DE102022122570B3 - Device and method for transferring material from a starting substrate to a target substrate using laser radiation - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Übertragung von biologischem Material (1) von einem Ausgangssubstrat (3) in ein Zielsubstrat (4) mittels Laserstrahlung (2), die hierzu mit geeigneten Vertiefungen (5) ausgestattet sind. Wesentlicher Gedanke der erfindungsgemäßen Querschnittsform der Vertiefung (5) ist einerseits die Erzeugung von Kapillarkräften zur Fixierung der Zellen in den Vertiefungen (5), auch in der Überkopfposition, andererseits die Optimierung des Ausstoßes aus der Vertiefung (5) des Ausgangssubstrats (3), beispielsweise durch einen Düseneffekt innerhalb der Vertiefung (5), um so den Materialaustrag mit reduziertem thermischen Energieeintrag zu verbessern.The invention relates to a device and a method for transferring biological material (1) from a starting substrate (3) to a target substrate (4) using laser radiation (2), which are equipped with suitable depressions (5) for this purpose. The essential idea of the cross-sectional shape of the recess (5) according to the invention is, on the one hand, the generation of capillary forces for fixing the cells in the recesses (5), even in the overhead position, and, on the other hand, the optimization of the ejection from the recess (5) of the starting substrate (3), for example through a nozzle effect within the recess (5) in order to improve the material discharge with reduced thermal energy input.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Übertragung von Material, insbesondere Biomaterialien, Partikeln und Zellen, mittels Laserstrahlung von einem Ausgangssubstrat auf ein Zielsubstrat.The invention relates to a device and a method for transferring material, in particular biomaterials, particles and cells, from a starting substrate to a target substrate using laser radiation.
Bei dem sogenannten laserinduzierten Vorwärtstransfer LIFT (laser-induced forward transfer) wird das Material mittels der Laserstrahlung von einem Ausgangssubstrat auf ein Zielsubstrat übertragen. Hierbei handelt es sich um einen lasergestützten Druckprozess. Das Verfahren ermöglicht es, ein großes Spektrum an Materialien, wie beispielsweise Metalle, Kunststoffe und Biomaterialien bis hin zu lebenden Zellen, mit hoher Präzision zu übertragen.In the so-called laser-induced forward transfer LIFT (laser-induced forward transfer), the material is transferred from a starting substrate to a target substrate using laser radiation. This is a laser-based printing process. The process makes it possible to transfer a wide range of materials, such as metals, plastics and biomaterials to living cells, with high precision.
Durch das LIFT-Verfahren ist es auch möglich, geringste Mengen an Flüssigkeit zu verarbeiten, da keine Totvolumina durch Zuleitungen vorhanden sind. Zudem ist das Verfahren sehr schonend zu den zu übertragenen Materialien. Daher eignet es sich insbesondere für die Positionierung von Biomaterialien.The LIFT process also makes it possible to process the smallest amounts of liquid, as there are no dead volumes due to supply lines. The process is also very gentle on the materials being transferred. It is therefore particularly suitable for positioning biomaterials.
Der Laser wirkt dabei nicht unmittelbar durch Strahlungskräfte wie etwa bei einer optischen Pinzette, sondern wird nur als Mittel zum kontrollierten Energieeintrag genutzt und löst den Materialtransfer thermisch aus, wobei die Materialien in unterschiedlichen Umgebungen (Matrix) als Trägersubstrat eingebettet sein können.The laser does not act directly through radiation forces, such as with optical tweezers, but is only used as a means of controlled energy input and thermally triggers the material transfer, whereby the materials can be embedded in different environments (matrix) as a carrier substrate.
Bei dem Verfahren müssen viele unterschiedliche Parameter betrachtet werden. Dabei haben unterschiedliche Faktoren Einfluss auf den Prozess. Es können zum einen unterschiedliche biologische Materialien übertragen werden. Auch die eingesetzte Strahlquelle beeinflusst mit der Wellenlänge, der Pulsdauer, dem Strahlprofil und der Fokussierung den Prozess.Many different parameters have to be considered during the process. Different factors influence the process. On the one hand, different biological materials can be transferred. The beam source used also influences the process with its wavelength, pulse duration, beam profile and focusing.
Es sind auch Verfahrensvarianten bekannt, bei welchen der Laserstrahl nicht auf der Rückseite des Ausgangssubstrats eintritt, sondern durch das Zielsubstrat hindurch auf der Vorderseite des Ausgangssubstrats und damit die Richtung des Materialflusses entgegengesetzt der Richtung des Laserstrahls ist.There are also known process variants in which the laser beam does not enter on the back of the starting substrate, but rather through the target substrate on the front of the starting substrate and thus the direction of the material flow is opposite to the direction of the laser beam.
Dabei werden verschiedene Effekte ausgenutzt, um den Übertrag auszulösen. Das zu übertragende Material kann aufgeschmolzen und durch thermische Ausdehnung oder durch verdampfte Anteile aus der Schicht herausgelöst werden. Das Material absorbiert die Laserstrahlung entweder selbst oder ist auf ein absorbierendes Hilfsmedium angewiesen.Various effects are used to trigger the carryover. The material to be transferred can be melted and removed from the layer by thermal expansion or by evaporated components. The material either absorbs the laser radiation itself or relies on an absorbing auxiliary medium.
