DE102012212753A1

DE102012212753A1 - Projektionsoptik

Info

Publication number: DE102012212753A1
Application number: DE201210212753
Authority: DE
Inventors: Alexander Epple
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2012-07-20
Filing date: 2012-07-20
Publication date: 2014-01-23

Abstract

Eine Projektionsoptik (7) umfasst zwei entlang des Strahlengangs voneinander beabstandet angeordnete Blenden (22, 23) zur Begrenzung der Apertur in unterschiedlichen Richtungen.

Description

Die Erfindung betrifft eine Projektionsoptik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld. Die Erfindung betrifft weiterhin eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen Projektionsoptik. Außerdem betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauelements.
Katoptrische Projektionsoptiken für Lithographiesysteme sind aus der US 6,396,067 B1 , der JP 2004/246343 und der JP 2005/86148 bekannt.
Es besteht fortwährender Bedarf, derartige Projektionsoptiken weiterzubilden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Projektionsoptik mit verbesserten Abbildungseigenschaften zu schaffen.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruches 1 gelöst. Der Kern der Erfindung besteht darin, eine Aperturblende zur Begrenzung der Systemapertur in zwei separate Blenden-Einrichtungen aufzuteilen. Hierdurch ist es möglich, die Tatsache zu berücksichtigen, dass die Abbildung der Eintrittspupille der Projektionsoptik durch die optischen Elemente der Projektionsoptik astigmatisch ist. Hierdurch wird eine im wesentlichen homozentrische Eintrittspupille zumeist auf eine astigmatisch aberrierte, sich im System befindliche reelle Aperturblende abgebildet. Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass die Abbildungseigenschaften der Projektionsoptik verbessert werden können, wenn die Blenden-Einrichtungen jeweils in der Nähe einer Pupillenschale, insbesondere im Bereich derselben, angeordnet werden. Als Pupillenschale wird hierbei die Fläche bezeichnet, auf welcher eine Strukturrichtung der Eintrittspupille mit minimalen Aberrationen abgebildet wird. Insbesondere spricht man von der X-Pupillenschale, in der vertikale Strukturen der Eintrittspupille, d. h. Strukturen in y-Richtung im Sinne der , mit minimalen Aberrationen abgebildet werden. Die X-Pupillenschale ist mit anderen Worten dort, wo die Subaperturen der Eintrittspupille in x-Richtung übereinanderliegen und in y-Richtung auffächern. In der Y-Pupillenschale werden horizontale Strukturen der Eintrittspupille, d. h. Strukturen in x-Richtung im Sinne der , mit minimalen Aberationen abgebildet. Die Y-Pupillenschale ist mit anderen Worten dort, wo die Subaperturen der Eintrittspupille in y-Richtung übereinanderliegen und in x-Richtung auffächern. Die x-Richtung und y-Richtung stehen insbesondere senkrecht zueinander und spannen eine Ebene parallel zur Objektebene, insbesondere parallel zur Ebene der Eintrittspupille der Projektionsoptik auf. Hierbei wird die y-Richtung auch als vertikal und die x-Richtung als horizontal bezeichnet. Die y-Richtung entspricht der Scan-Richtung. Sie liegt insbesondere in einer Ebene, welche durch einen Hauptstrahl eines zentralen Objektfeldpunktes und einer Achse, welche senkrecht auf dem Objektfeld steht und durch den zentralen Objektfeldpunkt verläuft, definiert ist. Insbesondere wird der rechte und linke Rand der Eintrittspupille in der X-Pupillenschale ohne Defokus abgebildet, während der obere und untere Rand der Eintrittspupille aberriert, d. h. vornehmlich defokussiert ist. In der Y-Pupillenschale wird der obere und untere Rand der Eintrittspupille ohne Defokus abgebildet, während der linke und rechte Rand der Eintrittspupille aberriert, d. h. vornehmlich defokussiert, ist. In diesem Fall dient die in der Nähe, insbesondere im Bereich der Y-Pupillenschale angeordnete Blenden-Einrichtung zur Vorgabe von äußeren Begrenzungen der Pupille in horizontaler (oder X-)Richtung, während die in der Nähe, insbesondere im Bereich der X-Pupillenschale angeordnete Blenden-Einrichtung zur Vorgabe von äußeren Begrenzungen der Pupille bezüglich der vertikalen (oder Y-)Richtung dient.
Die Pupillenschalen sind im Allgemeinen in Richtung des Strahlengangs um einen Abstand d voneinander beabstandet. Dieser wird auch als astigmatische Pupillendifferenz bezeichnet.
Im Allgemeinen ist der Abstand d der Pupillenschalen in Richtung des Strahlengangs positionsabhängig. Er nimmt üblicherweise zum Rand hin zu. Im Folgenden wird der Abstand der Pupillenschalen als geometrischer Abstand der Flächen angegeben, gemessen entlang des Hauptstrahls des zentralen Feldpunkts. Dieser Wert wird auch einfachheitshalber als Abstand d der Pupillenschalen bezeichnet.
Die Blenden-Einrichtungen sind insbesondere in Richtung des Strahlengangs auf räumlich getrennten, d. h. beabstandeten Flächen angeordnet. Sie umfassen insbesondere zwei separate, räumlich getrennt voneinander angeordnete Blenden-Elemente. Prinzipiell ist es jedoch auch möglich, die beiden Blenden-Einrichtungen konstruktiv als ein einziges, zusammenhängendes Blendensystem auszubilden.
Durch die erfindungsgemäße Ausbildung und Anordnung der Blenden-Einrichtungen lässt sich insbesondere die Telezentrie der Abbildung durch die Projektionsoptik verbessern. Es lässt sich insbesondere die Summe der Telezentriefehler bezüglich der zwei Hauptrichtungen der Projektionsoptik verringern.
Bei der Projektionsoptik handelt es sich insbesondere um eine reflektive Optik. Sie kann eine Mehrzahl von Spiegeln umfassen. Sie kann insbesondere mindestens vier, insbesondere mindestens sechs, insbesondere mindestens acht Spiegel umfassen.
Es handelt sich insbesondere um eine Projektionsoptik für die EUV-Lithographie. Die Spiegel der Projektionsoptik können daher insbesondere eine für EUV-Strahlung reflektive Beschichtung, insbesondere eine Mehrlagenbeschichtung aufweisen.
Die Projektionsoptik ist insbesondere verkleinernd. Sie weist beispielsweise als Abbildungsmaßstab einen Verkleinerungsfaktor von mindestens 2:1, insbesondere mindestens 4:1, insbesondere mindestens 6:1, insbesondere mindestens 8:1 auf.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung verlaufen die beiden Richtungen, bezüglich welcher die Blenden-Einrichtungen äußere Begrenzungen der Pupille vorgeben, bei einer Projektion in Richtung des Strahlengangs in die Bildebene parallel zur Scanrichtung bzw. senkrecht hierzu. Im Falle einer rotationssymmetrischen Ausbildung der Projektionsoptik entsprechen diese Richtungen gerade der Y- bzw- X-Richtung. Diese Richtungen sind bei der Anwendung der Projektionsoptik besonders relevant. Üblicherweise sind auch die abzubildenden Strukturen vornehmlich parallel zu diesen Richtungen ausgerichtet. Eine möglichst gute Telezentrie der Abbildung im Hinblick auf diese Richtungen ist somit für die praktischen Anwendungen der Projektionsoptik besonders relevant.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung kann mindestens eine der Blenden-Einrichtungen, insbesondere auch beide der Blenden-Einrichtungen, direkt auf einem der optischen Elemente, insbesondere direkt auf einem der Spiegel der Projektionsoptik, angeordnet sein. Dies ermöglicht eine besonders einfache Ausbildung und Anordnung der Blenden-Einrichtung. Die entsprechende Blenden-Einrichtung kann beispielsweise als strahlungsabsorbierende Beschichtung auf das entsprechende optische Element aufgebracht werden.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung kann eine der Blenden-Einrichtungen auf dem im Strahlengang letzten strahlfürenden Element, insbesondere dem letzten Spiegel der Projektionsoptik, angeordnet sein. Nummeriert man die Spiegel ausgehend vom Objektfeld in Richtung des Strahlengangs fortlaufend mit M1, M2, usw., kann die Blenden-Einrichtung insbesondere auf dem Spiegel M4, insbesondere dem Spiegel M6, insbesondere dem Spiegel M8 angeordnet sein. Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass der letzte Spiegel im Strahlengang der Projektionsoptik, d. h. der wafernächste Spiegel, in der Nähe einer zur Y-Pupillenschale konjugierten Fläche angeordnet sein kann. Aufgrund der relativ kleinen Ausdehnung des Bildfeldes auf dem Wafer in Scanrichtung sowie des vergleichsweise großen Abstandes vom letzten Spiegel zum Bildfeld, beträgt die halbe Feldausdehnung in y-Richtung des Bildfeldes auf dem Wafer vom Scheitel des letzten Spiegels aus gesehen weniger als 10 mrad, insbesondere weniger als 5 mrad, insbesondere weniger als 2 mrad. Sie variiert in guter Näherung linear mit der y-Feldkoordinate. Die Anordnung einer Y-Blende auf dem letzten Spiegel führt daher zu einem entsprechend geringen, linear variierenden Telezentriefehler in Scanrichtung.
Hierbei kann die X-Blende insbesondere im Bereich des Spiegels M2, insbesondere auf dem Spiegel M2, angeordnet sein.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung sind die Blenden-Einrichtungen auf im Strahlengang aufeinanderfolgenden strahlführenden Elementen, insbesondere auf aufeinanderfolgenden Spiegeln, insbesondere auf den Spiegeln M2 und M3, angeordnet. In diesem Fall sind die Spiegel M2 und M3 vorzugsweise nahe beieinander angeordnet. Ihr Abstand ist insbesondere kleiner als das Doppelte der astigmatischen Pupillendifferenz der Projektionsoptik. Er entspricht insbesondere der astigmatischen Pupillendifferenz d.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist mindestens eine der Blenden-Einrichtungen zwischen zwei in Projektionsrichtung aufeinanderfolgenden optischen Elementen, insbesondere zwischen zwei aufeinanderfolgenden Spiegeln, beabstandet zu diesen angeordnet. Es ist insbesondere möglich, eine der Blenden-Einrichtungen zwischen den Spiegeln M2 und M3 und/oder eine der Blenden-Einrichtungen zwischen den Spiegeln M5 und M6 anzuordnen. Allgemein kann eine der Blendeneinrichtungen zwischen den Spiegeln M2 und M3 und/oder eine der Blendeneinrichtungen zwischen den beiden letzten strahlführenden Spiegeln M_n-1 und M_n angeordnet werden, wobei n die Gesamtzahl der Spiegel angibt. Es gilt: n ≥ 4, insbesondere n ≥ 6, insbesondere n ≥ 8.
Eine Anordnung der Blenden-Einrichtung zwischen zwei Spiegeln hat den Vorteil, dass die Spiegel nicht durch die Anordnung der Blenden beeinflusst werden müssen. Außerdem sind derartige Blenden auch nachrüstbar. Ein weiterer Vorteil besteht darin, dass derartige Blenden austauschbar ausgebildet sein können.
Vorzugsweise werden die Blenden in einem Bereich im Strahlengang angeordnet, in welchem der Strahlengang umfangsseitig frei zugänglich ist. Hierunter seien insbesondere Bereiche verstanden, in welchen der Strahlengang überlappungsfrei mit sich selbst, d. h. überlappungsfrei mit anderen Abschnitten des Strahlengangs, ist.
Eine Anordnung in derartigen Bereichen ermöglicht eine vignettierungsfreie Ausbildung und Anordnung der Blenden.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung ist mindestens eine der Blenden-Einrichtungen derart im Strahlengang angeordnet, dass ihr Durchlassbereich vom Strahlengang genau einmal durchlaufen wird. Vorzugsweise sind beide Blenden-Einrichtungen derart im Strahlengang angeordnet, dass ihr Durchlassbereich vom Strahlengang jeweils genau einmal durchlaufen wird.
Hierdurch wird die gezielte Anpassung der Blenden-Einrichtungen an die Form der Pupillen verbessert.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung sind die Blenden-Einrichtungen derart an Positionen in Projektionsrichtung angeordnet, dass die eine Blenden-Einrichtung entlang des Strahlengangs näher zum Objektfeld und die andere Blenden-Einrichtung entlang des Strahlengangs näher zum Bildfeld angeordnet ist.
