DE102020207799A1 - MEMS-Modul - Google Patents

MEMS-Modul Download PDF

Info

Publication number
DE102020207799A1
DE102020207799A1 DE102020207799.1A DE102020207799A DE102020207799A1 DE 102020207799 A1 DE102020207799 A1 DE 102020207799A1 DE 102020207799 A DE102020207799 A DE 102020207799A DE 102020207799 A1 DE102020207799 A1 DE 102020207799A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
damper
mems
substrate
chip
module according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE102020207799.1A
Other languages
English (en)
Inventor
Maximilian Amberger
Klaus Offterdinger
Holger Hoefer
Michael Stumber
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Robert Bosch GmbH
Original Assignee
Robert Bosch GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Robert Bosch GmbH filed Critical Robert Bosch GmbH
Priority to DE102020207799.1A priority Critical patent/DE102020207799A1/de
Publication of DE102020207799A1 publication Critical patent/DE102020207799A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B7/00Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
    • B81B7/0009Structural features, others than packages, for protecting a device against environmental influences
    • B81B7/0016Protection against shocks or vibrations, e.g. vibration damping
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01CMEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C19/00Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
    • G01C19/56Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
    • G01C19/5705Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using masses driven in reciprocating rotary motion about an axis
    • G01C19/5712Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using masses driven in reciprocating rotary motion about an axis the devices involving a micromechanical structure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2201/00Specific applications of microelectromechanical systems
    • B81B2201/02Sensors
    • B81B2201/0228Inertial sensors
    • B81B2201/0242Gyroscopes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2207/00Microstructural systems or auxiliary parts thereof
    • B81B2207/01Microstructural systems or auxiliary parts thereof comprising a micromechanical device connected to control or processing electronics, i.e. Smart-MEMS
    • B81B2207/012Microstructural systems or auxiliary parts thereof comprising a micromechanical device connected to control or processing electronics, i.e. Smart-MEMS the micromechanical device and the control or processing electronics being separate parts in the same package
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2207/00Microstructural systems or auxiliary parts thereof
    • B81B2207/09Packages
    • B81B2207/091Arrangements for connecting external electrical signals to mechanical structures inside the package
    • B81B2207/094Feed-through, via
    • B81B2207/096Feed-through, via through the substrate

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Remote Sensing (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein MEMS-Modul mit einem Substrat (10), einem MEMS-Chip (20) und einem Dämpfer (40), wobei das Substrat und der MEMS Chip parallel zu einer Haupterstreckungsebene (x,y) angeordnet sind, wobei der Dämpfer an einer Unterseite des MEMS-Chips, zwischen dem MEMS-Chip und dem Substrat angeordnet ist und wobei der MEMS-Chip an dem Dämpfer befestigt ist und der Dämpfer an dem Substrat befestigt ist. Der Kern der Erfindung besteht darin, dass der Dämpfer wenigstens in einer Richtung z, senkrecht zur Haupterstreckungsebene (x,y), strukturiert ist.

