DE102021116765A1 - DEVICE FOR MANUFACTURING A POLYSILICIUM ROD - Google Patents

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Tetsuro Okada
Naruhiro Hoshino
Masahiko Ishida
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Abstract

Eine Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs mit dem Siemens-Verfahren weist eine Grundplatte 20; und einen Haltekörper 100 auf, der so auf der Grundplatte 20 vorgesehen ist, dass er in einer horizontalen Richtung beweglich ist und elektrisch zwischen einen Kerndrahthalter 1 und eine Elektrode 4 geschaltet ist. Der Haltekörper 100 ist so konfiguriert, dass er den Kerndrahthalter 1 in Bezug auf die Grundplatte 20 drehbar hält.An apparatus for manufacturing a polysilicon ingot using the Siemens process comprises a base plate 20; and a holding body 100 provided on the base plate 20 so as to be movable in a horizontal direction and electrically connected between a core wire holder 1 and an electrode 4 . The holding body 100 is configured to hold the core wire holder 1 rotatably with respect to the base plate 20 .

Description

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs mit dem Siemens-Verfahren.The present invention relates to an apparatus for producing a polysilicon rod using the Siemens method.

Die vorliegende Anmeldung beansprucht die Priorität der am 2. Juli 2021 eingereichten vorläufigen japanischen Patentanmeldung mit dem Aktenzeichen 2020-114568 , die durch Bezugnahme in die vorliegende Anmeldung aufgenommen ist.This application claims priority from Japanese Provisional Patent Application filed on July 2, 2021, File No. 2020-114568 which is incorporated by reference into the present application.

HINTERGRUNDBACKGROUND

Polysilizium ist ein Ausgangsstoff für monokristallines Silizium zum Herstellen eines Halbleiters und für Silizium zum Herstellen einer Solarzelle. Als ein Verfahren zum Herstellen von Polysilizium ist das Siemens-Verfahren bekannt, und bei diesem Verfahren wird im Allgemeinen ein Silan-basiertes Gas in Kontakt mit einem erwärmten Siliziumkerndraht gebracht, um Polysilizium auf einer Oberfläche des Siliziumkerndrahts mit einem CVD-Verfahren (CVD: chemische Aufdampfung) abzuscheiden.Polysilicon is a raw material for monocrystalline silicon for producing a semiconductor and for silicon for producing a solar cell. As a method for producing polysilicon, the Siemens method is known, and in this method, a silane-based gas is generally brought into contact with a heated silicon core wire to form polysilicon on a surface of the silicon core wire by a CVD method (CVD: chemical Vapor deposition).

Bei dem Siemens-Verfahren werden zwei Siliziumkerndrähte in einer vertikalen Richtung montiert, und ein Siliziumkerndraht wird in einer Torform (einer umgekehrten U-Form) in einer horizontalen Richtung montiert, wobei entgegengesetzte Enden der Siliziumkerndrähte jeweils mit Kerndrahthaltern verbunden werden, um sie an einem Paar Metall-Elektroden zu befestigen, die auf einer Grundplatte angeordnet sind. Im Allgemeinen wird eine Mehrzahl von Gruppen von Siliziumkerndrähten mit umgekehrter U-Form in einem Reaktor angeordnet.In the Siemens method, two silicon core wires are mounted in a vertical direction, and a silicon core wire is mounted in a gate shape (an inverted U-shape) in a horizontal direction, with opposite ends of the silicon core wires connected to core wire holders to hold them on a pair To attach metal electrodes, which are arranged on a base plate. Generally, a plurality of groups of silicon core wires are arranged in an inverted U-shape in a reactor.

Wenn der Siliziumkerndraht mit umgekehrter U-Form elektrisch auf eine Abscheidungstemperatur erwärmt wird und ein Gasgemisch zum Beispiel aus Trichlorsilan und Wasserstoff als ein Ausgangsstoff in Kontakt mit dem Siliziumkerndraht gebracht wird, wird Polysilizium auf den Siliziumkerndraht aufgedampft, und es entsteht ein Polysiliziumstab mit einem gewünschten Durchmesser und umgekehrter U-Form.When the inverted U-shape silicon core wire is electrically heated to a deposition temperature and a gas mixture of, for example, trichlorosilane and hydrogen as a raw material is brought into contact with the silicon core wire, polysilicon is evaporated on the silicon core wire, and a polysilicon rod having a desired diameter is produced and inverted U shape.

Die Elektrode durchdringt die Grundplatte über einen Isolator und wird mit einer anderen Elektrode oder einer Stromquelle verbunden, die außerhalb des Reaktors angeordnet ist. Während das Polysilizium abgeschieden wird, werden die Elektrode, die Grundplatte und eine Glocke mit einem Kühlmittel wie Wasser gekühlt, um ein Abscheiden des Polysiliziums auf der Elektrode und eine Verunreinigung des Polysiliziums mit Metallen zu verhindern, die durch einen Temperaturanstieg der Elektrode während des Abscheidens verursacht wird.The electrode penetrates the base plate via an insulator and is connected to another electrode or a power source which is arranged outside the reactor. While the polysilicon is being deposited, the electrode, the base plate, and a bell jar are cooled with a coolant such as water to prevent deposition of the polysilicon on the electrode and contamination of the polysilicon with metals caused by a rise in temperature of the electrode during deposition will.

4 zeigt eine schematische Darstellung zum beispielhaften Erläutern eines Aspekts des Standes der Technik, bei dem ein Elektrodenhalter an der Elektrode zum Halten eines Kerndrahthalters 11 befestigt wird. In dem Beispiel, das in 4 gezeigt ist, sind eine Elektrode 14, die aus Metall hergestellt ist, und der Kerndrahthalter 11, der aus Kohlenstoff hergestellt ist, über einen Elektrodenadapter 13 verbunden, um einen Verschleiß der Elektrode 14 niedrig zu halten, und der Elektrodenadapter 13 ist durch Verschraubung an der Elektrode 14 befestigt. 4th FIG. 13 is a schematic diagram for explaining, by way of example, a related art aspect in which an electrode holder is attached to the electrode for holding a core wire holder 11. In the example shown in 4th As shown, an electrode 14 made of metal and the core wire holder 11 made of carbon are connected via an electrode adapter 13 to suppress wear of the electrode 14, and the electrode adapter 13 is screwed to the Electrode 14 attached.

