DE102022211637A1

DE102022211637A1 - Thermisch deformierbares Spiegelelement und dessen Verwendung, thermisches Deformationssystem und Lithographiesystem

Info

Publication number: DE102022211637A1
Application number: DE102022211637.2A
Authority: DE
Inventors: Andreas Raba; Hans Michael Stiepan
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2022-11-04
Filing date: 2022-11-04
Publication date: 2023-09-07

Abstract

Offenbart wird ein thermisch deformierbares Spiegelelement (80), umfassend einen Spiegelkörper (81) mit einer Deformationsschicht (86) und einem Grundkörper (84) sowie eine an einer Oberfläche der Deformationsschicht (86) angeordnete Reflexionsfläche (82), wobei die Deformationsschicht (86) aus einem Deformationswerkstoff mit einem Ausdehnungskoeffizienten ausgebildet ist, der einen Wert ungleich Null aufweist, und wobei der Grundkörper (84) dazu ausgebildet ist, seine Form bei einer Erwärmung der Deformationsschicht (86) zu wahren, ein das Spiegelelement (80) und eine Heizeinrichtung (21) zum Erwärmen mindestens eines Bereichs (22) der Deformationsschicht (86) umfassendes thermisches Deformationssystem (20) und ein das Spiegelelement (80) und/oder das thermische Deformationssystem (20) umfassendes Lithographiesystem (1) sowie die Verwendung des Spiegelelements (80) in einem Projektionssystem (11).

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein thermisch deformierbares Spiegelelement und dessen Verwendung in einem Projektionssystem sowie ein thermisches Deformationssystem und ein Lithographiesystem, die jeweils das Spiegelelement umfassen.
Die lithographische Herstellung von integrierten Schaltkreisen mit besonders kleinen Strukturen erfordert die Verwendung sehr kurzwelliger, tief ultravioletter oder extrem ultravioletter Strahlung (DUV- oder EUV-Strahlung) mit einer Wellenlänge zwischen 5 und 100 nm (EUV-Strahlung) oder zwischen 100 nm und 300 nm (DUV-Strahlung) und die Bereitstellung entsprechend ausgebildeter Lithographiesysteme. Um hierbei eine hohe Abbildungsqualität zu erreichen, muss die in einem Strahlengang der Strahlung eines solchen Lithographiesystems, insbesondere durch Spiegel, bewirkte Strahlformung besonders präzise einstellbar sein. Dabei kann es erforderlich sein, eine solche Strahlformung einzustellen, die durch eine Positionierung und Ausrichtung eines Spiegels allein nicht erreicht werden kann. Dazu kann ein solcher Spiegel thermisch deformierbar ausgebildet sein. Auf diese Weise können die geometrischen Abmessungen des Spiegels und auch seine Form durch Erwärmung verändert und so dessen optische Eigenschaften geändert und dessen Wirkung auf die Strahlformung eingestellt werden. Ein solcher thermisch deformierbarer Spiegel ist aus der US 10,031,423 B2 bekannt.
Allerdings kann die Abbildungsqualität in einem Lithographiesystem nur außerhalb des tatsächlichen Belichtungsvorgangs eines zu belichtenden Wafers ex-situ bestimmt werden, sodass für eine definierte Änderung der optischen Eigenschaften eines Spiegels im Strahlengang und somit für die Einstellung einer definierten Strahlformung eine möglichst exakte Modellierung des verwendeten Spiegels und der Veränderung von dessen optischen Eigenschaften erforderlich ist.
Um ein solches Modell bereitzustellen, bedarf es entsprechend umfangreicher Kenntnis des Spiegels und der möglichen Veränderungen der optischen Eigenschaften. Entsprechend erfordert ein Modell eines thermisch deformierbaren Spiegels Kenntnis insbesondere der Art und des Umfangs der durch eine jeweilige Erwärmung hervorgerufenen thermischen Deformation. Da zur Bestimmung der thermischen Deformation eine Vielzahl von teilweise miteinander in Wirkverbindung stehenden Effekten zu berücksichtigen ist, ist zur Erstellung eines geeigneten Modells einer thermischen Deformation die Berücksichtigung einer Vielzahl relevanter Parameter erforderlich. Dies macht insbesondere die Einstellung einer definierten Strahlformung eines thermisch deformierbaren Spiegelelements bei einer ex-situ Ansteuerung besonders aufwändig.
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, vor dem Hintergrund der voranstehend genannten Probleme ein verbessertes thermisch deformierbares Spiegelelement bereitzustellen, das insbesondere eine verbesserte Einstellbarkeit der von dem Spiegelelement bewirkten Strahlformung, vor allem bei einer ex-situ Ansteuerung, ermöglicht.
Die erfindungsmäße Lösung liegt in den Merkmalen der unabhängigen Ansprüche. Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
Gemäß der Erfindung wird ein thermisch deformierbares Spiegelelement offenbart, umfassend einen Spiegelkörper mit einer Deformationsschicht und einem Grundkörper sowie eine an einer Oberfläche der Deformationsschicht angeordnete Reflexionsfläche, wobei die Deformationsschicht aus einem Deformationswerkstoff mit einem Ausdehnungskoeffizienten ausgebildet ist, der einen Wert ungleich Null aufweist, und wobei der Grundkörper dazu ausgebildet ist, seine Form bei einer Erwärmung der Deformationsschicht zu wahren.
Das Spiegelelement kann beispielsweise eine Komponente eines EUV- und/oder eines DUV-Lithographiesystems, insbesondere eines Projektionssystems eines solchen Lithographiesystems, sein.
Nachfolgend seien zunächst einige im Zusammenhang mit der Erfindung verwendete Begriffe erläutert:

Unter „thermischer Deformation“ ist die Änderung der geometrischen Abmessungen eines Körpers bei seiner Erwärmung zu verstehen. Der Zusammenhang zwischen der Änderung der geometrischen Abmessung und der Temperaturänderung wird durch den Ausdehnungskoeffizienten beschrieben.

