DE102016114282A1 - Processing arrangement and method - Google Patents

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Michael Hentschel
Hubertus VON DER WAYDBRINK
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    • C23C14/58—After-treatment
    • C23C14/5806—Thermal treatment

Abstract

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung (100a bis 800a) Folgendes aufweisen: einen Bestrahlungsbereich (308b); eine Bestrahlungsvorrichtung (308) zum Emittieren von elektromagnetischer Strahlung in den Bestrahlungsbereich (308b); eine Transportvorrichtung (508t) zum Transportieren mehrerer Substrate durch den Bestrahlungsbereich (308b) hindurch; und eine Abschattungsvorrichtung (106), welche mehrere Strahlungshindernisse (106h) aufweist, welche entlang eines Pfades beweglich gelagert sind, der zwischen der Bestrahlungsvorrichtung (308) und der Transportvorrichtung (508t) verläuft.According to various embodiments, a processing arrangement (100a to 800a) may include: an irradiation area (308b); an irradiation device (308) for emitting electromagnetic radiation into the irradiation region (308b); a transport device (508t) for transporting a plurality of substrates through the irradiation area (308b); and a shading device (106) having a plurality of radiation obstacles (106h) movably supported along a path extending between the irradiation device (308) and the transport device (508t).

Description

Die Erfindung betrifft eine Prozessieranordnung und ein Verfahren. The invention relates to a processing arrangement and a method.

Im Allgemeinen kann ein Substrat, beispielsweise ein Glassubstrat, ein Metallsubstrat und/oder ein Polymersubstrat, behandelt (prozessiert), z.B. beschichtet werden, so dass die chemischen und/oder physikalischen Eigenschaften des Substrats verändert werden können. Beispielsweise kann eine Vakuumbeschichtungsanlage genutzt werden, um eine Schicht oder mehrere Schichten mittels eines Beschichtungsprozesses auf einem Substrat abzuscheiden und/oder mittels eines thermischen Bestrahlungsprozesses zu verändern. Um ein großflächiges thermisches Behandeln von entsprechend vielen Substraten effizient zu realisieren, kann eine sogenannt In-Line-Anlage genutzt werden, bei der mehrere Substrate aneinandergereiht beispielsweise mittels eines Transportbandes durch die gesamte Anlage transportiert wird, wobei während des Transports des Substrats in einem oder mehreren Bereichen der In-Line-Anlage ein Beschichtungsprozess und/oder eine thermische Bestrahlungsprozess durchgeführt werden kann. In general, a substrate, for example a glass substrate, a metal substrate and / or a polymer substrate, may be treated (processed), e.g. be coated so that the chemical and / or physical properties of the substrate can be changed. For example, a vacuum coating system can be used to deposit a layer or multiple layers on a substrate by means of a coating process and / or to modify them by means of a thermal irradiation process. In order to efficiently realize a large-area thermal treatment of a corresponding number of substrates, a so-called in-line system can be used, in which several substrates are strung together, for example by means of a conveyor belt through the entire system, wherein during transport of the substrate in one or more A coating process and / or a thermal irradiation process can be carried out in areas of the in-line plant.

Aufgrund der flächigen Bestrahlung wird neben den Substraten häufig auch das Transportband um die Substrate herum bestrahlt, wodurch dieses erwärmt wird. Weiterhin weisen die Kanten der Substrate meist inhomogene optische Eigenschaften auf, so dass dort eine erhöhte Absorption der thermischen Bestrahlung erfolgt. Dies kann zu einer inhomogenen Erwärmung der Substrate führen, z.B. kann der Randbereich dieser überwärmt werden. Due to the planar irradiation, in addition to the substrates, the conveyor belt is often irradiated around the substrates, as a result of which it is heated. Furthermore, the edges of the substrates usually have inhomogeneous optical properties, so that there is an increased absorption of the thermal radiation. This can lead to inhomogeneous heating of the substrates, e.g. The edge area of this can be overheated.

Herkömmlicherweise werden in Transportrichtung ein oder mehrere permanent verbaut Abdeckleisten verwendet, welche die Kanten der Substrate in Transportrichtung zumindest teilweise abschirmen. Zusätzlich werden die Substrate so nah wie möglich aneinander angeordnet, um zum einen eine möglichst große Substratdichte zu erreichen und zum anderen das Transportband mit dem Substratkörper selbst vor der thermischen Bestrahlung abzuschirmen. Conventionally, one or more permanently installed cover strips are used in the transport direction, which at least partially shield the edges of the substrates in the transport direction. In addition, the substrates are arranged as close to each other as possible in order, on the one hand, to achieve the greatest possible substrate density and, on the other hand, to shield the conveyor belt from the substrate body itself prior to thermal irradiation.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wurde erkannt, dass aufgrund des Transports der Substrate der minimal erreichbare Abstand zwischen den Substraten begrenzt ist, so dass anschaulich selbst bei größter Sorgfalt kleine Lücken zwischen den Substraten verbleiben, durch welche hindurch das Transportband an den Kanten der Substrate aufgeheizt wird. Dies führt zu einer inhomogenen Erwärmung der behandelten Substrate (anschaulich ein Überheizen der Körperkannten), welche eine Verformung der behandelten Substrate bewirken kann, z.B. eine Krümmung der Substrate in Form einer Schüssel (auch als aufschlüsseln bezeichnet). According to various embodiments, it has been recognized that due to the transport of the substrates, the minimally achievable distance between the substrates is limited, so that vividly even with the utmost care small gaps remain between the substrates, through which the conveyor belt is heated at the edges of the substrates. This leads to an inhomogeneous heating of the treated substrates (clearly an overheating of the body edges), which can cause a deformation of the treated substrates, e.g. a curvature of the substrates in the form of a bowl (also referred to as aufschlüsseleln).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen werden eine Prozessieranordnung und eine Verfahren bereitgestellt, welche eine inhomogene Erwärmung der bestrahlten Substrate verringern. According to various embodiments, a processing arrangement and a method are provided which reduce inhomogeneous heating of the irradiated substrates.

Anschaulich wird gemäß verschiedenen Ausführungsformen eine Abschattungsvorrichtung mit beweglichen Strahlungshindernissen und ein Verfahren zum Betreiben dieser bereitgestellt, mittels denen die Lücken (Spalten) zwischen den behandelten Substraten gegenüber dem thermischen Bestrahlen abgeschirmt werden können. Zwischen den Strahlungshindernissen kann die Abschattungsvorrichtung ausreichend große Durchgangsöffnungen aufweisen, durch welche hindurch ein Bestrahlen der Substrate erfolgen kann. Anschaulich können die Strahlungshindernisse einen Rahmen bereitstellen, welcher den Rand eines Substrats abschattet. Illustratively, according to various embodiments, there is provided a shadowing device with mobile radiation obstacles and a method of operating the same by means of which the gaps (gaps) between the treated substrates can be shielded from the thermal irradiation. Between the radiation obstacles, the shading device can have sufficiently large passage openings through which the substrates can be irradiated. Clearly, the radiation obstacles can provide a frame which shades off the edge of a substrate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Abschattungsvorrichtung ein vorgegebenes Raster an Montagepositionen für die Strahlungshindernisse aufweisen, so dass der Abstand zwischen einander benachbarten Strahlungshindernissen an die Länge der jeweils zu behandelten Substrate angepasst sein oder werden kann. According to various embodiments, the shading device may have a predetermined grid of mounting positions for the radiation obstacles, so that the distance between adjacent radiation obstacles may or may be adjusted to the length of the respective substrates to be treated.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung Folgendes aufweisen: einen Bestrahlungsbereich; eine Bestrahlungsvorrichtung zum Emittieren von elektromagnetischer Strahlung in den Bestrahlungsbereich; eine Transportvorrichtung zum Transportieren mehrerer Substrate durch den Bestrahlungsbereich hindurch (z.B. entlang einer Transportrichtung und/oder mit einer Transportgeschwindigkeit); und eine Abschattungsvorrichtung, welche mehrere Strahlungshindernisse aufweist, welche entlang eines Pfades beweglich gelagert sind (z.B. mit einer Bewegungsgeschwindigkeit), der zwischen der Bestrahlungsvorrichtung und der Transportvorrichtung verläuft, durch den Bestrahlungsbereich hindurch verläuft (z.B. entlang der Transportvorrichtung und/oder der Transportrichtung). According to various embodiments, a processing arrangement may include: an irradiation area; an irradiation device for emitting electromagnetic radiation into the irradiation region; a transport device for transporting a plurality of substrates through the irradiation area (e.g., along a transport direction and / or at a transport speed); and a shading device having a plurality of radiation obstacles movably supported along a path (e.g., at a moving speed) passing between the irradiation device and the transporting device through the irradiation region (e.g., along the transporting device and / or the transporting direction).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportvorrichtung ein Transportband aufweisen. Das Transportband kann beispielsweise eine Transportfläche bereitstellen, auf welcher die Substrate aufgelegt sein oder werden können, z.B. während des Transports. Die Transportfläche kann entlang der Transportrichtung aufgespannt sein oder werden. According to various embodiments, the transport device may comprise a conveyor belt. For example, the conveyor may provide a transport surface on which the substrates may be laid up, e.g. during transportation. The transport surface can be stretched or become along the transport direction.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung Folgendes aufweisen: einen Bestrahlungsbereich; eine Bestrahlungsvorrichtung zum Emittieren von elektromagnetischer Strahlung in den Bestrahlungsbereich; ein Transportband zum Transportieren mehrerer Substrate durch den Bestrahlungsbereich hindurch (z.B. entlang einer Transportrichtung und/oder mit einer Transportgeschwindigkeit); und eine Abschattungsvorrichtung, welche mehrere Strahlungshindernisse aufweist, welche entlang eines Pfades beweglich gelagert sind (z.B. mit einer Bewegungsgeschwindigkeit), der zwischen der Bestrahlungsvorrichtung und dem Transportband verläuft, durch den Bestrahlungsbereich hindurch verläuft (z.B. entlang des Transportbands und/oder der Transportrichtung). According to various embodiments, a processing arrangement may include: an irradiation area; a Irradiation device for emitting electromagnetic radiation into the irradiation area; a conveyor belt for transporting a plurality of substrates through the irradiation area (eg along a transport direction and / or at a transport speed); and a shading device having a plurality of radiation obstacles movably supported along a path (eg, at a moving speed) passing between the irradiation device and the conveyor belt, passing through the irradiation area (eg along the conveyor belt and / or the transport direction).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung ferner aufweisen: eine Steuerung, welche zum Steuern einer Relativposition eines Strahlungshindernisses der mehreren Strahlungshindernisse und der Transportvorrichtung (z.B. des Transportbands) eingerichtet ist derart, dass das Strahlungshindernis einen Bereich der Transportvorrichtung (z.B. des Transportbands) gegenüber der Bestrahlungsvorrichtung abschattet, an dem sich zwei Substrate einander gegenüberliegen (welcher z.B. von einem Spalt (auch als Substratlücke bezeichnet) zwischen den zwei Substraten freigelegt ist). According to various embodiments, the processing arrangement may further comprise: a controller configured to control a relative position of a radiation obstacle of the plurality of radiation obstacles and the transport device (eg, the conveyor belt) such that the radiation obstacle shadows an area of the transport device (eg, the conveyor belt) from the irradiation device where two substrates face each other (which, for example, is exposed by a gap (also referred to as a substrate gap) between the two substrates).

Anschaulich kann die Steuerung zum aneinander Angleichen einer Position der mehreren Strahlungshindernisse und der Substratlücken zueinander eingerichtet sein. Zumindest einige (z.B. die in Transportrichtung transportieren) Strahlungshindernisse der mehreren Strahlungshindernisse können jedes über einer Substratlücke angeordnet sein oder werden. Mit anderen Worten können einige Strahlungshindernisse jeweils zwischen einem Spalt und der Bestrahlungsvorrichtung angeordnet sein oder werden, z.B. im Bezugssystem der mehreren Substrate. Clearly, the controller may be adapted to match a position of the plurality of radiation obstacles and the substrate gaps with each other. At least some of the radiation obstacles of the plurality of radiation obstacles (e.g., transporting in the transport direction) may or may not be disposed over a substrate gap. In other words, some radiation obstacles may each be or may be disposed between a gap and the irradiation device, e.g. in the frame of reference of the several substrates.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Steuerung ferner zum Steuern einer Differenz zwischen der Bewegungsgeschwindigkeit und der Transportgeschwindigkeit (auch als Relativgeschwindigkeit bezeichnet) eingerichtet sein derart, dass die Relativgeschwindigkeit kleiner ist als ein Verhältnis aus einer Ausdehnung, welche das Strahlungshindernis in Transportrichtung aufweist, zu einer Zeitspanne, welche das Strahlungshindernis zum Durchlaufen des Bestrahlungsbereich benötigt. Damit kann anschaulich verhindert werden, dass die Strahlungshindernisse die Substrate anschaulich überholen. According to various embodiments, the controller may further be configured to control a difference between the movement speed and the transport speed (also referred to as relative speed) such that the relative speed is less than a ratio of an extent that the radiation obstacle has in the transport direction at a time interval. which requires the radiation barrier to pass through the irradiation area. This can vividly prevent that the radiation obstacles overtake the substrates clearly.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Steuerung ferner zum Steuern einer Relativgeschwindigkeit Transportvorrichtung (z.B. des Transportbands und/oder der Transportrollen bzw. der mittels der Transportvorrichtung transportierten Substrate) und des Strahlungshindernisses zueinander eingerichtet sein derart, dass die Relativgeschwindigkeit kleiner ist als ein Verhältnis aus einer Ausdehnung, welche das Strahlungshindernis in Transportrichtung aufweist, zu einer Zeitspanne, welche das Strahlungshindernis zum Durchlaufen des Bestrahlungsbereich benötigt. Damit kann anschaulich verhindert werden, dass die Strahlungshindernisse die Substrate anschaulich überholen. According to various embodiments, the controller may further be arranged to control a relative speed transport device (eg, the transport belt and / or the transport rollers or the transport means transported by the transport device) and the radiation obstacle to each other such that the relative speed is smaller than a ratio of an expansion, which has the radiation obstruction in the transport direction at a time period which the radiation obstacle needs to pass through the irradiation area. This can vividly prevent that the radiation obstacles overtake the substrates clearly.

