DE102013106225A1 - Method and device for measuring optical layer properties on flexible substrates - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Messung optischer Eigenschaften flexibler Substrate mit mindestens einer Walze, wobei das Substrat in Kontakt mit mindestens einer Walzenoberfläche ist sowie zumindest einer Messeinrichtung und einer Auswerteeinrichtung mit der die Reflexion und Transmission gemessen wird. Die Aufgabe der Erfindung ist es, die erschwerte Auswertung von Messsignalen an hochreflektierenden Walzen zu beheben. Die Aufgabe wird vorrichtungs- und verfahrensseitig dadurch gelöst, dass eine Walzenoberfläche auf ihrem Umfang ein erstes Segment mit einem ersten Reflexionswert und ein zweites Segment mit einem zweiten Reflexionswert aufweist, wobei das erste Segment und das zweite Segment auf dem Umfang der Walzenoberfläche nebeneinander abwechselnd angeordnet sind. Es wird ein erster Reflexionswert in einem ersten Segment der Walzenoberfläche und ein zweiter Reflexionswert in einem zweiten Segment der Walzenoberfläche bestimmt, wobei das erste und das zweite Segment der Walzenoberfläche unterschiedliche Reflexionswerte aufweisen.The invention relates to a method and a device for measuring optical properties of flexible substrates having at least one roller, wherein the substrate is in contact with at least one roller surface and at least one measuring device and an evaluation device with which the reflection and transmission is measured. The object of the invention is to eliminate the difficult evaluation of measurement signals on highly reflective rollers. The object is achieved in terms of apparatus and method in that a roll surface has on its periphery a first segment with a first reflection value and a second segment with a second reflection value, wherein the first segment and the second segment are arranged alternately side by side on the circumference of the roll surface , A first reflection value in a first segment of the roll surface and a second reflection value in a second segment of the roll surface are determined, wherein the first and the second segment of the roll surface have different reflection values.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Messung optischer Eigenschaften flexibler Substrate mit mindestens einer Walze, wobei das Substrat in Kontakt mit mindestens einer Walzenoberfläche ist sowie zumindest einer Messeinrichtung und einer Auswerteeinrichtung mit der die Reflexion und Transmission gemessen wird. The invention relates to a method for measuring optical properties of flexible substrates having at least one roller, wherein the substrate is in contact with at least one roller surface and at least one measuring device and an evaluation device with which the reflection and transmission is measured.
Die Erfindung betrifft weiterhin eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens. The invention further relates to a device for carrying out the method according to the invention.
Bei der Überwachung der Eigenschaften von Substraten, die auch beschichtet sein können, wobei die Überwachung der Schichtqualität in Beschichtungsprozessen von großer Bedeutung ist, kommen in der Regel Reflexions- und Transmissionsmessungen zur Anwendung. Beispielsweise werden solche Messungen in Beschichtungsanlagen zur Beschichtung von Folien mit optischen Funktionsschichten eingesetzt. When monitoring the properties of substrates, which may also be coated, wherein the monitoring of the coating quality in coating processes is of great importance, usually reflection and transmission measurements are used. For example, such measurements are used in coating systems for coating films with optical functional layers.
Während eine Transmissionsmessung relativ unkompliziert beispielsweise in einer Transportstrecke, in der ein zu untersuchendes und zu beschichtendes Substrat in der Beschichtungsanlage transportiert wird, durch eine Sende- und Empfangseinheit zu realisieren und zu messen ist, sind die Anforderungen an eine Reflexionsmessung wesentlich höher. Die Reflexionsmessung, beispielsweise an einem Foliensubstrat, welches unbeschichtet oder bereits beschichtet sein kann, wird an einer teilumschlungenen Rolle durchgeführt, um die nötige Lagestabilität der reflektierenden Oberfläche für eine akzeptable Messgenauigkeit zu erreichen (
Hierzu können entweder eine getrennte Empfangs- und Sendeoptik in geeigneter Weise zur Rolle positioniert werden (
Die Sendeoptik wird von einer zumeist außerhalb der Anlage befindlichen Lichtquelle gespeist. Die Empfangsoptik ist an eine Auswerteeinheit zur Intensitätsmessung angeschlossen. Hier kommen sowohl Systeme mit monochromatischen Lichtquellen, wie LED oder Laser und integrale Photodetektoren, als auch breitbandige Lichtquellen, wie Weißlichtquellen in Verbindung mit Spektrometern zum Einsatz. The transmission optics are powered by a light source, which is usually located outside the system. The receiving optics is connected to an evaluation unit for intensity measurement. Systems with monochromatic light sources, such as LEDs or lasers and integral photodetectors, as well as broadband light sources, such as white light sources in conjunction with spectrometers, are used here.
