DE102016111566A1

DE102016111566A1 - OPTOELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR MANUFACTURING AN OPTOELECTRONIC COMPONENT

Info

Publication number: DE102016111566A1
Application number: DE102016111566.5A
Authority: DE
Inventors: Thomas Reeswinkel; Kathy Schmidtke
Original assignee: Osram Opto Semiconductors GmbH
Current assignee: Ams Osram International GmbH
Priority date: 2016-06-23
Filing date: 2016-06-23
Publication date: 2017-12-28
Also published as: DE112017003099A5; WO2017220746A1

Abstract

Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement, umfassend: einen Träger aufweisend eine Chipmontagefläche, wobei die Chipmontagefläche eine Reflexionsbeschichtung aufweist, wobei die Reflexionsbeschichtung zumindest teilweise mit einer Thiolatbeschichtung versehen ist, wobei ein optoelektronischer Halbleiterchip mittels eines Klebstoffs auf der Thiolatbeschichtung geklebt ist, wobei eine die Reflexionsbeschichtung zumindest mittelbar bedeckende, von der Thiolatbeschichtung verschiedene Korrosionsschutzschicht gebildet ist. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements.The invention relates to an optoelectronic component, comprising: a carrier having a chip mounting surface, wherein the chip mounting surface has a reflective coating, wherein the reflective coating is at least partially provided with a Thiolatbeschichtung, wherein an optoelectronic semiconductor chip is adhesively bonded to the Thiolatbeschichtung, wherein the reflection coating at least indirectly covering, different from the thiolate coating corrosion protection layer is formed. The invention further relates to a method for producing an optoelectronic component.

Description

Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements.The invention relates to an optoelectronic component. The invention further relates to a method for producing an optoelectronic component.

Träger für optoelektronische Halbleiterchips weisen üblicherweise eine Chipmontagefläche auf, auf welcher ein optoelektronischer Halbleiterchip geklebt ist. Um mittels des optoelektronischen Halbleiterchips emittierte elektromagnetischer Strahlung effizient weg vom Träger zu reflektieren, ist zum Beispiel vorgesehen, dass die Chipmontagefläche eine Reflexionsbeschichtung aufweist, auf welcher der Halbleiterchip geklebt ist. Die Reflexionsbeschichtung ist zum Beispiel eine Silberbeschichtung.Carriers for optoelectronic semiconductor chips usually have a chip mounting surface on which an optoelectronic semiconductor chip is glued. In order to efficiently reflect electromagnetic radiation emitted by the optoelectronic semiconductor chip away from the carrier, it is provided, for example, that the chip mounting surface has a reflection coating on which the semiconductor chip is glued. The reflection coating is, for example, a silver coating.

Die Reflexionsbeschichtung kann aber zum Beispiel unter Einfluss von korrosiven Gasen, zum Beispiel H2S-Gas, aufgrund von Korrosion degradieren und ihre ursprüngliche Farbe ändern. Eine Silberschicht verändert zum Beispiel unter dem Einfluss von H2S-Gas ihre Farbe von einem spiegelnden metallischen Silber zu einer dunkleren Farbe. Aufgrund dieser Farbveränderung nimmt eine Reflektivität einer korrodierten Reflexionsbeschichtung ab. Da die Reflektivität sich abhängig von der Wellenlänge unterschiedlich verändert oder degradiert, kann sich auch die Farbe des reflektierten Lichts gegenüber dem auf die korrodierte Reflexionsbeschichtung einfallenden Licht verändern. Somit kann sich der Farbort des vom optoelektronischen Bauelement emittierten Lichts gegenüber dem nicht-korrodierten Bauelements verändern.However, for example, under the influence of corrosive gases, such as H2S gas, the reflective coating may degrade due to corrosion and change its original color. For example, under the influence of H2S gas, a silver layer changes color from a reflective metallic silver to a darker color. Due to this color change, a reflectivity of a corroded reflection coating decreases. Since the reflectivity changes or degrades differently depending on the wavelength, the color of the reflected light may also change with respect to the light incident on the corroded reflection coating. Thus, the color location of the light emitted by the optoelectronic component can change with respect to the non-corroded component.

Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe ist daher darin zu sehen, ein Konzept bereitzustellen, welches eine effiziente und insbesondere farbstabilere Reflektivität von mittels eines optoelektronischen Halbleiterchips emittierter elektromagnetischer Strahlung ermöglicht.It is therefore an object of the invention to provide a concept which makes possible an efficient and, in particular, more color-stable reflectivity of electromagnetic radiation emitted by means of an optoelectronic semiconductor chip.

Diese Aufgabe wird mittels des jeweiligen Gegenstands der unabhängigen Ansprüche gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand von jeweils abhängigen Unteransprüchen.This object is achieved by means of the subject matter of the independent claims. Advantageous embodiments of the invention are the subject of each dependent subclaims.

Nach einem Aspekt wird ein optoelektronisches Bauelement bereitgestellt, umfassend:

– einen Träger aufweisend eine Chipmontagefläche,
– wobei die Chipmontagefläche eine Reflexionsbeschichtung aufweist,
– wobei die Reflexionsbeschichtung zumindest teilweise mit einer Thiolatbeschichtung versehen ist,
– wobei ein optoelektronischer Halbleiterchip mittels eines Klebstoffs auf der Thiolatbeschichtung geklebt ist,
– wobei eine die Reflexionsbeschichtung zumindest mittelbar bedeckende, von der Thiolatbeschichtung verschiedene Korrosionsschutzschicht gebildet ist.

In one aspect, there is provided an optoelectronic device comprising:

A carrier having a chip mounting surface,
Wherein the chip mounting surface has a reflective coating,
Wherein the reflection coating is at least partially provided with a thiolate coating,
Wherein an optoelectronic semiconductor chip is glued on the thiolate coating by means of an adhesive,
- Wherein a reflection coating is at least indirectly covering, different from the thiolate coating corrosion protection layer is formed.

Nach einem weiteren Aspekt wird ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements bereitgestellt, umfassend die folgenden Schritte:

– Bereitstellen eines eine Chipmontagefläche aufweisenden Trägers, wobei die Chipmontagefläche eine Reflexionsbeschichtung aufweist,
– wobei die Reflexionsbeschichtung zumindest teilweise mit einer Thiolatbeschichtung versehen wird,
– wobei ein optoelektronischer Halbleiterchip mittels eines Klebstoffs auf die Thiolatbeschichtung geklebt wird,
– wobei eine die Reflexionsbeschichtung zumindest mittelbar bedeckende, von der Thiolatbeschichtung verschiedene Korrosionsschutzschicht gebildet wird.

According to a further aspect, a method for producing an optoelectronic component is provided, comprising the following steps:

Providing a chip mounting surface having a carrier, wherein the chip mounting surface has a reflective coating,
Wherein the reflection coating is at least partially provided with a thiolate coating,
Wherein an optoelectronic semiconductor chip is adhesively bonded to the thiolate coating,
- In which a reflection coating is at least indirectly covering, different from the thiolate coating corrosion protection layer is formed.

Es hat sich gezeigt, dass durch thermischen und/oder mechanischen Stress die Korrosionsschutzschicht Risse bekommen kann. It has been shown that the corrosion protection layer can crack due to thermal and / or mechanical stress.

Durch solche Risse kann zum Beispiel ein korrosives Gas, zum Beispiel H2S-Gas, bis zum Klebstoff vordringen, durch diesen durchdiffundieren und dann die Reflexionsbeschichtung angreifen und letztlich korrodieren. Die Risse treten vornehmlich an Orten auf, an denen sich eine Grenzfläche zwischen der Korrosionsschutzschicht und dem Klebstoff einstellt.Such cracks, for example, allow a corrosive gas, for example, H2S gas, to penetrate to the adhesive, to diffuse therethrough, and then to attack and ultimately corrode the reflective coating. The cracks occur primarily at locations where an interface between the anticorrosion layer and the adhesive is established.

Die Thiolatbeschichtung kann zwar das Bilden der Risse in der Korrosionsschutzschicht nicht verhindern. Doch die Thiolatbeschichtung wirkt als ein zusätzlicher (zusätzlich, da ja die Korrosionsschutzschicht ebenfalls vorhanden ist) Korrosionsschutz für die Reflexionsbeschichtung. Das heißt, dass die Thiolatbeschichtung eine Korrosionsschutzfunktion aufweist.Although the thiolate coating can not prevent the formation of cracks in the anticorrosion layer. But the Thiolatbeschichtung acts as an additional (in addition, since the corrosion protection layer is also present) corrosion protection for the reflection coating. This means that the thiolate coating has a corrosion protection function.

Das heißt also insbesondere, dass durch das Vorsehen einer Thiolatbeschichtung für zumindest den Abschnitt der Reflexionsbeschichtung, auf welchen der Halbleiterchip geklebt wird, ein effizienter Korrosionsschutz vor korrosiven Gasen, zum Beispiel ein H2S-Gas, für den Abschnitt der Reflexionsbeschichtung bereitgestellt wird, der mittels des Halbleiterchips bedeckt ist, also auf welchem der Halbleiterchip geklebt ist.That is, in particular, that by providing a thiolate coating for at least the portion of the reflective coating to which the semiconductor chip is adhered, effective corrosion protection against corrosive gases, for example, H2S gas, is provided for the portion of the reflective coating formed by the Semiconductor chips is covered, so on which the semiconductor chip is glued.

Durch das Vorsehen des Korrosionsschutzes für den Abschnitt der Reflexionsbeschichtung, auf welchem der Halbleiterchip geklebt ist, wird somit insbesondere der technische Vorteil bewirkt, dass eine Reflektivität der Reflexionsbeschichtung zumindest teilweise erhalten bleibt.By providing the corrosion protection for the portion of the reflective coating, on which the semiconductor chip is glued, thus the technical advantage is in particular caused that a Reflectivity of the reflective coating is at least partially preserved.

Ein Thiol bezeichnet einen Thiolalkohol, der eine organischchemische Verbindung ist, die eine oder mehrere aliphatisch oder aromatisch gebundene Thiolgruppen, auch Mercaptogruppen genannt (-SH), also funktionelle Gruppen, trägt. Ein Thiolalkohol entspricht somit einem Alkohol, dessen Sauerstoffatom durch ein Schwefelatom ersetzt ist. Die allgemeine Struktur eines Thiols ist: R-SH, wobei SH als die Thiolgruppe oder die Mercaptogruppe bezeichnet wird, wobei R ein Platzhalter für ein Molekül oder eine Molekülkette ist, zum Beispiel steht R für ein organisches Molekül oder eine organische Molekülkette.A thiol refers to a thiol alcohol, which is an organic chemical compound carrying one or more aliphatically or aromatically bound thiol groups, also called mercapto groups (-SH), ie functional groups. A thiol alcohol thus corresponds to an alcohol whose oxygen atom is replaced by a sulfur atom. The general structure of a thiol is: R-SH, where SH is referred to as the thiol group or the mercapto group, where R is a spacer for a molecule or molecular chain, for example R is an organic molecule or chain.

Durch das Aufbringen eines Thiols auf eine Oberfläche, bildet sich eine Monolage R-S (Thiolat) auf der Oberfläche aus. Diese Monolage bewirkt, dass keine weiteren Moleküle, beispielsweise H2S, mit der Oberfläche reagieren können, so dass hierüber ein effizienter Korrosionsschutz bereitgestellt werden kann. Wichtig für einen effizienten Korrosionsschutz ist die Beschaffenheit der Oberfläche, speziell die Anbindung des Thiols, und die Belegungsdichte. Beides kann beispielsweise durch eine vorhergehende Reinigung und/oder Aktivierung der Oberfläche verbessert werden, was gemäß einer Ausführungsform so vorgesehen ist respektive wird.By applying a thiol to a surface, a monolayer R-S (thiolate) forms on the surface. This monolayer ensures that no other molecules, such as H2S, can react with the surface, so that an efficient corrosion protection can be provided. Important for an efficient corrosion protection is the condition of the surface, especially the binding of the thiol, and the coverage density. Both can be improved, for example, by a previous cleaning and / or activation of the surface, which according to one embodiment is or will be so provided.

Nach einer Ausführungsform ist eine Alkylkette mit der Thiolgruppe verbunden.In one embodiment, an alkyl chain is linked to the thiol group.

R ist beispielsweise eine Alkyl- oder Alkoxy-Gruppe oder Siloxan-Kette. Dadurch kann in vorteilhafter Weiseeine Kompatibilität mit dem Klebstoff bewirkt werden.R is, for example, an alkyl or alkoxy group or siloxane chain. As a result, compatibility with the adhesive can advantageously be effected.

Die Länge der Alkylkette beträgt beispielsweise 5 bis 50 Einheiten, was etwa 0,5 nm bis etwa 5 nm entspricht.The length of the alkyl chain is, for example, 5 to 50 units, which corresponds to about 0.5 nm to about 5 nm.

Zum Beispiel ist die Alkylkette ein Octadecan, so dass das Thiol ein Octadecan-thiol ist. Diese Alkylkette ist zum Beispiel etwa 2 nm lang. For example, the alkyl chain is an octadecane such that the thiol is an octadecan-thiol. This alkyl chain is about 2 nm long, for example.

Vorzugsweise beträgt eine Länge der Alkylkette 10 bis 25, insbesondere 15 bis 20, Kohlenstoffatome, also um die 1 bis 2,5 nm.A length of the alkyl chain is preferably from 10 to 25, in particular from 15 to 20, carbon atoms, that is to say from 1 to 2.5 nm.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Klebstoff Reflexionspartikel zum Reflektieren von mittels des Halbleiterchips emittierter elektromagnetischer Strahlung aufweist.In one embodiment, it is provided that the adhesive has reflection particles for reflecting electromagnetic radiation emitted by means of the semiconductor chip.

Dadurch wird insbesondere der technische Vorteil bewirkt, dass die Reflexionspartikel effizient elektromagnetische Strahlung reflektieren, die mittels des Halbleiterchips in seinem Betrieb emittiert wird. Somit bewirken diese Reflexionspartikel in vorteilhafter Weise eine effiziente Reflexion der emittierten elektromagnetischen Strahlung weg vom Träger. Dies kompensiert in vorteilhafter Weise eine mögliche Verschlechterung der Reflektivität der Reflexionsbeschichtung aufgrund eines degradierenden Einflusses eines korrosiven Gases.As a result, the technical advantage in particular that the reflection particles efficiently reflect electromagnetic radiation which is emitted by means of the semiconductor chip in its operation is brought about. Thus, these reflection particles advantageously effect an efficient reflection of the emitted electromagnetic radiation away from the carrier. This advantageously compensates for a possible deterioration of the reflectivity of the reflection coating due to a degrading influence of a corrosive gas.

Das heißt also, dass die Reflexionspartikel des Klebstoffs zwar eine mögliche Verschlechterung der Reflektivität der Reflexionsbeschichtung aufgrund des degradierenden Einflusses eines korrosiven Gases nicht verhindern können, doch zumindest können sie diese mögliche Verschlechterung zumindest teilweise kompensieren.This means that the reflection particles of the adhesive can not prevent a possible deterioration of the reflectivity of the reflection coating due to the degrading influence of a corrosive gas, but at least they can at least partially compensate for this possible deterioration.

