DE102016208006A1

DE102016208006A1 - Optische Anordnung, Lithographieanlage und Verfahren zum Ändern einer numerischen Apertur

Info

Publication number: DE102016208006A1
Application number: DE102016208006.7A
Authority: DE
Inventors: Stefan Hembacher
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2016-05-10
Filing date: 2016-05-10
Publication date: 2017-04-27

Abstract

Die vorliegende Erfindung beschreibt eine optische Anordnung (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend einen Strahlengang (202) für Projektionslicht (208) zum Abbilden von lithographischen Strukturen (210), wobei der Strahlengang (202) eine optische Achse (222) umfasst, eine Blendenanordnung (204) mit mindestens einer lichtbeschränkenden Kante (224) zum Begrenzen des Strahlengangs (202), und eine Positioniereinrichtung (206), welche eingerichtet ist, die mindestens eine lichtbeschränkende Kante (224) entlang der optischen Achse (222) zum Ändern einer numerischen Apertur der Blendenanordnung (204) zu bewegen.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Anordnung für eine Lithographieanlage, eine Lithographieanlage mit einer solchen optischen Anordnung sowie ein Verfahren zum Ändern einer numerischen Apertur einer Blendenanordnung einer optischen Anordnung für eine Lithographieanlage.
Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche eine Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat (z. B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.
Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von – wie bisher – brechenden Optiken, das heißt Linsen, eingesetzt werden.
Die erreichbare Auflösung mit der lithographische Strukturen abgebildet werden können, hängt maßgeblich von der numerischen Apertur NA der Blendenanordnung einer optischen Anordnung, beispielsweise einem Projektionssystem, ab. Um die numerische Apertur in Lithographieanlagen zu verändern, werden beispielsweise NA-Wechsler zum Wechseln der Blendenanordnung eingesetzt. Ein NA-Wechsler ist eine mechanische Anordnung mit der Blendenanordnungen ausgewechselt werden können. Dabei werden Blendenanordnungen mit unterschiedlichen Öffnungen in den Strahlengang gebracht. Um die Blendenanordnungen wechseln zu können, werden in der optischen Anordnung, also beispielsweise in dem die Atmosphäre des Projektionssystems aufrecht erhaltendem Gehäuse des Projektionssystems, Außenöffnungen vorgesehen. Es ist jedoch in der Regel wünschenswert, ein möglichst hermetisch abgeschlossenes System zu verwenden, das einen in situ Betrieb ermöglicht.
Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, eine verbesserte optische Anordnung für eine Lithographieanlage bereitzustellen. Es ist eine weitere Aufgabe eine verbesserte Lithographieanlage mit einer solchen optischen Anordnung sowie ein verbessertes Verfahren zum Ändern einer numerischen Apertur einer Blendenanordnung einer optischen Anordnung bereitzustellen.
Demgemäß wird eine optische Anordnung für eine Lithographieanlage bereitgestellt, aufweisend einen Strahlengang für Projektionslicht zum Abbilden von lithographischen Strukturen, wobei der Strahlengang eine optische Achse umfasst,
eine Blendenanordnung mit mindestens einer lichtbeschränkenden Kante zum Begrenzen des Strahlengangs, und eine Positioniereinrichtung, welche eingerichtet ist, die mindestens eine lichtbeschränkende Kante entlang der optischen Achse zum Ändern einer numerischen Apertur der Blendenanordnung zu bewegen.
Dadurch, dass die mindestens eine lichtbeschränkende Kante entlang der optischen Achse bewegt wird, kann auf einfache Weise die numerische Apertur der Blendenanordnung verändert werden. Die Strahlen des Strahlengangs für Projektionslicht zum Abbilden von lithographischen Strukturen können konvergent oder divergent verlaufen. Insbesondere verläuft der Strahlengang konisch. Dadurch bewirkt eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante in Richtung der optischen Achse des Strahlengangs, dass der Strahlengang teilweise abgeschattet wird. Eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante in Richtung der optischen Achse des Strahlengangs bewirkt demnach eine Änderung der Begrenzung des Strahlengangs. Dementsprechend wird mittels dieser Änderung eine Änderung der numerischen Apertur erreicht. Man spricht bei den lichtbeschränken Kanten auch von lichtbestimmenden Kanten, da der Strahlengang auch mit Hilfe der Blendenanordnung, und insbesondere mit Hilfe der Kanten, bestimmt wird.
Insofern sind der Strahlengang (d.h. alle abbildenden Strahlen des Projektionslichts) und die lichtbeschränkende Kante so relativ zueinander angeordnet, dass eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante entlang der optischen Achse des Strahlengangs zu einer Beschränkung des Strahlengangs führt.
Vorzugsweise wird daher keine Irisblende geschaffen, bei der Blendenteile senkrecht in den Strahlengang bzw. zur optischen Achse verfahren werden. Die lichtbeschränkenden Kanten werden vorzugsweise auch nicht gedreht oder geschwenkt,
Vorteilhafterweise kann aufgrund der Bewegung der mindestens einen lichtbeschränkenden Kante entlang der optischen Achse und der damit verbundenen Änderung der numerischen Apertur der Blendenanordnung auf einen Wechsel der Blendenanordnung verzichtet werden, wenn die numerische Apertur verändert werden soll. Dadurch braucht keine veränderte unterschiedliche Blendenanordnung in die optische Anordnung eingebracht zu werden, falls die numerische Apertur der eingebauten Blendenanordnung geändert werden soll. Insbesondere benötigt die Lithographieanlage keine Außenöffnung im Tragrahmen (Engl.: force frame) und/oder im Sensorrahmen (Engl.: sensor frame), durch welche eine Blendenanordnung ausgetauscht werden könnte.
