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HINTERGRUND DER ERFINDUNG
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Gebiet der Erfindung
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Die Erfindung betrifft ein Metrologiesystem und ein Verfahren zur Vermessung eines Anregungs-Laserstrahls in einer EUV-Plasmaquelle.
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Stand der Technik
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Laserplasmaquellen werden z.B. zur Anwendung in der Lithographie eingesetzt. So erfolgt etwa im Betrieb einer für den EUV-Bereich (z.B. bei Wellenlängen von z.B. etwa 13 nm oder etwa 7 nm) ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage die Erzeugung des benötigten EUV-Lichtes mittels einer auf einer Plasma-Anregung basierenden EUV-Lichtquelle, zu der 10 einen beispielhaften herkömmlichen Aufbau zeigt.
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Diese EUV-Lichtquelle weist einen (nicht gezeigten) Hochenergielaser z.B. zur Erzeugung von Infrarotstrahlung 1 (z.B. CO2-Laser mit einer Wellenlänge von λ≈ 10.6µm) auf, welche über eine Fokussieroptik fokussiert wird, durch eine in einem als Ellipsoid ausgebildeten Kollektorspiegel 2 vorhandene Öffnung 3 hindurchtritt und als Anregungsstrahl auf ein mittels einer Targetquelle 4 erzeugtes und einer Plasmazündungsposition 5 zugeführtes Targetmaterial 6 (z.B. Zinntröpfchen) gelenkt wird. Die Infrarotstrahlung 1 heizt das in der Plasmazündungsposition 5 befindliche Targetmaterial 6 derart auf, dass dieses in einen Plasmazustand übergeht und EUV-Strahlung abgibt. Diese EUV-Strahlung wird über den Kollektorspiegel 2 auf einen Zwischenfokus IF (= „Intermediate Focus“) fokussiert und tritt durch diesen in eine nachfolgende Beleuchtungseinrichtung, deren Umrandung 7 lediglich angedeutet ist und die für den Lichteintritt eine freie Öffnung 8 aufweist, ein.
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Von wesentlicher Bedeutung für die in einer EUV-Plasmaquelle erzielbare Dosisstabilität bzw. zeitliche Stabilität der EUV-Abstrahlcharakteristik und die realisierbare EUV-Lichtausbeute ist dabei, dass die mit zunehmendem Lichtbedarf sehr schnell (z.B. mit einer Injektionsrate im Bereich von 100kHz bzw. in einem zeitlichen Abstand von z.B. 10µs) in die Laserplasmaquelle „einfliegenden“ Zinntröpfchen individuell hochgenau (z.B. mit einer Genauigkeit unterhalb von 1µm) und reproduzierbar von dem das Tröpfchen zerstäubenden Laserstrahl getroffen werden. Dies erfordert im o.g. Aufbau wiederum eine hochgenaue Einstellung der Tröpfchenposition sowie eine hochgenaue Nachführung der z.B. vom CO2-Laser erzeugten Infrarotstrahlung.
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11 zeigt eine schematische Darstellung einer herkömmlichen Anordnung zur Strahlkontrolle in einer EUV-Plasmaquelle. Die Analyse des Anregungs-Laserstrahls bzw. eines daraus ausgekoppelten Messstrahls sowohl in „Vorwärtsrichtung“ (d.h. vor dem Auftreffen auf das jeweilige Target-Tröpfchen) als auch in „Rückwärtsrichtung“ (d.h. nach Reflexion an dem jeweiligen Target-Tröpfchen) erlaubt hierbei eine Aussage über die relative Einstellung von Anregungs-Laserstrahl und Target-Tröpfchen zueinander.