Es hat sich, wie vorstehend bereits beschrieben, gezeigt, dass durch thermischen und/oder mechanischen Stress die Korrosionsschutzschicht Risse bekommen kann. Durch solche Risse kann zum Beispiel ein korrosives Gas, zum Beispiel H2S-Gas, bis zum Klebstoff vordringen, durch diesen durchdiffundieren und dann die Reflexionsbeschichtung angreifen und letztlich korrodieren. Die Risse treten vornehmlich an Orten auf, an denen sich eine Grenzfläche zwischen der Korrosionsschutzschicht und dem Klebstoff einstellt.As already described above, it has been shown that the corrosion protection layer can crack due to thermal and / or mechanical stress. Such cracks, for example, allow a corrosive gas, for example, H2S gas, to penetrate to the adhesive, to diffuse therethrough, and then to attack and ultimately corrode the reflective coating. The cracks occur primarily at locations where an interface between the anticorrosion layer and the adhesive is established.

Die Reflexionspartikel können zwar eine solche Korrosion nicht verhindern. Dennoch wird durch das Vorsehen der Reflexionspartikel ein Mindestmaß an Reflektivität bereitgestellt, so dass eine Mindestreflexion der elektromagnetischen Strahlung auch dann bewirkt werden kann, wenn im Extremfall die gesamte unter dem Klebstoff liegende Reflexionsbeschichtung korrodiert ist und somit selbst nicht mehr effizient die elektromagnetische Strahlung reflektieren kann.The reflection particles can not prevent such corrosion. Nevertheless, the provision of the reflection particles provides a minimum amount of reflectivity, so that a minimum reflection of the electromagnetic radiation can be effected even if in extreme cases the entire reflection coating underlying the adhesive has corroded and thus can no longer efficiently reflect the electromagnetic radiation itself.

Ferner hat es sich gezeigt, dass sich aufgrund einer solchen Korrosion der Farbort einer mittels der korrodierten Reflexionsbeschichtung reflektierten elektromagnetischen Strahlung im Vergleich zu der auf die korrodierte Reflexionsbeschichtung einfallende elektromagnetische Strahlung verändern kann. Das heißt also insbesondere, dass sich der Farbort der ursprünglich mittels des Halbleiterchips emittierten elektromagnetischen Strahlung aufgrund einer Reflexion an einem korrodierten Ort der Reflexionsbeschichtung verschieben kann. Diese Farbortverschiebung wird aber in vorteilhafter Weise durch die Reflexionspartikel, die stets ein Mindestmaß an Reflektivität ohne Farbortverschiebung bewirken, zumindest teilweise kompensiert. Somit fällt eine mögliche Farbortverschiebung aufgrund einer Korrosion deutlich geringer aus als bei der Verwendung eines Klebstoffs, der frei von Reflexionspartikeln ist.Further, it has been found that due to such corrosion, the color location of an electromagnetic radiation reflected by the corroded reflection coating may change as compared to the electromagnetic radiation incident on the corroded reflection coating. This means, in particular, that the color locus of the electromagnetic radiation originally emitted by means of the semiconductor chip can shift due to reflection at a corroded location of the reflection coating. However, this color locus shift is at least partially compensated by the reflection particles, which always cause a minimum of reflectivity without color locus shift. Thus, a possible Farbortverschiebung due to corrosion is much lower than when using an adhesive that is free of reflection particles.

Somit kann in vorteilhafter Weise das optoelektronische Bauelement auch in Umgebungen eingesetzt werden, die korrosive Gase aufweisen.Thus, advantageously, the optoelectronic device can also be used in environments that have corrosive gases.

Eine Reflexionsbeschichtung umfasst nach einer Ausführungsform eine Silberschicht und/oder eine eine Silberlegierung aufweisende Schicht. A reflective coating according to one embodiment comprises a silver layer and / or a layer comprising a silver alloy.

Die Formulierung „bedecken“ oder „bedeckt“ umfasst insbesondere die Formulierung „beschichten“ oder „beschichtet“.The term "cover" or "covered" includes in particular the words "coat" or "coated".

Ein Halbleiterchip ist nach einer Ausführungsform als ein Leuchtdiodenchip ausgebildet. Der Leuchtdiodenchip ist nach einer Ausführungsform als ein Volumenemitter ausgebildet.A semiconductor chip is designed according to one embodiment as a light-emitting diode chip. The LED chip is formed according to one embodiment as a volume emitter.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Klebstoff zumindest teilweise einen um den Halbleiterchip umlaufenden Randbereich bedeckt. Der Klebstoff steht somit sozusagen über den Halbleiterchip über. Die Korrosionsschutzschicht ist hier dann unter anderem auf dem überstehenden Klebstoff, also auf dem Klebstoff, der den Randbereich zumindest teilweise bedeckt, angeordnet.In one embodiment, it is provided that the adhesive at least partially covers an edge region surrounding the semiconductor chip. The adhesive thus stands over the semiconductor chip, as it were. The anticorrosive layer is here then inter alia on the protruding adhesive, ie on the adhesive which covers the edge region at least partially arranged.

Dass der Klebstoff überstehen kann, kann zum Beispiel aus prozesstechnischen Gründen resultieren. Beispielsweise wird beim Andrücken des Halbleiterchips auf die Chipmontagefläche Klebstoff unter dem Halbleiterchip herausgedrückt.The fact that the adhesive can survive may, for example, result from process engineering reasons. For example, when the semiconductor chip is pressed onto the chip mounting surface, adhesive is pressed out below the semiconductor chip.

Der überstehende Klebstoff ist insbesondere mittels der Korrosionsschutzschicht bedeckt oder versehen.The excess adhesive is covered or provided in particular by means of the anticorrosion layer.

Die Formulierung „zumindest teilweise“ umfasst insbesondere die Formulierung „vollständig“.The phrase "at least partially" includes in particular the phrase "complete".

Die Formulierung „zumindest mittelbar bedeckt“ umfasst insbesondere die Formulierung „mittelbar bedeckt“, also zum Beispiel einen indirekten Kontakt zwischen der Korrosionsschutzschicht und der Reflexionsbeschichtung. Die Formulierung „zumindest mittelbar bedeckt“ umfasst insbesondere die Formulierung „unmittelbar bedeckt“, also zum Beispiel einen direkten Kontakt zwischen der Korrosionsschutzschicht und der Reflexionsbeschichtung.The expression "at least indirectly covered" includes in particular the formulation "indirectly covered", ie, for example, an indirect contact between the anticorrosion layer and the reflection coating. The term "at least indirectly covered" includes in particular the formulation "directly covered", that is, for example, a direct contact between the anticorrosion layer and the reflection coating.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass die Thiolatbeschichtung zusätzlich zwischen der Reflexionsbeschichtung und der Korrosionsschutzschicht gebildet ist, so dass die Korrosionsschutzschicht die Reflexionsbeschichtung mittelbar bedeckt.In one embodiment, it is provided that the thiolate coating is additionally formed between the reflection coating and the corrosion protection layer, so that the corrosion protection layer indirectly covers the reflection coating.

Dadurch wird zum Beispiel der technische Vorteil bewirkt, dass die Reflexionsbeschichtung einen doppelten Korrosionsschutz aufweist: Die Thiolatbeschichtung und die Korrosionsschutzschicht.This has the technical advantage, for example, that the reflection coating has a double corrosion protection: the thiolate coating and the corrosion protection layer.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Halbleiterchip eine Unterseite und eine der Unterseite gegenüberliegende Oberseite aufweist, wobei der Halbleiterchip mit seiner Unterseite der Chipmontagefläche zugewandt auf der Thiolatbeschichtung geklebt ist, so dass zwischen der Unterseite und der Thiolatbeschichtung eine aus Klebstoff gebildete und die Unterseite und die Thiolatbeschichtung jeweils zumindest teilweise, beispielsweise vollständig (also vollflächig), kontaktierende Klebstoffschicht gebildet ist. Das heißt also insbesondere, dass die Klebstoffschicht die Unterseite zumindest teilweise, insbesondere vollständig, kontaktiert oder bedeckt. Das heißt also insbesondere, dass die Klebstoffschicht die Thiolatbeschichtung teilweise bedeckt, wenn diese größer ist als die Unterseite, oder dass die Klebstoffschicht die Thiolatbeschichtung beispielsweise vollständig bedeckt, wenn diese der Größe der Unterseite entspricht.In one embodiment, it is provided that the semiconductor chip has a bottom side and a bottom side opposite the underside, wherein the semiconductor chip is glued with its underside facing the chip mounting surface facing the thiolate coating, so that between the bottom and the Thiolatbeschichtung an adhesive formed and the bottom and the thiolate coating is formed in each case at least partially, for example completely (ie over the whole area), contacting adhesive layer. This means, in particular, that the adhesive layer at least partially, in particular completely, contacts or covers the underside. This means, in particular, that the adhesive layer partially covers the thiolate coating, if it is larger than the underside, or that the adhesive layer completely covers the thiolate coating, for example, if it corresponds to the size of the underside.

Sofern der Klebstoff gemäß einer Ausführungsform Reflexionspartikel aufweist, wird dadurch insbesondere der technische Vorteil bewirkt, dass unmittelbar unterhalb des Halbleiterchips eine Reflexionsschicht gebildet ist, die Klebstoffschicht umfassend die Reflexionspartikel, so dass die Reflexionsschicht effizient die mittels des Halbleiterchips emittierte elektromagnetische Strahlung reflektieren kann. Dies ist zum Beispiel von besonderem Vorteil, wenn der Halbleiterchip als ein als Volumenemitter ausgebildeter Leuchtdiodenchip ausgebildet ist.If, according to one embodiment, the adhesive comprises reflection particles, the technical advantage in particular that a reflection layer is formed immediately below the semiconductor chip, the adhesive layer comprising the reflection particles, so that the reflection layer can efficiently reflect the electromagnetic radiation emitted by the semiconductor chip. This is for example of particular advantage if the semiconductor chip is designed as a light-emitting diode chip designed as a volume emitter.

Aufgrund von Prozesstoleranzen kann es vorkommen, dass die Klebstoffschicht die Unterseite des Halbleiterchips unvollständig, also nicht vollflächig, bedeckt oder kontaktiert. Die allgemeine Formulierung, dass eine Klebstoffschicht zwischen der Unterseite des Halbleiterchips und der Reflexionsbeschichtung vorgesehen oder gebildet ist respektive wird, umfasst sowohl den Fall einer vollflächigen, also vollständigen, Kontaktierung als auch den Fall einer unvollständigen Kontaktierung.Due to process tolerances, it may happen that the adhesive layer covers or contacts the underside of the semiconductor chip incompletely, ie not over the entire surface. The general formulation that an adhesive layer is provided or formed between the underside of the semiconductor chip and the reflective coating comprises both the case of full-surface, ie complete, contacting and the case of incomplete contacting.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass frei liegende Oberflächen des Halbleiterchips und/oder des Trägers mittels der Korrosionsschutzschicht bedeckt sind.In one embodiment, it is provided that exposed surfaces of the semiconductor chip and / or of the carrier are covered by means of the corrosion protection layer.

Dadurch wird insbesondere der technische Vorteil bewirkt, dass auch die frei liegenden Oberflächen effizient gegen korrosive Gase geschützt werden können.As a result, the technical advantage in particular that the exposed surfaces can be efficiently protected against corrosive gases in particular.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Halbleiterchip mittels eines Bonddrahts oder mittels zweier Bonddrähte elektrisch kontaktiert ist, wobei der oder die Bonddrähte mittels der Korrosionsschutzschicht bedeckt ist respektive sind.In one embodiment, it is provided that the semiconductor chip is electrically contacted by means of a bonding wire or by means of two bonding wires, wherein the bonding wire or wires is covered by the corrosion protection layer or are.

Dadurch wird insbesondere der technische Vorteil bewirkt, dass auch der oder die Bonddrähte effizient gegen korrosive Gase geschützt werden kann respektive können.As a result, the technical advantage in particular that the bonding wire or wires can be efficiently protected against corrosive gases is or can be achieved.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Träger als ein Element ausgewählt aus der folgenden Gruppe von Trägern ausgebildet ist: Leadframe, Leiterplatte, Keramikträger. Ein Leadframe kann im Deutschen auch als Leiterrahmen oder Anschlussrahmen bezeichnet werden. In an embodiment, it is provided that the carrier is formed as an element selected from the following group of carriers: leadframe, printed circuit board, ceramic carrier. A leadframe can be referred to in German as a lead frame or lead frame.

In einer Ausführungsform ist ferner ein elektronisches Bauteil, insbesondere eine in einen den Halbleiterchip umfassenden Stromkreis geschaltete ESD-Schutzdiode, vorgesehen, das nach einer weiteren Ausführungsform mittels der Korrosionsschutzschicht zumindest mittelbar bedeckt ist.In one embodiment, an electronic component, in particular an ESD protection diode connected in a circuit comprising the semiconductor chip, is also provided, which according to a further embodiment is covered at least indirectly by means of the corrosion protection layer.

Dadurch wird insbesondere der technische Vorteil bewirkt, dass das elektronische Bauteil effizient gegen korrosive Gase geschützt werden kann.As a result, the technical advantage, in particular, is achieved that the electronic component can be efficiently protected against corrosive gases.

Die Formulierung „zumindest mittelbar bedeckt“ umfasst insbesondere die Formulierung „mittelbar bedeckt“, also zum Beispiel einen indirekten Kontakt zwischen der Korrosionsschutzschicht und dem elektronischen Bauteil. Die Formulierung „zumindest mittelbar bedeckt“ umfasst insbesondere die Formulierung „unmittelbar bedeckt“, also zum Beispiel einen direkten Kontakt zwischen der Korrosionsschutzschicht und dem elektronischen Bauteil.The expression "at least indirectly covered" includes in particular the formulation "indirectly covered", ie, for example, an indirect contact between the anticorrosion layer and the electronic component. The term "at least indirectly covered" includes in particular the formulation "directly covered", that is, for example, a direct contact between the anticorrosion layer and the electronic component.

Zum Beispiel ist das elektronische Bauteil mittels eines weiteren Klebstoffs auf dem Träger geklebt. Der weitere Klebstoff ist nach einer Ausführungsform wie ein Klebstoff umfassend Reflexionspartikel gemäß der vorliegenden Erfindung ausgebildet. Ausführungen und beschriebene Vorteile und technische Effekte, die im Zusammenhang mit dem Klebstoff gemacht sind, der verwendet wird respektive ist, um den Halbleiterchip auf die Chipmontagefläche zu kleben, gelten analog für den weiteren Klebstoff und umgekehrt. Das heißt also insbesondere, dass auch der weitere Klebstoff nach einer Ausführungsform Reflexionspartikel umfasst.For example, the electronic component is glued to the carrier by means of another adhesive. The further adhesive according to one embodiment is formed like an adhesive comprising reflection particles according to the present invention. Embodiments and described advantages and technical effects that are made in connection with the adhesive that is used or is to adhere the semiconductor chip to the chip mounting surface, apply analogously to the other adhesive and vice versa. This means, in particular, that the further adhesive also comprises reflection particles according to one embodiment.