Anschaulich kann die Steuerung zum aneinander Angleichen der Transportgeschwindigkeiten der mehreren Strahlungshindernisse und der Transportvorrichtung (z.B. des Transportbands) eingerichtet sein, z.B. derart, dass die Relativgeschwindigkeit zwischen diesen innerhalb des Bestrahlungsbereich minimiert wird, z.B. auf weniger als das Verhältnis. Illustratively, the controller may be configured to match the transport speeds of the plurality of radiation obstacles and the transport device (e.g., the conveyor belt), e.g. such that the relative velocity between them within the irradiation area is minimized, e.g. on less than the ratio.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung ferner Folgendes aufweisen: eine Antriebskopplung, welche die Transportvorrichtung (z.B. das Transportband) und die Abschattungsvorrichtung mechanisch und/oder elektrisch miteinander koppelt, so dass zwischen diesen mittels der Antriebskopplung Antriebsenergie ausgetauscht wird und/oder diesen Antriebsenergie mittels der Antriebskopplung synchron zugeführt wird. According to various embodiments, the processing arrangement may further comprise: a drive coupling which mechanically and / or electrically couples the transport device (eg the conveyor belt) and the shading device so that drive energy is exchanged therebetween by means of the drive coupling and / or this drive energy by means of the drive coupling is supplied synchronously.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann jedes Strahlungshindernis der mehreren Strahlungshindernisse quer zu einer Transportrichtung der Transportvorrichtung (z.B. des Transportbands) längserstreckt sein. Alternativ oder zusätzlich können einander benachbarte Strahlungshindernisse der mehreren Strahlungshindernisse einen Abstand voneinander in Transportrichtung Transportvorrichtung (z.B. des Transportbands) aufweisen (welcher beispielsweise ungefähr der Ausdehnung eines Substrats entspricht). According to various embodiments, each radiation obstacle of the plurality of radiation obstacles may be longitudinally extended transversely to a transport direction of the transport device (e.g., the conveyor belt). Alternatively or additionally, adjacent radiation obstacles of the plurality of radiation obstacles may be spaced from one another in the transport direction of the transport device (e.g., the conveyor belt) (which, for example, corresponds approximately to the extent of a substrate).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann jedes Strahlungshindernis der mehreren Strahlungshindernisse einen Balken aufweisen. According to various embodiments, each radiation obstacle of the plurality of radiation obstacles may have a beam.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Anzahl an Substraten pro Ausdehnung des Bestrahlungsbereiches (in Transportrichtung) gleich einer Anzahl an Strahlungshindernissen pro Ausdehnung des Bestrahlungsbereiches in Transportrichtung entsprechen oder einem Vielfachen davon. According to various embodiments, a number of substrates per extent of the irradiation area (in the transport direction) may equal to a multiple of radiation obstructions per extension of the irradiation area in the transport direction or a multiple thereof.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Abschattungsvorrichtung eine Förderanordnung aufweisen, mittels welcher die mehreren Strahlungshindernisse gelagert sind. According to various embodiments, the shading device may comprise a conveyor arrangement, by means of which the plurality of radiation obstacles are mounted.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Förderanordnung zwei Zugmittel aufweisen, zwischen denen die mehreren Strahlungshindernisse gelagert sind. According to various embodiments, the conveyor arrangement may comprise two traction means, between which the plurality of radiation obstacles are mounted.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Abschattungsvorrichtung ein Raster von Montagepositionen bereitstellen, in denen jedes Strahlungshindernis der mehreren Strahlungshindernisse montierbar ist. According to various embodiments, the shading device may provide a grid of mounting positions in which each radiation obstacle of the plurality of radiation obstacles can be mounted.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Anzahl der Montagepositionen größer sein als die Anzahl der Strahlungshindernisse. According to various embodiments, the number of mounting positions may be greater than the number of radiation obstacles.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Pfad in sich geschlossen sein und einen ersten Abschnitt und einen zweiten Abschnitt aufweisen, wobei der erste Abschnitt zwischen der Bestrahlungsvorrichtung und der Transportvorrichtung (z.B. dem Transportband) angeordnet ist. Alternativ oder zusätzlich kann die Bestrahlungsvorrichtung zwischen dem ersten Abschnitt und dem zweiten Abschnitt angeordnet sein. According to various embodiments, the path may be self-contained and have a first portion and a second portion, the first portion being disposed between the irradiation device and the transport device (e.g., the conveyor belt). Alternatively or additionally, the irradiation device can be arranged between the first section and the second section.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Bestrahlungsvorrichtung eine oder mehrere Strahlungsquellen (z.B. Heizstrahler) aufweisen, welche zum Emittieren von Wärmestrahlung eingerichtet sind. According to various embodiments, the irradiation device may include one or more radiation sources (e.g., radiant heaters) configured to emit heat radiation.

Jede Strahlungsquelle der Bestrahlungsvorrichtung kann beispielsweise einen Elektrowärme-Wandler aufweisen oder daraus gebildet sein (z.B. einen Heizwiderstand). Alternativ kann jede Strahlungsquelle der Bestrahlungsvorrichtung beispielsweise einen Elektrolicht-Wandler aufweisen oder daraus gebildet sein (z.B. eine Gasentladungslampe). For example, each radiation source of the irradiation device may include or be formed of an electro-thermal transducer (e.g., a heating resistor). Alternatively, each radiation source of the irradiation device may include or be formed of, for example, an electric light converter (e.g., a gas discharge lamp).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Bestrahlungsvorrichtung gepulst betrieben werden. Damit können hohe Energiedichten erreicht werden. Alternativ kann die Bestrahlungsvorrichtung kontinuierlich betrieben werden. Damit kann eine höhere Lebensdauer erreicht werden. According to various embodiments, the irradiation device may be pulsed. This high energy densities can be achieved. Alternatively, the irradiation device can be operated continuously. This allows a longer life can be achieved.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung ferner aufweisen: eine Prozessierkammer, in welcher der Bestrahlungsbereich angeordnet ist. According to various embodiments, the processing arrangement may further comprise: a processing chamber in which the irradiation area is arranged.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessierkammer eine Vakuumkammer aufweisen oder daraus gebildet sein, in welcher der Bestrahlungsbereich angeordnet ist. According to various embodiments, the processing chamber may include or be formed from a vacuum chamber in which the irradiation area is disposed.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren zum Bestrahlen von Substraten Folgendes aufweisen: Transportieren von zwei Substraten durch einen Bestrahlungsbereich hindurch mittels einer Transportvorrichtung (z.B. mittels eines Transportbandes); Bestrahlen zumindest eines Substrats der zwei Substrate in dem Bestrahlungsbereich; Abschatten eines Bereichs der Transportvorrichtung (z.B. des Transportbandes), an welchem sich die zwei Substrate gegenüberliegen, gegenüber dem Bestrahlen mittels eines Strahlungshindernisses, welches gemeinsam mit einer Transportfläche und/oder Transportgeschwindigkeit der Transportvorrichtung (z.B. dem Transportband) in dem oder durch den Bestrahlungsbereich hindurch bewegt wird. According to various embodiments, a method of irradiating substrates may include: transporting two substrates through an irradiation area by means of a transport device (e.g., by a conveyor belt); Irradiating at least one substrate of the two substrates in the irradiation area; Shading of a portion of the transport device (eg the conveyor belt), on which the two substrates are opposite to the irradiation by means of a radiation obstacle, which moves together with a transport surface and / or transport speed of the transport device (eg the conveyor belt) in or through the irradiation area becomes.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren zum Bestrahlen von Substraten Folgendes aufweisen: Transportieren von zwei Substraten durch einen Bestrahlungsbereich hindurch mittels eines Transportbandes; Emittieren von elektromagnetischer Strahlung in den Bestrahlungsbereich hinein; Abschatten eines Bereichs des Transportbandes, an welchem sich die zwei Substrate gegenüberliegen, gegenüber der elektromagnetischen Strahlung mittels eines Strahlungshindernisses, welches gemeinsam mit dem Transportband durch den Bestrahlungsbereich hindurch bewegt wird. According to various embodiments, a method for irradiating substrates may include: transporting two substrates through an irradiation area by means of a conveyor belt; Emitting electromagnetic radiation into the irradiation area; Shading of a region of the conveyor belt, on which the two substrates are opposite, against the electromagnetic radiation by means of a radiation obstacle, which is moved together with the conveyor belt through the irradiation area.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren zum Bestrahlen von Substraten Folgendes aufweisen: Transportieren von zwei Substraten durch einen Bestrahlungsbereich; Bestrahlen zumindest eines Substrats der zwei Substrate in dem Bestrahlungsbereich; Abschatten eines Bereichs zwischen den zwei Substraten gegenüber dem Bestrahlen mittels eines Strahlungshindernisses, welches gemeinsam mit den zwei Substraten durch den Bestrahlungsbereich hindurch bewegt wird. According to various embodiments, a method for irradiating substrates may include: transporting two substrates through an irradiation area; Irradiating at least one substrate of the two substrates in the irradiation area; Shading of a region between the two substrates from radiation by means of a radiation obstacle, which is moved together with the two substrates through the irradiation area.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Strahlungshindernisse ein Metall, eine Keramik oder ein Verbundmaterial aufweisen, z.B. daraus gebildet sein oder eine Beschichtung daraus aufweisen. Alternativ oder zusätzlich können die Strahlungshindernisse Kohlenstoff in einer Kohlenstoffmodifikation (z.B. Graphit oder Fasern) aufweisen, z.B. daraus gebildet sein oder eine Beschichtung daraus aufweisen. Beispielsweise können die Strahlungshindernisse kohlenstofffaserverstärkte Kohlenstoff (CFC) aufweisen oder daraus gebildet sein. According to various embodiments, the radiation obstacles may comprise a metal, a ceramic or a composite material, e.g. be formed therefrom or have a coating thereof. Alternatively or additionally, the radiation obstacles may include carbon in a carbon modification (e.g., graphite or fibers), e.g. be formed therefrom or have a coating thereof. For example, the radiation obstacles may include or be formed from carbon fiber reinforced carbon (CFC).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Transportband ein Metall und/oder ein Gewebe aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. ein Metallgewebe. Alternativ oder zusätzlich kann das Transportband einen Gliedergurt, z.B. einen Runddrahtgliedergurt oder Flachdrahtgliedergurt, aufweisen oder daraus gebildet sein. According to various embodiments, the conveyor belt may comprise or be formed from a metal and / or a fabric, e.g. a metal mesh. Alternatively or additionally, the conveyor belt may comprise a belt, e.g. a Runddrahtgliedergurt or Flachdrahtgliedergurt, have or be formed from it.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Transportband (z.B. dessen Material) eine Schmelztemperatur von mehr als ungefähr 500°C aufweisen. According to various embodiments, the conveyor belt (e.g., its material) may have a melting temperature greater than about 500 ° C.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das oder jedes Substrat eine Oberfläche aufweisen, welche bestrahlt werden soll, wobei eine Durchgangsöffnung zwischen den Strahlungshindernissen einen Querschnitt (parallel zu der Oberfläche) aufweisen kann, welcher mehr als ungefähr 75% (z.B. 80%, 85%, 90%, 95% oder 99%) der Oberfläche entsprechen kann und/oder welcher mehr als ungefähr 75% (z.B. 80%, 85%, 90%, 95% oder 99%) der Ausdehnung der Oberfläche in Transportrichtung und/oder quer zur Transportrichtung aufweisen kann. Die Ausdehnung der Oberfläche in Transportrichtung kann die Länge des Substrats sein. Die Ausdehnung der Oberfläche quer zur Transportrichtung kann die Breite des Substrats sein. Die Ausdehnung der Durchgangsöffnung in Transportrichtung kann der Abstand der einander benachbarten Strahlungshindernisse voneinander sein. According to various embodiments, the or each substrate may have a surface to be irradiated, wherein a Through hole between the radiation obstacles may have a cross section (parallel to the surface), which may correspond to more than about 75% (eg 80%, 85%, 90%, 95% or 99%) of the surface and / or which more than about 75 % (eg 80%, 85%, 90%, 95% or 99%) of the surface in the transport direction and / or may have transversely to the transport direction. The extent of the surface in the transport direction may be the length of the substrate. The extent of the surface transverse to the transport direction may be the width of the substrate. The extent of the passage opening in the transport direction may be the distance of the adjacent radiation obstacles from each other.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Substrat zumindest eines von Folgendem aufweisen oder daraus gebildet sein: eine Keramik, ein Glas, einen Halbleiter (z.B. einen amorphen, polykristallinen oder einkristallinen Halbleiter, z.B. Silizium), ein Metall (z.B. Aluminium, Kupfer, Eisen, Stahl, Platin, Gold, etc.) ein Polymer (z.B. Kunststoff) und/oder eine Mischung verschiedener Materialien, wie z.B. ein Verbundwerkstoff (z.B. Kohlenstofffaser-verstärkter-Kohlenstoff, oder Kohlenstofffaser-verstärkter-Kunststoff). According to various embodiments, the substrate may comprise or be formed of at least one of a ceramic, a glass, a semiconductor (eg an amorphous, polycrystalline or monocrystalline semiconductor, eg silicon), a metal (eg aluminum, copper, iron, steel, Platinum, gold, etc.) a polymer (eg plastic) and / or a mixture of different materials, such as a composite material (e.g., carbon fiber reinforced carbon, or carbon fiber reinforced plastic).

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert. Embodiments of the invention are illustrated in the figures and are explained in more detail below.

Es zeigen Show it

1A und 1B jeweils eine Prozessieranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht; 1A and 1B each a processing arrangement according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view;

2A und 2B jeweils eine Prozessieranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht; 2A and 2 B each a processing arrangement according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view;

3A und 3B jeweils eine Prozessieranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht; 3A and 3B each a processing arrangement according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view;

4A und 4B jeweils eine Prozessieranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht; 4A and 4B each a processing arrangement according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view;

5A und 5B jeweils eine Prozessieranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht; 5A and 5B each a processing arrangement according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view;

6A und 6B jeweils eine Prozessieranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in verschiedenen schematischen Ansichten; 6A and 6B each a processing arrangement according to various embodiments in various schematic views;

7 eine Prozessieranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in verschiedenen schematischen Perspektivansicht; 7 a processing arrangement according to various embodiments in various schematic perspective view;

8A und 8B jeweils eine Prozessieranordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in verschiedenen schematischen Ansichten; und 8A and 8B each a processing arrangement according to various embodiments in various schematic views; and

9 und 10 jeweils ein Verfahren gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem schematischen Ablaufdiagram. 9 and 10 in each case a method according to various embodiments in a schematic flow diagram.

In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa „oben“, „unten“, „vorne“, „hinten“, „vorderes“, „hinteres“, usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert. In the following detailed description, reference is made to the accompanying drawings, which form a part hereof, and in which is shown by way of illustration specific embodiments in which the invention may be practiced. In this regard, directional terminology such as "top", "bottom", "front", "back", "front", "rear", etc. is used with reference to the orientation of the described figure (s). Because components of embodiments can be positioned in a number of different orientations, the directional terminology is illustrative and is in no way limiting. It should be understood that other embodiments may be utilized and structural or logical changes may be made without departing from the scope of the present invention. It should be understood that the features of the various exemplary embodiments described herein may be combined with each other unless specifically stated otherwise. The following detailed description is therefore not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined by the appended claims.

Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe "verbunden", "angeschlossen" sowie "gekoppelt" verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung (z.B. ohmsch und/oder elektrisch leitfähig, z.B. einer elektrisch leitfähigen Verbindung), eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist. In the context of this description, the terms "connected", "connected" and "coupled" are used to describe both a direct and an indirect connection (eg ohmic and / or electrically conductive, eg an electrically conductive connection), a direct or indirect connection and a direct or indirect coupling. In the figures, identical or similar elements are provided with identical reference numerals, as appropriate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Begriff "gekoppelt" oder "Kopplung" im Sinne einer (z.B. mechanischen, hydrostatischen, thermischen und/oder elektrischen), z.B. direkten oder indirekten, Verbindung und/oder Wechselwirkung verstanden werden. Mehrere Elemente können beispielsweise entlang einer Wechselwirkungskette miteinander gekoppelt sein. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann "gekuppelt" im Sinne einer mechanischen (z.B. körperlichen bzw. physikalischen) Kopplung verstanden werden, z.B. mittels eines direkten körperlichen Kontakts. Eine Kupplung kann eingerichtet sein, eine mechanische Wechselwirkung (z.B. Kraft, Drehmoment, etc.) zu übertragen. According to various embodiments, the term "coupled" or "coupling" may be understood in the sense of a (eg mechanical, hydrostatic, thermal and / or electrical), eg direct or indirect, connection and / or interaction. Several elements can For example, be coupled together along an interaction chain. According to various embodiments, "coupled" may be understood in the sense of a mechanical (eg physical or physical) coupling, eg by means of a direct physical contact. A clutch may be configured to transmit a mechanical interaction (eg, force, torque, etc.).