Es kann insbesondere vorgesehen sein, die in y-Richung wirkende Blende näher zum Objektfeld und die in x-Richtung wirkende Blende näher zum Bildfeld anzuordnen. Dies kann insbesondere für eine Anordnung der Blenden vorteilhaft sein, bei welcher diese nicht durch ein Zwischenbild voneinander getrennt sind.
Bei einer Anordnung der Blenden, bei welchen im Strahlengang zwischen den beiden Blenden ein Zwischenbild liegt, kann die in y-Richtung wirkende Begrenzung vorzugsweise näher zum Bildfeld und die in x-Richtung wirkende Begrenzung vorzugsweise näher zum Objektfeld angeordnet sein.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung weist mindestens eine der Blenden-Einrichtungen einen abschnittsweise randlosen Durchlassbereich auf. Der Durchlassbereich ist mit anderen Worten umfangsseitig nicht vollständig berandet. Der randlose Durchlassbereich ist vorzugsweise in einem Winkelbereich um eine Richtung senkrecht zur Blenden-Richtung ausgebildet. Die Blende kann insbesondere in einem Winkelbereich von bis zu 45°, insbesondere bis zu 60°, insbesondere bis zu 90°, um die Richtungen senkrecht zur Blenden-Richtung randlos sein. Hierdurch kann erreicht werden, dass die Pupillenapertur in dieser Richtung durch die Blende nicht beschränkt wird. Hierdurch lässt sich eine unerwünschte Vignettierung vermeiden. Eine derartige Ausbildung der Blende ist insbesondere vorteilhaft, wenn die Blende in einem Bereich entlang des Strahlengangs angeordnet wird, in welchem der Strahlengang mit sich selber überlappt.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung umfasst mindestens eine der Blenden-Einrichtungen ein Obskurations-Element. Das Obskurations-Element dient insbesondere der Obskuration eines zentralen Blenden-Bereichs in der entsprechenden Blenden-Richtung. Es kann auch vorgesehen sein, beide Blenden-Einrichtungen mit Obskurations-Elementen zu versehen. Die Blenden-Einrichtungen können mit anderen Worten kombinierte Apertur-Obskurations-Blenden bilden.
Gemäß einem vorteilhaften Aspekt der Erfindung hat die Projektionsoptik eine katoptrische Ausbildung. Sie umfasst mit anderen Worten ausschließlich reflektive strahlführende optische Elemente.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung weist mindestens eines der optischen Elemente, insbesondere einer der Spiegel, eine Freiformfläche auf. Hierunter sei eine Fläche verstanden, für welche keine Rotationssymmetrieachse angegeben werden kann. Für Details sei beispielsweise auf die WO 2007/03127 A1 verwiesen.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie zu verbessern. Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruches 13 gelöst. Die Vorteile entsprechen den für die Projektionsoptik beschriebenen.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauelements zu verbessern. Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruches 14 gelöst. Mit Hilfe der erfindungsgemäßen Projektionsoptik lassen sich die Strukturen des Retikels präziser auf dem Wafer abbilden. Es wird insbesondere eine Abbildung feinerer Strukturen ermöglicht. Hierdurch lässt sich beispielsweise eine erhöhte Integrationsdichte erreichen.
Weitere Vorteile, Einzelheiten und Merkmale der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der Zeichnungen. Es zeigen:
1 eine schematische Darstellung der Komponenten einer Projektionsbelichtungsanlage,
2 schematisch den Strahlengang in der Projektionsoptik gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel,
3a bis 3c schematisch eine Auswahl von Feldpunkten mit einer Darstellung der zugehörigen Subaperturen an unterschiedlichen Positionen im Strahlengang, wobei in 3c Ausschnittsvergrößerungen des Strahlengangs im Bereich der X- und Y-Pupillenschalen zur Verdeutlichung der jeweiligen numerischen Aperturen der Pupillenabbildung dargestellt sind,
4a bis 4c schematische Darstellungen des Strahlengangs einer Projektionsoptik gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel mit den Bildern der Subaperturen gemäß 3b an unterschiedlichen Stellen im Strahlengang,
5a und 5b eine weitere Darstellung eines Strahlengangs einer Projektionsoptik mit den Bildern der Subaperturen von unterschiedlichen Objektfeldpunkten,
6a bis 6c Darstellungen entsprechend der 4a bis 4c gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Projektionsoptik,
7a bis 7c Darstellungen entsprechend der 4a bis 4c gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Projektionsoptik,
8a bis 8e eine weitere Darstellung des Strahlengangs einer erfindungsgemäßen Projektionsoptik mit Bildern der Subaperturen an unterschiedlichen Stellen im Strahlengang sowie einer Überlagerung dieser Bilder.
Eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithographie hat eine Lichtquelle bzw. Strahlungsquelle 2 für Beleuchtungsstrahlung 3. Die Beleuchtungsstrahlung 3 wird auch als Beleuchtungslicht oder Abbildungslicht bezeichnet. Bei der Lichtquelle 2 handelt es sich um eine EUV-Lichtquelle, die Licht in einem Wellenlängenbereich beispielsweise zwischen 5 nm und 30 nm, insbesondere zwischen 5 nm und 15 nm, erzeugt. Bei der Strahlungsquelle 2 kann es sich insbesondere um eine Lichtquelle mit einer Wellenlänge von 13,5 nm oder um eine Lichtquelle mit einer Wellenlänge von 6,9 nm handeln. Auch andere EUV-Wellenlängen sind möglich. Prinzipiell sind beliebige Wellenlängen, z. B. auch sichtbare Wellenlängen oder andere Wellenlängen, die in der Mikrolithographie Verwendung finden können, und für welche geeignete Laserlichtquellen und/oder LED-Lichtquellen zur Verfügung stehen, beispielsweise 365 nm, 248 nm, 193 nm, 157 nm, 129 nm, 109 nm, für das in der Projektionsbelichtungsanlage 1 geführte Beleuchtungslicht möglich. Ein Strahlengang der Beleuchtungsstrahlung 3 ist in der 1 äußerst schematisch dargestellt.
Zur Führung der Beleuchtungsstrahlung 3 von der Strahlungsquelle 2 hin zu einen Objektfeld 4 in einer Objektebene 5 dient eine Beleuchtungsoptik 6. Mit einer Projektionsoptik 7, welche allgemein auch als abbildende Optik bezeichnet wird, wird das Objektfeld 4 in ein Bildfeld 8 in einer Bildebene 9 abgebildet.
Das Bildfeld 8 hat in der x-Richtung eine Erstreckung von 26 mm und in der y-Richtung eine Erstreckung von 2 mm. Andere Abmessungen sind ebenfalls möglich. Das Objektfeld 4 und das Bildfeld 8 sind rechteckförmig. Sie können auch gebogen ausgebildet sein. Für die Projektionsoptik 7 kann eines der nachfolgend beschriebenen Ausführungsbeispiele eingesetzt werden.
Die Projektionsoptik 7 weist einen vorgegebenen Verkleinerungsmaßstab auf. Sie verkleinert insbesondere um einen Faktor 4. Auch andere Verkleinerungsmaßstäbe sind möglich, z. B. zweimal, fünfmal, achtmal oder auch Verkleinerungsmaßstäbe, die größer sind als achtmal.
Die Bildebene 9 ist bei der Projektionsoptik 7 vorzugsweise parallel zur Objektebene 5 angeordnet. Abgebildet wird hierbei ein mit dem Objektfeld 4 zusammenfallender Ausschnitt einer Reflexionsmaske 10, die auch als Retikel bezeichnet wird. Das Retikel 10 wird von einem Retikelhalter 10a getragen.
Die Abbildung durch die Projektionsoptik 7 erfolgt auf die Oberfläche eines Substrats 11 in Form eines Wafers, der von einem Substrathalter 12 getragen wird.
In der 1 ist schematisch zwischen dem Retikel 10 und der Projektionsoptik 7 ein in diese einlaufendes Strahlenbündel 13 des Beleuchtungslichts 3 und zwischen der Projektionsoptik 7 und dem Substrat 11 ein aus der Projektionsoptik 7 auslaufendes Strahlenbündel 14 des Beleuchtungslichts 3 dargestellt. Eine bildfeldseitige numerische Apertur (NA) der Projektionsoptik 7 gemäß einem Ausführungsbeispiel beträgt beispielsweise 0,45. Dies ist in der 1 nicht maßstäblich wiedergegeben.
Zur Erleichterung der Beschreibung der Projektionsbelichtungsanlage 1 sowie der verschiedenen Ausführungsformen der Projektionsoptik 7 ist in der 1 ein kartesisches xyz-Koordinatensystem angegeben, aus dem sich die jeweilige Lagebeziehung der in den Fig. dargestellten Komponenten ergibt. In der 1 verläuft die x-Richtung senkrecht zur Zeichenebene in diese hinein. Die y-Richtung verläuft nach rechts und die z-Richtung nach unten. Das System ist in der y-z-Ebene gefaltet und weist eine Spiegelsymmetrie zu dieser auf. Es ist jedoch grundsätzlich denkbar, diese Spiegelsymmetrie auch aufzugeben und das System als völlig windschiefes System zu realisieren. Für Details sei auf deie DE 10 2011 083 888 verwiesen.
Die Projektionsbelichtungsanlage 1 ist vom Scannertyp. Sowohl das Retikel 10 als auch das Substrat 11 werden beim Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage 1 in der y-Richtung gescannt. Auch ein Steppertyp der Projektionsbelichtungsanlage 1, bei dem zwischen einzelnen Belichtungen des Substrats 11 eine schrittweise Verlagerung des Retikels 10 und des Substrats 11 in der y-Richtung erfolgt, ist möglich.
2 zeigt das optische Design einer ersten Ausführung der Projektionsoptik 7. Dargestellt ist in der 2 der Strahlengang zweier Einzelstrahltriplets 15 ₁, 15 ₂, die von zwei randseitigen Objektfeldpunkten 16 ₁, 16 ₂ am oberen und unteren Rand des Objektfeldes ausgehen. Die Zeichenebene der 2 stellt einen Schnitt in der y-z-Ebene dar. In der Zeichenebene nach 2 liegt also der Verlauf eines Hauptstrahls eines zentralen Objektfeldpunktes. Eine Hauptstrahlebene liegt somit parallel zur yz-Ebene. Der zentrale Objektfeldpunkt 16 ist definiert als der Punkt, der in der Mitte zwischen den beiden randseitigen Objektfeldpunkten liegt.
Bei der Projektionsoptik 7 gemäß 2 handelt es sich um eine katoptrische Projektionsoptik 7, d. h. um eine rein reflektive Projektionsoptik 7. Sie umfasst sechs Projektionsspiegel M_i, welche ausgehend vom Objektfeld 4 entlang des Strahlengangs mit M₁ bis M₆ durchnummeriert sind.
Die Projektionsoptik gemäß 2 weist ein einfach obskuriertes Spiegeldesign auf. Der letzte Spiegel M₆ im Strahlengang vor dem Wafer 11 weist eine Durchtrittsöffnung 24 auf. In der 2 ist die Lage einer Pupillenebene 25 zwischen den Spiegeln M₅ und M₆ dargestellt. Im Allgemeinen handelt es sich hierbei nicht notwendigerweise um eine ebene Fläche, sondern um eine gekrümmte Pupillenfläche.
Die Projektionsspiegel M_i weisen Freiformflächen auf. Ihre reflektierende Oberfläche ist mit anderen Worten nicht durch eine rotationssymmetrische Funktion beschreibbar. Für Details der Ausbildung der Spiegel M_i mit Freiformflächen sei auf die WO 2007/031271 A1 verwiesen. Es sind auch Ausführungen der Projektionsoptik 7 möglich, bei denen nur eine Teilmenge der Spiegel M_i, insbesondere mindestens einer der Spiegel M_i oder auch keiner der Spiegel M_i eine derartige Freiform-Reflexionsfläche aufweist. Eine Ausbildung eines oder mehrerer der Spiegel M_i der Projektionsoptik 7 mit Freiformflächen eröffnet zusätzliche Freiheitsgrade beim Design der Projektionsoptik 7, insbesondere zur Kompensation von Abbildungsfehlern.
Die Freiformfläche kann mathematisch durch folgende Gleichung Summe einer bikonischen Grundfläche und einem Freiformflächenpolynom beschrieben werden:
wobei gilt:
Z ist die Pfeilhöhe der Freiformfläche am Punkt x, y, wobei x² + y² = r².
c_x, c_y sind die Scheitelpunktkrümmungen in x- und y-Richtung, k_x, k_y, die zugehörigen konischen Konstanten. C_j sind die Koeffizienten der Monome X^mYⁿ. Typischerweise werden die Werte von c_x, c_y, k_x, k_y und C_j auf der Basis der gewünschten optischen Eigenschaften des Spiegels innerhalb der Projektionsoptik 7 bestimmt. Die Ordnung des Monoms, m + n, kann beliebig variiert werden. Ein Monom höherer Ordnung kann zu einen Design der Projektionsoptik mit besserer Bildfehlerkorrektur führen, ist jedoch aufwendiger zu berechnen. m + n kann Werte zwischen 3 und mehr als 20 einnehmen.