Ein Klebstoff im Sinne dieser Erfindung umfasst nach einer Ausführungsform Silberpartikel. Das heißt insbesondere, dass der Klebstoff als ein Silberleitkleber ausgebildet ist.An adhesive according to this invention comprises silver particles in one embodiment. This means, in particular, that the adhesive is designed as a silver conductive adhesive.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass die Thiolatbeschichtung zusätzlich zwischen dem elektronischen Bauteil und der das elektronische Bauteil bedeckenden Korrosionsschutzschicht gebildet ist, so dass die Korrosionsschutzschicht das elektronische Bauteil mittelbar bedeckt.In one embodiment, it is provided that the thiolate coating is additionally formed between the electronic component and the corrosion protection layer covering the electronic component, so that the corrosion protection layer indirectly covers the electronic component.

Nach einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass die Korrosionsschutzschicht eine oder mehrere anorganische Schichten, insbesondere Al2O3-Schicht, SiO2-Schicht, Si3N4-Schicht, TiO2-Schicht, ZnO2-Schicht, Ta2O5-Schicht, Ge3N4-Schicht, ZrO2-Schicht, umfasst.According to one embodiment, it is provided that the corrosion protection layer comprises one or more inorganic layers, in particular Al 2 O 3 layer, SiO 2 layer, Si 3 N 4 layer, TiO 2 layer, ZnO 2 layer, Ta 2 O 5 layer, Ge 3 N 4 layer, ZrO 2 layer.

Die Korrosionsschutzschicht ist also beispielsweise als ein Schichtenstapel oder als eine Schichtanordnung gebildet.The corrosion protection layer is thus formed, for example, as a layer stack or as a layer arrangement.

In einer Ausführungsform beträgt eine Dicke der Korrosionsschutzschicht zwischen 5 nm und 100 nm.In one embodiment, a thickness of the anticorrosion layer is between 5 nm and 100 nm.

Zum Beispiel wird eine anorganische Schicht mittels eines Sputter-Verfahrens respektive eines PECVD-Verfahrens respektive eines ALD-Verfahrens aufgebracht. „ALD“ steht für "Atomic Layer Deposition" und wird mit Atomlagenabscheidung übersetzt. "PECVD" steht für "Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition" und wird mit plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung übersetzt.For example, an inorganic layer is applied by means of a sputtering method or a PECVD method or an ALD method, respectively. "ALD" stands for "Atomic Layer Deposition" and is translated with atomic layer deposition. "PECVD" stands for "Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition" and is translated with plasma enhanced chemical vapor deposition.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass die Reflexionspartikel ein oder mehrere Elemente ausgewählt aus der folgenden Gruppe von Reflexionspartikeln umfassen: Titandioxid(TiO2)-Partikel, Aluminiumoxid(Al2O3)-Partikel, SiO2-Partikel, ZnO2-Partikel, ZnO-Partikel.In one embodiment, it is provided that the reflection particles comprise one or more elements selected from the following group of reflection particles: titanium dioxide (TiO 2) particles, aluminum oxide (Al 2 O 3) particles, SiO 2 particles, ZnO 2 particles, ZnO particles.

Durch das Vorsehen dieser Reflexionspartikel wird insbesondere eine effiziente Reflexion bewirkt.By providing these reflection particles in particular an efficient reflection is effected.

In einer Ausführungsform sind die Reflexionspartikel als weiße Reflexionspartikel ausgebildet. Somit bewirken die Reflexionspartikel einen weißen Farbeindruck. Solche Reflexionspartikel können auch als weiße Reflexionspartikel bezeichnet werden. Weiße Reflexionspartikel weisen insbesondere den technischen Vorteil auf, dass sie besonders effizient die emittierte elektromagnetische Strahlung reflektieren können und einen Farbort der emittierten elektromagnetischen Strahlung nicht verändern.In one embodiment, the reflection particles are formed as white reflection particles. Thus, the reflection particles cause a white color impression. Such reflection particles can also be referred to as white reflection particles. In particular, white reflection particles have the technical advantage that they can particularly efficiently reflect the emitted electromagnetic radiation and do not change a color locus of the emitted electromagnetic radiation.

In einer weiteren Ausführungsform ist vorgesehen, dass eine Partikelgröße der Reflexionspartikel im Bereich zwischen 0,1 µm und 5 µm liegt.In a further embodiment, it is provided that a particle size of the reflection particles is in the range between 0.1 μm and 5 μm.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass ein Massenanteil der Reflexionspartikel im Bereich zwischen 50% und 80% liegt. Insbesondere ist der Massenanteil 70%, beispielsweise 73%.In one embodiment, it is provided that a mass fraction of the reflection particles is in the range between 50% and 80%. In particular, the mass fraction is 70%, for example 73%.

Nach einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Klebstoff ein oder mehrere der folgenden Materialien oder Werkstoffe umfasst: Silikon respektive Siloxan-basierte Materialien, Silikon-Epoxid, Epoxid, Acrylat.According to one embodiment, it is provided that the adhesive comprises one or more of the following materials or materials: silicone or siloxane-based materials, silicone epoxy, epoxy, acrylate.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Halbleiterchip mittels eines Verkapselungswerkstoffs verkapselt oder vergossen ist.In one embodiment, it is provided that the semiconductor chip is encapsulated or encapsulated by means of an encapsulation material.

Dadurch ist zum Beispiel der technische Vorteil bewirkt, dass der Halbleiterchip effizient vor mechanischen Beschädigungen geschützt werden kann.As a result, for example, the technical advantage causes the semiconductor chip to be efficient mechanical damage can be protected.

Zum Beispiel umfasst der Verkapselungswerkstoff einen oder mehrere Leuchtstoffe. Mehrere Leuchtstoffe können auch als Leuchtstoffkombination bezeichnet werden.For example, the encapsulant includes one or more phosphors. Several phosphors can also be referred to as a phosphor combination.

Insbesondere umfasst der Verkapselungswerkstoff ein Silikon respektive ein silikonbasiertes Material. Der Leuchtstoff oder die mehreren Leuchtstoffen ist respektive sind zum Beispiel in dem Silikon eingebettet.In particular, the encapsulation material comprises a silicone or a silicone-based material. The phosphor or the plurality of phosphors are respectively embedded in the silicone, for example.

Nach einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass das optoelektronische Bauelement mittels des Verfahrens zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements hergestellt ist respektive wird.According to one embodiment, it is provided that the optoelectronic component is produced or is produced by means of the method for producing an optoelectronic component.

Technische Funktionalitäten des Verfahrens zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements ergeben sich analog aus entsprechenden technischen Funktionalitäten des optoelektronischen Bauelements. Das heißt also insbesondere, dass sich Verfahrensmerkmale aus entsprechenden Merkmalen des optoelektronischen Bauelements ergeben und umgekehrt.Technical functionalities of the method for producing an optoelectronic component arise analogously from corresponding technical functionalities of the optoelectronic component. This means, in particular, that process features result from corresponding features of the optoelectronic component and vice versa.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass die Thiolatbeschichtung derart gebildet wird, dass die Thiolatbeschichtung zusätzlich zwischen der Reflexionsbeschichtung und der Korrosionsschutzschicht gebildet ist, so dass die Korrosionsschutzschicht die Reflexionsbeschichtung mittelbar bedeckt.In one embodiment, it is provided that the thiolate coating is formed in such a way that the thiolate coating is additionally formed between the reflection coating and the anticorrosion layer, so that the anticorrosive layer indirectly covers the reflection coating.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Halbleiterchip eine Unterseite und eine der Unterseite gegenüberliegende Oberseite aufweist, wobei der Halbleiterchip mit seiner Unterseite der Chipmontagefläche zugewandt auf die Thiolatbeschichtung geklebt wird, so dass zwischen der Unterseite und der Thiolatbeschichtung eine aus Klebstoff gebildete und die Unterseite und die Thiolatbeschichtung zumindest teilweise, beispielsweise vollständig (also vollflächig), kontaktierende Klebstoffschicht gebildet wird. Das heißt also insbesondere, dass die Klebstoffschicht die Unterseite zumindest teilweise, insbesondere vollständig, kontaktiert oder bedeckt. Das heißt also insbesondere, dass die Klebstoffschicht die Thiolatbeschichtung teilweise bedeckt, wenn diese größer ist als die Unterseite, oder dass die Klebstoffschicht die Thiolatbeschichtung beispielsweise vollständig bedeckt, wenn diese der Größe der Unterseite entspricht.In one embodiment, it is provided that the semiconductor chip has a lower side and a lower side opposite the upper side, wherein the semiconductor chip is glued with its underside of the chip mounting surface facing the thiolate coating, so that between the bottom and the Thiolatbeschichtung an adhesive formed and the underside and the Thiolatbeschichtung is at least partially, for example, completely (ie, full surface), contacting adhesive layer is formed. This means, in particular, that the adhesive layer at least partially, in particular completely, contacts or covers the underside. This means, in particular, that the adhesive layer partially covers the thiolate coating, if it is larger than the underside, or that the adhesive layer completely covers the thiolate coating, for example, if it corresponds to the size of the underside.

Nach einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Halbleiterchip eine Unterseite und eine der Unterseite gegenüberliegende Oberseite aufweist, wobei der Halbleiterchip mit seiner Unterseite der Chipmontagefläche zugewandt auf die Chipmontagefläche geklebt wird, so dass zwischen der Unterseite und dem ersten Kontaktabschnitt eine aus Klebstoff gebildete Klebstoffschicht gebildet wird. Vorzugsweise ist vorgesehen, dass die Klebstoffschicht die Unterseite des Halbleiterchips vollflächig kontaktiert, also berührt. Gemäß dieser Ausführungsform (siehe auch Ausführungsform weiter oben) wird also eine die Unterseite des Halbleiterchips vollflächig kontaktierende Klebstoffschicht gebildet. Vollflächig bedeutet hier vollständig.According to one embodiment, it is provided that the semiconductor chip has a lower side and an upper side opposite the underside, the semiconductor chip being glued with its underside facing the chip mounting surface facing the chip mounting surface, so that an adhesive layer formed from adhesive is formed between the underside and the first contact section , It is preferably provided that the adhesive layer contacts the underside of the semiconductor chip over its entire area, that is to say it touches it. According to this embodiment (see also the embodiment above), therefore, an adhesive layer which makes contact with the underside of the semiconductor chip over its entire area is formed. Full surface means here completely.

Nach einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass frei liegende Oberflächen des Halbleiterchips und/oder des Trägers nach dem Kleben mittels der Korrosionsschutzschicht bedeckt werden.According to one embodiment, it is provided that exposed surfaces of the semiconductor chip and / or of the carrier are covered after gluing by means of the corrosion protection layer.

Nach einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass nach dem Kleben der Halbleiterchip mittels eines Bonddrahts oder mittels zweier Bonddrähte elektrisch kontaktiert wird, wobei der oder die Bonddrähte mittels der Korrosionsschutzschicht bedeckt wird respektive werden.According to one embodiment, it is provided that, after bonding, the semiconductor chip is electrically contacted by means of a bonding wire or by means of two bonding wires, wherein the bonding wire (s) is / are covered by the corrosion protection layer.

Nach einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass ferner ein elektronisches Bauteil, insbesondere eine in einen den Halbleiterchip umfassenden Stromkreis geschaltete ESD-Schutzdiode, vorgesehen ist, das nach dem Kleben mittels der Korrosionsschutzschicht zumindest mittelbar bedeckt wird.According to one embodiment, it is provided that there is further provided an electronic component, in particular an ESD protection diode connected in a circuit comprising the semiconductor chip, which is at least indirectly covered after the bonding by means of the corrosion protection layer.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass die Thiolatbeschichtung derart gebildet wird, dass die Thiolatbeschichtung zusätzlich zwischen dem elektronischen Bauteil und der das elektronische Bauteil bedeckenden Korrosionsschutzschicht gebildet ist, so dass die Korrosionsschutzschicht das elektronische Bauteil mittelbar bedeckt.In one embodiment, it is provided that the thiolate coating is formed in such a way that the thiolate coating is additionally formed between the electronic component and the corrosion protection layer covering the electronic component so that the corrosion protection layer indirectly covers the electronic component.

In einer anderen Ausführungsform ist vorgesehen, dass das Bilden der Thiolatbeschichtung ein Aufbringen eines Thiols umfasst.In another embodiment, it is contemplated that forming the thiolate coating comprises applying a thiol.

Nach einer weiteren Ausführungsform ist vorgesehen, dass das Aufbringen des Thiols ein Dispensen eines Lösungsmittels und/oder ein Sprühen eines Lösungsmittels und/oder ein Eintauchen des Trägers in ein Lösungsmittel, wobei in dem Lösungsmittel das Thiol gelöst ist, für eine vorbestimmte Zeit umfasst.According to a further embodiment it is provided that the application of the thiol comprises dispensing a solvent and / or spraying a solvent and / or immersing the carrier in a solvent, in which solvent the thiol is dissolved, for a predetermined time.

Dadurch wird zum Beispiel der technische Vorteil bewirkt, dass die Thiolatbeschichtung effizient gebildet werden kann.This, for example, causes the technical advantage that the thiolate coating can be formed efficiently.

In einer anderen Ausführungsform ist vorgesehen, dass das Aufbringen des Thiols ein Durchführen eines chemischen Gasphasenabscheidungsprozesses, insbesondere eines chemischen Gasphasenabscheidungsprozesses bei Unterdruck, für eine vorbestimmte Zeit umfasst.In another embodiment it is provided that the application of the thiol is to carry out a chemical vapor deposition process, in particular a chemical vapor deposition process Gas phase deposition process at negative pressure, for a predetermined time.

Dadurch wird zum Beispiel der technische Vorteil bewirkt, dass die Thiolatbeschichtung effizient mit einem bewährten Prozess (chemische Gasphasenabscheidung) gebildet werden kann.As a result, for example, the technical advantage is brought about that the thiolate coating can be formed efficiently with a proven process (chemical vapor deposition).

Die Formulierung „für eine vorbestimmte Zeit“ umfasst zum Beispiel eine Zeit zwischen 2 min und 5 min.The phrase "for a predetermined time" includes, for example, a time between 2 minutes and 5 minutes.

Es geht also insbesondere darum, dass eine Thiolschicht ausgebildet wird und das Lösungsmittel abdampft. Zum Beispiel wird anschließend die Schicht mit destilliertem oder deionisiertem (DI) Wasser gespült und zweimal 1 min DI-Wasser bei Raumtemperatur und dann beispielsweise noch einmal 1 min bei 70 °C in DI-Wasser getaucht. Die Aushärtung respektive Trocknung der Thiolschicht kann beispielsweise für 30 min bei 75 °C stattfinden.It is therefore particularly important that a thiol layer is formed and the solvent evaporates. For example, then the layer is rinsed with distilled or deionized (DI) water and dipped twice in DI water for 1 minute DI water at room temperature and then, for example, once again for 1 minute at 70 ° C. The curing or drying of the thiol layer can take place for example at 75 ° C. for 30 minutes.