Als „Ausdehnungskoeffizient“ wird üblicherweise ein, in der Regel temperaturabhängiger, Parameter bezeichnet, dessen Wert das Verhalten eines Stoffes bezüglich Veränderungen seiner Abmessungen bei Temperaturveränderungen beschreibt. Es handelt sich um eine stoffspezifische Materialkonstante. Der Ausdehnungskoeffizient des Deformationswerkstoffs soll einen Wert ungleich Null aufweisen. Insbesondere kann ein von Null verschiedener Wert des Ausdehnungskoeffizienten für jede Temperatur innerhalb eines Temperaturbereichs vorliegen, der von einem für das Spiegelelement bei einem ordnungsgemäßen Betrieb vorgesehenen Betriebstemperaturbereich umfasst ist oder diesem vorgesehenen Betriebstemperaturbereich entspricht. Ist der Ausdehnungskoeffizient „nulldurchgangsfrei“, nimmt er darüber hinaus keine vorzeichenverschiedenen Werte oder einen Wert von Null an.
Unter einer „normalen Richtung“ soll eine Richtung entlang einer Flächennormalen der Reflexionsfläche verstanden werden. Entsprechend beschreibt eine „normale Erstreckung“ eine Erstreckung in der normalen Richtung. Die „laterale Erstreckung“ bezeichnet somit eine flächige Erstreckung in einer Ebene senkrecht zu einer normalen Erstreckung.
Bei der Erfindung handelt es sich um eine vorteilhafte Ausgestaltung eines thermisch deformierbaren Spiegelelements, das eine Deformationsschicht aufweist. Durch eine thermische Deformation der Deformationsschicht kann die Form der an einer Oberfläche der Deformationsschicht angeordneten Reflexionsfläche verändert werden. Auf diese Weise kann die von dem Spiegelelement bewirkte Strahlformung durch eine Erwärmung der Deformationsschicht eingestellt werden.
Indem der Grundkörper des Spiegelkörpers dazu ausgebildet ist, seine Form bei einer Erwärmung der Deformationsschicht zu wahren, kann die thermische Deformation auf die Deformationsschicht beschränkt werden, was die Modellierung der thermischen Deformation des Spiegelelements und der dadurch bewirkten Einstellung der Strahlformung vereinfacht. Beispielsweise beträgt die normale Erstreckung der Deformationsschicht weniger als die Hälfte, vorzugsweise weniger als ein Viertel, weiter vorzugsweise weniger als ein Achtel der normalen Erstreckung des Spiegelelements. Insbesondere wird die Modellierung nicht durch typischerweise stets vorhandene lokale Inhomogenitäten von für den Grundkörper verwendeten Werkstoffen erschwert.
Die normale Erstreckung der Deformationsschicht kann so gewählt werden, dass ein Temperaturunterschied innerhalb der Deformationsschicht vernachlässigt werden kann, oder dass ein vorgegebener maximaler Temperaturunterschied zwischen der Reflexionsfläche und einer der Reflexionsfläche gegenüberliegenden Seite der Deformationsschicht bei einem vorgesehenen Betrieb des Spiegelelements nicht überschritten wird. Auf diese Weise ist es möglich, das Spiegelelement und dessen thermische Deformation mit einem zweidimensionalen Temperaturfeld zu modellieren.
Der Umfang der erforderlichen Parameter für eine Modellierung der thermischen Deformation des erfindungsgemäßen Spiegelelements zur Einstellung der Strahlformung kann demnach erheblich verringert werden, wodurch die Modellierung der thermischen Deformation des Spiegelelements signifikant vereinfacht und der dazu erforderliche Berechnungsaufwand bedeutend verringert werden kann. Dies ermöglicht eine verbesserte Einstellbarkeit einer definierten Strahlformung der reflektierten Strahlung, insbesondere der Manipulation der Form der Wellenfront der reflektierten Strahlung.
Beispielsweise liegt die normale Erstreckung der Deformationsschicht in einem Bereich von 100 µm bis 10 mm. Die normale Erstreckung der Deformationsschicht kann in einem Bereich von 100 pm bis 2 mm liegen, zum Beispiel im Fall einer Ausbildung der Deformationsschicht als eine Beschichtung. Beispielsweise bei Ausbildung der Deformationsschicht als eine mittels Fügen an dem Grundkörper befestigte Komponente kann die normale Erstreckung der Deformationsschicht aber auch in einem Bereich von 1 mm bis 10 mm, vorzugsweise von 1 mm bis 5 mm, besonders bevorzugt von 2 mm bis 4 mm, liegen. Bei einer beispielhaften Anordnung einer Kühlungsschicht im Grundkörper kann die normale Erstreckung der Deformationsschicht auch in einem Bereich von 1 mm bis 5 mm liegen, vorzugsweise in einem Bereich von 1 mm bis 3 mm.
Die Reflexionsfläche des Spiegelelements ist dazu ausgebildet, Strahlung zu reflektieren und dabei eine Strahlformung vorzunehmen. Die Strahlformung der reflektierten Strahlung kann durch die Form der Reflexionsfläche beeinflusst werden. Die Reflexionsfläche ist beispielsweise dazu eingerichtet, Strahlung einer Wellenlänge zwischen 5 nm und 100 nm, vorzugsweise einer Wellenlänge von 13,5 nm, und/oder zwischen 100 nm und 300 nm, vorzugsweise einer Wellenlänge von 193 nm, zu reflektieren. Bei Strahlung einer Wellenlänge zwischen 5 nm und 100 nm handelt es sich um EUV-Strahlung, bei Strahlung einer Wellenlänge zwischen 100 nm und 300 nm um DUV-Strahlung. Die Reflexionsfläche kann aus einer oder mehreren hoch reflektierenden Beschichtungen ausgeformt sein, beispielsweise in Form von Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium.
Vorzugsweise ist die Deformationsschicht aus einem Deformationswerkstoff mit einem nulldurchgangsfreien Ausdehnungskoeffizienten ausgebildet. In diesem Fall nimmt der Ausdehnungskoeffizient des Deformationswerkstoffs keine vorzeichenverschiedenen Werte oder einen Wert von Null an. Da somit Zustände, bei denen ein gegenteiliger oder kein Effekt eintritt, bei der Modellierung der thermischen Deformation des Spiegelelements unberücksichtigt bleiben können, kann die Einstellbarkeit der Strahlformung weiter vereinfacht werden.