Weiter kann es genügen, wenn die mindestens eine lichtbeschränkende Kante in lediglich einem Freiheitsgrad entlang der optischen Achse beweglich ist. Dadurch kann bereits eine Veränderung der Beschränkung des Strahlengangs realisiert werden. Dies kann sowohl zur Verringerung der Kosten als auch zur Verringerung des benötigten Bauraums beitragen.
Je größer die numerische Apertur ist, desto konischer kann der Strahlengang verlaufen. Vorteilhafterweise ist die notwendige Bewegung der lichtbeschränkenden Kante zur Veränderung der numerischen Apertur umso kleiner, je konischer der Strahlengang ist.
Unter „entlang der optischen Achse“ ist in einer Richtung parallel zur optischen Achse zu verstehen. Eine Bewegung der Blende bzw. der lichtbeschränkenden Kanten kann dabei einen Anteil parallel zur optischen Achse und eine Anteil senkrecht zur optischen Achse aufweisen. Die Bewegung erfolgt nun vorzugsweise als lineare Verschiebung mit einem nichtverschwindenden Anteil parallel zum Verlauf der optischen Achse.
Mit „optische Achse“ des Strahlengangs ist insbesondere die Richtung des Strahlengangs gemeint. Bei einem konischen Strahlengang kann die Richtung des Strahlengangs in der Mitte der konischen Strahlung verlaufen. Dabei wird der Strahlengang durch alle abbildenden Strahlen des Projektionslichts gebildet.
Unter einem konischen Strahlengang ist ein Strahlengang zu verstehen, welcher eine konische Form aufweist. Unter der konischen Form wird hier eine Form verstanden, welche entsteht, wenn man alle Punkte eines in einer Ebene liegenden, begrenzten Flächenstücks geradlinig mit einem Punkt außerhalb der Ebene verbindet. Das begrenzte Flächenstück braucht nicht notwendigerweise rund zu sein.
Gemäß einer Ausführungsform der optischen Anordnung weist diese ferner ein optisches Element auf, wobei die Bewegung entlang der optischen Achse eine Bewegung entlang einer Flächennormalen einer Oberfläche des optischen Elements umfasst. Dabei kommt es bei der Bewegung auf die Bewegung der lichtbeschränkenden Kante an. Die Flächennormale steht senkrecht zur Oberfläche des optischen Elements. Vorteilhafterweise können die Richtung der optischen Achse und die Richtung der Flächennormalen parallel sein. Dabei ist zu beachten, dass die Oberfläche des optischen Elements gekrümmt sein kann. Daher kann die Flächennormale an unterschiedlichen Positionen auf der Oberfläche in unterschiedliche Richtungen weisen. Die Richtungen der optischen Achse und der Flächennormalen werden daher nur an einem Punkt auf einer gekrümmten Oberfläche parallel sein.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung weist die Blendenanordnung mehrere Blendenelemente, insbesondere drei Blendenelemente, mit jeweils einer lichtbeschränkenden Kante auf. Es kann notwendig sein eine Blendenanordnung zu verwenden, welche keine durchgehende geometrische Form aufweist. Eine solche Blendenanordnung besitzt keine durchgehende lichtbeschränkende Kante. Vielmehr sind die lichtbeschränkenden Kanten der Blendenelemente dann örtlich verteilt. Beispielsweise sind die lichtbeschränkenden Kanten der Blendenelemente dann gegeneinander und/oder in Bezug auf die optische Achse verschoben.
In Ausführungsformen verläuft die Richtung, in denen die Blendenelemente verschoben werden parallel oder antiparallel, und jedes Blendenelement wird ausschließlich linear bzw. geradlinig bewegt.
Eine Blendenanordnung mit mehreren Blendenelementen und damit mit mehreren nichtzusammenhängenden lichtbeschränkenden Kanten kann insbesondere für anamorphotische Abbildungssysteme geeignet sein. Anamorphotische Abbildungssysteme besitzen in unterschiedlichen Raumrichtungen unterschiedliche Abbildungsverhältnisse.
Unter nichtzusammenhängend ist zu verstehen, dass die lichtbeschränkenden Kanten in räumlicher Hinsicht voneinander getrennt sind. In einer Projektionsrichtung, beispielsweise entlang der optischen Achse, kann dennoch eine zusammenhängende und von den jeweiligen Projektionen der lichtbeschränkenden Kanten umschlossene Fläche vorliegen. Man kann insofern von einer Fläche der „Blendenöffnung in Projektion“ sprechen.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung sind die Blendenelemente getrennt voneinander und relativ zueinander entlang der optischen Achse beweglich. Vorteilhafterweise kann die separate Bewegung jedes einzelnen Blendenelements den Strahlengang beeinflussen und damit die numerische Apertur der Blendenanordnung verändern. Insbesondere wird der Strahlengang durch die lichtbeschränkende Kante eines Blendenelements beschnitten, so dass ein Teil des Strahlengangs abgeschattet wird.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung ist zumindest ein Blendenelement ortsfest verbunden. Dabei ist das zumindest eine Blendenelement ortsfest in Bezug auf die optische Achse. Vorteilhafterweise kann schon die Bewegung eines Blendenelements ausreichen, um die numerische Apertur der Blendenanordnung zu verändern. Je weniger Blendenelemente bewegt werden, desto geringer ist die Komplexität der optischen Anordnung und desto geringer sind dann auch die Kosten der optischen Anordnung.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung ist zumindest ein Blendenelement ausschließlich entlang der optischen Achse zum Ändern der numerischen Apertur der Blendenanordnung beweglich. Dabei ist die mindestens eine lichtbeschränkende Kante ausschließlich linear in einer Richtung beweglich.