Description

  • Stand der Technik
  • Die Erfindung betrifft ein MEMS-Modul mit einem Substrat, einem MEMS-Chip und einem Dämpfer.
  • Mikromechanische Vorrichtungen, insbesondere Drehratensensoren sind empfindlich für Vibrationen und Stoßbelastungen. Diese Einflüsse können zu signifikanten Fehlsignalen führen. Es werden daher MEMS-Module aufgebaut, die mit einer zusätzlichen mechanischen Vibrationsdämpfung ausgestattet sind. Die Anforderungen an die Genauigkeit mikromechanischer Bauteile werden durch die Entwicklung des hochautomatisierten Fahrens weiter steigen, so dass auch für zukünftige Sensorgenerationen oder Optikkomponenten weiterhin der Bedarf an mechanischer Vibrationsdämpfung zu erwarten ist. Auch bei Konsumgütern gibt es eine Nachfrage nach hochgenauen Inertialsensoren, die möglicherweise zukünftig dämpfende Zusatzmaßnahmen notwendig erscheinen lassen. Für diese Anwendungsfälle ist ein kleinbauendes und kostengünstiges Dämpferkonzept zwingend.
  • Im Stand der Technik wird das First-Level-Modul auf einem mechanischen Dämpfer integriert, wie beispielsweise die Druckschrift DE102006002350A1 offenbart. Daneben werden Premoldgehäuse mit integriertem Dämpfer eingesetzt, wie beispielsweise in der Druckschrift DE102006026878A1 gezeigt ist.
    Weiterhin wird in der Druckschrift DE102012201486A1 wird eine Interposer-Anwendung beschrieben, welche zwischen LGA/BGA-Gehäuse und beispielsweise einer Steuergerätleiterplatte, montiert wird, um als Schwingungsentkopplungssystem zu wirken.
    Vorteil der in DE102012201486A1 beschriebenen Interposer-Lösung ist, dass der Sensor selbst in einem kostengünstigen Standard-Moldgehäuse verbaut werden kann. Dem stehen konzeptbedingt aber einige Beschränkungen entgegen. Die Herstellung der Dämpferstrukturen durch Leiterplattenfräsen und Silikonspritzen ist aufwändig und daher kostenintensiv. Die verwendeten Fertigungstechnologien ermöglichen keine signifikante weitere Reduzierung der Baugröße. Ferner erfordert die Kombination unterschiedlicher Technologien, wie Leiterplatte, Silikonspritzguss und Bestückung, den Einsatz unterschiedlicher spezialisierter Lieferanten.
    Die schwingende Dämpferstruktur ist eine Kombination aus Leiterplattenfeder und Silikon. Dadurch ist die Resonanzüberhöhung des aus Dämpferelement und LGA/BGA-Gehäuse gebildeten Feder-Masse-Systems höher als bei einem rein aus einem (Silikon-) Elastomer realisierten Dämpfersystem.
    Für die ESP-Applikation werden Kombi-Inertialsensormodule, bestehend aus einachsigen oder mehrachsigen Drehratensensoren und einachsigen oder mehrachsigen Beschleunigungssensoren eingesetzt. Dabei benötigt aber nur der Drehratensensor eine zusätzliche Schwingungsdämpfung im hochfrequenten Bereich, insbesondere bei der einfachen und doppelten Arbeitsfrequenz. Wenn der Beschleunigungssensor ebenfalls auf dem Dämpfer platziert ist, ergeben sich zusätzliche Randbedingungen an die Auslegung des Dämpfers und Performanceeinbußen beim Beschleunigungssensor.
  • Die Druckschriften US 2017/0089942 A1 und US 2018/0244515 A1 beschreiben Feder-Dämpfer-Systeme zur Vibrations- (und ggf. Stress-) Entkopplung von MEMS-Chips im Rahmen des First Level Packages. Ausgangspunkt sind in beiden Fällen auf dem Substrat aufgebrachte Metall-Federelemente, deren Resonanzüberhöhung optional durch zusätzlich eingebrachtes Dämpfermaterial ( US 2017/0089942 A1 ) oder durch Squeeze-Film-Dämpfung, erzeugt durch kleine Vertikalgaps zwischen Federelement und Substrat, reduziert wird ( US 2018/0244515 A1 ). Die Metall-Federelemente dienen zur elektrischen Kontaktierung des Chips. Dadurch wird das Konzept insbesondere bei einer größeren Anzahl an elektrischen Verbindungen sehr komplex. Zudem verbleibt das Grundproblem aus DE102012201486A1 , dass die hohe Güte (und damit Resonanzüberhöhung) der Metallfeder durch zusätzliche aufwändige Maßnahmen reduziert werden muss. Insbesondere die Squeeze-Film-Dämpfung stellt extrem hohe Anforderungen an die Fertigungstoleranzen.
  • Die Druckschrift DE 102013222307.2 A1 beschreibt eine mikroelektromechanische Sensoranordnung, wobei eine zur Dämpfung mechanischer Schwingungen geeignete Dämpferschicht auf der Oberseite eines Substrats angeordnet ist. Das Sensorelement ist mit der Dämpfungsschicht mechanisch verbunden. In einem Ausführungsbeispiel wird eine zwischen Dämpferschicht und Sensor angeordnete mechanisch starre Trägerplatte aufgeführt, die eine mechanische Unterstützung oder Fixierung, beispielsweise beim Drahtbonden ermöglicht.
