kann die Beckenanordnung eine in dem Becken und/oder dem weiteren Becken, vorzugsweise alleine in dem weiteren Becken, angeordnete Kühleinrichtung aufweisen. Die Kühleinrichtung kann einen Kühlkreislauf aufweisen, in welchem eine Kühlflüssigkeit, beispielsweise kaltes Wasser, zirkulieren kann. Weiter kann die Kühleinrichtung zur Regelung der Temperatur einen Temperaturregler aufweisen. Die Kühleinrichtung kann mit der Heizeinrichtung thermisch gekoppelt sein. Eine Kombination der Heizeinrichtung mit der Kühleinrichtung erlaubt eine flexible Anpassung der Temperatur der Lösung. Auch ist es denkbar, dass die Erhitzung der Lösung über eine externe Heizeinrichtung der Abscheidungsstation bewirkt wird, welche beispielsweise in Gestalt eines Wärmetauschers ausgebildet sein kann.Advantageously, the basin arrangement and/or the separation station can have a heating device, which can be set up to heat the solution. This allows a temperature of the solution to be set or adjusted to achieve optimal deposition conditions. The heating device can be arranged in the basin and/or the further basin. Advantageously, the heating device can be arranged solely in the further basin so that the flow of the solution in the process space cannot be impaired by it and the process space can be used as completely as possible for the arrangement of wafers. The heating device can be arranged surrounding the circumference of the basin in the area formed between the side walls of the basin and the side walls of the further basin, preferably only in a lower part of the area formed between the side walls of the basin and the side walls of the further basin. Last but not least, this type of arrangement of the heating device saves space. The basin can be made of a material with good thermal conductivity, for example a metal, so that heat can be exchanged between the solution in the further basin and the solution in the basin. The heating device can have a heating circuit in which a heating liquid, for example hot water, can circulate. Furthermore, the heating device can have a temperature controller to regulate the temperature. Advantageously, the heating device can be surface temperature controlled, in particular to avoid local overheating. Furthermore, the basin arrangement can have a cooling device arranged in the basin and/or the further basin, preferably solely in the further basin. The cooling device can have a cooling circuit in which a cooling liquid, for example cold water, can circulate. Furthermore, the cooling device can have a temperature controller to regulate the temperature. The cooling device can be thermally coupled to the heating device. A combination of the heating device with the cooling device allows the temperature of the solution to be flexibly adjusted. It is also conceivable that the heating of the solution is effected via an external heating device of the deposition station, which can be designed, for example, in the form of a heat exchanger.

Vorteilhafterweise kann die Beckenanordnung einen Deckel aufweisen, welcher eine Öffnung des Beckens in einer Schließstellung des Deckels abdecken kann. Durch den Deckel kann ein Wärmeaustausch zwischen der in dem Becken befindlichen Lösung und einer Umgebung bzw. dem Bereich außerhalb der Beckenanordnung reduziert werden. Zudem kann die in dem Becken befindliche Lösung so nach außen vor Verunreinigungen geschützt werden. Zum Einsetzen des Wafers in den Prozessraum bzw. zum Entfernen des Wafers aus dem Prozessraum kann der Deckel dann geöffnet und nachfolgend wieder geschlossen werden. Der Deckel kann beispielsweise verschwenkbar oder verschiebbar ausgebildet sein. Der Deckel kann als ein sich seitlich öffnender Deckel ausgebildet sein. Weiter kann der Deckel beheizbar und/oder beschichtet sein, um Kondensate zu vermeiden.Advantageously, the basin arrangement can have a lid, which can cover an opening of the basin in a closed position of the lid. The lid can reduce heat exchange between the solution in the basin and an environment or the area outside the basin arrangement. In addition, the solution in the basin can be protected from contamination from the outside. To insert the wafer into the process space or to remove the wafer from the process space, the lid can then be opened and subsequently closed again. The lid can, for example, be designed to be pivotable or displaceable. The lid can be designed as a lid that opens laterally. Furthermore, the lid can be heated and/or coated to avoid condensation.

Vorteilhafterweise kann der Deckel verschwenkbar sein, wobei der Deckel in einem Bereich einer Schwenkachse des Deckels einen Führungsabschnitt ausbilden kann, welcher dazu eingerichtet sein kann, ein an einer Innenseite des Deckels etwaig gebildetes Kondensat bei einem Verbringen des Deckels in eine Öffnungsstellung des Deckels in das Becken zu führen. Mittels des Führungsabschnitts kann das an der Innenseite des Deckels etwaig gebildete Kondensat, welches von der verdampften bzw. verdunsteten und anschließend wieder kondensierten Lösung herrühren kann, vorteilhaft zurück in das Becken geführt werden, so dass weniger neue bzw. frische Lösung nachgefüllt bzw. nachdosiert werden muss. Der Führungsabschnitt kann durch einen entsprechend gebogenen Abschnitt des Deckels ausgebildet sein. Grundsätzlich ist es jedoch auch denkbar, den Deckel ohne den Führungsabschnitt auszubilden. Vorteilhafterweise kann die Abscheidungsstation eine Rohranordnung umfassen, welche die Abscheidungsstation bzw. die Beckenanordnung in einen Fluidkreislauf einbinden kann. Dazu kann die Rohranordnung zumindest den Zulauf der Beckenanordnung mit dem Ablauf der Beckenanordnung fluidisch verbinden. Die Rohranordnung kann in dem Bereich außerhalb der Beckenanordnung und/oder außen an der Beckenanordnung bzw. an dem weiteren Becken angeordnet sein. Weiter kann die Rohranordnung eine Mehrzahl von Rohrabschnitten umfassen. Jeder Rohrabschnitt kann zumindest ein Rohrelement aufweisen, wobei mehrere Rohrelemente aneinander anschließbar ausgebildet sein können. Zumindest ein Rohrabschnitt kann den Ablauf des weiteren Beckens mit dem Zulauf des Beckens fluidisch verbinden, um einen geschlossenen Fluidkreislauf auszubilden. Weiter kann die Rohranordnung zumindest ein Ventil und/oder zumindest einen Bypassrohrabschnitt umfassen, beispielsweise um eine Filtereinrichtung der Abscheidungsstation bzw. eine Pumpeneinrichtung der Abscheidungsstation zu umgehen, was zum Beispiel im Falle einer Entleerung der Beckenanordnung vorteilhaft sein kann. Ferner kann ein Befüllungsrohrabschnitt vorgesehen sein, welcher einer Neubefüllung und/oder Wiederbefüllung der Beckenanordnung bzw. des Beckens bzw. des weiteren Beckens dienen kann.The lid can advantageously be pivotable, wherein the lid can form a guide section in a region of a pivot axis of the lid, which can be set up to guide any condensate formed on an inner side of the lid into the basin when the lid is brought into an open position of the lid. By means of the guide section, any condensate formed on the inner side of the lid, which can originate from the evaporated or vaporized and then re-condensed solution, can advantageously be guided back into the basin, so that less new or fresh solution has to be refilled or dosed. The guide section can be formed by a correspondingly curved section of the lid. In principle, however, it is also conceivable to form the lid without the guide section. Advantageously, the separation station can comprise a pipe arrangement which can integrate the separation station or the basin arrangement into a fluid circuit. For this purpose, the pipe arrangement can fluidically connect at least the inlet of the basin arrangement to the outlet of the basin arrangement. The pipe arrangement can be arranged in the area outside the basin arrangement and/or on the outside of the basin arrangement or on the further basin. The pipe arrangement can also comprise a plurality of pipe sections. Each pipe section can have at least one pipe element, wherein several pipe elements can be designed to be connectable to one another. At least one pipe section can fluidically connect the outlet of the further basin to the inlet of the basin in order to form a closed fluid circuit. The pipe arrangement can also comprise at least one valve and/or at least one bypass pipe section, for example in order to bypass a filter device of the separation station or a pump device of the separation station, which can be advantageous in the event of emptying the basin arrangement, for example. A filling pipe section can also be provided, which can be used for refilling and/or refilling the basin arrangement or the basin or the further basin.

Vorteilhafterweise kann die Abscheidungsstation eine Pumpeneinrichtung umfassen, welche dazu eingerichtet sein kann, die Lösung in dem Fluidkreislauf zirkulieren zu lassen. Vermittelst der Pumpeneinrichtung kann die Lösung dann in den Prozessraum eingeleitet werden bzw. in den Prozessraum einströmen. Die Pumpeneinrichtung kann dann in die Rohranordnung bzw. den Fluidkreislauf eingebunden sein. Die Pumpeneinrichtung kann beispielsweise eine Impellerpumpe sein. Vorteilhafterweise kann die Pumpeneinrichtung in dem Bereich außerhalb der Beckenanordnung angeordnet sein.Advantageously, the separation station can comprise a pump device, which can be set up to circulate the solution in the fluid circuit. By means of the pump device, the solution can then be introduced into the process space or flow into the process space. The pump device can then be integrated into the pipe arrangement or the fluid circuit. The pump device can be, for example, an impeller pump. The pump device can advantageously be arranged in the area outside the basin arrangement.

Vorteilhafterweise kann die Abscheidungsstation eine, vorzugsweise einen Vorfilter und einen Hauptfilter aufweisende, Filtereinrichtung umfassen, welche dazu eingerichtet sein kann, die in dem Fluidkreislauf strömende Lösung zu reinigen. Auf den Wafern befindliche Verunreinigungen, welche in die Lösung gelangen können, und Bruchstücke von Wafern, welche ebenfalls in die Lösung gelangen können, können so aus der Lösung entfernt bzw. herausgefiltert werden. Dabei kann der Hauptfilter zur Feinfiltration dienen. Eine Vorfilterung in Kombination mit einer Feinfilterung ermöglicht vorteilhaft eine Verlängerung einer Standzeit von Feinfiltrationseinsätzen, so dass die Abscheidungsstation länger bis zu einem entsprechenden Filteraustausch betrieben werden kann. Vorteilhafterweise kann die Filtereinrichtung in dem Bereich außerhalb der Beckenanordnung angeordnet sein. Die Filtereinrichtung kann in die Rohranordnung bzw. den Fluidkreislauf eingebunden sein. Vorteilhafterweise kann die Filtereinrichtung der Pumpeneinrichtung in einer Strömungsrichtung der Lösung in dem Fluidkreislauf betrachtet nachgeordnet sein. Ein Rohrabschnitt der Rohranordnung kann den Ablauf des weiteren Beckens mit der Pumpeneinrichtung, ein weiterer Rohrabschnitt der Rohranordnung die Pumpeneinrichtung mit der Filtereinrichtung und noch zumindest ein weiterer Rohrabschnitt der Rohranordnung die Filtereinrichtung mit dem Zulauf des Beckens verbinden.The separation station can advantageously comprise a filter device, preferably having a pre-filter and a main filter, which can be designed to clean the solution flowing in the fluid circuit. Contaminants on the wafers that can get into the solution and fragments of wafers that can also get into the solution can thus be removed from the solution or filtered out. The main filter can be used for fine filtration. Pre-filtering in combination with fine filtration advantageously enables an extension of the service life of fine filtration inserts, so that the separation station can be operated for longer until a corresponding filter replacement. The filter device can advantageously be arranged in the area outside the basin arrangement. The filter device can be integrated into the pipe arrangement or the fluid circuit. The filter device can advantageously be arranged downstream of the pump device in a flow direction of the solution in the fluid circuit. One pipe section of the pipe arrangement can connect the outlet of the further basin to the pump device, another pipe section of the pipe arrangement can connect the pump device to the filter device and at least one further pipe section of the pipe arrangement can connect the filter device to the inlet of the basin.

