DE102018104624B3 - Method and device for determining a surface - Google Patents
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Abstract
Ein Verfahren zur optischen Bestimmung mindestens einer Oberfläche eines sich bewegenden Metallbandes, gekennzeichnet durch die Durchführung von Abstandsmessungen an örtlich begrenzten Messpunkten mit hoher Frequenz senkrecht zum Metallband im Mehrwellenlängeninterferometer-Verfahren sowie quer zur Längserstreckung und zur Bewegungsrichtung des Metallbandes, wobei der Messort pro Zeiteinheit quer zur Bewegungsrichtung verändert wird und eine Vorrichtung zur Bestimmung mindestens einer Oberfläche eines sich bewegenden Metallbandes, wobei die Vorrichtung eine als Mehrwellenlängeninterferometer ausgebildete Abtasteinheit, eine Strahllenkungseinheit, wobei diese einen mit hoher Frequenz periodisch im Raum verstellbare Reflexionsebene aufweist, sowie eine oberhalb des Metallbandes angeordnete Spiegelanordnung und eine Auswerteeinheit aufweist.A method for the optical determination of at least one surface of a moving metal strip, characterized by performing distance measurements at localized measuring points with high frequency perpendicular to the metal strip in Mehrwellenlängeninterferometer method and transverse to the longitudinal extent and to the direction of movement of the metal strip, the measuring site per unit time across the Movement is changed and a device for determining at least one surface of a moving metal strip, wherein the device designed as a Mehrwellenlängeninterferometer scanning unit, a beam steering unit, which has a high frequency periodically adjustable in space reflection plane, and arranged above the metal strip mirror assembly and a Evaluation has.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur optischen Bestimmung mindestens einer Oberfläche eines sich bewegenden Metallbandes.The invention relates to a method and a device for the optical determination of at least one surface of a moving metal strip.
Ein derartiges Verfahren zur Bestimmung der Bandplanheit unter Einsatz eines optischen Messsystems aus dem Stand der Technik, ist in der
Nachteilig an diesem bekannten Verfahren und dem optischen Messsystem der
Ein berührungsloses optisches Messverfahren und eine Vorrichtung zur Bestimmung einer Oberfläche unter Erzeugung von Linien auf der Bandoberfläche mittels einer Lichtquelle ist aus der
Aus der
Des Weiteren ist aus der
Letztlich zeigt die
Ausgehend von der
Die Lösung der Aufgabe ergibt sich aus den folgenden Merkmalen des Anspruches 1:
- Verfahren zur optischen Bestimmung mindestens einer Oberfläche eines sich bewegenden Metallbandes, gekennzeichnet durch die Durchführung von Abstandsmessungen mit mindestens zwei Laserquellen an örtlich begrenzten Messpunkten mit hoher Frequenz von 20 bis 200 MHz senkrecht zum Metallband im Mehrwellenlängeninterferometer-Verfahren sowie quer zur Längserstreckung und zur Bewegungsrichtung des Metallbandes, wobei der Messort pro Zeiteinheit quer zur Bewegungsrichtung verändert wird.
- Method for the optical determination of at least one surface of a moving metal strip, characterized by performing distance measurements with at least two laser sources at localized measuring points with high frequency of 20 to 200 MHz perpendicular to the metal strip in the Mehrwellenlängeninterferometer method and transverse to the longitudinal extent and to the direction of movement of the metal strip , wherein the measuring location per unit time is changed transversely to the direction of movement.
Das erfindungsgemäße Verfahren bietet aufgrund des Einsatzes des Mehrwellenlängeninterferometrie-Verfahrens eine besonders geringe Messunsicherheit für die Oberflächenunebenheiten eines sich bewegenden Metallbandes, wobei die Oberflächenunebenheit als ein Geometriefehler der Metalloberfläche zu sehen ist. Auf besonders vorteilhafte Weise beträgt die Messunsicherheit des erfindungsgemäßen Verfahrens lediglich 0,1 µm senkrecht zur Bandoberfläche des sich bewegenden Metallbandes.Due to the use of the multi-wavelength interferometric method, the method according to the invention offers a particularly low measurement uncertainty for the surface irregularities of a moving metal strip, wherein the surface unevenness is to be regarded as a geometry error of the metal surface. In a particularly advantageous manner, the measurement uncertainty of the method according to the invention is only 0.1 μm perpendicular to the strip surface of the moving metal strip.