Das Steuern kann verstanden werden als eine beabsichtigte Beeinflussung eines Systems. Dabei kann der Zustand des Systems gemäß einer Vorgabe verändert werden. Regeln kann als Steuern verstanden werden, wobei zusätzlich einer Zustandsänderung des Systems durch Störungen entgegengewirkt wird. Anschaulich kann die Steuerung eine nach vorn gerichtete Steuerstrecke aufweisen und somit anschaulich eine Ablaufsteuerung implementieren, welche eine Eingangsgröße in eine Ausgangsgröße umsetzt. Die Steuerstrecke kann aber auch Teil eines Regelkreises sein, so dass eine Regelung implementiert wird. Die Regelung weist im Gegensatz zu der reinen Vorwärts-Steuerung eine fortlaufende Einflussnahme der Ausgangsgröße auf die Eingangsgröße auf, welche durch den Regelkreis bewirkt wird (Rückführung). Mit anderen Worten kann alternativ oder zusätzlich zu der Steuerung eine Regelung verwendet werden bzw. alternativ oder zusätzlich zu dem Steuern ein Regeln erfolgen. The control can be understood as an intended influencing of a system. The state of the system can be changed according to a specification. Rules can be understood as taxes, with a change of state of the system is additionally counteracted by disturbances. Clearly, the controller may have a forward-looking control path and thus illustratively implement a flow control, which converts an input variable into an output variable. The control path can also be part of a control loop, so that a control is implemented. The control has, in contrast to the pure forward control on a continuous influence of the output variable on the input variable, which is effected by the control loop (feedback). In other words, as an alternative or in addition to the control, a regulation can be used or, alternatively or in addition to the control, a regulation can take place.

Im Rahmen dieser Beschreibung kann ein Metall (auch als metallischer Werkstoff bezeichnet) zumindest ein metallisches Element (d.h. ein oder mehrere metallische Elemente) aufweisen (oder daraus gebildet sein), z.B. zumindest ein Element aus der Folgenden Gruppe von Elementen: Kupfer (Cu), Eisen (Fe), Titan (Ti), Nickel (Ni), Silber (Ag), Chrom (Cr), Platin (Pt), Gold (Au), Magnesium (Mg), Aluminium (Al), Zirkonium (Zr), Tantal (Ta), Molybdän (Mo), Wolfram (W), Vanadium (V), Barium (Ba), Indium (In), Calcium (Ca), Hafnium (Hf), Samarium (Sm), Silber (Ag), und/oder Lithium (Li). Ferner kann ein Metall eine metallische Verbindung (z.B. eine intermetallische Verbindung oder eine Legierung) aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. eine Verbindung aus zumindest zwei metallischen Elementen (z.B. aus der Gruppe von Elementen), wie z.B. Bronze oder Messing, oder z.B. eine Verbindung aus zumindest einem metallischen Element (z.B. aus der Gruppe von Elementen) und mindestens einem nichtmetallischen Element (z.B. Kohlenstoff), wie z.B. Stahl. As used herein, a metal (also referred to as a metallic material) may comprise (or be formed of) at least one metallic element (i.e., one or more metallic elements), e.g. at least one element from the following group of elements: copper (Cu), iron (Fe), titanium (Ti), nickel (Ni), silver (Ag), chromium (Cr), platinum (Pt), gold (Au), Magnesium (Mg), Aluminum (Al), Zirconium (Zr), Tantalum (Ta), Molybdenum (Mo), Tungsten (W), Vanadium (V), Barium (Ba), Indium (In), Calcium (Ca), Hafnium (Hf), samarium (Sm), silver (Ag), and / or lithium (Li). Further, a metal may include or be formed of a metallic compound (e.g., an intermetallic compound or an alloy), e.g. a compound of at least two metallic elements (e.g., the group of elements), e.g. Bronze or brass, or e.g. a compound of at least one metallic element (e.g., the group of elements) and at least one non-metallic element (e.g., carbon), e.g. Stole.

1A veranschaulicht eine Prozessieranordnung 100a gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, z.B. mit Blickrichtung quer zur Bestrahlungsrichtung 105 und quer zur Transportrichtung 101. 1A illustrates a processing arrangement 100a according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view, eg with a view across the direction of irradiation 105 and transverse to the transport direction 101 ,

Die Bestrahlungsvorrichtung 308 kann eingerichtet sein zum Emittieren von elektromagnetischer Strahlung 113 (z.B. Wärmestrahlung 113 und/oder sichtbare Strahlung 113) in den Bestrahlungsbereich 308b (d.h. in diesen hinein und/oder zumindest in Richtung dessen), z.B. in Bestrahlungsrichtung 105. The irradiation device 308 may be arranged to emit electromagnetic radiation 113 (eg heat radiation 113 and / or visible radiation 113 ) in the irradiation area 308b (ie in this and / or at least in the direction of), eg in the direction of irradiation 105 ,

Wärmestrahlung 113 (auch als thermische Strahlung 113 bezeichnet) kann als elektromagnetische Strahlung 113 verstanden werden, die am Ort ihrer Entstehung im thermischen Gleichgewicht mit der Materie ist, welche die Wärmestrahlung emittiert. Die Wärmestrahlung kann eine Wellenlänge aufweisen in einem Bereich von ungefähr 780 nm (Nanometer) bis ungefähr 1 mm (mit anderen Worten Infrarotstrahlung). thermal radiation 113 (also called thermal radiation 113 referred to) as electromagnetic radiation 113 understood to be at the place of their formation in thermal equilibrium with the matter which emits the heat radiation. The thermal radiation may have a wavelength in a range of about 780 nm (nanometers) to about 1 mm (in other words, infrared radiation).

Sichtbare Strahlung 113 (auch als Licht bezeichnet) kann als elektromagnetische Strahlung 113 verstanden werden, die im sichtbaren Wellenlängenbereich liegen kann. Die sichtbare Strahlung 113 kann eine Wellenlänge aufweisen in einem Bereich von ungefähr 780 nm bis ungefähr 380 mm (mit anderen Worten zwischen Infrarotstrahlung und Ultraviolettstrahlung.). Visible radiation 113 (also called light) can be considered electromagnetic radiation 113 be understood, which may be in the visible wavelength range. The visible radiation 113 may have a wavelength in a range of about 780 nm to about 380 mm (in other words, infrared radiation and ultraviolet radiation).

Die Transportvorrichtung 508t, z.B. das Transportband 104 und/oder die Transportrollen 508 (auch als Rollen 508 bezeichnet), kann einen Transportpfad 111 (bzw. eine Transportfläche 111) bereitstellen, entlang dessen ein Substrat 102 oder mehrerer Substrate 102 durch den Bestrahlungsbereich 308b hindurch transportiert werden können. Die mehreren Substrate 102 können beispielsweise ein sogenanntes Substratband 102 (d.h. zu einem Band aneinandergereihte Substrate 102) bilden. The transport device 508T , eg the conveyor belt 104 and / or the transport rollers 508 (also as roles 508 denotes), a transport path 111 (or a transport area 111 ), along which a substrate 102 or more substrates 102 through the irradiation area 308b can be transported through. The several substrates 102 For example, a so-called substrate tape 102 (ie substrates strung together to form a band 102 ) form.

Die Abschattungsvorrichtung 106 kann mehrere Strahlungshindernisse 106h aufweisen, welche entlang eines Pfades 106p (zumindest abschnittsweise in Transportrichtung 101) beweglich gelagert sind. Der Pfad 106p (auch als Bewegungspfad 106p bezeichnet) kann zwischen der Bestrahlungsvorrichtung 308 und dem Transportband 104 verlaufen. Beispielsweise kann ein erster Abschnitt 106a des Pfades 106p, welcher zwischen der Bestrahlungsvorrichtung 308 und dem Transportband 104 angeordnet ist, parallel zur Transportrichtung 101 sein. The shading device 106 can have several radiation obstacles 106h which are along a path 106p (at least in sections in the transport direction 101 ) are movably mounted. The path 106p (also as a movement path 106p designated) may be between the irradiation device 308 and the conveyor belt 104 run. For example, a first section 106a of the path 106p which is between the irradiation device 308 and the conveyor belt 104 is arranged, parallel to the transport direction 101 be.

Die Abschattungsvorrichtung 106 kann beispielsweise ein umlaufendes endloses Metallband (Endlosband) aufweisen, welches mehrere Perforationen (Durchgangsöffnungen) aufweist, die z.B. ungefähr der Substratgröße entsprechen. Zwischen den Durchgangsöffnungen können die Strahlungshindernisse 106h angeordnet sein oder werden. Anschaulich können die nicht perforierten Bereiche die Strahlungshindernisse 106h aufweisen oder daraus gebildet sein (anschaulich Schattenspender). Alternativ oder zusätzlich können die Strahlungshindernisse 106h mittels Balken bereitgestellt sein oder werden, wie nachfolgend genauer beschrieben wird. The shading device 106 For example, may comprise a continuous endless metal strip (endless belt), which has a plurality of perforations (through openings), for example, approximately corresponding to the substrate size. Between the passage openings, the radiation obstacles 106h be arranged or become. Clearly, the non-perforated areas can be the radiation obstacles 106h have or be formed from it (illustrative shade donors). Alternatively or additionally, the radiation barriers 106h be provided by means of bars, as will be described in more detail below.

Mittels des oder jedes Strahlungshindernisses 106h kann ein (zum Beispiel beweglicher) Abschattungsbereich 108 bereitgestellt sein oder werden, welcher den Spalt 102s des Substratbands 102 (d.h. zwischen einander benachbarten Substraten 102) zumindest teilweise (d.h. teilweise oder vollständig) überlappt. Mit anderen Worten kann mittels des oder jedes Strahlungshindernisses 106h ein (zum Beispiel beweglicher) Bereich 104b des Transportbandes 104 (Transportbandbereich 104b) abgeschattet sein oder werden, über welchem ein Spalt 102s zwischen einander benachbarten Substraten 102 angeordnet ist. By means of the or each radiation obstacle 106h can be a (for example, movable) shading area 108 be provided or, which the gap 102s of the substrate tape 102 (ie between adjacent substrates 102 ) overlaps at least partially (ie partially or completely). In other words, by means of the or each radiation obstacle 106h a (for example movable) area 104b of the conveyor belt 104 (Conveyor belt area 104b ) be shaded or over which a gap 102s between adjacent substrates 102 is arranged.

Je nach Typ der Bestrahlungsvorrichtung 308 kann ein Teil der Wärmestrahlung in einem Winkel zur Bestrahlungsvorrichtung 105 emittiert werden. Dann kann der Abschattungsbereich 108 einen Kernschatten und einen Halbschatten aufweisen. Zumindest der Kernschatten kann den Spalt 102s zwischen einander benachbarten Substraten 102 zumindest teilweise (d.h. teilweise oder vollständig) überlappen. Beispielsweise kann mittels des oder jedes Strahlungshindernisses 106h ein (zum Beispiel beweglicher) Bereich 104b des Transportbandes 104 (Transportbandbereich 104b) vollständig (d.h. im Kernschatten liegend) abgeschattet sein oder werden, über welchem ein Spalt 102s zwischen einander benachbarten Substraten 102 angeordnet ist. Der Halbschatten kann das Substrat 102 zumindest teilweise überlappen. Depending on the type of irradiation device 308 For example, part of the heat radiation may be at an angle to the irradiation device 105 be emitted. Then the shading area 108 have a core shadow and a partial shade. At least the core shadow can be the gap 102s between adjacent substrates 102 overlap at least partially (ie partially or completely). For example, by means of the or each radiation obstacle 106h a (for example movable) area 104b of the conveyor belt 104 (Conveyor belt area 104b ) completely (ie lying in the core shadow) be shadowed or, over which a gap 102s between adjacent substrates 102 is arranged. The penumbra can be the substrate 102 at least partially overlap.

Beispielsweise kann der Abschattungsbereich 108 (zum Beispiel dessen Kernschatten) zu mehr als ungefähr 90% den Spalt 102s zwischen einander benachbarten Substraten 102 überlappen. For example, the shading area 108 (For example, its core shadow) to more than about 90% of the gap 102s between adjacent substrates 102 overlap.

Beispielsweise können die Strahlungshindernisse 106h innerhalb des Bestrahlungsbereichs 308 mit Richtung und mit Geschwindigkeit gleich dem Transportband 104 (bzw. gleich einem Bereich des Transportbands 104 innerhalb des Bestrahlungsbereichs 308) bewegt werden, z.B. indem diese direkt mechanisch miteinander gekoppelt sind, z.B. mittels einer Kette, eines Riemens, mittels Zahnräder oder mittels eines Mitnehmers. For example, the radiation obstacles 106h within the irradiation area 308 with direction and with speed equal to the conveyor belt 104 (or equal to an area of the conveyor belt 104 within the irradiation area 308 ) are moved, for example by these are mechanically coupled directly, for example by means of a chain, a belt, by means of gears or by means of a driver.

1B veranschaulicht eine Prozessieranordnung 100b gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, z.B. mit Blickrichtung quer zur Bestrahlungsrichtung 105 und quer zur Transportrichtung 101. 1B illustrates a processing arrangement 100b according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view, eg with a view across the direction of irradiation 105 and transverse to the transport direction 101 ,

Die Prozessieranordnung 100b kann eingerichtet sein wie die Prozessieranordnung 100a. Ferner kann die Prozessieranordnung 100b eine Steuerung 518 aufweisen, welche zum Steuern einer Relativposition eines oder jedes Strahlungshindernisses der mehreren Strahlungshindernisse 106h und des Transportbands 104 zueinander eingerichtet ist. Das Steuern kann derart erfolgen, dass das Strahlungshindernis 106h ein Abschatten 108 des Transportbandbereich 104b gegenüber der Bestrahlungsvorrichtung 308 aufrechterhält, z.B. wenn oder solange der Transportbandbereich 104b (bzw. der Spalt 102s darüber) innerhalb des Bestrahlungsbereichs 308 angeordnet ist. The processing arrangement 100b can be set up like the processing arrangement 100a , Furthermore, the processing arrangement 100b a controller 518 which are for controlling a relative position of one or each radiation obstacle of the plurality of radiation obstacles 106h and the conveyor belt 104 is set up to each other. The control can be such that the radiation barrier 106h a shading 108 the conveyor belt area 104b opposite the irradiation device 308 maintains, for example, if or as long as the conveyor belt area 104b (or the gap 102s above) within the irradiation area 308 is arranged.

Beispielsweise kann die Steuerung 518 einen Sensor aufweisen, welcher zum Ermitteln einer räumlichen Charakteristik (z.B. Position und/oder Geschwindigkeit) des Transportbandes 104 und oder des oder jedes Substrats 102 eingerichtet ist. Alternativ oder zusätzlich kann der Sensor eingerichtet sein zum Ermitteln einer räumlichen Charakteristik (z.B. Position und/oder Geschwindigkeit) des oder jedes Spalts 102s zwischen einander benachbarten Substraten 102. For example, the controller 518 a sensor, which for determining a spatial characteristic (eg position and / or speed) of the conveyor belt 104 and or the or each substrate 102 is set up. Alternatively or additionally, the sensor may be configured to determine a spatial characteristic (eg position and / or speed) of the or each gap 102s between adjacent substrates 102 ,

Beispielsweise kann die Steuerung 518 eingerichtet sein die Bewegung, z.B. den Eintritt in den Bestrahlungsbereich 308b (d.h. in diesen hinein und/oder zumindest in Richtung dessen), eines Strahlungshindernisses 106h und des Spalts 102s (zwischen einander benachbarten Substraten 102) zu synchronisieren. For example, the controller 518 be set up the movement, for example, the entry into the irradiation area 308b (ie in and / or at least in the direction of), a radiation obstacle 106h and the gap 102s (between adjacent substrates 102 ) to synchronize.