Dadurch, dass sich das Blendenelement mit der lichtbeschränkenden Kante ausschließlich linear entlang der optischen Achse bewegt, können die Komplexität und damit auch die Kosten der optischen Anordnung gering gehalten werden.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung sind zumindest zwei Blendenelemente beweglich, und die zumindest zwei beweglichen Blendenelemente begrenzen in einer Bewegungsrichtung entlang der optischen Achse eine konstante Fläche. Dabei ist die konstante Fläche diejenige Fläche, welche in Richtung der optischen Achse, also in Bewegungsrichtung, zu sehen ist und welche durch die lichtbeschränkenden Kanten der Blendenelemente begrenzt wird. Die konstante Fläche ist demnach die Projektion in eine Ebene senkrecht zur optischen Achse. Vorteilhafterweise können die zumindest zwei Blendenelemente zusammen bewegt werden. Dadurch ändert sich ihr relativer Abstand nicht und die Fläche, die sie begrenzen, bleibt konstant. Die gemeinsame Bewegung der zumindest zwei Blendenelemente kann die Komplexität der optischen Anordnung verringern. Dadurch können Kosten gespart werden.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung weist der Strahlengang eine konische Form auf. Dadurch kann eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante entlang der optischen Achse des Strahlengangs eine Änderung der numerischen Apertur bewirken.
Alternativ weisen die Strahlen des Strahlengangs zumindest im Bereich der Blendenanordnung einen nicht parallelen Verlauf auf.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung ist die mindestens eine lichtbeschränkende Kante widerstandsfähig gegenüber dem Projektionslicht im Wellenlängenbereich von 0,1 nm bis 250 nm. Dabei bedeutet widerstandsfähig, dass die lichtbeschränkende Kante weder ihre Form aufgrund der Einstrahlung mit dem Projektionslicht verändert noch Teile der lichtbeschränkenden Kante aufgrund der Einstrahlung mit dem Projektionslicht verdampfen.
Eine ungewollte Formänderung der lichtbeschränkenden Kante würde ebenfalls zu einer ungewollten Änderung der numerischen Apertur führen. Weiter kann die optische Anordnung im Vakuum angeordnet sein. Dabei kann der Druck des Vakuums in dem Bereich von 10^–7 bis 10^–12 mbar (Ultrahochvakuum) liegen.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung weist die Blendenanordnung eine Blendenöffnung auf, welche durch mindestens zwei lichtbeschränkende Kanten gebildet ist. Alle vorhandenen lichtbeschränkenden Kanten der Blendenanordnung bilden zusammen die Blendenöffnung. Vorteilhafterweise kann die Blendenöffnung mit mehreren lichtbeschränkenden Kanten an den Strahlengang angepasst werden. Dabei kann es sich insbesondere um einen anamorphotischen Strahlengang handeln, bei welchem die Blendenanordnung angepasst wird.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung sind mindestens zwei lichtbeschränkende Kanten der Blendenöffnung nichtzusammenhängend angeordnet. Vorteilhafterweise kann die Blendenanordnung auf diese Weise den zur Verfügung stehenden knappen Bauraum in der optischen Anordnung optimal ausnutzen. Weiter kann eine Blendenöffnung mit nichtzusammenhängenden Kanten für einen anamorphotischen Strahlengang von Vorteil sein.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung ist die Blendenöffnung in Form, Größe und/oder Fläche konstant. Die Blendenöffnung kann über die Parameter Form, Größe und/oder Fläche beschrieben werden. Dabei ist die Fläche diejenige Fläche, welche in Richtung der optischen Achse, also in Bewegungsrichtung, zu sehen ist und welche durch die lichtbeschränkenden Kanten der Blendenelemente begrenzt wird. Die Fläche ist demnach die Projektion in eine Ebene senkrecht zur optischen Achse. Ist einer der Parameter konstant oder sind sogar mehrere der Parameter konstant, dann stehen mindestens zwei Blendenelemente in einer festen räumlichen Beziehung zueinander. Dadurch kann zumindest ein Bereich der Blendenanordnung, aufweisend mindestens zwei Blendenelemente, zusammen bewegt werden. Dies reduziert die Komplexität der Blendenanordnung.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der optischen Anordnung verläuft der Strahlengang innerhalb der Blendenöffnung. Bei der Blendenanordnung handelt es sich demnach vorzugsweise um eine Art Aperturblende. Dabei ist eine Aperturblende eine Blende, welche den Strahlengang von außen begrenzt. Im Gegensatz dazu ist eine Obskurationsblende eine Blende, welche innerhalb des Strahlengangs angeordnet ist, um Strahlen, die auf eine bestimmte Fläche innerhalb des Strahlengangs fallen, zu blockieren.
Ferner wird eine Lithographieanlage, insbesondere eine EUV- oder DUV-Lithographieanlage, mit einer optischen Anordnung, wie vorstehend beschrieben, bereitgestellt. EUV steht für „extreme ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts (bzw. Projektionslichts) zwischen 0,1 und 30 nm. DUV steht für „deep ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts (bzw. Projektionslichts) zwischen 30 und 250 nm.