Bei einem Mehrwellenlängeninterferometrie-Verfahren wird eine Phasenverschiebung zwischen einem Objektstrahl und einem Referenzlichtstrahl gemessen und dazu genutzt, die zurückgelegte Distanz des Objektstrahls zwischen einer Lichtquelle und einer Oberfläche zu bestimmen.In a multi-wavelength interferometry method, a phase shift between an object beam and a reference light beam is measured and used to determine the distance traveled by the object beam between a light source and a surface.
Die Weglängendifferenz zwischen einem Objektstrahl und dem Referenzlichtstrahl wird in einer Auswerteeinheit berechnet. Der Referenzstrahl legt immer eine genau definierte Strecke zurück. Der Objektstrahl wird in einem ersten Schritt von einer Strahllenkungseinheit quer zur Bewegungsrichtung des Metallbandes reflektiert und in einem zweiten Schritt senkrecht auf die Oberfläche das Metallband projiziert und anschließend als Reflexionsstrahl zurückreflektiert. Die beiden Lichtstrahlen werden zur Interferenz miteinander gebracht und anschließend die Intensität eines kombinierten Lichtstrahls auf einem Detektor gemessen. Über ein so entstehendes Interferenzmuster können sehr präzise relative Weglängenänderungen durch eine Bestimmung einer Phasenverschiebung zwischen Referenzstrahl und Objektstrahl gemessen werden.The path length difference between an object beam and the reference light beam is calculated in an evaluation unit. The reference beam always returns a precisely defined distance. The object beam is reflected in a first step by a beam steering unit transversely to the direction of movement of the metal strip and projected in a second step perpendicular to the surface of the metal strip and then reflected back as a reflection beam. The two light beams are brought into interference with each other and then the intensity of a combined light beam measured on a detector. By means of such an interference pattern, very precise relative path length changes can be measured by determining a phase shift between the reference beam and the object beam.
Vorteilhafterweise bietet das Verfahren zudem die Möglichkeit, die Oberfläche des Metallbandes abseits des Messraster durch Interpolation der benachbarten Abstandmessungen zu errechnen.Advantageously, the method also offers the possibility to calculate the surface of the metal strip away from the measuring grid by interpolation of the adjacent distance measurements.
Bei der Interpolation wird zu den gemessenen örtlich begrenzten (diskreten) Messpunkten, eine stetige Funktion, die sogenannte Interpolante oder Interpolierende, mathematisch gefunden, die diese Messpunkte abbildet. Das Interpolationsverfahren ermöglicht die Bestimmung von Messwerten, die nicht mittels einer Vorrichtung gemessen wurden, sondern aus den gegebenen Messpunkten errechnet worden sind. Diese mathematische Ergänzung zu der physikalischen Messung von Messpunkte ermöglicht eine beschleunigte Messdatengeneration und dadurch eine beschleunigte Aussage über die Metallbandoberfläche.In the interpolation, a continuous function, the so-called interpolant or interpolating, is found mathematically to the measured localized (discrete) measuring points, which maps these measuring points. The interpolation method allows the determination of measured values which were not measured by means of a device but have been calculated from the given measuring points. This mathematical addition to the physical measurement of measuring points enables an accelerated data generation and thus an accelerated statement about the metal strip surface.
Erfindungsgemäß ist es auch vorgesehen, das beidseitig des Metallbandes die Oberfläche bestimmt und dadurch zeitgleich zu den Oberflächenunebenheiten die Banddicke gemessen wird. Eine auf die Fläche des Messbandes bezogenen Dickenmessung ergibt sich aus den gegenüberliegenden Abstandsmesswerten der beiden Oberflächen des Metallbandes.According to the invention, it is also provided that determines the surface on both sides of the metal strip and thereby the strip thickness is measured at the same time to the surface irregularities. A thickness measurement related to the area of the measuring tape results from the opposing distance measuring values of the two surfaces of the metal strip.
Auf vorteilhafte Weise ist es nun nicht nur möglich die Oberflächenunebenheit, sondern zusätzlich auch die Banddicke innerhalb eines erfindungsgemäßen Verfahrensschritt zu bestimmen.Advantageously, it is now not only possible to determine the surface unevenness, but additionally also the strip thickness within a method step according to the invention.