Der Grundkörper wahrt seine Form, wenn die Deformationsschicht erwärmt wird. Dies kann erreicht werden, indem der Grundkörper von der Deformationsschicht thermisch entkoppelt wird, sodass der Grundkörper trotz einer Erwärmung der Deformationsschicht seine Temperatur behält. Dies kann auch erreicht werden, indem der Grundkörper aus einem Werkstoff ausgebildet ist, der unter dem Einfluss der von der Deformationsschicht übertragenen Wärme, insbesondere bei zumindest einer vorgesehenen Betriebssituation des Spiegelelements, einer vernachlässigbaren thermischen Ausdehnung unterliegt. Möglich ist auch eine Kombination dieser beiden Maßnahmen. Auch ist eine Ausgestaltung zum Zusammenwirken mit weiteren, nicht dem Grundkörper zugehörigen Mitteln, denkbar.
In einer Ausführungsform ist der Grundkörper aus einem Grundwerkstoff ausgebildet, dessen Ausdehnungskoeffizient in seiner Temperaturabhängigkeit einen Nulldurchgang bei einer Nulldurchgangstemperatur aufweist. In der Umgebung des Nulldurchgangs erfolgt keine oder nur eine vernachlässigbare thermische Ausdehnung. Ein beispielhafter Grundwerkstoff ist ein Material mit ultraniedriger thermischer Expansion („Ultra-Low-Expansion-Material“), zum Beispiel ein Material aus der Familie der Titan-Silikat-Gläser.
Eine solche Ausgestaltung des Grundkörpers ermöglicht es, dass sich dessen Form bei einem Betrieb des Spiegelelements im Bereich der Nulldurchgangstemperatur bei einer Erwärmung der Deformationsschicht, selbst bei einer dadurch gegebenenfalls hervorgerufenen Erwärmung des Grundkörpers, nicht oder zumindest nicht substantiell ändert, beispielsweise im Vergleich mit einer gleichzeitigen, insbesondere absoluten, Formänderung der Deformationsschicht. Auf diese Weise kann die Form des Grundkörpers bei einer Erwärmung der Deformationsschicht aufrechterhalten werden, ohne dass auf weitere Mittel zurückgegriffen werden muss.
Eine weitere, zusätzliche oder alternative Möglichkeit der Ausbildung des Grundkörpers zur Wahrung seiner Form bei einer Erwärmung der Deformationsschicht liegt in einer thermischen Entkopplung des Grundkörpers von der Deformationsschicht. Dazu kann der Grundkörper mit einer Kühlungseinrichtung zur Kühlung des Grundkörpers versehen sein.
Zur Kühlung des Grundkörpers kann eine solche Kühlungseinrichtung zum Zusammenwirken mit einer Kühlvorrichtung eingerichtet sein. Beispielsweise ist die Kühlvorrichtung von dem Spiegelelement oder dem thermischen Deformationssystem umfasst. Unter dem Zusammenwirken mit einer Kühlvorrichtung soll verstanden werden, dass eine, beispielsweise außerhalb des Spiegelkörpers angeordnete, Kühlvorrichtung mit der Kühlungseinrichtung zur Temperaturabsenkung des Grundkörpers wirkverbunden werden kann. Die Kühlungseinrichtung ist beispielsweise zum Zusammenwirken mit einer Fluidkühlung ausgebildet. Die Kühlungseinrichtung kann baulich in den Grundkörper integriert sein. Zum Beispiel ist die Kühlungseinrichtung in Form von Kühlkanälen zur Leitung eines von der Kühlvorrichtung bereitgestellten Kühlmediums ausgebildet.
Gemäß einer Ausführungsform umfasst der Grundkörper eine an die Deformationsschicht angrenzende Kühlungsschicht mit mehreren nebeneinander angeordneten Kühlkanälen zur Leitung eines Kühlmediums. Beispielsweise sind die Kühlkanäle eingerichtet zur Leitung eines flüssigen Kühlmediums einer Fluidkühlung. Das Kühlmedium kann von der Kühlvorrichtung bereitgestellt werden.
Wird die Deformationsschicht erwärmt, kann unter Verwendung der Kühlungseinrichtung einer Erwärmung des Grundkörpers entgegengesteuert werden. So kann erreicht werden, dass eine Erwärmung auf die Deformationsschicht beschränkt wird. Eine thermische Deformation des Spiegelkörpers ist dann auf die Deformationsschicht beschränkt, und eine thermisch bedingte Ausdehnung des Grundkörpers, jenseits der Kühlungseinrichtung, kann wirkungsvoll unterbunden werden, sodass der Grundkörper seine Form wahren kann. Die Kühlungseinrichtung kann so als eine Wärmebarriere des Grundkörpers wirken. Darunter soll insbesondere verstanden werden, dass eine Temperaturangleichung zwischen der erwärmten Deformationsschicht und dem Grundkörper unterbunden oder zumindest derart verlangsamt werden kann, dass eine Erwärmung des Grundkörpers während des Betriebs des Spiegelelements in vernachlässigbarem Maße erfolgt. Beispielsweise ist die Erwärmung des Grundkörpers um mindestens einen Faktor 5, vorzugsweise um mindestens einen Faktor 10, weiter vorzugsweise um mindestens einen Faktor 50 geringer als die Erwärmung der Deformationsschicht.
Dabei kann die Kühlungsschicht an die Deformationsschicht angrenzend angeordnet sein. Entsprechend ist dann die Kühlungsschicht in einem an die Deformationsschicht angrenzenden Bereich des Grundkörpers angeordnet.
Auf diese Weise kann einer Erwärmung des Grundkörpers besonders effektiv entgegengesteuert werden. Zusätzlich kann eine besonders gleichmäßige Temperaturverteilung über den Grundkörper bei einer Erwärmung der Deformationsschicht erreicht werden. Darüber hinaus ermöglicht eine solche Ausgestaltung eine besonders einfache Fertigung eines Spiegelelements mit einem aus einzelnen Schichten gefügten Spiegelkörper.
Alternativ oder zusätzlich kann die Kühlungsschicht auch von der Deformationsschicht umfasst sein. Die Kühlungsschicht ist beispielsweise in einem an den Grundkörper angrenzenden Bereich der Deformationsschicht angeordnet. Es ist auch denkbar, dass ein erster Teil der Kühlungsschicht vom Grundkörper und ein zweiter Teil der Kühlungsschicht von der Deformationsschicht umfasst sind.
In einer Ausführungsform weist die Deformationsschicht mehrere, flächig nebeneinander angeordnete und voneinander thermisch isolierte Teilbereiche auf.