Die Absorberschicht kann beispielsweise aus Material bestehen, das bei Bestrahlung Gas freisetzt. Dies können organische Moleküle sein, die Stickstoff freisetzen, wie z. B. Photopolymere und Triazen-Polymere, insbesondere Aryltriazen-Photopolymere. Eine solche Schicht kann durch die Laserstrahlung verbraucht werden. Die Absorberschicht kann aus Material bestehen, das bei Bestrahlung verdampft und so die Energie des Laserstrahls in Bewegungsenergie umwandelt.The absorber layer can, for example, consist of material that releases gas when irradiated. These can be organic molecules that release nitrogen, such as: B. photopolymers and triazene polymers, especially aryltriazene photopolymers. Such a layer can be consumed by the laser radiation. The absorber layer can consist of material that evaporates when irradiated and thus converts the energy of the laser beam into kinetic energy.
Für die Ausbildung eines Flüssigkeitstropfens muss ausreichend viel Energie in das System eingebracht werden. Wird zu wenig Leistung eingesetzt, so findet kein Übertrag statt. Wird zu viel Leistung eingesetzt, so bilden sich viele kleine Tropfen, die sich auf dem Empfänger als Spray verteilen. Idealerweise entsteht ein gerichteter Mikrostrahlbereich.In order to form a liquid drop, a sufficient amount of energy must be introduced into the system. If too little power is used, no transfer takes place. If too much power is used, many small drops are formed that spread across the receiver as a spray. Ideally, a directed micro-beam area is created.
Je nach zu übertragenem Material muss auch der Empfängerträger vorbereitet werden. Dabei können bestimmte, für die Herstellung von Microarrays spezialisierte Haftschichten für Materialien zum Einsatz kommen. Um die entstehenden Scherkräfte bei der Übertragung lebender Zellen zu begrenzen, werden Hydrogelschichten eingesetzt, um als Dämpferschicht den Aufprall abzufangen, eine mechanische Schädigung zu reduzieren und das Überleben der Zellen zu ermöglichen.Depending on the material to be transferred, the recipient carrier must also be prepared. Certain adhesive layers for materials that are specialized for the production of microarrays can be used. In order to limit the resulting shear forces when transferring living cells, hydrogel layers are used to act as a damper layer to absorb the impact, reduce mechanical damage and enable the cells to survive.
Die
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Aus dem Stand der Technik ist es auch bereits bekannt, für Hochdurchsatz-Screenings Mikrotiterplatten einzusetzen, die bis zu mehrere Tausend Vertiefungen, sogenannte Wells, enthalten können. Die Befüllung solcher Vertiefungen kann bei hohen Probenzahlen automatisiert mit Pipettierrobotern realisiert werden, deren Funktionsweise beispielsweise auf Extrusion oder dem Inkjetdruck basiert.It is also already known from the prior art to use microtiter plates for high-throughput screenings that contain up to several Tau send depressions, so-called wells, may contain. For large numbers of samples, the filling of such wells can be carried out automatically using pipetting robots whose functionality is based, for example, on extrusion or inkjet printing.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, den Transfer von insbesondere ebenden Zellen, Partikeln oder Biomaterial wesentlich zu verbessern. Insbesondere soll die Übertragung zielgerichteter, materialschonender sowie auch mit unterschiedlichen Orientierungen des Ausgangssubstrats gegenüber dem Zielsubstrat ermöglicht werden. Zudem soll ein großes Volumen übertragen werden können, ohne den Energieeintrag zu erhöhen.The invention is based on the object of significantly improving the transfer of, in particular, cells, particles or biomaterial. In particular, the transfer should be made possible in a more targeted, material-friendly manner and with different orientations of the source substrate compared to the target substrate. In addition, a large volume should be able to be transferred without increasing the energy input.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß mit einer Vorrichtung gemäß den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Die weitere Ausgestaltung der Erfindung ist den Unteransprüchen zu entnehmen.This object is achieved according to the invention with a device according to the features of claim 1. The further embodiment of the invention can be found in the subclaims.