Ausgehend von dem oben dargelegten Stand der Technik und der bereits dargelegten Aufgabe der Erfindung, ergibt sich die Lösung der Aufgabe aus den nachfolgenden Merkmalen des Anspruches 5:
- Vorrichtung (
10 ) zur Bestimmung mindestens einer Oberfläche (O ) eines sich bewegenden Metallbandes (11 ), dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (10 ) eine als Mehrwellenlängeninterferometer (22 ) ausgebildete Abtasteinheit (21 ), die mit mindestens zwei Laserquellen versehen ist, eine Strahllenkungseinheit (23 ), wobei diese eine mit hoher Frequenz von 20 bis 200 MHz periodisch im Raum verstellbare Reflexionsebene (29 ) aufweist, sowie eine oberhalb des Metallbandes (11 ) angeordnete Spiegelanordnung (26 ) und eine Auswerteeinheit (24 ).
- Device
10 ) for determining at least one surface (O ) of a moving metal strip (11 ), characterized in that the device (10 ) as a multi-wavelength interferometer (22 ) trained scanning unit (21 ), which is provided with at least two laser sources, a beam steering unit (23 ), this one with a high frequency of 20 to 200 MHz periodically adjustable in space reflection plane (29 ), and one above the metal strip (11 ) arranged mirror arrangement (26 ) and an evaluation unit (24 ).
Mit dieser Vorrichtung ist es nun möglich, den von der Abtasteinheit erzeugten Objektstrahl mittels einer mit hoher Frequenz periodisch im Raum verstellbaren Reflexionsebene quer zur Bewegungsrichtung des Metallbandes zeitlich versetzt auf eine große Anzahl von Punkten der oberhalb des Metallbandes angeordneten Spiegelanordnung zu projizieren, wobei die Spiegelanordnung die Objektstrahlen rechtwinklig in Richtung des Materialbandes reflektiert und wobei die an der Oberfläche des Metallbandes entstehenden Reflexionsstrahlen mittels der Spiegelanordnung und der Strahllenkungseinheit zu der Abtasteinheit zurückgeführt werden.With this device, it is now possible to project the object beam generated by the scanning unit by means of a periodically adjustable with high frequency in space reflection plane transversely to the direction of movement of the metal strip on a large number of points of the metal strip arranged above the mirror assembly, wherein the mirror assembly the Object beams are reflected at right angles in the direction of the material band and wherein the resulting reflection on the surface of the metal strip reflection rays are returned by means of the mirror assembly and the beam steering unit to the scanning unit.
In einer bevorzugten Ausführungsform ist die winkelverstellbare Reflexionsebene der Strahllenkungseinheit als drehendes Polygonrad ausgebildet. Der auf die Reflexionsebene auftreffende Objektstrahl wird auf der Reflexionsebene zeitlich versetzt reflektiert, wodurch sich die Abfolge von einer hohen Anzahl an Messpunkten pro Zeiteinheit ergibt.In a preferred embodiment, the angle-adjustable reflection plane of the beam steering unit is designed as a rotating polygon wheel. The incident on the reflection plane object beam is reflected in time on the reflection plane offset, resulting in the sequence of a high number of measurement points per unit time.
Weiterhin ist es denkbar, dass die verstellbare Reflexionsebene der Strahlungseinheit als periodisch bewegter Spiegel ausgebildet ist.Furthermore, it is conceivable that the adjustable reflection plane of the radiation unit is designed as a periodically moving mirror.
Eine weitere Ausführungsform sieht vor, das die winkelverstellbare Reflexionsebene der Strahlungseinheit aus einer Kombination aus einem drehbaren Polygonrad und mindestens einem periodisch beweglichen Spiegel gebildet ist. Die Kombination aus Polygonrad und periodisch bewegbarem Spiegel dient beispielsweise der Kompensation eines systematischen Fehlers des Polygonrades, wie dem Winkelfehler der einzelnen Flächen des Polygonrades.A further embodiment provides that the angle-adjustable reflection plane of the radiation unit is formed from a combination of a rotatable polygon wheel and at least one periodically movable mirror. The combination of polygon wheel and periodically movable mirror serves, for example, to compensate for a systematic error of the polygon wheel, such as the angular error of the individual surfaces of the polygon wheel.