  • Neben der Vibrationsbelastung spielen für MEMS-Bauelemente aufgrund zunehmender Genauigkeitsanforderungen und Miniaturisierung Einflüsse von mechanischem Stress eine immer größere Rolle. Membranen von Drucksensoren und MEMS-Mikrofonen sind hiervon ebenso betroffen, wie hochgenaue Drehraten- und Beschleunigungssensoren und optische Mikrospiegel. MEMS Module im Stand der Technik verwenden eine weiche, bis zu 200 µm dicke Silikonkleberschicht unter dem MEMS Bauelement, um so den thermomechanischen Stress zu entkoppeln. Der Einsatz hoher weicher Kleberschichtdicken unterliegt jedoch ebenfalls gewissen Beschränkungen. Die erreichbare maximale Schichtdicke ist bei Flüssigklebstoffen durch deren Rheologie (Standfestigkeit, Viskosität, Thixotropie) und durch die verfügbare Dispenstechnik limitiert. Dicke und weiche Kleberschichtdicken verschlechtern die Lagetoleranz der aufgeklebten MEMS-Module, insbesondere in Bezug auf Verkippung und Verdrehung. Dies ist besonders relevant für Inertialsensoren, denn hierdurch steigt die Querempfindlichkeit zwischen den Sensierachsen. Bei Optikkomponenten reduziert sich die Abbildungsgenauigkeit entsprechend. Außerdem ist das Drahtbonden auf weichen Kleberschichten problematisch. Hierbei kommt es zu einem Ausweichen des Chips beim Aufsetzen der Kapillare durch Bondforce, Ultraschalleinkopplung, etc.
  • Aufgabe
  • Aufgabe der Erfindung ist es, eine kostengünstige, kleinbauende Ist-Level Aufbau- und Verbindungstechnik (chip-scale oder minimal größer) zur Entkopplung von Vibrationen und thermomechanischem Stress zwischen Substrat und einzelnen MEMS-Bauelementen zu schaffen, wobei gleichzeitig hohe Lagetoleranzanforderungen an das MEMS-Element erfüllt werden.
  • Vorteile der Erfindung
  • Die Erfindung betrifft ein MEMS-Modul mit einem Substrat (10), einem MEMS-Chip (20) und einem Dämpfer (40), wobei das Substrat und der MEMS Chip parallel zu einer Haupterstreckungsebene (x,y) angeordnet sind, wobei der Dämpfer an einer Unterseite des MEMS-Chips, zwischen dem MEMS-Chip und dem Substrat angeordnet ist und wobei der MEMS-Chip an dem Dämpfer befestigt ist und der Dämpfer an dem Substrat befestigt ist. Der Kern der Erfindung besteht darin, dass der Dämpfer wenigstens in einer Richtung z, senkrecht zur Haupterstreckungsebene (x,y), strukturiert ist.
  • Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung sieht vor, dass der Dämpfer ein Elastomer aufweist. Besonders vorteilhaft ist dabei, dass der Dämpfer eine Hartkomponente aufweist, welche an dem MEMS-Chip befestigt ist und eine Weichkomponente, welche an dem Substrat befestigt ist.
    Besonders vorteilhaft ist, dass der Dämpfer eine dreidimensionale Struktur aufweist die eine gezielte Optimierung der Dämpfereigenschaften nach Raumrichtung getrennt ermöglicht.
    Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung sieht vor, dass der MEMS-Chip und ein IC-Chip mittels Bonddrähten elektrisch leitfähig miteinander verbunden sind. Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung sieht vor, dass der IC-Chip mit dem Substrat elektrisch leitfähig verbunden ist. Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung sieht vor, dass das Substrat eine Durchgangsöffnung aufweist, welche von dem Dämpfer oder auch dem MEMS-Chip bedeckt ist. Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung sieht vor, dass das MEMS-Modul einen Deckel aufweist, welcher mit dem Substrat verbunden ist.
  • Ein MEMS-Element wird erfindungsgemäß durch geeignete Techniken so auf ein Substrat integriert, dass die Unterseite des MEMS-Elements nur über die Weichkomponente der Dämpferstruktur mit dem Substrat in Verbindung steht. Das Substrat ist beliebig wählbar. Es kann auf beiden Seiten Metallisierungen in Form von Leiterbahnen enthalten, welche durch elektrische Vias miteinander verbunden sind. Die Metallisierungen auf der Oberfläche können durch Drahtbonden mit den MEMS-Sensoren und ASIC(s) verbunden werden. Alternativ zu einem in Leiterplattentechnologie hergestellten Substrat kann auch ein Leadframe, eine Keramik, ein Kunststoffboden (Premold-Gehäuse) oder ein MID-Bauteil als Substrat verwendet werden. In den folgenden Abbildungen wird die Erfindung am Beispiel eines Leiterplattensubstrats näher ausgeführt.
    Die Dämpfungsstruktur sorgt für eine thermomechanische Entkopplung zwischen den MEMS-Sensoren und dem Substrat, dessen Unterseite beispielsweise durch Löten, Leitklebung oder andere Verbindungstechniken starr mit einem weiteren Substrat (z.B. Steuergeräteleiterplatte) verbunden wird.
    Die dämpfende Struktur kann den Raum zwischen MEMS-Element und Substrat ganz oder partiell ausfüllen, wobei die Geometrie den spezifischen Anforderungen des MEMS-Elements angepasst werden kann.
    Die Dämpferstruktur wird vorzugsweise ganz oder teilweise aus einem hochdämpfenden, Energie dissipierenden Material, beispielsweise aus einem Silikon-Elastomer hergestellt. Die für die Dämpfung charakteristische Materialkenngröße ist der mechanische Verlustfaktor (tan_delta), der möglichst hoch gewählt werden sollte.
    In einer vorteilhaften Ausführungsform besteht die Dämpferstruktur aus einer harten und einer weichen Materialkomponente. Die harte Materialkomponente erleichtert dabei das Handling und die lagegenaue Bestückung des MEMS-Elements. Durch die Kombination aus Hart- und Weichkomponente und deren jeweiliger geometrischer Ausgestaltung ergeben sich weitere Möglichkeiten zur Anpassung der Schwingungs- und Dämpfungseigenschaften des Dämpfers und dessen Anpassung an die spezifischen Anforderungen des MEMS-Elements.