Ein Strom wird von der Elektrode 14 in den Siliziumkerndraht (nicht dargestellt) eingespeist, der mittels des Kerndrahthalters 11 auf dem Kerndraht gehalten wird, und eine Oberfläche des Siliziumkerndrahts wird durch Joulesche Wärme in einer WasserstoffAtmosphäre auf eine Temperatur von etwa 900 °C bis 1200 °C erwärmt. In diesem Zustand wird zum Beispiel hochreines Silizium auf den Siliziumkerndraht aufgedampft, sodass durch Einleiten eines Gasgemisches zum Beispiel aus Trichlorsilan und Wasserstoff als ein Ausgangsstoff in einen Reaktor ein Polysiliziumstab aufgewachsen wird.A current is fed from the electrode 14 into the silicon core wire (not shown), which is held on the core wire by means of the core wire holder 11, and a surface of the silicon core wire is heated to a temperature of about 900 ° C to 1200 ° by Joule heat in a hydrogen atmosphere C heated. In this state, for example, high-purity silicon is evaporated onto the silicon core wire, so that a polysilicon rod is grown by introducing a gas mixture, for example of trichlorosilane and hydrogen, as a starting material into a reactor.

Während dieses Prozesses erfolgt die Abscheidung des Polysiliziums auf dem aus Kohlenstoff hergestellten Kerndrahthalter 11 mit einer Zunahme eines Durchmessers des Polysiliziumstabs, und das Polysilizium wird schrittweise mit dem Kerndrahthalter 11 integriert. Da der elektrische Widerstand mit dem Wachstum des Polysiliziumstabs abnimmt, wird der einzuspeisende Strom schrittweise erhöht, um eine Oberflächentemperatur des Polysiliziumstabs auf einer Temperatur zu halten, die für die Abscheidungsreaktion geeignet ist.During this process, the polysilicon is deposited on the core wire holder 11 made of carbon with an increase in a diameter of the polysilicon rod, and the polysilicon is gradually integrated with the core wire holder 11. Since the electrical resistance decreases as the polysilicon rod grows, the current to be fed is gradually increased in order to keep a surface temperature of the polysilicon rod at a temperature suitable for the deposition reaction.

Im Allgemeinen ist der in den Polysiliziumstab einzuspeisende Strom ein hoher Strom von 2000 Abis 4000 A am Ende der Abscheidungsreaktion. Mit zunehmendem Durchmesser des Polysiliziumstabs steigt ein Umfang einer Wärme-Abstrahlung von einer Stab-Oberfläche. Daher muss eine elektrische Energie, die dem Polysiliziumstab zugeführt werden soll, erhöht werden, um die Wärmemenge auszugleichen, die verloren geht, wenn die Wärme von der Stab-Oberfläche abgestrahlt wird, um eine Temperatur aufrechtzuerhalten, die für die Abscheidungsreaktion benötigt wird (900 °C bis 1200 °C).In general, the current to be fed into the polysilicon rod is a high current of 2000 to 4000 A at the end of the deposition reaction. As the diameter of the polysilicon rod increases, an amount of heat radiation from a rod surface increases. Therefore, an electrical energy to be supplied to the polysilicon rod must be increased in order to compensate for the amount of heat that is lost when the heat is radiated from the rod surface in order to maintain a temperature that is required for the deposition reaction (900 ° C to 1200 ° C).

Da Polysilizium die Eigenschaft hat, dass sein spezifischer elektrischer Widerstand prinzipiell mit steigender Temperatur abnimmt, fließt der meiste Strom in der Mitte des Stabs, wo die Temperatur hoch ist. Daher hat in einem Brückenteil des Stabs eine Innenseite der umgekehrten U-Form eine hohe Temperatur und einen maximalen Strom.Since polysilicon has the property that its specific electrical resistance in principle decreases with increasing temperature, most of the current flows in the center of the rod, where the temperature is high. Therefore, in a bridge part of the rod, an inside of the inverted U-shape has a high temperature and a maximum current.

Als Ursachen hierfür werden der Umstand, dass eine Strecke entlang einer Innenseite des Stabs an einem Bogen als eine elektrische Schaltung kurz ist, und der Umstand angenommen, dass Strahlung von einem geraden Körper und von einer Brücke des Bogens leicht voneinander aufgenommen wird und sich der gerade Körper und die Brücke des Bogens leicht erwärmen lassen, da der Stab die umgekehrte U-Form hat.The causes for this are believed to be that a distance along an inside of the rod on an arch as an electric circuit is short, and that radiation from a straight body and a bridge of the arch is easily received from each other and the straight Allow the body and bridge of the arch to warm slightly as the rod is inverted U-shape.

AUFGABE DER ERFINDUNGOBJECT OF THE INVENTION

Es ist daher ein Problem, dass mit zunehmendem Durchmesser des Stabs eine Temperaturdifferenz zwischen der Innenseite und der Außenseite des Brückenteils zunimmt und die Gefahr einer Rissbildung steigt, da Unterschiede bei der Dehnung des Brückenteils während des Aufwachsens und des Zusammenziehens beim Abkühlen nach Beendigung des Aufwachsens markanter werden.It is therefore a problem that as the diameter of the rod increases, a temperature difference between the inside and the outside of the bridge part increases and the risk of cracking increases, since differences in the expansion of the bridge part during the growing up and the contraction during cooling after the end of the growing up are more pronounced will.

Die Risse während des Aufwachsens erzeugen Kräfte zum Öffnen der umgekehrten U-Form aufgrund der Differenz zwischen einer niedrigen Temperatur an der Außenseite und einer hohen Temperatur an der Innenseite des Bogens des Stabteils mit umgekehrter U-Form. Wenn zu diesem Zeitpunkt die Elektroden an dem Fuß an gegenüberliegenden Enden des Stabs befestigt werden, kann sich der Stab nicht verformen, die Spannung übersteigt einen festgelegten Wert, und dadurch entsteht ein Riss. Da dieser wachsende Riss zu einer Schwankung des angelegten Stroms führt und auch die Stabtemperatur schwankt, wird die Homogenität von Kristallen negativ beeinflusst. Wenn der Einfluss des Risses steigt, kann kein Strom mehr angelegt werden, und die Reaktion muss mittendrin unterbrochen werden.The cracks during the growth generate forces to open the inverted U-shape due to the difference between a low temperature on the outside and a high temperature on the inside of the arc of the rod part having an inverted U-shape. At this time, if the electrodes are attached to the foot at opposite ends of the rod, the rod cannot be deformed, the voltage exceeds a specified value, and a crack occurs. Since this growing crack causes the applied current to fluctuate and the rod temperature also fluctuates, the homogeneity of crystals is negatively affected. If the influence of the crack increases, no more current can be applied and the reaction must be interrupted in the middle.

