DE102012210807A1 - Verfahren zur Erzeugung einer bakteriziden Schicht - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung einer bakteriziden Schicht auf einem Grundkörper aus Metall, Glas, Keramik, Textil, vorzugsweise jedoch aus Titan oder einer Titanbasislegierung, wobei mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung unter Normaldruckbedingungen eine silberhaltige oder kupferhaltige oder zinkhaltige oder bismuthaltige Siliziumoxidschicht auf dem Grundkörper erzeugt wird, wobei das eingelagerte Silber oder Kupfer oder Zink oder Bismut in partikulärer oder ionischer Form vorliegt.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung einer bakteriziden Schicht auf einem Grundkörper aus Titan oder einer Titanbasislegierung oder einem anderen geeigneten Substratmaterial und die Verwendung des so beschichteten Grundkörpers als Implantat.
  • Knochendefekte werden durch Knochenfisteln, Trümmerfrakturen und Tumore verursacht. Die Behandlung kann durch Auffüllung mit geeigneten Implantaten aus Titan und Titanbasislegierungen erfolgen. Grundkörper aus Titan oder Titanbasislegierungen für Osteosyntheseimplantate und auch Dentalimplantate lassen sich in unbeschichteter, elektrochemisch beschichteter und in mechanisch nachbehandelter Form bzw. Kombinationen daraus mit biotoleranten, bioinerten, biokompatiblen, bioaktiven bzw. osteoinduktiven Eigenschaften ausstatten. Damit kann ein Einwachsen des umgebenden Knochengewebes für permanente Implantate sowohl begünstigt als auch für temporäre Implantate verhindert werden. Problematisch wird die Behandlung von Knochendefekten selbst mit weiterentwickelten Implantaten bzw. optimierten Implantatbeschichtungen auf höchstem technologischem Stand und niedriger Komplikationsrate immer dann, wenn sich zusätzlich bakterielle Infektionen manifestieren.
  • Infektionen von Endoprothesen und Biomaterialien stellen ein zentrales Problem in der Behandlung von Knochen- und Gelenkerkrankungen dar. So werden Infektionsraten von ca. 5% bei der osteosynthetischen Stabilisierung von Frakturen beschrieben, beim primären totalen Gelenkersatz betragen die Infektionsraten ca. 0,5%–2%. Für den endoprothetischen Gelenkersatz nach der Resektion von Knochentumoren werden Infektionsraten von 5%–35% angegeben. Auch die modernen Operationsverfahren unter Beachtung aseptischer Voraussetzungen und einer optimierten perioperativen antibiotischen Prophylaxe schützen hierbei nicht ausreichend vor bakteriellen Infektionen. Der menschliche Körper besteht aus ca. 1013 Zellen und ist mit ca. 1014 Mikroorganismen aus bis zu 500 verschiedenen Spezies besiedelt (Schumann, W. (2011), Biotop Mensch, Wir sind besiedelt, Biologie in unserer Zeit, 41: 182–189) Die Mikroorganismen besiedeln seit 2·109 Jahren die Erde, während sich der Mensch erst seit ca. 40.000 Jahren den Gegebenheiten auf der Erde anzupassen versucht. Obwohl daraus ein evolutionärer Vorteil der Mikroorganismen resultiert, befinden sich Säugetiere und Mikroorganismus in einem Fließgleichgewicht aus Abwehr und Pathogenität.
