DE102012206545A1

DE102012206545A1 - Optical assembly of optical imaging device used in microlithography for production of microelectronic circuits, has connecting unit with elastic element that generates coordinated supporting force in supported state of lens

Info

Publication number: DE102012206545A1
Application number: DE201210206545
Authority: DE
Inventors: Stefan Schaff; Markus Kern
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2012-04-20
Filing date: 2012-04-20
Publication date: 2013-03-21
Also published as: JP2013225674A; JP2018120234A; JP6305690B2

Abstract

The optical assembly (101.1) has a connecting unit (110.1) for connecting a support portion (104.2) of a lens (104) with a support structure (109). The support structure is supported by a predetermined desired geometry. The connecting unit has an elastic element that generates the coordinated supporting force in the supported state of lens. The maximum angular deviation of a point of the support section of the desired geometry in the supported state in one predetermined portion of the support portion is less than 10 mrad. Independent claims are included for the following: (1) an optical imaging device; (2) a handler for optical module; and (3) a method for connecting the optical module with the supporting structure.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG BACKGROUND OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Anordnung, eine optische Abbildungseinrichtung, die eine solche optische Anordnung umfasst, eine Handhabungseinrichtung bzw. eine Stützstruktur für ein optisches Modul sowie ein Verfahren zum Verbinden eines optischen Moduls mit einer Stützstruktur. Die Erfindung lässt sich im Zusammenhang beliebigen optischen Einrichtungen bzw. optischen Abbildungsverfahren anwenden. Insbesondere lässt sie sich im Zusammenhang mit der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten Mikrolithographie einsetzen. The present invention relates to an optical device, an optical imaging device comprising such an optical device, an optical module supporting structure, and a method of connecting an optical module to a supporting structure. The invention can be used in conjunction with any optical devices or optical imaging methods. In particular, it can be used in conjunction with the microlithography used in the manufacture of microelectronic circuits.

Insbesondere im Bereich der Mikrolithographie ist es neben der Verwendung mit möglichst hoher Präzision ausgeführter Komponenten unter anderem erforderlich, die optischen Module der Abbildungseinrichtung (beispielsweise der Module mit optischen Elementen wie Linsen, Spiegeln oder Gittern) im Betrieb so zu halten, dass sie eine möglichst geringe Abweichung von einer vorgegebenen Sollposition bzw. einer vorgegebenen Sollgeometrie aufweisen, um eine entsprechend hohe Abbildungsqualität zu erzielen (wobei im Sinne der vorliegenden Erfindung der Begriff optisches Modul sowohl optische Elemente alleine als auch Baugruppen aus solchen optischen Elementen und weiteren Komponenten, wie z. B. Fassungsteilen etc., bezeichnen soll). In particular in the field of microlithography, in addition to the use of components with the highest possible precision, it is necessary, inter alia, to keep the optical modules of the imaging device (for example the modules with optical elements such as lenses, mirrors or gratings) in operation in such a way that they have as little as possible Deviation from a predetermined desired position or a predetermined desired geometry to achieve a correspondingly high image quality (in the context of the present invention, the term optical module both optical elements alone and assemblies of such optical elements and other components, such. Fitting parts, etc.).

Im Bereich der Mikrolithographie liegen die Genauigkeitsanforderungen im mikroskopischen Bereich in der Größenordnung weniger Nanometer oder darunter. Sie sind dabei nicht zuletzt eine Folge des ständigen Bedarfs, die Auflösung der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten optischen Systeme zu erhöhen, um die Miniaturisierung der herzustellenden mikroelektronischen Schaltkreise voranzutreiben. Insbesondere bei modernen Lithographiesystemen, die zur Erhöhung der Auflösung mit einer hohen numerischen Apertur arbeiten, wird mit hoch polarisiertem UV Licht gearbeitet, um die Vorteile der hohen numerischen Apertur vollständig ausnutzen zu können. Von besonderer Bedeutung ist hierbei also die Erhaltung der Polarisation des Lichts beim Durchlaufen des optischen Systems. Als besonders problematisch erweist sich hierbei die spannungsinduzierte Doppelbrechung, welche durch Spannungen in den optischen Elementen hervorgerufen wird und einen wesentlichen Anteil am Polarisationsverlust im System trägt. Folglich ist es von erheblicher Bedeutung, in das betreffende optische Modul möglichst wenig unerwünschte Spannungen einzuleiten, um deren negative Auswirkungen auf die Abbildungsqualität so gering wie möglich zu halten. In the field of microlithography, the accuracy requirements in the microscopic range are on the order of a few nanometers or less. Not least of all, they are a consequence of the constant need to increase the resolution of the optical systems used in the manufacture of microelectronic circuits, in order to advance the miniaturization of the microelectronic circuits to be produced. In particular, in modern lithography systems, which work to increase the resolution with a high numerical aperture, work is done with highly polarized UV light in order to fully exploit the advantages of the high numerical aperture. Of particular importance in this case is the preservation of the polarization of the light when passing through the optical system. Particularly problematic here proves the stress-induced birefringence, which is caused by stresses in the optical elements and contributes a significant share of the loss of polarization in the system. Consequently, it is of considerable importance to introduce as little undesired voltages into the relevant optical module as possible in order to minimize their negative effects on the imaging quality.

Ein Problem in diesem Zusammenhang ergibt sich beim Herstellen der Verbindung zwischen dem optischen Modul und der Stützstruktur, welche das optische Modul abstützt. So muss zum einen gewährleistet sein, dass das optische Modul derart abgestützt ist, dass es seinem Sollzustand, mithin also seiner Sollgeometrie, im Betrieb so weit wie möglich entspricht, mithin also möglichst wenig Deformationen und damit Abweichungen von dieser Sollgeometrie erfährt. A problem in this context arises in establishing the connection between the optical module and the support structure which supports the optical module. Thus, on the one hand, it must be ensured that the optical module is supported in such a way that it corresponds as far as possible to its nominal state, ie its desired geometry, during operation, and thus undergoes as few deformations as possible and thus deviations from this desired geometry.

Einen beträchtlichen Einfluss auf dieser Abweichung von der Sollgeometrie hat nicht nur die aktuelle statische und/oder dynamische Belastung des optischen Moduls und die daraus resultierende Deformation des optischen Moduls. Vielmehr können residuelle Deformationen des optischen Moduls auch aus der Deformationshistorie, insbesondere starken Deformationen während der Herstellung der Abbildungseinrichtung, vor allen Dingen während des Transports bis optischen Moduls zum Einsatzort, resultieren. Not only the current static and / or dynamic load of the optical module and the resulting deformation of the optical module have a considerable influence on this deviation from the desired geometry. On the contrary, residual deformations of the optical module can also result from the deformation history, in particular large deformations during the production of the imaging device, above all during transportation to optical module to the place of use.

So können beispielsweise bei einem fertig montierten und vorjustierten Objektiv für eine Mikrolithographieanlage während des Einbaus in die Anlage durch eine ungünstige Belastung und die daraus resultierende Deformation des Objektivs ein oder mehrere Haltestrukturen (beispielsweise für eines oder mehrere der optischen Elemente oder aber auch für ein oder mehrere Messelemente oder dergleichen) im Objektiv irreversibel verschoben oder deformiert werden, sodass die Justage ganz oder teilweise verloren geht (beispielsweise optomechanische Schnittstellen bzw. Referenzen verschoben werden, der nutzbare Bereich von Sensoren und/oder Aktuatoren reduziert werden etc.) bzw. hierdurch zusätzliche Abbildungsfehler induziert werden. For example, in a ready-mounted and pre-adjusted lens for a microlithography during installation in the system by an unfavorable load and the resulting deformation of the lens one or more support structures (for example, for one or more of the optical elements or for one or more Measuring elements or the like) are irreversibly displaced or deformed in the objective, so that the adjustment is completely or partially lost (for example, optomechanical interfaces or references are shifted, the usable range of sensors and / or actuators are reduced, etc.) or induced thereby additional aberrations become.

KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG BRIEF SUMMARY OF THE INVENTION

Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zu Grunde, eine optische Einrichtung, eine optische Abbildungseinrichtung, eine Handhabungseinrichtung bzw. ein Verfahren zum Verbinden eines optischen Moduls mit einer Stützstruktur zur Verfügung zu stellen, welche die oben genannten Nachteile nicht oder zumindest in geringerem Maße aufweisen und insbesondere auf einfache Weise im Einsatz eine hohe Abbildungsqualität gewährleistet. The present invention is therefore based on the object, an optical device, an optical imaging device, a handling device or a method for connecting an optical module with a support structure to provide that do not have the disadvantages mentioned above, or at least to a lesser extent, and especially in a simple way in use ensures a high image quality.

Der vorliegenden Erfindung liegt zum einen die Erkenntnis zu Grunde, dass man eine Reduktion der parasitären Spannungen, welche in das optische Modul aufgrund seiner Abstützung durch die Stützstruktur eingeleitet werden, und damit eine besonders hohe Abbildungsqualität auf einfache Weise dadurch erzielen kann, dass man die bei der Abstützung des optischen Moduls in einen Stützabschnitt des optischen Moduls eingeleiteten Kräfte über eine gezielt eingebrachte Elastizität einer Verbindungseinheit zur Stützstruktur so begrenzt, dass die an dieser Stelle über die eingeleitete Kraft induzierte Spannung und die daraus resultierende Deformation innerhalb vorgegebener Toleranzen liegen. Es hat sich gezeigt, dass die Begrenzung der eingeleiteten Kraft über die gezielte, definierte Elastizität der Verbindungseinheit sehr präzise eingestellt werden kann, sodass sehr enge Toleranzen bei der Einhaltung einer vorgegebenen Sollgeometrie realisiert werden können. Insbesondere sind Positionstoleranzen unterhalb von 1 µm, vorzugsweise unterhalb von 100 nm, weiter vorzugsweise unterhalb von 10 nm, und/oder Winkeltoleranzen unterhalb von 10 mrad realisierbar. On the one hand, the present invention is based on the finding that a reduction of the parasitic voltages which are introduced into the optical module due to its support by the support structure and thus a particularly high imaging quality can be achieved in a simple manner by using the the support of the optical module in a support portion of the optical module introduced forces over a specifically introduced elasticity of a connection unit to the support structure limited so that the voltage induced at this point on the introduced force and the resulting deformation are within predetermined tolerances. It has been shown that the limitation of the introduced force can be set very precisely via the targeted, defined elasticity of the connection unit, so that very narrow tolerances can be achieved in the maintenance of a predetermined desired geometry. In particular, positional tolerances below 1 μm, preferably below 100 nm, more preferably below 10 nm, and / or angle tolerances below 10 mrad can be realized.

Für die Winkeltoleranzen gilt dabei in guter Näherung, dass sie sich gegebenenfalls auch aus den zulässigen Positionstoleranzen ergeben. Liegen beispielsweise an zwei benachbarten, um einen Abstand L beabstandeten Stützpunkten gegenläufige maximale Positionsabweichungen DPmax von der Sollgeometrie vor (d.h. an dem einen Stützpunkt eine positive maximale Abweichung DPmax und an dem anderen Stützpunkt eine negative maximale Abweichung –DPmax), dann bestimmt sich die maximale Winkelabweichung DWmax in guter Näherung (in rad) zu DWmax = tan^–1( 2·DPmax / L) ≈ 2·DPmax / L[rad]. (1) For the angular tolerances applies to a good approximation that they possibly result from the permissible position tolerances. For example, if there are opposite maximum position deviations DPmax from the desired geometry at two neighboring interpolation points spaced apart from one another (ie at one interpolation point a positive maximum deviation DPmax and at the other interpolation point a negative maximum deviation -DPmax), then the maximum angular deviation is determined DWmax in a good approximation (in rad) too DWmax = tan ^-1 (2 * DPmax / L) ≈ 2 * DPmax / L [rad]. (1)

Für die oben genannten Positionstoleranzen ergeben sich daher Winkeltoleranzen unterhalb von 2·10^–6 m/L[m] (bei DPmax = 1 µm) bzw. unterhalb von 2·10^–7 m/L[m] (bei DPmax = 100 nm) bzw. unterhalb von 2·10^–8 m/L[m] (bei DPmax = 10 nm). For the above-mentioned position tolerances, therefore, angle tolerances result below 2 × 10 ^-6 m / L [m] (at DPmax = 1 μm) or below 2 × 10 ^-7 m / L [m] (at DPmax = 100 nm ) or below 2 · 10 ^-8 m / L [m] (at DPmax = 10 nm).