Da andererseits beim Abkühlen nach der Beendigung des Aufwachsens sich die Innenseite des Bogens am stärksten zusammenzieht, entsteht eine Kraft, die die umgekehrte U-Form schließt. Wenn sich dann der Stab nicht mehr verformen kann und die Spannung den festgelegten Wert übersteigt, entsteht ein Riss. Erfahrungsgemäß ist der Riss beim Abkühlen größer als der Riss während des Aufwachsens, und er kann sich in dem gesamten Stab ausbreiten, was zu einem Versagen des Stabs führt.On the other hand, since the inside of the arch contracts the most when it cools after the end of growth, a force is created that closes the inverted U-shape. If the rod can no longer deform and the stress exceeds the specified value, a crack occurs. Experience has shown that the crack on cooling is larger than the crack during growth, and it can spread throughout the rod, resulting in failure of the rod.

Wie vorstehend dargelegt worden ist, wird bei dem Siemens-Verfahren der Riss des Stabs durch die Temperaturdifferenz zwischen der Innenseite und der Außenseite der umgekehrten U-Form erzeugt. Daher ist zu erkennen, dass zusätzlich zu einer einfachen Dehnung und Zusammenziehung, die von der Temperaturänderung des gesamten Stabs verursacht werden, eine zweidimensionale Kraft aufgebracht wird, die eine Drehkraft mit einem Kontaktpunkt zwischen dem geraden Hauptteil und dem Brückenteil des Stabs als einen Drehpunkt umfasst.As stated above, in the Siemens method, the crack of the rod is generated by the temperature difference between the inside and the outside of the inverted U-shape. Therefore, it can be seen that in addition to simple expansion and contraction caused by the temperature change of the entire rod, a two-dimensional force is applied which includes a rotational force with a contact point between the straight main part and the bridge part of the rod as a fulcrum.

Eine Hauptsorge ist der wirtschaftliche Schaden bei der Herstellung des Stabs, der durch die Rissbildung entsteht. Um jedoch die vorgenannte zweidimensionale Kraft zu bewältigen, sind Dehnung und Zusammenziehung und ein Drehmechanismus erforderlich. Außerdem wird bei dem Siemens-Verfahren ein geeignetes Material mit einer hohen Temperaturbeständigkeit und einer hohen Festigkeit benötigt, das nur eine geringe Verunreinigungsquelle darstellt. Um die Effizienz und die Qualität des Herstellungsprozesses stabil aufrechtzuerhalten, müssen Reinigung und Installation zwischen den Losen einfach durchzuführen sein. Es ist daher sehr schwierig, das vorstehend beschriebene Problem zu lösen.A major concern is the economic damage in the manufacture of the rod caused by the cracking. However, in order to cope with the aforementioned two-dimensional force, expansion and contraction and a rotating mechanism are required. In addition, the Siemens process requires a suitable material with a high temperature resistance and high strength, which is only a small source of contamination. In order to stably maintain the efficiency and quality of the manufacturing process, cleaning and installation between lots must be easy to perform. It is therefore very difficult to solve the problem described above.

Für den Elektrodenadapter ist bereits eine neue Struktur vorgeschlagen worden.A new structure has already been proposed for the electrode adapter.

Zum Beispiel wird in dem Dokument JP 2006-240934 A eine Vorrichtung offenbart, bei der eine Elektrode und ein Halter gleitfähig elektrisch verbunden sind, aber die Vorrichtung kann keiner Drehbewegung mit einem Kontaktpunkt zwischen einem geraden Hauptteil und einem Brückenteil eines Stabs als einem Drehpunkt gerecht werden.For example, in the document JP 2006-240934 A discloses a device in which an electrode and a holder are electrically connected slidably, but the device cannot cope with a rotational movement with a contact point between a straight main part and a bridge part of a rod as a fulcrum.

In dem Dokument JP 2805457 B2 ist offenbart, dass horizontale und schräge Bewegungen eines Elektrodenhalters unter Verwendung eines Federelement ausgeführt werden können. Ein Reinigen zwischen Losen ist jedoch sehr schwierig, und es ist nahezu unmöglich, alle Oberflächen sauber zu halten, da die Form wegen der Verwendung der Federelemente komplex ist. Beim Halten mit der Feder besteht das Problem, dass eine Kraft, die für die Bewegung erforderlich ist, mit steigendem Bewegungsumfang größer wird und dass kein ausreichender Bewegungsumfang sichergestellt werden kann, wenn der Durchmesser stärker zunimmt und der erforderliche Bewegungsumfang steigt.In the document JP 2805457 B2 it is disclosed that horizontal and oblique movements of an electrode holder can be carried out using a spring element. However, cleaning between lots is very difficult and it is almost impossible to keep all surfaces clean because the shape is complex because of the use of the spring elements. When holding with the spring, there is a problem that a force required for movement increases as the amount of movement increases, and a sufficient amount of movement cannot be secured as the diameter increases more and the amount of movement required increases.

Wie vorstehend dargelegt worden ist, hat der Elektrodenadapter des Standes der Technik keinen ausreichenden Freiheitsgrad für die Bewegung, und/oder Gegenmaßnahmen zum Reinigen, die zwischen Losen durchgeführt werden, reichen für den Elektrodenadapter nicht aus. Es ist daher Ziel der vorliegenden Erfindung, eine Vorrichtung zum Herstellen von Polysilizium bereitzustellen, bei der ein Elektrodenadapter in einer horizontalen Richtung bewegt werden kann und gedreht werden kann und das Polysilizium leicht zu reinigen ist.As stated above, the prior art electrode adapter does not have a sufficient degree of freedom for movement and / or countermeasures for cleaning performed between lots are insufficient for the electrode adapter. It is therefore an object of the present invention to provide an apparatus for manufacturing polysilicon in which an electrode adapter can be moved and rotated in a horizontal direction and the polysilicon is easy to clean.