Darunter soll verstanden werden, dass die Deformationsschicht in ihrer lateralen Erstreckung in mehrere Teilbereiche unterteilt ist, wobei die Wärmeleitung zwischen den Teilbereichen erheblich vermindert ist, zum Beispiel durch eine physische Trennung der Teilbereiche. Entsprechend kann die Deformationsschicht zwischen Teilbereichen angeordnete Grenzbereiche aufweisen, wobei der Deformationswerkstoff nur von den Teilbereichen, nicht aber von den Grenzbereichen umfasst ist. Beispielsweise sind die Grenzbereiche als Spalte ausgebildet, vorzugsweise einer Dicke von weniger als 1 mm, weiter vorzugsweise von weniger als 100 µm, besonders vorzugsweise von weniger als 10 µm, sodass die Teilbereiche entsprechend um den Betrag dieser Dicke voneinander beabstandet sind.
Bei Verwendung einer Heizeinrichtung kann so eine Temperaturänderung nur in einzelnen Teilbereichen der Deformationsschicht und somit eine Änderung der geometrischen Abmessungen in einem spezifischen Teilbereich hervorgerufen werden. Die Temperaturänderung, und somit auch die thermische Deformation, kann auf den oder die jeweils betrachteten Teilbereiche beschränkt werden. Indem nur einzelne Teilbereiche thermisch deformiert werden können, kann eine orthotrope Wärmeleitung innerhalb der Deformationsschicht erreicht werden. Des Weiteren kann eine Einstellung der Strahlformung beispielsweise durch ein Verbringen der Reflexionsfläche in eine nichtplane oder eine gekrümmte Form erfolgen. Auch ist es so möglich, durch thermische Deformation unterschiedlicher Teilbereiche Flächenbereiche der Reflexionsfläche in mehreren in parallelen Ebenen entlang der normalen Richtung anzuordnen.
Die Deformationsschicht kann durch ein Beschichten auf dem Grundkörper aufgebracht sein. Es ist aber auch denkbar, dass die Deformationsschicht mittels Fügens an dem Grundkörper befestigt ist. Darunter soll verstanden werden, dass die Deformationsschicht und der Grundkörper, beispielsweise unter Verwendung eines Fügestoffs, dauerhaft miteinander verbunden sind.
Beispielhafte Fügeverfahren sind Schweißen - insbesondere Laserschweißen, Elektronenstrahlschweißen und Reibschweißen -, Löten mit - insbesondere niedrigschmelzenden - metallischen Loten oder Glasloten, Kleben, reaktives Fügen, direktes Fügen, silikatisches Fügen oder Hydroxid-Fügen. Ein weiteres mögliches Fügeverfahren stellt Klettwelding dar, bei dem auf die zu verbindenden Oberflächen jeweils eine Vielzahl von Nanodrähten aufgebracht wird und die Oberflächen dann zusammengepresst werden.
Bei einem direkten Fügen kann ein fügestoffloses Fügeverfahren zum Einsatz kommen. Eine Beeinflussung der thermischen Deformation durch einen zusätzlichen Fügestoff kann so vermieden werden. Es ist aber auch denkbar, dass, insbesondere bei einem reaktiven Fügen, ein Fügestoff verwendet wird, der eine im Vergleich zum Deformationswerkstoff geringe Wärmeleitfähigkeit aufweist, sodass die Fügeschicht eine Wärmebarriere zwischen Deformationsschicht und Grundkörper darstellt, zum Beispiel als eine weitere Wärmebarriere zusätzlich zu einer Kühlungsschicht des Grundkörpers. Auch kann der Fügestoff so gewählt werden, dass der Ausdehnungskoeffizient des Fügestoffs im Wesentlichen desjenigen des Deformationswerkstoffs entspricht, beispielsweise für zumindest diejenigen Temperaturen, die die Deformationsschicht während des ordnungsgemäßen Betriebs des Spiegelelements aufweist. So kann eine thermische Deformation des Spiegelelements unterstützt werden. Es ist aber auch denkbar, dass der Fügestoff einen Ausdehnungskoeffizienten aufweist, der geringer ist als derjenige des Deformationswerkstoffs.
Das Fügen stellt ein besonders einfaches Verfahren zum Verbinden der Deformationsschicht mit dem Grundkörper dar, bei dem die Eigenschaften des Fügestoffs bei der vorteilhaft genutzt werden können.
Gemäß einer Ausführungsform ändert sich der Wert des Ausdehnungskoeffizienten des Deformationswerkstoffs bei einer Temperaturänderung innerhalb eines Temperaturbereichs von 20°C bis 80°C, bevorzugt innerhalb eines Temperaturbereichs von 20°C bis 60°C, weiter bevorzugt innerhalb eines Temperaturbereichs von 20°C bis 40°C, im Speziellen innerhalb eines Temperaturbereichs von 20°C bis 30°C, von mehr als 1 K, vorzugsweise um mehr als 4 K, weiter bevorzugt um mehr als 7 K um weniger als 5 %/K, bevorzugt um weniger als 3 %/K, weiter bevorzugt um weniger als 1,5 %/K, im Speziellen um weniger als 1 %/K. Beispielhaft ist der Deformationswerkstoff SiO₂-basiert und weist einen Ausdehnungskoeffizienten auf, dessen Wert sich bei einer Temperaturänderung von mehr als 7 K in einem Temperaturbereich von 20°C bis 30°C um weniger als 1 %/K ändert. Zum Beispiel handelt es sich bei dem Deformationswerkstoff um Quarzglas („Fused Silica“). Es kann sich bei dem Deformationswerkstoff beispielhaft auch um Platin handeln, das einen Ausdehnungskoeffizienten aufweist, dessen Wert sich bei einer Temperaturänderung von mehr als 7 K in einem Temperaturbereich von 20°C bis 30°C um 0,03 %/K ändert.
Beispielsweise beträgt der Ausdehnungskoeffizient des Deformationswerkstoffs maximal 20·10^-6K^-1, vorzugsweise maximal 10. 10^-6K^-1.
Bei einer solch geringen Schwankung des Ausdehnungskoeffizienten kann der Ausdehnungskoeffizient als ein konstanter, temperaturunabhängiger Wert angenommen werden. Dies macht eine weitere Vereinfachung der Modellierung der thermischen Deformation des Spiegelelements bei Erwärmung und somit eine Verbesserung der Steuerbarkeit des Spiegelelements zur Einstellung der Strahlformung möglich.