Eine Temperatur des Lösungsmittels beträgt nach einer Ausführungsform zwischen 35 °C und 45 °C, insbesondere 40 °C.A temperature of the solvent is according to one embodiment between 35 ° C and 45 ° C, in particular 40 ° C.

Lösungsmittel können zum Beispiel aus der Gruppe der ethoxylierten Fettalkohole, also Polyalkylenglycolether oder Fettalkoholpolyglykolether stammen, beispielsweise Isotridecylalkoholpolyoxyethylenether.Solvents can be derived, for example, from the group of ethoxylated fatty alcohols, ie polyalkylene glycol ethers or fatty alcohol polyglycol ethers, for example isotridecyl alcohol polyoxyethylene ethers.

In einer Ausführungsform ist das Lösungsmittel Teil eines Gemischs umfassend Thiol (zum Beispiel mit einem Massenanteil von 25%) und Wasser (zum Beispiel mit einem Massenanteil von 50%). Das Lösungsmittel weist zum Beispiel einen Massenanteil von 25% in dem Gemisch auf.In one embodiment, the solvent is part of a mixture comprising thiol (for example with a mass fraction of 25%) and water (for example with a mass fraction of 50%). The solvent has, for example, a mass fraction of 25% in the mixture.

In einer anderen Ausführungsform ist vorgesehen, dass die Reflexionsbeschichtung vor dem Bilden der Thiolatbeschichtung zumindest teilweise gereinigt und/oder aktiviert wird, zum Beispiel mittels einer Plasmabehandlung oder einer nasschemischen Behandlung.In another embodiment, it is provided that the reflection coating is at least partially cleaned and / or activated before forming the thiolate coating, for example by means of a plasma treatment or a wet-chemical treatment.

Dadurch wird zum Beispiel der technische Vorteil bewirkt, dass die Thiolatbeschichtung besonders gut auf der Reflexionsbeschichtung haftet.This has the technical advantage, for example, that the thiolate coating adheres particularly well to the reflective coating.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Träger in einem Gehäuse aufgenommen ist.In an embodiment it is provided that the carrier is accommodated in a housing.

In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass das Gehäuse eine Kavität aufweist, wobei die Chipmontagefläche in einem Bodenbereich der Kavität angeordnet ist. Zum Beispiel ist respektive wird eine Mantelfläche der Kavität mit der Korrosionsschutzschicht versehen.In one embodiment, it is provided that the housing has a cavity, wherein the chip mounting surface is arranged in a bottom region of the cavity. For example, a lateral surface of the cavity is provided with the anticorrosive layer, respectively.

Durch das Vorsehen einer Kavität, in deren Bodenbereich der Halbleiterchip angeordnet ist, wird insbesondere der technische Vorteil bewirkt, dass der Halbleiterchip effizient vor einer Beschädigung durch äußere mechanische Einflüsse geschützt werden kann.The provision of a cavity, in the bottom region of which the semiconductor chip is arranged, has the technical advantage in particular that the semiconductor chip can be efficiently protected against damage by external mechanical influences.

Die Kavität kann ferner in vorteilhafter Weise effizient einen optischen Reflektor für den Halbleiterchip bilden.The cavity can also advantageously advantageously form an optical reflector for the semiconductor chip.

In einer Ausführungsform ist die Mantelfläche mit einer Reflexionsbeschichtung versehen, die dann in einer weiteren Ausführungsform mittels einer Korrosionsschutzschicht bedeckt ist respektive wird.In one embodiment, the lateral surface is provided with a reflection coating, which is then covered in a further embodiment by means of a corrosion protection layer or is.

Zum Beispiel ist die Kavität zumindest teilweise, insbesondere vollständig, mittels des Verkapselungswerkstoffs aufgefüllt.For example, the cavity is at least partially, in particular completely, filled up by means of the encapsulation material.

Nach einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Halbleiterchip mittels eines Verkapselungswerkstoffs verkapselt wird.According to one embodiment, it is provided that the semiconductor chip is encapsulated by means of an encapsulation material.

In einer Ausführungsform beträgt eine Dicke der Thiolatbeschichtung maximal 10 nm, beispielsweise maximal 5 nm, beispielsweise maximal 2 nm, beispielsweise zwischen 0,5 nm bis 5 nm.In one embodiment, a thickness of the thiolate coating is at most 10 nm, for example at most 5 nm, for example at most 2 nm, for example between 0.5 nm and 5 nm.

In einer Ausführungsform weist die Thiolatbeschichtung eine Transmission für die mittels des Halbleiterchips emittierte elektromagnetische Strahlung von mindestens 90%, beispielsweise mindestens 95%, beispielsweise mindestens 99%, auf.In one embodiment, the thiolate coating has a transmission for the electromagnetic radiation emitted by the semiconductor chip of at least 90%, for example at least 95%, for example at least 99%.

Die Formulierung "respektive" umfasst insbesondere die Formulierung "und/oder".The wording "respectively" includes in particular the wording "and / or".

Die oben beschriebenen Eigenschaften, Merkmale und Vorteile dieser Erfindung sowie die Art und Weise, wie diese erreicht werden, werden klarer und deutlicher verständlich im Zusammenhang mit der folgenden Beschreibung der Ausführungsbeispiele, die im Zusammenhang mit den Zeichnungen näher erläutert werden, wobeiThe above-described characteristics, features, and advantages of this invention, as well as the manner in which they are achieved, will become clearer and more clearly understood in connection with the following description of the embodiments which will be described in connection with the drawings

1 ein erstes optoelektronisches Bauelement, 1 a first optoelectronic component,

2 ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements, 2 a flowchart of a method for producing an optoelectronic device,

3 ein zweites optoelektronisches Bauelement und 3 a second optoelectronic device and

4 eine Thiolatbeschichtung
zeigen. 4 a thiolate coating
demonstrate.

1 zeigt eine schematische, geschnittene Seitenansicht eines ersten optoelektronischen Bauelements 101. Das optoelektronische Bauelement 101 ist zum Beispiel ein Leuchtdioden-Bauelement. 1 shows a schematic, sectional side view of a first optoelectronic component 101 , The optoelectronic component 101 is for example a light-emitting diode device.

Das optoelektronische Bauelement 101 umfasst ein Gehäuse 103. Das Gehäuse 103 weist eine Oberseite 105 und eine der Oberseite 105 gegenüberliegende Unterseite 107 auf. Das Gehäuse 103 des optoelektronischen Bauelements 101 umfasst einen Gehäuserahmen 109 und einen in den Gehäuserahmen 109 eingebetteten Leiterrahmen 111 als einen Träger. Das optoelektronische Bauelement 101 umfasst also gemäß dieser Ausführungsform einen Träger, der als ein Leiterrahmen ausgebildet ist. Der Gehäuserahmen 109 weist zum Beispiel ein elektrisch isolierendes Kunststoffmaterial auf, beispielsweise ein Epoxidharz. Der Gehäuserahmen 109 weist zum Beispiel eine Keramik auf. Der Gehäuserahmen 109 ist zum Beispiel mittels eines Formprozesses (Mold-Prozess) oder mittels eines Vergussprozesses hergestellt.The optoelectronic component 101 includes a housing 103 , The housing 103 has a top 105 and one of the top 105 opposite bottom 107 on. The housing 103 of the optoelectronic component 101 includes a case frame 109 and one in the rack 109 embedded lead frame 111 as a carrier. The optoelectronic component 101 Thus, according to this embodiment comprises a carrier which is formed as a lead frame. The case frame 109 has, for example, an electrically insulating plastic material, for example an epoxy resin. The case frame 109 has, for example, a ceramic. The case frame 109 is made for example by means of a molding process (molding process) or by means of a potting process.

Der Leiterrahmen 111 kann auch als ein Leadframe bezeichnet werden. Der Leiterrahmen 111 weist ein elektrisch leitendes Material auf, beispielsweise ein Metall. Insbesondere weist der Leiterrahmen 111 Kupfer auf. Kupfer bietet den Vorteil, elektrisch sowie thermisch sehr gut leitend zu sein.The ladder frame 111 can also be referred to as a leadframe. The ladder frame 111 has an electrically conductive material, for example a metal. In particular, the lead frame 111 Copper on. Copper offers the advantage of being very conductive both electrically and thermally.

Das elektrisch leitende Material ist zumindest teilweise, insbesondere vollständig, mit einer Reflexionsbeschichtung 135 beschichtet, zum Beispiel mit Silber, was nachfolgend im Zusammenhang mit einem ersten und zweiten elektrischen Kontaktabschnitt weiter erläutert wird. Das heißt also, dass das elektrisch leitende Material zumindest teilweise, insbesondere vollständig, mit Silber oder einer silberbasierten Legierung beschichtet ist.The electrically conductive material is at least partially, in particular completely, with a reflection coating 135 coated, for example with silver, which will be further explained below in connection with a first and second electrical contact section. This means that the electrically conductive material is at least partially, in particular completely, coated with silver or a silver-based alloy.

Der Leiterrahmen 111 weist eine Oberseite 113 und eine der Oberseite 113 gegenüberliegende Unterseite 115 auf. Die Oberseite 113 des Leiterrahmens 111 ist zum Beispiel zumindest teilweise, insbesondere vollständig, mittels der Reflexionsbeschichtung 135 beschichtet. Die Reflexionsbeschichtung 135 umfasst zum Beispiel Silber, insofern ist die Reflexionsbeschichtung 135 nach einer Ausführungsform eine Silberschicht.The ladder frame 111 has a top 113 and one of the top 113 opposite bottom 115 on. The top 113 of the ladder frame 111 is, for example, at least partially, in particular completely, by means of the reflection coating 135 coated. The reflection coating 135 For example, silver includes silver, insofar as the reflective coating is 135 according to one embodiment, a silver layer.

Der Leiterrahmen 111 ist in einen elektrisch leitenden ersten Kontaktabschnitt 117 und in einen elektrisch leitenden zweiten Kontaktabschnitt 119 unterteilt. Der erste Kontaktabschnitt 117 und der zweite Kontaktabschnitt 119 sind körperlich voneinander getrennt und elektrisch gegeneinander isoliert. Die Kontaktabschnitte 117, 119 können auch als Leiterrahmenabschnitte bezeichnet werden.The ladder frame 111 is in an electrically conductive first contact portion 117 and in an electrically conductive second contact portion 119 divided. The first contact section 117 and the second contact portion 119 are physically separated and electrically isolated from each other. The contact sections 117 . 119 may also be referred to as leadframe sections.

Es ist vorgesehen, dass zumindest eine der jeweiligen Oberseiten 113 der beiden Kontaktabschnitte 117, 119, insbesondere beide jeweiligen Oberseiten (was auch zeichnerisch dargestellt ist), zumindest teilweise, insbesondere vollständig, mit der Reflexionsbeschichtung 135 versehen sind. Die Reflexionsbeschichtung 135 ist zum Beispiel eine Silberschicht.It is envisaged that at least one of the respective tops 113 the two contact sections 117 . 119 , in particular both respective upper sides (which is also shown in the drawing), at least partially, in particular completely, with the reflection coating 135 are provided. The reflection coating 135 is for example a silver layer.

Die Kontaktabschnitte 117, 119 des Leiterrahmens 111 sind derart in dem Gehäuserahmen 109 eingebettet, dass sowohl die Oberseite 113 als auch die Unterseite 115 des Leiterrahmens 111 teilweise durch das Material des Gehäuserahmens 109 bedeckt sind. Im dargestellten Beispiel ist die Unterseite 115 des Leiterrahmens 111 teilweise durch das Material des Gehäuserahmens 109 bedeckt.The contact sections 117 . 119 of the ladder frame 111 are such in the case frame 109 embedded that both the top 113 as well as the bottom 115 of the ladder frame 111 partly by the material of the housing frame 109 are covered. In the example shown, the bottom is 115 of the ladder frame 111 partly by the material of the housing frame 109 covered.

Sowohl beim ersten Kontaktabschnitt 117 als auch beim zweiten Kontaktabschnitt 119 des Leiterrahmens 111 ist die jeweilige Oberseite 113 teilweise durch das Material des Gehäuserahmens 109 bedeckt und teilweise unbedeckt sein.Both at the first contact section 117 as well as the second contact section 119 of the ladder frame 111 is the respective top 113 partly by the material of the housing frame 109 covered and partially uncovered.

Das Gehäuse 103 des optoelektronischen Bauelements 101 weist an seiner Oberseite 105 eine Kavität 121 auf. Die Kavität 121 ist als Vertiefung im Gehäuserahmen 109 ausgebildet. An der Oberseite 105 des Gehäuses 103 weist die Kavität 121 beispielsweise einen kreisscheibenförmigen oder einen rechteckigen Querschnitt auf. In der Schnittdarstellung der 1 verjüngt sich die Kavität 121 ausgehend von der Oberseite 105 des Gehäuses 103 pyramidenstumpfförmig. Die Kavität 121 weist nach einer nicht gezeigten Ausführungsform eine zylindrische Form oder eine andere Form auf.The housing 103 of the optoelectronic component 101 points at its top 105 a cavity 121 on. The cavity 121 is as a recess in the housing frame 109 educated. At the top 105 of the housing 103 has the cavity 121 for example, a circular disk-shaped or a rectangular cross-section. In the sectional view of 1 the cavity tapers 121 starting from the top 105 of the housing 103 truncated pyramids. The cavity 121 has a cylindrical shape or another shape according to an embodiment, not shown.

Die Kavität 121 des Gehäuses 103 des optoelektronischen Bauelements 101 weist einen Bodenbereich 123 und eine umlaufende Wand 125 auf. Die Wand 125 wird durch das Material des Gehäuserahmens 109 gebildet. Die Wand 125 bildet eine Mantelfläche der Kavität 121. Die Wand 125 der Kavität 121 des Gehäuses 103 des optoelektronischen Bauelements 101 bildet nach einer Ausführungsform einen Reflektor. Ein solcher Reflektor dient insbesondere dazu, von dem optoelektronischen Bauelement 101 emittierte elektromagnetische Strahlung zu bündeln. Die Mantelfläche 125 oder die Wand der Kavität 121 ist nach einer Ausführungsform mit der Reflexionsbeschichtung 135 beschichtet.The cavity 121 of the housing 103 of the optoelectronic component 101 has a floor area 123 and a circumferential wall 125 on. The wall 125 is due to the material of the case frame 109 educated. The wall 125 forms a lateral surface of the cavity 121 , The wall 125 the cavity 121 of the housing 103 of the optoelectronic component 101 forms a reflector according to one embodiment. Such a reflector is used in particular for the optoelectronic component 101 to bundle emitted electromagnetic radiation. The lateral surface 125 or the wall of the cavity 121 is according to one embodiment with the reflective coating 135 coated.