Die optischen Designdaten der Reflexionsflächen der Spiegel M1 bis M6 der Projektionsoptik 7 können den nachfolgenden Tabellen entnommen werden. Diese optischen Designdaten gehen jeweils von der Bildebene 9 aus, beschreiben die jeweilige Projektionsoptik also in umgekehrter Laufrichtung des Abbildungslichts 3 zwischen der Bildebene 9 und der Objektebene 5. Die erste dieser Tabellen gibt zu den optischen Oberflächen der optischen Komponenten und zur Aperturblende jeweils den Abstandswert (Thickness) in mm an, der dem z-Abstand benachbarter Elemente im Strahlengang, ausgehend von der Objektebene, entspricht. Der Wert Radius gibt einen mittleren Krümmungsradius des jeweiligen Spiegels M_i an. Die zweite Tabelle gibt in mm die Scheitelpunktsradien RDX = 1/c_x und RDY = 1/c_y die konischen Konstanten k_x und k_y, sowie die Koeffizienten C_j der Monome X^mYⁿ in der oben angegebenen Freiformflächen-Gleichung für die Spiegel M1 bis M6 an. Nach der zweiten Tabelle ist in der dritten Tabelle noch der Betrag angegeben, längs dem der jeweilige Spiegel, ausgehend von einem Spiegel-Referenzdesign in der y-Richtung dezentriert (DCY) und verkippt (TLA) ist. Dies entspricht einer Parallelverschiebung und einer Verkippung beim Freiformflächen-Designverfahren. Verschoben wird dabei in y-Richtung in mm und verkippt um die x-Achse. Der Verdrehwinkel ist dabei in Grad angegeben. Es wird zunächst dezentriert, dann verkippt.

Oberfläche	Radius	Abstandswert	Betriebsmodus	Halber Durchmesser
Bildfläche		268,422668		13,0
Pupillenebene (25)*		470,000000		216,5
M6	–826,737305	–470,000000	REFL	344,8
Pupillenebene (25)*		–207,805145		216,5
M5	–721,773963	207,805145	REFL	88,5
Pupillenebene (25)*		1599,928531		216,5
M4	–1570,806961	–862,339186	REFL	252,7
M3	–1196,858238	606,590912	REFL	122,8
M2	–7164,774269	–370,238400	REFL	149,2
Blende (22)		–600,000000		144,8
M1	2558,908199	1552,615796	REFL	199,9
Objektebene		0,000000		52,2

Tabelle 1 zu Fig.2 *bei Ausführungsbeispiel gemäß 8: Blende (23)

Koeff.	M6	M5	M4
RDY	–826,737305	–721,773963	–1570,806961
KY	0	0	0
RDX	–826,737305	–721,773963	–1570,806961
KX	0	0	0
X0Y0	–7,806682E–02	–1,286266E+00	1,584838E+00
X0Y1	2,215108E–04	1,695373E–03	4,787135E–05
X2Y0	3,675772E–05	4,195983E–04	–4,741215E–06
X0Y2	–3,575074E–05	–5,941241E–04	8,810629E–07
X2Y1	9,388849E–09	1,164832E–07	–1,858078E–09
X0Y3	–3,271700E–09	5,617165E–07	–1,215290E–08
X4Y0	1,898639E–11	–6,536632E–10	–2,559750E–12
X2Y2	–2,740713E–11	–2,921283E–09	–6,635606E–12
X0Y4	–5,561899E–11	–7,941677E–09	–2,485663E–12
X4Y1	8,086352E–15	1,778925E–12	–2,762160E–16
X2Y3	9,411148E–15	6,151951E–12	–5,177502E–15
X0Y5	–2,942799E–15	3,399564E–12	–2,525470E–15
X6Y0	1,147164E–17	–2,668533E–15	–1,525103E–18
X4Y2	–3,078192E–17	–1,954749E–14	–4,763500E–18
X2Y4	–1,290602E–16	–7,481680E–14	1,126619E–18
X0Y6	–8,100203E–17	–1,691341E–13	7,505686E–18
X6Y1	6,982764E–21	7,345176E–18	–7,472085E–22
X4Y3	2,717231E–20	5,139040E–17	–9,258700E–21
X2Y5	1,386785E–20	3,031698E–16	1,542171E–20
X0Y7	–2,515168E–21	6,198123E–16	5,175107E–21
X8Y0	4,385054E–24	–1,047011E–20	–3,825892E–24
X6Y2	–5,243375E–23	–1,225615E–19	–2,140189E–23
X4Y4	–2,587042E–22	–4,405288E–19	–1,939811E–23
X2Y6	–3,065854E–22	1,295867E–19	–8,221875E–24
X0Y8	–1,120559E–22	1,843707E–18	8,278445E–23
X8Y1	2,731597E–28	8,870398E–23	–1,901606E–26
X6Y3	4,647830E–26	4,376308E–22	–1,178830E–25
X4Y5	5,413345E–26	9,827531E–23	7,170200E–27
X2Y7	2,574449E–26	9,466870E–21	–1,697588E–25
X0Y9	4,670798E–27	3,504341E–20	6,185946E–25
X10Y0	1‚736594E–29	–1,843890E–25	1,148541E–29
X8Y2	–4,520462E–29	–1,393616E–24	–5,912674E–29
X6Y4	–3,308248E–28	–1,458822E–23	–3,084979E–28
X4Y6	–6,025522E–28	–8,487328E–23	–1,839191E–29
X2Y8	–4,792079E–28	–4,095463E–22	–3,680304E–28
X0Y10	–1,395542E–28	3,546941E–23	9,212164E–28
X10Y1	1,807493E–32
X8Y3	9,887541E–32
X6Y5	2,321557E–31
X4Y7	2,211098E–31
X2Y9	6,368942E–32
X0Y11	–1,817586E–32
X12Y0	–9,211138E–36
X10Y2	–2,592593E–34
X8Y4	–1,665406E–33
X6Y6	–3,807622E–33
X4Y8	–4,159422E–33
X2Y10	–2,189874E–33
X0Y12	–4,567134E–34