  • Falls durch die weiche Aufhängung des MEMS-Elements Probleme beim Bestücken oder beim Drahtbonden entstehen, kann eine Öffnung im Substrat dazu genutzt werden, den Dämpfer während der Montage durch eine in die Substrataufnahme integrierte Unterstützungsstruktur mechanisch zu fixieren. Falls ein Loch im Substrat vorgesehen ist, kann ergänzend ein Vergelen der Rückseite erfolgen, um die Dämpfung zu verbessern und die Dämpferstruktur vor Kontamination zu schützen.
    Die Dämpferstruktur kann als vorgefertigtes, beispielsweise im Spritzgussverfahren hergestelltes Einzelbauteil bereitgestellt und vergleichbar einer Standard-Elektronikkomponente auf das Substrat bestückt werden.
    Die elektrische Verbindung zwischen MEMS/ASICs und dem Substrat oder weiteren Sensoren wird durch Drahtbonds realisiert.
  • Im Vergleich zum Stand der Technik im Bereich der Vibrationsentkopplung handelt es bei der Erfindung um eine kompakte, einfache Struktur zur Entkopplung von mechanischen Schwingungen, wodurch sich ein hohes Potential zur Kostenersparnis ergibt.
    Es können gezielt nur die MEMS-Sensoren mechanisch gedämpft werden, welche tatsächlich durch Vibrationen gestört werden. Beispielsweise benötigt ein Beschleunigungssensor in einem Inertialsensormodul keine zusätzliche Dämpfung oder wird hierdurch sogar negativ beeinflusst, während ein Drehratesensor durch eine Dämpfungsstruktur eine signifikant bessere Performance oder auch geringere Störanfälligkeit zeigt.
    Durch die geometrischen Freiheitsgrade bei der Strukturierung des dämpfenden Materials wird eine gezielte Anpassung der mechanischen Schwingungsübertragung auf das jeweilige MEMS Bauteil ermöglicht.
  • Insgesamt ermöglicht die Erfindung eine deutliche Verkleinerung und Kostenreduktion des MEMS-Moduls durch einfacheren Aufbau und Einsparung aufwändiger Zwischenschritte. Die Erfindung ermöglicht eine spezifische Adaption des Dämpfers an einen MEMS-Chip. Eine Beeinflussung anderer MEMS-Elemente in ihrer Leistung, wie zum Beispiel einem Beschleunigungssensor, wird vermieden.
  • Vorteilhaft weist das MEMS Modul eine geringe Resonanzüberhöhung durch einen reinen Elastomerdämpfer, ohne Federelemente aus Metall- oder Leiterplattenmaterial, auf.
  • Vorteilhaft wird die Dämpferstruktur zuerst auf das Substrat und nicht auf dem Wafer aufgebracht. Dadurch kann der MEMS-Wafer im Standard-Prozessfluss verarbeitet werden. Bei Prozessfehlern ist nur das im Vergleich zum Wafer wesentlich kostengünstigere Substrat zu verwerfen.
  • Die Erfindung ermöglicht für das MEMS-Modul ein Modentuning durch Strukturierung des Dämpferelements oder auch des Substrats.
  • Im Gegensatz zur Verwendung von Flüssigklebstoff, ermöglicht die Erfindung die Platzierung von MEMS-Bauteilen auf dicke, weiche Elastomerschichten bei minimaler Verdrehung und Verkippung.
  • Figurenliste
    • 1 zeigt in einem ersten Ausführungsbeispiel ein erfindungsgemäßes MEMS-Modul.
    • 2 zeigt in einem zweiten Ausführungsbeispiel ein erfindungsgemäßes MEMS-Modul mit einem Dämpfungselement aus zwei verschieden harten Werkstoffen.
    • 3 zeigt einen Montageschritt mit einer Unterstützungsstruktur zur Herstellung eines MEMS-Moduls gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel.
    • 4 zeigt in einem dritten Ausführungsbeispiel ein erfindungsgemäßes MEMS-Modul.
    • Die 5 a, b und c zeigen weitere Ausführungsbeispiele des Dämpferelements.
    • 6 zeigt eine weitere Ausführungsform, wobei die Hart- und die Weichkomponente getrennt dargestellt sind.
  • Beschreibung
  • 1 zeigt in einem ersten Ausführungsbeispiel ein erfindungsgemäßes MEMS-Modul. Die Vorrichtung weist ein Substrat 10, einen MEMS-Chip 20, einen IC-Chip 30, insbesondere einen ASIC und einen Dämpfer 40 auf. Substrat, MEMS-Chip und IC-Chip sind parallel zu einer Haupterstreckungsebene (x,y) angeordnet.
    Das MEMS-Element befindet sich auf einem auf dem Substrat bestückten Dämpferelement. Das Dämpferelement besteht aus einem weichen Werkstoff mit guten Dämpfungseigenschaften und kann beispielsweise im Spritzgussverfahren abgeformt werden. Der Dämpfer ist in einer Richtung z, senkrecht zur Haupterstreckungsebene (x,y), strukturiert. Er weist im Beispiel einen Sockel, Seitenwände und eine Ausnehmung auf, die sich in z-Richtung vom Substrat bis zum Sockel erstreckt.
    Über die Geometrie des Dämpfers sowie die Materialauswahl ergeben sich vielfältige Möglichkeiten zur Feinabstimmung der mechanischen Eigenschaften. Der IC Chip ist direkt an dem Substrat befestigt.
    Auf der Unterseite des Substrats befinden sich Lötflächen zur elektrischen Kontaktierung, beispielsweise ausgeführt als Land Grid Array (LGA) oder, mit vorbestückten Lötballs 60, als Ball Grid Array (BGA).
    MEMS-Chip und IC-Chip sind mittels Bonddrähten 50 elektrisch leitfähig miteinander verbunden.
    Das MEMS-Modul weist einen Deckel 70 auf, welcher mit dem Substrat 10 verbunden ist. MEMS-Chip, Dämpfer und IC-Chip sind in einem Innenraum 80 angeordnet, Der von Substrat und Deckel begrenzt ist.