In Abhängigkeit von der Geometrie und Massenverteilung des optischen Moduls können die jeweiligen Stützkräfte der einzelnen Verbindungseinheiten angepasst werden. Dabei kann zunächst mit einer oder mehreren, gegebenenfalls auch nicht veränderbaren bzw. nicht mit einer entsprechenden Elastizität versehenen Verbindungseinheiten begonnen werden und eine oder mehrere Verbindungseinheiten an diese vorgegebene Verbindungseinheit angepasst werden. Ebenso können natürlich auch sämtliche Verbindungseinheiten über derartige definierte Elastizitäten entsprechend angepasst werden. Es versteht sich hierbei, dass die Anpassung der Elastizitäten der einzelnen Verbindungseinheiten auf der Basis eines entsprechenden, vorab ermittelten rechnerischen Modells des optischen Moduls erfolgen kann. Zusätzlich oder alternativ kann aber auch ein zumindest teilweise experimenteller bzw. empirischer Ansatz gewählt werden. Insbesondere versteht es sich, dass für die Anpassung ein iterativer Prozess durchgeführt werden kann, bei dem die Anpassung der Elastizität zumindest einzelner Verbindungselemente mehrfach erfolgt. Depending on the geometry and mass distribution of the optical module, the respective support forces of the individual connection units can be adapted. In this case, it is initially possible to start with one or more connecting units, which may also not be changeable or not provided with a corresponding elasticity, and to adapt one or more connecting units to this predetermined connecting unit. Likewise, of course, all connection units can be adjusted accordingly via such defined elasticities. It goes without saying that the adaptation of the elasticities of the individual connection units can be carried out on the basis of a corresponding, predefined, calculated model of the optical module. Additionally or alternatively, however, an at least partially experimental or empirical approach can also be chosen. In particular, it is understood that an iterative process can be carried out for the adaptation in which the adaptation of the elasticity of at least individual connecting elements takes place several times.

Die Anpassung kann derart erfolgen, dass die Einhaltung der vorgegebenen Toleranzen für die Deformationen nur auf kritische bzw. sensitive Teilbereiche des optischen Moduls beschränkt wird, welche einen nennenswerten Einfluss auf die erzielbare Abbildungsqualität haben. Andere Bereiche des optischen Moduls können daher gegebenenfalls insoweit vernachlässigt werden. Es ist natürlich auch möglich, die vorgegebenen Toleranzen ohne Unterschied über den gesamten Stützabschnitt einzuhalten. The adaptation can be carried out in such a way that compliance with the given tolerances for the deformations is limited only to critical or sensitive subregions of the optical module, which have a significant influence on the achievable imaging quality. Other areas of the optical module may therefore possibly be neglected to that extent. It is of course also possible to comply with the specified tolerances without distinction over the entire support section.

Gemäß einem ersten Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung daher eine optische Anordnung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem optischen Modul, und einer Verbindungseinrichtung, wobei die Verbindungseinrichtung eine Mehrzahl von Verbindungseinheiten zum Verbinden eines Stützabschnittes des optischen Moduls mit einer Stützstruktur umfasst. Jede Verbindungseinheit ist dazu ausgebildet, zum Abstützen des optischen Moduls an einer vorgebbaren Position der Stützstruktur eine Stützkraft auf den Stützabschnitt auszuüben. Der Stützabschnitt weist dabei in dem durch die Stützstruktur abgestützten Zustand eine vorgegebbare Sollgeometrie auf. Wenigstens eine Verbindungseinheit umfasst wenigstens ein elastisches Element, wobei die wenigstens eine Verbindungseinheit in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine abgestimmte Stützkraft erzeugt. Die abgestimmte Stützkraft der wenigstens einen Verbindungseinheit ist mittels des wenigstens einen elastischen Elements derart auf die Stützkraft der übrigen Verbindungseinheiten der Verbindungseinrichtung abgestimmt, dass eine deformationsbedingte maximale Positionsabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 1 µm vorzugsweise weniger als 100 nm, weiter vorzugsweise weniger als 10 nm, beträgt. Zusätzlich oder alternativ beträgt eine maximale Winkelabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 10 mrad vorzugsweise weniger als 5 mrad, weiter vorzugsweise weniger als 2 mrad. According to a first aspect, the present invention therefore relates to an optical arrangement, in particular for microlithography, with an optical module, and a connection device, wherein the connection device comprises a plurality of connection units for connecting a support section of the optical module to a support structure. Each connection unit is designed to exert a supporting force on the support section for supporting the optical module at a predeterminable position of the support structure. In this case, the support section has a predefinable setpoint geometry in the state supported by the support structure. At least one connection unit comprises at least one elastic element, wherein the at least one connection unit generates a coordinated support force in the supported state of the optical module. The coordinated supporting force of the at least one connecting unit is matched to the supporting force of the other connecting units of the connecting device by means of the at least one elastic element such that a deformation-induced maximum positional deviation of a point of the supporting section from the desired geometry in the supported state in at least one predeterminable section of the supporting section is less than 1 μm, preferably less than 100 nm, more preferably less than 10 nm. Additionally or alternatively, a maximum angular deviation of a point of the support section from the desired geometry in the supported state in at least one predeterminable section of the support section is less than 10 mrad, preferably less than 5 mrad, more preferably less than 2 mrad.

Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung eine Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einer Beleuchtungseinrichtung, einer Maskeneinrichtung zur Aufnahme einer ein Projektionsmuster umfassenden Maske, einer Projektionseinrichtung mit einer eine Mehrzahl optischer Elemente umfassenden optischen Elementgruppe und einer Substrateinrichtung zur Aufnahme eines Substrats. Die Beleuchtungseinrichtung ist zum Beleuchten des Projektionsmusters ausgebildet, während die optische Elementgruppe zum Abbilden des Projektionsmusters auf dem Substrat ausgebildet ist. Die Projektionseinrichtung umfasst ein die optische Elementgruppe umfassendes optisches Modul, eine Stützstruktur und eine Verbindungseinrichtung, wobei die Verbindungseinrichtung eine Mehrzahl von Verbindungseinheiten zum Verbinden eines Stützabschnittes des optischen Moduls mit einer Stützstruktur umfasst. Jede Verbindungseinheit ist dazu ausgebildet, zum Abstützen des optischen Moduls an einer vorgebbaren Position der Stützstruktur eine Stützkraft auf den Stützabschnitt auszuüben, wobei der Stützabschnitt in dem durch die Stützstruktur abgestützten Zustand eine vorgegebbare Sollgeometrie aufweist. Wenigstens eine Verbindungseinheit umfasst wenigstens ein elastisches Element, wobei die wenigstens eine Verbindungseinheit in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine abgestimmte Stützkraft erzeugt. Die abgestimmte Stützkraft der wenigstens einen Verbindungseinheit ist mittels des wenigstens einen elastischen Elements derart auf die Stützkraft der übrigen Verbindungseinheiten der Verbindungseinrichtung abgestimmt, dass eine deformationsbedingte maximale Positionsabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 1 µm vorzugsweise weniger als 100 nm, weiter vorzugsweise weniger als 10 nm, beträgt. Zusätzlich oder alternativ beträgt maximale Winkelabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 10 mrad vorzugsweise weniger als 5 mrad, weiter vorzugsweise weniger als 2 mrad. According to a further aspect, the present invention relates to an imaging device, in particular for microlithography, with a lighting device, a mask device for receiving a mask comprising a projection pattern, a projection device with an optical element group comprising a plurality of optical elements and a substrate device for receiving a substrate. The illumination device is designed to illuminate the projection pattern, while the optical element group for imaging the projection pattern on the Substrate is formed. The projection device comprises an optical module comprising the optical element group, a support structure and a connection device, wherein the connection device comprises a plurality of connection units for connecting a support section of the optical module to a support structure. Each connection unit is designed to exert a supporting force on the support section for supporting the optical module at a predeterminable position of the support structure, wherein the support section has a predefinable desired geometry in the state supported by the support structure. At least one connection unit comprises at least one elastic element, wherein the at least one connection unit generates a coordinated support force in the supported state of the optical module. The coordinated supporting force of the at least one connecting unit is matched to the supporting force of the other connecting units of the connecting device by means of the at least one elastic element such that a deformation-induced maximum positional deviation of a point of the supporting section from the desired geometry in the supported state in at least one predeterminable section of the supporting section is less than 1 μm, preferably less than 100 nm, more preferably less than 10 nm. Additionally or alternatively, the maximum angular deviation of a point of the support section from the desired geometry in the supported state in at least one predeterminable section of the support section is less than 10 mrad, preferably less than 5 mrad, more preferably less than 2 mrad.

Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung eine Handhabungseinrichtung für ein optisches Modul, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einer Stützstruktur und einer Verbindungseinrichtung, wobei die Verbindungseinrichtung eine Mehrzahl von Verbindungseinheiten zum Verbinden eines Stützabschnittes des optischen Moduls mit der Stützstruktur umfasst. Jede Verbindungseinheit ist dazu ausgebildet, zum Abstützen des optischen Moduls an einer vorgebbaren Position der Stützstruktur eine Stützkraft auf den Stützabschnitt auszuüben, wobei der Stützabschnitt in dem durch die Stützstruktur abgestützten Zustand eine vorgegebbare Sollgeometrie aufweist. Wenigstens eine Verbindungseinheit umfasst wenigstens ein elastisches Element, wobei die wenigstens eine Verbindungseinheit in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine abgestimmte Stützkraft erzeugt. Die abgestimmte Stützkraft der wenigstens einen Verbindungseinheit ist mittels des wenigstens einen elastischen Elements derart auf die Stützkraft der übrigen Verbindungseinheiten der Verbindungseinrichtung abgestimmt, dass eine deformationsbedingte maximale Positionsabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 1 µm vorzugsweise weniger als 100 nm, weiter vorzugsweise weniger als 10 nm, beträgt. Zusätzlich oder alternativ beträgt eine maximale Winkelabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 10 mrad vorzugsweise weniger als 5 mrad, weiter vorzugsweise weniger als 2 mrad. According to a further aspect, the present invention relates to a handling device for an optical module, in particular for microlithography, having a support structure and a connection device, wherein the connection device comprises a plurality of connection units for connecting a support section of the optical module to the support structure. Each connection unit is designed to exert a supporting force on the support section for supporting the optical module at a predeterminable position of the support structure, wherein the support section has a predefinable desired geometry in the state supported by the support structure. At least one connection unit comprises at least one elastic element, wherein the at least one connection unit generates a coordinated support force in the supported state of the optical module. The coordinated supporting force of the at least one connecting unit is matched to the supporting force of the other connecting units of the connecting device by means of the at least one elastic element such that a deformation-induced maximum positional deviation of a point of the supporting section from the desired geometry in the supported state in at least one predeterminable section of the supporting section is less than 1 μm, preferably less than 100 nm, more preferably less than 10 nm. Additionally or alternatively, a maximum angular deviation of a point of the support section from the desired geometry in the supported state in at least one predeterminable section of the support section is less than 10 mrad, preferably less than 5 mrad, more preferably less than 2 mrad.

Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Verbinden eines optischen Moduls mit einer Stützstruktur, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem das optische Modul über eine Mehrzahl von Verbindungseinheiten einer Verbindungseinrichtung mit der Stützstruktur verbunden wird, und jede Verbindungseinheit zum Abstützen des optischen Moduls an einer vorgebbaren Position der Stützstruktur eine Stützkraft auf den Stützabschnitt ausübt, wobei der Stützabschnitt in dem durch die Stützstruktur abgestützten Zustand eine vorgegebbare Sollgeometrie aufweist. Wenigstens eine Verbindungseinheit umfasst wenigstens ein elastisches Element, wobei die wenigstens eine Verbindungseinheit in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine abgestimmte Stützkraft erzeugt. Die abgestimmte Stützkraft der wenigstens einen Verbindungseinheit wird vorab mittels des wenigstens einen elastischen Elements derart auf die Stützkraft der übrigen Verbindungseinheiten der Verbindungseinrichtung abgestimmt, dass eine deformationsbedingte maximale Positionsabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 1 µm vorzugsweise weniger als 100 nm, weiter vorzugsweise weniger als 10 nm, beträgt. Zusätzlich oder alternativ beträgt eine maximale Winkelabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 10 mrad vorzugsweise weniger als 5 mrad, weiter vorzugsweise weniger als 2 mrad. According to a further aspect, the present invention relates to a method for connecting an optical module to a support structure, in particular for microlithography, in which the optical module is connected to the support structure via a plurality of connection units of a connection device, and each connection unit for supporting the optical module at a predeterminable position of the support structure exerts a supporting force on the support portion, wherein the support portion in the supported state by the support structure has a predetermined desired geometry. At least one connection unit comprises at least one elastic element, wherein the at least one connection unit generates a coordinated support force in the supported state of the optical module. The coordinated supporting force of the at least one connecting unit is adjusted in advance by means of the at least one elastic element to the supporting force of the other connecting units of the connecting device such that a deformation-induced maximum positional deviation of a point of the supporting section from the desired geometry in the supported state in at least one predeterminable section of the support section less preferably less than 100 nm, more preferably less than 10 nm. Additionally or alternatively, a maximum angular deviation of a point of the support section from the desired geometry in the supported state in at least one predeterminable section of the support section is less than 10 mrad, preferably less than 5 mrad, more preferably less than 2 mrad.

Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung eine optische Anordnung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem optischen Modul, und einer Verbindungseinrichtung, wobei die Verbindungseinrichtung eine Mehrzahl von entlang einer Längsachse langgestreckten Verbindungseinheiten zum Verbinden eines Stützabschnittes des optischen Moduls mit einer Stützstruktur umfasst. Jede Verbindungseinheit dazu ausgebildet ist, zum Abstützen des optischen Moduls an einer vorgebbaren Position der Stützstruktur eine Stützkraft auf den Stützabschnitt auszuüben. Wenigstens eine Verbindungseinheit umfasst wenigstens einen ersten Verbindungsabschnitt mit einer ersten Steifigkeit entlang der Längsachse und einen zweiten Verbindungsabschnitt mit einer zweiten Steifigkeit entlang der Längsachse, wobei die erste Steifigkeit geringer ist als die zweite Steifigkeit. Die erste Steifigkeit beträgt zur Begrenzung der Stützkraft auf einem vorgebbaren Wert insbesondere weniger als 50% der zweiten Steifigkeit vorzugsweise weniger als 30% der zweiten Steifigkeit, weiter vorzugsweise weniger als 10% der zweiten Steifigkeit. According to a further aspect, the present invention relates to an optical arrangement, in particular for microlithography, with an optical module, and a connecting device, wherein the connecting device comprises a plurality of elongated longitudinal axis connecting units for connecting a support portion of the optical module with a support structure. Each connection unit is designed to exert a supporting force on the support section for supporting the optical module at a predeterminable position of the support structure. At least one connection unit comprises at least a first connection portion with a first rigidity along the longitudinal axis and a second connecting portion having a second stiffness along the longitudinal axis, wherein the first stiffness is less than the second stiffness. The first rigidity is preferably less than 30% of the second rigidity, more preferably less than 10% of the second rigidity, for limiting the support force to a predeterminable value, in particular less than 50% of the second rigidity.

Hiermit ist es ein besonders vorteilhafter Weise möglich, die oben beschriebene Begrenzung der bei der Abstützung eingeleiteten Stützkraft und damit der Deformation des optischen Moduls zu erzielen. Hereby, it is a particularly advantageous manner possible to achieve the above-described limitation of the introduced during the support force support and thus the deformation of the optical module.

Weitere bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen bzw. der nachstehenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele, welche auf die beigefügten Zeichnungen Bezug nimmt. Further preferred embodiments of the invention will become apparent from the dependent claims and the following description of preferred embodiments, which refers to the accompanying drawings.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

1 ist eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung, die eine erfindungsgemäße optische Anordnung umfasst und mit der sich eine bevorzugte Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Verfahrens zum Verbinden zweier Komponenten einer optischen Einrichtung durchführen lässt; 1 is a schematic representation of a preferred embodiment of the optical imaging device according to the invention, comprising an optical arrangement according to the invention and with which a preferred embodiment of a method according to the invention for connecting two components of an optical device can be carried out;

2 ist eine schematische Darstellung eines Teils der Abbildungseinrichtung aus 1 in einem Handhabungszustand unter Verwendung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Handhabungseinrichtung; 2 is a schematic representation of a part of the imaging device 1 in a handling state using a preferred embodiment of the handling device according to the invention;

3 ist eine schematische perspektivische Darstellung eines Teils der Abbildungseinrichtung aus 1; 3 is a schematic perspective view of a part of the imaging device 1 ;

4 ist ein Blockdiagramm einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Verbinden zweier Komponenten einer optischen Einrichtung, welches sich mit der optischen Einrichtung aus 1 durchführen lässt; 4 is a block diagram of a preferred embodiment of the method according to the invention for connecting two components of an optical device, which with the optical device of 1 can be carried out;

5 ist eine schematische Darstellung einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Abbildungseinrichtung. 5 is a schematic representation of another preferred embodiment of the imaging device according to the invention.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

Erstes Ausführungsbeispiel First embodiment

Unter Bezugnahme auf die 1 bis 4 wird im Folgenden eine bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Anordnung beschrieben, welche in einer erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung 101 für die Mikrolithographie zum Einsatz kommt. With reference to the 1 to 4 In the following, a preferred embodiment of the optical arrangement according to the invention will be described, which in an optical imaging device according to the invention 101 used for microlithography.

Zur Vereinfachung der Darstellung wird dabei auf das in den 1 bis 3 dargestellte xyz-Koordinatensystem Bezug genommen, wobei angenommen wird, dass die Gravitationskraft parallel zur z-Achse bewirkt. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung gegebenenfalls auch eine andere Ausrichtung der Komponenten der Abbildungseinrichtung 101 gegeben sein kann. To simplify the presentation is on the in the 1 to 3 illustrated xyz coordinate system, wherein it is assumed that the gravitational force causes parallel to the z-axis. It is understood, however, that in other variants of the invention optionally also a different orientation of the components of the imaging device 101 can be given.

1 zeigt eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung in Form einer Mikrolithographieeinrichtung 101, die mit Licht im UV-Bereich mit einer Wellenlänge von 193 nm arbeitet. 1 shows a schematic representation of a preferred embodiment of the optical imaging device according to the invention in the form of a microlithography device 101 , which works with light in the UV range with a wavelength of 193 nm.

Die Mikrolithographieeinrichtung 101 umfasst ein Beleuchtungssystem 102, eine Maskeneinrichtung in Form eines Maskentisches 103, ein optisches Projektionssystem in Form eines Objektivs 104 mit einer (in z-Richtung verlaufenden) optischen Achse 104.1 und eine Substrateinrichtung in Form eines Wafertischs 105. Das Beleuchtungssystem 102 beleuchtet eine auf dem Maskentisch 103 angeordnete Maske 103.1 mit einem (nicht näher dargestellten) Projektionslichtbündel der Wellenlänge 193 nm. Auf der Maske 103.1 befindet sich ein Projektionsmuster, welches mit dem Projektionslichtbündel über die im Objektiv 104 angeordneten optischen Elemente auf ein Substrat in Form eines Wafers 105.1 projiziert wird, der auf dem Wafertisch 105 angeordnet ist. The microlithography device 101 includes a lighting system 102 , a mask device in the form of a mask table 103 , an optical projection system in the form of a lens 104 with an optical axis (running in the z-direction) 104.1 and a substrate means in the form of a wafer table 105 , The lighting system 102 one lights up on the mask table 103 arranged mask 103.1 with a (not shown) projection light beam of wavelength 193 nm. On the mask 103.1 There is a projection pattern, which with the projection light bundle on the in the lens 104 arranged optical elements on a substrate in the form of a wafer 105.1 projected on the wafer table 105 is arranged.

Das Beleuchtungssystem 102 umfasst neben einer – nicht dargestellten – Lichtquelle eine erste Gruppe 106 von optisch wirksamen Komponenten, die unter anderem ein optisches Element 106.1 umfasst. Das Objektiv 104 umfasst eine zweite Gruppe 107 von optisch wirksamen Komponenten, die unter anderem eine Reihe von optischen Elementen, beispielsweise das optische Element 107.1 umfasst. Die optisch wirksamen Komponenten der zweiten Gruppe 107 werden im Gehäuse 104.2 des Objektivs 104 gehalten. Wegen der Arbeitswellenlänge von 193 nm kann es sich bei dem optischen Element 106.1 bzw. 107.1 jeweils um ein refraktives optisches Element handeln, also eine Linse oder dergleichen. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch beliebige andere optische Elemente, beispielsweise reflektive oder diffraktive optische Elemente zum Einsatz kommen können. Ebenso können natürlich auch beliebige Kombinationen solcher optischer Elemente zum Einsatz kommen. Insbesondere beim Einsatz der vorliegenden Erfindungen im so genannten extremen UV Bereich (EUV) bei Wellenlängen zwischen 5 nm und 20 nm (typischerweise etwa 13 nm) kommen ausschließlich reflektive optische Elemente zum Einsatz. The lighting system 102 includes next to a - not shown - light source a first group 106 of optically active components, including an optical element 106.1 includes. The objective 104 includes a second group 107 of optically active components which, inter alia, a number of optical elements, such as the optical element 107.1 includes. The optically active components of the second group 107 be in the case 104.2 of the lens 104 held. Because of the working wavelength of 193 nm, the optical element may be 106.1 respectively. 107.1 each act on a refractive optical element, so a lens or the like. It is understood, however, that in other variants of the invention, any other optical elements, such as reflective or diffractive optical elements can be used. Likewise, of course, any combination of such optical elements can be used. In particular, when using the present inventions in the so-called extreme UV range (EUV) at wavelengths between 5 nm and 20 nm (typically about 13 nm) only reflective optical elements are used.

Das Objektiv 104 ist über eine hängende Verbindungseinrichtung 108 mit einer Stützstruktur 109 verbunden und so an dieser Stützstruktur 109 abgestützt, wobei zumindest das Objektiv 104 und die Verbindungseinrichtung 108 Bestandteile einer optischen Einrichtung 101.1 im Sinne der vorliegenden Erfindung sind. The objective 104 is via a hanging connection device 108 with a support structure 109 connected and so on this support structure 109 supported, wherein at least the lens 104 and the connection device 108 Components of an optical device 101.1 in the sense of the present invention.

Die Verbindungseinrichtung 108 fixiert das Objektiv 104 bezüglich der Stützstruktur 109 und leitet die Gewichtskraft G des Objektivs 104 in die Stützstruktur 109 ein. Die Verbindungseinrichtung 108 umfasst hierzu eine Mehrzahl in Umfangsrichtung U des Objektivs 104 verteilte Verbindungseinheiten 110.1 bis 110.6, die an einem Stützabschnitt 104.3 des Objektivgehäuses 104.2 angreifen und auf diesem jeweils eine Stützkraft FS1 bis FS6 ausüben. The connection device 108 fixes the lens 104 concerning the support structure 109 and directs the weight G of the lens 104 in the support structure 109 one. The connection device 108 for this purpose comprises a plurality in the circumferential direction U of the objective 104 distributed connection units 110.1 to 110.6 standing at a support section 104.3 of the lens housing 104.2 attack and exert on this one support force FS1 to FS6.

Im vorliegenden Beispiel sind sechs Verbindungseinheiten 110.1 bis 110.6 vorgesehen, es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere geeignete Zahl von Verbindungseinheiten vorgesehen sein kann. Es können bei geeigneter Massenverteilung und Position des Stützabschnitts gegebenenfalls sogar lediglich zwei Verbindungseinheiten ausreichen. Typischerweise sind jedoch mindestens drei Verbindungseinheiten vorgesehen, wobei mit der vorliegenden Erfindung mit Erhöhung der Anzahl der Stützstellen auch eine gleichmäßigere Einleitung der Stützkräfte FSi in den Stützabschnitt 104.3 erzielt wird. Besonders vorteilhafte Gestaltungen ergeben sich, wenn wenigstens sechs Verbindungseinheiten, vorzugsweise wenigstens neun Verbindungseinheiten vorgesehen sind. In the present example, six connection units 110.1 to 110.6 However, it is understood that in other variants of the invention, any other suitable number of connection units can be provided. With a suitable mass distribution and position of the support section, it may even be sufficient to have only two connection units. Typically, however, at least three connection units are provided, and with the present invention with an increase in the number of support points, a more uniform introduction of the support forces FSi into the support section 104.3 is achieved. Particularly advantageous designs result if at least six connection units, preferably at least nine connection units, are provided.