MITTEL ZUR LÖSUNG DES PROBLEMSMEANS TO SOLVE THE PROBLEM

Prinzip 1Principle 1

Eine Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs mit dem Siemens-Verfahren kann Folgendes aufweisen:

  • eine Grundplatte; und
  • einen Haltekörper, der so auf der Grundplatte vorgesehen ist, dass er in einer horizontalen Richtung beweglich ist und elektrisch zwischen einen Kerndrahthalter und eine Elektrode geschaltet ist,

wobei der Haltekörper so konfiguriert ist, dass er den Kerndrahthalter in Bezug auf die Grundplatte drehbar hält.An apparatus for producing a polysilicon rod using the Siemens process can have the following:
  • a base plate; and
  • a holding body provided on the base plate so as to be movable in a horizontal direction and electrically connected between a core wire holder and an electrode,

wherein the holding body is configured to hold the core wire holder rotatably with respect to the base plate.

Prinzip 2Principle 2

Bei der Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs gemäß dem Prinzip 1 kann der Haltekörper einen Fuß aufweisen, der so auf der Grundplatte vorgesehen ist, dass er in der horizontalen Richtung beweglich ist, wobei der Elektrodenadapter so vorgesehen ist, dass er in Bezug auf die Grundplatte drehbar ist und elektrisch zwischen den Kerndrahthalter und die Elektrode geschaltet ist.In the apparatus for manufacturing a polysilicon rod according to Principle 1, the holding body may have a foot provided on the base plate to be movable in the horizontal direction, the electrode adapter being provided to be rotatable with respect to the base plate and is electrically connected between the core wire holder and the electrode.

Prinzip 3Principle 3

Bei der Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs gemäß dem Prinzip 2 kann der Fuß einen gewölbten Oberflächenteil auf seinem oberen Teil haben, und der Elektrodenadapter kann entlang dem gewölbten Oberflächenteil drehbar sein und in der horizontalen Richtung in Bezug auf die Elektrode gleitfähig sein.In the apparatus for manufacturing a polysilicon rod according to Principle 2, the foot may have a curved surface part on its upper part, and the electrode adapter can be rotatable along the curved surface part and slidable in the horizontal direction with respect to the electrode.

Prinzip 4Principle 4

Die Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs gemäß dem Prinzip 3 kann weiterhin einen Pressteil aufweisen, wobei der Elektrodenadapter ein Elektrodenadapter-Hauptteil, das drehbar auf dem gewölbten Oberflächenteil vorgesehen ist, und ein Elektrodenadapter-Gleitteil aufweist, das sich in der horizontalen Richtung von dem Elektrodenadapter-Hauptteil erstreckt und die Elektrode kontaktiert, wobei die Elektrode zwischen das Elektrodenadapter-Gleitteil und das Pressteil angeschlossen sein kann.The apparatus for manufacturing a polysilicon rod according to Principle 3 may further comprise a pressing part, the electrode adapter having an electrode adapter main part which is rotatably provided on the curved surface part and an electrode adapter sliding part which extends in the horizontal direction from the electrode adapter Main part extends and contacts the electrode, wherein the electrode can be connected between the electrode adapter sliding part and the pressing part.

Prinzip 5Principle 5

Bei der Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs gemäß einem der Prinzipien 2 bis 4 können die Grundplatte, der Elektrodenadapter und die Elektrode jeweils nur mit einer ebenen Oberfläche und mit einer Kugeloberfläche oder einer gewölbten Oberfläche mit einem Radius von 5 mm oder mehr hergestellt sind.In the apparatus for manufacturing a polysilicon rod according to one of the principles 2 to 4, the base plate, the electrode adapter and the electrode can each be made only with a flat surface and with a spherical surface or a curved surface with a radius of 5 mm or more.

Prinzip 6Principle 6

Bei der Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs gemäß dem Prinzip 5 können die Grundplatte, der Elektrodenadapter und die Elektrode (jeweils) keinen inneren Eckteil aufweisen, der einen Winkel von weniger als 90° aufweist.In the device for producing a polysilicon rod according to principle 5, the base plate, the electrode adapter and the electrode (each) cannot have an inner corner part which has an angle of less than 90 °.

Prinzip 7Principle 7

Bei der Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs gemäß einem der Prinzipien 2 bis 4 kann der Fuß, der auf der Grundplatte vorgesehen ist, ein Isolator sein.In the apparatus for manufacturing a polysilicon rod according to one of the principles 2 to 4, the foot provided on the base plate can be an insulator.

Gemäß den Aspekten der vorliegenden Erfindung kann der Elektrodenadapter in der horizontalen Richtung bewegt werden und kann gedreht werden; es kann Polysilizium hergestellt werden, das sich leicht reinigen lässt; und der Riss beim Abkühlen während des Aufwachsens und nach dem Aufwachsen kann reduziert werden.According to the aspects of the present invention, the electrode adapter can be moved in the horizontal direction and can be rotated; polysilicon can be produced, which is easy to clean; and the crack upon cooling during growing and after growing can be reduced.

FigurenlisteFigure list

  • 1 ist eine Draufsicht, die ein Prinzip eines Aspekts zeigt, bei dem ein Elektrodenhalter gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung an einer Metallelektrode befestigt wird, um einen Kerndrahthalter zu halten. 1 Fig. 13 is a plan view showing a principle of an aspect in which an electrode holder according to an embodiment of the present invention is attached to a metal electrode to hold a core wire holder.
  • 2 ist eine Seitenschnittansicht entlang einer Linie II - II von 1. 2 FIG. 11 is a side sectional view taken along a line II-II of FIG 1 .
  • 3 ist eine Draufsicht, die 1 entspricht und ein Modifikationsbeispiel einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. 3 Fig. 3 is a plan view showing 1 and shows a modification example of an embodiment of the present invention.
  • 4 ist eine Seitenschnittansicht, die ein Prinzip eines Aspekts zeigt, bei dem ein Elektrodenhalter des Standes der Technik an einer Metallelektrode befestigt wird, um einen Kerndrahthalter zu halten. 4th Fig. 13 is a side sectional view showing a principle of an aspect in which a prior art electrode holder is attached to a metal electrode to hold a core wire holder.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNGDETAILED DESCRIPTION