Indem erfindungsgemäß das Ausgangssubstrat und/oder Zielsubstrat mehrere durch eine Bodenfläche und eine Wandfläche begrenzte, konturierte Vertiefungen aufweist, die zur Aufnahme von Materialvolumina im Pikoliter- und Nanoliter-Bereich ausgeführt sind, wird in überraschend einfacher Weise eine schonende und zugleich zuverlässige Übertragung des Materials, insbesondere zusammen mit einer Trägerflüssigkeit, ermöglicht, wobei zugleich der Energieeintrag der Laserstrahlung reduziert und das übertragene Volumen vergrößert ist. Indem das Ausgangssubstrat mit Vertiefungen ausgestattet ist, welche den Stoffstrom begünstigen, insbesondere konzentrieren oder fokussieren, wird nicht nur ein optimaler Mikrostrahl erzeugt, durch den Verluste durch Spray vermieden werden, sondern die zur Übertragung erforderliche Energie ist zugleich verringert. Darüber hinaus kann auch das Zielsubstrat mit entsprechenden Vertiefungen ausgestattet sein, die so beschaffen sind, insbesondere also einen derart geringen Öffnungsquerschnitt aufweisen, dass das eintretende Material ausschließlich durch die Wirkung von Kapillarkräften gehalten werden kann. Als besonderer Vorteil ist dabei auch das vergleichsweise schonende Auftreffen des Materials in der Vertiefung des Zielsubstrats zu sehen, welches durch eine Verzögerung infolge der Kapillarkräfte entsteht. Da der Durchmesser der Vertiefungen nur etwas größer als der Tropfendurchmesser sein muss, kann die Luftverdrängung beim Eintreten des Tropfens in die Vertiefung größer sein, was zu einem Abbremsen und damit einem schonenderen Übertrag führen kann.According to the invention, the starting substrate and/or target substrate has a plurality of contoured recesses delimited by a base surface and a wall surface, which are designed to accommodate material volumes in the picoliter and nanoliter range, a gentle and at the same time reliable transfer of the material is achieved in a surprisingly simple manner. in particular together with a carrier liquid, while at the same time the energy input of the laser radiation is reduced and the transmitted volume is increased. By equipping the starting substrate with depressions that promote, in particular concentrate or focus, the material flow, not only is an optimal micro-jet generated, which avoids losses due to spray, but the energy required for transmission is also reduced. In addition, the target substrate can also be equipped with corresponding depressions which are designed in such a way, in particular have such a small opening cross section, that the incoming material can be held exclusively by the effect of capillary forces. A particular advantage is the comparatively gentle impact of the material in the recess of the target substrate, which is caused by a delay as a result of the capillary forces. Since the diameter of the depressions only has to be slightly larger than the drop diameter, the air displacement when the drop enters the depression can be greater, which can lead to braking and thus a gentler transfer.
Erfindungsgemäß kann so Material in überraschend einfacher Weise von dem Ausgangssubstrat auf das Zielsubstrat übertragen werden, weil die Orientierung eines der Substrate in einer Überkopfposition, also mit einer nach unten gerichteten Öffnung der Vertiefung, problemlos möglich ist und keine zusätzlichen Maßnahmen erfordert. Durch die Kapillarkräfte wird das Material in der Überkopfposition des Ausgangssubstrats gehalten, bis dieses durch den thermische Energieeintrag des Lasers ausgestoßen wird. In der Überkopfposition des Zielsubstrats wird das eintretende Material ebenso durch die Kapillarkräfte gehalten. Dadurch kann die relative Orientierung des Ausgangssubstrats gegenüber dem Zielsubstrat sogar während des Übertragungsprozesses verändert werden, weil die Effekte der Schwerkraft eine lediglich untergeordnete Wirkung entfalten.According to the invention, material can be transferred from the starting substrate to the target substrate in a surprisingly simple manner because the orientation of one of the substrates in an overhead position, i.e. with a downward opening of the recess, is possible without any problems and does not require any additional measures. The material is held in the overhead position of the starting substrate by the capillary forces until it is ejected by the thermal energy input of the laser. In the overhead position of the target substrate, the incoming material is also held by the capillary forces. As a result, the relative orientation of the starting substrate relative to the target substrate can even be changed during the transfer process because the effects of gravity only have a minor effect.
Bei gleichem Volumen können die Vertiefungen mit höherem Aspektverhältnis weiter gefüllt werden, ohne dass das Risiko des Vermischens von Flüssigkeiten zwischen den Vertiefungen zunimmt. Auf ebenen Substraten ohne Vertiefungen lässt sich das Vermischen nicht vermeiden, da flüssige Medien verlaufen und so ineinanderlaufen würden. Die Vertiefungen erlauben daher eine bessere Ausnutzung der Fläche des Arrays. Außerdem verbessern Vertiefungen mit hohem Aspektverhältnis das Verhältnis von Flüssigkeitsoberfläche zu Volumen, was beispielsweise die Verdampfung reduziert. Bei gleichem Volumen weisen Flüssigkeiten in Vertiefungen mit großem Aspektverhältnis einen längeren optischen Weg auf, was beispielsweise die Sensibilität optischer Untersuchung verbessert. Vertiefungen mit geringer Grundfläche können in geringerem Abstand zueinander angeordnet werden, wodurch mit der gleichen optischen Auswerteeinheit mehrere Proben gleichzeitig analysiert werden können.For the same volume, the higher aspect ratio wells can be filled further without increasing the risk of mixing of liquids between the wells. Mixing cannot be avoided on flat substrates without depressions, as liquid media would run and run into each other. The depressions therefore allow better utilization of the area of the array. In addition, high aspect ratio wells improve the liquid surface to volume ratio, which reduces evaporation, for example. For the same volume, liquids in wells with a large aspect ratio have a longer optical path, which, for example, improves the sensitivity of optical examination. Wells with a small base area can be arranged at a smaller distance from one another, which means that several samples can be analyzed at the same time with the same optical evaluation unit.