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Gemäß 11 wird der von einem CO2-Laser 110 erzeugte Anregungs-Laserstrahl über eine Strahlsteuereinheit 111, einen Strahlteiler 112 und eine Fokussieroptik 113 dem Targetmaterial 114 in Form eines in der Plasmaposition befindlichen Target-Tröpfchens zugeführt. Am Targetmaterial 114 wird ein Teil des Anregungs-Laserstrahls zurückreflektiert und gelangt über die Fokussieroptik 113 kollimiert zurück zum Strahlteiler 112. Vom Strahlteiler 112 wird jeweils ein Messstrahl sowohl „in Vorwärtsrichtung“ (d.h. vor dem Auftreffen des Anregungs-Laserstrahls auf das Targetmaterial 114) als auch „in Rückwärtsrichtung“ (d.h. nach Reflexion an dem Targetmaterial 114) ausgekoppelt. Die ausgekoppelten Messstrahlen gelangen jeweils über eine Teleskop-Anordnung 115 bzw. 117 in ein Strahlanalysesystem 116 bzw. 118, welches entsprechend den gemessenen Strahleigenschaften zur aktiven Strahlführung ein entsprechendes Steuersignal an die Strahlsteuereinheit 111 sendet. Das Strahlanalysesystem 118 sendet ein weiteres Steuersignal zur Fokuskontrolle an die Fokussieroptik 113.
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Ein in der Praxis auftretendes Problem ist, dass der zu messende Lichtstrahl mit starken Variationen beaufschlagt ist, wobei sich insbesondere die Divergenz des Lichtstrahls bei einem Defokus des Licht- bzw. Laserstrahls in Bezug auf das Target-Tröpfchen sowie die Richtung des Lichtstrahls (entsprechend einem „Pointing“ des Strahls) ändern und wobei zudem auch ein laterales Verschieben des Strahls auftritt.
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ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
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Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Metrologiesystem und ein Verfahren zur Vermessung eines Anregungs-Laserstrahls in einer EUV-Plasmaquelle bereitzustellen, welche eine möglichst exakte Lichtstrahlanalyse (z.B. Strahlpositionsbestimmung) bei möglichst geringer Sensitivität auf die vorstehend genannten parasitären Strahlvariationen ermöglichen.
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Diese Aufgabe wird gemäß den Merkmalen der unabhängigen Patentansprüche gelöst.
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Ein erfindungsgemäßes Metrologiesystem zur Vermessung eines Anregungs-Laserstrahls in einer EUV-Plasmaquelle, wobei der Anregungs-Laserstrahl in der EUV-Plasmaquelle von einem Anregungs-Laser über eine Strahlsteuereinheit und eine Fokussieroptik auf ein in einer Plasmazündungsposition befindliches Targetmaterial geführt wird, weist auf:
- - einen Strahlteiler zur Auskopplung wenigstens eines Messstrahls aus dem Anregungs-Laserstrahl,
- - ein Strahlanalysesystem; und
- - eine zwischen Strahlteiler und Strahlanalysesystem befindliche Teleskop-Anordnung zur verkleinernden Abbildung des Messstrahls in das Strahlanalysesystem;
- - wobei wenigstens ein Manipulator zur Manipulation der Strahldivergenz des von der Teleskop-Anordnung in das Strahlanalysesystem abgebildeten Messstrahls vorgesehen ist.
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Der Erfindung liegt insbesondere das Konzept zugrunde, innerhalb eines Metrologiesystems zur Vermessung eines Anregungs-Laserstrahls in einer EUV-Plasmaquelle eine unerwünschte Strahldivergenz bzw. Wellenfrontkrümmung zu manipulieren bzw. wenigstens teilweise zu eliminieren und hierdurch dem Umstand Rechnung zu tragen, dass infolge der typischerweise stark verkleinernden Abbildung des aus dem Anregungs-Laserstrahl abgezweigten Messstrahls in das Strahlanalysesystem solche Strahldivergenzen auf Seiten des jeweils innerhalb des Strahlanalysesystems eingesetzten Detektors erheblich (z.B. um einen Faktor von 50 bis 400 bei einer Strahlverkleinerung bzw. einem Abbildungsmaßstab von 1:7 bis 1:20) verstärkt werden.
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In dem erfindungsgemäßen Metrologiesystem können derartige (insbesondere durch die Fokussierung des Anregungs-Laserstrahls relativ zum Targetmaterial hervorgerufene) Strahldivergenzen und damit einhergehende Messfehler von vorneherein vermieden werden.