In 3 ist durch die gestrichelte Kontur 104.4 ein Zustand des Stützabschnitts angedeutet, wie er sich bei einer konventionellen Abstützung des Objektivs über drei im Wesentlichen starre Verbindungseinheiten (im Bereich der Stützstellen der Verbindungseinheiten 110.1, 110.3 und 110.5) ergäbe. Wie anhand der Kontur 104.4 deutlich wird, ergibt sich hierbei eine erhebliche Deformation des Stützabschnitts 104.4 zwischen den drei Stützstellen, sodass dieser erheblich von seiner in 3 durch die Kontur 104.3 dargestellten Sollgeometrie abweicht. Eine solche Abstützung hat die eingangs erwähnte, teils irreversible Verschiebung von Komponenten des Objektivs 104 und/oder die irreversible Einbringung parasitärer Spannungen in das Objektiv 104 zur Folge. In 3 is through the dashed outline 104.4 a state of the support portion indicated, as it is in a conventional support of the lens via three substantially rigid connection units (in the region of the support points of the connection units 110.1 . 110.3 and 110.5 ). Like the contour 104.4 becomes clear, this results in a significant deformation of the support section 104.4 between the three interpolation points, so that this is considerably different from his in 3 through the contour 104.3 deviates shown target geometry. Such a support has the initially mentioned, partly irreversible displacement of components of the objective 104 and / or the irreversible introduction of parasitic voltages into the objective 104 result.

Um diesem Umstand entgegenzuwirken, werden in den Stützabschnitt 104.3 über eine Mehrzahl von Verbindungseinheiten 110.1 bis 110.6 eine Vielzahl von Stützkräften FSi eingeleitet, wobei gemäß der vorliegenden Erfindung der Betrag der in den Stützabschnitt 104.3 eingeleiteten Stützkräfte FSi über eine gezielt eingebrachte Elastizität der jeweiligen Verbindungseinheit 110.1 bis 110.6 so begrenzt wird, dass die an der betreffenden Schnittstelle über die eingeleitete Stützkraft FSi induzierte Spannung und die daraus resultierende Deformation innerhalb einer vorgegebenen Toleranz liegt. To counter this fact, be in the support section 104.3 via a plurality of connection units 110.1 to 110.6 initiated a plurality of supporting forces FSi, according to the present invention, the amount of the support portion 104.3 initiated support forces FSi via a specifically introduced elasticity of the respective connection unit 110.1 to 110.6 is limited so that the voltage induced at the relevant interface on the introduced support force FSi and the resulting deformation is within a predetermined tolerance.

Im vorliegenden Beispiel kann, wie nachfolgend im Detail erläutert wird, die Begrenzung der eingeleiteten Stützkraft FSi über die gezielte, definierte Elastizität der betreffenden Verbindungseinheit 110.1 bis 110.6 so präzise eingestellt werden kann, dass zumindest in vorgegebenen Teilabschnitten 104.5 des Stützabschnitts 104.3 Positionstoleranzen unterhalb von 10 nm sowie Winkeltoleranzen unterhalb von 10 mrad realisiert werden. Auch hier gilt im Übrigen natürlich gegebenenfalls der oben im Kontext der Gleichung (1) beschriebene Zusammenhang zwischen den Positionstoleranzen und den Winkeltoleranzen. Mit anderen Worten wird im vorliegenden Beispiel erreicht, dass die maximale Positionsabweichung irgendeines Punktes dieses Teilabschnitts 104.5 in dem in 1 dargestellten abgestützten Zustand des Objektivs 104 von seiner Sollposition weniger als die angegebenen 10 nm beträgt. Ebenso wird erreicht, dass die die maximale Winkelabweichung des Stützabschnitts 104.3 im Bereich irgendeines Punktes dieses Teilabschnitts 104.5 in dem in 1 dargestellten abgestützten Zustand des Objektivs 104 von seiner Sollorientierung weniger als die angegebenen 10 mrad beträgt. In the present example, as will be explained in detail below, the limitation of the introduced support force FSi on the targeted, defined elasticity of the respective connection unit 110.1 to 110.6 can be set so precisely that, at least in predetermined subsections 104.5 of the support section 104.3 Position tolerances below 10 nm and angle tolerances below 10 mrad can be realized. Of course, the relationship between the position tolerances and the angular tolerances described above in the context of equation (1) also applies, of course. In other words, in the present example it is achieved that the maximum positional deviation of any point of this subsection 104.5 in the 1 illustrated supported state of the lens 104 from its nominal position is less than the specified 10 nm. It is also achieved that the maximum angular deviation of the support section 104.3 in the scope of any point of this subsection 104.5 in the 1 illustrated supported state of the lens 104 from its nominal orientation is less than the specified 10 mrad.

Die Verbindungseinheiten 110.1 bis 110.6 sind hierzu im vorliegenden Beispiel grundsätzlich identisch aufgebaut, sodass dieser generelle Aufbau im Folgenden exemplarisch anhand einer ersten Verbindungseinheit 110.1 beschrieben wird. Wie insbesondere den 1 und 3 zu entnehmen ist, ist die Verbindungseinheit als langgestrecktes Verbindungselement 110.1 aufgebaut, welches mit seinem oberen Ende an der Stützstruktur 109 angebunden ist, während sein unteres Ende an der zugeordneten Stützstelle am Stützabschnitt 104.3 angreift. Die Verbindungseinheit 110.1 umfasst einen (entlang seiner Längsachse) im Wesentlichen mittig angeordneten elastischen ersten erster Verbindungsabschnitt 111.1, an den unterhalb ein im Wesentlichen starrer zweiter Verbindungsabschnitt 112.1 sowie oberhalb ein ebenfalls im Wesentlichen starrer dritter Verbindungsabschnitt 113.1 anschließt. The connection units 110.1 to 110.6 For this purpose, in the present example, they are basically constructed identically, so that this general structure will be described below by way of example with reference to a first connection unit 110.1 is described. As in particular the 1 and 3 it can be seen, the connection unit as an elongated connection element 110.1 built, which with its upper end to the support structure 109 is tethered while its lower end at the associated support point on the support section 104.3 attacks. The connection unit 110.1 comprises a resilient first first connecting portion (substantially along its longitudinal axis) 111.1 to the below a substantially rigid second connecting portion 112.1 and above a likewise substantially rigid third connecting portion 113.1 followed.

Entlang der Längsachse der Verbindungseinheit 110.1 weist der erste Verbindungsabschnitt 111.1 eine erste Steifigkeit R1 sowie eine erste effektive Länge LE1 auf, während der zweite Verbindungsabschnitt 112.1 eine zweite Steifigkeit R2 und der dritte Verbindungsabschnitt 113.1 eine dritte Steifigkeit R3 aufweisen. Im vorliegenden Beispiel sind die zweite und dritte Steifigkeit im Wesentlichen identisch (R2 = R3), es versteht sich jedoch, dass diese beiden Steifigkeiten bei anderen Varianten der Erfindung auch voneinander abweichen können. Along the longitudinal axis of the connection unit 110.1 has the first connection section 111.1 a first rigidity R1 and a first effective length LE1, while the second connecting portion 112.1 a second rigidity R2 and the third connecting portion 113.1 have a third stiffness R3. In the present example, the second and third stiffnesses are substantially identical (R2 = R3), it is understood, however, that these two stiffnesses may differ from each other in other variants of the invention.

Um die von der ersten Verbindungseinheit 110.1 auf den Stützabschnitt 104.3 ausgeübte Stützkraft FS1 einfach auf ein vorgegebenes Maß zu begrenzen, ist die erste Steifigkeit R1 zum einen deutlich geringer gewählt als geringer ist als die zweite Steifigkeit R2, wobei im vorliegenden Beispiel die erste Steifigkeit zur Begrenzung der Stützkraft FS1 weniger als 15% der zweiten Steifigkeit beträgt. Bei anderen Varianten der Erfindung kann jedoch vorgesehen sein, dass die erste Steifigkeit weniger als 50%, vorzugsweise weniger als 30% der zweiten Steifigkeit, weiter vorzugsweise weniger als 10% der zweiten Steifigkeit, beträgt. To that of the first connection unit 110.1 on the support section 104.3 is simply set to a predetermined level, the first stiffness R1 is chosen to be significantly lower than the lower than the second stiffness R2, wherein in the present example the first stiffness for limiting the supporting force FS1 is less than 15% of the second stiffness , In other variants of the invention, however, it may be provided that the first stiffness is less than 50%, preferably less than 30% of the second stiffness, more preferably less than 10% of the second stiffness.

Die erste Steifigkeit R1 des ersten Verbindungsabschnitts 111.1 sowie die erste effektive Länge LE1 des ersten Verbindungsabschnitts 111.1 ist weiterhin auf die erste Stützkraft FS1 abgestimmt, welche an dem Kraftangriffspunkt der ersten Verbindungseinheit 110.1 an dem Stützabschnitt 104.3 wirken muss, um die Deformation des Stützabschnitts 104.3 in seinem an die Verbindungseinheit 110.1 angrenzenden Teilabschnitt 104.5 des Stützabschnitts 104.3 auf einem vorgegebenen Wert zu halten. The first rigidity R1 of the first connecting portion 111.1 and the first effective length LE1 of the first connection portion 111.1 is further tuned to the first support force FS1, which at the force application point of the first connection unit 110.1 on the support section 104.3 must act to the deformation of the support section 104.3 in his to the connection unit 110.1 adjacent section 104.5 of the support section 104.3 to keep to a predetermined value.

Die abgestimmte Stützkraft FSi für den jeweiligen Kraftangriffspunkt an dem Stützabschnitt 104.3, welche für die Einhaltung der oben genannten Positionstoleranzen und Winkeltoleranzen erforderlich ist, lässt sich anhand der geometrischen Gegebenheiten des Objektivs 104, der Steifigkeitsverteilung des Objektivs 104 und der Massenverteilung im Objektiv 104 ermitteln. Dies kann beispielsweise anhand eines vorab ermittelten mechanischen Modells des Objektivs 104 rein rechnerisch erfolgen. Ebenso können natürlich auch empirische Verfahren sowie eine Kombination solcher rechnerischer und empirischer Verfahren angewendet werden. The matched support force FSi for the respective point of force application on the support section 104.3 , which is required for compliance with the above position tolerances and angle tolerances can be based on the geometric conditions of the lens 104 , the stiffness distribution of the lens 104 and the mass distribution in the lens 104 determine. This can, for example, based on a previously determined mechanical model of the lens 104 purely mathematically done. Likewise, of course, empirical methods as well as a combination of such computational and empirical methods can be used.

Aus der so ermittelten abgestimmten Stützkraft FSi (mit i = 1 bis 6) lässt sich im vorliegenden Beispiel einfach anhand der Gleichung FSi = Ci·ΔLEi (2) wobei die Ci die Federkonstante der betreffenden Verbindungseinheit 110.1 bezeichnet und ΔLEi die effektive Längenänderung bezeichnet, welche die Verbindungseinheit in dem abgestützten Zustand des Objektivs 104 (ausgehend von einem unbelasteten Zustand) erfahren hat. Die Federkonstante Ci wird dabei maßgeblich durch die erste Steifigkeit R1 des ersten Verbindungsabschnitt 111.1 der Verbindungseinheit 110.1 bestimmt. Hieraus lassen sich somit in einfacher Weise für einen vorgegebenen abgestützten Zustand, in dem das Objektiv 104 eine vorgegebenen Position bezüglich der Stützstruktur 109 einnehmen muss, die erforderliche erste effektive Länge LE1 sowie die erforderliche erste Steifigkeit R1 des ersten Verbindungsabschnitts 111.1 ermitteln. From the thus determined matched support force FSi (with i = 1 to 6) can be easily in the present example using the equation FSi = Ci · ΔLEi (2) where Ci is the spring constant of the relevant connection unit 110.1 and ΔLEi denotes the effective change in length which the connection unit has in the supported state of the objective 104 (from an unloaded state). The spring constant Ci is thereby determined by the first rigidity R1 of the first connecting portion 111.1 the connection unit 110.1 certainly. From this it is thus possible in a simple way for a given supported state in which the lens 104 a predetermined position with respect to the support structure 109 must take, the required first effective length LE1 and the required first rigidity R1 of the first connecting portion 111.1 determine.