Bei Proben auf ebenen Substraten ist die Fläche zur Wechselwirkung mit beispielsweise an der Substratoberfläche angebundenen Antikörpern geringer. Dadurch ist zum einen die absolute Anzahl an Wechselwirkungen geringer, zum anderen auch die Dauer, bis eine bestimmte Menge an Anbindungen stattgefunden hat größer. Die dreidimensionale Oberfläche von Substraten mit Vertiefungen hat einen größeren Kontakt zum Volumen der Flüssigkeit, wodurch mehr Anbindungen stattfinden. Dies ist vorteilhaft, weil beispielsweise schneller eine Detektionsschwelle erreicht werden kann oder wenn Zellen mit Antigenen, Rezeptorwechselwirkungen etc. stimuliert werden.For samples on flat substrates, the area for interaction with, for example, antibodies bound to the substrate surface is smaller. As a result, on the one hand, the absolute number of interactions is lower, and on the other hand, the time it takes for a certain number of connections to take place is longer. The three-dimensional surface of substrates with depressions has greater contact with the volume of the liquid, resulting in more binding. This is advantageous because, for example, a detection threshold can be reached more quickly or when cells are stimulated with antigens, receptor interactions, etc.
Die Vertiefungen beschränken sich dabei nicht lediglich auf eine äußerst geringe und aus dem Stand der Technik bisher unbekannte Querschnittsfläche. In besonders vorteilhafter Weise sind die Wandflächen der Vertiefungen so konturiert, dass gegenüberliegende Wandabschnitte zwischen der Bodenfläche und der Öffnung zumindest abschnittsweise nicht parallel, also zueinander geneigt verlaufen. Insbesondere sind die Vertiefungen zumindest abschnittsweise nicht zylindrisch, sondern beispielsweise kegelförmig ausgeführt, wobei sich mehrere kegelförmige Abschnitte mit unterschiedlichen Öffnungswinkeln oder auch gegensinnigen Öffnungswinkeln in Richtung der Hauptachse aneinander anschließen können. Selbstverständlich kann zumindest eine Querschnittsebene, insbesondere im Bereich der Bodenfläche oder der Öffnung der Vertiefung, eine von der Kreisform abweichende, beliebige andere, beispielsweise ovale oder polygonale Form und Geometrie aufweisen, wobei paarweise gegenüberliegende Wandabschnitte entlang desselben Abschnitts der Längsachse parallel und zueinander geneigt verlaufen können.The depressions are not limited to an extremely small cross-sectional area that was previously unknown in the prior art. In a particularly advantageous manner, the wall surfaces of the recesses are contoured in such a way that opposing wall sections between the bottom surface and the opening do not run parallel, that is to say inclined to one another, at least in sections. In particular, the depressions are not cylindrical, at least in sections, but rather, for example wise conical, with several conical sections with different opening angles or opposite opening angles in the direction of the main axis can connect to one another. Of course, at least one cross-sectional plane, in particular in the area of the bottom surface or the opening of the recess, can have any other, for example oval or polygonal, shape and geometry that deviates from the circular shape, with opposite wall sections in pairs being able to run parallel and inclined to one another along the same section of the longitudinal axis .
Die Vertiefungen des Ausgangssubstrats und/oder Zielsubstrats weisen Vertiefungen auf, die bevorzugt ein Aspektverhältnis (Tiefe zu Weite) von größer 1 oder größer 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 oder mehr haben.The depressions of the starting substrate and/or target substrate have depressions which preferably have an aspect ratio (depth to width) of greater than 1 or greater than 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 or more.
Die Vertiefungen können bevorzugt einen kreisförmigen Querschnitt oder einen rechteckigen Querschnitt aufweisen. Der Durchmesser von kreisförmigen Vertiefungen beträgt bevorzugt zwischen 10 und 1000 µm oder mehr, bevorzugt 50 µm, 100 µm, 200 µm, 300 µm, 400 µm, 500 µm, 600 µm, 700 µm, 800 µm, 900 µm oder 1000 µm. Die Tiefe der Vertiefungen beträgt bevorzugt zwischen 20 und 1100 µm oder mehr, bevorzugt 50 µm, 100 µm, 200 µm, 300 µm, 400 µm, 500 µm, 600 µm, 700 µm, 800 µm, 900 µm, 1000 µm oder 1100 µm.The depressions can preferably have a circular cross section or a rectangular cross section. The diameter of circular depressions is preferably between 10 and 1000 µm or more, preferably 50 µm, 100 µm, 200 µm, 300 µm, 400 µm, 500 µm, 600 µm, 700 µm, 800 µm, 900 µm or 1000 µm. The depth of the depressions is preferably between 20 and 1100 µm or more, preferably 50 µm, 100 µm, 200 µm, 300 µm, 400 µm, 500 µm, 600 µm, 700 µm, 800 µm, 900 µm, 1000 µm or 1100 µm .