Vorteilhafterweise kann die Abscheidungsstation eine Volumenstromeinrichtung umfassen, welche dazu eingerichtet sein kann, einen Volumenstrom der Lösung in dem Fluidkreislauf zu messen und/oder anzupassen. Die Volumenstromeinrichtung, welche zur Messung des Volumenstroms einen Volumenstrommesser bzw. Volumenstromsensor aufweisen kann, kann in die Rohranordnung bzw. den Fluidkreislauf eingebunden sein. Weiter kann die Volumenstromeinrichtung einen Volumenstromregler aufweisen, welcher mit der Pumpeneinrichtung gekoppelt sein kann, um den Volumenstrom anzupassen. In Abhängigkeit von einem gemessenen Volumenstrom bzw. Istwert des Volumenstroms kann der Volumenstrom dann auf einen gewünschten Volumenstrom bzw. Sollwert des Volumenstroms eingestellt werden, um eine optimale Umströmung des in dem Prozessraum befindlichen Wafers zu erreichen.Advantageously, the deposition station can comprise a volume flow device, which can be set up to measure and/or adjust a volume flow of the solution in the fluid circuit. The volume flow device, which can have a volume flow meter or volume flow sensor to measure the volume flow, can be integrated into the pipe arrangement or the fluid circuit. Furthermore, the volume flow device can have a volume flow controller, which can be coupled to the pump device in order to adjust the volume flow. Depending on a measured volume flow or actual value of the volume flow, the volume flow can then be adjusted to a desired volume flow or setpoint of the volume flow in order to achieve an optimal flow around the wafer located in the process space.

Weiter kann die Abscheidungsstation eine Ventilanordnung umfassen, welche dazu eingerichtet sein kann, die Beckenanordnung zu entleeren. Insbesondere kann die Ventilanordnung eine Entleerung des Beckens und/oder des weiteren Beckens ermöglichen. Auch kann vorgesehen sein, das Becken bzw. das weitere Becken über die Ventilanordnung zu befüllen. Die Ventilanordnung kann in die Rohranordnung eingebunden sein und dabei insbesondere mit dem Bypassrohrabschnitt in Eingriff stehen. Vorteilhafterweise kann die Ventilanordnung zwei Ventile umfassen.Furthermore, the separation station can include a valve arrangement, which can be set up to empty the basin arrangement. In particular, the valve arrangement can enable the basin and/or the other basin to be emptied. It can also be provided that To fill the basin or the other basin via the valve arrangement. The valve arrangement can be integrated into the pipe arrangement and in particular engage with the bypass pipe section. Advantageously, the valve arrangement can comprise two valves.

Vorteilhafterweise kann die Abscheidungsstation eine Probenanalyseeinrichtung umfassen, welche dazu eingerichtet sein kann, eine Probe der Lösung, vorzugsweise aus der Beckenanordnung bzw. dem Becken bzw. dem weiteren Becken, zu entnehmen und, insbesondere im Hinblick auf einen pH-Wert der Probe, zu analysieren. Dabei kann die Probe während eines laufenden Prozesses entnommen werden. Die Probenanalyseeinrichtung kann außen an dem weiteren Becken angeordnet sein. Weiter kann die Probenanalyseeinrichtung als eine Messschleife ausgebildet sein, so dass die Probe nach der Analyse zurück in die Beckenanordnung bzw. den Fluidkreislauf geführt werden kann.Advantageously, the deposition station can include a sample analysis device, which can be set up to take a sample of the solution, preferably from the basin arrangement or the basin or the further basin, and to analyze it, in particular with regard to a pH value of the sample . The sample can be taken during an ongoing process. The sample analysis device can be arranged on the outside of the further basin. Furthermore, the sample analysis device can be designed as a measuring loop, so that the sample can be guided back into the basin arrangement or the fluid circuit after the analysis.

Weiter kann die Abscheidungsstation eine Kühleinrichtung aufweisen. Mittels der Kühleinrichtung kann die entnommene Probe vor der Analyse gekühlt werden. Die Kühleinrichtung kann auch als Gegenkühlung vorgesehen sein, um, insbesondere im Falle einer Wartung der Abscheidungsstation, eine schnelle Temperaturanpassung bzw. Kühlung der Lösung bis auf eine Transfertemperatur zu ermöglichen. Die Kühleinrichtung kann einen Kühlkreislauf aufweisen, in welchem eine Kühlflüssigkeit, beispielsweise kaltes Wasser, zirkulieren kann.The deposition station can also have a cooling device. The sample taken can be cooled before analysis using the cooling device. The cooling device can also be provided as counter-cooling in order to enable rapid temperature adjustment or cooling of the solution to a transfer temperature, particularly in the event of maintenance of the deposition station. The cooling device can have a cooling circuit in which a cooling liquid, for example cold water, can circulate.

Vorteilhafterweise kann die Abscheidungsstation eine Dosieranordnung mit zumindest einem Behälter zur Aufnahme einer in der Lösung enthaltenen Komponente und zumindest einer dem Behälter zugeordneten Dosierpumpe umfassen, wobei die Dosieranordnung dazu eingerichtet sein kann, die Komponente in die Lösung zu dosieren. Insbesondere kann so in Abhängigkeit von einem mittels der Probenanalyseeinrichtung gewonnenen Analyseergebnis die Komponente entsprechend nachdosiert bzw. zudosiert werden, um den chemischen Prozess stabil zu halten. Die Probenanalyseeinrichtung kann daher mit der Dosieranordnung gekoppelt sein, um automatisch einen Dosiervorgang auszulösen. Der Behälter kann an die Rohranordnung und/oder an das Becken und/oder das weitere Becken angeschlossen sein. Vorteilhafterweise kann die Dosieranordnung drei Behälter mit jeweils einer einem Behälter zugeordneten Dosierpumpe umfassen. Prinzipiell ist es jedoch auch möglich, die Komponente manuell nachzudosieren bzw. zuzudosieren. Vorteilhafterweise kann das weitere Becken einen Anschluss aufweisen, welcher mit der Dosieranordnung verbunden werden kann.The separation station can advantageously comprise a dosing arrangement with at least one container for receiving a component contained in the solution and at least one dosing pump associated with the container, wherein the dosing arrangement can be set up to dose the component into the solution. In particular, depending on an analysis result obtained by means of the sample analysis device, the component can be re-dosed or added accordingly in order to keep the chemical process stable. The sample analysis device can therefore be coupled to the dosing arrangement in order to automatically trigger a dosing process. The container can be connected to the pipe arrangement and/or to the basin and/or the additional basin. The dosing arrangement can advantageously comprise three containers, each with a dosing pump associated with a container. In principle, however, it is also possible to re-dosage or add the component manually. The additional basin can advantageously have a connection which can be connected to the dosing arrangement.

Vorteilhafterweise kann die Beckenanordnung eine Bewegungseinrichtung aufweisen, welche zur Durchführung einer, vorzugsweise vertikalen, Bewegung des Objekts bzw. der Transportaufnahme in dem Prozessraum bzw. Becken eingerichtet sein kann. Durch die Bewegung kann ein noch gleichförmigeres Abscheiden des Metalls erzielt werden. Vorzugsweise ist die Bewegung eine vertikale Aufwärts- und Abwärtsbewegung. Es ist jedoch auch denkbar, dass die Bewegung eine horizontale oder rotatorische Bewegung ist. Auch eine Kombination der vorgenannten Bewegungstypen ist denkbar. Die Bewegungseinrichtung kann ein, vorzugsweise vertikal, bewegbares, vorzugsweise rahmenartiges, Bewegungselement umfassen, welches mit einem Führungsabschnitt des Bewegungselements in einem, vorzugsweise seitlich an dem weiteren Becken angeordneten, Führungssystem der Bewegungseinrichtung geführt sein kann. Das Bewegungselement kann zumindest teilweise, vorzugsweise vollständig, mit einer, insbesondere gegenüber der Lösung, beispielsweise Nickel-Lösung, Zink-Lösung, Palladium-Lösung, Gold-Lösung oder dergleichen, chemisch beständigen Beschichtung versehen sein. Insbesondere kann die chemische Beständigkeit auch gegenüber Salpetersäure, Salzsäure, Königswasser und/oder Natriumhydroxid bzw. Natronlauge, welche Bestandteil der Lösung sein bzw. als Reinigungschemie bzw. als Aluminium-Reiniger vorgesehen sein können, gegeben sein. Grundsätzlich kann die chemische Beständigkeit gegenüber sämtlichen bei der Abscheidung eingesetzten Chemikalien gegeben sein. Mittels eines, vorzugsweise ebenfalls seitlich an dem weiteren Becken angeordneten, vorzugsweise programmierbaren, Aktuatorsystems der Bewegungseinrichtung kann das Bewegungselement in die, vorzugsweise vertikale Bewegung, versetzbar sein, wobei das Objekt bzw. die Transportaufnahme von einem Halteabschnitt des Bewegungselements, welcher in das Becken ragen kann, gehalten werden kann. Ein Bewegungstyp und/oder ein Bewegungsumfang und/oder eine Bewegungsgeschwindigkeit kann programmierbar bzw. einstellbar sein. Wenn die Beckenanordnung einen, vorzugsweise verschwenkbaren, Deckel aufweist, kann der Deckel mit Ausnehmungen bzw. Öffnungen ausgebildet sein, welche von dem Bewegungselement bei dem geschlossenen Deckel durchgriffen werden können. Diese Ausbildung des Deckels ermöglicht die Durchführung der, vorzugsweise vertikalen, Bewegung bei dem geschlossenen Deckel, was insbesondere aus sicherheitstechnischer Sicht sinnvoll sein kann, um Unfälle oder Schäden während der Bewegung zu verhindern. Die Bewegungseinrichtung kann als ein Modul ausgebildet sein, um sie bei einer Beckenanordnung bzw. einer Abscheidungsstation nachrüsten zu können.The basin arrangement can advantageously have a movement device which can be set up to carry out a preferably vertical movement of the object or the transport holder in the process space or basin. The movement can achieve an even more uniform deposition of the metal. The movement is preferably a vertical upward and downward movement. However, it is also conceivable for the movement to be a horizontal or rotary movement. A combination of the aforementioned types of movement is also conceivable. The movement device can comprise a preferably vertically movable, preferably frame-like, movement element which can be guided with a guide section of the movement element in a guide system of the movement device, preferably arranged laterally on the further basin. The movement element can be provided at least partially, preferably completely, with a coating which is chemically resistant, in particular to the solution, for example nickel solution, zinc solution, palladium solution, gold solution or the like. In particular, the chemical resistance can also be provided against nitric acid, hydrochloric acid, aqua regia and/or sodium hydroxide or caustic soda, which can be part of the solution or can be provided as cleaning chemicals or as aluminum cleaners. In principle, the chemical resistance can be provided against all chemicals used in the deposition. By means of an actuator system of the movement device, preferably also arranged on the side of the further basin and preferably programmable, the movement element can be set in the preferably vertical movement, whereby the object or the transport holder can be held by a holding section of the movement element, which can protrude into the basin. A type of movement and/or a range of movement and/or a speed of movement can be programmable or adjustable. If the basin arrangement has a, preferably pivotable, lid, the lid can be designed with recesses or openings through which the movement element can reach when the lid is closed. This design of the lid enables the movement, preferably vertical, to be carried out with the lid closed, which can be particularly useful from a safety point of view in order to prevent accidents or damage during the movement. The movement device can be designed as a module so that it can be retrofitted to a basin arrangement or a separation station.