Vorteilhafterweise ist es angedacht, dass die winkelverstellbare Reflexionsebene der Strahllenkungseinheit aus einer Kombination aus einem drehbaren Polygonrad und einem festangeordneten, gekrümmten Spiegel oder aus einer Kombination aus einem drehbaren Polygonrad und mindestens einer optischen Linse gebildet ist.Advantageously, it is envisaged that the angle-adjustable reflection plane of the beam steering unit is formed from a combination of a rotatable polygonal wheel and a fixed, curved mirror or a combination of a rotatable polygon wheel and at least one optical lens.
Bei einer besonders bevorzugten Ausführungsform ist die Spiegelanordnung als Parabolspiegel ausgebildet, welcher quer zur Bewegungsrichtung des Metallbandes ausgerichtet ist. Durch die Umlenkung des Objektstrahles über einen Parabolspiegel wird erreicht, dass die Laserstrahlen unabhängig vom Auftreffort auf dem Metallband immer nahezu die gleiche Wegstrecke zurücklegen. Der Parabolspiegel wird so zum Metallband ausgerichtet, dass bei einem ebenen Metallband für die jeweiligen Auftrefforte auf dem Metallband die gleiche Interferenzphase (gleicher Abstand) gemessen wird. Weist das Metallband Unebenheiten auf, ändert sich die Interferenzphase in Abhängigkeit vom Auftreffort des Laserstrahles. Aus der Phasenveränderung und der bekannten Wellenlänge des Laserlichtes kann so die Unebenheit der Bandoberfläche ermittelt werden.In a particularly preferred embodiment, the mirror arrangement is designed as a parabolic mirror, which is aligned transversely to the direction of movement of the metal strip. The deflection of the object beam via a parabolic mirror ensures that the laser beams always travel almost the same distance regardless of the place of impact on the metal strip. The parabolic mirror is aligned with the metal strip so that the same interference phase (same distance) is measured for a flat metal strip for the respective impact locations on the metal strip. If the metal strip has unevenness, the interference phase changes depending on the location of incidence of the laser beam. From the phase change and the known wavelength of the laser light so the unevenness of the strip surface can be determined.
Alternativ ist es vorgesehen, dass die Spiegelanordnung als Facettenspiegel ausgebildet ist, wobei der Facettenspiegel hier die Aufgabe des Parabolspiegels übernimmt. Die Ablenkung des Objektstrahles erfolgt in diesem Ausführungsbeispiel an den jeweiligen Facetten des Facettenspiegels. Alternatively, it is provided that the mirror arrangement is designed as a facet mirror, wherein the facet mirror takes over the task of the parabolic mirror here. The deflection of the object beam takes place in this embodiment at the respective facets of the facet mirror.
Eine weiteren Ausführungsform sieht vor, dass die Spiegelanordnung als ebener Spiegel ausgebildet ist, wobei die Reflexionsergebnisse mathematisch korrigiert werden. Die mathematische Korrektur wird von der Auswerteeinheit durchgeführt.A further embodiment provides that the mirror arrangement is designed as a plane mirror, wherein the reflection results are corrected mathematically. The mathematical correction is performed by the evaluation unit.
Es ist weiterhin vorgesehen, dass die erfindungsgemäße Vorrichtung mit einer Abtastfrequenz von 20 bis 200 MHz arbeitet.It is further provided that the device according to the invention operates at a sampling frequency of 20 to 200 MHz.
Vorzugsweise arbeitet das Mehrwellenlängeninterferometer mit einer Messrate von 100 MHz. Um einen stabilen Messwert zu bekommen, wird eine Filterung der Messwerte durchgeführt, wodurch sich die Anzahl der ausgegebenen Messwerte typischerweise um einen Faktor
Ein Polygonrad mit beispielsweise 12 Flächen zur Strahlablenkung dreht sich mit einer Frequenz von 50 Hz, welches 3000 Umdrehungen pro Minute entspricht. Die Ablenkung des Objektstrahles über einer Fläche des Polygonrades sorgt typischerweise für die Abtastung der kompletten Breite des Metallbandes. Somit kann mit den genannten Parametern das Metallband 600 mal pro Sekunde (50 Hz * 12 Flächen) gescannt werden.A polygon wheel with, for example, 12 areas for beam deflection rotates at a frequency of 50 Hz, which corresponds to 3000 revolutions per minute. The deflection of the object beam over a surface of the polygon wheel typically provides for scanning the full width of the metal strip. Thus, with the parameters mentioned, the metal strip can be scanned 600 times per second (50 Hz * 12 areas).