Im Bodenbereich 123 der Kavität 121 des Gehäuses 103 liegen Teile der jeweiligen Oberseite 113 der beiden Kontaktabschnitte 117, 119 des Leiterrahmens 111 frei. Zur besseren Unterscheidung weist die Oberseite des ersten Kontaktabschnitts 117 zusätzlich das Bezugszeichen 113a auf. Zur besseren Unterscheidung weist die Oberseite des zweiten Kontaktabschnitts 119 zusätzlich das Bezugszeichen 113b auf. Die Oberseite 113a des ersten Kontaktabschnitts 117 bildet somit eine Chipmontagefläche 153, wie nachstehend noch weiter erläutert.In the ground area 123 the cavity 121 of the housing 103 lie parts of the respective top 113 the two contact sections 117 . 119 of the ladder frame 111 free. For better distinction, the top of the first contact section 117 In addition, the reference numeral 113a on. For better distinction, the top of the second contact section 119 In addition, the reference numeral 113b on. The top 113a of the first contact section 117 thus forms a chip mounting surface 153 as further explained below.

Das optoelektronische Bauelement 101 umfasst ferner einen optoelektronischen Halbleiterchip 127 oder in einer nicht gezeigten Ausführungsform mehrere optoelektronische Halbleiterchips. Außerdem kann das optoelektronische Bauelement zusätzlich in einer weiteren nicht gezeigten Ausführungsform eine oder mehrere ESD-Schutzdioden aufweisen (nicht in 1 dargestellt) aufweisen. Der optoelektronische Halbleiterchip 127 (bzw. die -chips) ist (sind) zum Beispiel ein Leuchtdiodenchip (LED-Chip). Der optoelektronische Halbleiterchip 127 weist eine Oberseite 129 und eine der Oberseite 129 gegenüberliegende Unterseite 131 auf. Die gegenüberliegenden Außenseiten oder Außenflanken 147 sowie die Oberseite 129 des optoelektronischen Halbleiterchips 127 bilden zum Beispiel eine Strahlungsemissionsfläche des optoelektronischen Halbleiterchips 127. Der optoelektronische Halbleiterchip 127 ist zum Beispiel ausgebildet, an seinen Außenflächen elektromagnetische Strahlung, beispielsweise sichtbares Licht, abzustrahlen oder zu emittieren. Der Halbleiterchip 127 ist also als ein Volumenemitter ausgebildet.The optoelectronic component 101 further comprises an optoelectronic semiconductor chip 127 or in a not shown embodiment, a plurality of optoelectronic semiconductor chips. In addition, in another embodiment not shown, the optoelectronic component may additionally have one or more ESD protection diodes (not in US Pat 1 shown). The optoelectronic semiconductor chip 127 (or the chips) is (are), for example, a light-emitting diode chip (LED chip). The optoelectronic semiconductor chip 127 has a top 129 and one of the top 129 opposite bottom 131 on. The opposite outer sides or outer edges 147 as well as the top 129 of the optoelectronic semiconductor chip 127 form, for example, a radiation emission surface of the optoelectronic semiconductor chip 127 , The optoelectronic semiconductor chip 127 For example, it is designed to emit or emit electromagnetic radiation, for example visible light, on its outer surfaces. The semiconductor chip 127 is thus designed as a volume emitter.

An der Oberseite 129 des optoelektronischen Halbleiterchips 127 sind zwei elektrische Kontaktflächen (nicht gezeigt) gebildet, die nachfolgend als erste elektrische Chipkontaktfläche und als zweite elektrische Chipkontaktfläche bezeichnet werden.At the top 129 of the optoelectronic semiconductor chip 127 two electrical contact surfaces (not shown) are formed, which are referred to below as the first electrical chip contact surface and as the second electrical chip contact surface.

Über die beiden elektrischen Chipkontaktflächen ist eine elektrische Kontaktierung des optoelektronischen Halbleiterchips 127 ermöglicht. Für diese elektrische Kontaktierung sind im Anwendungsbeispiel zwei Bonddrähte 133 vorgesehen. Die beiden Bonddrähte 133 kontaktieren respektive die erste elektrisch leitende Chipkontaktfläche und die zweite elektrisch leitende Chipkontaktfläche mit respektive dem elektrisch leitenden ersten Kontaktabschnitt 117 und dem elektrisch leitenden zweiten Kontaktabschnitt 119. Das heißt, dass mittels eines ersten der Bonddrähte 133 eine erste elektrische Verbindung zwischen dem ersten Kontaktabschnitt 117 und der ersten elektrischen Kontaktfläche des optoelektronischen Halbleiterchips 127 gebildet ist. Das heißt also, dass mittels eines zweiten der Bonddrähte 133 eine zweite elektrische Verbindung zwischen der zweiten elektrischen Kontaktfläche des optoelektronischen Halbleiterchips 127 und dem zweiten Kontaktabschnitt 119 gebildet ist.About the two electrical chip contact surfaces is an electrical contact of the optoelectronic semiconductor chip 127 allows. For this electrical contacting are in the application example two bonding wires 133 intended. The two bonding wires 133 contact respectively the first electrically conductive chip contact surface and the second electrically conductive chip contact surface with respectively the electrically conductive first contact portion 117 and the electrically conductive second contact portion 119 , That is, by means of a first of the bonding wires 133 a first electrical connection between the first contact portion 117 and the first electrical contact surface of the optoelectronic semiconductor chip 127 is formed. So that means that by means of a second of the bonding wires 133 a second electrical connection between the second electrical contact surface of the optoelectronic semiconductor chip 127 and the second contact portion 119 is formed.

Über die beiden elektrischen Kontaktflächen kann ein elektrischer Strom an den optoelektronischen Halbleiterchip 127 angelegt werden, um den optoelektronischen Halbleiterchip 127 zur Emission elektromagnetischer Strahlung zu veranlassen.Via the two electrical contact surfaces, an electrical current to the optoelectronic semiconductor chip 127 be applied to the optoelectronic semiconductor chip 127 to cause the emission of electromagnetic radiation.

Der optoelektronische Halbleiterchip 127 ist in der Kavität 121 des Gehäuses 103 des optoelektronischen Bauelements 101 angeordnet. Der optoelektronische Halbleiterchip 127 ist mit seiner Unterseite 131 im Bodenbereich 123 der Kavität 121 auf der Chipmontagefläche 153 angeordnet. Im Ausführungsbeispiel nach 1 bildet der erste Kontaktabschnitt 117, also insbesondere die Oberseite 113a des ersten Kontaktabschnitts 117, somit eine Chipmontagefläche 153 für eine Montage des Halbleiterchips 127. Somit weist der Träger, hier der Leiterrahmen 111 eine Chipmontagefläche 153 auf, die mittels einer Reflexionsbeschichtung 135 beschichtet ist.The optoelectronic semiconductor chip 127 is in the cavity 121 of the housing 103 of the optoelectronic component 101 arranged. The optoelectronic semiconductor chip 127 is with its bottom 131 in the ground area 123 the cavity 121 on the chip mounting surface 153 arranged. In the embodiment according to 1 forms the first contact section 117 , so in particular the top 113a of the first contact section 117 , thus a chip mounting surface 153 for mounting the semiconductor chip 127 , Thus, the carrier, here the lead frame 111 a chip mounting surface 153 on, by means of a reflective coating 135 is coated.

Dabei ist die Unterseite 131 des optoelektronischen Halbleiterchips 127 der Oberseite 113a des ersten Kontaktabschnitts 117 zugewandt. Die Oberseite 129 des Halbleiterchips 127 ist der Oberseite 113a des ersten Kontaktabschnitts 117 des Leiterrahmens 111 abgewandt.Here is the bottom 131 of the optoelectronic semiconductor chip 127 the top 113a of the first contact section 117 facing. The top 129 of the semiconductor chip 127 is the top 113a of the first contact section 117 of the ladder frame 111 away.

Die jeweilige Oberseite 113a, b der beiden Kontaktabschnitte 117, 119 ist zumindest teilweise, insbesondere vollständig, mit der Reflexionsbeschichtung 135 versehen.The respective top 113a , b of the two contact sections 117 . 119 is at least partially, in particular completely, with the reflective coating 135 Mistake.

Der optoelektronische Halbleiterchip 127 ist mittels eines Klebstoffs 137 auf der Oberseite 113 der Chipmontagefläche 153, also nach Beispiel in 1 auf der Oberseite 113a des ersten Kontaktabschnitts 117, geklebt. Insofern ist zwischen der Unterseite 131 des Halbleiterchips 127 und der Oberseite 113a des ersten Kontaktabschnitts 117 eine Klebstoffschicht 139 aus Klebstoff 137 gebildet.The optoelectronic semiconductor chip 127 is by means of an adhesive 137 on the top 113 the chip mounting surface 153 , so after example in 1 on the top 113a of the first contact section 117 , glued. In that sense, between the bottom 131 of the semiconductor chip 127 and the top 113a of the first contact section 117 an adhesive layer 139 made of glue 137 educated.

Zwischen der Klebstoffschicht 139 und der Reflexionsbeschichtung 135 ist eine Thiolatbeschichtung 155 gebildet. Die Thiolatbeschichtung 155 ist in direktem Kontakt mit der Reflexionsbeschichtung 135. Die Reflexionsbeschichtung 135 ist also teilweise mit der Thiolatbeschichtung 155 versehen.Between the adhesive layer 139 and the reflective coating 135 is a thiolate coating 155 educated. The thiolate coating 155 is in direct contact with the reflective coating 135 , The reflection coating 135 So it is partly with the thiolate coating 155 Mistake.

Die Klebstoffschicht 139 kontaktiert also sowohl die Thiolatbeschichtung 155 als auch die Unterseite 131 des Halbleiterchips 127.The adhesive layer 139 So contacts both the thiolate coating 155 as well as the bottom 131 of the semiconductor chip 127 ,

Der Halbleiterchip 127 ist also auf der Thiolatbeschichtung 155 mittels des Klebstoffs 137 geklebt.The semiconductor chip 127 So it's on the thiolate coating 155 by means of the adhesive 137 glued.

Der Klebstoff 137 umfasst mehrere Reflexionspartikel 141 zum Reflektieren von mittels des Halbleiterchips 127 emittierter elektromagnetischer Strahlung.The adhesive 137 includes several reflection particles 141 for reflecting by means of the semiconductor chip 127 emitted electromagnetic radiation.

Aufgrund der Reflexionspartikel 141, die vom Klebstoff 137 umfasst sind, umfasst die Klebstoffschicht 139 ebenfalls Reflexionspartikel 141. Somit ist in vorteilhafter Weise unterhalb der Unterseite 131 des Halbleiterchips 127, also zwischen der Unterseite 131 des Halbleiterchips 127 und der Oberseite 113a des ersten Kontaktabschnitts 117, eine Reflexionsschicht gebildet: die Klebstoffschicht 139 umfassend Reflexionspartikel 141. Die Unterseite 131 des Halbleiterchips 127 ist vollständig durch die Klebstoffschicht 139 kontaktiert.Due to the reflection particles 141 that of the glue 137 comprises the adhesive layer 139 also reflection particles 141 , Thus, advantageously below the bottom 131 of the semiconductor chip 127 So between the bottom 131 of the semiconductor chip 127 and the top 113a of the first contact section 117 , a reflection layer formed: the adhesive layer 139 comprising reflection particles 141 , The bottom 131 of the semiconductor chip 127 is completely through the adhesive layer 139 contacted.

Die Reflexionspartikel 141 sind zum Beispiel als weiße Reflexionspartikel ausgebildet. Zum Beispiel umfassen die Reflexionspartikel 141 Titandioxidpartikel und/oder Aluminiumoxidpartikel.The reflection particles 141 For example, they are formed as white reflection particles. For example, the reflection particles include 141 Titanium dioxide particles and / or alumina particles.

Die Bonddrähte 133 sind nach einer Ausführungsform aus Silber oder einer silberbasierten Legierung gebildet. In einer weiteren Ausführungsform sind die Bonddrähte 113 mittels einer Korrosionsschutzschicht, wie nachfolgend beschrieben, beschichtet. The bonding wires 133 are formed according to one embodiment of silver or a silver-based alloy. In a further embodiment, the bonding wires 113 coated by means of a corrosion protection layer as described below.

Das optoelektronische Bauelement 101 umfasst ferner eine anorganische Beschichtung 143 als Korrosionsschutzschicht. Die anorganische Beschichtung 143 ist insbesondere auf folgende Elemente aufgebracht: die Oberseite 105 des Gehäuses 103, die Mantelfläche 125 der Kavität 121, die Reflexionsbeschichtung 135 bis auf den Bereich, auf welchem sich die Thiolatbeschichtung 155 respektive die Klebstoffschicht 139 respektive der Halbleiterchip 127 befindet, die Oberseite 129 des Halbleiterchips 127, die Bonddrähte 133, gegenüberliegende Seitenflanken 147 des Halbleiterchips 127.The optoelectronic component 101 further comprises an inorganic coating 143 as corrosion protection layer. The inorganic coating 143 is particularly applied to the following elements: the top 105 of the housing 103 , the lateral surface 125 the cavity 121 , the reflection coating 135 except for the area on which the thiolate coating 155 respectively the adhesive layer 139 respectively the semiconductor chip 127 located, the top 129 of the semiconductor chip 127 , the bonding wires 133 , opposite side edges 147 of the semiconductor chip 127 ,

Die Kavität 121 ist mittels eines Vergusses 145 aufgefüllt. Der Verguss 145 kann auch als ein Verkapselungswerkstoff bezeichnet werden. Insofern ist der Halbleiterchip 127 mittels des Vergusses 145 verkapselt. Der Verguss 145 bettet somit insbesondere den Halbleiterchip 127 sowie insbesondere die Bonddrähte 133 ein. Der Verguss 145 ist vorzugsweise aus einem Material oder einem Werkstoff, welches respektive welcher für die elektromagnetische Strahlung zumindest teilweise, insbesondere vollständig, durchlässig oder transparent ist.The cavity 121 is by means of a potting 145 refilled. The casting 145 can also be referred to as an encapsulation material. In this respect, the semiconductor chip 127 by means of potting 145 encapsulated. The casting 145 thus, in particular, embeds the semiconductor chip 127 and in particular the bonding wires 133 one. The casting 145 is preferably made of a material or a material which is at least partially, in particular completely, permeable or transparent to the electromagnetic radiation.

Der Verguss 145 umfasst zum Beispiel ein Epoxidharz. Der Verguss 145 umfasst zum Beispiel ein Silikon. Der Verguss 145 umfasst zum Beispiel ein silikonhaltiges Hybridmaterial. Der Verguss 145 umfasst zum Beispiel einen mit Leuchtstoffpartikeln gefülltes Silikon oder Epoxidharz oder silikonhaltiges Hybridmaterial.The casting 145 includes, for example, an epoxy resin. The casting 145 includes, for example, a silicone. The casting 145 For example, it includes a silicone-containing hybrid material. The casting 145 includes, for example, a silicone particle-filled silicone or epoxy resin or silicone-containing hybrid material.