Die erfindungsmäße Vorrichtung zur Erzeugung von Kontaktmetallisierungen auf Anschlussflächen von Wafern umfasst zumindest eine erfindungsgemäße Abscheidungsstation, wobei ein Prozessraum der Abscheidungsstation zur Aufnahme einer Transportaufnahme mit einer darin aufgenommenen Mehrzahl von Wafern ausgebildet ist, wobei die Vorrichtung eine Manipulatoreinrichtung zur Handhabung der Transportaufnahme aufweist.The device according to the invention for producing contact metallization on connection surfaces chen of wafers comprises at least one deposition station according to the invention, wherein a process space of the deposition station is designed to accommodate a transport receptacle with a plurality of wafers accommodated therein, the device having a manipulator device for handling the transport receptacle.

Vorteilhafterweise kann die Vorrichtung eine Mehrzahl von, vorzugsweise in einer Linie angeordneten, Arbeitsstationen mit jeweils einem Prozessraum zur Aufnahme der Transportaufnahme mit den darin aufgenommenen Wafern umfassen, wobei die Mehrzahl von Arbeitsstationen als Arbeitsstation die Abscheidungsstation umfassen kann, wobei die Vorrichtung eine Fördereinrichtung aufweisen kann, an welcher die Manipulatoreinrichtung angeordnet sein kann, wobei in einer Förderrichtung die Manipulatoreinrichtung im Zusammenwirken mit der Fördereinrichtung eine Anordnung der Transportaufnahme in einer wählbaren Reihenfolge der Prozessräume ermöglichen kann. Eine jeweilige Verweilzeit der Transportaufnahme in den Prozessräumen, welche programmierbar sein kann, kann dabei berücksichtigt werden. Die Arbeitsstationen können als Module ausgebildet sein.Advantageously, the device can comprise a plurality of work stations, preferably arranged in a line, each with a process space for receiving the transport receptacle with the wafers accommodated therein, the plurality of work stations being able to include the deposition station as a work station, the device being able to have a conveyor device, on which the manipulator device can be arranged, wherein in a conveying direction the manipulator device, in cooperation with the conveyor device, can enable the transport receptacle to be arranged in a selectable order of the process spaces. A respective dwell time of the transport recording in the process rooms, which can be programmable, can be taken into account. The workstations can be designed as modules.

Es kann eine Bedienerschnittstelle der Vorrichtung vorgesehen sein, um einem Bediener eine Bedienung der Vorrichtung bzw. eine Interaktion mit der Vorrichtung zu ermöglichen. Insbesondere können mittels der Bedienerschnittstelle Prozessparameter eingegeben bzw. eingestellt und/oder Fehlermeldungen, Arbeitshinweise, Wartungshinweise, Warnhinweise und/oder sonstige Meldungen und/oder sonstige Hinweise ausgegeben werden. Die Bedienerschnittstelle kann eine Anzeige, wie einen Bildschirm, und/oder Bedienelemente, wie Bedienknöpfe und/oder Bedienfelder, aufweisen.A user interface of the device can be provided to enable an operator to operate the device or interact with the device. In particular, process parameters can be entered or set using the user interface and/or error messages, work instructions, maintenance instructions, warnings and/or other messages and/or other instructions can be output. The user interface can have a display, such as a screen, and/or operating elements, such as control buttons and/or control panels.

Vorteilhafterweise kann die Manipulatoreinrichtung einen mit einem Förderband der Fördereinrichtung verbundenen, horizontal verfahrbaren Träger mit zumindest einem vertikal gegenüber dem Träger verfahrbaren Greifarm aufweisen. Das Förderband kann von einem Antriebsmotor der Fördereinrichtung angetrieben werden. Der Träger kann ein Förderband aufweisen, mittels dessen der Greifarm gegenüber dem Träger verfahrbar sein kann, wobei das Förderband von einem Antriebsmotor des Trägers angetrieben werden kann. Der Greifarm kann als Aufnahme ausgebildet sein. Die Vorrichtung kann eine Sensoreinrichtung zur Überwachung eines Stroms eines der Antriebsmotoren bzw. der Antriebsmotoren, einer Temperatur eines der Antriebsmotoren bzw. der Antriebsmotoren, einer Position des Trägers und/oder des Greifarms, einer Beschleunigung des Trägers und/oder des Greifarms und/oder einer Spannung eines der Förderbänder bzw. der Förderbänder umfassen.Advantageously, the manipulator device can have a horizontally movable carrier connected to a conveyor belt of the conveyor device, with at least one gripping arm that can be moved vertically relative to the carrier. The conveyor belt can be driven by a drive motor of the conveyor device. The carrier can have a conveyor belt, by means of which the gripping arm can be moved relative to the carrier, wherein the conveyor belt can be driven by a drive motor of the carrier. The gripping arm can be designed as a receptacle. The device can comprise a sensor device for monitoring a current of one of the drive motors or drive motors, a temperature of one of the drive motors or drive motors, a position of the carrier and/or the gripping arm, an acceleration of the carrier and/or the gripping arm and/or a tension of one of the conveyor belts or conveyor belts.

Die Transportaufnahme kann Aufnahmeelemente aufweisen, welche zum Greifen der Transportaufnahme mittels der Greifarms dienen können. Die Transportaufnahme kann ein Identifikationselement, beispielsweise einen Barcode oder einen RFID-Transponder aufweisen, wobei die Vorrichtung eine Leseeinrichtung bzw. Identifikationseinrichtung zum Auslesen bzw. Identifizieren des Identifikationselements umfassen kann. Dies ermöglicht eine Zuordnung der Transportaufnahme zum Prozessablauf bzw. eine Überwachung der Transportaufnahme im Prozessablauf.The transport receptacle can have receiving elements which can be used to grip the transport receptacle by means of the gripping arm. The transport receptacle can have an identification element, for example a barcode or an RFID transponder, wherein the device can include a reading device or identification device for reading out or identifying the identification element. This enables the transport recording to be assigned to the process flow or monitoring of the transport recording in the process flow.

Vorteilhafterweise kann die Vorrichtung eine Eingangs-/ Ausgangsstation zur Bestückung der Vorrichtung mit zumindest einer Transportaufnahme bzw. zur Entnahme der Transportaufnahme aus der Vorrichtung und/oder die Mehrzahl von Arbeitsstationen zumindest eine Reinigungsstation, zumindest eine Spülstation zur Entfernung etwaiger Rückstände von Waferoberflächen und/oder eine Trocknungsstation umfassen. Die Eingangs-/Ausgangsstation kann, vorzugsweise automatisch ein- und ausfahrbare, Schubladen aufweisen. Die Schubladen können jeweils mittels eines Antriebsmotors der Schublade ein- und ausfahrbar sein. Alternativ oder zusätzlich kann ein jeweiliger Griff der Schublade ein manuelles Ein- und Ausfahren der Schublade ermöglichen. Weiter kann jede Schublade einen Boden mit auf dem Boden angeordneten Positionierelementen zur Positionierung der Transportaufnahme aufweisen. Eine Bestückung einer Schublade mit einer Transportaufnahme kann mittels einer Erkennungseinrichtung der Vorrichtung bzw. Schublade erkennbar sein, sodass der Greifarm nachfolgend einem infolge einer Erkennung der Bestückung der Schublade ausgelösten automatischen Einfahren der Schublade die Transportaufnahme aufnehmen kann. Sobald die Transportaufnahme mittels des Greifarms aufgenommen worden ist, kann die Vorrichtung durch ein automatisches Ausfahren der Schublade und/oder eine Ausgabe einer Meldung anzeigen, dass die Schublade erneut mit einer Transportaufnahme bestückt werden kann. Eine Transportaufnahme mit fertig bearbeiteten Wafern, das heißt insbesondere mit auf deren Anschlussflächen erzeugten Kontaktmetallisierungen, kann mittels des Greifarms in einer Schublade abgelegt werden, sodass die Transportaufnahme nachfolgend aus der, vorzugsweise automatisch, ausgefahrenen Schublade entnommen werden kann. Die Schubladen können Eingangsschubladen zur Bestückung der Vorrichtung mit zumindest einer Transportaufnahme und Ausgangsschubladen zur Entnahme der Transportaufnahme aus der Vorrichtung umfassen. Vorteilhafterweise kann im Wesentlichen der gesamte Prozess vollautomatisch erfolgen.Advantageously, the device can have an input/output station for equipping the device with at least one transport receptacle or for removing the transport receptacle from the device and/or the plurality of work stations at least one cleaning station, at least one rinsing station for removing any residues from wafer surfaces and/or one Include drying station. The entry/exit station can have drawers, preferably automatically retractable and extendable ones. The drawers can each be extended and extended using a drive motor for the drawer. Alternatively or additionally, a respective handle of the drawer can enable the drawer to be moved in and out manually. Furthermore, each drawer can have a base with positioning elements arranged on the base for positioning the transport receptacle. Equipping a drawer with a transport receptacle can be recognized by means of a recognition device of the device or drawer, so that the gripper arm can subsequently accommodate the transport receptacle following an automatic retraction of the drawer triggered by detection of the loading of the drawer. As soon as the transport receptacle has been picked up by means of the gripper arm, the device can indicate by automatically extending the drawer and/or issuing a message that the drawer can be re-equipped with a transport receptacle. A transport receptacle with finished wafers, that is, in particular with contact metallizations produced on their connection surfaces, can be placed in a drawer by means of the gripper arm, so that the transport receptacle can subsequently be removed from the, preferably automatically, extended drawer. The drawers can include input drawers for equipping the device with at least one transport receptacle and output drawers for removing the transport receptacle from the device. Advantageously, the entire process can essentially be carried out fully automatically.