2A veranschaulicht eine Prozessieranordnung 200a gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, z.B. mit Blickrichtung quer zur Bestrahlungsrichtung 105 und quer zur Transportrichtung 101. 2A illustrates a processing arrangement 200a according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view, eg with a view across the direction of irradiation 105 and transverse to the transport direction 101 ,

Die Prozessieranordnung 200a kann eingerichtet sein wie die Prozessieranordnung 100a oder die Prozessieranordnung 100b. The processing arrangement 200a can be set up like the processing arrangement 100a or the processing arrangement 100b ,

Die Prozessieranordnung 200a kann eine oder die Steuerung 518 aufweisen. Die Steuerung 518 kann zum Steuern einer Relativgeschwindigkeit des Transportbands und des Strahlungshindernisses 106h zueinander eingerichtet sein. Das oder jedes Strahlungshindernis 106h kann mit einer ersten Geschwindigkeit 106v durch dem Bestrahlungsbereich 308 hindurch oder zumindest in diesem transportiert sein oder werden. Mit anderen Worten kann das oder jedes Strahlungshindernis 106h in dem Bestrahlungsbereich 308 eine erste Geschwindigkeit 106V aufweisen. Das Transportband 104 kann in dem Bestrahlungsbereich 308 eine zweite Geschwindigkeit 104v aufweisen. Die Relativgeschwindigkeit kann die Differenz zwischen der ersten Geschwindigkeit 106v und der zweiten Geschwindigkeit 106v sein. Mit anderen Worten kann die Relativgeschwindigkeit im Bezugsystem des Transportbandbereichs 104b der Geschwindigkeit des Strahlungshindernisses 106h entsprechen. Die zweite Geschwindigkeit 104v kann die Geschwindigkeit sein, mit der die Substrate 102 transportiert werden (auch als Substrattransportgeschwindigkeit 104v bezeichnet). The processing arrangement 200a can be one or the controller 518 exhibit. The control 518 can for controlling a relative speed of the conveyor belt and the radiation obstacle 106h be set up to each other. The or each radiation barrier 106h can at a first speed 106v through the irradiation area 308 be transported through or at least transported in this. In other words, the or each radiation barrier 106h in the irradiation area 308 a first speed 106V exhibit. The conveyor belt 104 can in the irradiation area 308 a second speed 104v exhibit. The relative speed can be the difference between the first speed 106v and the second speed 106v be. In other words, the relative speed in the reference system of the conveyor belt area 104b of the Speed of the radiation obstacle 106h correspond. The second speed 104v may be the speed with which the substrates 102 be transported (also as substrate transport speed 104v designated).

Ferner kann das Strahlungshindernis 106h eine Ausdehnung 106t parallel zur Transportrichtung 101 aufweisen und eine Zeitspanne t zum Durchlaufen des Bestrahlungsbereichs 308 benötigen (d.h. Zeitspanne zwischen Eintritt in und Austritt aus dem Bestrahlungsbereich 308). Die Zeitspanne t kann der Quotient aus der Ausdehnung 308t des Bestrahlungsbereichs 308 und der ersten Geschwindigkeit 106v sein. Die Ausdehnung 308t des Bestrahlungsbereichs 308 kann beispielsweise der Ausdehnung 308t der Bestrahlungsvorrichtung 308 entsprechen oder zumindest kleiner sein als die Ausdehnung des Transportbandes 104 in Transportrichtung 101. Die Ausdehnung 308t des Bestrahlungsbereichs 308 kann auch als Bestrahlungsstrecke 308t bezeichnet sein. Furthermore, the radiation barrier 106h an extension 106t parallel to the transport direction 101 and a time period t for passing through the irradiation area 308 (ie time between entry and exit from the irradiation area 308 ). The time span t can be the quotient of the expansion 308T of the irradiation area 308 and the first speed 106v be. The expansion 308T of the irradiation area 308 can, for example, the expansion 308T the irradiation device 308 correspond or at least be smaller than the extent of the conveyor belt 104 in the transport direction 101 , The expansion 308T of the irradiation area 308 can also be used as a radiation track 308T be designated.

Die Steuerung 518 kann eingerichtet sein, die Bewegung des Transportbandes 104 und/oder die Bewegung des Strahlungshindernisses 106h derart zu steuern und/oder zu regeln, dass die Relativgeschwindigkeit kleiner ist als ein Verhältnis aus der Ausdehnung 106t zu der Zeitspanne t. The control 518 can be set up, the movement of the conveyor belt 104 and / or the movement of the radiation obstacle 106h to control and / or regulate such that the relative velocity is less than a ratio of the expansion 106t at the time t.

Anschaulich kann die Relativgeschwindigkeit derart klein sein, dass das Strahlungshindernisses 106h im Bezugssystem des Transportbandbereichs 104b eine Strecke zurücklegt, welcher kleiner ist als dessen Ausdehnung 106t. Somit kann das Strahlungshindernisses 106h (im Bezugssystem des Transportbandes 104) anschaulich möglichst stationär über dem Spalt 102s zwischen zwei einander benachbarten Substraten 102 angeordnet sein oder werden. Clearly, the relative speed can be so small that the radiation obstacle 106h in the reference frame of the conveyor belt area 104b covers a distance which is smaller than its extent 106t , Thus, the radiation obstacle 106h (in the reference frame of the conveyor belt 104 ) as possible stationary above the gap 102s between two adjacent substrates 102 be arranged or become.

Beispielsweise kann die Ausdehnung 106t in einem Bereich von ungefähr 100% bis ungefähr 300%, z.B. weniger als ungefähr 200%, des Abstandes einander benachbarter Substrate (in Transportrichtung 101) sein (auch als Spaltmaß bezeichnet). For example, the extent 106t in a range of about 100% to about 300%, eg, less than about 200%, of the spacing of adjacent substrates (in the direction of transport 101 ) (also referred to as a gap).

2B veranschaulicht eine Prozessieranordnung 200b gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, z.B. mit Blickrichtung quer zur Bestrahlungsrichtung 105 und quer zur Transportrichtung 101. 2 B illustrates a processing arrangement 200b according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view, eg with a view across the direction of irradiation 105 and transverse to the transport direction 101 ,

Die Prozessieranordnung 200b kann eingerichtet sein wie eine der Prozessieranordnungen 100a bis 200a. The processing arrangement 200b can be set up like one of the processing arrangements 100a to 200a ,

Die Prozessieranordnung 200b kann ferner eine Antriebskopplung 518k aufweisen, welche das Transportband 104 und die Abschattungsvorrichtung 106, z.B. deren Strahlungshindernisse 106h mechanisch und/oder elektrisch miteinander koppelt, z.B. eine mechanische Antriebskopplung 518k (d.h. Antriebskupplung 518k) und/oder eine elektrische Antriebskopplung 518k. Mittels der Antriebskopplung 518k kann zwischen der Abschattungsvorrichtung 106 und dem Transportband 104 zumindest Antriebsenergie übertragen, z.B. ausgetauscht, werden. The processing arrangement 200b can also drive coupling 518k have, which the conveyor belt 104 and the shading device 106 , eg their radiation obstacles 106h mechanically and / or electrically coupled to each other, for example, a mechanical drive coupling 518k (ie drive coupling 518k ) and / or an electric drive coupling 518k , By means of the drive coupling 518k can be between the shading device 106 and the conveyor belt 104 at least transmit drive energy, eg exchanged, be.

Beispielsweise kann die Prozessieranordnung 200b einen ersten Antrieb aufweisen, welcher mit der Abschattungsvorrichtung 106 (z.B. dem oder jedem Strahlungshindernis 106h) gekuppelt ist zum Zuführen von mechanischer Antriebsenergie. Zusätzlich kann die Prozessieranordnung 200b einen zweiten Antrieb aufweisen, welcher mit dem Transportband 104 gekuppelt ist zum Zuführen von mechanischer Antriebsenergie. Der erste Antrieb und der zweite Antrieb können mittels der Antriebskopplung 518k elektrisch miteinander gekoppelt sein. Beispielsweise kann die Antriebskopplung 518k mittels der Steuerung 518 angesteuert werden. Die zwei Antriebe können optional mechanisch voneinander entkoppelt mechanische Antriebsenergie zuführen. For example, the processing arrangement 200b a first drive, which with the shading device 106 (eg the or each radiation barrier 106h ) is coupled for supplying mechanical drive energy. In addition, the processing arrangement 200b have a second drive, which with the conveyor belt 104 coupled to supply mechanical drive energy. The first drive and the second drive can by means of the drive coupling 518k be electrically coupled together. For example, the drive coupling 518k by means of the controller 518 be controlled. The two drives can optionally mechanically mechanically decoupled from each other supplying mechanical drive energy.

Alternativ kann die Prozessieranordnung 200b einen Antrieb aufweisen, welcher mittels der Antriebskupplung 518k sowohl mit der Abschattungsvorrichtung 106 (z.B. dem oder jedem Strahlungshindernis 106h) als auch mit dem Transportband 104 gekuppelt ist. Der Antrieb kann mittels der Steuerung 518 angesteuert werden. Die Antriebskupplung 518k kann beispielsweise einen Riemen oder eine Kette aufweisen, welche den Antrieb mit der Abschattungsvorrichtung 106 und/oder mit dem Transportband 104 kuppelt. Alternatively, the processing arrangement 200b having a drive which by means of the drive coupling 518k both with the shading device 106 (eg the or each radiation barrier 106h ) as well as with the conveyor belt 104 is coupled. The drive can be controlled by the controller 518 be controlled. The drive coupling 518k For example, it may comprise a belt or a chain which drives the shutter 106 and / or with the conveyor belt 104 couples.

Alternativ kann die Prozessieranordnung 200b einen Antrieb aufweisen, welcher entweder mit dem Transportband 104 oder mit der Abschattungsvorrichtung 106 gekuppelt ist. Ferner kann die Antriebskupplung 518k das Transportband 104 und die Abschattungsvorrichtung 106, z.B. deren Strahlungshindernisse 106h, miteinander kuppeln. Beispielsweise kann die Antriebskupplung 518k einen Mitnehmer aufweisen oder daraus gebildet sein. Alternatively, the processing arrangement 200b have a drive which either with the conveyor belt 104 or with the shading device 106 is coupled. Furthermore, the drive coupling 518k the conveyor belt 104 and the shading device 106 , eg their radiation obstacles 106h to couple with each other. For example, the drive clutch 518k have a driver or be formed from it.

3A veranschaulicht eine Prozessieranordnung 300a gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, z.B. parallel zur Bestrahlungsrichtung 105. 3A illustrates a processing arrangement 300a According to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view, for example, parallel to the irradiation direction 105 ,

Die Prozessieranordnung 300A kann eingerichtet sein wie eine der Prozessieranordnungen 100a bis 200b. The processing arrangement 300A can be set up like one of the processing arrangements 100a to 200b ,

Jedes Strahlungshindernis 106h der mehreren Strahlungshindernisse 106h kann entlang einer Richtung 103, welche quer zu der Transportrichtung 101 (des Transportbands 104 in dem Bestrahlungsbereich 308b und/oder des Strahlungshindernisses 106h in dem Bestrahlungsbereich 308b b) ist, längserstreckt 106l sein. Mit anderen Worten kann das oder jedes Strahlungshindernis 106h eine Ausdehnung 106l entlang Richtung 103 aufweisen größer als die Ausdehnung 106t entlang Richtung 105. Beispielsweise kann jedes Strahlungshindernis 106h der mehreren Strahlungshindernisse 106h einen Balken aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. einen CFC-Querbalken. Every radiation obstacle 106h the multiple radiation obstacles 106h can along a direction 103 which transverse to the transport direction 101 (the conveyor belt 104 in the irradiation area 308b and / or the radiation obstacle 106h in the irradiation area 308b b) is elongated 106l be. In other words, the or each radiation barrier 106h an extension 106l along direction 103 have greater than the extent 106t along direction 105 , For example, any radiation barrier 106h the multiple radiation obstacles 106h comprise or be formed from a beam, eg a CFC crossbeam.

Alternativ oder zusätzlich können einander benachbarte Strahlungshindernisse 106h der mehreren Strahlungshindernisse 106h einen Abstand 106d voneinander (in die Transportrichtung 101) aufweisen. Zwischen den einander benachbarten Strahlungshindernissen 106h kann eine Durchgangsöffnung 106o bereitgestellt sein oder werden, durch welche das Bestrahlen 113 hindurch erfolgt. Beispielsweise kann sich der Bestrahlungsbereich 308b durch die Durchgangsöffnung 106o hindurch erstrecken. Alternatively or additionally, adjacent radiation obstacles 106h the multiple radiation obstacles 106h a distance 106d from each other (in the transport direction 101 ) exhibit. Between the neighboring radiation obstacles 106h can be a through hole 106o be provided or by which the irradiation 113 through. For example, the irradiation area 308b through the passage opening 106o extend through.

Der Abstand 106d einander benachbarter Strahlungshindernisse 106h voneinander kann im Wesentlichen der Ausdehnung eines Substrats 102 in Transportrichtung 101 entsprechen, d.h. dieser kann in einem Bereich von ungefähr 70% bis ungefähr 99% der Ausdehnung des Substrats 102 liegen. The distance 106d adjacent radiation obstacles 106h one another can be essentially the extension of a substrate 102 in the transport direction 101 ie, it may range from about 70% to about 99% of the extent of the substrate 102 lie.

Die mehreren Strahlungshindernisse 106h können beispielsweise mittels zumindest eines Zugmittels 206z gelagert sein oder werden, wie nachfolgend genauer beschrieben wird. Alternativ können die mehreren Strahlungshindernisse 106h mehrere Gruppen Strahlungshindernisse 106h aufweisen (d.h. von denen jede Gruppe mehr als ein Strahlungshindernis 106h aufweist). Die Strahlungshindernisse 106h jeder Gruppe können in einer festen räumlichen Anordnung zueinander stehen oder in dieser bewegt sein oder werden, z.B. indem diese starr miteinander verbunden sind, z.B. mittels eines Rahmens. Beispielsweise kann jede Gruppe mittels einer Brille (auch als Carrierbrille bezeichnet) oder eines Rahmens bereitgestellt sein oder werden. Jede Gruppe der mehreren Gruppen Strahlungshindernisse 106h kann entlang des Bewegungspfades 106p bewegt werden. Mit anderen Worten können die Strahlungshindernisse 106h gruppenweise bewegt werden. The multiple radiation obstacles 106h For example, by means of at least one traction means 206z be stored or, as will be described in more detail below. Alternatively, the multiple radiation obstacles 106h several groups radiation obstacles 106h (ie each group has more than one radiation barrier 106h having). The radiation obstacles 106h Each group may be or may be in a fixed spatial arrangement with respect to each other, for example by being rigidly connected to each other, eg by means of a frame. For example, each group may or may not be provided by means of glasses (also referred to as carrier glasses) or a frame. Each group of the several groups radiation obstacles 106h can along the movement path 106p to be moved. In other words, the radiation obstacles 106h be moved in groups.

3B veranschaulicht eine Prozessieranordnung 300b gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, z.B. mit Blickrichtung quer zur Bestrahlungsrichtung 105 und quer zur Transportrichtung 101. 3B illustrates a processing arrangement 300b according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view, eg with a view across the direction of irradiation 105 and transverse to the transport direction 101 ,

Die Prozessieranordnung 300b kann eingerichtet sein wie eine der Prozessieranordnungen 100a bis 300a. Ferner kann die Abschattungsvorrichtung 106 eine Förderanordnung 206 aufweisen. The processing arrangement 300b can be set up like one of the processing arrangements 100a to 300a , Furthermore, the shading device 106 a conveyor arrangement 206 exhibit.