Die Ausführungsform stellt eine Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs mit dem Siemens-Verfahren bereit. Wie in den 1 und 2 gezeigt ist, weist die Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs gemäß der Ausführungsform einen Haltekörper 100 auf, der so auf einer Reaktor-Grundplatte (Grundplatte) 20 angeordnet ist, dass er in einer horizontalen Richtung beweglich ist, und der elektrisch zwischen einen Kerndrahthalter 1 und eine Metallelektrode (Elektrode) 4 geschaltet ist. Der Haltekörper 100 ist so konfiguriert, dass er den Kerndrahthalter 1 drehbar (schwenkbar) in Bezug auf die Reaktor-Grundplatte 20 hält. Der Haltekörper 100 kann den Kerndrahthalter 1 so halten, dass er in einer vertikalen Richtung in Bezug auf die Reaktor-Grundplatte 20 drehbar ist, und er kann den Kerndrahthalter 1 so halten, dass er in einer horizontalen Ebene drehbar ist. In 2 sind Pfeile R1 und R2 dargestellt, die angeben sollen, dass der Haltekörper 100 den Kerndrahthalter 1 in der vertikalen Richtung in Bezug auf die Reaktor-Grundplatte 20 drehbar (schwenkbar) hält. In 2 sind außerdem Pfeile S1 und S2 dargestellt, die angeben sollen, dass der Haltekörper 100 in der horizontalen Richtung in Bezug auf die Reaktor-Grundplatte 20 beweglich ist.The embodiment provides an apparatus for manufacturing a polysilicon rod by the Siemens method. As in the 1 and 2 is shown, the apparatus for manufacturing a polysilicon rod according to the embodiment has a holding body 100 which is arranged on a reactor base plate (base plate) 20 so as to be movable in a horizontal direction and which is electrically between a core wire holder 1 and a Metal electrode (electrode) 4 is connected. The holding body 100 is configured to be the core wire holder 1 rotatable (pivotable) with respect to the Reactor base plate 20 holds. The holding body 100 can hold the core wire holder 1 so that it is rotatable in a vertical direction with respect to the reactor base 20, and it can hold the core wire holder 1 so that it is rotatable in a horizontal plane. In 2 Arrows R1 and R2 are shown, which are intended to indicate that the holding body 100 holds the core wire holder 1 rotatably (pivotably) in the vertical direction with respect to the reactor base plate 20. In 2 arrows S1 and S2 are also shown, which are intended to indicate that the holding body 100 is movable in the horizontal direction with respect to the reactor base plate 20.

Der Haltekörper 100 kann eine Adapterbasis (Fuß) 3, der so auf der Reaktor-Grundplatte 20 vorgesehen ist, dass er in der horizontalen Richtung beweglich ist; und einen Elektrodenadapter 2 aufweisen, der so vorgesehen ist, dass er in Bezug auf die Adapterbasis 3 drehbar (schwenkbar) ist, und der elektrisch zwischen den Kerndrahthalter 1 und die Metallelektrode 4 geschaltet ist.The holding body 100 may include an adapter base (foot) 3 provided on the reactor base 20 so as to be movable in the horizontal direction; and an electrode adapter 2 which is provided to be rotatable (pivotable) with respect to the adapter base 3 and which is electrically connected between the core wire holder 1 and the metal electrode 4.

Die Adapterbasis 3 kann einen gewölbten Oberflächenteil 3a auf ihrem oberen Teil aufweisen. Der Elektrodenadapter 2 kann entlang dem gewölbten Oberflächenteil 3a drehbar sein und kann in der horizontalen Richtung in Bezug auf die Metallelektrode 4 gleitfähig sein.The adapter base 3 may have a curved surface part 3a on its upper part. The electrode adapter 2 can be rotatable along the curved surface part 3 a, and can be slidable with respect to the metal electrode 4 in the horizontal direction.

Der Elektrodenadapter 2 kann ein Elektrodenadapter-Hauptteil 2a, das drehbar auf dem gewölbten Oberflächenteil 3a des Fußes 3 vorgesehen ist; und ein Elektrodenadapter-Gleitteil 2b aufweisen, das sich von dem Elektrodenadapter-Hauptteil 2a in der horizontalen Richtung erstreckt und die Metallelektrode 4 kontaktiert. Das Elektrodenadapter-Hauptteil 2a und das Elektrodenadapter-Gleitteil 2b können eine Einheit bilden.The electrode adapter 2 may include an electrode adapter main part 2a rotatably provided on the curved surface part 3a of the foot 3; and an electrode adapter sliding part 2b that extends from the electrode adapter main part 2a in the horizontal direction and contacts the metal electrode 4. The electrode adapter main part 2a and the electrode adapter slide part 2b can form a unit.

Wie in 2 gezeigt ist, kann das Elektrodenadapter-Hauptteil 2a eine viereckige Form in einer Draufsicht haben, und das Elektrodenadapter-Gleitteil 2b kann ebenfalls eine viereckige Form in einer Draufsicht haben. Auch die Adapterbasis 3 kann eine viereckige Form in einer Draufsicht haben. Der gewölbte Oberflächenteil 3a der Adapterbasis 3 kann eine Kreisform in einer Draufsicht haben.As in 2 As shown, the electrode adapter main part 2a may have a square shape in a plan view, and the electrode adapter slide part 2b may also have a square shape in a plan view. The adapter base 3 can also have a square shape in a plan view. The curved surface part 3a of the adapter base 3 may have a circular shape in a plan view.