Nachfolgend werden bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen näher erläutert.Preferred embodiments of the invention are explained in more detail below with reference to the accompanying drawings.

Es zeigen:

• 1 eine perspektivische Ansicht einer Abscheidungsstation von einer Seite, schräg von oben mit teilweise explodierten Komponenten;
• 2 eine perspektivische Ansicht der Abscheidungsstation von hinten, schräg von oben mit teilweise explodierten Komponenten;
• 3 eine perspektivische Ansicht der Abscheidungsstation von einer anderen Seite, schräg von oben mit teilweise explodierten Komponenten;
• 4 eine perspektivische Ansicht der Abscheidungsstation von vorne, schräg von oben mit teilweise explodierten Komponenten;
• 5 eine Draufsicht der Abscheidungsstation mit teilweise explodierten Komponenten;
• 6 eine Explosionsansicht einer Beckenanordnung der Abscheidungsstation von einer Seite, schräg von oben;
• 7 eine Explosionsansicht der Beckenanordnung von der Seite, schräg von unten;
• 8 eine Explosionsansicht der Beckenanordnung von vorne, schräg von oben;
• 9 eine Explosionsansicht der Beckenanordnung von einer anderen Seite, schräg von oben;
• 10 eine perspektivische Ansicht der Beckenanordnung von hinten, schräg von oben;
• 11 eine perspektivische Ansicht der Beckenanordnung von vorne, schräg von unten;
• 12 eine Schnittansicht der Beckenanordnung von hinten;
• 13 eine Schnittansicht der Beckenanordnung von der Seite;
• 14 eine perspektivische Teilansicht einer Vorrichtung zur Erzeugung von Kontaktmetallisierungen von einer Seite bei außerhalb eines Prozessraums positionierter Transportaufnahme;
• 15 eine perspektivische Teilansicht der Vorrichtung von der Seite bei innerhalb des Prozessraums positionierter Transportaufnahme;
• 16 eine Teilansicht der Vorrichtung von der Seite im Schnitt bei innerhalb des Prozessraums positionierter Transportaufnahme;
• 17 eine weitere Teilansicht der Vorrichtung von der Seite im Schnitt bei innerhalb des Prozessraums positionierter Transportaufnahme;
• 18 eine perspektivische Ansicht insbesondere einer Dosieranordnung der Abscheidungsstation von einer Seite, schräg von oben;
• 19 eine perspektivische Ansicht einer Abscheidungsstation von einer Seite in einer weiteren Ausführungsform;
• 20 eine perspektivische Ansicht einer Abscheidungsstation von einer Seite in einer weiteren Ausführungsform;
• 21 eine perspektivische Ansicht einer Beckenanordnung in einer weiteren Ausführungsform von hinten, schräg von oben bei einem geschlossenen Deckel der Beckenanordnung in der weiteren Ausführungsform;
• 22 eine perspektivische Ansicht der Beckenanordnung in der weiteren Ausführungsform von hinten, schräg von oben bei dem geöffneten Deckel der Beckenanordnung in der weiteren Ausführungsform;
• 23 eine perspektivische Ansicht der Beckenanordnung in der weiteren Ausführungsform von einer Seite, schräg von unten bei dem geöffneten Deckel der Beckenanordnung in der weiteren Ausführungsform;
• 24 eine perspektivische Ansicht einer Fördereinrichtung einer Vorrichtung zur Erzeugung von Kontaktmetallisierungen in einer weiteren Ausführungsform mit einer daran angeordneten Manipulatoreinrichtung der Vorrichtung in der weiteren Ausführungsform von einer Seite;
• 25 eine perspektivische Ansicht der Manipulatoreinrichtung von einer Seite;
• 26 eine perspektivische Ansicht einer Schublade einer Eingangs-/ Ausgangsstation der Vorrichtung in der weiteren Ausführungsform;
• 27 eine Seitenansicht der Schublade;
• 28 eine perspektivische Ansicht der Vorrichtung in der weiteren Ausführungsform.

Show it:

• 1 a perspective view of a deposition station from one side, obliquely from above, with partially exploded components;
• 2 a perspective view of the deposition station from behind, obliquely from above with partially exploded components;
• 3 a perspective view of the deposition station from another side, obliquely from above, with partially exploded components;
• 4 a perspective view of the deposition station from the front, obliquely from above with partially exploded components;
• 5 a top view of the deposition station with partially exploded components;
• 6 an exploded view of a basin arrangement of the deposition station from one side, obliquely from above;
• 7 an exploded view of the pool assembly from the side, diagonally from below;
• 8th an exploded view of the cymbal assembly from the front, diagonally from above;
• 9 an exploded view of the pool assembly from another side, obliquely from above;
• 10 a perspective view of the cymbal arrangement from behind, diagonally from above;
• 11 a perspective view of the cymbal arrangement from the front, diagonally from below;
• 12 a sectional rear view of the cymbal assembly;
• 13 a sectional view of the pool assembly from the side;
• 14 a perspective partial view of a device for producing contact metallizations from one side with the transport receptacle positioned outside a process space;
• 15 a partial perspective view of the device from the side with the transport holder positioned within the process space;
• 16 a partial view of the device from the side in section with the transport holder positioned within the process space;
• 17 a further partial view of the device from the side in section with the transport holder positioned within the process space;
• 18 a perspective view, in particular of a dosing arrangement of the deposition station from one side, obliquely from above;
• 19 a perspective view of a deposition station from one side in another embodiment;
• 20 a perspective view of a deposition station from one side in another embodiment;
• 21 a perspective view of a basin arrangement in a further embodiment from behind, obliquely from above with a closed lid of the basin arrangement in the further embodiment;
• 22 a perspective view of the basin arrangement in the further embodiment from behind, obliquely from above with the lid of the basin arrangement in the further embodiment open;
• 23 a perspective view of the basin arrangement in the further embodiment from one side, obliquely from below with the lid of the basin arrangement in the further embodiment open;
• 24 a perspective view of a conveyor device of a device for producing contact metallizations in a further embodiment with a manipulator device of the device arranged thereon in the further embodiment from one side;
• 25 a perspective view of the manipulator device from one side;
• 26 a perspective view of a drawer of an entry/exit station of the device in the further embodiment;
• 27 a side view of the drawer;
• 28 a perspective view of the device in the further embodiment.

Eine Zusammenschau der 1 bis 18 zeigt eine Abscheidungsstation 10, umfassend eine Beckenanordnung 11 mit einem einen Prozessraum 12 ausbildenden Becken 13 zur Aufnahme einer hier nicht gezeigten Lösung aus in einer Flüssigkeit gelöstem Metall zur Abscheidung auf einer Anschlussfläche von in einer in den Prozessraum 12 aufnehmbaren Transportaufnahme 14 aufgenommenen Mehrzahl von Wafern 15, welche zur Durchführung eines Abscheidungsprozesses von oben in das Becken 13 einsetzbar bzw. danach wieder aus dem Becken 13 entfernbar und dabei mittels einer Manipulatoreinrichtung 16 handhabbar ist.A summary of the 1 to 18 shows a deposition station 10, comprising a tank arrangement 11 with a tank 13 forming a process chamber 12 for receiving a solution (not shown here) of metal dissolved in a liquid for deposition on a connection surface of a plurality of wafers 15 received in a transport holder 14 that can be received in the process chamber 12, which can be inserted into the tank 13 from above to carry out a deposition process or can then be removed again from can be removed from the basin 13 and handled by means of a manipulator device 16.

Das Becken 13 weist einen Zulauf 17 zur Einleitung der Lösung in das Becken 13 auf, wobei das Becken 13 eine den Zulauf 17 des Beckens 13 mitausbildende Perforation 18 aufweist, welche dazu eingerichtet ist, die Lösung homogen in den Prozessraum 12 einzuleiten. Dabei ist der Zulauf 17 des Beckens 13 bodenseitig an dem Becken 13 angeordnet, so dass eine Bodenwand 19 des Beckens 13 die Perforation 18 aufweist.The basin 13 has an inlet 17 for introducing the solution into the basin 13, the basin 13 having a perforation 18 which also forms the inlet 17 of the basin 13 and which is designed to introduce the solution homogeneously into the process space 12. The inlet 17 of the basin 13 is arranged on the bottom side of the basin 13, so that a bottom wall 19 of the basin 13 has the perforation 18.

Weiter weist das Becken 13 einen den Zulauf 17 des Beckens 13 mitausbildenden, unterhalb der Bodenwand 19 des Beckens 13 angeordneten Unterbau 20 auf, welcher einen von der Lösung durchströmbaren Hohlraum 21 ausbildet, welcher von der Bodenwand 19 des Beckens 13, Seitenwänden 22 des Unterbaus 20 und einer Bodenwand 23 des Unterbaus 20 begrenzt wird, wobei das Becken 13 einen den Zulauf 17 des Beckens 13 mitausbildenden, in eine die Bodenwand 23 des Unterbaus 20 und eine Bodenwand 24 eines weiteren Beckens 34 der Beckenanordnung 11 durchgreifende Durchgangsöffnung 26 eingesetzten Zulaufstutzen 27 aufweist, welcher an einem in den Hohlraum 21 hineinragenden Abschnitt 28 des Zulaufstutzens 27 umfangseitig eine Perforation 29 aufweist, welche dazu eingerichtet ist, die Lösung in den Hohlraum 21 einzuleiten. Der Zulaufstutzen 27 ist dabei zentral unterhalb der Bodenwand 19 des Beckens 13 angeordnet.Furthermore, the basin 13 has a substructure 20 which also forms the inlet 17 of the basin 13 and is arranged below the bottom wall 19 of the basin 13, which forms a cavity 21 through which the solution can flow, which is formed by the bottom wall 19 of the basin 13, side walls 22 of the substructure 20 and a bottom wall 23 of the substructure 20, the basin 13 having an inlet connection 27 which also forms the inlet 17 of the basin 13 and is inserted into a through opening 26 which passes through the base wall 23 of the substructure 20 and a base wall 24 of a further basin 34 of the basin arrangement 11, which has a circumferential perforation 29 on a section 28 of the inlet connection 27 that projects into the cavity 21 and is designed to introduce the solution into the cavity 21. The inlet connection 27 is arranged centrally below the bottom wall 19 of the basin 13.