Die Förderanordnung 206 kann zumindest ein Zugmittel 206z (d.h. ein oder mehrere Zugmittel 206z) aufweisen, mittels welcher die mehreren Strahlungshindernisse 106h beweglich gelagert sind (z.B. zumindest einen Riemen, zumindest eine Kette oder ähnliches). Die Förderanordnung 206 kann die Strahlungshindernisse 106h optional gruppenweise lagern. The conveyor arrangement 206 can at least one traction means 206z (ie one or more traction means 206z ), by means of which the plurality of radiation obstacles 106h are movably mounted (eg at least one belt, at least one chain or the like). The conveyor arrangement 206 can the radiation obstacles 106h Optionally store in groups.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Bewegungspfad 106p einen geradlinig verlaufenden ersten Abschnitt 106a in dem Bestrahlungsbereich 308b aufweisen. Der erste Abschnitt 106a kann beispielsweise von einer Führungsschienenanordnung 302 der Förderanordnung 206 definiert sein, welche das Zugmittel 206z stützt. According to various embodiments, the movement path 106p a rectilinear first section 106a in the irradiation area 308b exhibit. The first paragraph 106a For example, by a guide rail assembly 302 the conveyor assembly 206 be defined, which the traction means 206z supports.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Abschattungsvorrichtung 106 mehrere drehbar gelagerte Rollen 508 aufweisen, welche das Zugmittel 206z stützen (d.h. auf denen das Zugmittel 206z beweglich gelagert ist). Die drehbar gelagerten Rollen 508 können den Bewegungspfad 106p zumindest teilweise definieren. Die drehbar gelagerten Rollen 508 können Umlenkrollen sein, d.h. dass das Zugmittel 206z mittels den drehbar gelagerten Rollen 508 umgelenkt wird. According to various embodiments, the shading device 106 several rotatably mounted rollers 508 have, which the traction means 206z support (ie on which the traction means 206z is movably mounted). The rotatably mounted rollers 508 can the motion path 106p at least partially define. The rotatably mounted rollers 508 may be pulleys, ie that the traction means 206z by means of the rotatably mounted rollers 508 is diverted.

Jede Umlenkrolle kann einen gekrümmt verlaufenden Abschnitt 106k des Bewegungspfades 106p definieren. Each pulley can have a curved section 106k of the movement path 106p define.

Die Führungsschienenanordnung 302 kann optional segmentiert sein, d.h. mehrere Segmente aufweisen, zwischen denen optional jeweils mindestens eine weitere drehbar gelagerte Rolle 502 angeordnet ist. Die Führungsschienenanordnung 302 kann optional zum Kühlen der Führungsstruktur eingerichtet sein. Die Führungsschienen der Führungsschienenanordnung 302 können eine Länge in einem Bereich von ungefähr 0,2 Meter bis ungefähr 5 Meter aufweisen, z.B. ungefähr 1 Meter. The guide rail arrangement 302 can optionally be segmented, ie have a plurality of segments, between which optionally at least one further rotatably mounted roller 502 is arranged. The guide rail arrangement 302 may optionally be configured to cool the guide structure. The guide rails of the guide rail assembly 302 may have a length in a range of about 0.2 meters to about 5 meters, eg about 1 meter.

Das zumindest eine Zugmittel 206z kann mehrere Glieder 102g, z.B. eine Gliederkupplung 102g, aufweisen, welche die mehreren Strahlungshindernisse 106h miteinander kuppelt, z.B. jeweils paarweise zueinander auslenkbar. Die Gliederkupplung 102g kann Gelenke und/oder Kettenglieder aufweisen, welche die Strahlungshindernisse 106h miteinander kuppeln. The at least one traction device 206z can have multiple links 102g , eg a link coupling 102g , which have the plurality of radiation obstacles 106h couples with each other, eg in pairs mutually deflectable. The link coupling 102g may include joints and / or chain links which obstruct the radiation 106h couple with each other.

Das zumindest eine Zugmittel 206z kann optional mehrere Montagepositionen aufweisen, welche komplementär zu den Strahlungshindernissen 106h eingerichtet sind, z.B. ein Raster an Montagepositionen. Mit anderen Worten kann das oder jedes Strahlungshindernis 106h an jede Montageposition der mehrere Montagepositionen passen. Jede Montageposition der mehrere Montagepositionen kann mittels eines Kupplungsbereiches 402 bereits gestellt sein oder werden, an welchen das oder jedes Strahlungshindernis 106h angegekuppelt (d.h. montiert) werden kann. The at least one traction device 206z Optionally, it may have multiple mounting positions that are complementary to the radiation obstacles 106h are set up, for example, a grid of mounting positions. In other words, this or that radiation barrier 106h to fit any mounting position of multiple mounting positions. Each mounting position of the plurality of mounting positions can by means of a coupling region 402 already be or be placed, to which the or each radiation barrier 106h coupled (ie mounted) can be.

Beispielsweise kann jeder Kupplungsbereich 402 mittels einer Lasche bereitgestellt sein oder werden, welche z.B. in oder an einem Kettenglied bereitgestellt ist. For example, each coupling region 402 be provided by means of a tab, which is provided for example in or on a chain link.

Jedes Kettenglied kann beispielsweise eine Montageposition bereitstellen. Alternativ oder zusätzlich kann zwischen einander benachbarten Gelenken der mehreren Gelenke eine Montageposition bereitgestellt sein oder werden. Each chain link can provide, for example, a mounting position. Alternatively or additionally, a mounting position may be provided between adjacent joints of the plurality of joints.

Beispielsweise kann die Abschattungsvorrichtung 106 mehr Montagepositionen aufweisen als Strahlungshindernisse 106h. For example, the shading device 106 have more mounting positions than radiation obstacles 106h ,

4A veranschaulicht eine Prozessieranordnung 400a gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Draufsicht oder Querschnittsansicht, z.B. parallel zur Bestrahlungsrichtung 105. 4A illustrates a processing arrangement 400a According to various embodiments in a schematic plan view or cross-sectional view, for example, parallel to the irradiation direction 105 ,

Die Prozessieranordnung 400a kann eingerichtet sein wie eine der Prozessieranordnungen 100a bis 300b. The processing arrangement 400a can be set up like one of the processing arrangements 100a to 300b ,

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Abschattungsvorrichtung 106 zwei Zugmittel 206z aufweisen, zwischen welchen die mehreren Strahlungshindernisse 106h angeordnet und mit diesen gekuppelt sind. Alternativ oder zusätzlich kann die Führungsschienenanordnung 302 zwei Führungsschienen aufweisen zwischen denen die mehreren Strahlungshindernisse 106h angeordnet und mittels diesen geführt werden. Optional kann jedes Zugmittel 206z mittels einer Führungsschiene der Führungsschienenanordnung 302 geführt sein oder werden. According to various embodiments, the shading device 106 two traction devices 206z between which the plurality of radiation obstacles 106h arranged and coupled with these. Alternatively or additionally, the guide rail assembly 302 two guide rails between which have the plurality of radiation obstacles 106h be arranged and guided by this. Optionally, any traction means 206z by means of a guide rail of the guide rail arrangement 302 be led or become.

4B veranschaulicht eine Prozessieranordnung 400b gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Draufsicht oder Querschnittsansicht, z.B. mit Blickrichtung quer zur Bestrahlungsrichtung 105 und quer zur Transportrichtung 101. 4B illustrates a processing arrangement 400b According to various embodiments in a schematic plan view or cross-sectional view, for example, viewed in the direction transverse to the direction of irradiation 105 and transverse to the transport direction 101 ,

Die Prozessieranordnung 400b kann eingerichtet sein wie eine der Prozessieranordnungen 100a bis 400a. The processing arrangement 400b can be set up like one of the processing arrangements 100a to 400a ,

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Kupplungsbereiche 402 jeweils mit einem Kettenglied gekuppelt oder mittels dessen bereitgestellt sein oder werden. Zwischen den Kupplungsbereichen 402 können optional ein oder mehrere Kettenglieder 402k (Kupplungsglieder) angeordnet sein. Beispielsweise können mehrere Kettenglieder 402k zwischen zwei einander benachbarten Kupplungsbereichen 402 angeordnet sein. Die Kettenglieder 402k und die Kupplungsbereiche 402 können Teil des Zugmittels 206z sein. Die Kettenglieder 402k können miteinander verbunden sein, z.B. mittels eines Bolzens. According to various embodiments, the coupling regions 402 each being coupled to or provided by a chain link. Between the coupling areas 402 can optionally have one or more links 402k (Coupling members) may be arranged. For example, several chain links 402k between two adjacent coupling areas 402 be arranged. The chain links 402k and the coupling areas 402 can be part of the traction device 206z be. The chain links 402k can be connected to each other, for example by means of a bolt.

5A veranschaulicht eine Prozessieranordnung 500a gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Draufsicht oder Querschnittsansicht, z.B. mit Blickrichtung quer zur Bestrahlungsrichtung 105 und quer zur Transportrichtung 101. 5A illustrates a processing arrangement 500a According to various embodiments in a schematic plan view or cross-sectional view, for example, viewed in the direction transverse to the direction of irradiation 105 and transverse to the transport direction 101 ,

Die Prozessieranordnung 500a kann eingerichtet sein wie eine der Prozessieranordnungen 100a bis 400b. The processing arrangement 500a can be set up like one of the processing arrangements 100a to 400b ,

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Bewegungspfad 106p in sich geschlossen sein. Ein erster Abschnitt 106a und ein zweiter Abschnitt 116a des Bewegungspfads 106p können einander gegenüberliegen. Der erste Abschnitt 106a des Bewegungspfads 106p kann in dem Bestrahlungsbereich 308b angeordnet sein. Alternativ oder zusätzlich kann der zweite Abschnitt 116a des Bewegungspfads 106p außerhalb des Bestrahlungsbereich 308b angeordnet sein. Beispielsweise kann die Bestrahlungsvorrichtung 308 zwischen dem ersten Abschnitt 106a und dem zweiten Abschnitt 116a des Bewegungspfads 106p angeordnet sein. Mit anderen Worten kann der Bewegungspfads 106p um die Bestrahlungsvorrichtung 308 herum verlaufen. Damit kann das Bestrahlen 113 erleichtert sein oder werden. According to various embodiments, the movement path 106p to be self-contained. A first section 106a and a second section 116a of the movement path 106p can be opposite each other. The first paragraph 106a of the movement path 106p can in the irradiation area 308b be arranged. Alternatively or additionally, the second section 116a of the movement path 106p outside the irradiation area 308b be arranged. For example, the irradiation device 308 between the first section 106a and the second section 116a of the movement path 106p be arranged. In other words, the movement path 106p around the irradiation device 308 run around. This can be the irradiation 113 be relieved or become.

Alternativ kann der erste Abschnitt 106a des Bewegungspfads 106p und kann der zweite Abschnitt 116a des Bewegungspfads 106p zwischen der Bestrahlungsvorrichtung 308 und dem Transportband 104 angeordnet sein. Dazu kann mehr Platz vonnöten sein und das Bestrahlen 113 kann erschwert werden, da mehr Strahlungshindernisse 106h zwischen der Bestrahlungsvorrichtung 308 und dem Transportband 104 angeordnet sind (z.B. einander entgegenlaufend bewegt). Allerdings kann so die Konstruktion und/oder Zugänglichkeit der Bestrahlungsvorrichtung 308 vereinfacht sein oder werden. Alternatively, the first section 106a of the movement path 106p and can the second section 116a of the movement path 106p between the irradiation device 308 and the conveyor belt 104 be arranged. This may require more space and the irradiation 113 can be made more difficult because more radiation obstacles 106h between the irradiation device 308 and the conveyor belt 104 are arranged (for example, moving counter to each other). However, so may the construction and / or accessibility of the irradiation device 308 be simplified or become.

Optional können der erste Abschnitt 106a und der zweite Abschnitt 116a des Bewegungspfads 106p geradlinig verlaufen. Optionally, the first section 106a and the second section 116a of the movement path 106p run straight.

Entlang des zweiten Abschnitts 116a des Bewegungspfads 106p können die mehreren Strahlungshindernisse 106h zurückgeführt werden (Rückführungsabschnitt 116a). Along the second section 116a of the movement path 106p can the multiple radiation obstacles 106h be returned (return section 116a ).

5B veranschaulicht eine Prozessieranordnung 500b gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Draufsicht oder Querschnittsansicht, z.B. mit Blickrichtung quer zur Bestrahlungsrichtung 105 und quer zur Transportrichtung 101. 5B illustrates a processing arrangement 500b According to various embodiments in a schematic plan view or cross-sectional view, for example, viewed in the direction transverse to the direction of irradiation 105 and transverse to the transport direction 101 ,

Die Prozessieranordnung 500b kann eingerichtet sein wie eine der Prozessieranordnungen 100a bis 500a. The processing arrangement 500b can be set up like one of the processing arrangements 100a to 500a ,

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Bestrahlungsvorrichtung 308 eine oder mehrere Strahlungsquellen 308q aufweisen, welche zum Emittieren von Wärmestrahlung eingerichtet sind (d.h. Wärmestrahlungsquellen 308q). Alternativ oder zusätzlich kann die Bestrahlungsvorrichtung 308 eine oder mehrere Lichtquellen 308q aufweisen, welche zum Emittieren von Licht eingerichtet sind. According to various embodiments, the irradiation device 308 one or more radiation sources 308q which are adapted to emit heat radiation (ie heat radiation sources 308q ). Alternatively or additionally, the irradiation device 308 one or more light sources 308q which are adapted to emit light.

Die oder jede Wärmestrahlungsquelle 308q (z.B. ein Elektrowärme-Wandler) kann zum Umwandeln von elektrischer Energie in Wärmestrahlung eingerichtet sein. Die oder jede Wärmestrahlungsquelle 308q kann beispielsweise einen Heizwiderstand aufweisen, z.B. eine Heizwendel oder einen Mantelrohrheizer. Dann kann die oder jede Wärmestrahlungsquelle 308q beispielsweise mittels einer Gleichstromquelle mit elektrischer Energie versorgt werden. Optional kann die oder jede Wärmestrahlungsquelle 308q einen Flächenwandler (z.B. einen Flächenheizer) aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. einen Schichtheizer. Beispielsweise kann der Elektrowärme-Wandler an einem Träger (z.B. aufweisen eine Keramik oder daraus gebildet) befestigt sein. Alternativ oder zusätzlich kann die oder jede Wärmestrahlungsquelle 308q eine Induktionsheizung aufweisen, z.B. eine Spule. Dann kann die oder jede Wärmestrahlungsquelle 308q beispielsweise mittels einer Wechselstromquelle mit elektrischer Energie versorgt werden. Die oder jede Wärmestrahlungsquelle 308q kann beispielsweise induktiv geheizt sein oder werden. The or each heat radiation source 308q (Eg, an electric heat converter) may be configured to convert electrical energy into thermal radiation. The or each heat radiation source 308q may for example have a heating resistor, for example a heating coil or a jacket tube heater. Then, the or each heat radiation source 308q be supplied for example by means of a DC power source with electrical energy. Optionally, the or each heat radiation source 308q have a surface converter (eg, a surface heater) or be formed therefrom, for example, a layer heater. For example, the electric heat converter may be attached to a carrier (eg comprising a ceramic or formed therefrom). Alternatively or additionally, the or each heat radiation source 308q have an induction heater, such as a coil. Then, the or each heat radiation source 308q be supplied for example by means of an AC power source with electrical energy. The or each heat radiation source 308q For example, it may or may not be heated inductively.