Bei dem Aspekt, der in den 1 und 2 gezeigt ist, wird die Metallelektrode 4 mittels eines Isolators 5 auf der Reaktor-Grundplatte 20 befestigt, und sie wird als ein im Wesentlichen rechteckiges Parallelepiped hergestellt. Das Elektrodenadapter-Gleitteil 2b ist durch Klemmen der Metallelektrode 4 zwischen das Elektrodenadapter-Gleitteil 2b und ein Pressteil, wie etwa eine Pressplatte 10, in Kontakt mit dem Pressteil, und das Elektrodenadapter-Gleitteil 2b und das Pressteil werden mit einer Schraube 9a und einer Mutter 9b befestigt. Die Metallelektrode 4 kann zwischen das Elektrodenadapter-Gleitteil 2b und die Halteplatte 10 innerhalb einer festgelegten Strecke W des Elektrodenadapter-Gleitteils 2b festgespannt werden. Durch Lösen der Befestigung mit der Schraube 9a und der Mutter 9b kann eine Position des Elektrodenadapters 2 in Bezug auf die Metallelektrode 4 in der horizontalen Richtung verschoben werden. Das Elektrodenadapter-Hauptteil 2a hat einen überstehenden Teil 2a1, mit dem der Kerndrahthalter 1 auf seinem oberen Teil verbunden werden kann. Ein unterer Teil des Elektrodenadapter-Hauptteils 2a ist über den gewölbten Oberflächenteil 3a mit der Adapterbasis 3 verbunden. Durch Verwenden dieses Aspekts kann der Kerndrahthalter 1 verschoben und gedreht werden.In the aspect that is included in the 1 and 2 As shown, the metal electrode 4 is fixed on the reactor base plate 20 by means of an insulator 5, and it is made as a substantially rectangular parallelepiped. The electrode adapter sliding part 2b is in contact with the pressing part by clamping the metal electrode 4 between the electrode adapter sliding part 2b and a pressing part such as a pressing plate 10, and the electrode adapter sliding part 2b and the pressing part are secured with a screw 9a and a nut 9b attached. The metal electrode 4 can be clamped between the electrode adapter slide part 2b and the holding plate 10 within a predetermined distance W of the electrode adapter slide part 2b. By loosening the fastening with the screw 9a and the nut 9b, a position of the electrode adapter 2 with respect to the metal electrode 4 can be shifted in the horizontal direction. The electrode adapter main part 2a has a protruding part 2a 1 to which the core wire holder 1 can be connected on its upper part. A lower part of the electrode adapter main part 2a is connected to the adapter base 3 via the curved surface part 3a. By using this aspect, the core wire holder 1 can be slid and rotated.

In der Metallelektrode 4 ist ein Kühlmittel 30 vorgesehen (siehe 2), und die Metallelektrode 4 kann so konfiguriert sein, dass sie von innen gekühlt wird.A coolant 30 is provided in the metal electrode 4 (see FIG 2 ), and the metal electrode 4 may be configured to be cooled from the inside.

Bei dem in 2 gezeigten Aspekt ist ein Spalt G in der vertikalen Richtung zwischen dem Elektrodenadapter-Hauptteil 2a und der Adapterbasis 3 vorgesehen, und in 2 ist das Elektrodenadapter-Hauptteil 2a in der vertikalen Richtung drehbar (schwenkbar) (siehe den Pfeil R1 von 2) und ist in der horizontalen Richtung beweglich (siehe den Pfeil S1 von 2). Wenn das Elektrodenadapter-Hauptteil 2a in der vertikalen Richtung gedreht wird, wird auch das Elektrodenadapter-Gleitteil 2b in der vertikalen Richtung gedreht (siehe den Pfeil R2 von 2). Wenn das Elektrodenadapter-Hauptteil 2a in der horizontalen Richtung bewegt wird, wird auch das Elektrodenadapter-Gleitteil 2b in der horizontalen Richtung bewegt (siehe den Pfeil S2 von 2).The in 2 A gap G is provided in the vertical direction between the electrode adapter main part 2a and the adapter base 3, and in FIG 2 the electrode adapter main part 2a is rotatable (pivotable) in the vertical direction (see arrow R1 of FIG 2 ) and is movable in the horizontal direction (see arrow S1 of 2 ). When the electrode adapter main part 2a is rotated in the vertical direction, the electrode adapter slide part 2b is also rotated in the vertical direction (see arrow R2 of FIG 2 ). When the electrode adapter main part 2a is moved in the horizontal direction, the electrode adapter slide part 2b is also moved in the horizontal direction (see arrow S2 of FIG 2 ).

Als ein Beispiel kann die Metallelektrode 4 so befestigt werden, dass sie in der horizontalen Richtung drehbar (schwenkbar) ist. In diesem Fall ist auch das Elektrodenadapter-Hauptteil 2a in der horizontalen Richtung in Bezug auf die Adapterbasis 3 drehbar.As an example, the metal electrode 4 can be fixed so as to be rotatable (pivotable) in the horizontal direction. In this case, the electrode adapter main part 2a is also rotatable in the horizontal direction with respect to the adapter base 3.