Weiter weist das Becken 13 einen, seitlich an dem Becken 13 angeordneten, Ablauf 30 zur Ausleitung der Lösung aus dem Becken 13 auf, wobei Seitenwände 31 des Beckens 13 jeweils eine jeweils in einem Bereich einer Kante 32 der Seitenwände 31 ausgebildete Perforation 33 aufweisen, welche den Ablauf 30 des Beckens 13 ausbildet.Furthermore, the basin 13 has a drain 30 arranged laterally on the basin 13 for discharging the solution from the basin 13, with side walls 31 of the basin 13 each having a perforation 33 formed in an area of an edge 32 of the side walls 31, which the drain 30 of the pool 13 forms.

Weiter umfasst die Beckenanordnung 11 ein weiteres Becken 34, wobei das Becken 13 in das weitere Becken 34 eingesetzt ist.Furthermore, the basin arrangement 11 comprises a further basin 34, wherein the basin 13 is inserted into the further basin 34.

Das weitere Becken 34 weist bodenseitig an dem weiteren Becken 34 angeordnete Abläufe 35, 36 zur Ausleitung der Lösung aus dem weiteren Becken 34 auf, welche endseitig und diagonal versetzt an der Bodenwand 24 des weiteren Beckens 34 angeordnet sind.The further basin 34 has drains 35, 36 arranged on the bottom of the further basin 34 for discharging the solution from the further basin 34, which are arranged at the ends and diagonally offset on the bottom wall 24 of the further basin 34.

Vorliegend sind der Zulauf 17 des Beckens 13 zur Einleitung der Lösung aus einem Bereich 25 außerhalb der Beckenanordnung 11 in das Becken 13, der Ablauf 30 des Beckens 13 zur Ausleitung der Lösung aus dem Becken 13 in das weitere Becken 34 und die Abläufe 35, 36 des weiteren Beckens 34 zur Ausleitung der Lösung aus dem weiteren Becken 34 zu dem Bereich 25 außerhalb der Beckenanordnung 11 vorgesehen.In the present case, the inlet 17 of the basin 13 is provided for introducing the solution from an area 25 outside the basin arrangement 11 into the basin 13, the outlet 30 of the basin 13 is provided for discharging the solution from the basin 13 into the further basin 34 and the outlets 35, 36 of the further basin 34 are provided for discharging the solution from the further basin 34 to the area 25 outside the basin arrangement 11.

Weiter weist das weitere Becken 34 zwei seitlich an dem weiteren Becken 34 angeordnete Zuläufe 37, 38 zur Einleitung der Lösung von einem Bereich 25 außerhalb der Beckenanordnung 11 in das weitere Becken 34 auf.Furthermore, the further basin 34 has two inlets 37, 38 arranged laterally on the further basin 34 for introducing the solution from an area 25 outside the basin arrangement 11 into the further basin 34.

Das Becken 13 ist derart zentriert in das weitere Becken 34 eingesetzt, dass die Lösung durch den Ablauf 30 des Beckens 13 aus dem Becken 13 heraus in einen insbesondere von den Seitenwänden 31 des Beckens 13 und Seitenwänden 39 des weiteren Beckens 34 begrenzten Bereich 40 des weiteren Beckens 34 einleitbar ist, wobei die Seitenwände 31 des Beckens 13 jeweils in einem Bereich der Kante 32 der Seitenwände 31 des Beckens 13 einen senkrecht von den Seitenwänden 31 des Beckens 13 in eine Richtung der Seitenwände 39 des weiteren Beckens 34 vorspringenden Rand 41 aufweisen, welcher derart teilweise auf einem entsprechend ausgebildeten Rand 42 der Seitenwände 39 des weiteren Beckens 34 aufliegt, dass eine Öffnung 43 des weiteren Beckens 34 abgedeckt ist. Das Becken 13 ist mittels Schraubenmitteln 44 der Beckenanordnung 11 lösbar mit dem weiteren Becken 34 verbunden.The basin 13 is inserted in the further basin 34 in a centered manner such that the solution can be introduced through the drain 30 of the basin 13 out of the basin 13 into an area 40 of the further basin 34, which is delimited in particular by the side walls 31 of the basin 13 and side walls 39 of the further basin 34, the side walls 31 of the basin 13 each having, in an area of the edge 32 of the side walls 31 of the basin 13, an edge 41 which projects perpendicularly from the side walls 31 of the basin 13 in a direction of the side walls 39 of the further basin 34 and which partially rests on a correspondingly designed edge 42 of the side walls 39 of the further basin 34 in such a way that an opening 43 of the further basin 34 is covered. The basin 13 is detachably connected to the further basin 34 by means of screw means 44 of the basin arrangement 11.

Weiter weist die Beckenanordnung 11 eine in dem weiteren Becken 34 angeordnete Füllstandmesseinrichtung 45 auf, welche dazu eingerichtet ist, einen Füllstand in dem weiteren Becken 34 zu messen.Furthermore, the basin arrangement 11 has a fill level measuring device 45 arranged in the further basin 34, which is set up to measure a fill level in the further basin 34.

Ferner weist die Beckenanordnung 11 eine Heizeinrichtung 46 auf, welche in dem weiteren Becken 34 angeordnet ist und dazu eingerichtet ist, die Lösung zu erhitzen. Dabei ist die Heizeinrichtung 46 in einem unteren Teil 48 des Bereichs 40, das Becken 13 umfangseitig umgebend angeordnet.Furthermore, the basin arrangement 11 has a heating device 46, which is arranged in the further basin 34 and is designed to heat the solution. The heating device 46 is arranged in a lower part 48 of the region 40, surrounding the basin 13 on the circumference.

Weiter weist die Beckenanordnung 11 einen verschwenkbaren Deckel 49 auf, welcher eine Öffnung 50 des Beckens 13 in einer Schließstellung des Deckels 49 abdeckt, wobei der Deckel 49 in einem Bereich einer Schwenkachse 51 des Deckels 49 einen Führungsabschnitt 52 ausbildet, welcher dazu eingerichtet ist, ein an einer Innenseite 53 des Deckels 49 etwaig gebildetes Kondensat bei einem Verbringen des Deckels 49 in eine Öffnungsstellung des Deckels 49 in das Becken 13 zu führen.Furthermore, the basin arrangement 11 has a pivotable lid 49 which covers an opening 50 of the basin 13 in a closed position of the lid 49, wherein the lid 49 forms a guide section 52 in a region of a pivot axis 51 of the lid 49, which is designed to guide any condensate formed on an inner side 53 of the lid 49 into the basin 13 when the lid 49 is brought into an open position of the lid 49.

Die Abscheidungsstation 10 umfasst eine Rohranordnung 54, welche die Abscheidungsstation 10 in einen Fluidkreislauf 55 einbindet.The deposition station 10 includes a pipe arrangement 54, which integrates the deposition station 10 into a fluid circuit 55.

Weiter umfasst die Abscheidungsstation 10 eine Pumpeneinrichtung 56, welche dazu eingerichtet ist, die Lösung in dem Fluidkreislauf 55 zirkulieren zu lassen.Furthermore, the separation station 10 comprises a pump device 56, which is set up to is designed to circulate the solution in the fluid circuit 55.

Ferner umfasst die Abscheidungsstation 10 eine Filtereinrichtung 57, welche dazu eingerichtet ist, die in dem Fluidkreislauf 55 strömende Lösung zu reinigen.Furthermore, the separation station 10 includes a filter device 57, which is set up to clean the solution flowing in the fluid circuit 55.

Zudem umfasst die Abscheidungsstation 10 eine Volumenstromeinrichtung 58, welche dazu eingerichtet ist, einen Volumenstrom der Lösung in dem Fluidkreislauf 55 zu messen bzw. anzupassen, eine Ventilanordnung 59, welche dazu eingerichtet ist, die Beckenanordnung 11 zu entleeren, eine Probenanalyseeinrichtung 60, welche dazu eingerichtet ist, eine Probe der Lösung zu entnehmen und, insbesondere im Hinblick auf einen pH-Wert der Probe, zu analysieren, eine Kühleinrichtung 47 sowie eine Dosieranordnung 61 mit drei Behältern 62 zur Aufnahme einer hier nicht gezeigten in der Lösung enthaltenen Komponente, wobei jedem Behälter 62 eine Dosierpumpe 63 der Dosieranordnung 61 zugeordnet ist, wobei die Dosieranordnung 61 dazu eingerichtet ist, die Komponente in die Lösung zu dosieren.In addition, the separation station 10 comprises a volume flow device 58, which is designed to measure or adjust a volume flow of the solution in the fluid circuit 55, a valve arrangement 59, which is designed to empty the basin arrangement 11, a sample analysis device 60, which is designed to take a sample of the solution and to analyze it, in particular with regard to a pH value of the sample, a cooling device 47 and a dosing arrangement 61 with three containers 62 for receiving a component (not shown here) contained in the solution, wherein each container 62 is assigned a dosing pump 63 of the dosing arrangement 61, wherein the dosing arrangement 61 is designed to dose the component into the solution.

Die Kühleinrichtung 47, die Probenanalyseeinrichtung 60 und die Dosieranordnung 61 sind explodiert von der Beckenanordnung 11 dargestellt und können entsprechend insbesondere an der Beckenanordnung 11 angeordnet bzw. angeschlossen werden.The cooling device 47, the sample analysis device 60 and the dosing arrangement 61 are shown exploded from the basin arrangement 11 and can be arranged or connected accordingly, in particular to the basin arrangement 11.

Die Rohranordnung 54 umfasst eine Vielzahl von Rohrabschnitten, wobei sich die Rohrabschnitte teilweise aus mehreren miteinander verbundenen Rohrelementen zusammensetzen, welche aus den Figuren zwar grundsätzlich ersichtlich sind, jedoch im Folgenden nicht einzeln behandelt werden.The pipe arrangement 54 comprises a plurality of pipe sections, wherein the pipe sections are partially composed of several interconnected pipe elements, which are generally apparent from the figures, but are not discussed individually below.