Die Gestaltung der jeweiligen Verbindungseinheit 110.1 mit wenigstens einem elastischen Verbindungsabschnitt 111.1 und wenigstens einem deutlich steiferen, vorzugsweise im Wesentlichen starren, weiteren Verbindungsabschnitt 111.2, 111.3 hat den Vorteil, dass die Anpassung an die vorgegebene Stützkraft über beide Parameter, nämlich die Steifigkeit und die effektive Länge des elastischen Verbindungsabschnitts erfolgen kann, wodurch sich die Anpassung vereinfacht. The design of the respective connection unit 110.1 with at least one elastic connecting portion 111.1 and at least one significantly stiffer, preferably substantially rigid, further connecting portion 111.2 . 111.3 has the advantage that the adjustment to the predetermined supporting force can be done via both parameters, namely the rigidity and the effective length of the elastic connecting portion, whereby the adjustment is simplified.

Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass im Wesentlichen die gesamte Verbindungseinheit 110.1 von einem entsprechend elastischen Verbindungsabschnitt gebildet ist, wobei dann die Anpassung an die erforderliche vorgegebene Stützkraft alleine über die Steifigkeit dieses elastischen Verbindungsabschnitts erfolgen muss. Weiterhin versteht es sich, dass bei anderen Varianten der Erfindung die Anpassung auch alleine über die effektive Länge des elastischen Verbindungsabschnitts erfolgen kann. Schließlich versteht es sich, dass einzelne oder alle Verbindungseinheiten natürlich auch mehrere elastische Abschnitte aufweisen können, über welche dann die Anpassung der Stützkraft erfolgen kann. However, it is understood that in other variants of the invention can also be provided that substantially the entire connection unit 110.1 is formed by a correspondingly elastic connecting portion, in which case the adaptation to the required predetermined supporting force must be made solely on the rigidity of this elastic connecting portion. Furthermore, it is understood that in other variants of the invention, the adjustment can be made alone on the effective length of the elastic connecting portion. Finally, it goes without saying that individual or all connection units can, of course, also have a plurality of elastic sections, via which the adjustment of the support force can then take place.

Weiterhin versteht es sich, dass der elastische Verbindungsabschnitt gegebenenfalls auch unmittelbar im Bereich des jeweiligen Angriffspunktes der Verbindungseinheit 110.1 bis 110.6 an dem Stützabschnitt 104.3 und/oder der Stützstruktur 109 realisiert sein kann. Mit anderen Worten kann die gegebenenfalls auch die Anwendung an dem Stützabschnitt 104.3 und/oder der Stützstruktur 109 entsprechend elastisch gestaltet sein, um die oben beschriebene Anpassung und Begrenzung der Stützkraft FSi zu erzielen. Furthermore, it goes without saying that the elastic connecting section may also be located directly in the region of the respective point of application of the connection unit 110.1 to 110.6 on the support section 104.3 and / or the support structure 109 can be realized. In other words, if necessary, the application to the support section 104.3 and / or the support structure 109 be designed to be elastic in order to achieve the above-described adaptation and limitation of the supporting force FSi.

Im vorliegenden Beispiel sind, wie erwähnt, sämtliche Verbindungseinheiten 110.1 bis 110.6 mit einem entsprechenden elastischen Verbindungsabschnitt versehen. Hierbei werden nicht zuletzt wegen der im vorliegenden Beispiel asymmetrischen Massenverteilung des Objektivs 104 (die zu einem exzentrisch liegenden Schwerpunkt mit darin angreifender resultierender Gewichtskraft G führt, wie dies in 3 angedeutet ist) zumindest über einzelne der Verbindungseinheiten 110.1 bis 110.6 voneinander abweichende Stützkräfte FSi (mit i = 1 bis 6) eingeleitet. Wie erwähnt können diese aneinander angepassten aber voneinander abweichenden Stützkräfte FSi mit der vorliegenden Erfindung in einfacher Weise über die Anpassung der ersten Steifigkeit R1i und/oder der effektiven Länge LEi (mit i = 1 bis 6) des jeweiligen ersten elastischen Verbindungsabschnitts eingestellt werden. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass lediglich einzelne Verbindungseinheiten einen solchen elastischen Verbindungsabschnitt aufweisen. In the present example, as mentioned, all connection units 110.1 to 110.6 provided with a corresponding elastic connecting portion. Not least because of the asymmetrical mass distribution of the objective in the present example 104 (which leads to an eccentric center of gravity with resultant resultant weight G, as shown in FIG 3 indicated) at least over some of the connection units 110.1 to 110.6 Divergent support forces FSi (with i = 1 to 6) initiated. As mentioned, these mutually adapted but divergent supporting forces FSi can be easily adjusted via the adaptation of the first rigidity R1i and / or with the present invention of the effective length LEi (with i = 1 to 6) of the respective first elastic connecting portion. It is understood, however, that in other variants of the invention it can also be provided that only individual connection units have such an elastic connection section.

Es sei an dieser Stelle erwähnt, dass sich die Anzahl der Verbindungseinheiten, über welche die Deformation des Stützabschnitts 104.3 in den vorgegebenen Teilabschnitten 104.5 innerhalb vorgegebener Toleranzen gehalten wird, im wesentlichen nach der Anzahl und Größe der Teilabschnitte 104.5 mit derartigen Vorgaben hinsichtlich der einzuhaltenden Deformationstoleranz richtet. Im Falle eines einzigen derartigen Teilabschnitt 104.5 kann es gegebenenfalls also ausreichen, lediglich eine einzige Verbindungseinheit 110.1 vorzusehen, über welche eine entsprechend abgestimmte Stützkraft FS1 in den betreffenden Bereich eingeleitet wird. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass der gesamte Stützabschnitt 104.3 in dem abgestützten Zustand des Objektivs 104 innerhalb der genannten Toleranzen gehalten wird. It should be mentioned at this point that the number of connection units over which the deformation of the support section 104.3 in the given subsections 104.5 is kept within predetermined tolerances, essentially according to the number and size of the sections 104.5 directed with such requirements with respect to the deformation tolerance to be met. In the case of a single such subsection 104.5 So it may be sufficient, if necessary, only a single connection unit 110.1 to provide, via which a correspondingly matched support force FS1 is introduced into the area concerned. It is understood, however, that in other variants of the invention can also be provided that the entire support section 104.3 in the supported state of the lens 104 is kept within the specified tolerances.

In welchem Teilabschnitt 104.5 die genannten Toleranzen einzuhalten sind, richtet sich unter anderem danach, ob in diesem Teilabschnitt 104.5 entsprechend sensitive Komponenten des Objektivs 104 angeordnet sind, dort angreifen oder sich eine Verformung dieses Teilabschnitts 104.5 bis in den Bereich dieser sensitiven Komponenten fortsetzt. Bei derartigen sensitiven Komponenten kann es sich beispielsweise um eine Haltestruktur eines der optischen Elemente 107.1 des Objektivs 104 handeln. Ebenso kann es sich um eine Komponente einer Messeinrichtung handeln, welche beispielsweise für den Betrieb des Objektivs 104 relevante Signale liefert. Eine derartige sensitive Komponente ist in 3 schematisch durch die Kontur 114 angedeutet. In which subsection 104.5 These tolerances are to be complied with, among other things, depending on whether in this subsection 104.5 correspondingly sensitive components of the lens 104 are arranged to attack there or a deformation of this subsection 104.5 continues into the range of these sensitive components. Such sensitive components may be, for example, a support structure of one of the optical elements 107.1 of the lens 104 act. Likewise, it may be a component of a measuring device which, for example, for the operation of the lens 104 provides relevant signals. Such a sensitive component is in 3 schematically through the contour 114 indicated.

Die einzuhaltenden Toleranzen richten sich wesentlich nach der jeweiligen Anwendung des Objektivs 104 und den hierbei maximal zulässigen Abbildungsfehlern. Im vorliegenden Beispiel sind die Stützkräfte FSi der Verbindungseinheiten 110.1 bis 110.6 mittels des jeweiligen elastischen ersten Verbindungsabschnitts (111.1) derart aufeinander abgestimmt, dass eine deformationsbedingte maximale Positionsabweichung DPmax in dem abgestützten Zustand unter anderem in dem Teilabschnitt 104.5 weniger als 10 nm betragen. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine maximale Positionsabweichung von weniger als 1 µm, vorzugsweise weniger als 100 nm, vorgesehen sein kann. Zusätzlich oder alternativ kann anstelle der im vorliegenden Beispiel eingehaltenen maximalen Winkelabweichung DWmax von weniger als 10 mrad auch eine maximale Winkelabweichung von weniger als 5 mrad, vorzugsweise weniger als 2 mrad, vorgesehen sein. The tolerances to be observed depend essentially on the particular application of the objective 104 and the maximum allowable aberrations. In the present example, the support forces FSi of the connection units 110.1 to 110.6 by means of the respective elastic first connecting portion ( 111.1 ) are matched to one another such that a deformation-induced maximum position deviation DPmax in the supported state, inter alia, in the subsection 104.5 less than 10 nm. It is understood, however, that in other variants of the invention, a maximum positional deviation of less than 1 .mu.m, preferably less than 100 nm, may be provided. Additionally or alternatively, instead of the maximum angular deviation DWmax of less than 10 mrad observed in the present example, a maximum angular deviation of less than 5 mrad, preferably less than 2 mrad, may also be provided.

Die Gestaltung der Verbindungseinheiten 110.1 bis 110.6 als langgestreckte Elemente hat den Vorteil einer besonders einfachen Gestaltung. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine anderweitige Gestaltung der Verbindungseinheiten vorgesehen sein kann. In diesem Fall kann das betreffende elastische Element dann allgemein in einem unbelasteten ersten Zustand eine im Wesentlichen unverformte erste Geometrie aufweisen, während es in dem abgestützten Zustand des Objektivs 104 eine verformte zweite Geometrie aufweist, wobei die Abweichung zwischen der (unbelasteten) ersten Geometrie und der (belasteten) zweiten Geometrie eine effektive Deformation des wenigstens einen elastischen Elements definiert. Das betreffende elastische Element weist weiterhin eine effektive Steifigkeit in Richtung der effektiven Deformation auf, wobei die effektive Steifigkeit und/oder die effektive Deformation (analog zu dem elastischen Verbindungsabschnitt 111.1) derart gewählt ist, dass die Verbindungseinheit die abgestimmte Stützkraft FSi in dem abgestützten Zustand des Objektivs 104 erzeugt. Dabei ist es unter anderem möglich, zusätzlich oder alternativ zu der oben beschriebenen Längenänderung beispielsweise eine elastische Torsion eines elastischen Elements, beispielsweise einer Drehstabfeder oder dergleichen, vorzusehen. The design of the connection units 110.1 to 110.6 As elongated elements has the advantage of a particularly simple design. It is understood, however, that in other variants of the invention, a different design of the connection units may be provided. In this case, the elastic element in question may then generally have a substantially undeformed first geometry in an unloaded first state while in the supported state of the objective 104 a deformed second geometry, wherein the deviation between the (unloaded) first geometry and the (loaded) second geometry defines an effective deformation of the at least one elastic element. The elastic element concerned also has an effective rigidity in the direction of the effective deformation, wherein the effective rigidity and / or the effective deformation (analogous to the elastic connecting portion 111.1 ) is selected such that the connection unit the tuned support force FSi in the supported state of the lens 104 generated. Among other things, it is possible, in addition or as an alternative to the change in length described above, to provide, for example, an elastic torsion of an elastic element, for example a torsion bar spring or the like.

Ein weiterer Vorteil der Gestaltung der Verbindungseinheiten 110.1 bis 110.6 mit dem elastischen Verbindungsabschnitt 111.1 besteht darin, dass die effektive Steifigkeit R1 des elastischen Verbindungsabschnitts 111.1 im vorliegenden Beispiel so gering gewählt werden kann, dass die Stützkraft FS1 bei einer Verschiebung DVA des jeweiligen Angriffspunkts der betreffenden Verbindungseinheit 110.1 bis 110.6 an dem Stützabschnitt 104.3, deren Betrag DVA der maximalen Positionsabweichung DPmax entspricht (d. h. DVA = DPmax), um weniger als 3% variiert. Hierbei versteht es sich, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine größere oder geringere Variation der Stützkraft FSi vorgesehen sein kann. Vorzugsweise beträgt die Variation der Stützkraft FSi bei einer solchen Verschiebung DVA weniger als 5%, vorzugsweise weniger als 1%. Another advantage of the design of the connection units 110.1 to 110.6 with the elastic connecting portion 111.1 is that the effective rigidity R1 of the elastic connecting portion 111.1 can be chosen so small in the present example that the support force FS1 at a shift DVA the respective point of attack of the relevant connection unit 110.1 to 110.6 on the support section 104.3 whose amount DVA corresponds to the maximum position deviation DPmax (ie DVA = DPmax) varies by less than 3%. It is understood that in other variants of the invention, a greater or lesser variation of the support force FSi can be provided. Preferably, the variation of the support force FSi at such a shift DVA is less than 5%, preferably less than 1%.