  • Gefährliche Keime, die das Fließgleichgewicht zu ihren Gunsten verschieben und damit eine erhöhte Pathogenität verursachen, sind meist koagulase-positive Kokken wie z.B. Staphylococcus aureus. Kokken (S. epidermidis), die keine Gerinnungsfaktoren sezernieren und damit keine Koagulation des Blutes bewirken können, um sich aus den Spaltprodukten mit körpereigenen Proteinen zu maskieren, sind meistens nicht pathogen bzw. können durch die Abwehr des Körpers in das Fließgleichgewicht zurückgedrängt werden, wenn keine Immunsuppression durch hohes Alter, chronische Erkrankungen, Drogenmissbrauch, unausgeglichene Ernährung, Umweltgifte, ionisierende Strahlung, Stress, Schlafdefizit, Bewegungsmangel, Kälteeinwirkung, etc. vorliegt. Ein weiteres Problem stellt der Biofilm dar, der nicht wie bisher vermutet nur aus mechanischen Gründen einen wesentlich höheren MHK-Wert (Maximale-Hemmkonzentration) von Antibiotika (ca. um den Faktor 103 höher) benötigt. Vielmehr führt die Anwesenheit vieler Bakterien ab einem gewissen Schwellenwert zu einem enormen Anstieg der so genannten Kommunikationsmoleküle (Quorum sensing signals), die für die erhöhte Resistenz gegen Antibiotika verantwortlich sind. Die Kommunikation organisiert das Verhalten der Bakterien, führt zu Bakterien-Kompetenz, aktiviert oder deaktiviert unterschiedliche Genabschnitte, verringert die Wirksamkeit der Antibiotika und stellt von einem nicht-pathogenen Verhalten in ein pathogenes Verhalten mit Biofilmbildung und Sezernierung von Toxinen um. Hygiene, Abtötung durch antibiotische Prophylaxe, Verhinderung der Anhaftung und hohe Wirkspiegel am Ort des Infektes sind die effektivsten Waffen gegen bakterielle Besiedelung und die Gefahr der Biofilmbildung.
  • Ein nützliches Eigenschaftsprofil von Implantaten reicht also mittlerweile von einstellbar komplikationsloser Entfernbarkeit über einstellbare Stimulation von Knochenwachstum zur Beschleunigung der Frakturheilung bis zur mikroziden bzw. antibakteriellen Ausstattung unter adhäsionsmindernden Rahmenbedingungen für pathogene Mikroorganismen. Titan und Titanbasislegierungen sind dafür geeignete und langjährig erprobte Implantatgrundwerkstoffe. Durch gezieltes Design der Oberflächenbeschichtungen und Nachbehandlungen kann die Biokompatibilität als Oberbegriff für das genannte Eigenschaftsprofil weiter erhöht werden.
  • Die DE 10 2008 046 198 B3 offenbart ein Verfahren der plasmachemischen Oxidation, um auf Implantaten aus Titan und Titanlegierungen eine biologisch degradationsstabile Oberflächenschicht zu erzeugen.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, ein verbessertes Verfahren zur Erzeugung einer bakteriziden Schicht auf einem Grundkörper aus Titan oder einer Titanbasislegierung anzugeben.
  • Die Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1.
  • Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
  • Ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Erzeugung einer bakteriziden Schicht auf Grundkörpern aus Titan oder Titanbasislegierungen umfasst eine plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung unter Atmosphärendruckbedingungen (Atmospheric pressure Plasma Chemical Vapour Deposition – APCVD), bei der als schichtbildende Precursorsubstanzen bevorzugt siliziumorganische Verbindungen, bspw. Hexamethyldisiloxan (HMDSO) oder Tetraethoxysilan (TEOS) oder Tetramethylsilan (TMS) verwendet werden, wobei in die Schichten bakterizid wirksame Komponenten wie Silber, Kupfer, Zink oder Bismut oder Kombinationen daraus eingebettet werden. Im Ergebnis der Precursorumsetzung im Plasmastrahl kommt es zur Ausbildung von dünnen Plasmapolymerschichten mit Dicken im Nanometerbereich. Die Einbettung der antibakteriell wirkenden Komponenten in die aufwachsende Plasmapolymerschicht erfolgt durch Zudosierung entsprechender flüssiger und vernebelter Vorläufersubstanzen in den Plasmastrahl. Dabei finden z.B. Silberpartikelsuspensionen oder Lösungen von Metallsalzen wie Silbernitrat, Kupfer- oder Zinknitrat oder Bismuttriacetat ((CH3CO2)3Bi) (beispielsweise jeweils 0,05g/ml in vol. 1:1 Isopropanol/Wasser Gemisch) Verwendung.