Ein Rohrabschnitt 64 verbindet die Abläufe 35, 36 des weiteren Beckens 34 mit der Pumpeneinrichtung 56. Ein weiterer Rohrabschnitt 65 verbindet die Pumpeneinrichtung 56 mit der Filtereinrichtung 57, wobei ein weiterer Rohrabschnitt 66 die Filtereinrichtung 57 mit dem Zulauf 17 des Beckens 13 verbindet. Zudem ist ein weiterer Rohrabschnitt 67 vorgesehen, welcher die Filtereinrichtung 57 mit den Zuläufen 37, 38 des weiteren Beckens 34 verbindet. Zudem verbindet ein Bypassrohrabschnitt 68 den Rohrabschnitt 64 mit dem weiteren Rohrabschnitt 66.A pipe section 64 connects the outlets 35, 36 of the further basin 34 with the pump device 56. A further pipe section 65 connects the pump device 56 with the filter device 57, with a further pipe section 66 connecting the filter device 57 with the inlet 17 of the basin 13. In addition, a further pipe section 67 is provided, which connects the filter device 57 with the inlets 37, 38 of the further basin 34. In addition, a bypass pipe section 68 connects the pipe section 64 with the further pipe section 66.

Die Volumenstromeinrichtung 58 ist in den weiteren Rohrabschnitt 66 integriert. Weiter ist die Ventilanordnung 59 über den Bypassrohrabschnitt 68 an den Rohrabschnitt 64 und ferner an den weiteren Rohrabschnitt 66 angebunden, um eine Entleerung des Beckens 13 und des weiteren Beckens 34 zu ermöglichen.The volume flow device 58 is integrated into the further pipe section 66. Furthermore, the valve arrangement 59 is connected via the bypass pipe section 68 to the pipe section 64 and further to the further pipe section 66 in order to enable emptying of the basin 13 and the further basin 34.

Mittels der Manipulatoreinrichtung 16, welche Bestandteil einer Vorrichtung zur Erzeugung von Kontaktmetallisierungen 69 ist, zu welcher auch die Abscheidungsstation 10 gehört, ist die Transportaufnahme 14 mit den darin vertikal positionierten Wafern 15 in den Prozessraum 12 einsetzbar bzw. aus diesem entfernbar, wobei sich die in den Prozessraum 12 eingesetzte Transportaufnahme 14 auf vier auf der Bodenwand 19 des Beckens 13 angeordneten Auflageelementen 70 der Beckenanordnung 11 abstützt.By means of the manipulator device 16, which is part of a device for producing contact metallizations 69, to which the deposition station 10 also belongs, the transport receptacle 14 with the wafers 15 positioned vertically therein can be inserted into or removed from the process space 12, the in The transport receptacle 14 used in the process space 12 is supported on four support elements 70 of the basin arrangement 11 arranged on the bottom wall 19 of the basin 13.

Die 19 zeigt eine Abscheidungsstation 71. Eine Filtereinrichtung 72 der Abscheidungsstation umfasst hier einen Vorfilter 73 und einen Hauptfilter 74. Zudem sind eine Probenanalyseeinrichtung 75 der Abscheidungsstation 71 und eine Kühleinrichtung 76 der Abscheidungsstation 71 hier an einer Beckenanordnung 77 der Abscheidungsstation 71 angeordnet. Weiter ist ein Befüllungsrohrabschnitt 79 vorgesehen, welcher einer Neubefüllung bzw. Wiederbefüllung der Beckenanordnung 77 dient. Im Übrigen entspricht die Abscheidungsstation 71 in ihren wesentlichen Komponenten der Abscheidungsstation 10.The 19 shows a separation station 71. A filter device 72 of the separation station here comprises a pre-filter 73 and a main filter 74. In addition, a sample analysis device 75 of the separation station 71 and a cooling device 76 of the separation station 71 are arranged here on a basin arrangement 77 of the separation station 71. Furthermore, a filling pipe section 79 is provided, which serves to refill or refill the basin arrangement 77. Otherwise, the deposition station 71 corresponds to the deposition station 10 in its essential components.

Die 20 zeigt eine Abscheidungsstation 78, die im Wesentlichen der Abscheidungsstation 71 entspricht.The 20 shows a deposition station 78, which essentially corresponds to the deposition station 71.

Eine Zusammenschau der 21 bis 23 zeigt eine Beckenanordnung 80 mit einem Becken 81, einem weiteren Becken 82 und einem verschwenkbaren Deckel 83, wobei in das Becken 81 eine Transportaufnahme 84 mit einer darin aufgenommenen Mehrzahl von Wafern 85 eingesetzt ist. Weiter weist die Beckenanordnung 80 eine Bewegungseinrichtung 86 auf, welche zur Durchführung einer vertikalen Bewegung der Transportaufnahme 84 in dem Becken 81 eingerichtet ist. Die Bewegungseinrichtung 86 umfasst ein vertikal bewegbares, rahmenartiges Bewegungselement 87, welches mit einem Führungsabschnitt 88 des Bewegungselements 87 in einem seitlich an dem weiteren Becken 82 angeordneten Führungssystem 89 der Bewegungseinrichtung 86 geführt ist. Mittels eines ebenfalls seitlich an dem weiteren Becken 82 angeordneten, programmierbaren Aktuatorsystems 90 der Bewegungseinrichtung 86 ist das Bewegungselement 87 in die vertikale Bewegung versetzbar, wobei die Transportaufnahme 84 von einem in das Becken 81 ragenden Halteabschnitt 91 des Bewegungselements 87 gehalten wird. Der Deckel 83 ist mit Ausnehmungen 92 ausgebildet, welche von dem Bewegungselement 87 bei dem geschlossenen Deckel 83 durchgriffen werden. Diese Ausbildung des Deckels 83 ermöglicht die Durchführung der vertikalen Bewegung bei dem geschlossenen Deckel 83, wobei das Bewegungselement 87 bei der vertikalen Bewegung abwechselnd aus dem Deckel 83 herausfährt und in den Deckel 84 hineinfährt. Weiter weist der Deckel 83 innenseitig eine Beschichtung 93 zur Vermeidung von Kondensaten auf. Im Übrigen entspricht die Beckenanordnung 80 in ihren wesentlichen Komponenten der Beckenanordnung 11.A summary of the 21 to 23 shows a basin arrangement 80 with a basin 81, a further basin 82 and a pivotable lid 83, wherein a transport holder 84 with a plurality of wafers 85 received therein is inserted into the basin 81. The basin arrangement 80 also has a movement device 86 which is set up to carry out a vertical movement of the transport holder 84 in the basin 81. The movement device 86 comprises a vertically movable, frame-like movement element 87 which is guided by a guide section 88 of the movement element 87 in a guide system 89 of the movement device 86 arranged laterally on the further basin 82. The movement element 87 can be set into vertical movement by means of a programmable actuator system 90 of the movement device 86, which is also arranged laterally on the further basin 82, wherein the transport holder 84 is held by a holding section 91 of the movement element 87 which projects into the basin 81. The cover 83 is formed with recesses 92 through which the movement element 87 passes when the cover 83 is closed. This design of the cover 83 enables the vertical movement to be carried out when the cover 83 is closed, whereby the movement element 87 alternately extends out of the cover 83 during the vertical movement. extends and moves into the cover 84. The cover 83 also has a coating 93 on the inside to prevent condensate. Otherwise, the basin arrangement 80 corresponds in its essential components to the basin arrangement 11.

Eine Zusammenschau der 24 bis 28 zeigt eine Vorrichtung 94 zur Erzeugung von Kontaktmetallisierungen auf Anschlussflächen von in einer Transportaufnahme 95 aufgenommenen Wafern 96, umfassend eine Eingangs-/ Ausgangsstation 97 zur Bestückung der Vorrichtung 94 mit Transportaufnahmen 95 und eine Mehrzahl von Arbeitsstationen, von denen hier nur zwei Abscheidungsstationen 98, 99 ersichtlich sind. Die Eingangs-/Ausgangsstation 97 und die Arbeitsstationen bzw. Abscheidungsstationen 98, 99 sind in einer Linie angeordnet. In zwei freien Bereichen 100, 101 der Vorrichtung 94 kann jeweils eine weitere Arbeitsstation angeordnet werden. Jede Arbeitsstation bzw. Abscheidungsstation 98, 99 weist einen hier nicht gezeigten Prozessraum zur Aufnahme der Transportaufnahme 95 auf. Weiter weist die Vorrichtung 94 eine Manipulatoreinrichtung 102 zur Handhabung der Transportaufnahme 95 auf, wobei die Vorrichtung 94 eine Fördereinrichtung 103 aufweist, an welcher die Manipulatoreinrichtung 102 angeordnet ist, wobei in einer hier nicht gezeigten Förderrichtung die Manipulatoreinrichtung 102 im Zusammenwirken mit der Fördereinrichtung 103 eine Anordnung der Transportaufnahme 95 in einer wählbaren Reihenfolge der Prozessräume ermöglicht. Zudem ist eine Bedienerschnittstelle 104 der Vorrichtung 94 vorgesehen. Ferner weist die Manipulatoreinrichtung 102 einen mit einem Förderband 105 der Fördereinrichtung 103 verbundenen, horizontal verfahrbaren Träger 106 mit einem vertikal gegenüber dem Träger 106 verfahrbaren Greifarm 107 auf. Das Förderband 105 wird von einem Antriebsmotor 108 der Fördereinrichtung 103 angetrieben. Der Träger 106 weist ein von einem Antriebsmotor 109 des Trägers 106 angetriebenes Förderband 110 auf, mittels dessen der Greifarm 107 gegenüber dem Träger 106 verfahrbar ist. Die Eingangs-/ Ausgangsstation 97 ist mit Schubladen 111 ausgebildet, welche jeweils mittels eines Antriebsmotors 112 der Schublade 111 automatisch ein- und ausfahrbar sind. Ein jeweiliger Griff 113 der Schublade 111 ermöglicht zusätzlich ein manuelles Ein- und Ausfahren der Schublade 111 durch einen Bediener. Weiter weist jede Schublade 111 einen Boden 114 mit auf dem Boden 114 angeordneten Positionierelementen 115 zur Positionierung der Transportaufnahme 95 auf. Ferner sind Aufnahmeelemente 116 der Transportaufnahme 95 ersichtlich, welche zum Greifen der Transportaufnahme 95 mittels des Greifarms 107 dienen.A summary of the 24 to 28 shows a device 94 for producing contact metallizations on connection surfaces of wafers 96 held in a transport holder 95, comprising an input/output station 97 for equipping the device 94 with transport holders 95 and a plurality of work stations, of which only two deposition stations 98, 99 are visible here. The input/output station 97 and the work stations or deposition stations 98, 99 are arranged in a line. In two free areas 100, 101 of the device 94, a further work station can be arranged. Each work station or deposition station 98, 99 has a process space (not shown here) for receiving the transport holder 95. The device 94 also has a manipulator device 102 for handling the transport holder 95, wherein the device 94 has a conveyor device 103 on which the manipulator device 102 is arranged, wherein in a conveying direction not shown here, the manipulator device 102 in cooperation with the conveyor device 103 enables the transport holder 95 to be arranged in a selectable order of the process spaces. In addition, an operator interface 104 of the device 94 is provided. The manipulator device 102 also has a horizontally movable carrier 106 connected to a conveyor belt 105 of the conveyor device 103 and having a gripping arm 107 that can be moved vertically relative to the carrier 106. The conveyor belt 105 is driven by a drive motor 108 of the conveyor device 103. The carrier 106 has a conveyor belt 110 driven by a drive motor 109 of the carrier 106, by means of which the gripping arm 107 can be moved relative to the carrier 106. The input/output station 97 is designed with drawers 111, each of which can be automatically extended and retracted by means of a drive motor 112 of the drawer 111. A respective handle 113 of the drawer 111 also enables the drawer 111 to be manually extended and retracted by an operator. Furthermore, each drawer 111 has a base 114 with positioning elements 115 arranged on the base 114 for positioning the transport holder 95. Furthermore, receiving elements 116 of the transport holder 95 can be seen, which serve to grip the transport holder 95 by means of the gripping arm 107.