Zusätzlich oder alternativ kann die effektive Steifigkeit R1 des elastischen Verbindungsabschnitts 111.1 so gering gewählt werden, dass die Stützkraft FSi bei einer Winkeländerung DWA des Stützabschnittes im Bereich des Angriffspunkts der Verbindungseinheit 110.1 bis 110.6, deren Betrag DWA der maximalen Winkelabweichung DWmax entspricht (d. h. DWA = DWmax), um weniger als 3% variiert. Auch hier kann bei anderen Varianten der Erfindung eine größere oder geringere Variation der Stützkraft FSi vorgesehen sein. Vorzugsweise beträgt die Variation bei einer solchen Winkeländerung DWA vorzugsweise weniger als 5%, vorzugsweise weniger als 1%, variiert. Additionally or alternatively, the effective stiffness R1 of the elastic connecting portion 111.1 are chosen so small that the support force FSi at an angle change DWA of the support portion in the region of the point of application of the connection unit 110.1 to 110.6 whose amount DWA corresponds to the maximum angular deviation DWmax (ie DWA = DWmax) varies by less than 3%. Again, in other variants of the invention, a greater or lesser variation of the support force FSi be provided. Preferably, the variation in such an angular change DWA is preferably less than 5%, preferably less than 1%.

Eine solche Gestaltung hat den Vorteil, dass Fertigungstoleranzen der beteiligten Komponenten, insbesondere der Stützstruktur 109, der Verbindungseinheiten 110.1 bis 110.6 sowie des Stützabschnitts 104.3 eine erheblich geringere (typischerweise nicht nennenswerte) Variation der jeweiligen Stützkraft FSi bedingen. Dies vereinfacht die Herstellung dieser Komponenten erheblich. Such a design has the advantage that manufacturing tolerances of the components involved, in particular the support structure 109 , the connection unit 110.1 to 110.6 and the support section 104.3 a significantly lower (typically not significant) variation of the respective support force FSi condition. This considerably simplifies the production of these components.

Es sei an dieser Stelle erwähnt, dass der jeweilige elastischen Verbindungsabschnitt 111.1 grundsätzlich auf beliebige geeignete Weise gestaltet sein kann. Bei vorteilhaften Varianten der Erfindung ist der elastischen Verbindungsabschnitt 111.1 so gestaltet, dass er auch in einem Zustand, in dem er noch nicht durch die Gewichtskraft des Objektivs belastet ist, durch geeignete Mittel entsprechend vorgespannt ist, sodass die Verbindungseinheit 110.1 bis 110.6 nach Herstellen der Verbindung unmittelbar eine entsprechende Stützkraft FSi auf ausüben kann. Ebenso kann es bei bestimmten Varianten der Erfindung von Vorteil sein, auf eine derartige vor Spannung zu verzichten, um einen langsamen Aufbau der Stützkraft bis zum Erreichen der gewünschten, durch den elastischen Verbindungsabschnitt 111.1 eingestellten Stützkraft FSi zu erzielen. It should be mentioned at this point that the respective elastic connecting portion 111.1 basically be designed in any suitable manner. In advantageous variants of the invention, the elastic connecting portion 111.1 designed so that it is biased by a suitable means even in a state in which he is not yet burdened by the weight of the lens, so that the connection unit 110.1 to 110.6 after making the connection can exert a corresponding support force FSi directly on. Likewise, it may be advantageous in certain variants of the invention to dispense with such before tension to a slow buildup of the support force until reaching the desired, through the elastic connecting portion 111.1 set support force FSi to achieve.

Es sei hier nochmals erwähnt, dass die entsprechende Anpassung der effektiven Steifigkeit im vorliegenden Beispiel besonders einfach realisierbar ist, da sowohl die effektive Steifigkeit R1 als auch die effektive Länge LE1 als veränderbare Parameter zur Anpassung der Eigenschaften der Verbindungseinheit 110.1 bis 110.6 zur Verfügung stehen. It should be mentioned again here that the corresponding adaptation of the effective rigidity in the present example is particularly easy to implement since both the effective stiffness R1 and the effective length LE1 are variable parameters for adapting the properties of the connection unit 110.1 to 110.6 be available.

Die vorstehend beschriebene Konfiguration mit der optischen Anordnung 101.1, bei der das Objektiv 104 über die Verbindungseinrichtung 108 an der Stützstruktur 109 aufgehängt ist, kann nicht nur zum dauerhaften Abstützen des Objektivs 104 in der Abbildungseinrichtung 101 genutzt werden. Vielmehr ist es bei anderen Varianten der Erfindung auch möglich, diese Anordnung 101.1 auch lediglich zur Handhabung des Objektivs zu nutzen, wie dies in 2 angedeutet ist. Bei der Stützstruktur 109 handelt es sich dann in diesem Fall um ein entsprechendes Handhabungswerkzeug, mit welchem das Objektiv 104 zu einer weiteren Stützstruktur transportiert werden kann auf welche es dann mittels des Handhabungswerkzeugs 109 abgestützt wird. Ebenso ist es möglich, die Stützstruktur 109 mit dem daran aufgehängten Objektiv 104 als Baugruppe zu transportieren und diese Baugruppe dann in der Abbildungseinrichtung 101 auf einer weiteren Stützstruktur abzustützen, wie dies in 1 durch die gestrichelte Kontur 115 angedeutet ist. The configuration described above with the optical arrangement 101.1 in which the lens 104 via the connection device 108 on the support structure 109 can not only be used for permanent support of the lens 104 in the imaging device 101 be used. Rather, it is also possible in other variants of the invention, this arrangement 101.1 also to use only for handling the lens, as in 2 is indicated. At the support structure 109 In this case, it is a corresponding handling tool, with which the lens 104 can be transported to another support structure on which it then by means of the handling tool 109 is supported. It is also possible to use the support structure 109 with the lens suspended from it 104 to transport as an assembly and then this assembly in the imaging device 101 supported on another support structure, as in 1 through the dashed outline 115 is indicated.

Bei der Herstellung der Verbindung zwischen dem Objektiv 104 und der Stützstruktur 109 wird eine bevorzugte Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Verbinden eines optischen Moduls mit einer Stützstruktur ausgeführt, wie dies im Folgenden unter Bezugnahme auf das Ablaufdiagramm aus 4 beschrieben wird. When making the connection between the lens 104 and the support structure 109 a preferred embodiment of the method according to the invention for connecting an optical module to a support structure is carried out, as described below with reference to the flowchart 4 is described.

Zunächst wird in einem Schritt 116.1 der Verfahrensablauf gestartet. In einem Schritt 116.2 werden dann die oben beschriebenen Komponenten der Mikrolithographieeinrichtung 101 aus 1, insbesondere die Stützstruktur 109, die Verbindungseinheiten 110.1 bis 110.6 und das Objektiv 104 bereitgestellt. First, in one step 116.1 the process started. In one step 116.2 then become the components of the microlithography device described above 101 out 1 , in particular the support structure 109 , the connection units 110.1 to 110.6 and the lens 104 provided.

Anschließend werden in einem Schritt 114.3 das Objektiv 104 und die Stützstruktur 109 über die Verbindungseinrichtung 108 in der oben beschriebenen Weise miteinander verbunden und die Komponenten der Mikrolithographieeinrichtung 101 in der oben beschriebenen und in 1 dargestellten Weise zueinander positioniert, bevor der Verfahrensablauf in einem Schritt 114.4 endet. Subsequently, in one step 114.3 the objective 104 and the support structure 109 via the connection device 108 connected in the manner described above and the components of the microlithography device 101 in the above and in 1 shown manner to each other before the procedure in one step 114.4 ends.

Es ist einer dieser Stelle erwähnt, dass sowohl die Stützstruktur 109 als auch der Stützabschnitt 104.3 im vorliegenden Beispiel als ringförmige Struktur ausgebildet sind. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere Gestaltung gewählt sein kann. Beispielsweise kann die jeweilige Stützstruktur bzw. der jeweilige Stützabschnitt als im Wesentlichen C-förmige Struktur gestaltet sein. It is one of this point mentions that both the support structure 109 as well as the support section 104.3 formed in the present example as an annular structure. It is understood, however, that in other variants of the invention, any other design may be selected. For example, the respective support structure or the respective support portion may be designed as a substantially C-shaped structure.

Zweites Ausführungsbeispiel Second embodiment

Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1 und 5 ein weiteres bevorzugtes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen optischen Anordnung 201.1 beschrieben. Die optische Anordnung 201.1 kann in der Mikrolithograpieeinrichtung 101 aus 1 anstelle der optischen Anordnung 101.1 zum Einsatz kommen. Die optische Anordnung 201.1 entspricht in ihrem Aufbau und ihrer Funktionsweise grundsätzlich der optischen Anordnung 101.1 aus dem ersten Ausführungsbeispiel, sodass hier hauptsächlich auf die Unterschiede eingegangen werden soll. Insbesondere sind gleichartige Bauteile mit den gleichen, lediglich um den Wert 100 erhöhten Bezugszeichen versehen. Sofern nachfolgend keine anderweitigen Angaben gemacht werden, wird hinsichtlich der Merkmale und Funktionen dieser Bauteile auf die obigen Ausführungen verwiesen. The following is with reference to the 1 and 5 a further preferred embodiment of the optical arrangement according to the invention 201.1 described. The optical arrangement 201.1 can in the microlithography device 101 out 1 instead of the optical arrangement 101.1 be used. The optical arrangement 201.1 corresponds in its structure and its operation basically the optical arrangement 101.1 from the first embodiment, so here mainly to the differences to be discussed. In particular, similar components are provided with the same, only increased by the value 100 reference numerals. Unless otherwise stated below, reference is made to the above statements with regard to the features and functions of these components.

Ein Unterschied der optischen Anordnung 201.1 zu der optischen Anordnung 101.1 besteht darin, dass die Verbindungseinrichtung 208 als bestehende Anordnung gestaltet ist, bei welcher die Verbindungseinheiten 210.1 bis 210.6 das Objektiv 104 von unten abstützen. Auch hier sind die Verbindungseinheiten 210.1 bis 210.6 wieder mit einem elastischen Verbindungsabschnitt 211.1 gestaltet, über den in der oben beschriebenen Weise einer Begrenzung und Anpassung der jeweiligen in den Stützabschnitt 104.3 eingeleiteten Stützkraft FSi erfolgt. A difference of the optical arrangement 201.1 to the optical arrangement 101.1 is that the connecting device 208 is designed as an existing arrangement in which the connection units 210.1 to 210.6 the objective 104 support from below. Again, the connection units 210.1 to 210.6 again with an elastic connecting section 211.1 designed, in the manner described above, a limitation and adaptation of the respective in the support section 104.3 introduced support force FSi takes place.

Insbesondere ist bei dieser Gestaltung möglich, die oben im Zusammenhang mit dem ersten Ausführungsbeispiel beschriebene Handhabungseinrichtung mit der Stützstruktur 109 und der Einrichtung 108, wie sie in 2 dargestellt ist, zu verwenden um das Objektiv 104 zu transportieren und auf der Stützstruktur 209 abzusetzen. Hierzu kann die Verbindungseinrichtung 208 bereits entweder der Stützstruktur 209 oder an dem Objektiv 104 vormontiert sein (wie dies in 2 angedeutet ist). In particular, it is possible in this design, the handling device described above in connection with the first embodiment with the support structure 109 and the facility 108 as they are in 2 is shown to use around the lens 104 to transport and on the support structure 209 discontinued. For this purpose, the connecting device 208 already either the support structure 209 or on the lens 104 be preassembled (as in 2 is indicated).

Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend anhand von Beispielen beschrieben, bei denen das optische Modul ein Objektiv ist, welches auf einer Stützstruktur abgestützt wird. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass ein anderes optisches Modul auf einer zugehörigen Stützstruktur abgestützt ist. Insbesondere ist es möglich, dass das optische Modul lediglich von einem einzelnen optischen Element alleine oder gegebenenfalls zusammen mit einer entsprechenden Halteeinrichtung (beispielsweise einem Haltering oder dergleichen) gebildet ist. The present invention has been described above by way of examples in which the optical module is a lens which is supported on a support structure. However, it is understood that in other variants of the invention can also be provided that another optical module is supported on an associated support structure. In particular, it is possible for the optical module to be formed solely by a single optical element alone or, if appropriate, together with a corresponding holding device (for example a retaining ring or the like).

Weiterhin wurde die vorliegende Erfindung vorstehend anhand von Beispielen beschrieben, bei denen die Fügerrichtung in Richtung der Gravitationskraft verläuft. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere (insbesondere eine zur Richtung der Gravitationskraft geneigte) Ausrichtung der Fügerichtung und damit auch der jeweiligen Kontaktflächen vorgesehen sein kann. Furthermore, the present invention has been described above by way of examples in which the joining direction is in the direction of gravitational force. However, it is understood that in other variants of the invention, any other (in particular inclined to the direction of the gravitational force) alignment of the joining direction and thus also the respective contact surfaces can be provided.

Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend anhand von Beispielen beschrieben, bei denen ausschließlich refraktive optische Elemente verwendet wurden. Es sei an dieser Stelle jedoch nochmals angemerkt, dass die Erfindung natürlich auch, insbesondere für den Fall der Abbildung bei anderen Wellenlängen, bei im Zusammenhang mit optischen Einrichtungen Anwendung finden kann, die alleine oder in beliebiger Kombination refraktive, reflektive oder diffraktive optische Elemente umfassen. The present invention has been described above by way of examples using only refractive optical elements. It should be noted at this point, however, that the invention can of course also, in particular for the case of imaging at other wavelengths, be used in conjunction with optical devices that comprise alone or in any combination refractive, reflective or diffractive optical elements.

Weiterhin wurde die vorliegende Erfindung vorstehend anhand von Beispielen beschrieben, bei denen ausschließlich ein Objektiv mit einer Stützstruktur verbunden wurde. Es sei an dieser Stelle jedoch angemerkt, dass die Erfindung natürlich auch im Zusammenhang mit der Abstützung anderer optisch wirksamer Komponenten der Abbildungseinrichtung, insbesondere von Komponenten Beleuchtungseinrichtung, der Maskeneinrichtung und/oder der Substrateinrichtung, Anwendung finden kann. Furthermore, the present invention has been described above by way of examples in which only one lens has been connected to a support structure. It should be noted at this point, however, that the invention can of course also be used in connection with the support of other optically active components of the imaging device, in particular of components illumination device, the mask device and / or the substrate device, application.

Schließlich ist anzumerken, dass die vorliegende Erfindung vorstehend anhand von Beispielen aus dem Bereich der Mikrolithographie beschrieben wurde. Es versteht sich jedoch, dass die vorliegende Erfindung ebenso auch für beliebige andere Anwendungen bzw. Abbildungsverfahren, insbesondere bei beliebigen Wellenlängen des zur Abbildung verwendeten Lichts, eingesetzt werden kann. Finally, it should be noted that the present invention has been described above by means of examples from the field of microlithography. It is understood, however, that the present invention may also be used for any other applications or imaging methods, in particular at arbitrary wavelengths of the light used for imaging.

Claims

Optische Anordnung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einem optischen Modul, und – einer Verbindungseinrichtung, wobei – die Verbindungseinrichtung eine Mehrzahl von Verbindungseinheiten zum Verbinden eines Stützabschnittes des optischen Moduls mit einer Stützstruktur umfasst, – jede Verbindungseinheit dazu ausgebildet ist, zum Abstützen des optischen Moduls an einer vorgebbaren Position der Stützstruktur eine Stützkraft auf den Stützabschnitt auszuüben, und – der Stützabschnitt in dem durch die Stützstruktur abgestützten Zustand eine vorgegebbare Sollgeometrie aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Verbindungseinheit wenigstens ein elastisches Element umfasst und – die wenigstens eine Verbindungseinheit in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine abgestimmte Stützkraft erzeugt, wobei – die abgestimmte Stützkraft der wenigstens einen Verbindungseinheit mittels des wenigstens einen elastischen Elements derart auf die Stützkraft der übrigen Verbindungseinheiten der Verbindungseinrichtung abgestimmt ist, dass eine deformationsbedingte maximale Positionsabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 1 µm vorzugsweise weniger als 100 nm, weiter vorzugsweise weniger als 10 nm, beträgt und/oder eine maximale Winkelabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 10 mrad vorzugsweise weniger als 5 mrad, weiter vorzugsweise weniger als 2 mrad, beträgt. Optical arrangement, in particular for microlithography, comprising - an optical module, and - a connecting device, wherein - the connecting device comprises a plurality of connection units for connecting a support portion of the optical module with a support structure, - each connection unit is adapted to support the optical Modulus at a predeterminable position of the support structure to exert a supporting force on the support portion, and - the support portion in the state supported by the support structure has a predetermined desired geometry, characterized in that - at least one connection unit comprises at least one elastic element and - the at least one connection unit in the supported state of the optical module generates a coordinated supporting force, wherein - the coordinated supporting force of the at least one connecting unit by means of the at least one elastic element on the Supporting force of the remaining connection units of the connecting device is tuned that a deformation-induced maximum position deviation of a point of the support portion of the desired geometry in the supported state in at least one predetermined portion of the support portion less than 1 micron, preferably less than 100 nm, more preferably less than 10 nm and / or a maximum angular deviation of a point of the support section from the desired geometry in the supported state in at least one predeterminable section of the support section is less than 10 mrad, preferably less than 5 mrad, more preferably less than 2 mrad.

Optische Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass – das wenigstens eine elastische Element in einem unbelasteten ersten Zustand eine im Wesentlichen unverformte erste Geometrie aufweist und in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine verformte zweite Geometrie aufweist, – eine Abweichung zwischen der ersten Geometrie und der zweiten Geometrie eine effektive Deformation des wenigstens einen elastischen Elements definiert, – das wenigstens eine elastische Element eine effektive Steifigkeit in Richtung der effektiven Deformation aufweist, und – die effektive Steifigkeit und/oder die effektive Deformation derart gewählt ist, dass die wenigstens eine Verbindungseinheit die abgestimmte Stützkraft in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls erzeugt. An optical arrangement according to claim 1, characterized in that - the at least one elastic element in an unloaded first state substantially having undeformed first geometry and in the supported state of the optical module having a deformed second geometry, a deviation between the first geometry and the second geometry defining an effective deformation of the at least one elastic element, the at least one elastic element having an effective rigidity in the direction the effective deformation, and - the effective stiffness and / or the effective deformation is chosen such that the at least one connection unit generates the adjusted support force in the supported state of the optical module.

Optische Anordnung nach Anspruch 2, wobei – die wenigstens eine Verbindungseinheit in einem Angriffspunkt an dem Stützabschnitt angreift und – die effektive Steifigkeit des wenigstens einen elastischen Elements derart gering gewählt ist, dass die Stützkraft der wenigstens einen Verbindungseinheit bei einer Verschiebung des Stützabschnittes an dem Angriffspunkt, deren Betrag der maximalen Positionsabweichung entspricht, um weniger als 5%, vorzugsweise weniger als 3%, vorzugsweise weniger als 1%, variiert und/oder – die effektive Steifigkeit des wenigstens einen elastischen Elements derart gering gewählt ist, dass die Stützkraft der wenigstens einen Verbindungseinheit bei einer Winkeländerung des Stützabschnittes an dem Angriffspunkt, deren Betrag der maximalen Winkelabweichung entspricht, um weniger als 5%, vorzugsweise weniger als 3%, vorzugsweise weniger als 1%, variiert. An optical arrangement according to claim 2, wherein - The attacking at least one connection unit in a point on the support portion and - The effective stiffness of the at least one elastic element is chosen so small that the supporting force of the at least one connecting unit at a displacement of the support portion at the point whose amount corresponds to the maximum positional deviation by less than 5%, preferably less than 3%, preferably less than 1%, varies and or - The effective stiffness of the at least one elastic element is chosen so small that the supporting force of at least one connecting unit at an angle change of the support portion at the point whose amount corresponds to the maximum angular deviation by less than 5%, preferably less than 3%, preferably less than 1%, varies.

Optische Anordnung nach Anspruch 1, wobei – das wenigstens eine elastische Element in einem unbelasteten ersten Zustand eine erste effektive Länge aufweist und in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine zweite effektive Länge aufweist, – eine Differenz zwischen der ersten effektiven Länge und der zweiten effektiven Länge eine effektive Längenänderung des wenigstens einen elastischen Elements definiert, – das wenigstens eine elastische Element eine effektive Steifigkeit in Richtung der effektiven Längenänderung aufweist, und – die effektive Steifigkeit und/oder die effektive Längenänderung derart gewählt ist, dass wenigstens eine Verbindungseinheit die abgestimmte Stützkraft in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls erzeugt. An optical arrangement according to claim 1, wherein The at least one elastic element has a first effective length in an unloaded first state and has a second effective length in the supported state of the optical module, A difference between the first effective length and the second effective length defines an effective change in length of the at least one elastic element, - The at least one elastic element has an effective rigidity in the direction of the effective change in length, and - The effective stiffness and / or the effective length change is selected such that at least one connection unit generates the coordinated support force in the supported state of the optical module.

Optische Anordnung nach Anspruch 1, wobei – die wenigstens eine Verbindungseinheit eine erste Verbindungseinheit ist, die in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine erste abgestimmte Stützkraft ausübt, und – die Verbindungseinrichtung wenigstens eine von der ersten Verbindungseinheit verschiedene zweite Verbindungseinheit umfasst, wobei – die zweite Verbindungseinheit in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine von der ersten abgestimmten Stützkraft verschiedene zweite Stützkraft ausübt. An optical arrangement according to claim 1, wherein - The at least one connection unit is a first connection unit which exerts a first coordinated support force in the supported state of the optical module, and - The connecting device comprises at least one of the first connection unit different second connection unit, wherein - The second connection unit in the supported state of the optical module exerts a different second support force from the first matched.

Optische Anordnung nach Anspruch 1, wobei – sämtliche Verbindungseinheiten der Verbindungseinrichtung wenigstens ein elastisches Element zur Abstimmung der Stützkraft umfassen und/oder – die abgestimmten Stützkräfte der Verbindungseinheiten mittels des jeweiligen wenigstens einen elastischen Elements derart abgestimmt sind, dass eine deformationsbedingte Abweichung im Wesentlichen des gesamten Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand weniger als 1 µm vorzugsweise weniger als 100 nm, weiter vorzugsweise weniger als 10 nm, beträgt. An optical arrangement according to claim 1, wherein - Include all connection units of the connecting device at least one elastic element for tuning the supporting force and or The coordinated support forces of the connection units are matched by means of the respective at least one elastic element such that a deformation-related deviation of substantially the entire support section from the desired geometry in the supported state is less than 1 μm, preferably less than 100 nm, more preferably less than 10 nm, is.

Optische Anordnung nach Anspruch 1, wobei die Verbindungseinrichtung wenigstens vier Verbindungseinheiten, vorzugsweise wenigstens sechs Verbindungseinheiten, weiter vorzugsweise wenigstens neun Verbindungseinheiten, umfasst. An optical arrangement according to claim 1, wherein the connection means comprises at least four connection units, preferably at least six connection units, more preferably at least nine connection units.

Optische Anordnung nach Anspruch 1, wobei – das optische Modul wenigstens ein optisches Element und/oder wenigstens eine Komponente einer Messeinrichtung umfasst und – das wenigstens ein optisches Element und/oder die wenigstens eine Komponente der Messeinrichtung im Bereich des wenigstens einen Teilabschnitts an dem Stützabschnitt abgestützt ist und/oder – eine Halteeinrichtung für das wenigstens eine optische Element und/oder für die wenigstens eine Komponente der Messeinrichtung im Bereich des wenigstens einen Teilabschnitts an dem Stützabschnitt abgestützt ist, wobei – die wenigstens eine Verbindungseinheit insbesondere im Bereich des wenigstens einen Teilabschnitts an dem Stützabschnitt angreift. An optical arrangement according to claim 1, wherein - The optical module comprises at least one optical element and / or at least one component of a measuring device and - The at least one optical element and / or the at least one component of the measuring device is supported in the region of the at least one partial section on the support portion and or A holding device for the at least one optical element and / or for the at least one component of the measuring device is supported on the support section in the region of the at least one partial section, in which - The at least one connection unit engages in particular in the region of the at least one section on the support portion.