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Im Ergebnis wird erfindungsgemäß effektiv eine Refokussierung im Wege einer Reduzierung bzw. Eliminierung einer Strahldivergenz bzw. einer damit einhergehenden Wellenfrontkrümmung erreicht, wodurch letztlich trotz der typischerweise erforderlichen stark verkleinernden Abbildung des aus dem Anregungs-Laserstrahl abgezweigten Messstrahls in das Strahlanalysesystem bzw. auf den jeweiligen Detektor Messungenauigkeiten und hieraus resultierende Fehler bei der Strahlführung des Anregungs-Laserstrahls vermieden werden.
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Die erfindungsgemäße Manipulation der Strahldivergenz kann wie im Weiteren noch näher beschrieben in unterschiedlicher Weise erfolgen.
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So kann in Ausführungsformen der Erfindung die Manipulation der Strahldivergenz dadurch erzielt werden, dass ein optisches Element mit variabel einstellbarer Brechkraft in einer durch die Teleskop-Anordnung im optischen Strahlgang bereitgestellten Nahfeldebene angeordnet wird.
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Als „Nahfeld“ wird hier und im Folgenden die Amplituden-/Intensitätsverteilung in einer Schnittebene senkrecht zur Ausbreitungsrichtung im Regime des kollimierten (aufgeweiteten = nahezu divergenzfreien) Strahls bezeichnet. Das Fernfeld hingegen entspricht der Amplituden-/Intensitätsverteilung in einer taillen- bzw. fokusnahen Ebene senkrecht zur Strahlausbreitung im Regime des fokussierten bzw. konvergenten Strahls. Die Erzeugung eines fokussierten Strahls aus dem kollimierten Strahl und umgekehrt erfolgt üblicherweise über Fourier-Optiken. Die Begriffe „Nahfeldebene“ und „Fernfeldebene“ bezeichnen somit zueinander Fourier-konjugierte Ebenen und werden analog zu den Begriffen „Pupillenebene“ bzw. „Feldebene“ eines abbildenden optischen Systems verwendet.
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Über ein aktiv verstellbares optisches Element, bei dem es sich lediglich beispielhaft um eine in ihrer Brechkraft durchstimmbare Linse, eine geeignete Linsenkombination aus wenigstens einer konkaven Linse und wenigstens einer konvexen Linse oder auch um einen deformierbaren Spiegel handeln kann, kann wie im Weiteren beschrieben die besagte unerwünschte Strahldivergenz eliminiert werden, ohne im Übrigen die (Fernfeld-) Abbildungseigenschaften in unerwünschter Weise zu verändern.
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Gemäß einer Ausführungsform weist das Metrologiesystem eine Ansteuereinheit zur Einstellung der Brechkraft dieses optischen Elements in Abhängigkeit von einer mit dem Strahlanalysesystem gemessenen Strahldivergenz auf.
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In weiteren Ausführungsformen kann die erfindungsgemäße Manipulation der Strahldivergenz auch über eine Verstelleinheit zur Variation der optischen Weglänge zwischen zwei Linsen der Teleskop-Anordnung erfolgen.
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Gemäß einer Ausführungsform weist die Teleskop-Anordnung wenigstens ein Teleskop vom Kepler-Typ auf. Dieses Teleskop kann insbesondere einen gefalteten Strahlengang aufweisen. Dabei kann die Verstelleinheit zur Variation des Abstandes zwischen zwei Fourier-Optiken des Teleskops vom Kepler-Typ ausgelegt sein.
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Gemäß einer Ausführungsform weist die Teleskop-Anordnung wenigstens ein Teleskop vom Galilei-Typ auf. Dabei kann die Verstelleinheit zur Variation des Abstandes zwischen einer sammelnden Linse oder Linsengruppe und einer zerstreuenden Linse oder Linsengruppe des Teleskops vom Galilei-Typ ausgelegt sein.
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Gemäß einer Ausführungsform weist die Teleskop-Anordnung ein erstes Teleskop und wenigstens ein diesem im optischen Strahlengang nachgeschaltetes zweites Teleskop auf. In weiteren Ausführungsformen können auch weitere Teleskope nachgeschaltet sein.
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Gemäß einer Ausführungsform weist der Anregungs-Laserstrahl eine Wellenlänge im Infrarotbereich auf.