Unter Berücksichtigung der Nettomessrate von 1 MHz ergibt sich, dass ein Scan über die Metalloberfläche durch ca. 1600 Punkte repräsentiert wird. Hierbei werden die 1.000.000 Messpunkte durch die 600 Scans pro Sekunde dividiert. Somit ergeben sich 1600 Messpunkte pro Scan. Ein Scan beschreibt einen Messvorgang von beispielsweise 1600 Messpunkten quer zur Bewegungsrichtung des Metallbandes. Siehe auch Beschreibung zu
Weitere Vorteile der Erfindung ergeben sich der nachfolgenden Beschreibung mehrere Ausführungsbeispiele. Es zeigen:
-
1 eine teilweise schematische Darstellung eines Walzwerkes; -
2 schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Bestimmung mindestens einer Oberfläche eines sich bewegenden Metallbandes entlang der SchnittebeneII - II gemäß 1 ; -
3 schematische Darstellung einer Strahlquelle und einem Interferometer; -
4 Draufsicht auf ein sich bewegendes Walzbandes mit einer Messspur; -
5a Schnittdarstellung zweier Arbeitswalzen mit linksseitiger Walzenverschwenkung; -
5b Schnittdarstellung zweier Arbeitswalzen mit rechtsseitiger Walzenverschwenkung; -
5c Schnittdarstellung zweier Arbeitswalzen mit randseitiger Gewichtsbelastung; -
5d Schnittdarstellung zweier Arbeitswalzen mit mittiger Gewichtsbelastung; -
6 schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Bestimmung mindestens einer Oberfläche eines sich bewegenden Metallbandes entlang der SchnittebeneII - II gemäß 1 mit einem ersten profilierten Metallband; -
7 schematische Darstellung einer Vorrichtung zur Bestimmung mindestens einer Oberfläche eines sich bewegenden Metallbandes entlang der SchnittebeneII - II gemäß 1 mit einem zweiten profilierten Metallband.2.
-
1 a partial schematic representation of a rolling mill; -
2 schematic representation of a device for determining at least one surface of a moving metal strip along the cutting planeII - II according to1 ; -
3 schematic representation of a beam source and an interferometer; -
4 Top view of a moving rolled strip with a measuring track; -
5a Sectional view of two work rolls with left-side Walzenverschwenkung; -
5b Sectional view of two work rolls with right-side Walzenverschwenkung; -
5c Sectional view of two work rolls with edge-side weight loading; -
5d Sectional view of two work rolls with central weight load; -
6 schematic representation of a device for determining at least one surface of a moving metal strip along the cutting planeII - II according to1 with a first profiled metal band; -
7 schematic representation of a device for determining at least one surface of a moving metal strip along the cutting planeII - II according to1 with a second profiled metal band.2.
In den Zeichnungen ist die erfindungsgemäße Vorrichtung insgesamt mit der Bezugsziffer
In der
In Transportrichtung
Im vorliegenden Fall handelt es sich um einen dreistufigen Walzprozess, an dessen Ende das dünne Metallbandendprodukt
Über einen Regelkreis wird mit Hilfe der durch die erfindungsgemäße Vorrichtung gemessene(n) Oberfläche(n) die Veränderung der geometrischen Eigenschaften des Metallbandes
Die
Die Spiegelanordnung
Zudem weist die Vorrichtung
Weiterhin offenbart die
Der Objektstrahl
Das Mehrwellenlängeninterferometer arbeitet mit einer Messrate von typischerweise 100 MHz. Um einen stabilen Messwert zu bekommen wird eine Filterung der Messwerte durchgeführt, wodurch sich die Anzahl der Messpunktausgabefrequenz um den Faktor
Nachdem die jeweiligen Messstrahlen
Die ermittelten Informationen werden an die Walzensteuerung
Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung
In der
Grundsätzlich wird darauf hingewiesen, dass für das Messverfahren mindestens zwei Laserquellen benötigt werden, wobei es durchaus denkbar ist, eine größere Anzahl an Laserquellen einzusetzen.In principle, it is pointed out that at least two laser sources are required for the measuring method, and it is entirely conceivable to use a larger number of laser sources.