Weiter wird ein Verfahren zum Ändern einer numerischen Apertur einer Blendenanordnung einer optischen Anordnung für eine Lithographieanlage beschrieben. Dabei wird mindestens eine lichtbeschränkende Kante einer Blendenanordnung entlang einer optischen Achse eines Strahlengangs für Projektionslicht zum Ändern der numerischen Apertur bewegt.
Die numerische Apertur kann mittels der Bewegung der lichtbeschränkenden Kante der Blendenanordnung entlang der optischen Achse des Strahlengangs geändert werden. Vorteilhafterweise kann damit auf einen Wechsel der Blendenanordnung zum Verändern der numerischen Apertur verzichtet werden. Unter einem Wechsel der Blendenanordnung ist ein Austausch der Blendenanordnung zu verstehen.
Die für die vorgeschlagene optische Anordnung beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für die vorgeschlagene Lithographieanlage und das vorgeschlagene Verfahren entsprechend und umgekehrt.
Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmale oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.
1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage;
1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage;
2 zeigt eine schematische Ansicht einer optischen Anordnung;
3 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren optischen Anordnung;
4A zeigt eine schematische Ansicht der in der 3 dargestellten Blendenanordnung aus der Richtung der optischen Achse;
4B zeigt eine schematische Ansicht einer alternativen Blendenanordnung zu der in der 4A dargestellten Blendenanordnung;
5A zeigt eine schematische Ansicht einer alternativen Blendenanordnung zu der in der 4A dargestellten Blendenanordnung;
5B zeigt eine schematische Ansicht einer alternativen Blendenanordnung zu der in der 5A dargestellten Blendenanordnung;
6 zeigt eine schematische Schnittansicht der Blendenanordnung aus 3 aus einer Richtung senkrecht zur optischen Achse;
7 zeigt eine schematische Schnittansicht der Blendenanordnung aus 6 mit verschobenem Blendenelement; und
8 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren optischen Anordnung.
In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.
1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage 100A, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht EUV für „extremes Ultraviolett“ (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 und 30 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind jeweils in einem nicht gezeigten Vakuum-Gehäuse vorgesehen, wobei jedes Vakuum-Gehäuse mit Hilfe einer nicht dargestellten Evakuierungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum-Gehäuse sind von einem nicht dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem die Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren bzw. Einstellen der optischen Elemente vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und dergleichen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein.
Die EUV-Lithographieanlage 100A weist eine EUV-Lichtquelle 106A auf. Als EUV-Lichtquelle 106A kann beispielsweise eine Plasmaquelle (oder ein Synchrotron) vorgesehen sein, welche Strahlung 108A im EUV-Bereich (extrem ultravioletter Bereich), also z.B. im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 20 nm, aussendet. Im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A gebündelt und die gewünschte Betriebswellenlänge aus der EUV-Strahlung 108A herausgefiltert. Die von der EUV-Lichtquelle 106A erzeugte EUV-Strahlung 108A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und im Projektionssystem 104 evakuiert sind.
Das in 1A dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 weist fünf Spiegel 110, 112, 114, 116, 118 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A auf die Photomaske (Engl.: reticle) 120 geleitet. Die Photomaske 120 ist ebenfalls als reflektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 108A mittels eines Spiegels 122 auf die Photomaske 120 gelenkt werden. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.
Das Projektionssystem 104 (auch als Projektionsobjektiv bezeichnet) weist sechs Spiegel M1–M6 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Spiegel M1–M6 des Projektionssystems 104 symmetrisch zur optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel der EUV-Lithographieanlage 100A nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Spiegel vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel i.d.R. an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage 100B, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht DUV für „tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 und 250 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 können – wie bereits mit Bezug zu 1A beschrieben – in einem Vakuumgehäuse angeordnet und/oder von einem Maschinenraum mit entsprechenden Antriebsvorrichtungen umgeben sein.
Die DUV-Lithographieanlage 100B weist eine DUV-Lichtquelle 106B auf. Als DUV-Lichtquelle 106B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 108B im DUV-Bereich bei beispielsweise 193 nm emittiert.
Das in 1B dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 leitet die DUV-Strahlung 108B auf eine Photomaske 120. Die Photomaske 120 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.
Das Projektionssystem 104 weist mehrere Linsen 128 und/oder Spiegel 130 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Linsen 128 und/oder Spiegel 130 des Projektionssystems 104 symmetrisch zur optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen und Spiegel der DUV-Lithographieanlage 100B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen und/oder Spiegel vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
Ein Spalt zwischen der letzten Linse 128 und dem Wafer 124 kann durch ein flüssiges Medium 132 ersetzt sein, welches einen Brechungsindex > 1 aufweist. Das flüssige Medium kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photolithographische Auflösung auf.
Eine optische Anordnung 200 wird nachfolgend als Teil eines Projektionssystems 104 einer EUV-Lithographieanlage beschrieben. Prinzipiell kann die optische Anordnung aber in allen Bereichen einer Lithographieanlage 100A, 100B zum Einsatz kommen in denen die Strahlen eines Strahlengangs 202 nicht parallel verlaufen. Insbesondere sind Bereiche geeignet, in denen der Strahlengang 202 eine konische Form aufweist.
2 zeigt eine schematische Ansicht einer optischen Anordnung 200. Die optische Anordnung 200 weist einen Strahlengang 202, eine Blendenanordnung 204 und eine Positioniereinrichtung 206 auf.