Alternativ oder zusätzlich zu dem Elektrowärme-Wandler kann die oder jede Wärmestrahlungsquelle 308q einen Fluidheizer aufweisen oder daraus gebildet sein. Der Fluidheizer kann eine Heizfluidleitung aufweisen. Die Heizfluidleitung kann einen Hohlraum aufweisen, durch welchen ein geheizter Flüssigkeitsstrom hindurch geführt werden kann, z.B. ein Öl. Beispielsweise kann der Flüssigkeitsstrom mittels des Elektrowärme-Wandlers geheizt werden. Damit kann eine größere thermische Leistung pro Fläche realisiert werden. Beispielsweise kann der Elektrowärme-Wandler in einem separaten Gehäuse angeordnet sein oder werden. Alternatively or in addition to the electric heat converter, the or each heat radiation source 308q comprise or be formed from a fluid heater. The fluid heater may include a heating fluid conduit. The Heizfluidleitung may have a cavity through which a heated liquid flow can be passed through, for example an oil. For example, the liquid flow can be heated by means of the electric heat converter. Thus, a larger thermal power per area can be realized. For example, the electric heat converter can be arranged in a separate housing or.

Die oder jede Lichtquelle 308q kann beispielsweise eine Gasentladungslampe, einen Laser oder eine Leuchtdiode aufweisen oder daraus gebildet sein. The or each light source 308q For example, it may comprise or be formed from a gas discharge lamp, a laser or a light-emitting diode.

Optional kann die oder jede Strahlungsquelle 308q einen (z.B. gekrümmten oder planaren) Reflektor aufweisen, wobei die oder jede Strahlungsquelle 308q zwischen dem Reflektor und dem Transportband 104 angeordnet sein oder werden kann. Optionally, the or each radiation source 308q have a (eg curved or planar) reflector, wherein the or each radiation source 308q between the reflector and the conveyor belt 104 be arranged or can be.

6A veranschaulicht eine Prozessieranordnung 600a gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Draufsicht oder Querschnittsansicht, z.B. quer zur Bestrahlungsrichtung 105 und quer zur Transportrichtung 101, und 6B die Prozessieranordnung 600a in einer schematischen Fronansicht (in Transportrichtung 101). 6A illustrates a processing arrangement 600a According to various embodiments in a schematic plan view or cross-sectional view, for example transversely to the irradiation direction 105 and transverse to the transport direction 101 , and 6B the processing arrangement 600a in a schematic Fronansicht (in the transport direction 101 ).

Die Prozessieranordnung 600a kann eingerichtet sein wie eine der Prozessieranordnungen 100a bis 500b. The processing arrangement 600a can be set up like one of the processing arrangements 100a to 500b ,

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Transportband 104 einen Runddrahtgliedergurt oder einen Flachdrahtgliedergurt aufweisen oder daraus gebildet sein. Mittels des Transportbands 104 können die Substrate 102 kontinuierlich transportiert werden in die Transportrichtung 101. Alle Substrate 102 können einen Spalt 102s zueinander aufweisen. According to various embodiments, the conveyor belt 104 a Runddrahtgliedergurt or a Flachdrahtgliedergurt or be formed from it. By means of the conveyor belt 104 can the substrates 102 be transported continuously in the transport direction 101 , All substrates 102 can a gap 102s to each other.

Eine über dem Transportband 104 angeordnete Abschattungsvorrichtung 106 kann einen Abschattungsgurt (auch als „shadow belt“ bezeichnet) aufweisen oder daraus gebildet sein. Der Abschattungsgurt kann mehrere Durchgangsöffnungen 106o aufweisen, durch welche hindurch das Bestrahlen 113 erfolgt. Die Durchgangsöffnungen 106o können mittels der Strahlungshindernisse 106h voneinander separiert sein. Mit anderen Worten kann zwischen einander benachbarten Durchgangsöffnungen 106o ein Strahlungshindernis 106h angeordnet sein oder werden. One above the conveyor belt 104 arranged shading device 106 may comprise or be formed from a shading belt (also referred to as a "shadow belt"). The shading belt can have several through openings 106o have, through which the irradiation 113 he follows. The passage openings 106o can by means of the radiation obstacles 106h be separated from each other. In other words, between adjacent through holes 106o a radiation barrier 106h be arranged or become.

Beispielsweise kann der Abschattungsgurt in Transportrichtung 101 links und rechts mittels eines Zugmittels 206z gelagert sein oder werden. Zwischen den Zugmitteln 206z können in einem Abstand voneinander (gemäß der Teilung der Substrate 102) die Strahlungshindernisse 106h angeordnet sein oder werden, z.B. in Form von Querstäben 106h. For example, the Abschattungsgurt in the transport direction 101 left and right by means of a traction device 206z be stored or be. Between the traction devices 206z can be at a distance from each other (according to the pitch of the substrates 102 ) the radiation obstacles 106h be arranged or be, for example in the form of transverse bars 106h ,

Das oder jedes Zugmittel 206z kann aktiv angetrieben sein oder werden, indem beispielsweise den Strahlungshindernissen 106h mittels dem oder jedem Zugmittel 206z Antriebsenergie zugeführt wird. Alternativ kann das oder jedes Zugmittel 206z passiv angetrieben sein oder werden, indem beispielsweise dem oder jedem Zugmittel 206z mittels dem oder jedem Strahlungshindernis 106h die Antriebsenergie zugeführt wird, beispielsweise indem die Strahlungshindernisse 106h direkt oder mittels eines Rolle 502 mit dem ersten Antrieb in körperlichen Kontakt sind. The or each traction device 206z can be actively driven or, for example, by the radiation obstacles 106h by means of the or each traction means 206z Drive energy is supplied. Alternatively, the or each traction means 206z be driven passively or by, for example, the or each traction means 206z by means of the or each radiation obstacle 106h the driving energy is supplied, for example by the radiation obstacles 106h directly or by means of a roll 502 with the first drive in physical contact.

Die Substratteilung (d.h. der Anzahl von Substraten 102 pro Transportstrecke) kann der Teilung der Strahlungshindernissen 106h (d.h. der Anzahl von Strahlungshindernissen 106h pro Transportstrecke) entsprechen oder einem Vielfachen davon. Mittels der Strahlungshindernisse 106h kann anschaulich Schatten, beispielsweise Kernschatten, auf den Spalt 102s zwischen den Substraten 102 geworfen werden. Damit kann ein Überhitzen der Randbereiche der Substrate 102 gehemmt oder verhindert werden. Die Ausdehnung 106t der Strahlungshindernisse 106h in Transportrichtung 101 kann von dem Spaltmaß zwischen den Substraten 102 abhängen und daran angepasst sein oder werden. The substrate division (ie the number of substrates 102 per transport route) can divide the radiation obstacles 106h (ie the number of radiation obstacles 106h per transport route) or a multiple thereof. By means of the radiation obstacles 106h can vividly shadow, for example, umbra, on the gap 102s between the substrates 102 to be thrown. This can overheat the edge regions of the substrates 102 be inhibited or prevented. The expansion 106t the radiation obstacles 106h in the transport direction 101 can from the gap between the substrates 102 depend on and be adapted to it.

Innerhalb des Abschattungsgurts können mehrere Heizer 308q angeordnet sein oder werden. Der Abschattungsgurt kann innerhalb des Bestrahlungsbereichs 308 mit Richtung und mit Geschwindigkeit gleich dem Transportband 104 bewegt werden, z.B. indem diese direkt mechanisch miteinander gekoppelt sind, z.B. mittels einer Kette, eines Riemens, mittels Zahnräder oder mittels eines Mitnehmers. Within the shading belt can use several heaters 308q be arranged or become. The shading belt may be within the irradiation range 308 with direction and with speed equal to the conveyor belt 104 be moved, for example by these are directly mechanically coupled together, for example by means of a chain, a belt, by means of gears or by means of a driver.

7 veranschaulicht eine Prozessieranordnung 700 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Perspektivansicht. Die Prozessieranordnung 700a kann eingerichtet sein wie eine der Prozessieranordnungen 100a bis 600b. Die Substrat 102 können als Substratband 102 transportiert werden, z.B. einreihig oder mehrreihig, z.B. zweireihig. 7 illustrates a processing arrangement 700 according to various embodiments in a schematic perspective view. The processing arrangement 700a can be set up like one of the processing arrangements 100a to 600b , The substrate 102 can be used as substrate tape 102 be transported, for example, single-row or multi-row, eg two-row.

8A und 8B veranschaulichen jeweils eine Prozessieranordnung 800a, 800b gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, z.B. mit Blickrichtung quer zur Bestrahlungsrichtung 105 und quer zur Transportrichtung 101 8A and 8B each illustrate a processing arrangement 800a . 800b according to various embodiments in a schematic side view or cross-sectional view, eg with a view across the direction of irradiation 105 and transverse to the transport direction 101

Die Prozessieranordnung 800a, 800b kann eingerichtet sein wie eine der Prozessieranordnungen 100a bis 700. The processing arrangement 800a . 800b can be set up like one of the processing arrangements 100a to 700 ,

Das Prozessieren (z.B. Beschichten und/oder Bestrahlen) des oder jedes Substrats 102 kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem Vakuum erfolgen, z.B. in einer Prozessieranordnung 800a, 800b, und/oder entlang einer Prozessierrichtung 105. The processing (eg, coating and / or irradiation) of the or each substrate 102 can be done in a vacuum according to various embodiments, for example in a processing arrangement 800a . 800b , and / or along a processing direction 105 ,

Beispielsweise kann das Prozessieren (auch als Behandeln bezeichnet) des oder jedes Substrats 102 mindestens eines von Folgendem aufweisen: Reinigen des oder jedes Substrats 102, Beschichten des oder jedes Substrats 102, Bestrahlen (z.B. mittels Licht, kohärentes Licht, UV-Licht, Teilchen, Elektronen, Ionen, usw.) des oder jedes Substrats 102, Modifizieren der Oberfläche des oder jedes Substrats 102, Erwärmen des oder jedes Substrats 102, Ätzen des oder jedes Substrats 102 und/oder Glimmen des oder jedes Substrats 102. For example, processing (also referred to as treating) of the or each substrate 102 at least one of: cleaning the or each substrate 102 , Coating the or each substrate 102 Irradiating (eg by means of light, coherent light, UV light, particles, electrons, ions, etc.) of the or each substrate 102 , Modifying the surface of the or each substrate 102 , Heating the or each substrate 102 , Etching the or each substrate 102 and / or glowing of the or each substrate 102 ,

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung 800a, 800b ein Vakuumkammergehäuse 802 aufweisen, in welcher ein Vakuum erzeugt und/oder erhalten werden kann. Das Vakuumkammergehäuse 802 kann dazu beispielsweise luftdicht, staubdicht und/oder vakuumdicht eingerichtet sein oder werden. Das Vakuumkammergehäuse 802 kann eine oder mehrere Vakuumkammern aufweisen. Die oder jede Vakuumkammer kann einen oder mehrere Vakuumbereiche 306b, 308b bereitstellen. Die mehreren Vakuumkammern und/oder die mehreren Vakuumbereiche 306b, 308b des Vakuumkammergehäuses 802 können optional zumindest teilweise gassepariert voneinander sein. According to various embodiments, the processing arrangement 800a . 800b a vacuum chamber housing 802 in which a vacuum can be generated and / or obtained. The vacuum chamber housing 802 can be, for example, airtight, dustproof and / or vacuum-tight set up or become. The vacuum chamber housing 802 may have one or more vacuum chambers. The or each vacuum chamber may have one or more vacuum areas 306b . 308b provide. The multiple vacuum chambers and / or the multiple vacuum areas 306b . 308b of the vacuum chamber housing 802 may optionally be at least partially gas-separated from each other.

Optional kann das Vakuumkammergehäuse 802 mit einem Pumpensystem 804 (aufweisend zumindest eine Grobvakuumpumpe und optional zumindest eine Hochvakuumpumpe) gekoppelt sein. Das Pumpensystem 804 kann eingerichtet sein, dem Vakuumkammergehäuse 802 ein Gas (z.B. das Prozessgas) zu entziehen, so dass innerhalb des Vakuumkammergehäuses 802 ein Vakuum (d.h. ein Druck kleiner als 0,3 bar) und/oder ein Druck in einem Bereich von ungefähr 1 mbar bis ungefähr 10–3 mbar (mit anderen Worten Feinvakuum) und/oder ein Druck in einem Bereich von ungefähr 10–3 mbar bis ungefähr 10–7 mbar (mit anderen Worten Hochvakuum) oder ein Druck von kleiner als Hochvakuum, z.B. kleiner als ungefähr 10–7 mbar (mit anderen Worten Ultrahochvakuum) bereitgestellt sein oder werden kann. Optionally, the vacuum chamber housing 802 with a pump system 804 (comprising at least one rough-action vacuum pump and optionally at least one high-vacuum pump). The pump system 804 can be set up, the vacuum chamber housing 802 to withdraw a gas (eg the process gas), so that within the vacuum chamber housing 802 a vacuum (ie, a pressure less than 0.3 bar) and / or a pressure in a range of about 1 mbar to about 10 -3 mbar (in other words, a fine vacuum) and / or a pressure in a range of about 10 -3 mbar to about 10 -7 mbar (in other words high vacuum) or a pressure of less than high vacuum, for example, less than about 10 -7 mbar (in other words ultrahigh vacuum) can be provided.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung 800a, 800b eine Gaszuführung 1716 aufweisen. Mittels der Gaszuführung 1716 kann dem Vakuumkammergehäuse 802 ein Prozessgas zugeführt werden zum Bilden einer Prozessatmosphäre in dem Vakuumkammergehäuse 802. Das Prozessgas kann z.B. ein Inertgas aufweisen oder daraus gebildet sein. Alternativ oder zusätzlich kann das Prozessgas ein Reaktivgas aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. Sauerstoff, Stickstoff, Wasserstoff, Argon und/oder Kohlenstoff. Der Prozessdruck kann sich aus einem Gleichgewicht an Prozessgas bilden, welches mittels der Gaszuführung 1716 zugeführt und mittels des optionalen Pumpensystems 804 entzogen wird. According to various embodiments, the processing arrangement 800a . 800b a gas supply 1716 exhibit. By means of the gas supply 1716 can the vacuum chamber housing 802 a process gas is supplied to form a process atmosphere in the vacuum chamber housing 802 , The process gas may include, for example, an inert gas or be formed therefrom. Alternatively or additionally, the process gas may comprise or be formed from a reactive gas, for example oxygen, nitrogen, hydrogen, argon and / or carbon. The process pressure can be formed from a balance of process gas, which by means of the gas supply 1716 supplied and by means of the optional pump system 804 is withdrawn.