  • Durch jede der eingesetzten Substanzen wird eine bakterizide Beschichtung mit den darin enthaltenen Ag(I)-, Cu(II)-, Zn(II)- oder Bi(III)-Ionen bzw. Nanopartikeln erzielt, so dass der damit beschichtete Substratwerkstoff bzw. der Grundkörper eine erhöhte Resistenz gegenüber bakterieller Inflammation aufweist.
  • Metalle wie Silber, aber auch Zink und Kupfer und Bismut sind für ihre antibakterielle Wirkung bekannt. Schon in der Antike wurden z.B. Wundsalben mit geschabtem Silber (Ag) versetzt. Silberfäden in die Gazeabdeckung schwerer Brandwunden eingelagert, verhindern effektiv deren bakterielle Entzündung. Bei allen metallischen Wirkstoffen kommt es auf die richtige Dosierung an: ein Zuviel schädigt den menschlichen Organismus und ein Zuwenig hinterlässt eine Dosis ohne Wirkung. Für die antibakterielle Wirksamkeit ist die Konzentration der Metall-Ionen entscheidend. Eine gleichbleibend stabile Wirkung wird durch die mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens aufgetragenen Schichten aus Silber, Zink, Kupfer oder Bismut erzielt. Die Freigabe der Metall-Ionen ist kontinuierlich direkt aus der abgeschiedenen Schicht möglich, so dass die bakterizide Wirkung über einen längeren Zeitraum im Verlauf des sehr langsam verlaufenden Materialverlust durch elektrochemische Korrosion (ca. 0,5 µm pro Jahr–1 µm pro Jahr), anhält.
  • In einer Ausführungsform des Verfahrens kann vor dem APCVD-Prozess eine biologisch degradationsstabile Calciumphosphat-Schicht auf dem Grundkörper mittels plasmachemischer Oxidation abgeschieden werden, insbesondere indem die Calciumphosphatschicht in einem elektrochemischen Tauchverfahren mit einem wässrigen Elektrolyt abgeschieden wird, wobei als Elektrolyt eine wässrige Lösung mit den Bestandteilen Calcium-di-Natrium-Ethylendiamintetraessigsäure (C10H12N2O8CaNa2), beispielsweise 0,05 mol/l bis 0,5 mol/l, Ammoniumdihydrogenphosphat (NH4H2PO4), beispielsweise 0,05 mol/l bis 0,5 mol/l, Phosphorsäure (H3PO4), beispielsweise 0,05 mol/l bis 0,5 mol/l, Galliumnitrat-monohydrat (Ga2(NO3)3 × H2O), beispielsweise 0,02 mol/l bis 0,06 mol/l, sowie Ethylendiamin (C2H8N2), beispielsweise 0,5 mol/l bis 1,5 mol/l verwendet wird.
  • Auf diese Weise wird zunächst eine biokompatible Beschichtung auf dem Grundkörper aus Titan oder Titanlegierungen, mittels plasmachemischer Oxidation aufgebracht, dessen oberflächennaher Schichtbereich dann mittels des erfindungsgemäßen APCVD-Prozesses antibakteriell ausgestattet wird, so dass sich ein verbessertes Osteosynthesematerial mit einstellbaren Eigenschaften und zusätzlichen antibakteriellen Eigenschaften ergibt.
  • Einstellbare Eigenschaften der Oberflächenschicht sind zum Beispiel: bioinert, bioaktiv, chemisch inert, chemisch aktiv, diffusionshemmend, degradationsstabil, porenreich, porenarm, haftfest, sterilisierbar, hitzebeständig, geringe Rauheit, reduzierte Kaltschweißneigung, duktil, knochenähnlich, spröde, etc.