Die Vertiefungen weisen bevorzugt einen Abstand von Mittelpunkt zu Mittelpunkt von 105 %, 110 %, 120 %, 130 %, 140 %, 150 %, 160 %, 170 %, 180 %, 190 %, 200 %, 300 %, 400 % oder 500 % oder mehr des Durchmessers bzw. der Kantenlänge auf. Der Abstand von der Kante einer Vertiefung zur nächstliegenden Kante einer benachbarten Vertiefung beträgt bevorzugt 2 µm, 5 µm, 10 µm, 20 µm, 30 µm, 40 µm, 50 µm, 60 µm, 70 µm, 80 µm, 90 µm, 100 µm, 200 µm, 300 µm, 400 µm, 500 µm, 600 µm, 700 µm, 800 µm, 900 µm oder 1000 µm oder mehr. Die Dichte der Vertiefungen beträgt bevorzugt zwischen 0,25 pro mm2 und 6.944 pro mm2, bevorzugt 0,5 pro mm2, 1 pro mm2, 5 pro mm2, 10 pro mm2, 20 pro mm2, 30 pro mm2, 40 pro mm2, 50 pro mm2, 60 pro mm2, 70 pro mm2, 80 pro mm2, 90 pro mm2, 100 pro mm2, 200 pro mm2, 300 pro mm2, 400 pro mm2, 500 pro mm2, 600 pro mm2, 700 pro mm2, 800 pro mm2, 900 pro mm2, 1.000 pro mm2, 2.000 pro mm2, 3.000 pro mm2, 4.000 pro mm2, 5.000 pro mm2, 6.000 pro mm2.The depressions preferably have a distance from center to center of 105%, 110%, 120%, 130%, 140%, 150%, 160%, 170%, 180%, 190%, 200%, 300%, 400% or 500% or more of the diameter or edge length. The distance from the edge of a depression to the nearest edge of an adjacent depression is preferably 2 µm, 5 µm, 10 µm, 20 µm, 30 µm, 40 µm, 50 µm, 60 µm, 70 µm, 80 µm, 90 µm, 100 µm , 200 µm, 300 µm, 400 µm, 500 µm, 600 µm, 700 µm, 800 µm, 900 µm or 1000 µm or more. The density of the depressions is preferably between 0.25 per mm 2 and 6,944 per mm 2 , preferably 0.5 per mm 2 , 1 per mm 2 , 5 per mm 2 , 10 per mm 2 , 20 per mm 2 , 30 per mm 2 , 40 per mm2 , 50 per mm2 , 60 per mm2 , 70 per mm2 , 80 per mm2 , 90 per mm2, 100 per mm2 , 200 per mm2 , 300 per mm2 , 400 per mm 2 , 500 per mm2 , 600 per mm2 , 700 per mm2 , 800 per mm2 , 900 per mm2, 1,000 per mm2 , 2,000 per mm2 , 3,000 per mm2 , 4,000 per mm2 , 5,000 per mm 2 , 6,000 per mm 2 .
Indem beispielsweise verschiedene Wandabschnitte rotationssymmetrische Vertiefungen mit einer Mittellängsachse der Vertiefung oder der Symmetrieachse einen Neigungswinkel einschließen, entstehen Düseneffekte, welche bei unverändertem Energieeintrag die Strömungsgeschwindigkeit des zu übertragenden Materials wesentlich erhöhen. Hierzu hat die Vertiefung eine Engstelle mit einer Querschnittsfläche, die geringer ist als die Bodenfläche der Vertiefung.For example, by different wall sections having rotationally symmetrical depressions with a central longitudinal axis of the depression or the axis of symmetry enclosing an angle of inclination, nozzle effects arise which significantly increase the flow speed of the material to be transferred while the energy input remains unchanged. For this purpose, the depression has a constriction with a cross-sectional area that is smaller than the bottom area of the depression.
Dabei ist die Wandfläche der Vertiefung nicht auf ebene Flächen beschränkt, vielmehr können gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltungsform der Erfindung zumindest einzelne Wandabschnitte abschnittsweise einen konkaven oder konvexen, nicht ebenen Verlauf aufweisen, wodurch sowohl eine Strömungsoptimierung als auch eine Verbesserung der Kapillareffekte erreicht wird. Der Druckverlauf kann so durch die Gestaltung der Wandfläche bestimmt werden.The wall surface of the recess is not limited to flat surfaces; rather, according to a further preferred embodiment of the invention, at least individual wall sections can have a concave or convex, non-planar course in sections, whereby both flow optimization and an improvement in the capillary effects are achieved. The pressure gradient can be determined by the design of the wall surface.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltungsform der Erfindung ist der Wand- oder Bodenfläche der Vertiefung zumindest des Ausgangssubstrats eine Absorberschicht zugeordnet, auf welche die Laserstrahlung gerichtet wird. Diese kann beispielsweise auch als Beschichtung der Bodenfläche oder einer gegenüberliegenden rückseitigen Fläche ausgeführt sein.According to a further preferred embodiment of the invention, the wall or bottom surface of the recess of at least the starting substrate is assigned an absorber layer onto which the laser radiation is directed. This can also be designed, for example, as a coating on the bottom surface or an opposite rear surface.
Außerdem kann der Absorber auch flüssig oder fließfähig sein und aufgrund der Kapillar-effekte innerhalb der Vertiefung auch in einer Überkopfposition mit einer unten liegenden Öffnung verwendet werden, wobei das unbeabsichtigte Austreten der Absorberflüssigkeit ausgeschlossen ist.In addition, the absorber can also be liquid or flowable and, due to the capillary effects within the recess, can also be used in an overhead position with an opening at the bottom, whereby the unintentional escape of the absorber liquid is excluded.