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Die Erfindung betrifft weiter auch ein Verfahren zur Vermessung eines Anregungs-Laserstrahls in einer EUV-Plasmaquelle, insbesondere in einem Metrologiesystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Anregungs-Laserstrahl in der EUV-Plasmaquelle von einem Anregungs-Laser über eine Strahlsteuereinheit und eine Fokussieroptik auf ein in einer Plasmazündungsposition befindliches Targetmaterial geführt wird,
- - wobei wenigstens ein Messstrahl aus dem Anregungs-Laserstrahl ausgekoppelt und einem Strahlanalysesystem zugeführt wird, und
- - wobei die Strahldivergenz des von der Teleskop-Anordnung in das Strahlanalysesystem abgebildeten Messstrahls zur wenigstens teilweisen Kompensation des Einflusses einer Defokussierung des Anregungs-Laserstrahls relativ zum Targetmaterial manipuliert wird.
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Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der Beschreibung sowie den Unteransprüchen zu entnehmen.
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Die Erfindung wird nachstehend anhand von in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.
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Figurenliste
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Es zeigen:
- 1 eine schematische Darstellung einer Anordnung zur Strahlkontrolle in einer EUV-Plasmaquelle mit einem erfindungsgemäßen Metrologiesystem;
- 2 eine schematische Darstellung eines beispielhaften Strahlengangs insbesondere in einer Teleskop-Anordnung zur verkleinernden Abbildung eines Messstrahls in ein Strahlanalysesystem innerhalb eines erfindungsgemäßen Metrologiesystems;
- 3-9 schematische Darstellungen beispielhafter Ausführungsformen zur Realisierung der erfindungsgemäßen Manipulation der Strahldivergenz des von der Teleskop-Anordnung in das Strahlanalysesystem abgebildeten Messstrahls;
- 10 eine schematische Darstellung des prinzipiellen Aufbaus einer EUV-Lichtquelle gemäß dem Stand der Technik; und
- 11 eine schematische Darstellung einer herkömmlichen Anordnung zur Strahlkontrolle in einer EUV-Plasmaquelle.
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DETAILLIERTE BESCHREIBUNG BEVORZUGTER AUSFÜHRUNGSFORMEN
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1 zeigt in schematischer Darstellung einen prinzipiell möglichen Gesamtaufbau zur Kontrolle der Strahlführung innerhalb einer EUV-Plasmaquelle.
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Hierbei wird in für sich bekannter Weise der von einem CO2-Laser 10 erzeugte Anregungs-Laserstrahl über eine Strahlsteuereinheit 11, einen Strahlteiler 12 und eine Fokussieroptik 13 dem in einer Plasmazündungsposition befindlichen Targetmaterial 14 zugeführt. Vom Targetmaterial 14 wird ein Teil des Anregungs-Laserstrahls zurückreflektiert und gelangt über die Fokussieroptik 13 kollimiert zurück zum Strahlteiler 12. Vom Strahlteiler 12 wird sowohl in „Vorwärtsrichtung“ (d.h. vor dem Auftreffen des Anregungs-Laserstrahls auf das Targetmaterial 14) als auch in „Rückwärtsrichtung“ (d.h. nach Reflexion am Targetmaterial 14) jeweils ein Messstrahl ausgekoppelt. Der in Vorwärtsrichtung ausgekoppelte Messstrahl wird über eine Teleskop-Anordnung 15 verkleinert in ein erstes Strahlanalysesystem 16 abgebildet, und der in Rückwärtsrichtung ausgekoppelte Messstrahl wird über eine zweite Teleskop-Anordnung 17 in ein zweites Strahlanalysesystem 18 verkleinert abgebildet. Die Strahlanalysesysteme 16 und 18 senden jeweils ein Steuersignal 16a bzw. 18a zur aktiven Strahlführung an die Strahlsteuereinheit 11. Des Weiteren sendet das Strahlanalysesystem 18 ein Steuersignal 18c an die Fokussieroptik 13.