Koeff.	M3	M2	M1
RDY	–1196,858238	–7164,774269	2558,908199
KY	0	0	0
RDX	–1196,858238	–7164,774269	2558,908199
KX	0	0	0
X0Y0	3,565942E+00	4,275741E+00	–3,563559E+00
X0Y1	3,506474E–03	4,587909E–03	1,053276E–03
X2Y0	5,753469E–05	–9,220129E–05	–4,592065E–05
X0Y2	–7,363620E–05	7,040543E–05	4,284174E–05
X2Y1	–3,778219E–07	–1,675730E–07	1,137084E–08
X0Y3	–5,845520E–07	–3,305520E–07	1,799074E–08
X4Y0	2,724363E–11	3,202313E–11	–1,659137E–11
X2Y2	–2,375026E–10	–1,517503E–11	–6,909049E–11
X0Y4	–4,913915E–10	2,240929E–10	–7,944358E–12
X4Y1	–1,236632E–13	–2,232366E–13	3,390589E–14
X2Y3	–7,757640E–13	–1,934915E–13	4,597408E–14
X0Y5	–2,666871E–13	3,863113E–14	4,630437E–15
X6Y0	–1,406021E–16	–2,977192E–17	–1,265040E–17
X4Y2	–7,694761E–6	–5,785733E–16	–8,034988E–17
X2Y4	–5,825645E–16	2,927777E–16	–5,513885E–17
X0Y6	3,745886E–15	8,439578E–16	–1,590170E–17
X6Y1	–1,129552E–18	–9,171339E–19	–3,353471E–21
X4Y3	–9,368363E–18	–1‚057478E–18	6,159050E–20
X2Y5	5,593215E–18	6,204459E–19	1,323807E–19
X0Y7	1,724618E–17	1,781541E–18	6,663224E–20
X8Y0	–1,394885E–21	2,307093E–22	–1,452014E–23
X6Y2	–2,022721E–20	–1,793365E–21	–6,595594E–23
X4Y4	–2,251234E–20	4,473412E–21	–1,724111E–22
X2Y6	6,679289E–20	–1,156415E–20	–3,398968E–22
X0Y8	1,470535E–19	–2,989863E–20	–9,379880E–24
X8Y1	–2,156912E–23	–6,467067E–24	–1,115772E–25
X6Y3	–1,224470E–22	–2,765830E–24	–1,626926E–25
X4Y5	4,129802E–22	1,953142E–23	–5,302682E–25
X2Y7	7,258395E–22	7,015663E–23	1,212696E–25
X0Y9	2,141106E–21	1,157678E–22	1,353179E–25
X10Y0	1‚373644E–26	–6,217253E–27	8,292270E–29
X8Y2	–1,507049E–25	–2,139922E–20	–3,773883E–28
X6Y4	–2,305203E–25	2,099841E–26	–1,569737E–28
X4Y6	2,207134E–24	4,291041E–26	7,585857E–28
X2Y8	2,883301E–24	1,600003E–25	4,347604E–27
X0Y10	7,388556E–24	–1,036374E–25	–3,158670E–27
X10Y1
X8Y3
X6Y5
X4Y7
X2Y9
X0Y11
X12Y0
X10Y2
X8Y4
X6Y6
X4Y8
X2Y10
X0Y12

Tabelle 2 zu Fig.2

	Dezentrierung	Dezentrierung	Dezentrierung
Oberfläche	DCX	DCY	DCZ
M6	0,000000	0,000000	0,000000
Pupillenebene (25)*	0,000000	0,000000	0,000000
M5	0,000000	97,529051	0,000000
Pupillenebene (25)*	0,000000	0,000000	0,000000
M4	0,000000	–57,749771	0,000000
M3	0,000000	380,839995	0,000000
M2	0,000000	388,672514	0,000000
Blende 9 (22)	0,000000	544,747335	0,000000
M1	0,000000	790,185064	0,000000
Objektebene	0,000000	978,749222	0,000000

* bei Ausführungsbeispiel gemäß 8: Blende (23)

	Verkippung	Verkippung	Verkippung
Oberfläche	TLA [deg]	TLB [deg]	TLC [deg]
M6	–4,079135	0,000000	0,000000
Pupillenebene (25)*	0,000000	0,000000	0,000000
M5	–6,452680	0,000000	0,000000
Pupillenebene (25)*	0,000000	0,000000	0,000000
M4	–15,953083	0,000000	0,000000
M3	–12,737716	0,000000	0,000000
M2	–10,264675	0,000000	0,000000
Blende 9 (22)	–22,168263	0,000000	0,000000
M1	–7,577787	0,000000	0,000000
Objektebene	0,000000	0,000000	0,000000

Tabelle 3 zu Fig.2 *bei Ausführungsbeispiel gemäß 8: Blende (23)

Die numerische Apertur (NA) beträgt 0,45, die Objektfeldhöhe 13,04 mm, die Wellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 13,5 nm.
Wie aus der 2 ersichtlich ist, weist die Projektionsoptik 7 einen in der y-z-Ebene gefalteten Strahlengang auf.
Weiterhin ist in der 2 die Lage einer Y-Pupillenebene 17 und einer X-Pupillenebene 18 dargestellt. Bei dem in 2 dargestellten optischen Design liegt der Spiegel M₂ im Bereich der X-Pupillenebene 18. Die X-Pupillenebene 18 ist von der Y-Pupillenebene 17 in Richtung des Strahlengangs um einen Abstand d beabstandet. Der Abstand d zwischen der X-Pupillenebene 18 und der Y-Pupillenebene 17 wird üblicherweise auch als astigmatische Pupillendifferenz bezeichnet.
Im Allgemeinen sind die X-Pupillenebene 18 und die Y-Pupillenebene 17 nicht notwendigerweise parallel zueinander ausgerichtet. Der Abstand d variiert somit für unterschiedliche Bereiche innerhalb der Apertur des Strahlengangs der Projektionsoptik 7. Im Weiteren wird der geringste Abstand innerhalb der Apertur als d_min bezeichnet. Entsprechend wird der größte Abstand als d_max bezeichnet. Soweit nicht anders angegeben, wird als Abstand d der Abstand entlang des Hauptstrahls des zentralen Feldpunkts 16 bezeichnet.
Im Allgemeinen liegen die Bildpunkte eines Schnitts durch eine durch die Eintrittspupille definierte Pupillenebene nicht in einer Ebene, sondern auf einer gekrümmten Fläche. Die Fläche, welche zu einem Schnitt in y-Richtung korrespondiert, wird auch als X-Pupillenschale bezeichnet. Die Fläche, welche zu einem Schnitt in x-Richtung korrespondiert, wird als Y-Pupillenschale bezeichnet. In diesem Fall sei unter der Y-Pupillenebene 17 eine Ebene verstanden, welche die Y-Pupillenschale im Bereich des Strahlengangs, d. h. im Bereich der Apertur der Projektionsoptik 7 schneidet. Unter der Y-Pupillenebene 17 sei insbesondere die Ebene verstanden, welche die Y-Pupillenschale im Bereich der Randstrahlen bei x = 0 schneidet. Entsprechend sei unter der X-Pupillenebene 18 eine Ebene verstanden, welche die X-Pupillenschale im Bereich des Strahlengangs der Projektionsoptik 7, insbesondere im Bereich der Apertur des Strahlengangs, schneidet. Die X-Pupillenebene 18 verläuft insbesondere durch die Randstrahlen bei y = 0 des Strahlengangs der Projektionsoptik 7.
Bei dem in 2 dargestellten optischen Design liegt die Y-Pupillenebene 17 im Strahlengang zwischen M₁ und M₂. Der Spiegel M₂ ist gerade im Bereich der X-Pupillenschale angeordnet.
Bei dein in 2 dargestellten Design der Projektionsoptik 7 ist der Spiegel M₁ gekippt angeordnet. Er weist eine sphärische Grundform mit einer vornehmlich astigmatischen Freiformdeformation auf.
Durch die Kippung des Spiegels M₁ wird sowohl das Objekt als auch die Eintrittspupille des Systems astigmatisch in den Bildraum des M₁ abgebildet. Prinzipiell ist es möglich, den Spiegel M₁ so auszulegen, dass dessen Freiformdeformation den Astigmatismus in der Blendenabbildung zumindest teilweise, insbesondere weitgehend, insbesondere vollständig kompensiert.
Die Tatsache, dass die Ein- und Austrittspupillen jeweils astigmatisch abgebildet werden, ist äquivalent zu der Aussage, dass die x-Richtung der Pupille, insbesondere ein linker und rechter Rand der Eintrittspupille, in einer anderen Ebene am besten fokussiert sind als die y-Richtung der Pupille, insbesondere ein oberer und unterer Rand der Eintrittspupille.
In 3b sind Bilder von Subaperturen 19 _i, die von unterschiedlichen Objektfeldpunkten 20 _i (siehe 3a) ausgehen, an unterschiedlichen Stellen im Strahlengang zwischen der Y-Pupillenebene 17 und der X-Pupillenebene 18 dargestellt. Die Bilder der Subaperturen 19 _i werden auch als Footprints bezeichnet. Wie aus der 3b exemplarisch hervorgeht, kommen die Footprints 19 _i im Bereich der X-Blendenebene 18 in x-Richtung gut übereinander zu liegen, während sie in der X-Blendenebene 18 in y-Richtung auffächern. Entsprechend fächern die Footprints 19 _i im Bereich der Y-Blendenebene 17 in x-Richtung auf, während sie in y-Richtung aufeinander fallen. Mit anderen Worten kommt es in jeder der beiden Bildebenen 17, 18 zu einer guten Überlagerung der Bilder der Eintrittspupille in der zugehörigen Richtung, während die Bilder in Richtung senkrecht hierzu auseinanderlaufen.
Außerdem sind in der 3b die Footprints, d. h. die Einhüllende der Bilder der Subaperturen sämtlicher Objektfeldpunkte, in einem Bereich zwischen der Y-Blendenebene 17 und der X-Blendenebene, welcher als Bereich kleinster Verwirrung 21 bezeichnet wird, dargestellt.
In der sind die Strahlenbündel der Pupillenabbildung aus der 3b noch einmal vergrößert dargestellt. Es sind die numerischen Aperturen der Pupillenabbildung in x- und y-Richtung NA_x ^P, NA_y ^P eingezeichnet. Da die Apertur der Pupillenabbildung durch die Form des langgezogenen Objektfeldes 4 gegeben ist (vgl. 3a), haben die numerischen Aperturen NA_x ^P und NA_y ^P unterschiedliche Werte, und dementsprechend fächern die Subaperturen 19 _i in den jeweiligen Ebenen 17, 18 unterschiedlich stark auf. Es gilt NA_x ^P > NA_y ^P.
Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass eine unerwünschte Vignettierung der Pupille der Projektionsoptik 7 vermieden werden kann, wenn zwei separate Blenden 22, 23 zur Begrenzung der Apertur bezüglich der y- bzw. der x-Richtung bzw. allgemein bezüglich zweier senkrecht aufeinanderstehender Blenden-Richtungen eingesetzt werden. Hierdurch lässt sich die Telezentrie in x- und y-Richtung bzw. allgemein in den zwei senkrecht aufeinanderstehenden Blenden-Richtungen verbessern. Die Blendenrichtung ist vorzugsweise parallel zu der zu der zugeordneten Pupillenschale gehörigen Schnittebene. Die beiden Blenden-Einrichtungen sind vorzugsweise an die vornehmlichen Orientierungen der Strukturen auf dem Retikel 10 angepasst. Bei dem in 2 dargestellten Ausführungsbeispiel ist die Blende 22 im Bereich zwischen den Spiegeln M₁ und M₂ angeordnet. Die Blende 23 ist auf dem Spiegel M₂ angeordnet. Sie kann insbesondere als strahlungsabsorbierende Beschichtung auf dem Spiegel M₂ ausgebildet sein. Sie kann auch durch die äußere Abmessung des Spiegels M₂, d. h. durch dessen Kontur, gegeben sein.
Sie kann auch durch eine mechanische Abschattung in kleinem Abstand vor der Siegelfläche in Form einer Blende ausgebildet sein.
Allgemein gilt: Ist eine der Blenden 22, 23 auf einem der Spiegel M_i angeordnet, so muss die entsprechende Blendenfläche nicht plan sein. Sie kann als strahlungsabsorbierende Beschichtung auf einer gekrümmten Spiegelfläche ausgebildet sein oder der Kontur des Spiegels im Randbereich folgen.
Liegt eine Blendenebene zwischen zwei Spiegeln, so kann die in diesem Bereich angeordnete Blende plan ausgebildet sein. Insbesondere kann sie auf dem Hauptstrahl des mittleren Feldpunkts 16 im Wesentlichen senkrecht stehen. Es ist aber auch denkbar, daß sie gegenüber dieser Senkrechten geneigt angeordnet ist, vornehmlich im y-z-Schnitt der Darstellung.
Die Blenden 22, 23 sind vorzugsweise derart ausgebildet, dass sie die jeweiligen Footprints, d. h. die Bilder der Subaperturen 19 _i sämtlicher Feldpunkte komplett umschreiben.
Die Blenden 22, 23 werden hierfür vorzugsweise in einem Bereich entlang des Strahlengangs der Projektionsoptik 7 angeordnet, welcher umfangsseitig frei zugänglich ist. Eine entsprechende Anordnung ist beispielsweise exemplarisch in 4a dargestellt. Die Bilder der Subaperturen 19 _i im Bereich der Pupillenebenen 17 und 18 sind in den 4b und 4c dargestellt.