Der Strahlengang 202 aus Projektionslicht 208 bildet lithographische Strukturen 210 aus einer Objektebene 212, in welcher die Photomaske 120 angeordnet ist, auf eine Bildebene 214, in welcher der Wafer 124 angeordnet ist, ab. 2 zeigt, wie ein Objektpunkt 216 auf einen Bildpunkt 218 abgebildet wird. Der Verlauf des Strahlengangs 202 wird symbolisch mittels einer Linse 220 vereinfacht dargestellt. Weiter umfasst der Strahlengang 202 eine optische Achse 222.
Die optische Achse 222 verläuft in der Richtung des Strahlengangs 202. Bei einem konischen Strahlengang 202 kann die Richtung des Strahlengangs 202 in der Mitte der konischen Strahlung verlaufen.
Die Blendenanordnung 204 weist mindestens eine lichtbeschränkende Kante 224 auf. Die lichtbeschränkende Kante 224 begrenzt den Strahlengang 202. Wie in der 2 zu sehen ist, werden erste Strahlen 226 des Strahlengangs 202 des Projektionslichts 208 geblockt während zweite Strahlen 228 des Strahlengangs 202 des Projektionslichts 208 an der lichtbeschränkenden Kante 224 vorbeiführen. Dabei sind die zweiten Strahlen 228 die äußersten Strahlen des Strahlengangs 202 die nicht geblockt werden.
Die zweiten Strahlen 228 und die optische Achse 222 bilden einen Winkel α. Über den Winkel a lässt sich die numerische Apertur NA berechnen. Dabei gilt: NA = n·sinα. Dabei ist n der Brechungsindex des Mediums zwischen Objektiv, bzw. in 2 der Linse 220, und dem Wafer 124. Die numerische Apertur beschreibt das Vermögen der optischen Anordnung 200 Projektionslicht 208 zu fokussieren und ist somit eine die Auflösung begrenzende physikalische Größe. Die optische Anordnung 200 kann im Vakuum angeordnet sein. Der Wafer 124 wird meist außerhalb des Vakuums angeordnet. Daher befindet sich zwischen der Linse 220 (bzw. dem Objektiv) und dem Wafer 124 Luft mit einem Brechungsindex von nahezu 1.
Die Positioniereinrichtung 206 ist eingerichtet, die lichtbeschränkende Kante 224 entlang der optischen Achse 222 zu bewegen. In 2 entspricht die Bewegung entlang der optischen Achse 222 einer linearen Bewegung in Z-Richtung.
In der optischen Anordnung 200 kann es Bereiche geben, in denen das Projektionslicht 208 (genauer das Strahlenbündel des Strahlengangs 202) parallel, konvergent (auf ein Zentrum zu) oder divergent (von einem Zentrum weg) verläuft. Aufgrund des in der 2 gezeigten konvergenten Strahlengangs 202 in dem Bereich der Blendenanordnung 204, führt eine Bewegung der lichtbeschränkende Kante 224 entlang der optischen Achse 222 zu einer Änderung des Winkels α und damit zu einer Änderung der numerischen Apertur der Blendenanordnung 204.
Die Positioniereinrichtung 206 kann über eine mechanische Verbindung 230 mit der Blendenanordnung 204 gekoppelt sein. Alternativ kann die Blendenanordnung 204 mittels der Positioniereinrichtung 206 auch magnetisch bewegt werden. Die Positioniereinrichtung 206 kann zumindest einen Lorentz-Aktor oder zumindest einen Piezo-Aktor aufweisen. Der Lorentz-Aktor weist eine oder mehrere Spulen auf, um auf die Blendenanordnung eine Lorentz-Kraft auszuüben.
Der Strahlengang 202 kann sich innerhalb der optischen Anordnung 200 verschieben. Eine solche Verschiebung könnte sich bei einer Änderung der Beleuchtungseinstellungen im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 ergeben. Bei einer Verschiebung des Strahlengangs 202 verläuft der Strahlengang 202 räumlich versetzt in der optischen Anordnung 200. Deshalb kann die Positioniereinrichtung 206 eingerichtet sein, eine Verschiebung des Strahlengangs 202 innerhalb der optischen Anordnung 200 ausgleichen. Dementsprechend kann dann die Blendenanordnung 204 in allen Raumrichtungen entsprechend positioniert werden.
3 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren optischen Anordnung 200. Die optische Anordnung 200 weist ferner ein optisches Element 300 auf. Dabei umfasst das optische Element 300 eine Oberfläche 302 mit einer Flächennormalen 304, welche von der Position auf der Oberfläche 302 abhängt. Die optische Achse 222 und die Flächennormale 304 können parallel sein. In diesem Fall entspricht eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante 224 entlang der optischen Achse 222 einer Bewegung entlang der Flächennormalen 304.
Alternativ kann eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante 224 in einer anderen Richtung als parallel zur Flächennormalen 304 an einer bestimmten Position auf der Oberfläche 302 günstiger sein. Dabei ist diejenige Richtung günstig, welche einen möglichst geringen Verfahrweg der Blendenanordnung 204 zum Ändern der numerischen Apertur erlaubt. Ein möglichst geringer Verfahrweg lässt sich in einem Bereich des Strahlengangs 202 realisieren, welcher stark divergent oder stark konvergent ist, weil dann bereits eine geringe Bewegung eines Blendenelements 314 zu einer starken Begrenzung des Strahlengangs 202 führt.