Um an Walzen, die nicht auf zylindrische Walzen beschränkt sind, bereits sehr zeitnah im Beschichtungsprozess Einblick in die Güte der Beschichtung zu erlangen, bzw. die einzelnen Beschichtungsschritte aufzulösen, werden auch optische Messungen an der Walze durchgeführt, wie beispielsweise die in
In anderen Anlagen wurde z.B. eine Reflexionsmesseinrichtung in einem Freiraum (Spalt) zwischen den Prozesskammern installiert, der zur Gasisolation dient (
Üblicherweise werden hartverchromte Beschichtungswalzen verwendet, bei denen eine erhöhte Walzenreflexion RWalze von ca. (60 bis 70)% auftritt. Diese wirkt sich nachteilig auf das Messsignal aus, da es zu einer Vermischung von Transmissions- und Reflexionseigenschaften des beschichteten Substrates und der Walze im Empfangssignal kommt (wie dies später mit Gleichung 1 ausgedrückt wird). Dies erschwert die spätere Auswertung. Typically, hard chromium plated coating rolls are used in which an increased roll reflection R roll of about (60 to 70)% occurs. This has an adverse effect on the measurement signal, as it comes to a mixing of transmission and reflection properties of the coated substrate and the roller in the received signal (as will be expressed later with equation 1). This complicates the later evaluation.
Aus dem Stand der Technik ist bekannt, dass auch eine Art Quasi-Absorption (als A# bezeichnet) aus dem Empfangssignal berechnet werden kann, wenn die Walzenoberfläche eine sehr hohe Reflexion (RWalze > 65%) besitzt. It is known from the prior art that a kind of quasi-absorption (referred to as A #) can also be calculated from the received signal if the roll surface has a very high reflection (R roll > 65%).
Die Aufgabe der Erfindung ist es, die erschwerte Auswertung von Messsignalen an hochreflektierenden Walzen zu beheben. Zweckmäßigerweise sollen die Transmissions- und Reflexionseigenschaften vor allem an transparenten flexiblen Substraten, insbesondere Foliensubstraten, an einer Walze getrennt ermittelbar sein. The object of the invention is to eliminate the difficult evaluation of measurement signals on highly reflective rollers. Expediently, the transmission and reflection properties, especially on transparent flexible substrates, in particular film substrates, should be able to be determined separately on a roller.
Zur Lösung der Aufgabenstellung geht die Erfindung von folgendem aus: Wird die Reflexionsmessung an einem transparenten Substrat durchgeführt, wird von der Auswerteeinheit ein Empfangssignal detektiert, welches sich aus Lichtanteilen zusammensetzt, die einerseits von der Walze reflektiert wurden, über die das Substrat transportiert wird und das Substrat durchdrangen und andererseits von dem Anteil, der am Substrat selbst reflektiert wurde. Liegt das Substrat nicht vollständig an der Walze an, beeinflusst dies das Empfangssignal zusätzlich. Die Intensität des detektierten Signals kann wie folgt berechnet werden, wobei R die Reflexion entsprechend dem Index des Substrates oder der Walze ist, T die Transmission und ΦE die Intensität des Empfangssignals und Φs die Intensität der Lichtquelle, wobei der Spektralbereich der Lichtquelle im für die Messung der Eigenschaften der Beschichtung relevanten Bereich liegt:
Wird die Mehrfachreflexion zwischen der Substratrückseite und der Walzenoberfläche berücksichtigt, gilt für die Intensität des detektierten Signals: If the multiple reflection between the back of the substrate and the surface of the roll is taken into account, the intensity of the detected signal is considered to be:
Vorzugsweise werden für die Reflexionsmessungen schwach reflektierende matte Walzen eingesetzt, die beispielsweise aus Gummi oder Elastomeren bestehen oder damit überzogen sind, um das von der Walze herrührende Untergrundsignal zu minimieren. Unter der Voraussetzung, dass die Mehrfachreflexionen vernachlässigbar sind und die Reflexion der Walze RWalze vernachlässigbar klein ist, d.h. die Reflexion nur einige wenige Prozent beträgt, vereinfacht sich Gleichung 1 und die Intensität des Empfangssignals ist in erster Näherung proportional zur Substratreflexion:
Um eine solche Messung zu kalibrieren, werden bisher zwei Verfahren eingesetzt. Zum einen kann ein Substrat „Substrat 1“ mit bekannten Reflexionseigenschaften vermessen werden, wobei sich die Intensität des Empfangssignals wie folgt berechnet: To calibrate such a measurement, two methods are used so far. On the one hand, a substrate "
Zum anderen kann im Fall einer nichtverschwindenden Walzenreflexion RWalze durch eine initiale Messung des von der Walze reflektierten Lichtanteils, d.h. ohne dass sich ein Substrat in der Beschichtungsanlage befindet die Messung um den Anteil korrigiert werden, aber nur unter der Voraussetzung, dass zuvor eine unabhängige Messung der Transmission vorgenommen wurde. Es gilt:
Die Kalibrierung erfolgt dann analog zu Gleichung 4. The calibration then takes place analogously to equation 4.
Liegen die Kalibrierungen zeitlich weit auseinander und kann die Stabilität der Lichtquelle nicht in ausreichendem Maße abgesichert werden, kann eine mögliche Drift im Beleuchtungsspektrum durch eine Referenzmessung der Lichtquelle eliminiert werden. Denn bei dem gleichen Messobjekt, d.h. dem gleichen zu messenden Substrat gilt: wobei t den Messzeitpunkt angibt. If the calibrations are far apart in time and the stability of the light source can not be sufficiently assured, a possible drift in the illumination spectrum can be eliminated by a reference measurement of the light source. For with the same measurement object, ie the same substrate to be measured, the following applies: where t indicates the time of measurement.
Mit der Erfindung soll auch die wahre Absorption des zu untersuchenden Substrates bestimmt werden. Bisher wurde aus dem Empfangssignal eine Art Quasi-Absorption (als A# bezeichnet) berechnet, wenn die Walzenoberfläche eine sehr hohe Reflexion (RWalze > 65%) besitzt. Diese lässt sich nach folgender Gleichung berechnen: With the invention, the true absorption of the substrate to be examined should also be determined. So far, a kind of quasi-absorption (referred to as A #) was calculated from the received signal when the roll surface has a very high reflectance (R roll > 65%). This can be calculated according to the following equation:
Die Aufgabe wird verfahrensseitig dadurch gelöst, dass ein erster Reflexionswert in einem ersten Segment der Walzenoberfläche und ein zweiter Reflexionswert in einem zweiten Segment der Walzenoberfläche bestimmt wird, wobei das erste und das zweite Segment der Walzenoberfläche unterschiedliche Reflexionswerte aufweisen. The object is achieved on the method side by determining a first reflection value in a first segment of the roll surface and a second reflection value in a second segment of the roll surface, wherein the first and second segments of the roll surface have different reflection values.