Die optischen Designdaten der Projektionsoptik 7 gemäß 4a sind in den folgenden Tabellen zusammengefasst. Die numerische Apertur (NA), die Objektfeldhöhe und die Wellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 3 sind dieselben wie beim Design gemäß der 2.

Oberfläche	Radius	Abstandswert	Betriebsmodus	Halber Durchmesser
Bildebene		748,631075		13,0
M6	2133,731404	–662,527231	REFL	344,3
M5	7766,222192	1694,204082	REFL	74,8
M4	–2736,425367	–1079,986122	REFL	182,6
M3	–1688,395773	330,034497	REFL	105,2
Blende (23)		604,359226		80,8
M2	–444,197266	–1124,733189	REFL	129,3
M1	–797,765133	1678,693693	REFL	230,2
Objektebene		0,000000		52,2

Tabelle 1 zu Fig. 4a

SRF	M6	M5	M4
RDY	–797,765133	–444,197266	–1688,395773
KY	0	0	0
RDX	–797,765133	–444,197266	–1688,395773
KX	0	0	0
X0Y0	–1,929066E+00	–2,678549E+00	2,787761E+00
X0Y1	1,514836E–04	2,013869E–04	1,212917E–06
X2Y0	2,475257E–05	6,062249E–04	–8,675534E–06
X0Y2	–2,043488E–05	–5,344923E–04	2,072564E–05
X2Y1	–8,020071E–09	–1,301825E–06	–9,539218E–09
X0Y3	3,775517E–09	4,538511E–07	1,641895E–08
X4Y0	5,792966E–12	–8,463659E–10	–9,647065E–12
X2Y2	–3,336959E–11	–9,755078E–09	–6,072678E–13
X0Y4	–4,047370E–11	–1,824373E–08	–2,451088E–11
X4Y1	–8,689993E–15	–9,314648E–12	–6,795793E–15
X2Y3	–5,573572E–15	–2,771914E–11	2,442966E–15
X0Y5	1,464873E–15	4,315334E–12	2,707821E–14
X6Y0	–2,620422E–18	–1,167629E–14	–4,172520E–18
X4Y2	–6,034725E–17	–1,095731E–13	7,039706E–19
X2Y4	–1,219198E–16	–3,225720E–13	–9,553681E–17
X0Y6	–6,124030E–17	–4,234194E–13	–1,664906E–16
X6Y1	–1,287409E–20	–8,098108E–17	3,788373E–21
X4Y3	–2,266130E–20	–4,392072E–16	–5,424492E–20
X2Y5	–6,021267E–21	–4,527446E–16	–2,614720E–19
X0Y7	1,486119E–20	5,948592E–15	–6,802977E–20
X8Y0	–6,664104E–24	–4,192241E–20	1,474679E–23
X6Y2	–1,249118E–22	–1,517888E–18	–9,747440E–23
X4Y4	–3,209837E–22	–7,815247E–18	–9,743886E–22
X2Y6	–3,017227E–22	–1,628730E–18	1,443809E–20
X0Y8	–9,519859E–23	1,049114E–17	4,814078E–20
X8Y1	–4,453219E–27	–1,138909E–21	–5,158324E–26
X6Y3	–3,661247E–26	–1,868911E–20	4,793582E–25
X4Y5	–6,754537E–26	–4,134413E–20	3,754274E–24
X2Y7	–1,671955E–26	–3,997364E–20	2,465367E–23
X0Y9	–7,098374E–27	–3,403482E–19	–9,600550E–23
X10Y0	–2,136289E–29	–3,615488E–24	–1,075906E–28
X8Y2	–8,964625E–29	–3,038636E–23	5,689310E–28
X6Y4	–2,835765E–28	–9,618617E–23	1,593435E–26
X4Y6	–5,640031E–28	–3,206254E–22	1,492118E–26
X2Y8	–3,568034E–28	–1,769851E–21	–6,768563E–25
X0Y10	–1‚344523E–28	–5,827177E–21	–3,071984E–24
X10Y1	–6,521186E–32
X8Y3	–2,967664E–31
X6Y5	–2,538559E–31
X4Y7	–1,415927E–32
X2Y9	5,001387E–32
X0Y11	–2,076988E–32
X12Y0	–7,282607E–35
X10Y2	–8,638502E–34
X8Y4	–3,403029E–33
X6Y6	–5,300960E–33
X4Y8	–4,712609E–33
X2Y10	–2,488502E–33
X0Y12	–4,450600E–34

SRF	M3	M2	M1
RDY	–2736,425367	7766,222192	2133,731404
KY	0	0	0
RDX	–2736,425367	7766,222192	2133,731404
KX	0	0	0
X0Y0	–4,352848E+00	4,480204E–01	–3,995579E+00
X0Y1	–1,230680E–04	1,023562E–03	–6,159050E–04
X2Y0	3,179678E–05	4,566307E–06	–1,221636E–05
X0Y2	–3,399865E–06	2,265661E–05	3,673757E–06
X2Y1	–1,764267E–07	–2,961490E–07	–3,298116E–08
X0Y3	–4,991974E–08	–2,407741E–08	1,004381E–08
X4Y0	–3,596896E–10	2,368433E–10	6,758954E–12
X2Y2	–2,112082E–10	1,118420E–10	6,389502E–12
X0Y4	–4,314458E–10	6,387896E–11	7,876769E–12
X4Y1	–7,194006E–13	–4,543194E–13	–6,437071E–15
X2Y3	–4,478461E–13	1,142570E–13	–1,375378E–15
X0Y5	1,138804E–12	–6,022639E–14	–1,891046E–15
X6Y0	–1,28303E–15	2,858082E–16	2,228875E–18
X4Y2	2,442271E–16	4,112075E–16	3,778424E–18
X2Y4	1,716800E–15	2,211825E–15	7,769420E–18
X0Y6	2,541676E–16	–1,207319E–15	–4,170776E–18
X6Y1	–2,053124E–18	–1,521893E–18	–1,404687E–21
X4Y3	–4,285776E–18	–2,901432E–18	8,608287E–22
X2Y5	–7,194994E–18	–7,749856E–19	–2,167785E–21
X0Y7	–7,063491E–17	2,102735E–17	2,284904E–19
X8Y0	9,603618E–21	3,163459E–21	9,935851E–24
X6Y2	–1,750118E–20	2,367326E–21	2,777734E–24
X4Y4	–2,656909E–19	7,493162E–21	2,662434E–23
X2Y6	–3,507485E–19	–6,965078E–20	1,059265E–23
X0Y8	8,620342E–19	1,855049E–19	–1,109523E–22
X8Y1	–5,792688E–23	–1,370508E–23	–1,578812E–26
X6Y3	2,947075E–22	–8,172386E–24	7,869584E–27
X4Y5	1,807847E–21	2,254728E–23	–5,407399E–26
X2Y7	2,262648E–21	–1,251593E–22	–1,345021E–25
X0Y9	3,904436E–21	–3,698569E–22	–1,518706E–24
X10Y0	–3,278882E–25	–3,958171E–26	–5,353927E–29
X8Y2	1,535872E–25	1,971578E–26	–1,617273E–29
X6Y4	1,211072E–23	4,195583E–25	1,499145E–28
X4Y6	4,031669E–23	2,787547E–25	–1,004860E–28
X2Y8	3,959965E–23	2,283943E–24	–4,880794E–28
X0Y10	–9,139068E–23	–4,854296E–24	1,771578E–27
X10Y1
X8Y3
X6Y5
X4Y7
X2Y9
X0Y11
X12Y0
X10Y2
X8Y4
X6Y6
X4Y8
X2Y10
X0Y12

Tabelle 2 zu Fig. 4a

	Dezentrierung	Dezentrierung	Dezentrierung
Oberfläche	DCX	DCY	DCZ
M6	0,000000	0,000000	0,000000
M5	0,000000	103,133127	0,000000
M4	0,000000	–75,203365	0,000000
M3	0,000000	474,965965	0,000000
Blende (23)	0,000000	486,510044	0,000000
M2	0,000000	518,846958	0,000000
M1	0,000000	967,515512	0,000000
Objektebene	0,000000	1171,416856	0,000000

	Verkippung	Verkippung	Verkippung
Oberfläche	TLA [deg]	TLB [deg]	TLC [deg]
M6	–4,410445	0,000000	0,000000
M5	–7,414608	0,000000	0,000000
M4	–16,471381	0,000000	0,000000
M3	–12,157200	0,000000	0,000000
Blende (23)	0,000000	0,000000	0,000000
M2	–9,482077	0,000000	0,000000
M1	–7,437851	0,000000	0,000000
Objektebene	0,000000	0,000000	0,000000