  • 2 zeigt in einem zweiten Ausführungsbeispiel ein erfindungsgemäßes MEMS-Modul mit einem Dämpfungselement aus zwei verschieden harten Werkstoffen.
  • Abweichend vom ersten Ausführungsbeispiel ist das Dämpferelement 40 aus einem harten und einem weichen Werkstoff zusammengesetzt ist. Der Dämpfer besteht also aus einer Hartkomponente 41, welche an dem MEMS-Chip befestigt ist und einer Weichkomponente 42, welche an dem Substrat befestigt ist. Vorteilhaft ist hierbei die einfachere Bestückung sowohl des Dämpferelements selbst wie auch des MEMS-Elements auf dem Dämpfer. Optional kann zusätzlich eine Durchgangsöffnung 15 im Substrat vorgesehen werden. Dies gilt für alle Ausführungsformen.
  • 3 zeigt einen Montageschritt mit einer Unterstützungsstruktur zur Herstellung eines MEMS-Moduls gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel. Dargestellt ist ein Verfahrensschritt zur temporären Fixierung des Stapels von Dämpferelement und MEMS, beispielsweise beim Drahtbonden. Hierzu wird in die Streifenaufnahme eine Unterstützungsstruktur 100 integriert, die über eine Öffnung 15 im Substrat die Unterseite des Dämpfers 40 unterstützt. Im gezeigten vorteilhaften Fall greift die Unterstützungsstruktur an der Hartkomponente 41 der Dämpferstruktur an.
  • 4 zeigt in einem dritten Ausführungsbeispiel ein erfindungsgemäßes MEMS-Modul. Die Figur zeigt, ausgehend vom Ausführungsbeispiel der 2, eine Ausführungsform mit Verfüllung der rückseitigen Öffnung mit einer zusätzlichen elastischen Substanz, hier einem Gel 48. Diese Substanz kann sowohl als Kontaminationsschutz wie auch als zusätzliches Dämpfungselement fungieren.
  • Die 5 a, b und c zeigen weitere Ausführungsbeispiele des Dämpferelements. Die Dämpferelemente 40 weisen jeweils eine Hartkomponente 41 in Form einer Platte 411 und eine daran angeordnete, im wesentlichen quaderförmige Weichkomponente 42 auf. Die Weichkomponente weist eine durchgehende Ausnehmung 421 auf, welche sich von einer der Hartkomponente abgewandten Seite bis zur Hartkomponente durch den Körper der Weichkomponente erstreckt. Die Weichkomponente 42 weist zwei erste Flanken 422 und zwei zweite Flanken 424 auf.
  • 5 a zeigt dabei einen Dämpfer 40 mit einer Weichkomponente 42 mit durchgehenden ersten und zweiten Flanken 422, 424.
  • 5 b zeigt einen Dämpfer 40 mit einer Weichkomponente 42 mit ersten Flanken 422 mit ersten Flankenausnehmungen 423 und durchgehenden zweiten Flanken 424.
  • 5 c zeigt einen Dämpfer 40 mit einer Weichkomponente 42 wie in 5 b, wobei die zweiten Flanken 424 zweite Flankenausnehmungen 424 aufweisen.
  • Die Öffnung des elastischen Werkstoffs auf zwei oder vier Seiten, wie hier mittels erster oder auch zweiter Flankenausnehmungen, ermöglicht die gezielte Beeinflussung der Schwingungsmoden und damit der Eigenfrequenzen des Dämpfers. Alternativ kann dies auch durch unterschiedliche Wandstärken der Flanken realisiert werden. Auch durch das gezielte Hinzufügen oder Wegnehmen von Material zur Änderung der schwingenden Masse lassen sich die Eigenfrequenzen gezielt beeinflussen.
  • 6 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel des Dämpferelements, wobei die Hartkomponente und die Weichkomponente getrennt dargestellt sind. Die Hartkomponente 41, links dargestellt, weist an einer hauptsächlichen Seite einer Platte 411 eine Ausformung 412 auf, welche geeignet ist, in die durchgehende Ausnehmung 421 der Weichkomponente 42 wenigstens bereichsweise einzugreifen. Die Weichkomponente, rechts dargestellt, weist weiter erste Flanken 422 und zweite Flanken 424 auf. In den ersten Flanken 422 ist jeweils eine erste Flankenausnehmung 423 angeordnet. Die dreidimensionale Strukturierung des harten Werkstoffs, hier durch die Ausformung 412, bietet zusätzliche Möglichkeiten zur Optimierung der Schwingungsmoden. Durch die seitliche Fixierung der Weichkomponente wird die Bewegung in der Ebene (x,y) versteift, während für die z-Richtung senkrecht dazu nahezu die gesamte Höhe des weichen Werkstoffs wirksam bleibt. Das gezielte Hinzufügen oder Wegnehmen von Masse ist eine weitere Möglichkeit zur Beeinflussung der Dämpferresonanzen.
  • Bezugszeichenliste
  • 10
    Substrat
    15
    Durchgangsöffnung im Substrat
    20
    MEMS-Chip
    30
    IC-Chip
    40
    Dämpfer
    41
    Dämpferhartkomponente
    411
    Platte
    412
    Ausformung
    42
    Dämpferweichkomponente
    421
    durchgehende Ausnehmung
    422
    erste Flanke
    423
    erste Flankenausnehmung
    424
    zweite Flanke
    425
    zweite Flankenausnehmung
    48
    Gel
    50
    Bonddraht
    60
    Lotkugel
    70
    Deckel
    80
    Innenraum
    100
    Unterstützungsstruktur
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 102006002350 A1 [0003]
    • DE 102006026878 A1 [0003]
    • DE 102012201486 A1 [0003, 0004]
    • US 2017/0089942 A1 [0004]
    • US 2018/0244515 A1 [0004]
    • DE 102013222307 A1 [0005]