Durch einen mechanischen und/oder thermischen Stress kann es passieren, dass die anorganische Beschichtung 143 Risse bekommt. Durch solche Risse kann ein korrosives Gas, zum Beispiel H2S-Gas, bis zur jeweiligen Oberseite 113a, b der beiden Kontaktabschnitte 117, 119 gelangen und dort die Reflexionsbeschichtung 135 korrodieren. Zum Beispiel kann ein solches korrosives Gas durch den Verguss 145 durchdiffundieren. Solche Risse treten vornehmlich im Bereich der Grenzfläche zwischen Klebstoffschicht 139 und Korrosionsschutzschicht 143 auf bzw. haben dort eine besonders nachteilige Wirkung.Due to a mechanical and / or thermal stress, it may happen that the inorganic coating 143 Cracks gets. Such cracks can cause a corrosive gas, such as H2S gas, to reach the top 113a , b of the two contact sections 117 . 119 arrive and there the reflection coating 135 corrode. For example, such a corrosive gas can pass through the potting 145 diffuse through. Such cracks occur mainly in the area of the interface between the adhesive layer 139 and anti-corrosion layer 143 on or have there a particularly adverse effect.

Die anorganische Beschichtung 143 umfasst zum Beispiel: Al2O3 und/oder SiO2 und/oder Si3N4. Eine Dicke der anorganischen Beschichtung 143 beträgt zum Beispiel zwischen 5 nm und 100 nm. Zum Beispiel wird die anorganische Beschichtung 143 mittels eines Sputter-Verfahrens respektive eines PECVD-Verfahrens (plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung) respektive eines ALD-Verfahrens (Atomlagenabscheidung) aufgebracht. "ALD" steht für "Atomic Layer Deposition" und wird mit Atomlagenabscheidung übersetzt. "PECVD" steht für "Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition" und wird mit plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung übersetzt.The inorganic coating 143 includes, for example: Al 2 O 3 and / or SiO 2 and / or Si 3 N 4. A thickness of the inorganic coating 143 is, for example, between 5 nm and 100 nm. For example, the inorganic coating becomes 143 by means of a sputtering process or a PECVD process (plasma-enhanced chemical vapor deposition) or an ALD process (atomic layer deposition). "ALD" stands for "Atomic Layer Deposition" and is translated with atomic layer deposition. "PECVD" stands for "Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition" and is translated with plasma enhanced chemical vapor deposition.

Durch das Vorsehen eines solch effizienten Korrosionsschutzes wird in vorteilhafter Weise verhindert, dass eine an der Oberseite 113a, b des ersten respektive zweiten Kontaktabschnitts 117, 119 des Leiterrahmens 111 gebildete oder aufgebrachte Reflexionsschicht korrodiert. Eine solch korrodierte Reflexionsschicht führt in der Regel zu einer verschlechterten Reflektivität und zu einer Farbortverschiebung der an einer solchen korrodierten Reflexionsschicht reflektierten elektromagnetischen Strahlung. Durch das Vorsehen des erfindungsgemäßen Korrosionsschutzes kann in vorteilhafter Weise eine solche Farbortverschiebung respektive eine Verringerung der Reflektivität verringert werden.By providing such an efficient corrosion protection is advantageously prevented that one at the top 113a , b of the first or second contact section 117 . 119 of the ladder frame 111 formed or applied reflective layer corroded. Such a corroded reflection layer usually results in deteriorated reflectivity and color locus shift of the electromagnetic radiation reflected from such a corroded reflection layer. By providing the corrosion protection according to the invention, such a color locus shift or a reduction of the reflectivity can be reduced in an advantageous manner.

Selbst wenn die Korrosionsschutzschicht 143 im Bereich der Grenzfläche zwischen Klebstoffschicht 139 und Korrosionsschutzschicht 143 Risse bekommen sollte, so steht noch die Thiolatbeschichtung 155 als zusätzlicher Korrosionsschutz zur Verfügung. Dadurch wird in vorteilhafter Weise bewirkt, dass der Abschnitt der Reflexionsbeschichtung 135, der unterhalb des Halbleiterchips 127 liegt, effizient gegen Korrosion geschützt ist.Even if the anti-corrosion layer 143 in the area of the interface between the adhesive layer 139 and anti-corrosion layer 143 Should get cracks, so is the thiolate coating 155 as additional corrosion protection available. This advantageously causes the portion of the reflection coating 135 which is below the semiconductor chip 127 is efficiently protected against corrosion.

Durch das Vorsehen der Reflexionspartikel 141 wird eine Mindestreflektivität für die emittierte elektromagnetische Strahlung bereitgestellt. Denn selbst bei einer komplett korrodierten Reflexionsbeschichtung 135 der Kontaktabschnitte 117, 119 wird immer noch eine Reflektivität aufgrund der Reflexionspartikel 141 bewirkt.By providing the reflection particles 141 a minimum reflectivity is provided for the emitted electromagnetic radiation. Because even with a completely corroded reflection coating 135 the contact sections 117 . 119 is still a reflectivity due to the reflection particles 141 causes.

Das heißt also, dass, selbst wenn die unterhalb der Unterseite 131 des Halbleiterchips 127 auf der Oberseite 113a des ersten Kontaktabschnitts 117 vorgesehene Reflexionsbeschichtung 135 korrodiert wäre, die mittels des Halbleiterchips 127 emittierte elektromagnetische Strahlung dennoch mittels der Reflexionspartikel 141 reflektiert würde.So that means that, even if those below the bottom 131 of the semiconductor chip 127 on the top 113a of the first contact section 117 provided reflection coating 135 would be corroded by means of the semiconductor chip 127 emitted electromagnetic radiation nevertheless by means of the reflection particles 141 would be reflected.

Der elektrisch leitende zweite Kontaktabschnitt 119 ist beispielsweise mittels der Korrosionsschutzschicht 143 bedeckt oder versehen. The electrically conductive second contact section 119 is for example by means of the corrosion protection layer 143 covered or provided.

Der Reflexionsbeschichtung 135 des ersten Kontaktabschnitts 117 ist somit in einen ersten Teilabschnitt 149, der mittels des Halbleiterchips 127 bzw. Klebstoffschicht 139 bedeckt ist, und in einen zweiten Teilabschnitt 151, der frei von dem Halbleiterchip 127 ist, unterteilt.The reflection coating 135 of the first contact section 117 is thus in a first subsection 149 that by means of the semiconductor chip 127 or adhesive layer 139 is covered, and in a second section 151 that is free from the semiconductor chip 127 is divided.

Der erste Teilabschnitt 149 der Reflexionsbeschichtung 135 ist mit der Thiolatbeschichtung 155 versehen. Der zweite Teilabschnitt 151 der Reflexionsbeschichtung 135 ist frei von der Thiolatbeschichtung 155.The first section 149 the reflection coating 135 is with the thiolate coating 155 Mistake. The second section 151 the reflection coating 135 is free from thiolate coating 155 ,

In einer nicht gezeigten Ausführungsform ist vorgesehen, dass der zweite Teilabschnitt der Reflexionsbeschichtung 135 mit der Thiolatbeschichtung 155 versehen ist. Das heißt, dass die Reflexionsbeschichtung 135 zum Beispiel vollständig mit der Thiolatbeschichtung 155 versehen ist.In an embodiment, not shown, it is provided that the second section of the reflection coating 135 with the thiolate coating 155 is provided. That is, the reflective coating 135 for example, completely with the thiolate coating 155 is provided.

2 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements. 2 shows a flowchart of a method for producing an optoelectronic device.

Das Verfahren umfasst die folgenden Schritte:

– Bereitstellen 201 eines eine Chipmontagefläche aufweisenden Trägers, wobei die Chipmontagefläche eine Reflexionsbeschichtung aufweist,
– wobei die Reflexionsbeschichtung zumindest teilweise mit einer Thiolatbeschichtung versehen 203 wird,
– wobei ein optoelektronischer Halbleiterchip mittels eines Klebstoffs auf die Thiolatbeschichtung geklebt 205 wird,
– wobei eine die Reflexionsbeschichtung zumindest mittelbar bedeckende, von der Thiolatbeschichtung verschiedene Korrosionsschutzschicht gebildet 207 wird.

The method comprises the following steps:

- Provide 201 a carrier having a chip mounting surface, the chip mounting surface having a reflective coating,
- Wherein the reflective coating at least partially provided with a Thiolatbeschichtung 203 becomes,
- An optoelectronic semiconductor chip glued by means of an adhesive on the thiolate coating 205 becomes,
- Where the reflective coating at least indirectly covering, formed by the thiolate coating corrosion protection layer 207 becomes.

In einer nicht gezeigten Ausführungsform ist vorgesehen, dass eine ESD-Schutzdiode auf den Träger geklebt und elektrisch kontaktiert wird.In an embodiment, not shown, it is provided that an ESD protection diode is glued to the carrier and electrically contacted.

Zum Beispiel ist nach einer Ausführungsform vorgesehen, dass nach einem elektrischen Kontaktieren des Halbleiterchips mittels eines oder mittels zweier Bonddrähte die anorganische Beschichtung aufgebracht wird. Der oder die Bonddrähte sind nach einer Ausführungsform ebenfalls von der Korrosionsschutzschicht bedeckt.For example, it is provided according to an embodiment that after an electrical contact of the semiconductor chip by means of one or by means of two bonding wires, the inorganic coating is applied. The bonding wire (s) are also covered by the anticorrosive layer in one embodiment.

In den vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen bildete die Oberseite 113a des ersten Kontaktabschnitts 117 eine Chipmontagefläche. In einer nicht gezeigten Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Leiterrahmen 111 zusätzlich zum ersten und zweiten Kontaktabschnitt 117, 119 einen dritten Abschnitt aufweist. Eine Oberseite des dritten Abschnitts bildet in dieser Ausführungsform die Chipmontagefläche. Das heißt, dass die Oberseite des dritten Abschnitts zumindest teilweise mittels der Reflexionsbeschichtung 135 versehen ist. Eine elektrische Kontaktierung des Halbleiterchips 127 wird in dieser Ausführungsform mittels der Bonddrähte 133, die eine elektrische Verbindung von den Kontaktabschnitten 117, 119 zum Halbleiterchip 127 herstellen, gebildet. Auch in dieser Ausführungsform ist zwischen der Klebstoffschicht 139 und der Reflexionsbeschichtung 135 die Thiolatbeschichtung 155 vorgesehen.In the embodiments described above, the top formed 113a of the first contact section 117 a chip mounting surface. In an embodiment, not shown, it is provided that the lead frame 111 in addition to the first and second contact sections 117 . 119 has a third section. An upper surface of the third portion forms the chip mounting surface in this embodiment. That is, the top of the third section at least partially by means of the reflective coating 135 is provided. An electrical contact of the semiconductor chip 127 is in this embodiment by means of the bonding wires 133 which provides an electrical connection from the contact sections 117 . 119 to the semiconductor chip 127 make, formed. Also in this embodiment is between the adhesive layer 139 and the reflective coating 135 the thiolate coating 155 intended.

3 zeigt ein zweites optoelektronisches Bauelement 301. 3 shows a second opto-electronic device 301 ,

Für gleiche Merkmale werden teilweise die gleichen Bezugszeichen wie in 1 verwendet. Die entsprechenden Ausführungen gelten analog.For the same features are partially the same reference numerals as in 1 used. The corresponding explanations apply analogously.

Das Bauelement 301 umfasst einen Träger 303. Der Träger 303 ist als ein keramisches Substrat ausgebildet. Der Träger 303 ist also aus einer Keramik gebildet.The component 301 includes a carrier 303 , The carrier 303 is formed as a ceramic substrate. The carrier 303 is therefore made of a ceramic.

Der Träger weist eine Oberseite 305 und eine Unterseite 307 auf, die der Oberseite 305 gegenüberliegt.The carrier has an upper side 305 and a bottom 307 on top of that 305 opposite.

Auf der Oberseite 305 sind eine erste Metallisierung 309 und eine zweite Metallisierung 311 aufgebracht, die voneinander elektrisch isoliert sind.On the top 305 are a first metallization 309 and a second metallization 311 applied, which are electrically isolated from each other.

Auf der Unterseite 307 sind eine dritte Metallisierung 313 und eine vierte Metallisierung 315 aufgebracht, die voneinander elektrisch isoliert sind.On the bottom 307 are a third metallization 313 and a fourth metallization 315 applied, which are electrically isolated from each other.

Die jeweils gegenüberliegenden Metallisierungen 309 und 313 sowie 311 und 315 auf der Ober- und Unterseite sind elektrisch leitfähig miteinander verbunden. Zum Beispiel sind elektrische Durchkontaktierungen, sogenannten „Vias“, vorgesehen, um die entsprechenden Metallisierungen der Ober- und Unterseite elektrisch leitfähig miteinander zu verbinden.The opposite metallizations 309 and 313 such as 311 and 315 on the top and bottom are electrically connected to each other. For example, electrical vias, so-called "vias", are provided in order to connect the corresponding metallizations of the top and bottom sides in an electrically conductive manner.

Die vier Metallisierungen 309, 311, 313, 315 sind zum Beispiel aus Silber oder einer silberhaltigen Legierung gebildet.The four metallizations 309 . 311 . 313 . 315 are formed, for example, of silver or a silver-containing alloy.

Die Oberseite 305 des Trägers 303 bildet eine Chipmontagefläche 317 für einen optoelektronischen Halbleiterchip 321. Die erste Metallisierung 309 ist mit einer Reflexionsbeschichtung 135 versehen. Das heißt, dass die Chipmontagefläche 317 mit der Reflexionsbeschichtung 135 mittelbar beschichtet ist. Die zweite Metallisierung 311 kann ebenfalls mit einer Reflexionsbeschichtung versehen sein.The top 305 of the carrier 303 forms a chip mounting surface 317 for an optoelectronic semiconductor chip 321 , The first metallization 309 is with a reflective coating 135 Mistake. That is, the chip mounting surface 317 with the reflection coating 135 indirectly is coated. The second metallization 311 may also be provided with a reflective coating.

Der Halbleiterchip 321 weist eine Oberseite 323 und eine der Oberseite 323 gegenüberliegende Unterseite 325 auf. Der Halbleiterchip 321 ist mit seiner Unterseite 325 auf einer der Oberseite 305 des Trägers 303 abgewandten Oberseite 327 der Reflexionsbeschichtung 135 mittels eines Klebstoffs 329 geklebt. Der Klebstoff 329 weist Reflexionspartikel 141 zum Reflektieren von mittels des Halbleiterchips 321 emittierter elektromagnetischer Strahlung auf. Somit ist zwischen der Unterseite 325 des Halbleiterchips 321 und der Oberseite 327 der Reflexionsbeschichtung 135 eine Klebstoffschicht 139 aus Klebstoff 329 gebildet. Die Unterseite 325 des Halbleiterchips 321 ist vollständig, also vollflächig, durch die Klebstoffschicht 139 kontaktiert.The semiconductor chip 321 has a top 323 and one of the top 323 opposite bottom 325 on. The semiconductor chip 321 is with its bottom 325 on one of the top 305 of the carrier 303 opposite top 327 the reflection coating 135 by means of an adhesive 329 glued. The adhesive 329 has reflection particles 141 for reflecting by means of the semiconductor chip 321 emitted electromagnetic radiation. Thus, between the bottom 325 of the semiconductor chip 321 and the top 327 the reflection coating 135 an adhesive layer 139 made of glue 329 educated. The bottom 325 of the semiconductor chip 321 is complete, ie full surface, through the adhesive layer 139 contacted.