Der Laserstrahl
Gleichzeitig wird ein Laserstrahl
Um eine Störung der Laserquellen
Der von der Strahlteilereinheit
Von der Faserauskopplungseinheit
Ändert sich der Abstand zwischen der Vorrichtung
In der
Die Messpunkte
Die Information über die gesamte Oberfläche
In den
In der
In the
Sobald eine Unebenheit der Oberfläche
In den
In den
In den
In der
In der
Zum Zwecke einer deutlicheren Veranschaulichung der Arbeitswalzenansteuerung sind die
Die Vorrichtungen
Zur Funktionsweise der Vorrichtung
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 1010
- erfindungsgemäße Vorrichtunginventive device
- 1111
- Metallbandmetal band
- 1212
- Walzgerüstrolling mill
- 1414
- Walzspaltnip
- 1515
- Grundrahmenbase frame
- 1616
- Coilcoil
- 1717
- Stützwalzesupporting roll
- 1818
- ArbeitswalzeStripper
- 18A18A
- obere Arbeitswalzeupper stripper
- 18B18B
- untere Arbeitswalzelower stripper
- 1919
- Strahlquellebeam source
- 2020
- Lichtwellenleiteroptical fiber
- 2121
- Abtasteinheitscanning
- 2222
- Interferometerinterferometer
- 2323
- StrahllenkungseinheitBeam steering unit
- 2424
- Auswerteeinheitevaluation
- 2525
- Walzensteuerungroller control
- 2626
- Spiegelanordnung / ParabolspiegelMirror arrangement / parabolic mirror
- 2727
- Abstandssensordistance sensor
- 2828
- Umlenkrolleidler pulley
- 2929
- Reflexionsebene / PolygonradReflection plane / Polygon wheel
- 3030
- erste Laserquellefirst laser source
- 3131
- zweite Laserquellesecond laser source
- 3232
- erster optischer Isolatorfirst optical isolator
- 3333
- zweiter optischer Isolatorsecond optical isolator
- 3434
- Umlenkspiegeldeflecting
- 3535
- erste Strahlteilereinheitfirst beam splitter unit
- 3636
- zweite Stahlteilereinheitsecond steel divider unit
- 3737
- FasereinkopplungseinheitFasereinkopplungseinheit
- 3838
- FaserauskopplungseinheitFiber extraction unit
- 3939
- Referenzspiegelreference mirror
- 4040
- Photodetektorphotodetector
- 4141
- Messspurmeasuring track
- 4242
- Walzenoberflächenroll surfaces
- 4444
- erstes profiliertes Metallbandfirst profiled metal band
- 4545
- zweites profiliertes Metallband second profiled metal band
- aa
- Breite des MetallbandesWidth of the metal band
- bb
-
Bewegungsstrecke des Metallbandes
11 Moving distance of themetal band 11 - cc
- LückenGaps
- dd
-
Arbeitswalzenabstand / Breite des Walzspaltes
14 Work roll distance / width of theroll gap 14 - FF
- Kraftforce
- LL
- Objektstrahlobject beam
- MM
- Messstrahlmeasuring beam
- MPMP
- Messpunktmeasuring point
- OO
- Oberflächesurface
- RR
- Referenzstrahlreference beam
- RLRL
- Reflexionsstrahlreflection beam
- SS
- überlagerter Laserstrahlsuperimposed laser beam
- S1S1
-
Laserstrahl ausgehend von der Laserquelle
30 Laser beam from thelaser source 30 - S2S2
-
Laserstrahl ausgehend von der Laserquelle
31 Laser beam from thelaser source 31 - TT
-
Oberfläche der Umlenkrolle
28 Surface of thepulley 28 - WW
- Walzwerkrolling mill
- xx
- Transportrichtungtransport direction
- y1y1
-
Längsachse der Arbeitswalze
18A Longitudinal axis of thework roll 18A - y2y2
-
Längsachse der Arbeitswalze
18B Longitudinal axis of thework roll 18B - α1α1
-
erster Verschwenkungswinkel der Arbeitswalze
18A first pivot angle of thework roll 18A - α2α2
-
zweiter Verschwenkungswinkel der Arbeitswalze
18A second pivot angle of thework roll 18A - λλ
- Wellenlängewavelength
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Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
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DE102018104624B3 true DE102018104624B3 (en) | 2019-06-13 |
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ID=66629357
Family Applications (1)
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Country | Link |
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2018
- 2018-02-28 DE DE102018104624.3A patent/DE102018104624B3/en active Active
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final |