Tabelle 3 zu Fig. 4a

Der Einfachheit halber wird eine in x-Richtung wirkende Blende im Folgenden als X-Blende bezeichnet. Entsprechend wird eine in y-Richtung wirkende Blende als Y-Blende bezeichnet. Bei der Blende 22 kann es sich insbesondere um eine Y-Blende handeln. Bei der Blende 23 kann es sich insbesondere um eine X-Blende handeln. Selbstverständlich können diese Bezeichnungen beispielsweise durch eine alternative Definition der x- und y-Richtung auch vertauscht sein.
Gemäß dem in 5a dargestellten optischen Design der Projektionsoptik 7, welches im Übrigen dem gemäß 2 entspricht, ist die Y-Blende 22 im Bereich des letzten Spiegels M₆ im Strahlengang vor dem Wafer 11 angeordnet. Dies entspricht vorzugsweise einem Bereich, welcher zumindest näherungsweise zur Y-Pupillenebene 17 konjugiert ist. Aufgrund der geringen Ausdehnung des Bildfeldes 8 auf dem Wafer 11 und des großen Abstands des wafernächsten Spiegels M₆ zum Wafer 11 beträgt die halbe Ausdehnung des Bildfeldes 8 in Y-Richtung auf dem Wafer 11 vom Spiegelscheitel des Spiegels M₆ aus gesehen weniger als 2 mrad. Sie variiert in guter Näherung linear mit der Y-Feldkoordinate. Die Hauptstrahlrichtung in y-Richtung variiert daher in guter Näherung linear mit der y-Feldkoordinate um weniger als ±2 mrad und weist daher in erster Näherung den selben Winkel als Telezentriewinkel auf. Die Bilder der Subaperturen 19 _i der unterschiedlichen Bildpunkte auf M6 ist exemplarisch für ein als telezentrisch angenommenen Wafer in 5b dargestellt. Zur Verdeutlichung sind in der 5b der Offset OFS in X-Richtung, der Offset OFM in Y-Richtung, der Durchmesser des Footprints in Y-Richtung DPM und der Durchmesser des Footprints DPS in X-Richtung dargestellt. Für den Telezentriefehler T_y der oberen und unteren Feldkante in Y-Richtung gilt dann in erster Näherung
Analog gilt für den Telezentriefehler in x-Richtung
Beim Ausführungsbeispiel gemäß der 5a, d. h. bei Anordnung der Y-Blende 22 auf denn Spiegel M₆, ist der Telezentriefehler in y-Richtung T_y durch die Größe des Bildfeldes 8 auf dem Wafer 11 und den Abstand des Spiegels M₆ zum Wafer 11 gegeben. Er wird weder vom optischen Design beeinflusst, noch bindet er Designfreiheitsgrade. Andererseits ist die Korrektur der X-Blende 23 auf dem Spiegel M₂ mit dem spezifischen optischen Design verbunden.
In der 6a ist ein weiteres Ausführungsbeispiel für das optische Design der Projektionsoptik 7 dargestellt. Bei dieser Ausführungsform ist die Y-Blende 22 auf dem Spiegel M₂ angeordnet. Die Blende 22 kann insbesondere als strahlungsabsorbierende Beschichtung auf dem Spiegel M₂ ausgebildet sein. Die Y-Blende wird so ausgelegt, daß sie den in 6d dargestellten Footprint genau umschreibt.

Die optischen Designdaten der Projektionsoptik 7 gemäß 6a sind in den folgenden Tabellen zusammengefasst. Die numerische Apertur (NA), die Objektfeldhöhe und die Wellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 3 sind dieselben wie beim Design gemäß der 2.

Oberfläche	Radius	Abstandswert	Betriebsmodus	Halber Durchmesser
Bildebene		727,669955		13,0
M6	–814,130621	–669,554795	REFL	337,3
M5	–728,380731	1831,686066	REFL	88,5
M4	–1559,927222	–884,934970	REFL	246,6
M3	–1128,818508	400,116303	REFL	115,8
Blende (23)		493,808056		147,3
M2	–4283,457265	–1101,540655	REFL	173,3
M1	3306,575787	1402,767776	REFL	185,7
Objektebene		0,000000		52,2

Tabelle 1 zu Fig. 6a

Koeff.	M6	M5	M4
RDY	–814,130621	–728,380731	–1559,927222
KY	0	0	0
RDX	–814,130621	–728,380731	–1559,927222
KX	0	0	0
X0Y0	–1,673113E–02	–4,272888E+00	–2,000125E+00
X0Y1	1,673113E–02	–2,393931E–03	6,667129E–04
X2Y0	3,681073E–05	4,481510E–04	–1,029364E–05
X0Y2	–3,209257E–05	–4,364770E–04	9,714116E–06
X2Y1	1,622805E–08	3,225401E–07	–8,001331E–09
X0Y3	5,901913E–10	1,914791E–06	–8,999112E–09
X4Y0	2,818707E–11	–5,125110E–10	–3,528481E–12
X2Y2	–2,687125E–1	–4,314332E–09	–3,998183E–12
X0Y4	–5,438518E–11	–1,750310E–10	–6,212469E–13
X4Y1	2,066080E–14	1,774660E–12	–3,221991E–15
X2Y3	3,066133E–14	1,874800E–11	–1,003169E–14
X0Y5	8,185261E–15	3,261737E–11	–1,190346E–15
X6Y0	1,424432E–17	–6,188484E–15	–2,092346E–18
X4Y2	–3,082709E–17	–2,038197E–14	–3,267871E–18
X2Y4	–1,155636E–16	–1,286108E–13	–1,612366E–17
X0Y6	–5,779209E–17	–6,229355E–14	–7,945613E–18
X6Y1	2,438403E–20	3,190541E–17	–1,786029E–21
X4Y3	7,407985E–20	5,500691E–17	–5,941258E–21
X2Y5	8,018527E–20	–6,744789E–17	–2,015597E–20
X0Y7	2,317347E–20	–2,638020E–15	4,178054E–20
X8Y0	2,212209E–25	2,232756E–20	–5,522385E–24
X6Y2	–5,316257E–23	–1,973432E–19	4,043549E–24
X4Y4	–2,329251E–22	–9,872451E–19	4,368680E–24
X2Y6	–2,427651E–22	–7,139562E–18	1,027670E–22
X0Y8	–1,356257E–22	–1,584545E–17	2,073633E–22
X8Y1	3,042160E–26	–2,141276E–22	–4,792776E–27
X6Y3	1,329756E–25	1,749098E–21	–1,810290E–27
X4Y5	1,814405E–25	1,343439E–20	5,608087E–26
X2Y7	7,310730E–26	7,113409E–20	4,859766E–25
X0Y9	–5,794201E–26	1,325964E–19	2,483280E–25
X10Y0	3,294181E–29	3,323160E–25	2,742055E–29
X8Y2	–1,932643E–29	–6,979067E–25	–3,126859E–29
X6Y4	–2,671118E–28	–1,024574E–23	–6,259933E–29
X4Y6	–7,495043E–28	–3,510045E–23	1,455146E–28
X2Y8	–6,043509E–28	6,388899E–22	6,357182E–28
X0Y10	–1,482420E–28	1,923850E–21	9,491052E–29
X10Y1	1,184298E–31
X8Y3	3,318655E–31
X6Y5	6,957835E–31
X4Y7	9,044659E–31
X2Y9	3,818890E–31
X0Y11	–6,545784E–32
X12Y0	8,47312E–35
X10Y2	–3,450061E–34
X8Y4	–2,414213E–33
X6Y6	–3,760643E–33
X4Y8	–2,433686E–33
X2Y10	–1,229971E–33
X0Y12	–3,567703E–34

Koeff.	M3	M2	M1
RDY	–1128,818508	–4283,457265	3306,575787
KY	0	0	0
RDX	–1128,818508	–4283,457265	3306,575787
KX	0	0	0
X0Y0	–5,298413E+00	–1,808890E±00	3,940692E+00
X0Y1	4,657428E–03	1,576477E–03	–3,544141E–04
X2Y0	3,645700E–06	–5,992984E–05	–4,548502E–05
X0Y2	–5,462723E–05	3,912005E–05	4,174800E–05
X2Y1	–5,253480E–07	–1,128342E–07	–1,265470E–08
X0Y3	–4,244709E–07	–1,812507E–07	3,565664E–08
X4Y0	1,892324E–10	2,402586E–11	–8,373986E–12
X2Y2	–1,868924E–10	9,607260E–11	–1,100485E–11
X0Y4	–3,266643E–10	2,413307E–10	–3,821209E–11
X4Y1	–4,158307E–14	–1,059480E–13	–1,454366E–14
X2Y3	–1,675845E–12	–2,965619E–13	4,101708E–14
X0Y5	1,540167E–13	4,107891E–13	–8,422551E–16
X6Y0	–1,105055E–15	–8,766604E–17	–6,594290E–18
X4Y2	–1,389153E–15	1,187625E–16	–2,326885E–17
X2Y4	–5,161637E–15	–3,115539E–16	7,829564E–17
X0Y6	1,009327E–16	–2,748657E–15	–2,096379E–16
X6Y1	–1,847366E–18	–2,334647E–19	–2,617307E–20
X4Y3	–3,251473E–18	6,842739E–20	–6,537459E–20
X2Y5	–1,055915E–17	4,379469E–18	–1,369874E–19
X0Y7	5,805359E–17	2,524361E–18	–3,872376E–20
X8Y0	–9,798388E–21	1,279747E–22	–1,359479E–22
X6Y2	1,057207E–20	–1,053138E–22	–2,673529E–22
X4Y4	3,019790E–20	–2,789802E–21	–2,940176E–22
X2Y6	3,456115E–19	–3,684445E–21	1,016812E–21
X0Y8	5,050667E–19	4,380040E–20	1,285834E–21
X8Y1	–1,957796E–23	–1,514417E–26	–2,745896E–25
X6Y3	–5,606311E–23	5,063355E–25	1,115150E–25
X4Y5	5,075524E–22	2,227127E–24	3,702846E–25
X2Y7	3,072950E–21	–6,683744E–23	3,027456E–24
X0Y9	9,393104E–22	–1,362150E–22	–6,898276E–24
X10Y0	2,998921E–25	2,362676E–27	1,548766E–27
X8Y2	–2,183900E–25	2,230600E–27	1,825038E–27
X6Y4	–1,253595E–24	1,241245E–26	7,922050E–27
X4Y6	2,302918E–24	1,327427E–26	–4,233367E–27
X2Y8	8,149117E–24	1,127985E–25	–3,395609E–26
X0Y10	–5,893218E–25	–1,619457E–25	3,610140E–27
X10Y1
X8Y3
X6Y5
X4Y7
X2Y9
X0Y11
X12Y0
X10Y2
X8Y4
X6Y6
X4Y8
X2Y10
X0Y12

Tabelle 2 zu Fig. 6a

	Dezentrierung	Dezentrierung	Dezentrierung
Oberfläche	DCX	DCY	DCZ
M6	0,000000	0,000000	0,000000
M5	0,000000	90,753373	0,000000
M4	0,000000	–50,213188	0,000000
M3	0,000000	399,285875	0,000000'
Blende (23)	0,000000	390,966887	0,000000
M2	0,000000	365,831776	0,000000
M1	0,000000	793,611806	0,000000
Objektebene	0,000000	962,203665	0,000000