Claims (9)

  1. MEMS-Modul mit einem Substrat (10), einem MEMS-Chip (20) und einem Dämpfer (40), - wobei das Substrat und der MEMS Chip parallel zu einer Haupterstreckungsebene (x,y) angeordnet sind, - wobei der Dämpfer an einer Unterseite des MEMS-Chips, zwischen dem MEMS-Chip und dem Substrat angeordnet ist, - wobei der MEMS-Chip an dem Dämpfer befestigt ist und der Dämpfer an dem Substrat befestigt ist, dadurch gekennzeichnet, dass der Dämpfer wenigstens in einer Richtung z, senkrecht zur Haupterstreckungsebene (x,y), strukturiert ist.
  2. MEMS-Modul nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Dämpfer (40) ein Elastomer aufweist.
  3. MEMS-Modul nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Dämpfer (40) eine Hartkomponente (41) aufweist, welche an dem MEMS-Chip (20) befestigt ist und eine Weichkomponente (42), welche an dem Substrat (10) befestigt ist.
  4. MEMS-Modul nach Anspruch 3 dadurch gekennzeichnet, dass die Weichkomponente (42) des Dämpfers (40) eine dreidimensionale Strukturierung, insbesondere in Form von Ausnehmungen (421, 423, 425) oder unterschiedlichen Wandstärken aufweist.
  5. MEMS-Modul nach einem der Ansprüche 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Hartkomponente (41) des Dämpfers (40) eine dreidimensionale Struktur beispielsweise in Form unterschiedlicher Wandstärken ausweist.
  6. MEMS-Modul nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Modul einen IC-Chip (30) aufweist und der MEMS-Chip (20) und der IC-Chip (30) mittels Bonddrähten (50) elektrisch leitfähig miteinander verbunden sind.
  7. MEMS-Modul nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass der IC-Chip (30) mit dem Substrat (10) elektrisch kontaktiert ist.
  8. MEMS-Modul nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (10) eine Durchgangsöffnung (15) aufweist, welche von dem Dämpfer (40) und/oder dem MEMS-Chip (20) überdeckt ist.
  9. MEMS-Modul nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das MEMS-Modul einen Deckel (70) aufweist, welcher mit dem Substrat (10) verbunden ist.
DE102020207799.1A 2020-06-24 2020-06-24 MEMS-Modul Pending DE102020207799A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102020207799.1A DE102020207799A1 (de) 2020-06-24 2020-06-24 MEMS-Modul