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Darüber hinaus erfolgt erfindungsgemäß eine Manipulation (insbesondere Abmilderung bzw. vollständige Eliminierung) einer vorhandenen Strahldivergenz in dem von der jeweiligen Teleskop-Anordnung 15 bzw. 17 in das jeweilige Strahlanalysesystem 16 bzw. 18 abgebildeten Messstrahl, wofür im Weiteren unterschiedliche Ausführungsformen unter Bezugnahme auf 3-9 beschrieben werden. Diese Manipulation der Strahldivergenz erfolgt wiederum auf Basis der mit dem jeweiligen Strahlanalysesystem 16 bzw. 18 durchgeführten Messung, gemäß der ein entsprechendes Steuersignal 16b bzw. 18b je nach Ausführungsform an die Teleskop-Anordnung 15 bzw. 17 bzw. ein im Weiteren beschriebenes aktiv verstellbares Element gesendet wird.
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2 zeigt zunächst am Beispiel des in Rückwärtsrichtung ausgekoppelten Messstrahls einen typischen schematischen Strahlengang zwischen der links in 2 befindlichen Plasmazündungsposition bzw. dem dort befindlichen Targetmaterial und einem rechts in 2 befindlichen, bildgebenden Sensor. Dabei sind Nahfeldebenen mit NF, NF`,... und Fernfeldebenen mit FF, FF`,... bezeichnet. Mit FFi ist eine Zwischenfernfeldebene bezeichnet. Mit f, f' sind hier und im Folgenden jeweils Brennweiten bezeichnet. Der Strahlengang gemäß 2 führt über eine objektseitige Fourier-Optik 23 in eine gestrichelt umrandete Teleskop-Anordnung 25, welche im dargestellten Beispiel (ohne dass die Erfindung hierauf beschränkt wäre) ein verkleinerndes Galilei-Teleskop 21 sowie ein 1:1 abbildendes Kepler-Teleskop 22 aufweist. Der über die Teleskop-Anordnung 25 verkleinerte Messstrahl wird über eine bildseitige Fourier-Optik 24 auf den bildgebenden Sensor fokussiert.
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Zur erfindungsgemäßen Manipulation bzw. Eliminierung einer unerwünschten Strahldivergenz in dem vorstehend anhand von 2 beschriebenen Abbildungsstrahlengang erfolgt nun gemäß einer in 3 schematisch dargestellten Ausführungsform die Platzierung eines optischen Elements 26 mit variabel einstellbarer Brechkraft in der (mit „NF“ bezeichneten) objektseitigen Nahfeldebene der Teleskop-Anordnung 25. Dabei erfolgt über eine (in 3 nicht dargestellte) Ansteuereinheit eine Einstellung der Brechkraft dieses optischen Elements 26 in Abhängigkeit von der jeweils mit dem Strahlanalysesystem (entsprechend den Bezugsziffern „16“ bzw. „18“ gemäß 1) gemessenen Strahldivergenz. Dabei ist die durchstimmbare Brennweite des optischen Elements 26 mit ft bezeichnet.
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Das besagte optische Element 26 mit variabel einstellbarer Brechkraft kann grundsätzlich in beliebiger geeigneter Weise ausgestaltet sein, wobei 4-6 lediglich beispielhafte Ausführungsbeispiele zeigen.
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Gemäß 4 kann beispielsweise durch Kombination einer über eine äußere Kraft in ihrer Form und damit ihrer Brechkraft manipulierbare Sammellinse 41 mit einer in ihrer Brechkraft konstanten Zerstreuungslinse 42 eingesetzt werden, um insgesamt eine bidirektional in ihrer Brechkraft durchstimmbare Komponente zu erhalten.
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Gemäß 5a-5c kann es sich bei dem optischen Element mit variabel einstellbarer Brechkraft auch um einen deformierbaren Spiegel mit einer über einen geeigneten Aktor 52 verstellbaren verspiegelten Membran 51 handeln, womit wie in 5a-5c angedeutet ebenfalls ein bidirektional in der Brechkraft durchstimmbares Element bereitgestellt wird.
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Gemäß 6a kann in einer weiteren Ausführungsform auch eine Zerstreuungslinse mit einer relativ hierzu verschiebbaren Linsengruppe aus einer Sammellinse und einer weiteren Zerstreuungslinse kombiniert werden, womit gemäß dem in 6b dargestellten Ersatzschaltbild ebenfalls eine durchstimmbare Linse (mit der Brennweite ft = f0 2/d) bereitgestellt wird. Mit „a“ ist ein beliebiger Streckungsfaktor und mit „d“ ist die Verschiebung aus der Neutralposition (in welcher die gesamte Anordnung keine Brechkraft besitzt) bezeichnet.