	Verkippung	Verkippung	Verkippung
Oberfläche	TLA [deg]	TLB [deg]	TLC [deg]
M6	–3,875190	0,000000	0,000000
M5	–6,184949	0,000000	0,000000
M4	–15,600540	0,000000	0,000000
M3	–14,062223	0,000000	0,000000
Blende (23)	0,000000	0,000000	0,000000
M2	–11,334714	0,000000	0,000000
M1	–7,053358	0,000000	0,000000
Objektebene	0,000000	0,000000	0,000000

Tabelle 3 zu Fig. 6a

Die X-Blende 23 ist zwischen den Spiegeln M₂ und M₃ angeordnet. Bei diesen Ausführungsbeispiel ist die X-Blende 23 derart ausgebildet, dass sie ausschließlich auf die Ränder des Strahlenbüschels senkrecht zur Zeichenebene (d. h. in x-Richtung) zwischen M₂ und M₃ wirkt. Hierdurch wird der Tatsache Rechnung getragen, dass der Strahlengang in diesem Bereich umfangsseitig nicht vollständig zugänglich ist. Dies ist exemplarisch in der 6b dargestellt, welche die Bilder der Subaperturen 19 _i in einer Schnittebene entlang der Linie VI-VI in 6a wiedergibt. Wie man der 6b entnehmen kann, überlappt der Strahlengang mehrfach mit sich selbst. In der 6c ist eine Ausschnittsvergrößerung der 6b dargestellt, welche insbesondere die Bilder der Subaperturen 19 _i im Bereich des Strahlengangs zwischen den Spiegeln M₂ und M₃ wiedergibt. Außerdem ist in der 6c eine mögliche Ausbildung der X-Blende 23 dargestellt. Sie wirkt nur auf die Ränder des Strahlenbüschels zwischen den Spiegeln M₂ und M₃ in x-Richtung. Sie wirkt insbesondere jeweils in einen Azimutbereich von etwa 60° um die x-Richtung und entgegengesetzt kürzer. Mit anderen Worten weist die Blende 23 bei diesen Ausführungsbeispiel einen abschnittsweise randlosen Durchlassbereich auf. Anders ausgedrückt werden die Footprints bei diesem Design in der x-Blendenebene 18 nicht vollständig umschrieben. Sprungstellen bei der effektiven Pupillenvignettierung als Kombination der Blende in y- und x-Richtung 22, 23 werden in Kauf genommen. Der Durchlassbereich ist insbesondere in Richtung senkrecht zur Blenden-Richtung randlos ausgebildet. Er ist insbesondere in einem Winkelbereich von mindestens 30°, insbesondere mindestens 45°, insbesondere mindestens 60° um eine Richtung senkrecht zur Blenden-Richtung randlos ausgebildet.
Allgemein kann eine der Blenden 22, 23 direkt auf einem der Spiegel M_i, insbesondere als strahlungsabsorbierende Beschichtung, auf diesem angeordnet sein. Sie können auch durch die Kontur eines der Spiegel M_i gegeben sein. Die Blenden 22, 23 können auch jeweils als separate strahlungsundurchlässige, insbesondere strahlungsabsorbierende Elemente ausgebildet sein. Sie können direkt auf einem der Spiegel M_i angeordnet sein. Sie können insbesondere mechanisch mit einem Substrat eines der Spiegel M_i verbunden sein. Sie können auch als separates Element im Bereich zwischen zwei benachbarten Spiegeln M_i angeordnet sein.
Gemäß einer weiteren, in der 7a dargestellten Ausführungsform der Projektionsoptik 7 ist die X-Blende 23 auf dem Spiegel M₃ angeordnet. Die Y-Blende 22 ist auf dem Spiegel M₂ angeordnet. Die Blenden 22, 23 sind somit auf im Strahlengang benachbarten Spiegeln M_i angeordnet. Dies ist möglich, wenn der Astigmatismus in der Abbildung der Eintrittspupille ausreichend groß ist, bzw. benachbarte Spiegel M_i ausreichend nahe beieinander stehen.

Die optischen Designdaten der Projektionsoptik 7 gemäß 7a sind in den folgenden Tabellen zusammengefasst. Die numerische Apertur (NA), die Objektfeldhöhe und die Wellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 3 sind dieselben wie beim Design gemäß der 2.

Oberfläche	Radius	Abstandswert	Betriebsmodus	Halber Durchmesser
Bildebene		743,766065		13,0
M6	–806,920085	–668,350267	REFL	347,1
M5	–577,279412	1724,444434	REFL	85,4
M4	–1709,824357	–1250,256739	REFL	148,1
M3	–1159,607532	1003,321636	REFL	82,0
M2	–3095,603883	–1081,959918	REFL	232,9
M1	3784,972679	1653,204121	REFL	243,0
Objektebene		0,000000		52,2

Tabelle 1 zu Fig. 7a

Koeff.	M6	M5	M4
RDY	–806,920085	–577,279412	–1709,824357
KY	0	0	0
RDX	–806,920085	–577,279412	–1709,824357
KX	0	0	0
X0Y0	4,084782E–05	–5,003033E–05	–1,206498E–05
X0Y1	–6,234607E–06	1,368931E–05	–2,910665E–05
X2Y0	7,191750E–06	1,902694E–04	–2,328265E–05
X0Y2	–1,711942E–06	–1,495379E–04	2,626027E–05
X2Y1	–1‚006561E–08	–9,865848E–07	–7,850949E–09
X0Y3	4,741798E–09	–9,377605E–08	4,811461E–09
X4Y0	–9,009084E–12	–2,349454E–09	–1,008834E–11
X2Y2	–2,879845E–11	–8,215593E–09	–8,498137E–14
X0Y4	–2,122084E–11	–6,447272E–09	5,467140E–13
X4Y1	–1,393952E–14	–8,672047E–12	–6,299827E–15
X2Y3	–5,085691E–15	–1,188497E–11	–4,655946E–15
X0Y5	1,976480E–15	9,160524E–13	5,371864E–14
X6Y0	–1,895330E–17	–2,328367E–14	–4,240086E–18
X4Y2	–7,392086E–17	–9,448825E–14	–1,086551E–17
X2Y4	–9,567460E–17	–1,398817E–13	–9,773673E–17
X0Y6	–3,390607E–17	–6,866177E–14	–7,273479E–16
X6Y1	–2,314778E–20	–6,879790E–17	–7,072692E–21
X4Y3	–3,047116E–20	–2,728988E–16	–1,060288E–20
X2Y5	–6,983341E–21	–1,330413E–16	–4,893117E–19
X0Y7	7,730906E–21	2,573119E–16	–2,481600E–18
X8Y0	–3,896900E–23	–8,145168E–20	4,424314E–24
X6Y2	–1,616023E–22	–1,504286E–18	3,922959E–23
X4Y4	–2,871796E–22	–3,223023E–18	7,373005E–22
X2Y6	–2,062572E–22	–2,294023E–18	1,209179E–20
X0Y8	–6,097481E–23	–8,633330E–19	8,635429E–20
X8Y1	–1‚822435E–26	–3,640522E–21	5,178012E–27
X6Y3	–5,906480E–26	–1‚241683E–20	–4,014823E–25
X4Y5	–2,930996E–26	–9,414047E–21	1,978354E–24
X2Y7	6,582041E–27	–3,562625E–21	3,558543E–23
X0Y9	8,403446E–27	–7,439837E–21	–6,231819E–23
X10Y0	–3,615769E–29	–7,879185E–24	–3,772362E–29
X8Y2	–2,150817E–28	–3,775240E–23	–7,488879E–28
X6Y4	–4,457406E–28	–9,443693E–23	–1,263762E–26
X4Y6	5,188981E–28	–1,332391E–22	–2,844580E–26
X2Y8	–2,867467E–28	–1,084768E–22	–6,145893E–25
X0Y10	–8,103617E–29	–1,422544E–22	–3,312563E–24
X10Y1	–8,154012E–32
X8Y3	–2,790619E–31
X6Y5	–3,271652E–31
X4Y7	–1,551011E–31
X2Y9	8,389868E–33
X0Y11	–1,063616E–32
X12Y0	–1,555719E–34
X10Y2	–1,066287E–33
X8Y4	–3,102501E–33
X6Y6	–4,480920E–33
X4Y8	–3,478544E–33
X2Y10	–1,468010E–33
X0Y12	–2,533160E–34

Koeff.	M3	M2	M1
RDY	–1159,607532	–3095,603883	3784,972679
KY	0	0	0
RDX	–1159,607532	–3095,603883	3784,972679
KX	0	0	0
X0Y0	–3,468089E–03	9,273329E–05	–8,782289E–05
X0Y1	2,036473E–03	–4,057654E–05	1,487482E–05
X2Y0	–1,380178E–04	–1,445189E–05	–3,069350E–07
X0Y2	1,222305E–04	1,922180E–05	1,242420E–05
X2Y1	–4,377699E–08	–7,064962E–08	–5,452762E–08
X0Y3	–1,657950E–07	–2,889281E–08	–7,383051E–09
X4Y0	–7,962108E–10	2,191198E–11	3,870952E–12
X2Y2	1,810764E–10	1,893253E–11	–1,159922E–11
X0Y4	–1,386637E–10	9,362683E–12	1,207732E–11
X4Y1	1,400876E–12	–4,028354E–14	–1,616909E–14
X2Y3	–7,345956E–13	–3,532403E–15	–7,438147E–16
X0Y5	5,235916E–13	–1,449675E–14	1,113430E–14
X6Y0	5,688239E–15	8,274526E–18	1,482541E–18
X4Y2	8,008347E–15	1,691057E–17	–3,283332E–18
X2Y4	–7,171436E–15	3,745135E–17	1,437792E–17
X0Y6	–2,194164E–15	–1,027908E–16	–4,890830E–17
X6Y1	1,309202E–16	–3,775309E–20	–1,236192E–20
X4Y3	5,826556E–17	–2,398979E–20	–4,704105E–22
X2Y5	1,575480E–17	4,774309E–20	2,968446E–21
X0Y7	–3,140698E–17	7,393155E–20	1,123002E–19
X8Y0	–6,692472E–19	2,940612E–23	1,213175E–23
X6Y2	2,195539E–19	–1,857890E–24	–2,730648E–23
X4Y4	7,254175E–20	7,004868E–23	4,308402E–23
X2Y6	5,013892E–19	–4,384569E–23	1,349001E–22
X0Y8	2,925552E–19	1,422081E–21	6,109805E–22
X8Y1	–2,447562E–21	8,666931E–26	3,880481E–26
X6Y3	–6,560365E–22	1,937245E–25	5,900414E–26
X4Y5	–3,611257E–21	–2,069965E–25	–1,500486E–25
X2Y7	–1,710920E–21	–1,325431E–24	6,629223E–26
X0Y9	2,080452E–22	–1,072282E–24	–1,098385E–24
X10Y0	1,706747E–23	–1,283092E–28	–6,358988E–29
X8Y2	8,889490E–25	–2,695754E–28	3,599661E–29
X6Y4	–1,176154E–23	–2,190951E–28	–7,491636E–30
X4Y6	–3,961270E–23	–8,200817E–28	–8,841395E–28
X2Y8	–2,598224E–23	7,217805E–28	–2,518854E–27
X0Y10	–1,026854E–23	–3,473657E–27	4,428111E–28
X10Y1
X8Y3
X6Y5
X4Y7
X2Y9
X0Y11
X12Y0
X10Y2
X8Y4
X6Y6
X4Y8
X2Y10
X0Y12