  • Durch ein geeignetes Elementverhältnis im verwendeten Elektrolyten und somit auch in der entsprechend gebildeten Schicht ist es weiterhin möglich, die Oberflächenbeschichtung bioaktiv zu gestalten und somit einen Besiedelungsfortschritt durch Osteoblasten beim Einsatz des Grundkörpers als Osteosyntheseimplantat oder Dentalimplantat zu beschleunigen. Der Besiedelungsfortschritt durch Osteoblasten könnte nun nur noch durch die konkurrierende Besiedelung pathogener Bakterien und einer nachfolgenden Degradation des Implantatlagers negativ beeinflusst werden. Erhöhte Komplikationsraten können sich dabei vor allem bei bakteriellen Inflammationen offener Frakturen ergeben. Durch die erfindungsgemäße bakterizide Beschichtung mit darin enthaltenen Ag(I)-, Cu(II)-, Zn(II)- oder Bi(III)-Ionen wird der Grundkörper jedoch resistent gegenüber bakterieller Inflammation ausgestattet.
  • In einer Ausführungsform des Verfahrens besteht der zu beschichtende Grundkörper aus technisch reinem Titan oder einer Titanlegierung mit mindestens 60 Masse-% Titan. Reintitan ist elastischer, damit bruchfester und weniger fest als die Titanlegierung Ti6Al4V. Dafür besitzt Reintitan keine potentiell toxischen Legierungselemente wie z.B. Vanadium (V). Beide Legierungstypen und auch neuere Legierungen (höherfeste Legierungen) werden als Implantatmaterial eingesetzt.
  • Bei Frakturen in der Traumatologie (Sportverletzungen, Motorradunfall, verschmutzte offene Frakturen) werden insbesondere bioinerte bzw. temporäre Implantate verwendet. Besonders diese Implantate sind zusätzlich mit einer hohen Verkeimung, wie sie bei offenen Frakturen in der Traumatologie häufig vorkommt, der Gefahr einer Peri-Implantitis ausgesetzt. Dieser Gefahr wird bisher nur mit der systemischen Gabe von Antibiotika in Form einer Prophylaxe begegnet.
  • Der mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens beschichtete Grundkörper aus Titan oder einer Titanlegierung kann als Osteosyntheseimplantat und als Dentalimplantat verwendet werden.
  • Normaldruckplasmaverfahren erfordern einen wesentlich geringeren technischen Aufwand als Niederdruck- oder Vakuumverfahren, da eine zu evakuierende Reaktionskammer entfällt. Beim Normaldruckplasmaverfahren bilden sich die Partikel im Plasmastrom. Die Größe der Agglomerate aus diesen Partikeln und somit wesentliche Eigenschaften der Beschichtung lassen sich unter anderem durch den Abstand der Plasmaquelle von der Oberfläche einstellen. Die Homogenität der abgeschiedenen Schichten ist mit der Homogenität durch Beflammung abgeschiedener Schichten vergleichbar. Alternativ kann das Verfahren auch bei leicht reduziertem Normaldruck durchgeführt werden.
  • Die Erzeugung des Plasmas kann in einer Freistrahlplasmaquelle erfolgen. Bei diesem Verfahren wird eine Hochfrequenzentladung zwischen zwei konzentrischen Elektroden gezündet, wobei durch einen angelegten Gasstrom das sich bildende Hohlkathodenplasma als Plasmajet aus der Elektrodenanordnung in aller Regel mehrere Zentimeter in den freien Raum und zur zu beschichtenden Oberfläche herausgeführt wird. Der Precursor kann sowohl vor der Anregung in das Arbeitsgas (direct plasma processing) als auch danach in das bereits gebildete Plasma oder in dessen Nähe (remote plasma processing) eingeleitet werden. Eine weitere Möglichkeit der Plasmaerzeugung ist das Ausnutzen einer dielektrisch behinderten Entladung. Dabei wird das als Dielektrikum dienende Arbeitsgas, insbesondere Luft, zwischen zwei Elektroden hindurchgeleitet. Die Plasmaentladung erfolgt zwischen den Elektroden, welche mit hochfrequenter Hochspannung gespeist werden.