Ferner kann das Vakuumkammergehäuse 802 derart eingerichtet sein, dass die Prozessbedingungen (z.B. die Vakuumbedingungen) innerhalb des Vakuumkammergehäuses 802 (z.B. Prozessdruck, Prozesstemperatur, chemische Prozessgaszusammensetzung, usw.) gestellt oder geregelt werden können (z.B. lokal), z.B. mittels einer Steuerung 518. Beispielsweise können mittels des Vakuumkammergehäuses 802 mehrere Vakuumbereiche 306b, 308b mit voneinander verschiedenen Vakuumbedingungen bereitgestellt sein oder werden. Beispielsweise kann die Steuerung 518 zum Steuern und/oder Regeln der Gaszuführung 1716 und/oder des Pumpensystems 804 eingerichtet sein, so dass ein Prozessdruck und/oder eine Prozessgaszusammensetzung gesteuert und/oder geregelt werden kann. Beispielsweise kann die Steuerung 518 zum Steuern und/oder Regeln eines Normvolumenstroms an Prozessgas eingerichtet sein, welche mittels der Gaszuführung 1716 zugeführt und/oder mittels des Pumpensystems 804 entzogen wird. Furthermore, the vacuum chamber housing 802 be set up so that the process conditions (eg, the vacuum conditions) within the vacuum chamber housing 802 (Eg process pressure, process temperature, chemical process gas composition, etc.) can be made or regulated (eg locally), eg by means of a controller 518 , For example, by means of the vacuum chamber housing 802 several vacuum areas 306b . 308b be provided with mutually different vacuum conditions. For example, the controller 518 for controlling and / or regulating the gas supply 1716 and / or the pump system 804 be set so that a process pressure and / or a process gas composition can be controlled and / or regulated. For example, the controller 518 be arranged for controlling and / or regulating a standard volume flow of process gas, which by means of the gas supply 1716 supplied and / or by means of the pump system 804 is withdrawn.

Optional kann die Prozessieranordnung 800a, 800b eine Versorgungsvorrichtung zum Versorgen der Bestrahlungsvorrichtung 308 aufweisen, z.B. zum Versorgen mit einem temperierten Fluid oder mit elektrischer Energie. Beispielsweise kann die Versorgungsvorrichtung außerhalb der Prozessierkammer 802 angeordnet sein. Optionally, the processing arrangement 800a . 800b a supply device for supplying the irradiation device 308 have, for example, to supply with a tempered fluid or electrical energy. For example, the supply device outside the processing chamber 802 be arranged.

In dem Vakuumkammergehäuse 802 (z.B. in einer erste Vakuumkammer) kann zumindest ein Vakuumbereich 306b, z.B. ein erster Vakuumbereich 306b, angeordnet sein. Ferner kann in dem Vakuumkammergehäuse 802 (z.B. in der ersten Vakuumkammer) eine erste Prozessierquelle 306, z.B. eine Beschichtungsmaterialquelle 306, angeordnet sein. Die Beschichtungsmaterialquelle 306 kann zum Emittieren eines gasförmigen Beschichtungsmaterials in den ersten Vakuumbereich 306b hinein eingerichtet sein. Mit dem Beschichtungsmaterial kann das Substrat 102 beschichtet sein oder werden. Mit anderen Worten kann das Beschichten des Substrats 102 in einem Vakuum erfolgen. Der erste Vakuumbereich 306b kann ein Beschichtungsbereich 306b sein. In the vacuum chamber housing 802 (eg in a first vacuum chamber) can be at least one vacuum region 306b , eg a first vacuum area 306b be arranged. Further, in the vacuum chamber housing 802 (eg in the first vacuum chamber) a first processing source 306 , eg a source of coating material 306 be arranged. The coating material source 306 can be used to emit a gaseous coating material in the first vacuum area 306b be set up in it. With the coating material, the substrate 102 be coated or be. In other words, the coating of the substrate 102 done in a vacuum. The first vacuum area 306b can be a coating area 306b be.

Das Beschichtungsmaterial kann zumindest ein Material der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: ein Metall; ein Übergangsmetall, ein Oxid (z.B. ein Metalloxid oder ein Übergangsmetalloxid); ein Dielektrikum; ein Polymer (z.B. ein Kohlenstoff-basiertes Polymer oder ein Silizium-basiertes Polymer); ein Oxinitrid; ein Nitrid; ein Karbid; eine Keramik; ein Halbmetall (z.B. Kohlenstoff); ein Perowskit; ein Glas oder glasartiges Material (z.B. ein sulfidisches Glas); einen Halbleiter; ein Halbleiteroxid; ein halborganisches Material, und/oder ein organisches Material. Das Beschichtungsmaterial zum Beschichten des Substrats 102 kann mittels der Beschichtungsmaterialquelle 306 bereitgestellt sein oder werden. The coating material may comprise or be formed from at least one material of the following materials: a metal; a transition metal, an oxide (eg, a metal oxide or a transition metal oxide); a dielectric; a polymer (eg, a carbon-based polymer or a silicon-based polymer); an oxynitride; a nitride; a carbide; a ceramic; a semi-metal (eg carbon); a perovskite; a glass or glassy material (eg a sulfidic glass); a semiconductor; a semiconductor oxide; a semi-organic material, and / or an organic material. The coating material for coating the substrate 102 can by means of the coating material source 306 be or be provided.

Beispielsweise kann die Beschichtungsmaterialquelle 306 zum Bereitstellen eines gasförmigen Beschichtungsmaterials (z.B. ein Materialdampf) und/oder flüssigen Beschichtungsmaterials eingerichtet sein, welches z.B. auf dem zumindest einen Substrat 102 zum Bilden einer Schicht abgeschieden werden kann. Eine Beschichtungsmaterialquelle 306 kann zumindest eines von Folgendem aufweisen: eine Sputtervorrichtung, eine thermisch-Verdampfen-Vorrichtung (z.B. einen Laserstrahlverdampfer, einen Lichtbogenverdampfer, einen Elektronenstrahlverdampfer und/oder einen thermischen Verdampfer), eine Präkursorgasquelle, einen Flüssigphasenzerstäuber. Eine Sputtervorrichtung kann zum Zerstäuben des Beschichtungsmaterials mittels eines Plasmas eingerichtet sein. Eine thermisch-Verdampfen Vorrichtung kann zum Überführen des Beschichtungsmaterials in einen gasförmigen Aggregatszustand mittels thermischer Energie eingerichtet sein. Je nach der Beschaffenheit des Beschichtungsmaterials können ein Sublimieren und/oder ein Verdampfen des Beschichtungsmaterials erfolgen. Mit anderen Worten kann die thermisch-Verdampfen-Vorrichtung das Beschichtungsmaterial auch sublimieren. Ein Flüssigphasenzerstäuber kann zum Aufbringen eines Beschichtungsmaterials aus der Flüssigphase eingerichtet sein. For example, the coating material source 306 be provided for providing a gaseous coating material (eg a material vapor) and / or liquid coating material, which eg on the at least one substrate 102 can be deposited to form a layer. A source of coating material 306 may comprise at least one of a sputtering apparatus, a thermal evaporation apparatus (eg, a laser beam evaporator, an arc evaporator, an electron beam evaporator, and / or a thermal evaporator), a precursor gas source, a liquid phase sprayer. A sputtering apparatus may be arranged to atomize the coating material by means of a plasma. A thermal evaporation device may be configured to transfer the coating material to a gaseous state by means of thermal energy. Depending on the nature of the coating material, a sublimation and / or evaporation of the coating material can take place. In other words, the thermal evaporation device can also sublimate the coating material. A liquid phase sprayer may be configured to apply a coating material from the liquid phase.

In dem Vakuumkammergehäuse 802 (z.B. in einer zweiten Vakuumkammer oder in der ersten Vakuumkammer) kann zumindest ein zweiter Vakuumbereich 308b angeordnet sein. Ferner kann in dem Vakuumkammergehäuse 802 (z.B. in der zweiten Vakuumkammer) eine zweite Prozessierquelle 308, z.B. eine Bestrahlungsvorrichtung 308, angeordnet sein. Die zweite Prozessierquelle 308 kann zum Bearbeiten des Beschichtungsmaterials eingerichtet sein, mit dem das Substrat 102 beschichtet ist oder wird, z.B. mittels Wärmestrahlung und/oder mittels Licht. Beispielsweise kann die Prozessierquelle 308 zum Strukturieren oder chemischen Umwandeln des Beschichtungsmaterials eingerichtet sein, mit dem das Substrat 102 beschichtet ist oder wird. Der zweite Vakuumbereich 308b kann ein Bestrahlungsbereich 308b sein. In the vacuum chamber housing 802 (For example, in a second vacuum chamber or in the first vacuum chamber), at least a second vacuum region 308b be arranged. Further, in the vacuum chamber housing 802 (eg in the second vacuum chamber) a second processing source 308 , eg an irradiation device 308 be arranged. The second processing source 308 may be arranged to process the coating material with which the substrate 102 is coated or is, for example by means of thermal radiation and / or by means of light. For example, the processing source 308 be configured for structuring or chemical conversion of the coating material with which the substrate 102 is or will be coated. The second vacuum area 308b can be an irradiation area 308b be.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Vakuumkammergehäuse 802 eine Kammeröffnung zum Freilegen des Inneren des Vakuumkammergehäuses 802 aufweisen. Die Kammeröffnung kann das Innere des Vakuumkammergehäuses 802 beispielsweise in freilegen. Zum Verschließen der Kammeröffnung kann das Vakuumkammergehäuse 802 einen Kammerdeckel aufweisen. According to various embodiments, the vacuum chamber housing 802 a chamber opening for exposing the interior of the vacuum chamber housing 802 exhibit. The chamber opening may be the interior of the vacuum chamber housing 802 for example, in uncover. For closing the chamber opening, the vacuum chamber housing 802 have a chamber lid.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Steuerung 518 zum Steuern und/oder Regeln der ersten Prozessierquelle 306 und/oder der zweiten zweite Prozessierquelle 308 eingerichtet sein, z.B. indem diese eine Materialmenge und/oder thermische Energie (z.B. Strahlungsenergie) steuert und/oder regeln welche pro Zeit in Richtung 105 des Substrats 102 emittiert wird. According to various embodiments, the controller may 518 for controlling and / or Rules of the first processing source 306 and / or the second second processing source 308 be set up, for example by controlling a quantity of material and / or thermal energy (eg radiation energy) and / or regulate which per time in the direction 105 of the substrate 102 is emitted.

Die Prozessieranordnung 800a, 800b kann eine Transportanordnung aufweisen, welche das Transportband 104 aufweist. The processing arrangement 800a . 800b may have a transport arrangement, which the conveyor belt 104 having.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung 800a, 800b eine Substrat-Temperiervorrichtung 1124 aufweisen, welche in dem Vakuumkammergehäuse 802 angeordnet ist. Beispielsweise kann die Steuerung 518 zum Steuern und/oder Regeln der Substrat-Temperiervorrichtung 1124 (z.B. aufweisend eine Heizvorrichtung und/oder ein Kühlvorrichtung) eingerichtet sein, so dass eine Prozesstemperatur (z.B. des Substrat 102 und/oder des Prozessgases), beispielsweise nach dem Prozessieren (z.B. nach dem Beschichten), gesteuert und/oder geregelt werden kann. Beispielsweise kann die Steuerung 518 eingerichtet sein zum Steuern und/oder Regeln einer thermischen Leistung, welche mittels der Substrat-Temperiervorrichtung 1124 zugeführt und/oder mittels dieser entzogen wird. According to various embodiments, the processing arrangement 800a . 800b a substrate temperature control device 1124 which are in the vacuum chamber housing 802 is arranged. For example, the controller 518 for controlling and / or regulating the substrate temperature control device 1124 (eg comprising a heating device and / or a cooling device), so that a process temperature (eg of the substrate 102 and / or the process gas), for example, after processing (eg after coating), controlled and / or regulated. For example, the controller 518 be set up to control and / or regulating a thermal power, which by means of the substrate temperature control device 1124 supplied and / or withdrawn by means of this.

Ferner kann die Prozessieranordnung 800a, 800b eine Transportvorrichtung 508t mit mehreren Transportrollen 508 aufweisen, welche einen Transportpfad 111 definieren, entlang dessen das oder jedes Substrat 102 (z.B. ein plattenförmiges Substrat 102) durch den zumindest einen Vakuumbereich 306b, 308b hindurch transportiert wird, z.B. in eine Transportrichtung 101. Furthermore, the processing arrangement 800a . 800b a transport device 508T with several transport rollers 508 which have a transport path 111 along which the or each substrate 102 (For example, a plate-shaped substrate 102 ) through the at least one vacuum region 306b . 308b is transported through, for example in a transport direction 101 ,

Die Prozessieranordnung 800a, 800b (z.B. deren Transportvorrichtung 508t) kann zumindest zwei Transportrollen 508 aufweisen, mittels denen das Transportband 104 gelagert ist. Das Transportband 104 kann an den zumindest einen Vakuumbereich 306b, 308b angrenzen, in dem das Substrat 102 prozessiert wird. Optional kann das Transportband 104 weggelassen werden, z.B. wenn die Substrate 102 auf den Rollen 508 aufliegend (optional mittels eines Trägers getragen) und/oder von diesen herabhängend (optional mittels eines Trägers getragen) transportiert werden sollen. Dann kann der Abstand einander benachbarter Rollen 508 kleiner sein als deren Durchmesser. The processing arrangement 800a . 800b (eg their transport device 508T ) can have at least two transport rollers 508 by means of which the conveyor belt 104 is stored. The conveyor belt 104 can contact the at least one vacuum area 306b . 308b border, in which the substrate 102 is processed. Optionally, the conveyor belt 104 be omitted, for example when the substrates 102 on the rollers 508 lying on (optionally carried by a carrier) and / or hanging from these (optionally carried by a carrier) to be transported. Then the distance between adjacent roles 508 be smaller than their diameter.

Ferner kann die Prozessieranordnung 800a, 800b ein Antriebssystem 518a aufweisen, welches zumindest mit einem Teil der Vielzahl von Rollen 508 und/oder mit der Abschattungsvorrichtung 106 gekoppelt 518k ist. Beispielsweise kann das Antriebssystem 518a den ersten Antrieb und/oder den zweiten Antrieb aufweisen oder daraus gebildet sein. Optional kann das Antriebssystem 518a die Antriebskopplung 518k aufweisen. Furthermore, the processing arrangement 800a . 800b a drive system 518a having at least part of the plurality of rollers 508 and / or with the shading device 106 coupled 518k is. For example, the drive system 518a have or be formed from the first drive and / or the second drive. Optionally, the drive system 518a the drive coupling 518k exhibit.

Beispielsweise kann das Antriebssystem 518a mittels Wellen, 518k Ketten 518k, Riemen 518k oder Zahnrädern 518k mit dem Teil der Vielzahl von Rollen 508, welche angetrieben werden, und/oder mit der Abschattungsvorrichtung 106 gekoppelt sein. For example, the drive system 518a by means of waves, 518k chain 518k , Straps 518k or gears 518k with the part of the variety of roles 508 , which are driven, and / or with the shading device 106 be coupled.