Zwischen der Klebstoffschicht 139 und der Reflexionsbeschichtung 135 ist analog zu dem in 1 gezeigten Ausführungsbeispiel eine Thiolatbeschichtung 155 gebildet. Die Thiolatbeschichtung 155 ist in direktem Kontakt mit der Reflexionsbeschichtung 135. Die Reflexionsbeschichtung 135 ist also teilweise mit der Thiolatbeschichtung 155 versehen.Between the adhesive layer 139 and the reflective coating 135 is analogous to that in 1 embodiment shown a thiolate coating 155 educated. The thiolate coating 155 is in direct contact with the reflective coating 135 , The reflection coating 135 So it is partly with the thiolate coating 155 Mistake.

Die Klebstoffschicht 139 kontaktiert also sowohl die Thiolatbeschichtung 155 als auch die Unterseite 325 des Halbleiterchips 321.The adhesive layer 139 So contacts both the thiolate coating 155 as well as the bottom 325 of the semiconductor chip 321 ,

Der Halbleiterchip 321 ist also auf der Thiolatbeschichtung 155 mittels des Klebstoffs 329 geklebt.The semiconductor chip 321 So it's on the thiolate coating 155 by means of the adhesive 329 glued.

Analog zum in 1 gezeigten Ausführungsbeispiel ist der Halbleiterchips 321 mittels zweier Bonddrähte 133 elektrisch an seiner Oberseite 323 kontaktiert. Einer der Bonddrähte 133 bildet eine elektrische Verbindung zwischen einer hier nicht gezeigten ersten elektrischen Chipkontaktfläche auf der Oberseite 323 des Halbleiterchips 321 und der ersten Metallisierung 309. Der andere der Bonddrähte 133 bildet eine elektrische Verbindung zwischen einer hier nicht gezeigten zweiten elektrischen Chipkontaktfläche auf der Oberseite 323 des Halbleiterchips 321 und der zweiten Metallisierung 311.Analogous to in 1 The embodiment shown is the semiconductor chip 321 by means of two bonding wires 133 electrically at its top 323 contacted. One of the bonding wires 133 forms an electrical connection between a not shown first electrical chip contact surface on the top 323 of the semiconductor chip 321 and the first metallization 309 , The other of the bonding wires 133 forms an electrical connection between a second electrical chip contact surface, not shown here, on the upper side 323 of the semiconductor chip 321 and the second metallization 311 ,

Die Reflexionsbeschichtung 135 ist somit in einen ersten Teilabschnitt 149, der mittels des Halbleiterchips 321 bzw. Klebstoffschicht 139 bedeckt ist, und in einen zweiten Teilabschnitt 151, der frei von dem Halbleiterchip 321 ist, unterteilt. Die Metallisierung 311 kann beispielsweise auch als eine Reflexionsbeschichtung ausgebildet sein.The reflection coating 135 is thus in a first subsection 149 that by means of the semiconductor chip 321 or adhesive layer 139 is covered, and in a second section 151 that is free from the semiconductor chip 321 is divided. The metallization 311 may for example be formed as a reflection coating.

Analog zum in 1 gezeigten Ausführungsbeispiel ist eine anorganische Beschichtung 143 als Korrosionsschutzschicht vorgesehen die zumindest die folgenden Elemente bedeckt: frei liegende Oberflächen des Trägers 303 respektive der beiden Metallisierungen 309 und 311, also insbesondere frei liegende Abschnitte der Oberseite 305 des Trägers 303, frei liegende Abschnitte der Oberseite 327 der ersten Metallisierung 309, also frei liegende Abschnitte der Reflexionsbeschichtung 135, und eine Oberseite 331 der zweiten Metallisierung 311, die Oberseite 323 des Halbleiterchips 321, die Bonddrähte 133, die gegenüberliegenden Seitenflanken 147 des Halbleiterchips 321 sowie eine nicht vom Halbleiterchip 321 bedeckte, offene Klebstoffschicht 139, sofern der Klebstoff 329 gemäß einer Ausführungsform überstehen sollte, was hier der Übersicht halber nicht gezeigt ist. So kann es zum Beispiel beim Andrücken des Halbleiterchips 321 auf die Reflexionsbeschichtung 135 während des Klebens passieren, dass Klebstoff 329 unter dem Halbleiterchip 321 herausgedrückt wird, so dass sich auch Klebstoff 329 auf der Reflexionsbeschichtung 135 um den Halbleiterchip 321 befindet, also in einem Randbereich um den Halbleiterchip 321, wobei dieser Randbereich vom zweiten Teilabschnitt 151 umfasst ist.Analogous to in 1 shown embodiment is an inorganic coating 143 provided as a corrosion protection layer which covers at least the following elements: exposed surfaces of the support 303 respectively the two metallizations 309 and 311 , ie in particular exposed sections of the top 305 of the carrier 303 , exposed sections of the top 327 the first metallization 309 , ie exposed sections of the reflective coating 135 , and a top 331 the second metallization 311 , the top 323 of the semiconductor chip 321 , the bonding wires 133 , the opposite side edges 147 of the semiconductor chip 321 and one not from the semiconductor chip 321 covered, open adhesive layer 139 if the glue 329 according to one embodiment should survive, which is not shown here for clarity. So it can, for example, when pressing the semiconductor chip 321 on the reflective coating 135 during gluing happen that glue 329 under the semiconductor chip 321 is pushed out, so that also glue 329 on the reflective coating 135 around the semiconductor chip 321 is located, so in an edge region around the semiconductor chip 321 , wherein this edge region of the second section 151 is included.

Ferner ist ein Verguss 333 vorgesehen, der auch als ein Verkapselungswerkstoff bezeichnet werden kann. Der Halbleiterchip 321 und die Bonddrähte 133 sind mittels des Vergusses 333 verkapselt. Der Verguss 333 bettet somit insbesondere den Halbleiterchip 321 sowie insbesondere die Bonddrähte 133 ein. Der Verguss 333 ist vorzugsweise aus einem Material oder einem Werkstoff, welches respektive welcher für die elektromagnetische Strahlung zumindest teilweise, insbesondere vollständig, durchlässig oder transparent ist.Further, a potting 333 provided, which can also be referred to as an encapsulation material. The semiconductor chip 321 and the bonding wires 133 are by means of potting 333 encapsulated. The casting 333 thus, in particular, embeds the semiconductor chip 321 and in particular the bonding wires 133 one. The casting 333 is preferably made of a material or a material which is at least partially, in particular completely, permeable or transparent to the electromagnetic radiation.

Der Verguss 333 umfasst zum Beispiel ein Epoxidharz. Der Verguss 333 umfasst zum Beispiel ein Silikon. Der Verguss 333 umfasst zum Beispiel ein silikonhaltiges Hybridmaterial. Der Verguss 333 umfasst zum Beispiel einen mit Leuchtstoffpartikeln gefülltes Silikon oder Epoxidharz oder silikonhaltiges Hybridmaterial. The casting 333 includes, for example, an epoxy resin. The casting 333 includes, for example, a silicone. The casting 333 For example, it includes a silicone-containing hybrid material. The casting 333 includes, for example, a silicone particle-filled silicone or epoxy resin or silicone-containing hybrid material.

In dem in 3 gezeigten Ausführungsbeispiel weist der Verguss 333 eine rechteckartige Form auf. In einem nicht gezeigten Ausführungsbeispiel weist der Verguss 333 eine kuppelartige Form auf.In the in 3 embodiment shown, the potting 333 a rectangular shape. In one embodiment, not shown, the casting 333 a dome-like shape.

In einer nicht gezeigten Ausführungsform besteht der Träger aus einer Leiterplatte.In an embodiment not shown, the carrier consists of a printed circuit board.

In einer nicht gezeigten Ausführungsform besteht der Träger aus einem metallischen Leiterrahmen. In diesem Fall ist die Metallisierung der Leiterrahmen selbst.In an embodiment, not shown, the carrier consists of a metallic lead frame. In this case, the metallization is the lead frame itself.

4 zeigt eine Thiolatbeschichtung 401 in einer schematisch vereinfachten Darstellung. 4 shows a thiolate coating 401 in a simplified schematic representation.

Die Thiolatbeschichtung 401 ist auf einer Oberfläche 403 eines Grundkörpers 405 gebildet. Die Oberfläche 403 weist zum Beispiel eine Reflexionsbeschichtung auf.The thiolate coating 401 is on a surface 403 of a basic body 405 educated. The surface 403 has, for example, a reflection coating.

Die in 4 gezeigte Darstellung der Thiolatbeschichtung 401 steht exemplarisch für die Thiolatbeschichtung 155 gemäß den in den 1 und 3 gezeigten Ausführungsformen. Das heißt insbesondere, dass es sich bei der Oberfläche 403 um die Oberfläche der Reflexionsbeschichtung 135 handeln kann.In the 4 shown illustration of thiolate coating 401 exemplifies the thiolate coating 155 according to the in the 1 and 3 shown embodiments. This means in particular that it is the surface 403 around the surface of the reflective coating 135 can act.

Die Thiolatbeschichtung 401 umfasst eine Monolage aus Schwefelatomen (S) 407. Die Monolage aus Schwefelatomen 407 ist unmittelbar, auf der Oberfläche 403, insbesondere auf der Reflexionsbeschichtung, gebildet. Die Thiolatbeschichtung 401 umfasst ferner mehrere Molekülketten, zum Beispiel Alkylketten, die jeweils an ein Schwefelatom 407 gebunden sind.The thiolate coating 401 comprises a monolayer of sulfur atoms (S) 407 , The monolayer of sulfur atoms 407 is immediate, on the surface 403 , in particular on the reflective coating, formed. The thiolate coating 401 also includes several molecular chains, for example alkyl chains, each attached to a sulfur atom 407 are bound.

Durch das Vorsehen der Thiolatbeschichtung 401 wird ein effizienter und effektiver Korrosionsschutz vor korrosiven Gasen für die Oberfläche 403, insbesondere für eine Reflexionsbeschichtung, bereitgestellt. Korrosive Gase können somit nur vermindert bis gar nicht an die Oberfläche 403 angreifen und diese korrodieren.By providing the thiolate coating 401 becomes an efficient and effective corrosion protection against corrosive gases for the surface 403 , in particular for a reflective coating. Corrosive gases can thus only be reduced or not even reached the surface 403 attack and corrode them.

Obwohl die Erfindung im Detail durch die bevorzugten Ausführungsbeispiele näher illustriert und beschrieben wurde, so ist die Erfindung nicht durch die offenbarten Beispiele eingeschränkt und andere Variationen können vom Fachmann hieraus abgeleitet werden, ohne den Schutzumfang der Erfindung zu verlassen.While the invention has been further illustrated and described in detail by the preferred embodiments, the invention is not limited by the disclosed examples, and other variations can be derived therefrom by those skilled in the art without departing from the scope of the invention.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

101101: optoelektronisches Bauelement optoelectronic component
103103: Gehäuse casing
105105: Oberseite des Gehäuses Top of the housing
107107: Unterseite des Gehäuses Bottom of the housing
109109: Gehäuserahmen housing frame
111111: Leiterrahmen leadframe
113113: Oberseite des Leiterrahmens Top of the ladder frame
115115: Unterseite des Leiterrahmens Bottom of the ladder frame
117117: 1. Kontaktabschnitt 1st contact section
119119: 2. Kontaktabschnitt 2nd contact section
113a113a: Oberseite des 1. Kontaktabschnitts 117 Top of the 1st contact section 117
113b113b: Unterseite des 2. Kontaktabschnitts 119 Bottom of the 2nd contact section 119
121121: Kavität cavity
123123: Bodenbereich der Kavität Floor area of the cavity
125125: Wand der Kavität/Mantelfläche Wall of the cavity / lateral surface
127127: optoelektronischer Halbleiterchip optoelectronic semiconductor chip
129129: Oberseite des Halbleiterchips Top of the semiconductor chip
131131: Unterseite des Halbleiterchips Bottom of the semiconductor chip
133133: Bonddraht bonding wire
135135: Reflexionsbeschichtung reflective coating
137137: Klebstoff adhesive
139139: Klebstoffschicht adhesive layer
141141: Reflexionspartikel reflective particles
143143: Korrosionsschutzschicht, anorganische Beschichtung Corrosion protection layer, inorganic coating
145145: Verguss grouting
147147: Seitenflanken des Halbleiterchips Side edges of the semiconductor chip
149149: erster Teilabschnitt first section
151151: zweiter Teilabschnitt second subsection
153153: Chipmontagefläche Chip mounting surface
155155: Thiolatbeschichtung Thiolatbeschichtung
201201: Bereitstellen Provide
203203: Versehen Mistake
205205: Kleben glue
207207: Bilden Form
301301: optoelektronisches Bauelement optoelectronic component
303303: Träger carrier
305305: Oberseite des Trägers 303 Top of the vehicle 303
307307: Unterseite des Trägers 303 Bottom of the carrier 303
309, 311, 313, 315309, 311, 313, 315: Metallisierungen metallization
317317: Chipmontagefläche Chip mounting surface
321321: optoelektronischer Halbleiterchip optoelectronic semiconductor chip
323323: Oberseite des optoelektronischen Halbleiterchips 321 Top of the optoelectronic semiconductor chip 321
325325: Unterseite des optoelektronischen Halbleiterchips 321 Bottom of the optoelectronic semiconductor chip 321
327327: Oberseite der Metallisierung 309 Top of the metallization 309
329329: Klebstoff adhesive
331331: Oberseite der Metallisierung 311 Top of the metallization 311
333333: Verguss grouting
401401: Thiolatbeschichtung Thiolatbeschichtung
403403: Oberfläche surface
405405: Grundkörper body
407407: Schwefelatom sulfur atom
409409: Molekülkette molecular chain

Claims

Optoelektronisches Bauelement (101, 301), umfassend: – einen Träger (111, 303) aufweisend eine Chipmontagefläche (153, 317), – wobei die Chipmontagefläche (153, 317) eine Reflexionsbeschichtung (135) aufweist, – wobei die Reflexionsbeschichtung (135) zumindest teilweise mit einer Thiolatbeschichtung (155, 401) versehen ist, – wobei ein optoelektronischer Halbleiterchip (127, 321) mittels eines Klebstoffs (137, 329) auf der Thiolatbeschichtung (155, 401) geklebt ist, – wobei eine die Reflexionsbeschichtung (135) zumindest mittelbar bedeckende, von der Thiolatbeschichtung (155, 401) verschiedene Korrosionsschutzschicht (143) gebildet ist.Optoelectronic component ( 101 . 301 ), comprising: - a carrier ( 111 . 303 ) having a chip mounting surface ( 153 . 317 ), - wherein the chip mounting surface ( 153 . 317 ) a reflective coating ( 135 ), wherein the reflection coating ( 135 ) at least partially with a thiolate coating ( 155 . 401 ), - wherein an optoelectronic semiconductor chip ( 127 . 321 ) by means of an adhesive ( 137 . 329 ) on the thiolate coating ( 155 . 401 ), wherein one of the reflection coating ( 135 ) at least indirectly covering, of the thiolate coating ( 155 . 401 ) different corrosion protection layer ( 143 ) is formed.