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102020207799.1A DE102020207799A1 (de) 2020-06-24 2020-06-24 MEMS-Modul

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102020207799A1 true DE102020207799A1 (de) 2021-12-30

Family

ID=78826646

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102020207799.1A Pending DE102020207799A1 (de) 2020-06-24 2020-06-24 MEMS-Modul

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102020207799A1 (de)

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040232507A1 (en) 2002-05-31 2004-11-25 Eiichi Furukubo Sensor package
DE102004043663A1 (de) 2004-09-07 2006-04-06 Infineon Technologies Ag Halbleitersensorbauteil mit Hohlraumgehäuse und Sensorchip und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitersensorbauteils mit Hohlraumgehäuse und Sensorchip
DE102006002350A1 (de) 2006-01-18 2007-07-19 Robert Bosch Gmbh Inertialsensoranordnung
DE102006026878A1 (de) 2006-06-09 2007-12-20 Robert Bosch Gmbh Premold-Gehäuse mit integrierter Schwingungsisolierung
DE102010054782A1 (de) 2010-12-16 2012-06-21 Epcos Ag Gehäustes elektrisches Bauelement
DE112011103465T5 (de) 2010-10-15 2013-08-01 Hitachi Automotive Systems, Ltd. Detektor für physikalische Größe
DE102012201486A1 (de) 2012-02-02 2013-08-08 Robert Bosch Gmbh Dämpfungsvorrichtung für eine mikromechanische Sensoreinrichtung
DE102013204234A1 (de) 2013-03-12 2014-09-18 Robert Bosch Gmbh Sensor und Verfahren zum Herstellen einer Lötverbindung zwischen einem Sensor und einer Leiterplatte
DE102013222307A1 (de) 2013-11-04 2015-05-07 Robert Bosch Gmbh Mikroelektromechanische Sensoranordnung und Verfahren zum Herstellen einer mikroelektromechanischen Sensoranordnung
US20170089942A1 (en) 2015-09-25 2017-03-30 Apple Inc. Mechanical Low Pass Filter for Motion Sensors
US20180244515A1 (en) 2015-09-30 2018-08-30 Tdk Corporation Resiliently mounted sensor system with damping
DE102017206828A1 (de) 2017-04-24 2018-10-25 Robert Bosch Gmbh Mechanischer Dämpfer für einen Stapel von Substraten; Verfahren zur Herstellung eines mechanischen Dämpfers
US20190207581A1 (en) 2017-12-29 2019-07-04 Texas Instruments Incorporated Bulk acoustic Wave Resonator on a Stress Isolated Platform