Selbstverständlich kann die Absorberflüssigkeit auch bei in einer gewöhnlichen Position der Vertiefung mit unten liegender Bodenfläche verwendet werden, wobei bei einer weiteren Variante die Dichte der Absorberflüssigkeit größer als die Dichte des Materials bzw. der Trägerflüssigkeit ist, sodass diese unter dem Einfluss der Schwerkraft nach unten wandert, um die Basisschicht innerhalb der Vertiefung zu bilden und gegebenenfalls das Material von der Bodenfläche zu verdrängen und anzuheben. Wenn das Absorbermaterial auf den Boden der Vertiefung sinkt und vorhandene Zellen anhebt, kann die Laserstrahlung dorthin fokussiert werden, was das Risiko einer Schädigung der Zellen durch die Laserstrahlung verringert. Of course, the absorber liquid can also be used in a normal position of the recess with the bottom surface at the bottom, whereby in a further variant the density of the absorber liquid is greater than the density of the material or the carrier liquid, so that it migrates downwards under the influence of gravity , to form the base layer within the depression and, if necessary, displace and lift the material from the floor surface. As the absorber material sinks to the bottom of the well and lifts existing cells, the laser radiation can be focused there, reducing the risk of damage to the cells by the laser radiation.
Da die Absorberschicht ggf. eine mikroskopische Analyse des Inhalts der Vertiefung behindert, kann das Absorbermaterial erst kurz vor der Ausführung des LIFT-Prozesses eingebracht werden. Das ist bei ebenen Substraten nach dem Stand der Technik aufgrund des Verlaufens von Flüssigkeiten nicht ohne Weiteres möglich.Since the absorber layer may hinder microscopic analysis of the contents of the well, the absorber material can only be introduced shortly before the LIFT process is carried out. This is not easily possible with flat substrates according to the prior art due to the flow of liquids.
Bevorzugt haben zumindest einzelne der Vertiefungen eine zumindest abschnittsweise transparente Bodenfläche, sodass die optische Erfassung der Probe durch die Bodenfläche erfolgt, wobei zumindest ein wesentlicher Anteil der Vertiefungen des Probenträgers ein Aspektverhältnis der Höhe der Vertiefung gegenüber dem Durchmesser bzw. der Kantenlänge der Öffnung größer als 1 aufweist.Preferably, at least some of the depressions have a bottom surface that is at least partially transparent, so that the sample is optically detected through the bottom surface, whereby at least a significant proportion of the recesses of the sample carrier have an aspect ratio of the height of the recess to the diameter or edge length of the opening greater than 1.
Bei einer weiter besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist das Ausgangssubstrat und/oder das Zielsubstrat als ein Glassubstrat ausgeführt, wobei die Vertiefungen in dem Ausgangssubstrat und/oder Zielsubstrat mittels Laserstrahlung hergestellt sind. Dabei erfährt der Fokus der Laserstrahlung eine räumliche Strahlformung entlang einer Strahlachse der Laserstrahlung, wodurch Modifikationen in dem Glassubstrat erzeugt werden, sodass anschließend die Vertiefungen in dem Glassubstrat durch die Einwirkung eines ätzenden Mediums und durch sukzessives Aufätzen infolge des anisotropen Materialabtrags in dem jeweiligen Bereich der Modifikationen in dem Glassubstrat erzeugt werden. Das Substrat kann aus Silizium bestehen, wobei die Vertiefungen durch den Boschprozess (reaktives Tiefenionenätzen) hergestellt werden. Das Substrat kann außerdem aus Metall, Kunststoff und anderen Materialien bestehen. Das Substrat kann aus mehreren Materialien, die miteinander verbunden sind, bestehen, beispielsweise aus einer Siliziumplatte mit Vertiefungen in Form von Durchgangslöchern und einem angebundenen Glassubstrat als Boden der Vertiefungen. Die Vertiefungen können mittels Laserbohren und anderen abtragenden Verfahren hergestellt werden.In a further particularly preferred embodiment of the invention, the starting substrate and/or the target substrate is designed as a glass substrate, with the depressions in the starting substrate and/or target substrate being produced by means of laser radiation. The focus of the laser radiation undergoes a spatial beam shaping along a beam axis of the laser radiation, whereby modifications are generated in the glass substrate, so that the depressions in the glass substrate are subsequently created by the action of an etching medium and by successive etching as a result of the anisotropic material removal in the respective area of the modifications are generated in the glass substrate. The substrate can be made of silicon, with the depressions made using the Bosch process (reactive deep ion etching). The substrate can also be made of metal, plastic and other materials. The substrate can consist of several materials that are bonded together, for example a silicon plate with depressions in the form of through holes and a bonded glass substrate as the bottom of the depressions. The depressions can be created using laser drilling and other ablative processes.