Bei dem Deformationswerkstoff kann es sich um einen keramischen oder um einen metallischen Deformationswerkstoff und/oder um einen amorphen oder um einen kristallinen Deformationswerkstoff handeln. Der Deformationswerkstoff kann zusätzliche Verformungsmöglichkeiten aufweisen und beispielsweise remanent polarisierbar sein, zum Beispiel piezoelektrisch sein, und/oder remanent magnetisierbar sein. Bei Wahl eines geeigneten Deformationswerkstoffs kann eine thermische Deformation des Deformationswerkstoffs so mit einer oder mehreren dieser zusätzlichen Verformungsmöglichkeiten kombinierbar sein. Auf diese Weise kann die thermische Deformation unter Ausnutzung geeigneter physikalischer Effekte unterstützt werden.
Beispielhafte keramische Deformationswerkstoffe sind Silikat-Keramiken, Oxid-Keramiken (zum Beispiel Bariumtitanat, Lithiumniobat, Lithiumtantalat, Siliziumdioxid, Aluminiumoxid) und Nicht-Oxid-Keramiken (zum Beispiel Skandiumnitrid, Siliziumkarbid, technischer Diamant), bleihaltige Keramiken (zum Beispiel Bleizirkonat-Bleititanat, PZT). Beispielhafte metallische Deformationswerkstoffe sind Chrom, Gold, Silber, Platin, Palladium, Aluminium und Rhodium. Dabei weisen insbesondere PZT, Bariumtitanat, Skandiumnitrid, Lithiumniobat und Lithiumtantalat piezoelektrische Eigenschaften auf. Ein beispielhafter amorpher Deformationswerkstoff ist Glas, insbesondere Quarzglas.
Gemäß der Erfindung wird zudem ein thermisches Deformationssystem offenbart, umfassend ein erfindungsgemäßes Spiegelelement und eine Heizeinrichtung zum Erwärmen mindestens eines Bereichs der Deformationsschicht.
Bei der Heizeinrichtung handelt es sich beispielsweise um einen Infrarot-Heizstrahler, der zumindest einen Bereich der Deformationsschicht durch Bestrahlung erwärmt. Zusätzlich oder alternativ kann die Heizeinrichtung auch als eine elektrische Heizung ausgebildet sein, wobei beispielsweise deren Heizelemente in dem Spiegelelement, zum Beispiel innerhalb des Spiegelkörpers, so angeordnet sind, dass zumindest ein Bereich der Deformationsschicht erwärmt werden kann. Die Heizelemente einer elektrischen Heizung können in der Deformationsschicht, beispielsweise an die Reflexionsschicht, die Kühlungsschicht oder den Grundkörper angrenzend angeordnet sein. Die Heizelemente können eine laterale Erstreckung entlang der Reflexionsfläche aufweisen, und zum Beispiel parallel zur Reflexionsfläche oder mit einem Winkelversatz angeordnet sein. Sie können unmittelbar aneinander angrenzend angeordnet sein. Die Heizelemente können in Form von mehreren übereinander angeordneten, beispielsweise zumindest teilweise überlappenden Heizschichten ausgebildet sein, wobei die Heizschichten elektrisch leitend sind und unterschiedliche elektrische Widerstände aufweisen. Ebenso ist es möglich, dass die Erwärmung durch Induzierung von Wirbelströmen erreicht wird.
Insbesondere ist denkbar, dass mehrere Bereiche der Deformationsschicht unabhängig voneinander gleichmäßig durch die Heizeinrichtung erwärmt werden können. Bei den erwärmbaren Bereichen kann es sich um in lateraler Richtung voneinander beabstandete Bereiche der Deformationsschicht handeln. Die Heizeinrichtung kann dazu eingerichtet sein, mehrere, zum Beispiel voneinander beabstandete Bereiche, insbesondere unabhängig voneinander, gleichmäßig zu erwärmen, wobei beispielsweise die erwärmten Bereiche eine im Wesentlichen gleiche Temperatur aufweisen. Die Summe der Flächen der Bereiche kann beispielsweise mehr als ein Drittel, vorzugsweise mehr als eine Hälfte, weiter vorzugsweise mehr als zwei Drittel der lateralen Erstreckung der Reflexionsfläche betragen. Die erwärmbaren Bereiche können sich, zumindest teilweise, auch über die Reflexionsfläche hinaus erstrecken. Zum Beispiel reicht die laterale Erstreckung zumindest eines erwärmbaren Bereichs über den Rand des Reflexionsbereichs hinaus. Die Bereiche können über die gesamte laterale Erstreckung des Spiegelelements verteilt, beispielsweise symmetrisch, angeordnet sein. Die erwärmbaren Bereiche können punktsymmetrisch angeordnet sein.
Das Erwärmen eines Bereichs der Deformationsschicht bewirkt eine Änderung der geometrischen Abmessungen dieses Bereichs der Deformationsschicht. Der Betrag der Änderung der geometrischen Abmessungen, und somit auch eine davon abhängige Änderung der durch das Spiegelelement bewirkten Strahlformung, kann anhand der erfolgten Temperaturänderung bestimmt werden. Zur Bestimmung der Temperaturänderung bestehen mehrere Möglichkeiten. Beispielsweise kann das thermische Deformationssystem entsprechende Sensoren umfassen. Diese können zum Beispiel in oder an dem Spiegelelement oder auch außerhalb des Spiegelelements angeordnet sein.
Des Weiteren wird gemäß der Erfindung ein Lithographiesystem offenbart, umfassend ein erfindungsgemäßes Spiegelelement und/oder umfassend ein erfindungsgemäßes thermisches Deformationssystem.
Bei dem Lithographiesystem kann es sich um ein DUV-Lithographiesystem oder auch um ein EUV-Lithographiesystem handeln. Mithilfe eines Projektionssystems kann ein in einer Objektebene angeordnetes Objektfeld über eine Mehrzahl von optischen Elementen in eine Bildebene abgebildet werden. Beispielhaft kann eine in einer Objektebene angeordnete Maske (auch Retikel genannt) auf eine lichtempfindliche Schicht eines in der Bildebene angeordneten Wafers abgebildet werden.