  • Der Precursor wird vorzugsweise im gasförmigen Zustand in die Flamme, das Arbeitsgas oder den Plasmastrom eingeleitet. Flüssige oder feste, insbesondere pulverförmige Precursoren sind ebenfalls einsetzbar, werden jedoch bevorzugt vor der Einleitung, beispielsweise durch Verdampfung, in den gasförmigen Zustand oder einen aerosolartigen Zustand überführt. Ebenso kann der Precursor zunächst in ein Trägergas eingeleitet, davon mitgerissen und zusammen mit diesem in die Flamme, das Arbeitsgas oder den Plasmastrom eingeleitet werden.
  • Der Durchsatz des Brenngases, des Arbeitsgases und/oder des Precursors ist vorzugsweise variabel und steuerbar und/oder regelbar. Insbesondere sind die Durchsätze von Brenngas, Arbeitsgas und Precursor unabhängig voneinander steuerbar und/oder regelbar. Neben dem Abstand der Beschichtungseinrichtung zu der zu beschichtenden Oberfläche steht so ein weiteres Mittel zur Beeinflussung der Schichteigenschaften, wie beispielsweise der Schichtdicke oder der Brechzahl, zur Verfügung. Ebenso sind auf diese Weise Gradientenschichten realisierbar.
  • Das Verfahren kann auch zur Beschichtung eines Grundkörpers aus einem anderen geeigneten Substratmaterial verwendet werden. Beispielsweise können auch Grundkörper aus Polyethylen, beispielsweise Direct Compression Molded Polyethylen, oder Chirurgenstahl (CoCr-Legierungen), beispielsweise für eine Knieprothese, mit Hilfe des erfindungsgemäßem Verfahren beschichtet werden. Weiterhin kann man mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens textile Oberflächen (Wundauflage) mit einer antibakteriell wirksamen Oberfläche versehen.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung werden im Folgenden näher erläutert.
  • Ausführungsbeispiel 1:
  • Auf einen Grundkörper aus Titan, einer Titanbasislegierung oder einer elektrochemisch modifizierten Oberfläche der Grundkörpermaterialien bspw. durch Erzeugung einer Calciumphosphatschicht wird mit Hilfe eines Freistrahlplasma-Jets unter Atmosphärendruckbedingungen durch mäanderförmiges Abrastern der Substratoberfläche eine gleichmäßige Siliziumoxid-Schicht auf dem Substrat appliziert, in die Silber-Nanopartikel oder -Ionen eingelagert werden, welche die bakterizid wirkende Komponente darstellen.
  • Als schichtbildenden siliziumorganischen Precursor wird Hexamethyldisiloxan (HMDSO) dem Plasma oder einem zur Bildung des Plasmas verwendeten Prozessgas (bspw. Luft) zugeführt. Das HMDSO kann gasförmig mit einer Flussrate von bspw. 2 ml/min bis 4 ml/min dem Plasma zugeführt werden. Als chemische Vorläufer für die Bildung der Silber-Nanopartikel innerhalb des Plasmas wird Silber(I)-nitrat mit einer Konzentration von 0,05 g/ml in einem Gemisch aus destillierten Wasser und Isopropanol (Volumenverhältnis 1:1) gelöst und als Aerosol in das Plasma verdüst. Weitere Beschichtungsparameter sind nachfolgend aufgelistet:
    • – Brennerleistung: 400 W
    • – Prozessgasdruck: 6 bar (Luft)
    • – Dosierrate der Silber(I)-nitrat-Lösung: zwischen 0 und 100 ml/min variabel
  • Ausführungsbeispiel 2
  • Auf einen Grundkörper aus Titan, einer Titanbasislegierung oder einer elektrochemisch modifizierten Oberfläche der Grundkörpermaterialien bspw. durch Erzeugung einer Calciumphosphatschicht wird mit Hilfe eines Freistrahlplasma-Jets unter Atmosphärendruckbedingungen durch mäanderförmiges Abrastern der Substratoberfläche eine gleichmäßige Siliziumoxid-Schicht auf dem Substrat appliziert, in die Kupfer- bzw. Kupferoxid Nanopartikel eingelagert werden, welche die bakterizid wirkende Komponente darstellen.