Die Steuerung 518 kann zum Steuern 518k und/oder Regeln 518k des Antriebssystems 518a eingerichtet sein, z.B. zum Steuern 518k und/oder Regeln 518k einer Transportcharakteristik, z.B. einer Transportgeschwindigkeit und/oder einer Position, des Substrats 102 und/oder der mehreren Strahlungshindernisse 106h, z.B. relativ zueinander. Das Steuern 518k und/oder Regeln 518k des Antriebssystems 518a kann während des Prozessierens des Substrats 102 erfolgen, z.B. während des Beschichtens und/oder Bestrahlens, z.B. auf Grundlage eines Prozessierfortschritts (z.B. eines Beschichtungsfortschritts und/oder eines Bestrahlungsfortschritts) und/oder auf Grundlage einer Transportcharakteristik. The control 518 can to control 518k and / or rules 518k of the drive system 518a be set up, for example, to control 518k and / or rules 518k a transport characteristic, such as a transport speed and / or position, of the substrate 102 and / or the plurality of radiation obstacles 106h , eg relative to each other. The taxes 518k and / or rules 518k of the drive system 518a can during the processing of the substrate 102 take place, for example during the coating and / or irradiation, for example on the basis of a processing progress (eg a coating progress and / or an irradiation progress) and / or on the basis of a transport characteristic.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung 800a, 800b optional zumindest eine Substratvorbehandlung-Vorrichtung 310 (d.h. eine oder mehrere Substratvorbehandlung-Vorrichtungen 310) aufweisen zum Vorbehandeln des Substrats 102, z.B. zum chemischen Aktivieren des Substrats 102. Beispielsweise kann die zumindest eine Substratvorbehandlung-Vorrichtungen 310 eine Ätzvorrichtung aufweisen oder daraus gebildet sein zum Ätzen des Substrats 102. Alternativ oder zusätzlich kann die zumindest eine Substratvorbehandlung-Vorrichtung 310 zumindest eine Sputterätzquelle, zumindest eine Plasmaquelle, zumindest eine Glimmvorrichtung und/oder zumindest eine Ätzgasquelle aufweisen oder daraus gebildet sein. Alternativ oder zusätzlich kann eine Substratnachbehandlung-Vorrichtung 310 verwendet werden, um das Substrat 102, welches mit dem Beschichtungsmaterial beschichtet ist, nachzubehandeln, z.B. ähnlich zu dem Vorbehandeln. Beispielsweise kann das Substrat 102 aufweisend die Beschichtung mit dem Beschichtungsmaterial selektiv geheizt (z.B. getempert) und/oder geätzt werden. According to various embodiments, the processing arrangement 800a . 800b optionally at least one substrate pretreatment device 310 (ie, one or more substrate pretreatment devices 310 ) for pretreating the substrate 102 , eg for chemically activating the substrate 102 , For example, the at least one substrate pretreatment device 310 have an etching device or be formed therefrom for etching the substrate 102 , Alternatively or additionally, the at least one substrate pretreatment device 310 at least one sputter etching source, at least one plasma source, at least one glow device and / or at least one etching gas source have or be formed therefrom. Alternatively or additionally, a substrate aftertreatment device 310 used to the substrate 102 , which is coated with the coating material to post-treat, eg similar to the pretreatment. For example, the substrate 102 having the coating with the coating material selectively heated (eg tempered) and / or etched.

9 veranschaulicht ein Verfahren 900 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem schematischen Ablaufdiagram. Das Verfahren 900 kann z.B. zum Betreiben einer der Prozessieranordnungen 100a bis 800b eingerichtet sein, z.B. mittels der Steuerung. 9 illustrates a method 900 according to various embodiments in a schematic flow diagram. The procedure 900 can eg for operating one of the processing arrangements 100a to 800b be set up, for example by means of the controller.

Das Verfahren 900 kann in 901 aufweisen: Transportieren von mehreren Substraten (z.B. zwei Substraten oder mehr, z.B. mehr als zehn, mehr als fünfzig oder mehr als hundert Substraten) durch einen Bestrahlungsbereich (hindurch oder zumindest in diesem) mittels eines Transportbandes, z.B. mit einer konstanten Geschwindigkeit (auch als Substrattransportgeschwindigkeit bezeichnet) und/oder hintereinander. The procedure 900 can in 901 comprising: transporting a plurality of substrates (eg two or more substrates, eg more than ten, more than fifty or more than one hundred substrates) through an irradiation area (through or at least in this) by means of a conveyor belt, eg at a constant speed (also referred to as the substrate transport speed designated) and / or one behind the other.

Das Verfahren 900 kann ferner in 903 aufweisen: Bestrahlen zumindest eines Substrats (zumindest mehr als eines Substrats, z.B. jedes Substrats, z.B. nacheinander) der mehreren Substrate in dem Bestrahlungsbereich, z.B. mittels der Bestrahlungsvorrichtung 308 und/oder mittels elektromagnetischer Strahlung. Beispielsweise kann das Verfahren 900 in 903 aufweisen: Emittieren von elektromagnetischer Strahlung in den Bestrahlungsbereich hinein (d.h. in diesen hinein und/oder zumindest in Richtung dessen), mittels welcher das zumindest eine Substrat bestrahlt wird. The procedure 900 can also be found in 903 comprising: irradiating at least one substrate (at least more than one substrate, eg each substrate, eg one after the other) of the plurality of substrates in the irradiation area, eg by means of the irradiation device 308 and / or by means of electromagnetic radiation. For example, the method 900 in 903 comprise emitting electromagnetic radiation into (ie into and / or at least in the direction of) the irradiation area, by means of which the at least one substrate is irradiated.

Das Verfahren 900 kann ferner in 905 aufweisen: Abschatten eines Bereichs des Transportbandes, an welchem sich zwei Substrate der mehreren Substrate einander gegenüberliegen, gegenüber dem Bestrahlen mittels eines Strahlungshindernisses, welches gemeinsam mit dem Transportband durch den Bestrahlungsbereich hindurch bewegt wird, z.B. im Wesentlichen mit der Substrattransportgeschwindigkeit (d.h. weniger als 5% davon abweichend) und/oder in Transportrichtung. The procedure 900 can also be found in 905 comprising: shading a portion of the conveyor belt where two substrates of the plurality of substrates face each other from irradiation by a radiation obstruction, which is moved through the irradiation area along with the conveyor belt, eg, substantially at the substrate transport speed (ie, less than 5%). deviating from this) and / or in the transport direction.

10 veranschaulicht ein Verfahren 1000 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem schematischen Ablaufdiagram. Das Verfahren 1000 kann z.B. zum Betreiben einer der Prozessieranordnungen 100a bis 800b eingerichtet sein, z.B. mittels der Steuerung. 10 illustrates a method 1000 according to various embodiments in a schematic flow diagram. The procedure 1000 can eg for operating one of the processing arrangements 100a to 800b be set up, for example by means of the controller.

Das Verfahren 1000 kann in 1001 aufweisen: Transportieren von mehreren Substraten (z.B. zwei Substraten oder mehr, z.B. mehr als zehn, mehr als fünfzig oder mehr als hundert Substraten) durch einen Bestrahlungsbereich hindurch oder zumindest in diesem, z.B. mit einer Substrattransportgeschwindigkeit und/oder hintereinander. The procedure 1000 can in 1001 comprising: transporting a plurality of substrates (eg two substrates or more, eg more than ten, more than fifty or more than one hundred substrates) through an irradiation area or at least in this, for example with a substrate transport speed and / or behind one another.

Das Verfahren 1000 kann ferner in 1003 aufweisen: Bestrahlen zumindest eines Substrats (z.B. mehr als eines Substrats, z.B. jedes Substrats, z.B. nacheinander) der mehreren Substrate in dem Bestrahlungsbereich, z.B. mittels der Bestrahlungsvorrichtung 308 und/oder mittels elektromagnetischer Strahlung. Beispielsweise kann das Verfahren 1000 in 1003 aufweisen: Emittieren von elektromagnetischer Strahlung in den Bestrahlungsbereich hinein (d.h. in diesen hinein und/oder zumindest in Richtung dessen), mittels welcher das zumindest eine Substrat bestrahlt wird. The procedure 1000 can also be found in 1003 comprising: irradiating at least one substrate (eg more than one substrate, eg each substrate, eg one after the other) of the plurality of substrates in the irradiation area, eg by means of the irradiation device 308 and / or by means of electromagnetic radiation. For example, the method 1000 in 1003 comprise emitting electromagnetic radiation into (ie into and / or at least in the direction of) the irradiation area, by means of which the at least one substrate is irradiated.

Das Verfahren 1000 kann ferner in 1005 aufweisen: Abschatten eines Bereichs zwischen einander benachbarten Substraten der mehreren Substraten gegenüber dem Bestrahlen mittels eines Strahlungshindernisses, welches gemeinsam mit den zwei Substraten durch den Bestrahlungsbereich hindurch bewegt wird, z.B. im Wesentlichen mit der Substrattransportgeschwindigkeit (d.h. weniger als 5% davon abweichend) und/oder in Transportrichtung. The procedure 1000 can also be found in 1005 comprising: shielding a region between adjacent substrates of the plurality of substrates from irradiation by means of a radiation obstruction, which is moved through the irradiation region together with the two substrates, eg, substantially at the substrate transport speed (ie, less than 5% thereof) and / or in the transport direction.

Claims (11)

Prozessieranordnung (100a bis 800a), aufweisend: • einen Bestrahlungsbereich (308b); • eine Bestrahlungsvorrichtung (308) zum Emittieren von elektromagnetischer Strahlung in den Bestrahlungsbereich (308b); • eine Transportvorrichtung (508t) zum Transportieren mehrerer Substrate durch den Bestrahlungsbereich (308b) hindurch; und • eine Abschattungsvorrichtung (106), welche mehrere Strahlungshindernisse (106h) aufweist, welche entlang eines Pfades beweglich gelagert sind, der zwischen der Bestrahlungsvorrichtung (308) und der Transportvorrichtung (508t) verläuft. Processing arrangement ( 100a to 800a ), comprising: • an irradiation area ( 308b ); An irradiation device ( 308 ) for emitting electromagnetic radiation into the irradiation area ( 308b ); A transport device ( 508T ) for transporting a plurality of substrates through the irradiation area ( 308b through; and a shading device ( 106 ), which has several radiation obstacles ( 106h ), which are movably mounted along a path which between the irradiation device ( 308 ) and the transport device ( 508T ) runs. Prozessieranordnung (100a bis 800a) gemäß Anspruch 1, ferner aufweisend: wobei die Transportvorrichtung (508t) ein Transportband (104) aufweist. Processing arrangement ( 100a to 800a ) according to claim 1, further comprising: wherein the transport device ( 508T ) a conveyor belt ( 104 ) having. Prozessieranordnung (100a bis 800a) gemäß Anspruch 1 oder 2, eine Steuerung, welche zum Steuern einer Relativposition eines Strahlungshindernisses (106h) der mehreren Strahlungshindernisse (106h) und der Transportvorrichtung (508t) eingerichtet ist derart, dass das Strahlungshindernis (106h) einen Bereich der Transportvorrichtung (508t) gegenüber der Bestrahlungsvorrichtung (308) abschattet, an dem sich zwei Substrate einander gegenüberliegen. Processing arrangement ( 100a to 800a ) according to claim 1 or 2, a controller, which is for controlling a relative position of a radiation obstacle ( 106h ) of the plurality of radiation obstacles ( 106h ) and the transport device ( 508T ) is set up such that the radiation barrier ( 106h ) an area of the transport device ( 508T ) relative to the irradiation device ( 308 ) shaded, on which two substrates face each other. Prozessieranordnung (100a bis 800a) gemäß Anspruch 3, wobei die Steuerung ferner zum Steuern einer Relativgeschwindigkeit der Transportvorrichtung (508t) und des Strahlungshindernisses (106h) zueinander eingerichtet ist derart, dass die Relativgeschwindigkeit kleiner ist als ein Verhältnis aus einer Ausdehnung, welche das Strahlungshindernis (106h) in Transportrichtung aufweist, zu einer Zeitspanne, welche das Strahlungshindernis (106h) zum Durchlaufen des Bestrahlungsbereich (308b) benötigt. Processing arrangement ( 100a to 800a ) according to claim 3, wherein the controller is further adapted to control a relative speed of the transport device ( 508T ) and the radiation obstacle ( 106h ) is arranged such that the relative velocity is smaller than a ratio of an expansion which the radiation obstacle ( 106h ) in the direction of transport, at a time which the radiation barrier ( 106h ) for passing through the irradiation area ( 308b ) needed. Prozessieranordnung (100a bis 800a) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, ferner aufweisend: eine Antriebskopplung (518k), welche die Transportvorrichtung (508t) und die Abschattungsvorrichtung (106) mechanisch und/oder elektrisch miteinander koppelt, so dass zwischen diesen mittels der Antriebskopplung Antriebsenergie ausgetauscht wird und/oder diesen Antriebsenergie mittels der Antriebskopplung synchron zugeführt wird. Processing arrangement ( 100a to 800a ) according to one of claims 1 to 4, further comprising: a drive coupling ( 518k ), which the transport device ( 508T ) and the shading device ( 106 ) mechanically and / or electrically coupled to each other, so that between them by means of the drive coupling drive energy is exchanged and / or this Drive power is supplied synchronously by means of the drive coupling. Prozessieranordnung (100a bis 800a) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei jedes Strahlungshindernis (106h) der mehreren Strahlungshindernisse (106h) quer zu einer Transportrichtung der Transportvorrichtung (508t) längserstreckt ist; und/oder wobei einander benachbarte Strahlungshindernisse (106h) der mehreren Strahlungshindernisse (106h) einen Abstand voneinander in Transportrichtung der Transportvorrichtung (508t) aufweisen. Processing arrangement ( 100a to 800a ) according to one of claims 1 to 5, wherein each radiation obstacle ( 106h ) of the plurality of radiation obstacles ( 106h ) transversely to a transport direction of the transport device ( 508T ) is extended; and / or where adjacent radiation obstacles ( 106h ) of the plurality of radiation obstacles ( 106h ) a distance from each other in the transport direction of the transport device ( 508T ) exhibit. Prozessieranordnung (100a bis 800a) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die Abschattungsvorrichtung (106) eine Förderanordnung aufweist, mittels welcher die mehreren Strahlungshindernisse (106h) gelagert sind. Processing arrangement ( 100a to 800a ) according to one of claims 1 to 6, wherein the shading device ( 106 ) has a conveying arrangement, by means of which the plurality of radiation obstacles ( 106h ) are stored. Prozessieranordnung (100a bis 800a) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei die Abschattungsvorrichtung (106) ein Raster von Montagepositionen bereitstellt, in denen jedes Strahlungshindernis (106h) der mehreren Strahlungshindernisse (106h) montierbar ist. Processing arrangement ( 100a to 800a ) according to one of claims 1 to 7, wherein the shading device ( 106 ) provides a grid of mounting positions in which each radiation barrier ( 106h ) of the plurality of radiation obstacles ( 106h ) is mountable. Prozessieranordnung (100a bis 800a) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei der Pfad in sich geschlossen ist und einen ersten Abschnitt und einen zweiten Abschnitt aufweist, wobei der erste Abschnitt zwischen der Bestrahlungsvorrichtung (308) und der Transportvorrichtung (508t) angeordnet ist; und/oder wobei die Bestrahlungsvorrichtung (308) zwischen dem ersten Abschnitt und dem zweiten Abschnitt angeordnet ist. Processing arrangement ( 100a to 800a ) according to one of claims 1 to 8, wherein the path is self-contained and has a first portion and a second portion, wherein the first portion between the irradiation device ( 308 ) and the transport device ( 508T ) is arranged; and / or wherein the irradiation device ( 308 ) is disposed between the first portion and the second portion. Prozessieranordnung (100a bis 800a) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9, ferner aufweisend: eine Prozessierkammer (802), in welcher der Bestrahlungsbereich (308b) angeordnet ist. Processing arrangement ( 100a to 800a ) according to one of claims 1 to 9, further comprising: a processing chamber ( 802 ), in which the irradiation area ( 308b ) is arranged. Verfahren (1000) zum Bestrahlen von Substraten, aufweisend: • Transportieren (1001) von zwei Substraten durch einen Bestrahlungsbereich; • Bestrahlen (1003) zumindest eines Substrats der zwei Substrate in dem Bestrahlungsbereich; • Abschatten (1005) eines Bereichs zwischen den zwei Substraten gegenüber dem Bestrahlen mittels eines Strahlungshindernisses, welches gemeinsam mit den zwei Substraten durch den Bestrahlungsbereich hindurch bewegt wird. Procedure ( 1000 ) for irradiating substrates, comprising: • transporting ( 1001 ) of two substrates through an irradiation area; • irradiate ( 1003 ) at least one substrate of the two substrates in the irradiation area; • shadowing ( 1005 ) of an area between the two substrates against irradiation by means of a radiation obstruction, which is moved through the irradiation area together with the two substrates.
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