Die optische Anordnung 200 kann ferner ein weiteres optisches Element 306 aufweisen. Das weitere optische Element 306 ist bezogen auf den Strahlengang 202 hinter dem ersten optischen Element 300 angeordnet. Die Blendenanordnung 204 ist zwischen dem optischen Element 300 und dem weiteren optischen Element 306 angeordnet. Wie in 3 dargestellt, kann das optische Element 300 der vorletzte Spiegel 308 und das weitere optische Element 306 der letzte Spiegel 310 eines Projektionssystems 104 sein. Dabei bezieht sich die Angabe vorletzter und letzter auf die Anordnung der Spiegel 308, 310 im Strahlengang 202 vor dem Wafer 124.
Wie in 3 dargestellt, kann der Strahlengang 202 eine konische Form 312 aufweisen. Dadurch bewirkt eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante 224 entlang der optischen Achse 222 bzw. entlang der Flächennormalen 304 eine Änderung der numerischen Apertur.
Die Blendenanordnung 204 kann mehrere Blendenelemente 314 aufweisen. Insbesondere kann die Blendenanordnung 204 zwei, drei, vier, fünf oder sechs Blendenelemente 314 aufweisen. Jedes Blendenelement 314 kann jeweils eine lichtbeschränkende Kante 224 umfassen.
Die Blendenelemente 314 können einzeln entlang der optischen Achse 222 bzw. entlang der Flächennormalen 304 bewegt werden. Daher können die Blendenelemente 314 relativ zueinander entlang der der optischen Achse 222 bzw. entlang der Flächennormalen 304 beweglich sein. Es können aber auch mehrere Blendenelemente zusammen bewegt werden.
Weiter kann mindestens ein Blendenelement 314 fest mit der Lithographieanlage 100A verbunden sein, beispielsweise mit dem Tragrahmen der Lithographieanlage 100A. Demnach ändert das mindestens eine Blendenelement 314 seine relative Position gegenüber der Lithographieanlage 100A nicht.
Die Blendenelemente 314 können gleichförmig (in Amplitude und Richtung) bewegt werden. In einer weiteren Alternative kann eine nicht gleichförmige Bewegung (in Amplitude und Richtung) für die Blendenelemente 314 notwendig sein.
Beispielsweise für anamorphotische Abbildungssysteme sind Blendenanordnungen 204 geeignet, welche keine durchgehende geometrische Form aufweisen. Blendenanordnungen 204 bei denen die lichtbeschränkenden Kanten 224 nicht zusammen hängen, werden auch „Split-Stop“-Blendenanordnungen 204 genannt.
Zusätzlich können die Blendenelemente 314 auch lateral, d.h. in einer Richtung senkrecht zur optischen Achse verschoben werden.
4A zeigt eine schematische Ansicht der in der 3 dargestellten Blendenanordnung 204 aus der Richtung der optischen Achse 222. Demnach ist die Richtung der optischen Achse 222 senkrecht zur Zeichenebene XY. Wie in 4A gezeigt, begrenzen vier Blendenelemente 314 den Strahlengang 202. Dabei sind die Blendenelemente 314 in der Richtung senkrecht zur Zeichenebene XY versetzt zueinander (siehe 3). Alternativ sind die Blendenelemente 314 in der Richtung senkrecht zur Zeichenebene XY nicht versetzt zueinander.
Die lichtbeschränkenden Kanten 224 der Blendenelemente 314 bilden eine Blendenöffnung 400. Prinzipiell sind zwei Blendenelemente 314 mit jeweils einer lichtbeschränkenden Kante 224 ausreichend, um eine Blendenöffnung 400 für eine Blendenanordnung 204 zu definieren.
Die Blendenöffnung 400 kann eine Form 402, eine Größe 404 und eine Fläche 406 aufweisen. Dabei ist die Form 402 die geometrische Form der Blendenöffnung 400 aus der Richtung der optischen Achse 222 betrachtet. In 4A besitzt die Blendenöffnung 400 eine kreisförmige Form 402. Die Größe 404 kann bei kreisförmigen Blendenöffnungen 400 über den Abstand vom Mittelpunkt der Blendenöffnung 400 bis zu einer lichtbeschränkenden Kante 224 bestimmt werden. Bei Blendenöffnungen 400, welche von der kreisförmigen Form abweichen, ist die Berechnung der Größe 404 nur über mehrere verschiedene Abstände vom Mittelpunkt bis zu einer lichtbeschränkenden Kante 224 berechenbar. Weiter ist die Fläche 406 der Blendenöffnung 400 die Fläche 406, welche die lichtbeschränkenden Kanten 224 in Bewegungsrichtung entlang der optischen Achse 222 begrenzen. Dabei kann die Blendenöffnung in der Form 402, der Größe 404 und/oder der Fläche 406 konstant bleiben.
Der Strahlengang 202 verläuft in den dargestellten Beispielen innerhalb der Blendenöffnung 400. Genauer verläuft der Teil der Strahlung des Strahlengangs 202 innerhalb der Blendenöffnung 400, welcher nicht durch die lichtbeschränkenden Kanten 224 der Blendenelemente 314 abgeschattet wird.
4B zeigt eine schematische Ansicht einer alternativen Blendenanordnung 204 zu der in der 4A dargestellten Blendenanordnung 204. Wie in 4B dargestellt, können die Ausdehnungen des Strahlengangs in X- und Y-Richtung unterschiedlich sein. Die Form 402 der Öffnung 400 der Blendenanordnung 204 kann in einem solchen Fall beispielsweise oval sein. Weiter kann die Form 402 der Öffnung 400 auch beliebig anders geformt sein.