  • Die Beschichtung kann analog zu dem Ausführungsbeispiel 1 erfolgen, als chemischer Vorläufer wird gelöstes Kupfer(II)-nitrat mit einer Konzentration von 0,05 g/ml in einem Gemisch aus destilliertem Wasser und Isopropanol (Volumenverhältnis 1:1) verwendet.
  • Ausführungsbeispiel 3
  • Auf einen Grundkörper aus Titan, einer Titanbasislegierung oder einer elektrochemisch modifizierten Oberfläche der Grundkörpermaterialien bspw. beschichtet mit Calciumphosphat wird mit Hilfe eines Freistrahlplasma-Jets unter Atmosphärendruckbedingungen durch mäanderförmiges Abrastern der Substratoberfläche eine gleichmäßige Siliziumoxid-Schicht auf dem Substrat appliziert, in die Zinkoxid Nanopartikel eingelagert werden, welche die bakterizid wirkende Komponente darstellen.
  • Die Beschichtung kann analog zu dem Ausführungsbeispiel 1 erfolgen, als chemischen Vorläufer wird gelöstes Zink(II)nitrat mit einer Konzentration von 0,05 g/ml in einem Gemisch aus destilliertem Wasser und Isopropanol (Volumenverhältnis 1:1) verwendet.
  • Vor der Plasmabeschichtung gemäß einem der vorstehenden Ausführungsbeispiele kann eine Tauchbehandlung des Grundkörpers in einem wässrigen Elektrolyt mit 0,05 mol/l bis 0,5 mol/l Calcium-di-Natrium-Ethylendiamintetraessigsäure (C10H12N2O8CaNa2), 0,05 mol/l bis 0,5 mol/l Ammoniumdihydrogenphosphat (NH4H2PO4), 0,05 mol/l bis 0,5 mol/l Phosphorsäure (H3PO4), 0,02 mol/l bis 0,06 mol/l Galliumnitrat-monohydrat (Ga2(NO3)3 × H2O) sowie 0,5 mol/l bis 1,5 mol/l Ethylendiamin (C2H8N2) erfolgen.
  • Dieser wässrige Elektrolyt wird auf einen pH-Wert von 5 bis 7 eingestellt. Der Grundkörper aus Reintitan oder der Titanlegierung (≥ 60 M.-% Titan) mit einer Ausgangsrauheit von Ra ≤ 2.5 µm oder Rt ≤ 15 µm wird im Ultraschallbad gereinigt und im wässrigen Elektrolyten teilweise oder vollständig untergetaucht und anodisch gepolt. Der elektrochemische Prozess erfolgt bei Gleichspannung oder gepulster Gleichspannung (ƒ ≤ 1500 s–1) und einer Stromdichte von ≤ 15 A·dm–2 bei einer Elektrolyttemperatur von 15 °C bis 50 °C unter Atmosphärendruck. Nach Erreichen der Endspannung von < 400 V wird der beschichtete Grundkörper in einer mehrstufigen Spülung mit Wasser von anhaftendem Elektrolyten befreit und mit Luft getrocknet.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 102008046198 B3 [0006]
  • Zitierte Nicht-Patentliteratur
    • Schumann, W. (2011), Biotop Mensch, Wir sind besiedelt, Biologie in unserer Zeit, 41: 182–189 [0003]

Claims (12)

  1. Verfahren zur Erzeugung einer bakteriziden Schicht auf einem Grundkörper aus Titan oder einer Titanbasislegierung, wobei mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung unter Normaldruckbedingungen eine silberhaltige Siliziumoxidschicht auf dem Grundkörper erzeugt wird, wobei das eingelagerte Silber in partikulärer oder ionischer Form vorliegt.