Weiterhin wird die erfindungsgemäße Aufgabe auch noch mit einem Verfahren gelöst, bei dem der Laserstrahl auf eine Wandfläche der Vertiefung gerichtet wird. Die Erfindung macht sich dabei zunutze, dass sich das Material mit einer gewissen Wahrscheinlichkeit im Bereich der Bodenfläche sammelt. Ein besonders materialschonender Energieeintrag wird dementsprechend dadurch erreicht, dass der Laserstrahl beabstandet zu der Bodenfläche auf die Wandfläche gerichtet wird, die aufgrund ihrer Konturierung, insbesondere der Querschnittsreduzierungen bzw. -erweiterungen, das Ausstoßen des Materials auch dann gestattet, wenn sich der Fokuspunkt des Energieeintrags zwischen dem Material und der Öffnung der Vertiefung befindet.Furthermore, the object according to the invention is also achieved with a method in which the laser beam is directed onto a wall surface of the recess. The invention takes advantage of the fact that the material has a certain probability of collecting in the area of the floor surface. A particularly material-friendly energy input is achieved by directing the laser beam at a distance from the floor surface onto the wall surface, which, due to its contouring, in particular the cross-sectional reductions or expansions, allows the material to be ejected even if the focus point of the energy input is between the material and the opening of the recess.
Die Erfindung lässt verschiedene Ausführungsformen zu. Zur weiteren Verdeutlichung ihres Grundprinzips ist eine davon in der Zeichnung dargestellt und wird nachfolgend beschrieben. Diese zeigt jeweils in einer Prinzipdarstellung in
-
1 unterschiedliche relative Orientierungen eines Ausgangssubstrats gegenüber einem Zielsubstrat, wobei zumindest eines der Substrate mehrere Vertiefungen für das Material aufweist; -
2 ein Ausgangs- oder Zielsubstrat in einer Querschnittsdarstellung mit unterschiedlich konturierten Vertiefungen; -
3 ein Ausgangs- oder Zielsubstrat in einer Draufsicht mit mehreren Vertiefungen mit unterschiedlicher Querschnittsform; -
4 verschiedene Positionen möglicher Fokuspunkte der Laserstrahlung innerhalb der Vertiefungen in einer Querschnittsdarstellung; -
5 die gezielte Passivierung einer ausgewählten Zelle innerhalb einer Vertiefung; -
6 die Übertragung einzelner Zellen zwischen dem Ausgangs- und dem Zielsubstrat; -
7 die Übertragung einzelner Zellen zwischen dem Ausgangs- und dem Zielsubstrat mittels eines Hilfsmaterials; -
8 das Einbringen von Absorberschichten vor bzw. nach dem Einbringen einer Zelle in die Vertiefung.
-
1 different relative orientations of a starting substrate relative to a target substrate, at least one of the substrates having a plurality of wells for the material; -
2 a starting or target substrate in a cross-sectional representation with differently contoured depressions; -
3 a starting or target substrate in a plan view with a plurality of depressions with different cross-sectional shapes; -
4 different positions of possible focus points of the laser radiation within the depressions in a cross-sectional representation; -
5 the targeted passivation of a selected cell within a well; -
6 the transfer of individual cells between the source and target substrates; -
7 the transfer of individual cells between the source and target substrates using an auxiliary material; -
8th the introduction of absorber layers before or after the introduction of a cell into the well.
Die Erfindung wird nachstehend anhand der Figuren näher erläutert. Dabei zeigt
Dieser Materialaustrag wird mittels des auch als LIFT-Verfahren bezeichneten, an sich bekannten laser-induced forward transfer erreicht, wodurch die Zellen direkt oder gebunden an sogenannte Beads als Hilfssubstanz bzw. Transferhilfsmittel 6 wie in
Die Immobilisierung der Zellen, insbesondere in Richtung der großen Erstreckung des Substrats 3, 4, ist Aufgabe der Erfindung. Bei ebenen Substraten 3, 4 kann die Anwendung des LIFT-Verfahrens zu Bewegung von Zellen in unmittelbarer Nähe des Übertrags führen. Daher muss vor jeder einzelnen Übertragung detektiert werden, wo sich Zellen befinden und wohin die Laserstrahlung 2 fokussiert werden soll, um zu verhindern, Zellen direkt zu bestrahlen oder mehrere Zellen zu übertragen. Die Verwendung von Vertiefungen 5 ermöglicht es, die Position 12 der Zellen einmal zu bestimmen und damit eine Zellkarte zu erstellen. Anschließend kann diese Karte genutzt werden, um die Laserstrahlung 2 bei der Übertragung an geeignete Positionen 12 zu fokussieren. Bei länger andauernden Experimenten mit Zellen findet außerdem immer eine Zellwanderung statt. Die Vertiefungen 5 beschränken dies auf eine wesentlich kleinere Fläche pro Zelle.The object of the invention is to immobilize the cells, particularly in the direction of the large extent of the substrate 3, 4. In the case of flat substrates 3, 4, the use of the LIFT method can lead to immediate movement of cells proximity to the carry. Therefore, before each individual transfer, it must be detected where cells are located and where the laser radiation 2 should be focused in order to avoid directly irradiating cells or transferring multiple cells. The use of wells 5 makes it possible to determine the position 12 of the cells once and thus create a cell map. This card can then be used to focus the laser radiation 2 during transmission to suitable positions 12. In long-term experiments with cells, cell migration always occurs. The depressions 5 limit this to a much smaller area per cell.