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040232507A1 (en) 2002-05-31 2004-11-25 Eiichi Furukubo Sensor package
DE102004043663A1 (de) 2004-09-07 2006-04-06 Infineon Technologies Ag Halbleitersensorbauteil mit Hohlraumgehäuse und Sensorchip und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitersensorbauteils mit Hohlraumgehäuse und Sensorchip
DE102006002350A1 (de) 2006-01-18 2007-07-19 Robert Bosch Gmbh Inertialsensoranordnung
DE102006026878A1 (de) 2006-06-09 2007-12-20 Robert Bosch Gmbh Premold-Gehäuse mit integrierter Schwingungsisolierung
DE112011103465T5 (de) 2010-10-15 2013-08-01 Hitachi Automotive Systems, Ltd. Detektor für physikalische Größe
DE102010054782A1 (de) 2010-12-16 2012-06-21 Epcos Ag Gehäustes elektrisches Bauelement
DE102012201486A1 (de) 2012-02-02 2013-08-08 Robert Bosch Gmbh Dämpfungsvorrichtung für eine mikromechanische Sensoreinrichtung
DE102013204234A1 (de) 2013-03-12 2014-09-18 Robert Bosch Gmbh Sensor und Verfahren zum Herstellen einer Lötverbindung zwischen einem Sensor und einer Leiterplatte
DE102013222307A1 (de) 2013-11-04 2015-05-07 Robert Bosch Gmbh Mikroelektromechanische Sensoranordnung und Verfahren zum Herstellen einer mikroelektromechanischen Sensoranordnung
US20170089942A1 (en) 2015-09-25 2017-03-30 Apple Inc. Mechanical Low Pass Filter for Motion Sensors
US20180244515A1 (en) 2015-09-30 2018-08-30 Tdk Corporation Resiliently mounted sensor system with damping
DE102017206828A1 (de) 2017-04-24 2018-10-25 Robert Bosch Gmbh Mechanischer Dämpfer für einen Stapel von Substraten; Verfahren zur Herstellung eines mechanischen Dämpfers
US20190207581A1 (en) 2017-12-29 2019-07-04 Texas Instruments Incorporated Bulk acoustic Wave Resonator on a Stress Isolated Platform

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102009001930B4 (de) Sensorbaustein
DE102012206875B4 (de) Verfahren zum Herstellen eines hybrid integrierten Bauteils und entsprechendes hybrid integriertes Bauteil
DE102010006132B4 (de) Miniaturisiertes elektrisches Bauelement mit einem Stapel aus einem MEMS und einem ASIC
DE102007010711B4 (de) Schaltanordnung, Messvorrichtung damit und Verfahren zu deren Herstellung
DE102007044204B4 (de) Sensor einer dynamischen Grösse
DE102014112495B4 (de) Sensoranordnung und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102012201486A1 (de) Dämpfungsvorrichtung für eine mikromechanische Sensoreinrichtung
DE102010012042A1 (de) Bauelement mit einem Chip in einem Hohlraum und einer spannungsreduzierten Befestigung
WO2010124909A1 (de) Mems mikrofon
DE102009000574A1 (de) Sensorvorrichtung
DE102013222733A1 (de) Mikromechanische Sensorvorrichtung
DE102012202421A1 (de) Mikroelektromechanische-Systeme-Gehäuse (MEMS-Package)
EP2789578B1 (de) Bauelement mit federnden Elementen und Verfahren zur Herstellung des Bauelements
DE102008015709A1 (de) Elektrische Einrichtung mit Abdeckung
WO2009056420A2 (de) Mikromechanisches system
DE112006001844B4 (de) Verfahren zum Herstellen einer Elektronikkomponente und Elektronikkomponente
EP2868625A1 (de) Mikroelektromechanische Sensoranordnung mit Dämpfungsschicht und Verfahren zum Herstellen dieser mikroelektromechanischen Sensoranordnung
DE102014210912A1 (de) Interposer für die Montage eines vertikal hybrid integrierten Bauteils auf einem Bauteilträger
DE102020207799A1 (de) MEMS-Modul
DE102017212422A1 (de) Drucksensoranordnung und Verfahren zu deren Herstellung
DE102007008518A1 (de) Modul mit einem ein bewegliches Element umfassenden Halbleiterchip
DE102017203381A1 (de) Mikroelektronische Bauelementanordnung und entsprechendes Herstellungsverfahren
DE102014210934A1 (de) Vertikal hybrid integriertes MEMS-ASIC-Bauteil mit Stressentkopplungsstruktur
DE102008040672A1 (de) Sensormodul und Anordnung eines Sensormoduls
EP2886510B1 (de) Verfahren zum Herstellen eines elektronischen Bauteils, bei dem ein Sensor-Element von dem Grundmaterial schwingungs- und thermomechanisch entkoppelt ist, sowie elektronisches Bauteil

Legal Events

Date Code Title Description
R163 Identified publications notified