  2. Verfahren zur Erzeugung einer bakteriziden Schicht auf einem Grundkörper aus Titan oder einer Titanbasislegierung, wobei mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung unter Normaldruckbedingungen eine kupferhaltige Siliziumoxidschicht auf dem Grundkörper erzeugt wird, wobei das eingelagerte Kupfer in partikulärer oder ionischer Form vorliegt.
  3. Verfahren zur Erzeugung einer bakteriziden Schicht auf einem Grundkörper aus Titan oder einer Titanbasislegierung, wobei mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung unter Normaldruckbedingungen eine zinkhaltige Siliziumoxidschicht auf dem Grundkörper erzeugt wird, wobei das eingelagerte Zink in partikulärer oder ionischer Form vorliegt.
  4. Verfahren zur Erzeugung einer bakteriziden Schicht auf einem Grundkörper aus Titan oder einer Titanbasislegierung, wobei mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung unter Normaldruckbedingungen eine bismuthaltige Siliziumoxidschicht auf dem Grundkörper erzeugt wird, wobei das eingelagerte Bismut in partikulärer oder ionischer Form vorliegt.
  5. Verfahren zur Erzeugung einer bakteriziden Schicht auf einem Grundkörper aus Titan oder einer Titanbasislegierung, wobei mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung unter Normaldruckbedingungen eine Siliziumoxidschicht auf dem Grundkörper erzeugt wird, die mindestens zwei der Komponenten Silber, Kupfer, Zink und Bismut enthält, wobei diese Komponenten in partikulärer oder ionischer Form vorliegen.
  6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass vor der plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung eine biologisch degradationsstabile Calciumphosphat-Schicht auf dem Grundkörper, insbesondere mittels plasmachemischer Oxidation abgeschieden wird.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Calciumphosphatschicht in einem elektrochemischen Tauchverfahren mit einem wässrigen Elektrolyt abgeschieden wird, wobei als Elektrolyt eine wässrige Lösung mit den Bestandteilen Calcium-di-Natrium-Ethylendiamintetraessigsäure (C10H12N2O8CaNa2), Ammoniumdihydrogenphosphat (NH4H2PO4), Phosphorsäure (H3PO4), Galliumnitrat-monohydrat (Ga2(NO3)3 × H2O) sowie Ethylendiamin (C2H8N2) verwendet wird.
  8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Grundkörper aus technisch reinem Titan oder einer Titanlegierung mit mindestens 60 Masse-% Titan besteht.
  9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5 dadurch gekennzeichnet, dass statt eines Grundkörpers aus Titan ein Grundkörper aus Metall, insbesondere Chirurgenstahl, Polyethylen, Glas, Keramik oder Textil beschichtet wird.
  10. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Grundkörper teilweise oder vollständig in dem Elektrolyt eingetaucht, anodisch gepolt und mit einer Gleichspannung kleiner oder gleich 500 V elektrochemischen Reaktionen an der Oberfläche unterworfen wird.
  11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Gleichspannung periodisch geändert wird, wobei die Frequenz der periodischen Spannungsänderung gleich oder kleiner 2000 s–1 eingestellt wird.