Optoelektronisches Bauelement (101, 301) nach Anspruch 1, wobei der Klebstoff (137, 329) Reflexionspartikel (141) zum Reflektieren von mittels des Halbleiterchips (127, 321) emittierter elektromagnetischer Strahlung aufweist.Optoelectronic component ( 101 . 301 ) according to claim 1, wherein the adhesive ( 137 . 329 ) Reflection particles ( 141 ) for reflecting by means of the semiconductor chip ( 127 . 321 ) emitted electromagnetic radiation.

Optoelektronisches Bauelement (101, 301) nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Thiolatbeschichtung (155, 401) zusätzlich zwischen der Reflexionsbeschichtung (135) und der Korrosionsschutzschicht (143) gebildet ist, so dass die Korrosionsschutzschicht (143) die Reflexionsbeschichtung (135) mittelbar bedeckt.Optoelectronic component ( 101 . 301 ) according to claim 1 or 2, wherein the thiolate coating ( 155 . 401 ) additionally between the reflective coating ( 135 ) and the corrosion protection layer ( 143 ) is formed, so that the corrosion protection layer ( 143 ) the reflective coating ( 135 ) indirectly covered.

Optoelektronisches Bauelement (101, 301) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei der Halbleiterchip (127, 321) eine Unterseite (131, 325) und eine der Unterseite (131, 325) gegenüberliegende Oberseite (129, 323) aufweist, wobei der Halbleiterchip (127, 321) mit seiner Unterseite (131, 325) der Chipmontagefläche (153, 317) zugewandt auf der Thiolatbeschichtung (155, 401) geklebt ist, so dass zwischen der Unterseite (131, 325) und der Thiolatbeschichtung (155, 401) eine aus Klebstoff (137, 329) gebildete und die Unterseite (131, 325) und die Thiolatbeschichtung (155, 401) zumindest teilweise, beispielsweise vollständig, kontaktierende Klebstoffschicht (139) gebildet ist.Optoelectronic component ( 101 . 301 ) according to one of the preceding claims, wherein the semiconductor chip ( 127 . 321 ) an underside ( 131 . 325 ) and one of the underside ( 131 . 325 ) opposite top side ( 129 . 323 ), wherein the semiconductor chip ( 127 . 321 ) with its underside ( 131 . 325 ) of the chip mounting surface ( 153 . 317 ) facing on the thiolate coating ( 155 . 401 ) is glued, so that between the bottom ( 131 . 325 ) and the thiolate coating ( 155 . 401 ) one of adhesive ( 137 . 329 ) formed and the underside ( 131 . 325 ) and the thiolate coating ( 155 . 401 ) at least partially, for example completely, contacting adhesive layer ( 139 ) is formed.

Optoelektronisches Bauelement (101, 301) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei der Halbleiterchip (127, 321) mittels eines Bonddrahts (133) oder mittels zweier Bonddrähte (133) elektrisch kontaktiert ist, wobei der oder die Bonddrähte (133) mittels der Korrosionsschutzschicht (143) bedeckt ist respektive sind.Optoelectronic component ( 101 . 301 ) according to one of the preceding claims, wherein the semiconductor chip ( 127 . 321 ) by means of a bonding wire ( 133 ) or by means of two bonding wires ( 133 ) is electrically contacted, wherein the one or more bonding wires ( 133 ) by means of the corrosion protection layer ( 143 ) are respectively covered.

Optoelektronisches Bauelement (101, 301) nach einem der vorherigen Ansprüche, umfassend ferner ein elektronisches Bauteil, insbesondere eine in einen den Halbleiterchip (127, 321) umfassenden Stromkreis geschaltete ESD-Schutzdiode, das mittels der Korrosionsschutzschicht (143) zumindest mittelbar bedeckt ist.Optoelectronic component ( 101 . 301 ) according to one of the preceding claims, further comprising an electronic component, in particular a semiconductor chip (in 127 . 321 ) comprehensive circuit switched ESD protection diode, which by means of the anti-corrosion layer ( 143 ) is covered at least indirectly.

Optoelektronisches Bauelement (101, 301) nach Anspruch 6, wobei die Thiolatbeschichtung (155, 401) zusätzlich zwischen dem elektronischen Bauteil und der das elektronische Bauteil bedeckenden Korrosionsschutzschicht (143) gebildet ist, so dass die Korrosionsschutzschicht (143) das elektronische Bauteil mittelbar bedeckt.Optoelectronic component ( 101 . 301 ) according to claim 6, wherein the thiolate coating ( 155 . 401 ) additionally between the electronic component and the corrosion protection layer covering the electronic component ( 143 ) is formed, so that the corrosion protection layer ( 143 ) indirectly covers the electronic component.

Optoelektronisches Bauelement (101, 301) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei die Korrosionsschutzschicht (143) eine oder mehrere anorganische Schichten, insbesondere Al2O3-Schicht, SiO2-Schicht, Si3N4-Schicht, TiO2-Schicht, ZnO2-Schicht, Ta2O5-Schicht, Ge3N4-Schicht, ZrO2-Schicht, umfasst.Optoelectronic component ( 101 . 301 ) according to one of the preceding claims, wherein the corrosion protection layer ( 143 ) comprises one or more inorganic layers, in particular Al 2 O 3 layer, SiO 2 layer, Si 3 N 4 layer, TiO 2 layer, ZnO 2 layer, Ta 2 O 5 layer, Ge 3 N 4 layer, ZrO 2 layer.

Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements (101, 301), umfassend die folgenden Schritte: – Bereitstellen (201) eines eine Chipmontagefläche (153, 317) aufweisenden Trägers (111, 303), wobei die Chipmontagefläche (153, 317) eine Reflexionsbeschichtung (135) aufweist, – wobei die Reflexionsbeschichtung (135) zumindest teilweise mit einer Thiolatbeschichtung (155, 401) versehen (203) wird, – wobei ein optoelektronischer Halbleiterchip (127, 321) mittels eines Klebstoffs (137, 329) auf die Thiolatbeschichtung (155, 401)) geklebt wird, – wobei eine die Reflexionsbeschichtung (135) zumindest mittelbar bedeckende, von der Thiolatbeschichtung (155, 401) verschiedene Korrosionsschutzschicht (143) gebildet (207) wird.Method for producing an optoelectronic component ( 101 . 301 ), comprising the following steps: - providing ( 201 ) one of a chip mounting surface ( 153 . 317 ) ( 111 . 303 ), wherein the chip mounting surface ( 153 . 317 ) a reflective coating ( 135 ), wherein the reflection coating ( 135 ) at least partially with a Thiolate coating ( 155 . 401 ) Mistake ( 203 ), - wherein an optoelectronic semiconductor chip ( 127 . 321 ) by means of an adhesive ( 137 . 329 ) on the thiolate coating ( 155 . 401 )), one of which is the reflection coating ( 135 ) at least indirectly covering, of the thiolate coating ( 155 . 401 ) different corrosion protection layer ( 143 ) educated ( 207 ) becomes.

Verfahren nach Anspruch 9, wobei der Klebstoff (137, 329) Reflexionspartikel (141) zum Reflektieren von mittels des Halbleiterchips (127, 321) emittierter elektromagnetischer Strahlung aufweist.The method of claim 9, wherein the adhesive ( 137 . 329 ) Reflection particles ( 141 ) for reflecting by means of the semiconductor chip ( 127 . 321 ) emitted electromagnetic radiation.

Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, wobei die Thiolatbeschichtung (155, 401) derart gebildet wird, dass die Thiolatbeschichtung (155, 401) zusätzlich zwischen der Reflexionsbeschichtung (135) und der Korrosionsschutzschicht (143) gebildet ist, so dass die Korrosionsschutzschicht (143) die Reflexionsbeschichtung (135) mittelbar bedeckt.Process according to claim 9 or 10, wherein the thiolate coating ( 155 . 401 ) is formed such that the thiolate coating ( 155 . 401 ) additionally between the reflective coating ( 135 ) and the corrosion protection layer ( 143 ) is formed, so that the corrosion protection layer ( 143 ) the reflective coating ( 135 ) indirectly covered.

Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 11, wobei der Halbleiterchip (127, 321) eine Unterseite (131, 325) und eine der Unterseite (131, 325) gegenüberliegende Oberseite (129, 323) aufweist, wobei der Halbleiterchip (127, 321) mit seiner Unterseite (131, 325) der Chipmontagefläche (153, 317) zugewandt auf die Thiolatbeschichtung (155, 401) (135) geklebt wird, so dass zwischen der Unterseite (131, 325) und der Thiolatbeschichtung (155, 401) eine aus Klebstoff (137, 329) gebildete und die Unterseite (131, 325) und die Thiolatbeschichtung (155, 401) zumindest teilweise, beispielsweise vollständig, kontaktierende Klebstoffschicht (139) gebildet wird. Method according to one of claims 9 to 11, wherein the semiconductor chip ( 127 . 321 ) an underside ( 131 . 325 ) and one of the underside ( 131 . 325 ) opposite top side ( 129 . 323 ), wherein the semiconductor chip ( 127 . 321 ) with its underside ( 131 . 325 ) of the chip mounting surface ( 153 . 317 ) facing the thiolate coating ( 155 . 401 ) ( 135 ) is glued, so that between the bottom ( 131 . 325 ) and the thiolate coating ( 155 . 401 ) one of adhesive ( 137 . 329 ) formed and the underside ( 131 . 325 ) and the thiolate coating ( 155 . 401 ) at least partially, for example completely, contacting adhesive layer ( 139 ) is formed.

Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 12, wobei nach dem Kleben (205) der Halbleiterchip (127, 321) mittels eines Bonddrahts (133) oder mittels zweier Bonddrähte (133) elektrisch kontaktiert wird, wobei der oder die Bonddrähte (133) mittels der Korrosionsschutzschicht (143) bedeckt wird respektive werden.Method according to one of claims 9 to 12, wherein after bonding ( 205 ) the semiconductor chip ( 127 . 321 ) by means of a bonding wire ( 133 ) or by means of two bonding wires ( 133 ) is electrically contacted, wherein the one or more bonding wires ( 133 ) by means of the corrosion protection layer ( 143 ) will be respectively covered.

Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 13, wobei ferner ein elektronisches Bauteil, insbesondere eine in einen den Halbleiterchip (127, 321) umfassenden Stromkreis geschaltete ESD-Schutzdiode, vorgesehen ist, das nach dem Kleben (205) zumindest mittelbar mittels der Korrosionsschutzschicht (143) bedeckt wird.Method according to one of claims 9 to 13, wherein furthermore an electronic component, in particular a semiconductor chip (in 127 . 321 ) comprehensive circuit switched ESD protection diode, is provided, which after bonding ( 205 ) at least indirectly by means of the corrosion protection layer ( 143 ) is covered.

Verfahren nach Anspruch 14, wobei die Thiolatbeschichtung (155, 401) derart gebildet wird, dass die Thiolatbeschichtung (155, 401) zusätzlich zwischen dem elektronischen Bauteil und der das elektronische Bauteil bedeckenden Korrosionsschutzschicht (143) gebildet ist, so dass die Korrosionsschutzschicht (143) das elektronische Bauteil mittelbar bedeckt.The method of claim 14, wherein the thiolate coating ( 155 . 401 ) is formed such that the thiolate coating ( 155 . 401 ) additionally between the electronic component and the corrosion protection layer covering the electronic component ( 143 ) is formed, so that the corrosion protection layer ( 143 ) indirectly covers the electronic component.

Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 15, wobei das Bilden der Thiolatbeschichtung (155, 401) ein Aufbringen eines Thiols umfasst.The method of any of claims 9 to 15, wherein forming the thiolate coating ( 155 . 401 ) comprises applying a thiol.

Verfahren nach Anspruch 16, wobei das Aufbringen des Thiols ein Dispensen eines Lösungsmittels und/oder ein Sprühen eines Lösungsmittels und/oder ein Eintauchen des Trägers (111, 303) in ein Lösungsmittel, wobei in dem Lösungsmittel das Thiol gelöst ist, für eine vorbestimmte Zeit umfasst.The method of claim 16, wherein applying the thiol comprises dispensing a solvent and / or spraying a solvent and / or immersing the carrier ( 111 . 303 ) in a solvent wherein the thiol is dissolved in the solvent for a predetermined time.

Verfahren nach Anspruch 16 oder 17, wobei das Aufbringen des Thiols ein Durchführen eines chemischen Gasphasenabscheidungsprozesses, insbesondere eines chemischen Gasphasenabscheidungsprozesses bei Unterdruck, für eine vorbestimmte Zeit umfasst.The method of claim 16 or 17, wherein the application of the thiol comprises performing a chemical vapor deposition process, in particular a chemical vapor deposition process under reduced pressure, for a predetermined time.

Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 18, wobei die Reflexionsbeschichtung (135) vor dem Bilden der Thiolatbeschichtung (155, 401) zumindest teilweise gereinigt und/oder aktiviert wird. Method according to one of claims 9 to 18, wherein the reflection coating ( 135 ) before forming the thiolate coating ( 155 . 401 ) is at least partially cleaned and / or activated.

Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 19, wobei die Korrosionsschutzschicht (143) eine oder mehrere anorganische Schichten, insbesondere Al2O3-Schicht, SiO2-Schicht, Si3N4-Schicht, TiO2-Schicht, ZnO2-Schicht, Ta2O5-Schicht, Ge3N4-Schicht, ZrO2-Schicht, umfasst.Method according to one of claims 9 to 19, wherein the corrosion protection layer ( 143 ) comprises one or more inorganic layers, in particular Al 2 O 3 layer, SiO 2 layer, Si 3 N 4 layer, TiO 2 layer, ZnO 2 layer, Ta 2 O 5 layer, Ge 3 N 4 layer, ZrO 2 layer.

Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 20, wobei nach dem Kleben (205) und vor dem Bilden der Korrosionsschutzschicht (143) die Thiolatbeschichtung (155, 401) zumindest teilweise von einer nicht mit Klebstoff bedeckten Fläche der Reflexionsbeschichtung (135) entfernt wird.Method according to one of claims 9 to 20, wherein after gluing ( 205 ) and before forming the anticorrosion layer ( 143 ) the thiolate coating ( 155 . 401 ) at least partially from a non-adhesive surface of the reflective coating ( 135 ) Will get removed.