Unter einem Projektionssystem soll insbesondere ein System verstanden werden, das mehrere optische Elemente umfasst, die in einem Strahlengang nacheinander angeordnet sind, um eine in das Projektionssystem eintretenden Strahlung zu formen. Die optischen Elemente des Projektionssystems können, insbesondere sämtlich, als Spiegel ausgebildet sein. Dies ist besonders hilfreich, wenn die Strahlenquelle EUV-Strahlung abgibt, da EUV-Strahlung allgemein hohen Transmissionsverlusten unterliegt. Die Transmissionsverluste werden vermieden, wenn die Strahlung nur reflektiert und nicht transmittiert wird. Die Spiegel können für einen streifenden Einfall des Strahlengangs eingerichtet sein. Es versteht sich, dass das Projektionssystem insbesondere auch mehrere erfindungsgemäße Spiegelelemente und/oder thermische Deformationssysteme umfassen kann.
Gemäß der Erfindung wird zudem eine Verwendung eines erfindungsgemäßen Spiegelelements in einem Projektionssystem, insbesondere einem Projektionssystem eines Lithographiesystems, offenbart.
Die oben beschriebenen Ausführungsformen und Ausgestaltungen sind lediglich als beispielhaft zu verstehen und sollen die vorliegende Erfindung in keiner Weise einschränken.
Die Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen anhand von vorteilhaften Ausführungsformen beispielhaft näher erläutert. Es zeigen:

1 eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels eines Lithographiesystems;
2a eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels eines thermischen Deformationssystems in Querschnittsansicht;
2b eine schematische Darstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels eines thermischen Deformationssystems in Querschnittsansicht;
3 eine schematische Darstellung der beispielhaften thermischen Deformationssysteme der 2a und 2b in Draufsicht;
4 eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels eines thermisch deformierbaren Spiegelelements in Querschnittsansicht; und
5 eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels eines thermisch deformierbaren Spiegelelements in thermisch deformiertem Zustand in Querschnittsansicht.

In 1 ist als ein Ausführungsbeispiel eines Lithographiesystems ein EUV-Lithographiesystem 1 schematisch dargestellt.
Das EUV-Lithographiesystem 1 umfasst ein Beleuchtungssystem 10 und ein Projektionssystem 11. Mithilfe des Beleuchtungssystems 10 wird ein Objektfeld 13 in einer Objektebene 12 beleuchtet.
Das Beleuchtungssystem 10 umfasst eine Beleuchtungsstrahlungsquelle 14, die elektromagnetische Strahlung im EUV-Bereich, also insbesondere mit einer Wellenlänge zwischen 5 nm und 100 nm, abgibt. Die von der Beleuchtungsstrahlungsquelle 14 ausgehende Beleuchtungsstrahlung wird zunächst durch einen Kollektor 15 in eine Zwischenfokusebene 16 gebündelt.
Das Beleuchtungssystem 10 umfasst einen Umlenkspiegel 17, mit dem die von der Beleuchtungsstrahlungsquelle 14 abgegebene Beleuchtungsstrahlung auf einen ersten Facettenspiegel 18 umgelenkt wird. Dem ersten Facettenspiegel 18 ist ein zweiter Facettenspiegel 19 nachgeordnet. Der erste Facettenspiegel und der zweite Facettenspiegel 19 umfassen jeweils eine Vielzahl von individuell um jeweils zwei senkrecht zueinander verlaufende Achsen verschwenkbare Mikrospiegel. Mithilfe des zweiten Facettenspiegels 19 werden die einzelnen Facetten des ersten Facettenspiegels 18 in das Objektfeld 13 abgebildet.
Mithilfe des Projektionssystems 11 wird das Objektfeld 13 über eine Mehrzahl von Spiegeln 8,8` in eine Bildebene 9 abgebildet. Dabei umfassen die Spiegel 8 jeweils ein thermisches Deformationssystem 20. In der Objektebene 12 ist eine Maske (auch Retikel genannt) angeordnet, die auf eine lichtempfindliche Schicht eines in der Bildebene 9 angeordneten Wafers abgebildet wird. Die diversen Spiegel des EUV-Lithographiesystems 1, an denen die Beleuchtungsstrahlung reflektiert wird, sind als EUV-Spiegel ausgebildet. Die EUV-Spiegel sind mit hoch reflektierenden Beschichtungen versehen, beispielsweise in Form von Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium.
Ein beispielhaftes thermisches Deformationssystem 20, wie es zum Beispiel auch von den Spiegeln 8 umfasst ist, ist in 2a schematisch im Querschnitt gezeigt. Das thermische Deformationssystem 20 umfasst ein thermisch deformierbares Spiegelelement 80 mit einem Spiegelkörper 81, der einen Grundkörper 84 und eine Deformationsschicht 86 umfasst, an deren Oberfläche eine Reflexionsfläche 82 angeordnet ist.
Ferner umfasst das thermische Deformationssystem 20 eine Heizeinrichtung 21. Die Heizeinrichtung 21 ist im vorgestellten Ausführungsbeispiel als eine Mehrzahl von Infrarot-Heizstrahlern 211, 212 ausgebildet, die eingerichtet sind, durch Bestrahlung der Reflexionsfläche 82 einen an die Reflexionsfläche 82 angrenzenden Bereich 22 der Deformationsschicht 86 zu erwärmen.
Eine schematische Darstellung eines weiteren Ausführungsbeispiels eines thermischen Deformationssystems 20 ist in 2b in Querschnittsansicht gezeigt. In diesem Ausführungsbeispiel ist die Heizeinrichtung 21 als eine elektrische Heizung mit Heizelementen 213, 214 ausgebildet, die innerhalb des Spiegelkörpers 81 parallel zur Reflexionsfläche 82 und von dieser beabstandet flächig nebeneinander und unmittelbar aneinander angrenzend angeordnet sind. Mittels der Heizelemente 213, 214 kann ein an das jeweilige Heizelement 213, 214 angrenzender Bereich 22 der Deformationsschicht erwärmt werden. Beispielhaft zeigt 2b zwei außer Betrieb befindliche Heizelemente 213 und ein betriebenes Heizelement 214. Entsprechend umfasst der auf diese Weise durch die Heizeinrichtung 21 erwärmte Bereich 22 einen an das Heizelement 214 angrenzenden Bereich der Deformationsschicht 86.