  12. Implantat, insbesondere Osteosyntheseimplantat oder Dentalimplantat, umfassend einen Grundkörper aus Titan oder einer Titanbasislegierung mit einer nach dem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11 aufgebrachten bakteriziden Schicht.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2955250A1 (de) * 2014-06-13 2015-12-16 Innovent e.V. Verfahren zur beschichtung eines substrats
EP2966196A3 (de) * 2014-06-13 2016-03-09 Innovent e.V. Verfahren zur beschichtung eines substrats
DE102016206006A1 (de) 2016-04-11 2017-10-12 Innovent E.V. Technologieentwicklung Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen
CN109778160A (zh) * 2017-11-14 2019-05-21 中国宝武钢铁集团有限公司 医用镁合金植入体用处理剂及其使用方法
DE102021107153A1 (de) 2021-03-23 2022-09-29 Plasmatreat Gmbh Verfahren zum beschichten einer oberfläche eines substrats mit einer durchgehenden metallschicht
DE102022103854A1 (de) 2022-02-18 2023-08-24 ThiM network factory GmbH Plasmabehandlung vor dem Einfüllen von partikelförmigen Kunststoffpolymeren in das Formwerkzeug

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10353756A1 (de) * 2003-11-17 2005-06-30 Bio-Gate Bioinnovative Materials Gmbh Schichtmaterial
WO2005110626A2 (en) * 2004-05-14 2005-11-24 Dow Corning Ireland Limited Process and apparatus for plasma coating, substrates coated by this metod or apparatus
DE102008001014A1 (de) * 2008-04-04 2009-10-08 Bio-Gate Ag Schichtmaterial
DE102008046198B3 (de) 2008-09-05 2009-11-12 Verein zur Förderung von Innovationen durch Forschung, Entwicklung und Technologietransfer e.V. (Verein INNOVENT e.V.) Implantat und Verfahren zur seiner Herstellung sowie deren Verwendung
DE102008033938A1 (de) * 2008-07-18 2010-01-28 Innovent E.V. Verfahren zur Abscheidung von Schichten auf einem Substrat
WO2012004364A1 (en) * 2010-07-07 2012-01-12 Vlaamse Instelling Voor Technologisch Onderzoek (Vito) Method for depositing a biocidal coating on a substrate

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10353756A1 (de) * 2003-11-17 2005-06-30 Bio-Gate Bioinnovative Materials Gmbh Schichtmaterial
WO2005110626A2 (en) * 2004-05-14 2005-11-24 Dow Corning Ireland Limited Process and apparatus for plasma coating, substrates coated by this metod or apparatus
DE102008001014A1 (de) * 2008-04-04 2009-10-08 Bio-Gate Ag Schichtmaterial
DE102008033938A1 (de) * 2008-07-18 2010-01-28 Innovent E.V. Verfahren zur Abscheidung von Schichten auf einem Substrat
DE102008046198B3 (de) 2008-09-05 2009-11-12 Verein zur Förderung von Innovationen durch Forschung, Entwicklung und Technologietransfer e.V. (Verein INNOVENT e.V.) Implantat und Verfahren zur seiner Herstellung sowie deren Verwendung
WO2012004364A1 (en) * 2010-07-07 2012-01-12 Vlaamse Instelling Voor Technologisch Onderzoek (Vito) Method for depositing a biocidal coating on a substrate

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Schumann, W. (2011), Biotop Mensch, Wir sind besiedelt, Biologie in unserer Zeit, 41: 182-189

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2955250A1 (de) * 2014-06-13 2015-12-16 Innovent e.V. Verfahren zur beschichtung eines substrats
EP2966196A3 (de) * 2014-06-13 2016-03-09 Innovent e.V. Verfahren zur beschichtung eines substrats
DE102016206006A1 (de) 2016-04-11 2017-10-12 Innovent E.V. Technologieentwicklung Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen
EP3231891A1 (de) 2016-04-11 2017-10-18 Innovent e.V. Verfahren zur beschichtung von oberflächen
CN109778160A (zh) * 2017-11-14 2019-05-21 中国宝武钢铁集团有限公司 医用镁合金植入体用处理剂及其使用方法
DE102021107153A1 (de) 2021-03-23 2022-09-29 Plasmatreat Gmbh Verfahren zum beschichten einer oberfläche eines substrats mit einer durchgehenden metallschicht
DE102022103854A1 (de) 2022-02-18 2023-08-24 ThiM network factory GmbH Plasmabehandlung vor dem Einfüllen von partikelförmigen Kunststoffpolymeren in das Formwerkzeug

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