5A zeigt eine schematische Ansicht einer alternativen Blendenanordnung 204 zu der in der 4A dargestellten Blendenanordnung 204. Im Gegensatz zu der in der 4A dargestellten Blendenanordnung 204 sind in der Blendenanordnung 204, welche in der 5A dargestellt ist, die lichtbeschränkenden Kanten 224 der Blendenöffnung 400 in der XY-Ebene nichtzusammenhängend angeordnet. In der Richtung der optischen Achse 222 sind die lichtbeschränkenden Kanten 224 versetzt oder nicht versetzt.
Die lichtbeschränkenden Kanten 224 blockieren einen Teil des Projektionslichts 208. Das Projektionslicht 208 liegt in einem Wellenlängenbereich von 0,1 nm bis 250 nm. Vorteilhafterweise sind die lichtbeschränkenden Kanten 224 daher gegenüber dem Projektionslicht 208 widerstandsfähig, d.h. die Kanten werden durch das Projektionslicht 208 nicht beschädigt.
5B zeigt eine schematische Ansicht einer alternativen Blendenanordnung 204 zu der in der 5A dargestellten Blendenanordnung 204. Wie in 5B dargestellt, können die Ausdehnungen des Strahlengangs in X- und Y-Richtung unterschiedlich sein. Die Anordnung und Geometrie der Blendenelemente 314 können in einem solchen Fall angepasst sein.
6 zeigt eine schematische Schnittansicht der Blendenanordnung 204 aus 3 aus einer Richtung senkrecht zur optischen Achse 222. Die Positioniereinrichtung 206 kann ein erstes Positionierelement 600 und ein zweites Positionierelement 602 aufweisen. Dabei können die Positionierelemente 600, 602 über mechanische Verbindungen 230 mit den Blendenelementen 314 verbunden sein. Auf diese Weise kann jedes Blendenelement 314 separat bewegt werden. Dabei sind Positionierelemente 600, 602 Einrichtungen, welche die Blendenelemente 314 in bis zu sechs Freiheitsgraden positionieren können.
Mindestens eines der Blendenelemente 314 kann ausschließlich entlang der optischen Achse 222 bewegbar sein, um die Komplexität der optischen Anordnung 200 zu reduzieren. Weiter kann zumindest eine lichtbeschränkende Kante 224 ausschließlich linear in einer Richtung, d.h. ohne Richtungsänderung, bewegbar sein.
Werden die Blendenelemente 314 nur in Richtung der optischen Achse 222 bewegt, dann ändert sich ihr Abstand in Richtung senkrecht zur optischen Achse 222 nicht. Dabei bedeutet in Richtung der optischen Achse 222, das die Blendenelemente 314 parallel zur optischen Achse 222 bewegt werden. Damit begrenzen die Blendenelemente 314 in der Richtung entlang der optischen Achse 222 eine konstante Fläche 406.
Die optische Anordnung 200 kann mindestens einen Sensor 604 zum Messen der Position zumindest eines Blendenelements 314 und zum Bestimmen des Verlaufs des Strahlengangs 202 aufweisen. Weiter kann die optische Anordnung 200 eine Steuereinrichtung 606 zum Anpassen einer Position des zumindest einen Blendenelements 314 in Abhängigkeit von dem bestimmten Verlauf des Strahlengangs 202 umfassen. Dabei ist die Steuereinrichtung 606 mit dem Sensor 604 und mit der Positioniereinrichtung 206 verbunden.
7 zeigt eine schematische Schnittansicht der Blendenanordnung aus 6 mit einem verschobenen Blendenelement 314. Dabei ist das Blendenelement 314 entlang der optischen Achse 222, also in Z-Richtung, verschoben. Wie in der 7 zu erkennen ist, wird der Strahlengang 202 dadurch weiter begrenzt. Dies führt zu einer Änderung der numerischen Apertur der Blendenanordnung 204.
8 zeigt eine schematische Ansicht einer weiteren optischen Anordnung 200. Im Gegensatz zu der in der 3 dargestellten optischen Anordnung 200 ist bei der in der 8 dargestellten optischen Anordnung 200 die Blendenanordnung 204 an einer anderen Stelle im Strahlengang 202 angeordnet.
Der Wafer 124 ist bezogen auf den Strahlengang 202 hinter dem weiteren optischen Element 306 angeordnet. Die Blendenanordnung 204 ist zwischen dem weiteren optischen Element 306 und dem Wafer 124 angeordnet. Insbesondere kann die Blendenanordnung 204 in allen Bereichen angeordnet werden in denen der Strahlengang 202 divergent oder konvergent verläuft.
Die Blendenanordnung 204 kann ferner zum Abschatten von Streulicht eingerichtet sein, um eine nicht gewünschte Belastung von Elementen der Lithographieanlage 100A zu vermeiden.
Weiter wird ein Verfahren zum Ändern einer numerischen Apertur einer Blendenanordnung 204 einer optischen Anordnung 200 für eine Lithographieanlage 100A, 100B beschrieben. Dabei wird mindestens eine lichtbeschränkende Kante 224 einer Blendenanordnung 204 verschoben. Wie beispielsweise anhand von 3 beschrieben, wird die lichtbeschränkende Kante 224 entlang einer optischen Achse 222 eines Strahlengangs 202 für Projektionslicht (208) bewegt. Wie beispielsweise in den 2 und 3 beschrieben, handelt es sich um einen Strahlengang 202 mit nicht parallelen Strahlen. Insbesondere verläuft der Strahlengang konisch. Daher führt eine Bewegung der lichtbeschränkenden Kante 224 entlang der optischen Achse 222 zu einer Änderung der numerischen Apertur.