In den Ausführungsbeispielen der 2a und 2b entsprechen sich die Draufsichten auf die Reflexionsfläche 82 des Spiegelelements 80 der jeweiligen thermischen Deformationssysteme 20. Daher ist 3 als eine schematische Darstellung des jeweiligen Spiegelelements 80 in Draufsicht sowohl des thermischen Deformationssystems 20 der 2a als auch des thermischen Deformationssystems 20 der 2b zu verstehen. Erkennbar ist insbesondere eine flächige, voneinander beabstandete, punktsymmetrische Anordnung von mittels der jeweiligen Heizeinrichtung erwärmten und in normaler Richtung (senkrecht zur Bildebene) unterhalb der Reflexionsfläche 82 befindlichen Bereichen 22 der Deformationsschicht 86. Dementsprechend können durch die thermischen Deformationssysteme 20 jeweils mehrere, räumlich voneinander getrennte Bereiche 22 des Spiegelkörpers 81 unabhängig voneinander durch die jeweilige Heizeinrichtung 21 gleichmäßig erwärmt werden.
In 4 ist ein Ausführungsbeispiel eines thermisch deformierbaren Spiegelelements 80 in Querschnittsansicht dargestellt. Das Spiegelelement 80 umfasst einen Spiegelkörper 81, an dessen Oberfläche eine Reflexionsfläche 82 angeordnet ist. Die Reflexionsfläche 82 ist zur Reflexion von Strahlung einer Wellenlänge zwischen 5 nm und 100 nm ausgebildet. Dementsprechend kann das Spiegelelement 80 zur Reflexion von EUV-Strahlung verwendet werden und als Komponente entsprechender Spiegel 8 des EUV-Lithographiesystems 1 sein. Alternativ oder zusätzlich kann die Reflexionsfläche 82 auch zur Reflexion von Strahlung einer Wellenlänge zwischen 100 nm und 300 nm ausgebildet sein. In diesem Fall kann das Spiegelelement zur Reflexion von DUV-Strahlung verwendet werden und als Komponente entsprechender Spiegel 8 eines DUV-Lithographiesystems sein.
Der Spiegelkörper 81 umfasst einen Grundkörper 84, eine Deformationsschicht 86, an der die Reflexionsfläche 82 angeordnet ist. Der Grundkörper 84 umfasst eine Kühlungsschicht 90. Soll das Spiegelelement 80 Teil eines thermischen Deformationssystems 20 mit einer elektrischen Heizeinrichtung 21, wie in 2b gezeigt, sein, kann die Deformationsschicht 86 die elektrischen Heizelemente 213, 214 umfassen, beispielsweise unmittelbar angrenzend an die Kühlungsschicht 90 oder an die Reflexionsfläche 82.
Die Deformationsschicht 86 ist aus PZT als einem Deformationswerkstoff mit einem Ausdehnungskoeffizienten ausgebildet, der einen Wert ungleich Null aufweist und nulldurchgangsfrei ist. Die Deformationsschicht 86 weist mehrere, flächig in einer Richtung parallel zur Reflexionsfläche 82 nebeneinander angeordnete und physisch voneinander getrennte Teilbereiche 88 auf. Die Wärmeleitung zwischen den auf diese Weise thermisch isolierten Teilbereichen 88 ist erheblich vermindert. Dies ermöglicht es, eine Änderung der geometrischen Abmessungen durch thermische Deformation nur in einzelnen Teilbereichen 88 der Deformationsschicht 86 hervorzurufen. Indem die geometrischen Abmessungen nur einzelner Teilbereiche geändert werden können, kann eine orthotrope Wärmeleitung innerhalb der Deformationsschicht 86 erreicht werden. Des Weiteren kann die Einstellung der durch das Spiegelelement 80 bewirkten Strahlformung beispielsweise dahingehend erfolgen, dass die Reflexionsfläche 82 sowohl entlang ihrer Flächennormalen verschoben wird als auch in eine nichtplane Form verbracht wird.
Im Beispiel der 4 entspricht die normale Erstreckung der Deformationsschicht 86 100 pm. Auf diese Weise kann bei Verwendung von PZT als Deformationswerkstoff ein Temperaturunterschied der Deformationsschicht 86 in normaler Richtung bei der Modellierung des Spiegelelements 80 und dessen thermischer Deformation vernachlässigt und die thermische Deformation des erwärmten Bereichs der Deformationsschicht 86 mit hinreichender Genauigkeit betrachtet werden, ohne dass eine Berücksichtigung eines Temperaturunterschieds in normaler Richtung erfolgen muss. Die Temperatur der Deformationsschicht 86 kann so bei einer Modellierung des Spiegelelements 80 und dessen thermischer Deformation anhand eines zweidimensionalen Temperaturfeldes beschrieben werden.
Der Grundkörper 84 umfasst eine Kühlungsschicht 90, die sich durch den gesamten Spiegelkörper 81 erstreckt und an die Deformationsschicht 86 angrenzt.
Die Kühlungsschicht 90 umfasst mehrere, in einer zur Reflexionsfläche 82 parallelen Ebene nebeneinander angeordnete Kühlkanäle 92 sowie zwischen den Kühlkanälen 92 liegende Stegbereiche 91. Die Kühlkanäle 92 sind eingerichtet, mit einer Kühlvorrichtung zusammenzuwirken und ein von einer Fluidkühlung bereitgestelltes flüssiges Kühlmedium zu leiten. Auf diese Weise kann eine Temperaturabsenkung der an die Kühlungsschicht 90 angrenzenden Bereiche des Spiegelkörpers 81 erfolgen. Findet eine Erwärmung der Deformationsschicht 86 statt, so kann die Kühlungsschicht 90 als eine Wärmebarriere zwischen der erwärmten Deformationsschicht 86 und dem Grundkörper 84 wirken, und einer Temperaturangleichung zwischen der erwärmten Deformationsschicht 86 und dem Grundkörper 84 entgegenwirken, sodass der Grundkörper 84 bei einer Erwärmung der Deformationsschicht 86 seine Form wahren kann.
Zusätzlich kann der Grundkörper 84 aus Ultra-Low-Expansion-Glass als Grundwerkstoff ausgebildet sein, der einen Nulldurchgang bei einer Nulldurchgangstemperatur aufweist. Dadurch kann der Grundkörper 84 auch bei einer, beispielsweise unplanmäßigen, Erwärmung des Grundkörpers 84 dennoch seine Form wahren. Die Stegbereiche 91 können dann ebenfalls aus dem Grundwerkstoff ausgeformt sein. Es ist aber auch denkbar, dass die Stegbereiche aus einem von dem Grundwerkstoff verschiedenen Werkstoff ausgebildet sind, der beispielsweise eine besonders geringe Reibung bei der Leitung des Kühlmediums aufweist, und der dazu zum Beispiel eine besonders glatte Innenfläche der Kühlkanäle 92 bereitstellt.