Tabelle 2 zu Fig. 7a

	Dezentrierung	Dezentrierung	Dezentrierung
Oberfläche	DCX	DCY	DCZ
M6	0,000000	0,000000	0,000000
M5	0,000000	113,692018	0,000000
M4	0,000000	–79,722954	0,000000
M3	0,000000	541,181036	0,000000
M2	0,000000	510,747831	0,000000
M1	0,000000	917,341170	0,000000
Objektebene	0,000000	1117,176867	0,000000

	Verkippung	Verkippung	Verkippung
Oberfläche	TLA [deg]	TLB [deg]	TLC [deg]
M6	–4,827633	0,000000	0,000000
M5	–8,027587	0,000000	0,000000
M4	–16,472945	0,000000	0,000000
M3	–14,233690	0,000000	0,000000
M2	–11,260893	0,000000	0,000000
M1	–6,850557	0,000000	0,000000
Objektebene	0,000000	0,000000	0,000000

Tabelle 3 zu Fig. 7a

Eine weitere, in der 8a dargestellte Möglichkeit besteht darin, die Y-Blende 22 auf dem Spiegel M₂ und die X-Blende 23 im Bereich der Pupillenebene 25 zwischen den Spiegeln M₅ und M₆ anzuordnen. Die Pupillenebene 25 bildet hierbei eine X-Blendenebene 18. Hierbei ist es auch möglich, die Y-Blende 22 auf dem Spiegel M₃ anzuordnen. Die hierbei relevanten Footprints des optischen Designs sind in den 8b bis 8d bzw. übereinandergelegt in der 8e dargestellt. In 8b ist der Footprint des Strahlengangs zwischen dem Wafer 11 und dem Spiegel M₆ dargestellt. In der 8c der des Strahlengangs zwischen den Spiegeln M₅ und M₆ zusammen mit der Blende 23. Die Blende 23 umfasst den Footprint im umfangsseitig zugänglichen Bereich weitestmöglich. Sie umfasst den Footprint in einem Winkelbereich von etwa 270°. Allgemein umfassen die Blenden 22, 23 die jeweiligen Footprints in deren umfangsseitig zugänglichem Bereich weitestmöglich. Sie umfassen die Footprints umfangsseitig in einem Winkelbereich von mindestens 90°, insbesondere mindestens 180°, insbesondere mindestens 210°, insbesondere mindestens 240°, vorzugsweise mindestens 270°. In 8d der des Strahlengangs zwischen dem Spiegel M₅ und einer Durchtrittsöffnung 24 im Spiegel M₆.
Die optischen Designdaten der Projektionsoptik 7 entsprechen denen der Projektionsoptik 7 gemäß 2.
Allgemein ist es möglich, die Blenden 22, 23 in den beiden unterschiedlichen, Hälften des Strahlengangs der Projektionsoptik 7 anzuordnen. Es ist mit anderen Worten möglich, die eine der Blenden 22, 23 entlang des Strahlengangs näher zum Objektfeld 4 und die andere der Blenden 23, 22 entlang des Strahlengangs näher zum Bildfeld 8 anzuordnen. Hierbei ist insbesondere vorgesehen, die Y-Blende 22 in Richtung des Strahlengangs näher beim Objektfeld 4 und die X-Blende 23 in Richtung des Strahlengangs näher beim Bildfeld 8 anzuordnen, sofern im Strahlengang zwischen den beiden Blendenebenen 17, 18 kein Zwischenbild liegt. Liegt jedoch zwischen den beiden Blendenebenen 17, 18 ein Zwischenbild, ist vorgesehen, die Y-Blende 22 näher am Bildfeld 8 und die X-Blende 23 näher am Objektfeld 4 anzuordnen.
Aus der 8c ist unmittelbar ersichtlich, dass sich der Footprint in unmittelbarer Nähe einer X-Blendenebene befindet. Dies ist mit anderen Worten eine geeignete Position für die Anordnung der X-Blende 23. Aus der 8e ist zudem ersichtlich, dass diese X-Blende 23 im Luftraum zwischen dem Wafer 11 und dem Spiegel M₆ mechanisch auf einfache Weise realisierbar ist. Die Anordnung einer entsprechenden Y-Blende 22 ist in diesem Bereich aus Gründen des optischen Überlapps nicht möglich.
Allgemein kann mindestens eine der Blenden 22, 23 derart im Strahlengang angeordnet sein, dass ihr Durchlassbereich vom Strahlengang genau einmal durchlaufen wird. Es können auch beide Blenden 22, 23 derart im Strahlengang angeordnet sein, dass ihr Durchlassbereich vom Strahlengang jeweils genau einmal durchlaufen wird.
Bei sämtlichen der beschriebenen Ausführungsformen können die Blenden 22, 23 auch Obskurationselemente zur Ausblendung eines Zentralbereichs des Strahlengangs aufweisen. Die Obskurationselemente sind hierbei vorzugsweise zur definierten Obskuration des Strahlengangs in der entsprechenden Blendenrichtung ausgebildet.
Zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauteils wird die Projektionsbelichtungsanlage 1 folgendermaßen eingesetzt: Zunächst werden die Reflexionsmaske 10 bzw. das Retikel und das Substrat 11 bzw., der Wafer bereitgestellt. Anschließend wird eine Struktur auf dem Retikel 10 auf eine lichtempfindliche Schicht des Wafers 11 mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage 1 projiziert. Durch Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht wird dann eine Mikro- oder Nanostruktur auf dem Wafer 11 und somit das mikrostrukturierte Bauelement, insbesondere ein Mikrochip, hergestellt.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

US 6396067 B1 [0002]
JP 2004/246343 [0002]
JP 2005/86148 [0002]
WO 2007/03127 A1 [0030]
DE 102011083888 [0049]
WO 2007/031271 A1 [0054]

Claims

Projektionsoptik (7) zur Abbildung eines Objektfeldes (4) in einer Objektebene (5) in ein Bildfeld (8) in einer Bildebene (9) umfassend a. eine Mehrzahl strahlführender optischer Elemente (M_i) zur Führung von Abbildungsstrahlung (3) entlang eines Strahlengangs, wobei durch den Strahlengang mindestens ein Paar einer ersten und einer zweiten Pupillenschale (17, 18) einer Pupille der Projektionsoptik (7) definiert ist, i. wobei jede der Pupillenschalen (17, 18) jeweils sämtliche Bildpunkte der Strahlen der Pupille mit einer von zwei senkrecht zueinander verlaufenden Schnittebene enthält, und ii. wobei die Pupillenschalen (17, 18) eines Paares in Richtung des Strahlengangs einen Abstand d, mit 0 < d_min ≤ d ≤ d_max aufweisen, b. eine erste Blenden-Einrichtung (22) zur Vorgabe von äußeren Begrenzungen einer Pupille der Projektionsoptik (7) bezüglich einer ersten Blenden-Richtung, i. wobei die erste Blenden-Einrichtung (22) einer der ersten Pupillenschalen (17) zugeordnet und in Richtung des Strahlengangs in einem Abstand von höchstens d_min/2 zu dieser angeordnet ist, und c. eine zweite Blenden-Einrichtung (23) zur Vorgabe von äußeren Begrenzungen einer Pupille der Projektionsoptik (7) bezüglich einer zweiten Blenden-Richtung, i. wobei die zweite Blenden-Einrichtung (23) einer der zweiten Pupillenschalen (18) zugeordnet und in Richtung des Strahlengangs in einem Abstand von höchstens d_min/2 zu dieser angeordnet ist, d. wobei die Blenden-Richtung jeweils parallel zu der zu der zugeordneten Pupillenschalen (17, 18) gehörigen Schnittebene ist.
Projektionsoptik (7) gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die beiden Richtungen, bezüglich welcher die Blenden-Einrichtungen (22, 23) äußere Begrenzungen einer Pupille vorgeben, bei einer Projektion in Richtung des Strahlengangs in die Bildebene (9) parallel zu einer Scanrichtung bzw. senkrecht hierzu verlaufen.
Projektionsoptik (7) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Blenden-Einrichtungen (22, 23) direkt auf einem der optischen Elemente (M_i) angeordnet ist.
Projektionsoptik (7) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine der Blenden-Einrichtungen (22, 23) auf dem im Strahlengang letzten strahlführenden Element (M₆) angeordnet ist.
Projektionsoptik (7) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Blenden-Einrichtungen (22, 23) auf im Strahlengang aufeinanderfolgenden strahlführenden Elementen (M_i, M_i+1) angeordnet sind.
Projektionsoptik (7) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Blenden-Einrichtungen (22, 23) zwischen zwei in Projektionsrichtung aufeinanderfolgenden optischen Elemente (M_i, M_i+1), beabstandet zu diesen angeordnet ist.
Projektionsoptik (7) gemäß Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Blenden-Einrichtungen (22, 23) derart im Strahlengang angeordnet ist, dass ihr Durchlassbereich vom Strahlengang genau einmal durchlaufen wird.
Projektionsoptik (7) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Blenden-Einrichtungen (22, 23) derart an Positionen in Projektionsrichtung angeordnet sind, dass die eine Blenden-Einrichtung (22, 23) entlang des Strahlengangs näher zum Objektfeld (4) und die andere Blenden-Einrichtung (23, 22) entlang des Strahlengangs näher zum Bildfeld (8) angeordnet ist.
Projektionsoptik (7) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Blenden-Einrichtungen (22, 23) einen abschnittsweise randlosen Durchlassbereich aufweist.
Projektionsoptik (7) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Blenden-Einrichtungen (22, 23) ein Obskurations-Element umfasst.
Projektionsoptik (7) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine katoptrische Ausbildung.
Projektionsoptik (7) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eines der optischen Elemente (M_i) eine Freiformfläche aufweist.
Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Mikrolithographie mit einer Projektionsoptik (7) gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche.
Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauelements umfassend die folgenden Schritte: – Bereitstellen einer Projektionsbelichtungsanlage (1) gemäß Anspruch 13, – Bereitstellen eines Retikels (10) und eines Wafers (11), – Projizieren einer Struktur auf dem Retikel (10) auf eine lichtempfindliche Schicht des Wafers (11) mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage (1).