Die in den 1 bis 28 gezeigten Gegenstände können auf sinnvolle Weise beliebig miteinander kombiniert werden.The ones in the 1 to 28 The items shown can be combined with each other in any meaningful way.

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

• CN 203760439 U [0003]CN 203760439 U [0003]

Claims (29)

Abscheidungsstation (10, 71, 78, 98, 99), umfassend eine Beckenanordnung (11, 77, 80) mit einem einen Prozessraum (12) ausbildenden Becken (13, 81) zur Aufnahme einer Lösung aus in einer Flüssigkeit gelöstem Metall, insbesondere Nickel, Zink, Palladium, Gold oder dergleichen, zur, vorzugsweise stromlosen, Abscheidung auf einem in den Prozessraum aufnehmbaren Objekt, insbesondere auf einer Anschlussfläche eines in den Prozessraum aufnehmbaren Wafers (15, 85, 96), wobei das Becken zumindest einen Zulauf (17) zur Einleitung der Lösung in das Becken aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass das Becken eine den Zulauf des Beckens zumindest mitausbildende Perforation (18) aufweist, welche dazu eingerichtet ist, die Lösung homogen in den Prozessraum einzuleiten. Deposition station (10, 71, 78, 98, 99), comprising a basin arrangement (11, 77, 80) with a basin (13, 81) forming a process space (12) for receiving a solution of metal, in particular nickel, dissolved in a liquid , zinc, palladium, gold or the like, for, preferably electroless, deposition on an object that can be received in the process space, in particular on a connection surface of a wafer (15, 85, 96) that can be received in the process space, the basin having at least one inlet (17) for introducing the solution into the basin, characterized in that the basin has a perforation (18) which at least forms the inlet of the basin and which is designed to introduce the solution homogeneously into the process space. Abscheidungsstation nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Zulauf (17) des Beckens (13, 81) bodenseitig an dem Becken angeordnet ist, wobei eine Bodenwand (19) des Beckens die Perforation (18) aufweist.Separation station after Claim 1 , characterized in that the inlet (17) of the basin (13, 81) is arranged on the bottom side of the basin, a bottom wall (19) of the basin having the perforation (18). Abscheidungsstation nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Becken (13, 81) einen den Zulauf (17) des Beckens mitausbildenden, unterhalb der Bodenwand (19) des Beckens angeordneten Unterbau (20) aufweist, welcher einen von der Lösung durchströmbaren Hohlraum (21) ausbildet, welcher zumindest von der Bodenwand des Beckens und einer Bodenwand (23) des Unterbaus begrenzt wird, wobei das Becken einen den Zulauf des Beckens mitausbildenden, in eine zumindest die Bodenwand des Unterbaus durchgreifende Durchgangsöffnung (26) eingesetzten Zulaufstutzen (27) aufweist, welcher an einem in den Hohlraum hineinragenden Abschnitt (28) des Zulaufstutzens zumindest umfangseitig eine Perforation (29) aufweist, welche dazu eingerichtet ist, die Lösung in den Hohlraum einzuleiten.Separation station according to Claim 2 , characterized in that the basin (13, 81) has a substructure (20) which co-forms the inlet (17) of the basin and is arranged below the bottom wall (19) of the basin, which substructure forms a cavity (21) through which the solution can flow, which is delimited at least by the bottom wall of the basin and a bottom wall (23) of the substructure, wherein the basin has an inlet nozzle (27) which co-forms the inlet of the basin and is inserted into a through opening (26) which extends through at least the bottom wall of the substructure, which has a perforation (29) at least on the circumference of a section (28) of the inlet nozzle which projects into the cavity, which is designed to introduce the solution into the cavity. Abscheidungsstation nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Becken (13, 81) einen, vorzugsweise seitlich an dem Becken angeordneten, Ablauf (30) zur Ausleitung der Lösung aus dem Becken aufweist.Separation station according to one of the preceding claims, characterized in that the basin (13, 81) has a drain (30), preferably arranged laterally on the basin, for discharging the solution from the basin. Abscheidungsstation nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass Seitenwände (31) des Beckens (13, 81)jeweils eine, vorzugsweise jeweils in einem Bereich einer Kante (32) der Seitenwände ausgebildete, Perforation (33) aufweisen, welche den Ablauf (30) des Beckens ausbildet.Separation station according to Claim 4 , characterized in that side walls (31) of the basin (13, 81) each have a perforation (33), preferably formed in a region of an edge (32) of the side walls, which forms the drain (30) of the basin. Abscheidungsstation nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Beckenanordnung (11, 80) ein weiteres Becken (34, 82) umfasst, wobei das Becken (13, 81) in das weitere Becken eingesetzt ist.Separation station according to one of the preceding claims, characterized in that the basin arrangement (11, 80) comprises a further basin (34, 82), wherein the basin (13, 81) is inserted into the further basin. Abscheidungsstation nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das weitere Becken (34, 82) einen, vorzugsweise bodenseitig an dem weiteren Becken angeordneten, Ablauf (35, 36) zur Ausleitung der Lösung aus dem weiteren Becken aufweist.Separation station according to Claim 6 , characterized in that the further basin (34, 82) has an outlet (35, 36), preferably arranged on the bottom side of the further basin, for discharging the solution from the further basin. Abscheidungsstation zumindest nach den Ansprüchen 4 und 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Zulauf (17) des Beckens (13, 81) zur Einleitung der Lösung aus einem Bereich (25) außerhalb der Beckenanordnung (11, 77, 80) in das Becken, der Ablauf (30) des Beckens zur Ausleitung der Lösung aus dem Becken in das weitere Becken (34, 82) und der Ablauf (35, 36) des weiteren Beckens zur Ausleitung der Lösung aus dem weiteren Becken zu dem Bereich außerhalb der Beckenanordnung vorgesehen sind.Deposition station at least according to the Claims 4 and 7 , characterized in that the inlet (17) of the basin (13, 81) for introducing the solution from an area (25) outside the basin arrangement (11, 77, 80) into the basin, the outlet (30) of the basin for discharge the solution from the basin into the further basin (34, 82) and the drain (35, 36) of the further basin are provided for discharging the solution from the further basin to the area outside the basin arrangement. Abscheidungsstation zumindest nach den Ansprüchen 4 und 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Becken (13, 81) derart, vorzugsweise zentriert, in das weitere Becken (34, 82) eingesetzt ist, dass die Lösung durch den seitlich an dem Becken angeordneten Ablauf (30) des Beckens aus dem Becken heraus in einen zumindest von Seitenwänden (31) des Beckens und Seitenwänden (39) des weiteren Beckens begrenzten Bereich (40) des weiteren Beckens einleitbar ist, wobei die Seitenwände des Beckens jeweils in einem Bereich einer Kante (32) der Seitenwände des Beckens einen, vorzugsweise senkrecht, von den Seitenwänden des Beckens in eine Richtung der Seitenwände des weiteren Beckens vorspringenden Rand (41) aufweisen, welcher derart an den Seitenwänden des weiteren Beckens anliegt, dass eine Öffnung (43) des weiteren Beckens abgedeckt ist.Separation station at least according to the Claims 4 and 6 , characterized in that the basin (13, 81) is inserted into the further basin (34, 82) in such a way, preferably in a centered manner, that the solution can be introduced out of the basin through the basin outlet (30) arranged on the side of the basin into an area (40) of the further basin delimited at least by side walls (31) of the basin and side walls (39) of the further basin, wherein the side walls of the basin each have, in an area of an edge (32) of the side walls of the basin, an edge (41) which projects, preferably perpendicularly, from the side walls of the basin in a direction of the side walls of the further basin and which rests against the side walls of the further basin in such a way that an opening (43) of the further basin is covered. Abscheidungsstation nach einem der Ansprüche 6 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass das weitere Becken (34, 82) zumindest einen, vorzugsweise seitlich an dem weiteren Becken angeordneten, Zulauf (37, 38) zur Einleitung der Lösung von einem Bereich (25) außerhalb der Beckenanordnung (11, 77, 80) in das weitere Becken aufweist.Deposition station according to one of the Claims 6 until 9 , characterized in that the further basin (34, 82) has at least one inlet (37, 38), preferably arranged laterally on the further basin, for introducing the solution from an area (25) outside the basin arrangement (11, 77, 80) into the further basin. Abscheidungsstation nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Becken (13, 81) derart ausgebildet ist, dass eine Transportaufnahme (14, 84, 95) mit einer darin aufgenommenen Mehrzahl von Objekten, insbesondere von Wafern (15, 85, 96), von oben in das Becken einsetzbar ist.Deposition station according to one of the preceding claims, characterized in that the basin (13, 81) is designed such that a transport receptacle (14, 84, 95) with a plurality of objects, in particular wafers (15, 85, 96), received therein , can be inserted into the pool from above. Abscheidungsstation nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Abscheidungsstation (10, 71, 78, 98, 99) eine Manipulatoreinrichtung (16, 102) umfasst, welche dazu eingerichtet ist, die Transportaufnahme (14, 84, 95) in das Becken (13, 81) einzusetzen und aus dem Becken zu entfernen.Separation station according to Claim 11 , characterized in that the deposition station (10, 71, 78, 98, 99) comprises a manipulator device (16, 102) which is adapted to insert the transport holder (14, 84, 95) into the basin (13, 81) and to remove it from the basin. Abscheidungsstation nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Beckenanordnung (11, 77, 80) eine Füllstandmesseinrichtung (45) aufweist, welche dazu eingerichtet ist, einen Füllstand zu messen.Separation station according to one of the preceding claims, characterized in that the basin arrangement (11, 77, 80) has a level measuring device (45) which is designed to measure a level. Abscheidungsstation nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Beckenanordnung (11, 77, 80) und/oder die Abscheidungsstation (10, 71, 78, 98, 99) eine Heizeinrichtung (46) aufweist, welche dazu eingerichtet ist, die Lösung zu erhitzen.Deposition station according to one of the preceding claims, characterized in that the basin arrangement (11, 77, 80) and/or the deposition station (10, 71, 78, 98, 99) has a heating device (46) which is set up to heat the solution to heat. Abscheidungsstation nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Beckenanordnung (11, 77, 80) einen Deckel (49, 83) aufweist, welcher eine Öffnung (50) des Beckens (13, 81) in einer Schließstellung des Deckels abdeckt.Separation station according to one of the preceding claims, characterized in that the basin arrangement (11, 77, 80) has a lid (49, 83) which covers an opening (50) of the basin (13, 81) in a closed position of the lid. Abscheidungsstation nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass der Deckel (49, 83) verschwenkbar ist, wobei der Deckel in einem Bereich einer Schwenkachse (51) des Deckels einen Führungsabschnitt (52) ausbildet, welcher dazu eingerichtet ist, ein an einer Innenseite (53) des Deckels etwaig gebildetes Kondensat bei einem Verbringen des Deckels in eine Öffnungsstellung des Deckels in das Becken zu führen.Separation station according to Claim 15 , characterized in that the lid (49, 83) is pivotable, wherein the lid forms a guide section (52) in a region of a pivot axis (51) of the lid, which guide section is designed to guide any condensate formed on an inner side (53) of the lid into the basin when the lid is brought into an open position of the lid. Abscheidungsstation nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abscheidungsstation (10, 71, 78, 98, 99) eine Rohranordnung (54) umfasst, welche die Abscheidungsstation in einen Fluidkreislauf (55) einbindet.Separation station according to one of the preceding claims, characterized in that the separation station (10, 71, 78, 98, 99) comprises a pipe arrangement (54) which integrates the separation station into a fluid circuit (55). Abscheidungsstation nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Abscheidungsstation (10, 71, 78, 98, 99) eine Pumpeneinrichtung (56) umfasst, welche dazu eingerichtet ist, die Lösung in dem Fluidkreislauf (55) zirkulieren zu lassen.Separation station after Claim 17 , characterized in that the separation station (10, 71, 78, 98, 99) comprises a pump device (56) which is designed to circulate the solution in the fluid circuit (55). Abscheidungsstation nach Anspruch 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Abscheidungsstation (10, 71, 78, 98, 99) eine, vorzugsweise einen Vorfilter (73) und einen Hauptfilter (74) aufweisende, Filtereinrichtung (57, 72) umfasst, welche dazu eingerichtet ist, die in dem Fluidkreislauf (55) strömende Lösung zu reinigen.Separation station according to Claim 17 or 18 , characterized in that the separation station (10, 71, 78, 98, 99) comprises a filter device (57, 72), preferably having a pre-filter (73) and a main filter (74), which is designed to clean the solution flowing in the fluid circuit (55). Abscheidungsstation nach einem der Ansprüche 17 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass die Abscheidungsstation (10, 71, 78, 98, 99) eine Volumenstromeinrichtung (58) umfasst, welche dazu eingerichtet ist, einen Volumenstrom der Lösung in dem Fluidkreislauf (55) zu messen und/oder anzupassen.Deposition station according to one of the Claims 17 until 19 , characterized in that the separation station (10, 71, 78, 98, 99) comprises a volume flow device (58) which is set up to measure and/or adjust a volume flow of the solution in the fluid circuit (55). Abscheidungsstation nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abscheidungsstation (10, 71, 78, 98, 99) eine Ventilanordnung (59) umfasst, welche dazu eingerichtet ist, die Beckenanordnung (11, 77, 80) zu entleeren.Separation station according to one of the preceding claims, characterized in that the separation station (10, 71, 78, 98, 99) comprises a valve arrangement (59) which is adapted to empty the basin arrangement (11, 77, 80). Abscheidungsstation nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abscheidungsstation (10, 71, 78, 98, 99) eine Probenanalyseeinrichtung (60, 75) umfasst, welche dazu eingerichtet ist, eine Probe der Lösung, vorzugsweise aus der Beckenanordnung (11, 77, 80), zu entnehmen und, insbesondere im Hinblick auf einen pH-Wert der Probe, zu analysieren.Separation station according to one of the preceding claims, characterized in that the separation station (10, 71, 78, 98, 99) comprises a sample analysis device (60, 75) which is set up to take a sample of the solution, preferably from the basin arrangement (11, 77, 80), to be taken and analyzed, particularly with regard to a pH value of the sample. Abscheidungsstation nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abscheidungsstation (10, 71, 78, 98, 99) eine Kühleinrichtung (47, 76) umfasst.Deposition station according to one of the preceding claims, characterized in that the deposition station (10, 71, 78, 98, 99) comprises a cooling device (47, 76). Abscheidungsstation nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abscheidungsstation (10, 71, 78, 98, 99) eine Dosieranordnung (61) mit zumindest einem Behälter (62) zur Aufnahme einer in der Lösung enthaltenen Komponente und zumindest einer dem Behälter zugeordneten Dosierpumpe (63) umfasst, wobei die Dosieranordnung dazu eingerichtet ist, die Komponente in die Lösung zu dosieren.Deposition station according to one of the preceding claims, characterized in that the deposition station (10, 71, 78, 98, 99) has a dosing arrangement (61) with at least one container (62) for receiving a component contained in the solution and at least one assigned to the container Dosing pump (63), wherein the dosing arrangement is designed to dose the component into the solution. Abscheidungsstation nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Beckenanordnung (11, 77, 80) eine Bewegungseinrichtung (86) aufweist, welche zur Durchführung einer, vorzugsweise vertikalen, Bewegung des Objekts in dem Prozessraum (12) eingerichtet ist.Deposition station according to one of the preceding claims, characterized in that the basin arrangement (11, 77, 80) has a movement device (86) which is designed to carry out a preferably vertical movement of the object in the process space (12). Vorrichtung (69, 94) zur Erzeugung von Kontaktmetallisierungen auf Anschlussflächen von Wafern, umfassend zumindest eine Abscheidungsstation (10, 71, 78, 98, 99) nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei ein Prozessraum (12) der Abscheidungsstation zur Aufnahme einer Transportaufnahme (14, 84, 95) mit einer darin aufgenommenen Mehrzahl von Wafern (15, 85, 96) ausgebildet ist, wobei die Vorrichtung eine Manipulatoreinrichtung (16, 102) zur Handhabung der Transportaufnahme aufweist.Device (69, 94) for producing contact metallizations on connection surfaces of wafers, comprising at least one deposition station (10, 71, 78, 98, 99) according to one of the preceding claims, wherein a process space (12) of the deposition station is designed to accommodate a transport holder (14, 84, 95) with a plurality of wafers (15, 85, 96) accommodated therein, wherein the device has a manipulator device (16, 102) for handling the transport holder. Vorrichtung nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (69, 94) eine Mehrzahl von, vorzugsweise in einer Linie angeordneten, Arbeitsstationen mit jeweils einem Prozessraum (12) zur Aufnahme der Transportaufnahme (14, 84, 95) mit den darin aufgenommenen Wafern (15, 85, 96) umfasst, wobei die Mehrzahl von Arbeitsstationen als Arbeitsstation die Abscheidungsstation (10, 71, 78, 98, 99) umfasst, wobei die Vorrichtung eine Fördereinrichtung (103) aufweist, an welcher die Manipulatoreinrichtung (16, 102) angeordnet ist, wobei in einer Förderrichtung die Manipulatoreinrichtung im Zusammenwirken mit der Fördereinrichtung eine Anordnung der Transportaufnahme in einer wählbaren Reihenfolge der Prozessräume ermöglicht.Device according to Claim 26 , characterized in that the device (69, 94) has a plurality of, preferably in a line arranged work stations, each with a process space (12) for receiving the transport receptacle (14, 84, 95) with the wafers (15, 85, 96) accommodated therein, the plurality of work stations comprising the deposition station (10, 71, 78) as the work station , 98, 99), wherein the device has a conveyor device (103) on which the manipulator device (16, 102) is arranged, wherein in a conveying direction the manipulator device, in cooperation with the conveyor device, arranges the transport receptacle in a selectable order of the process spaces enabled. Vorrichtung nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, dass die Manipulatoreinrichtung (16, 102) einen mit einem Förderband (105) der Fördereinrichtung (103) verbundenen, horizontal verfahrbaren Träger (106) mit zumindest einem vertikal gegenüber dem Träger verfahrbaren Greifarm (107) aufweist.Device according to Claim 27 , characterized in that the manipulator device (16, 102) has a horizontally movable carrier (106) connected to a conveyor belt (105) of the conveyor device (103) with at least one gripping arm (107) movable vertically relative to the carrier. Vorrichtung nach Anspruch 27 oder 28, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (69, 94) eine, vorzugsweise mit, vorzugsweise automatisch ein- und ausfahrbaren, Schubladen (111) ausgebildete, Eingangs-/ Ausgangsstation (97) zur Bestückung der Vorrichtung mit zumindest einer Transportaufnahme (14, 84, 95) und/oder die Mehrzahl von Arbeitsstationen zumindest eine Reinigungsstation, zumindest eine Spülstation zur Entfernung etwaiger Rückstände von Waferoberflächen und/oder eine Trocknungsstation umfasst.Device according to Claim 27 or 28 , characterized in that the device (69, 94) has an input/output station (97), preferably with drawers (111) which can be extended and extended automatically, for equipping the device with at least one transport receptacle (14, 84, 95) and/or the plurality of work stations comprises at least one cleaning station, at least one rinsing station for removing any residues from wafer surfaces and/or a drying station.

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