Dabei wird der erste Reflexionswert aus einem ersten Empfangssignal der Auswerteeinheit und einer Intensität einer Lichtquelle der Messeinrichtung berechnet, der zweite Reflexionswert aus einem zweiten Empfangssignal der Auswerteeinheit und der Intensität der Lichtquelle der Messeinrichtung. Zur Veranschaulichung kann der Zusammenhang formelmäßig wie folgt ausgedrückt werden:
Dabei ist der erste Reflexionswert beispielsweise höher als der zweite Reflexionswert. Aus der Differenz des ersten und des zweiten Empfangssignals, der Intensität der Lichtquelle und der Differenz des ersten und des zweiten Reflexionswertes wird weiter eine Transmission des zu untersuchenden Substrates berechnet: In this case, the first reflection value is, for example, higher than the second reflection value. From the difference of the first and the second received signal, the intensity of the light source and the difference of the first and the second reflection value, a transmission of the substrate to be examined is further calculated:
Aus dem ersten und/oder dem zweiten Empfangssignals, der Intensität der Lichtquelle der Messeinrichtung, dem ersten und/oder dem zweiten Reflexionswert sowie der Transmission des Substrates wird eine Reflexion des Substrates berechnet. Zur Veranschaulichung gelten hier die Gleichungen 9 bis 11, aufgelöst nach RSubstrat, wobei aus der Reflexion und der Transmission des Substrates eine Absorption des Substrates berechnet und eine Drift der Intensität der Lichtquelle der Messeinrichtung durch eine Referenzmessung der Lichtquelle mit einer separaten Messeinrichtung eliminiert werden kann. From the first and / or the second received signal, the intensity of the light source of the measuring device, the first and / or the second reflection value and the transmission of the substrate, a reflection of the substrate is calculated. For illustration, the
In einer Ausgestaltung der Erfindung können mit einem Mittel zur Detektion der Position der Segmente auf der Walzenoberfläche, die unterschiedlichen Reflexionswerte der Segmente den zugehörigen, von der Auswerteeinheit detektierten Messwerten zugeordnet werden. Dies kann beispielsweise ein Absolutwertgeber sein, der an die Walze angebracht ist, um den Drehwinkel der Walze zu registrieren und so die Position der Segmente mit dem hohen und dem niedrigen Reflexionswert den registrierten Signalen zuzuordnen, alternativ kann auch ein in der Auswerteeinheit implementierter Algorithmus aus den Flanken im Messsignal sowie aus den darauffolgenden Intensitätswerten die Position der Segmente feststellen. In one embodiment of the invention, with a means for detecting the position of the segments on the roller surface, the different reflection values of the segments can be assigned to the associated measured values detected by the evaluation unit. This may be, for example, an absolute encoder attached to the roller to register the rotation angle of the roller and thus to associate the position of the high and low reflection value segments with the registered signals; alternatively, an algorithm implemented in the evaluation unit may be constructed from the Flanks in the measurement signal and from the subsequent intensity values determine the position of the segments.
In einer Ausgestaltung der Erfindung kann die Kalibrierung der Messeinrichtung mit einem Substrat mit bekannten Transmissionseigenschaften und bekannten Reflexionseigenschaften erfolgen. Alternativ kann die Kalibrierung der Messeinrichtung auch ohne Substrat direkt an der Walzenoberfläche erfolgen. In one embodiment of the invention, the calibration of the measuring device can be carried out with a substrate having known transmission properties and known reflection properties. Alternatively, the calibration of the measuring device can take place without substrate directly on the roll surface.
Für die Untersuchung der Schichteigenschaften über die gesamte Substratbreite werden entlang der axialen Längserstreckung der Walze die optischen Schichteigenschaften des flexiblen Substrates an üblicherweise drei Messpositionen gemessen. For the investigation of the layer properties over the entire width of the substrate, the optical layer properties of the flexible substrate are measured at usually three measuring positions along the axial longitudinal extent of the roller.
Die Aufgabe wird vorrichtungsseitig dadurch gelöst, dass die Walzenoberfläche auf ihrem Umfang ein erstes Segment mit einem ersten Reflexionswert und ein zweites Segment mit einem zweiten Reflexionswert aufweist, wobei das erste Segment und das zweite Segment auf dem Umfang der Walzenoberfläche nebeneinander abwechselnd angeordnet sind. Die Segmente können sich dabei teilweise oder ganz über die axiale Längserstreckung der Walze erstrecken. Die Walzenoberfläche lässt sich auch als streifenförmig beschreiben, wobei die Streifen parallel zur Walzenachse angeordnet sind und sich die Streifen mit einem hohen und einem niedrigen Reflexionswert abwechseln. Die Walze kann mit einem Antrieb selbständig in Bewegung, d.h. Rotation versetzt werden, wobei dies auch ohne Substrat möglich ist. An der Walze ist ein Mittel zur Detektion