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In weiteren, in 7 bis 9 dargestellten Ausführungsformen erfolgt die erfindungsgemäße Manipulation bzw. Eliminierung der Strahldivergenz durch geeignete Verstimmung der die verkleinernde Abbildung des Messstrahls in das jeweilige Strahlanalysesystem 16 bzw. 18 bewirkenden Teleskop-Anordnung 15 bzw. 17. Dabei wird unter „Verstimmung“ im Einklang mit der üblichen Terminologie verstanden, dass bei dem jeweiligen Teleskop die sonst vorhandene Übereinstimmung der ausgangsseitigen Brennebene einer ersten Linse mit der eingangsseitigen Brennebene einer zweiten Linse nicht mehr gegeben ist.
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Der Effekt einer solchen Verstimmung der Teleskop-Anordnung ist in 7a-7c wiederum für die beispielhafte Teleskop-Anordnung mit dem Aufbau von 2, d.h. aus einem verkleinerndem Galilei-Teleskop 71 und einem 1:1 abbildenden Kepler-Teleskop 72 dargestellt. Hierbei ist das Kepler-Teleskop 72 verstimmbar ausgestaltet, wozu eine Verstelleinheit zur Abstandsvariation zwischen den beiden das Kepler-Teleskop 72 bildenden Fourier-Optiken vorgesehen ist. Mit CNF' ist die eingangsseitige Wellenfrontkrümmung und mit CNF die ausgangsseitige Wellenfrontkrümmung bezeichnet. „d“ bezeichnet die Verstimmung des Teleskops 72 zur Beseitigung der eingangsseitigen Wellenfrontkrümmung, und „mag“ bezeichnet den Abbildungsmaßstab der gesamten Anordnung.
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Gemäß 7a liegt ohne Vorhandensein einer Strahldivergenz bzw. Wellenfrontkrümmung sowohl objektseitig als auch bildseitig ein kollimierter Messstrahl vor. Gemäß 7b führt bereits eine objekt- bzw. eingangsseitige Wellenfrontkrümmung von nur geringer Ausprägung zu einer infolge der stark verkleinernden Abbildung bildseitig erheblich verstärkten Wellenfrontkrümmung bzw. Strahldivergenz, welche jedoch durch die in 7c angedeutete Verstimmung des Kepler-Teleskops 72 (im Wege einer Abstandsvariation um die Strecke d) eliminiert werden kann, so dass im Ergebnis bildseitig wieder ein kollimierter Messstrahl vorliegt.
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8a-8c zeigen zu 7a-7c analoge Darstellungen, wobei im Unterschied zu 7a-7c die Teleskopanordnung aus einem verkleinerndem Kepler-Teleskop 81 und einem verstimmbaren Kepler-Teleskop 82 gebildet ist.
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In weiteren Ausführungsformen kann das zur Manipulation bzw. Eliminierung der unerwünschten Strahldivergenz verstimmbare Teleskop innerhalb der erfindungsgemäßen Teleskopanordnung einen gefalteten Strahlengang aufweisen. Hierdurch kann (wie in 9c-9d relativ zu 9a-9b für unterschiedliche Kepler-Teleskope 90 und 95 angedeutet) erreicht werden, dass bis auf eine einzige optische Komponente (gemäß 9c-9d der verschiebbare Spiegel 92 innerhalb der Verzögerungsstrecke 91) an ortsfesten Positionen verbleiben können, also im Unterschied zu 9a-9b keine Nachführung sämtlicher im optischen Strahlengang nachgeschalteter optischer Komponenten erforderlich ist.
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Zur Beseitigung der eingangsseitigen Wellenfrontkrümmung ist gemäß 9c-9d im Unterschied zu 9a-9b nur eine Verschiebung des verschiebbaren Spiegels 92 um d/2 erforderlich.
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Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alternative Ausführungsformen, z.B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungsformen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind, und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äquivalente beschränkt ist.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- DE 102012212354 A1 [0008]