5 zeigt das Spiegelelement 80 der 4 in einem thermisch deformierten Zustand. Dabei ist der Teilbereich 88` durch eine Heizeinrichtung erwärmt worden, sodass im Teilbereich 88' eine Erwärmung erfolgt ist, und sich der Deformationswerkstoff des Teilbereichs 88` ausgedehnt hat. Die Kühlungsschicht 90 wirkt im dargestellten Beispiel mit einer Fluidkühlung zusammen, wobei die Kühlkanäle 92 ein Kühlmedium leiten. So wirkt die Kühlungsschicht 90 als Wärmebarriere zwischen dem erwärmten Teilbereich 88' der Deformationsschicht 86 und dem Grundkörper 84, und die Erwärmung wird auf den Teilbereich 88' der Deformationsschicht 86 beschränkt. Einer thermischen Deformation des Grundkörpers 84 kann somit entgegengewirkt werden, der so seine Form wahren kann. Somit trägt die Ausbildung des Grundkörpers 84 mit einer Kühlungsschicht 90 dazu bei, die Form des Grundkörpers 84 zu wahren.
Bei dem Spiegelelement 80 ist die Deformationsschicht 86 an dem Grundkörper 84 befestigt, sodass sich die Änderungen der geometrischen Abmessungen in Richtung der eingezeichneten Pfeile ergeben. Insbesondere wird die Reflexionsfläche 82 an der Oberfläche des Teilbereichs 88` entlang der Flächennormalen der Reflexionsfläche 82, in 5 nach oben, verschoben.
Dadurch, dass auch eine Ausdehnung parallel zur Reflexionsfläche 82 erfolgt, und so die nicht erwärmten Teilbereiche 88 gestaucht werden, wird die Reflexionsfläche 82 zusätzlich gekrümmt, was in 5 in der Darstellung der Reflexionsfläche 82 an den seitlichen Flanken des Teilbereichs 88` angedeutet ist. Die durch die thermische Deformation bewirkte Änderung der Form der Reflexionsfläche 82 entspricht demnach einer Hügelbildung.
Auf diese Weise kann die Form der Reflexionsfläche 82, insbesondere an der Oberfläche des Teilbereichs 88', und damit die durch das Spiegelelement 80 in einem Strahlengang bewirkte Strahlformung geändert werden.
Die in dieser Spezifikation beschriebenen Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung und die diesbezüglich jeweils angeführten optionalen Merkmale und Eigenschaften sollen auch in allen Kombinationen miteinander offenbart verstanden werden. Insbesondere soll auch die Beschreibung eines von einer Ausführungsform umfassten Merkmals - sofern nicht explizit gegenteilig erklärt - vorliegend nicht so verstanden werden, dass das Merkmal für die Funktion der Ausführungsform unerlässlich oder wesentlich ist.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

US 10031423 B2 [0002]

Claims

Thermisch deformierbares Spiegelelement (80), umfassend einen Spiegelkörper (81) mit einer Deformationsschicht (86) und einem Grundkörper (84) sowie eine an einer Oberfläche der Deformationsschicht (86) angeordnete Reflexionsfläche (82), wobei die Deformationsschicht (86) aus einem Deformationswerkstoff mit einem Ausdehnungskoeffizienten ausgebildet ist, der einen Wert ungleich Null aufweist, und wobei der Grundkörper (84) dazu ausgebildet ist, seine Form bei einer Erwärmung der Deformationsschicht (86) zu wahren.
Spiegelelement (80) gemäß Anspruch 1, wobei der Ausdehnungskoeffizient des Deformationswerkstoffs nulldurchgangsfrei ist.
Spiegelelement (80) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Grundkörper (84) aus einem Grundwerkstoff ausgebildet ist, dessen Ausdehnungskoeffizient einen Nulldurchgang bei einer Nulldurchgangstemperatur aufweist.
Spiegelelement (80) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Grundkörper (84) eine Kühlungsschicht (90) mit mehreren nebeneinander angeordneten Kühlkanälen (92) zur Leitung eines Kühlmediums umfasst.
Spiegelelement (80) gemäß Anspruch 4, wobei die Kühlungsschicht (90) an die Deformationsschicht (86) angrenzend angeordnet ist.
Spiegelelement (80) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Deformationsschicht (86) mehrere, in einer Richtung parallel zur Reflexionsfläche (82) nebeneinander angeordnete und voneinander thermisch isolierte Teilbereiche (88) aufweist.
Spiegelelement (80) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Deformationsschicht (86) mittels Fügen an dem Grundkörper (84) befestigt ist.
Spiegelelement (80) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei sich der Ausdehnungskoeffizient des Deformationswerkstoffs bei einer Temperaturänderung innerhalb eines Temperaturbereichs von 20°C bis 80°C von mehr als 1 K, vorzugsweise um mehr als 4 K, weiter bevorzugt um mehr als 7 K um weniger als 5 %/K, bevorzugt um weniger als 3 %/K, weiter bevorzugt um weniger als 1,5 %/K, besonders bevorzugt um weniger als 1 %/K ändert.
Spiegelelement (80) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Ausdehnungskoeffizient des Deformationswerkstoffs maximal 20·10^-6K^-1 beträgt.
Spiegelelement (80) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Reflexionsfläche (82) zur Reflexion von Strahlung einer Wellenlänge zwischen 5 nm und 100 nm und/oder zwischen 100 nm und 300 nm ausgebildet ist.
Spiegelelement (80) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei es sich bei dem Deformationswerkstoff um einen keramischen oder um einen metallischen Deformationswerkstoff handelt.
Spiegelelement (80) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei es sich bei dem Deformationswerkstoff um einen amorphen oder um einen kristallinen Deformationswerkstoff handelt.
Verwendung eines Spiegelelements (80) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche in einem Spiegel (8), insbesondere einem Spiegel (8) eines Lithographiesystems (1).
Thermisches Deformationssystem (20), umfassend ein Spiegelelement (80) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 12 und eine Heizeinrichtung (21) zum Erwärmen mindestens eines Bereichs (22) der Deformationsschicht (86).
Lithographiesystem (1), umfassend ein Spiegelelement (80) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 12 und/oder umfassend ein thermisches Deformationssystem (20) gemäß Anspruch 14.