der Position der Segmente mit unterschiedlichen Reflexionswerten auf der Walzenoberfläche angeordnet. Dies kann beispielsweise ein Absolutwertgeber sein, der den Drehwinkel der Walze registriert, um die Position der Segmente auf der Walzenoberfläche mit den unterschiedlichen Reflexionswerten in Zusammenhang mit den von der Reflexionsmesseinrichtung registrierten Signalen zu bringen. Die Messeinrichtungen zur Detektion der Reflexionswerte sind entlang des Umfanges der Walze angeordnet, wobei diese so angeordnet sind, dass die Messeinrichtungen keiner direkten Beschichtung ausgesetzt sind. Mit der Walze können flexible Substrate transportiert oder behandelt oder beides werden. Sowohl das Verfahren als auch die Vorrichtung sind in Vakuumbeschichtungsanlagen einsetzbar. The object is achieved on the device side in that the roll surface has on its circumference a first segment with a first reflection value and a second segment with a second reflection value, wherein the first segment and the second segment are arranged alternately side by side on the circumference of the roll surface. The segments may extend partially or completely over the axial longitudinal extent of the roller. The roll surface can also be described as strip-shaped, wherein the strips are arranged parallel to the roll axis and the strips alternate with a high and a low reflection value. The roller can be driven by a drive independently in motion, i. Rotation are offset, and this is possible without a substrate. A means for detecting the position of the segments with different reflection values on the roller surface is arranged on the roller. This may be, for example, an absolute encoder which registers the rotation angle of the roller to bring the position of the segments on the roller surface with the different reflection values in connection with the signals registered by the reflection measuring device. The measuring devices for detecting the reflection values are arranged along the circumference of the roller, wherein these are arranged so that the measuring devices are not exposed to direct coating. With the roller flexible substrates can be transported or treated or both. Both the method and the device can be used in vacuum coating systems.
Die Erfindung soll nachfolgend an einem Ausführungsbeispiel näher beschrieben werden. In den zugehörigen Zeichnungen zeigen: The invention will be described below with reference to an embodiment. In the accompanying drawings show:
In einer beispielhaften Ausführung der Erfindung wird ein flexibles Substrat
Aufgrund der Segmente mit den unterschiedlichen Reflexionswerten
Vor einer Messung muss die Messeinrichtung kalibriert werden. In der beispielhaften Ausführung der Erfindung kann die Kalibrierung an einer Folie mit bekannten Reflexions- und Transmissionseigenschaften (RFolie, TFolie) erfolgen, wobei sich die Reflexionswerte der Walze aus den Gleichungen 9 und 10 gemäß: berechnen lassen. Alternativ kann beispielsweise nach einer Wartung der Anlage die Kalibrierung auch ohne ein Substrat erfolgen, wobei die Reflexionswerte des Substrats
Mit diesem Messverfahren lässt sich auch die wahre Absorption des Substrates
Bezugszeichenliste LIST OF REFERENCE NUMBERS
- 1 1
- Substrat substratum
- 2 2
- Messeinrichtung für die Transmissionsmessung Measuring device for the transmission measurement
- 3 3
- Messeinrichtung für die Reflexionsmessung Measuring device for reflection measurement
- 4a 4a
- Lichtwellenleiter Lichtsender Fiber optic light transmitter
- 4b 4b
- Lichtwellenleiter Empfänger Fiber optic receiver
- 5 5
- Auswerteeinrichtung evaluation
- 6 6
- Walze roller
- 7 7
- Prozesskammer process chamber
- 8 8th
- Beschichtungsanlage coating plant
- 9 9
- Messstelle measuring point
- 1010
- Transportrolle transport roller
- 11 11
- Segment mit niedriger Reflexion Segment with low reflection
- 1212
- Segment mit hoher Reflexion Segment with high reflection
- R R
- Reflexion reflection
- T T
- Transmission transmission
- A A
- Absorption absorption
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
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---|---|---|---|
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Country Status (1)
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---|---|
DE (1) | DE102013106225A1 (en) |
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Owner name: VON ARDENNE ASSET GMBH & CO. KG, DE Free format text: FORMER OWNER: VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH, 01324 DRESDEN, DE |
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R082 | Change of representative |
Representative=s name: LIPPERT STACHOW PATENTANWAELTE RECHTSANWAELTE , DE Representative=s name: PATENTANWAELTE LIPPERT, STACHOW & PARTNER, DE |
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R016 | Response to examination communication | ||
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R082 | Change of representative |
Representative=s name: LIPPERT STACHOW PATENTANWAELTE RECHTSANWAELTE , DE |
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R002 | Refusal decision in examination/registration proceedings | ||
R003 | Refusal decision now final |