Die Laserstrahlung 2 kann wahlweise von oben einwirken oder von unten. Zur Übertragung des Materials 1 wird die Laserenergie in Hitze umgewandelt, welche schlagartig Flüssigkeit verdampft und das Material 1 vorantreibt, wobei als Absorber 7 der Laserenergie ein Medium, beispielsweise Wasser, oder Reagenzien bzw. zugesetzte Absorber 7 dienen kann. Die Druckausbreitung wird dabei durch eine Wandfläche 8 der Vertiefung 5 kanalisiert und konzentriert und das Material 1 in Richtung der Öffnung 9 der Vertiefung 5 fokussiert und dabei zielgerichtet abgelenkt.The laser radiation 2 can act either from above or from below. To transfer the material 1, the laser energy is converted into heat, which suddenly evaporates liquid and drives the material 1 forward, with a medium, for example water, or reagents or added absorbers 7, being able to serve as the absorber 7 of the laser energy. The pressure propagation is channeled and concentrated through a wall surface 8 of the recess 5 and the material 1 is focused in the direction of the opening 9 of the recess 5 and thereby deflected in a targeted manner.
Durch die Wandfläche 8 wird die Spritzerneigung reduziert, sodass mit höherer Energie eingewirkt und damit ein größeres Volumen aus der Vertiefung 5 transportiert werden kann, um so die Effizienz des Material-Transfers im Vergleich zu einer ebenen Substratfläche zu erhöhen. Zudem ist es nahezu ausgeschlossen, dass unerwünschte, nicht ausgewählte Partikel oder Zellen transportiert werden, weil diese durch die Vertiefungen 5 physisch getrennt sind. Demgegenüber können bei ebenen Substraten nach dem Stand der Technik „Übertragungsvolumina“ entstehen bzw. durch laterale Strömungen das Material vermischt werden. Erfindungsgemäß führen die in
Über die Parameter Laserleistung, Wellenlänge, Absorber 7, Flüssigkeit zur Einstellung des Druckprozesses hinaus ergeben sich durch die Formgebung der Vertiefungen 5 weitere Möglichkeiten, den Parameterraum zu vergrößern und die Übertragung des Materials 1 zwischen Ausgangssubstrat 3 und Zielsubstrat 4 zu optimieren, und dabei insbesondere das unerwünschte und unerkannte Vermischen von Zellen zu vermeiden.In addition to the parameters of laser power, wavelength, absorber 7, liquid for setting the printing process, the shape of the depressions 5 results in further possibilities for increasing the parameter space and optimizing the transfer of the material 1 between the starting substrate 3 and the target substrate 4, and in particular that to avoid unwanted and undetected mixing of cells.
Durch die in
Dabei können, wie in
Es können beispielsweise gepulste Laserquellen eingesetzt werden. Dabei kann die Pulsdauer zwischen 100 fs bis 100 µs liegen. Die Wellenlänge wird so gewählt, dass die Laserstrahlung 2 möglichst in der Nähe der Zellen absorbiert wird und nicht von den Zellen selbst. Dabei kann beispielsweise Wasser als Absorber 7 dienen und eine Laserwellenlänge im Bereich von 2 µm genutzt werden. Alternativ werden Absorbermaterialien genutzt, die an die Wellenlänge der Laserquelle angepasst sind. Grundsätzlich können beliebige Wellenlängen von Ultraviolett bis Infrarot genutzt werden.For example, pulsed laser sources can be used. The pulse duration can be between 100 fs and 100 µs. The wavelength is chosen so that the laser radiation 2 is absorbed as close as possible to the cells and not by the cells themselves. Water, for example, can serve as an absorber 7 and a laser wavelength in the range of 2 μm can be used. Alternatively, absorber materials that are adapted to the wavelength of the laser source are used. In principle, any wavelength from ultraviolet to infrared can be used.
Weiterhin kann das Substrat 3, 4 aus Glas beispielsweise mit einer absorbierenden Beschichtung ausgestattet sein, wozu sich insbesondere Gold durch seine inerten und gut absorbierenden Eigenschaften eignet.Furthermore, the substrate 3, 4 made of glass can, for example, be equipped with an absorbent coating, for which gold is particularly suitable due to its inert and well-absorbing properties.
Der Energieeintrag kann, wie in
Wie in
Wie in
BEZUGSZEICHENLISTEREFERENCE SYMBOL LIST
- 11
- Materialmaterial
- 22
- LaserstrahlungLaser radiation
- 33
- AusgangssubstratStarting substrate
- 44
- ZielsubstratTarget substrate
- 55
- Vertiefung deepening
- 66
- TransferhilfsmittelTransfer aids
- 77
- Absorberabsorber
- 88th
- Wandflächewall surface
- 99
- Öffnungopening
- 1010
- Bodenfläche floor area
- 1111
- Druckblasepressure bubble
- 1212
- Position position
- EE
- Engstellebottleneck
Claims (15)
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---|---|---|---|
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US6936311B2 (en) | 1999-01-27 | 2005-08-30 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Generation of biomaterial microarrays by laser transfer |
US7875324B2 (en) | 2003-06-06 | 2011-01-25 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Biological laser printing via indirect photon-biomaterial interactions |
-
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R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R082 | Change of representative |
Representative=s name: CREUTZBURG, TOM, DIPL.-ING., DE |