Obwohl die Erfindung vorliegend anhand bevorzugter Ausführungsbeispiele beschrieben wurde, ist sie darauf keineswegs beschränkt, sondern vielfältig modifizierbar. Beispielsweise könnte die Positioniereinrichtung 206 die mindestens eine lichtbeschränkende Kante 224 linear in eine Richtung bewegen, so dass zumindest eine Komponente der Richtung entlang der optischen Achse 222 verläuft. Sofern von „beweglich“ oder „bewegbar“ gesprochen wird, impliziert dies auch eine Durchführung der jeweiligen Bewegung bei einem entsprechenden Verfahren zum Betreiben der jeweiligen Anordnung.
Bezugszeichenliste

100A: EUV-Lithographieanlage
100B: DUV-Lithographieanlage
102: Strahlformungs- und Beleuchtungssystem
104: Projektionssystem
106A: EUV-Lichtquelle
106B: DUV-Lichtquelle
108A: EUV-Strahlung
108B: DUV-Strahlung
110–118: Spiegel
120: Photomaske
122: Spiegel
124: Wafer
126: optische Achse
128: Linse
130: Spiegel
132: Immersionsflüssigkeit
200: optische Anordnung
202: Strahlengang
204: Blendenanordnung
206: Positioniereinrichtung
208: Projektionslicht
210: lithographische Strukturen
212: Objektebene
214: Bildebene
216: Objektpunkt
218: Bildpunkt
220: Linse
222: optische Achse
224: lichtbeschränkende Kante
226: erste Strahlen
228: zweite Strahlen
230: mechanische Verbindung
300: optisches Element
302: Oberfläche
304: Flächennormale
306: weiteres optisches Element
308: vorletzte Spiegel
310: letzter Spiegel
312: konische Form
314: Blendenelement
400: Blendenöffnung
402: Form
404: Größe
406: Fläche
600: erstes Positionierelement
602: zweites Positionierelement
604: Sensor
606: Steuereinrichtung
M1–M6: Spiegel
α: Winkel
X, Y, Z: Richtung

Claims

Optische Anordnung (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend: einen Strahlengang (202) für Projektionslicht (208) zum Abbilden von lithographischen Strukturen (210), wobei der Strahlengang (202) eine optische Achse (222) umfasst; eine Blendenanordnung (204) mit mindestens einer lichtbeschränkenden Kante (224) zum Begrenzen des Strahlengangs (202); und eine Positioniereinrichtung (206), welche eingerichtet ist, die mindestens eine lichtbeschränkende Kante (224) entlang der optischen Achse (222) zum Ändern einer numerischen Apertur der Blendenanordnung (204) zu bewegen.
Optische Anordnung nach Anspruch 1, ferner aufweisend ein optisches Element (300), wobei die Bewegung entlang der optischen Achse (222) eine Bewegung entlang einer Flächennormalen (304) einer Oberfläche (302) des optischen Elements (300) umfasst.
Optische Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Blendenanordnung (204) mehrere Blendenelemente (314), insbesondere drei Blendenelemente (314), mit jeweils einer lichtbeschränkenden Kante (224) aufweist.
Optische Anordnung nach Anspruch 3, wobei die Blendenelemente (314) getrennt voneinander und relativ zueinander entlang der optischen Achse (222) beweglich sind.
Optische Anordnung nach Anspruch 3 oder 4, wobei zumindest ein Blendenelement (314) ortsfest verbunden ist.
Optische Anordnung nach einem der Ansprüche 3 bis 5, wobei zumindest ein Blendenelement (314) ausschließlich entlang der optischen Achse (222) zum Ändern der numerischen Apertur der Blendenanordnung (204) beweglich ist, und wobei die mindestens eine lichtbeschränkende Kante (224) ausschließlich linear in einer Richtung beweglich ist.
Optische Anordnung nach einem der Ansprüche 3 bis 6, wobei zumindest zwei Blendenelemente (314) beweglich sind, und die zumindest zwei beweglichen Blendenelemente (314) in einer Bewegungsrichtung entlang der optischen Achse (222) eine konstante Fläche (406) begrenzen.
Optische Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei der Strahlengang (202) eine konische Form (312) aufweist.
Optische Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die mindestens eine lichtbeschränkende Kante (224) widerstandsfähig gegenüber dem Projektionslicht (208) im Wellenlängenbereich von 0,1 nm bis 250 nm ist.
Optische Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei die Blendenanordnung (204) eine Blendenöffnung (400) aufweist, welche durch mindestens zwei lichtbeschränkende Kanten (224) gebildet ist.
Optische Anordnung nach Anspruch 10, wobei mindestens zwei lichtbeschränkende Kanten (224) der Blendenöffnung (400) nichtzusammenhängend angeordnet sind.
Optische Anordnung nach Anspruch 10, wobei die Blendenöffnung (400) in Form (402), Größe (404) und/oder Fläche (406) konstant ist.
Optische Anordnung nach einem der Ansprüche 10 bis 12, wobei der Strahlengang (202) innerhalb der Blendenöffnung (400) verläuft.
Lithographieanlage (100A, 100B) mit einer optischen Anordnung (200) nach einem der Ansprüche 1 bis 13.
Verfahren zum Ändern einer numerischen Apertur einer Blendenanordnung (204) einer optischen Anordnung (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), wobei mindestens eine lichtbeschränkende Kante (224) einer Blendenanordnung (204) entlang einer optischen Achse (222) eines Strahlengangs (202) für Projektionslicht (208) zum Ändern der numerischen Apertur bewegt wird.