Der Elektrodenadapter 2, die Adapterbasis 3, die Metallelektrode 4 und die Halteplatte 10, die ständig zwischen den Losen verwendet werden, können alle mit einer ebenen Oberfläche und einer einfachen Kugeloberfläche oder einer gewölbten Oberfläche hergestellt werden, wobei die einfache Kugeloberfläche oder die gewölbte Oberfläche nur leicht gewölbt sind, sodass sie einen Radius von 5 mm oder mehr haben, und sie können außerdem eine Form haben, die keinen inneren Eckteil mit einem Winkel aufweist, der kleiner als 90° ist. In diesem Fall ist zum Beispiel ein manuelles Reinigen mit einem üblichen tuchartigen Putzwerkzeug, wie etwa BEMCOT, problemlos möglich. Da die Schraube 9a und die Mutter 9b kleine Komponenten sind, ist eine finanzielle Belastung gering, auch wenn die Schraube 9a und die Mutter 9b in jedem Los durch neue Komponenten ersetzt werden. Außerdem ist der Zeitaufwand gering, wenn zwei Sätze der Schraube 9a und der Mutter 9b bereitgestellt werden, wobei ein Satz gereinigt wird, während der andere Satz in Gebrauch ist. Es ist vorteilhaft, keinen inneren Eckteil zu verwenden, der einen Winkel von weniger als 90° hat, sodass die Form keinen Teil hat, der sich nur schwer reinigen lässt. Wenn eine Schicht an einem Bogenteil mit einem spitzen Winkel abgeschieden wird, so besteht die Gefahr, dass sich die Schicht beim Abscheiden ablöst (da die Spannung der abgeschiedenen Schicht zunimmt, sodass die Schicht dicker wird, und/oder die Schicht abgeschieden wird, ohne dass eine ausreichende Haftung an dem inneren Eckteil aufrechterhalten wird), und dass die Schicht in einer Kammer nach oben fliegt und zu einer Verunreinigungsquelle wird. Wenn jedoch kein innerer Eckteil verwendet wird, der einen Winkel von weniger als 90° hat, kann ein Auftreten der vorgenannten Ereignisse vermieden werden. Noch besser ist es, keinen inneren Eckteil zu verwenden, der einen Winkel von weniger als 120° hat, da dadurch das Reinigen erleichtert werden kann und die Gefahr einer Verunreinigung gesenkt werden kann. Außerdem wird möglicherweise kein innerer Eckteil verwendet, der einen Winkel von weniger als 60° aufweist. Obwohl ein Effekt im Vergleich zu dem Effekt des Nicht-Verwendens eines inneren Eckteils, der einen Winkel von weniger als 90° hat, niedrig ist, kann in diesem Fall ein Effekt in einem bestimmten Umfang erzielt werden, insofern als das Reinigen erleichtert werden kann und die Gefahr einer Verunreinigung gesenkt werden kann. Winkel c1 in 1 und c2 in 2 betragen jeweils 90°, und c3 beträgt mehr als 90°.The electrode adapter 2, the adapter base 3, the metal electrode 4 and the holding plate 10, which are constantly used between the lots, can all be made with a flat surface and a simple spherical surface or a curved surface, the simple spherical surface or the curved surface only are slightly curved so that they have a radius of 5 mm or more, and they may also have a shape that does not have an inner corner part with an angle smaller than 90 °. In this case, for example, manual cleaning with a standard cloth-like cleaning tool, such as BEMCOT, is possible without any problems. Since the screw 9a and the nut 9b are small components, it is a financial burden low, even if the screw 9a and the nut 9b are replaced with new components in each lot. In addition, it takes little time if two sets of the screw 9a and the nut 9b are provided, one set being cleaned while the other set is in use. It is advantageous not to use an inner corner part that has an angle of less than 90 ° so that the mold does not have a part that is difficult to clean. If a layer is deposited on a part of the arch at an acute angle, there is a risk that the layer will peel off during deposition (since the tension of the deposited layer increases, so that the layer becomes thicker, and / or the layer is deposited without sufficient adhesion to the inner corner portion is maintained) and that the sheet flies up in a chamber and becomes a source of contamination. However, if an inner corner part which has an angle of less than 90 ° is used, the occurrence of the aforementioned events can be avoided. It is even better not to use an inner corner part which has an angle of less than 120 °, since this can make cleaning easier and the risk of contamination can be reduced. In addition, an inner corner piece that has an angle less than 60 ° may not be used. In this case, although an effect is low compared with the effect of not using an inner corner part having an angle of less than 90 °, an effect can be obtained to a certain extent in that cleaning can be facilitated and the risk of contamination can be reduced. Angle c1 in 1 and c2 in 2 are both 90 °, and c3 is more than 90 °.

Die Adapterbasis 3 sollte möglichst ein Isolator sein, um zu vermeiden, dass der Strom an die Reaktor-Grundplatte 20 angelegt wird. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht darauf beschränkt, und es kann auch ein leitfähiges Teil als die Adapterbasis 3 verwendet werden. In diesem Fall wird die angestrebte Funktion dadurch erreicht, dass ein Material mit einer hohen Gleitfähigkeit verwendet wird und eine ebene Platte, die aus einem Isolator hergestellt ist, zwischen der Adapterbasis 3 und der Reaktor-Grundplatte 20 platziert wird.The adapter base 3 should, if possible, be an insulator in order to avoid that the current is applied to the reactor base plate 20. However, the present invention is not limited to this, and a conductive member can also be used as the adapter base 3. In this case, the intended function is achieved by using a material having a high lubricity and placing a flat plate made of an insulator between the adapter base 3 and the reactor base plate 20.

Eine Abdeckung 40, die als ein Anschlag funktioniert, kann auf der Metallelektrode 4 vorgesehen werden, sodass das Elektrodenadapter-Gleitteil 2b nicht versehentlich von der Metallelektrode 4 (siehe 3) abgetrennt wird.A cover 40 that functions as a stopper can be provided on the metal electrode 4 so that the electrode adapter slide part 2b does not accidentally come off the metal electrode 4 (see FIG 3 ) is separated.

Wie in 3 gezeigt ist, kann die Adapterbasis 3 auf einem Führungsteil 50 vorgesehen werden, das sich in der horizontalen Richtung erstreckt, wobei die Adapterbasis 3 in der horizontalen Richtung entlang dem Führungsteil 50 beweglich ist. Bei dem in 3 gezeigten Aspekt erstreckt sich in einer Draufsicht das Führungsteil 50 in derselben Richtung wie das Elektrodenadapter-Gleitteil 2b.As in 3 As shown, the adapter base 3 may be provided on a guide part 50 extending in the horizontal direction, the adapter base 3 being movable in the horizontal direction along the guide part 50. The in 3 As shown in the aspect shown in a plan view, the guide part 50 extends in the same direction as the electrode adapter slide part 2b.

Außerdem können eine Abdeckung zum Schützen der Metallelektrode 4 und ein bewegliches Teil des Elektrodenadapter-Gleitteils 2b vorgesehen werden, und dazwischen kann eine Carbon-Schicht zum Unterstützen des Anlegens des Stroms und des Gleitens eines Kontaktteils vorgesehen werden.In addition, a cover for protecting the metal electrode 4 and a movable part of the electrode adapter sliding part 2b may be provided, and there may be provided a carbon sheet therebetween for promoting the application of current and sliding of a contact part.

Beispielexample

Mit dem Siemens-Verfahren wurde eine Reaktion zum Aufwachsen eines Polysiliziumstabs mit jeweils fünf Losen durchgeführt, bis der Durchmesser φ des Polysiliziumstabs etwa 160 mm betrug, und es wurde eine Rissbildungsgeschwindigkeit ermittelt. Bei der gängigsten festen Metallelektrode und dem gängigsten festen Elektrodenadapter des Standes der Technik, die 4 entsprechen, wurde in zwei Losen eine Stromschwankung durch Rissbildung beim Aufwachsen festgestellt, in allen fünf Losen wurde ein Riss beim Abkühlen festgestellt, und in einem der fünf Lose wurde ein Versagen des Stabs festgestellt. Hingegen wurde bei der Konfiguration gemäß der in den 1 und 2 gezeigten Ausführungsform keine Stromschwankung festgestellt, die mutmaßlich durch Rissbildung während des Aufwachsens entstanden war, und in drei Losen wurde ein Riss beim Abkühlen festgestellt, aber es gab kein Versagen des Stabs.With the Siemens method, a polysilicon rod growing reaction was carried out every five lots until the diameter φ of the polysilicon rod became about 160 mm, and a cracking speed was found. In the most common solid metal electrode and the most common prior art solid electrode adapter, the 4th , a current fluctuation due to cracking during growth was found in two lots, a crack during cooling was found in all five lots, and a failure of the rod was found in one of the five lots. On the other hand, the configuration according to the 1 and 2 In the embodiment shown in the embodiment shown, no current fluctuation presumably caused by cracking during growth was found, and a crack was found in three lots during cooling, but there was no failure of the rod.

BezugszeichenlisteList of reference symbols

11
KerndrahthalterCore wire holder
22
ElektrodenadapterElectrode adapter
2a2a
Elektrodenadapter-HauptteilElectrode adapter main part
2b2 B
Elektrodenadapter-GleitteilElectrode adapter sliding part
33
Adapterbasis (Fuß)Adapter base (foot)
44th
Metallelektrode (Elektrode)Metal electrode (electrode)
55
Isolatorinsulator
9a9a
Schraubescrew
9b9b
Muttermother
1010
HalteplatteRetaining plate
2020th
Reaktor-Grundplatte (Grundplatte)Reactor base plate (base plate)
3030th
KühlmittelCoolant
100100
HaltekörperHolding body
S1, S2S1, S2
GleitrichtungSliding direction
R1, R2R1, R2
Drehrichtung (Schwenkrichtung)Direction of rotation (swivel direction)

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION

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  • JP 2006240934 A [0019]JP 2006240934 A [0019]
  • JP 2805457 B2 [0020]JP 2805457 B2 [0020]

Claims (7)

Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs mit dem Siemens-Verfahren, wobei die Vorrichtung Folgendes aufweist: eine Grundplatte; und einen Haltekörper, der derart auf der Grundplatte bereitgestellt ist, dass er in einer horizontalen Richtung beweglich ist, und der elektrisch zwischen einem Kerndrahthalter und einer Elektrode verbunden ist, wobei der Haltekörper eingerichtet ist, den Kerndrahthalter in Bezug auf die Grundplatte drehbar zu halten.Apparatus for producing a polysilicon rod using the Siemens process, the apparatus comprising: a base plate; and a holding body which is provided on the base plate so as to be movable in a horizontal direction and which is electrically connected between a core wire holder and an electrode, wherein the holding body is configured to hold the core wire holder rotatably with respect to the base plate. Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs nach Anspruch 1, wobei der Haltekörper einen Fuß aufweist, der derart auf der Grundplatte bereitgestellt ist, dass er in der horizontalen Richtung beweglich ist, und der Elektrodenadapter derart bereitgestellt ist, dass er in Bezug auf die Grundplatte drehbar ist, und elektrisch zwischen dem Kerndrahthalter und der Elektrode verbunden ist.Apparatus for producing a polysilicon rod according to Claim 1 wherein the holding body has a foot provided on the base plate so as to be movable in the horizontal direction, and the electrode adapter is provided so as to be rotatable with respect to the base plate, and electrically between the core wire holder and the electrode connected is. Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs nach Anspruch 2, wobei der Fuß einen gewölbten Oberflächenteil auf seinem oberen Teil aufweist, und der Elektrodenadapter entlang des gewölbten Oberflächenteils drehbar ist und in der horizontalen Richtung in Bezug auf die Elektrode gleitend ist.Apparatus for producing a polysilicon rod according to Claim 2 wherein the foot has a curved surface part on its upper part, and the electrode adapter is rotatable along the curved surface part and is slidable in the horizontal direction with respect to the electrode. Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs nach Anspruch 3, die weiterhin einen Pressteil aufweist, wobei der Elektrodenadapter ein Elektrodenadapter-Hauptteil, das drehbar auf dem gewölbten Oberflächenteil vorgesehen ist, und ein Elektrodenadapter-Gleitteil aufweist, das sich in der horizontalen Richtung von dem Elektrodenadapter-Hauptteil erstreckt und die Elektrode kontaktiert, und die Elektrode zwischen dem Elektrodenadapter-Gleitteil und dem Pressteil angeschlossen ist.Apparatus for producing a polysilicon rod according to Claim 3 , further comprising a pressing part, the electrode adapter having an electrode adapter main part rotatably provided on the curved surface part and an electrode adapter sliding part extending in the horizontal direction from the electrode adapter main part and contacting the electrode, and the Electrode is connected between the electrode adapter sliding part and the pressing part. Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs nach einem der Ansprüche 2 bis 4, wobei die Grundplatte, der Elektrodenadapter und die Elektrode jeweils nur mit einer ebenen Oberfläche und mit einer Kugeloberfläche oder einer gewölbten Oberfläche mit einem Radius von 5 mm oder mehr hergestellt sind.Apparatus for producing a polysilicon rod according to one of the Claims 2 until 4th wherein the base plate, the electrode adapter and the electrode are each made only with a flat surface and with a spherical surface or a curved surface with a radius of 5 mm or more. Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs nach Anspruch 5, wobei die Grundplatte, der Elektrodenadapter und die Elektrode jeweils keinen inneren Eckteil aufweisen, der einen Winkel von weniger als 90° hat.Apparatus for producing a polysilicon rod according to Claim 5 wherein the base plate, the electrode adapter and the electrode each have no inner corner part which has an angle of less than 90 °. Vorrichtung zum Herstellen eines Polysiliziumstabs nach einem der Ansprüche 2 bis 4, wobei der Fuß, der auf der Grundplatte bereitgestellt ist, ein Isolator ist.Apparatus for producing a polysilicon rod according to one of the Claims 2 until 4th wherein the foot provided on the base plate is an insulator.
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