Optische Anordnung nach Anspruch 1, wobei – zumindest die wenigstens einen Verbindungseinheit, insbesondere alle Verbindungseinheiten der Verbindungseinrichtung, als hängende Verbindungseinheit ausgebildet ist, über welche das optische Modul in dem abgestützten Zustand an der Stützstruktur aufgehängt ist, und/oder – zumindest die wenigstens einen Verbindungseinheit, insbesondere alle Verbindungseinheiten der Verbindungseinrichtung, als stehende Verbindungseinheit ausgebildet ist, durch welche das optische Modul in dem abgestützten Zustand von einer Unterseite her unterstützt wird. Optical arrangement according to claim 1, wherein - at least the at least one connection unit, in particular all connection units of the connection device, is designed as a hanging connection unit, via which the optical module is suspended in the supported state on the support structure, and / or - at least the at least one connection unit , in particular all connecting units of the connecting device, is formed as a standing connection unit, by which the optical Module is supported in the supported state from a bottom side.

Optische Anordnung nach Anspruch 1, wobei – das optische Modul eine Mehrzahl von optischen Elementen umfasst, die von einer Haltestruktur, insbesondere einem Gehäuse, gehalten werden, und – der Stützabschnitt von einem Teil der Haltestruktur gebildet ist. An optical arrangement according to claim 1, wherein - The optical module comprises a plurality of optical elements, which are held by a holding structure, in particular a housing, and - The support portion is formed by a part of the support structure.

Optische Anordnung nach Anspruch 1, wobei die wenigstens einen Verbindungseinheit als langgestrecktes Element mit wenigstens einem elastischen ersten Abschnitt und wenigstens einem im Wesentlichen starren zweiten Abschnitt ausgebildet ist, wobei der erste Abschnitt das elastische Element umfasst. The optical assembly of claim 1, wherein the at least one connection unit is formed as an elongated member having at least one resilient first portion and at least one substantially rigid second portion, the first portion comprising the resilient member.

Optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einer Beleuchtungseinrichtung, – einer Maskeneinrichtung zur Aufnahme einer ein Projektionsmuster umfassenden Maske, – einer Projektionseinrichtung mit einer eine Mehrzahl optischer Elemente umfassenden optischen Elementgruppe und – einer Substrateinrichtung zur Aufnahme eines Substrats, wobei – die Beleuchtungseinrichtung zum Beleuchten des Projektionsmusters ausgebildet ist, – die optische Elementgruppe zum Abbilden des Projektionsmusters auf dem Substrat ausgebildet ist und – die Projektionseinrichtung ein die optische Elementgruppe umfassendes optisches Modul, eine Stützstruktur und eine Verbindungseinrichtung umfasst, wobei – die Verbindungseinrichtung eine Mehrzahl von Verbindungseinheiten zum Verbinden eines Stützabschnittes des optischen Moduls mit einer Stützstruktur umfasst, – jede Verbindungseinheit dazu ausgebildet ist, zum Abstützen des optischen Moduls an einer vorgebbaren Position der Stützstruktur eine Stützkraft auf den Stützabschnitt auszuüben, und – der Stützabschnitt in dem durch die Stützstruktur abgestützten Zustand eine vorgegebbare Sollgeometrie aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Verbindungseinheit wenigstens ein elastisches Element umfasst und – die wenigstens eine Verbindungseinheit in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine abgestimmte Stützkraft erzeugt, wobei – die abgestimmte Stützkraft der wenigstens einen Verbindungseinheit mittels des wenigstens einen elastischen Elements derart auf die Stützkraft der übrigen Verbindungseinheiten der Verbindungseinrichtung abgestimmt ist, dass eine deformationsbedingte maximale Positionsabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 1 µm vorzugsweise weniger als 100 nm, weiter vorzugsweise weniger als 10 nm, beträgt und/oder eine maximale Winkelabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 10 mrad vorzugsweise weniger als 5 mrad, weiter vorzugsweise weniger als 2 mrad, beträgt. Optical imaging device, in particular for microlithography, with A lighting device, A mask device for receiving a mask comprising a projection pattern, A projection device having an optical element group comprising a plurality of optical elements, and - A substrate device for receiving a substrate, wherein The illumination device is designed to illuminate the projection pattern, - The optical element group is formed for imaging the projection pattern on the substrate and The projection device comprises an optical module comprising the optical element group, a support structure and a connection device, wherein The connection device comprises a plurality of connection units for connecting a support section of the optical module to a support structure, - Each connecting unit is adapted to exert a supporting force on the support portion for supporting the optical module at a predetermined position of the support structure, and The support section has a predefinable desired geometry in the state supported by the support structure, characterized in that - At least one connection unit comprises at least one elastic element and - The at least one connection unit in the supported state of the optical module generates a coordinated supporting force, wherein - The coordinated supporting force of the at least one connecting unit by means of the at least one elastic element is tuned to the supporting force of the other connection units of the connecting device such that a deformation-induced maximum positional deviation of a point of the support portion of the desired geometry in the supported state in at least one predetermined portion of the support section less is preferably less than 100 nm, more preferably less than 10 nm, and / or a maximum angular deviation of a point of the support section from the desired geometry in the supported state in at least one predeterminable section of the support section less than 10 mrad, preferably less than 5 mrad , more preferably less than 2 mrad.

Handhabungseinrichtung für ein optisches Modul, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einer Stützstruktur und – einer Verbindungseinrichtung, wobei – die Verbindungseinrichtung eine Mehrzahl von Verbindungseinheiten zum Verbinden eines Stützabschnittes des optischen Moduls mit der Stützstruktur umfasst, – jede Verbindungseinheit dazu ausgebildet ist, zum Abstützen des optischen Moduls an einer vorgebbaren Position der Stützstruktur eine Stützkraft auf den Stützabschnitt auszuüben, und – der Stützabschnitt in dem durch die Stützstruktur abgestützten Zustand eine vorgegebbare Sollgeometrie aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Verbindungseinheit wenigstens ein elastisches Element umfasst und – die wenigstens eine Verbindungseinheit in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine abgestimmte Stützkraft erzeugt, wobei – die abgestimmte Stützkraft der wenigstens einen Verbindungseinheit mittels des wenigstens einen elastischen Elements derart auf die Stützkraft der übrigen Verbindungseinheiten der Verbindungseinrichtung abgestimmt ist, dass eine deformationsbedingte maximale Positionsabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 1 µm vorzugsweise weniger als 100 nm, weiter vorzugsweise weniger als 10 nm, beträgt und/oder eine maximale Winkelabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 10 mrad vorzugsweise weniger als 5 mrad, weiter vorzugsweise weniger als 2 mrad, beträgt. Handling device for an optical module, in particular for microlithography, with - a support structure and - a connecting device, wherein - the connecting means comprises a plurality of connection units for connecting a support portion of the optical module with the support structure, - each connection unit is adapted to support the optical module to exert a supporting force on the support portion at a predetermined position of the support structure, and The support section has a predefinable setpoint geometry in the state supported by the support structure, characterized in that at least one connection unit comprises at least one elastic element and the at least one connection unit generates a coordinated support force in the supported state of the optical module, wherein the matched Supporting force of the at least one connecting unit is matched by the at least one elastic element to the supporting force of the other connection units of the connecting device such that a deformation-induced maximum positional deviation of a point of the support portion of the desired geometry in the supported state in at least one predetermined portion of the support portion less than 1 micron preferably less than 100 nm, more preferably less than 10 nm, and / or a maximum angular deviation of a point of the support section from the target geometry in the supported state in at least one predeterminable section of the support section is less than 10 mrad, preferably less than 5 mrad, more preferably less than 2 mrad.

Verfahren zum Verbinden eines optischen Moduls mit einer Stützstruktur, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem – das optische Modul über eine Mehrzahl von Verbindungseinheiten einer Verbindungseinrichtung mit der Stützstruktur verbunden wird, und – jede Verbindungseinheit zum Abstützen des optischen Moduls an einer vorgebbaren Position der Stützstruktur eine Stützkraft auf den Stützabschnitt ausübt, wobei – der Stützabschnitt in dem durch die Stützstruktur abgestützten Zustand eine vorgegebbare Sollgeometrie aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass – wenigstens eine Verbindungseinheit wenigstens ein elastisches Element umfasst und – die wenigstens eine Verbindungseinheit in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine abgestimmte Stützkraft erzeugt, wobei – die abgestimmte Stützkraft der wenigstens einen Verbindungseinheit mittels des wenigstens einen elastischen Elements derart auf die Stützkraft der übrigen Verbindungseinheiten der Verbindungseinrichtung abgestimmt wird, dass eine deformationsbedingte maximale Positionsabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 1 µm vorzugsweise weniger als 100 nm, weiter vorzugsweise weniger als 10 nm, beträgt und/oder eine maximale Winkelabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 10 mrad vorzugsweise weniger als 5 mrad, weiter vorzugsweise weniger als 2 mrad, beträgt. Method for connecting an optical module to a support structure, in particular for microlithography, in which - The optical module is connected via a plurality of connection units of a connecting device with the support structure, and - Each connection unit for supporting the optical module at a predetermined position of the support structure exerts a supporting force on the support portion, wherein The support section has a predefinable desired geometry in the state supported by the support structure, characterized in that - At least one connection unit comprises at least one elastic element and - The at least one connection unit in the supported state of the optical module generates a coordinated supporting force, wherein - The coordinated supporting force of the at least one connecting unit is matched by the at least one elastic element to the supporting force of the other connection units of the connecting device such that a deformation-induced maximum positional deviation of a point of the support portion of the desired geometry in the supported state in at least one predetermined portion of the support section less is preferably less than 100 nm, more preferably less than 10 nm, and / or a maximum angular deviation of a point of the support section from the desired geometry in the supported state in at least one predeterminable section of the support section less than 10 mrad, preferably less than 5 mrad , more preferably less than 2 mrad.

Verfahren nach Anspruch 14, wobei die Stützstruktur zum vorübergehenden Abstützen des optischen Moduls, insbesondere zum Transport des optischen Moduls, verwendet wird. The method of claim 14, wherein the support structure for temporary support of the optical module, in particular for the transport of the optical module, is used.

Optische Anordnung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einem optischen Modul, und – einer Verbindungseinrichtung, wobei – die Verbindungseinrichtung eine Mehrzahl von entlang einer Längsachse langgestreckten Verbindungseinheiten zum Verbinden eines Stützabschnittes des optischen Moduls mit einer Stützstruktur umfasst, – jede Verbindungseinheit dazu ausgebildet ist, zum Abstützen des optischen Moduls an einer vorgebbaren Position der Stützstruktur eine Stützkraft auf den Stützabschnitt auszuüben, und – wenigstens eine Verbindungseinheit wenigstens einen ersten Verbindungsabschnitt mit einer ersten Steifigkeit entlang der Längsachse und einen zweiten Verbindungsabschnitt mit einer zweiten Steifigkeit entlang der Längsachse umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass – die erste Steifigkeit geringer ist als die zweite Steifigkeit, wobei – die erste Steifigkeit zur Begrenzung der Stützkraft auf einem vorgebbaren Wert insbesondere weniger als 50% der zweiten Steifigkeit vorzugsweise weniger als 30% der zweiten Steifigkeit, weiter vorzugsweise weniger als 10% der zweiten Steifigkeit, beträgt. Optical arrangement, in particular for microlithography, with - an optical module, and - A connecting device, wherein The connection device comprises a plurality of connection units elongated along a longitudinal axis for connecting a support section of the optical module to a support structure, - Each connecting unit is adapted to exert a supporting force on the support portion for supporting the optical module at a predetermined position of the support structure, and At least one connecting unit comprises at least one first connecting portion having a first rigidity along the longitudinal axis and a second connecting portion having a second rigidity along the longitudinal axis, characterized in that - The first stiffness is less than the second stiffness, wherein - The first stiffness for limiting the supporting force to a predetermined value, in particular less than 50% of the second stiffness, preferably less than 30% of the second stiffness, more preferably less than 10% of the second stiffness, is.

Optische Anordnung nach Anspruch 16, wobei – der erste Verbindungsabschnitt und/oder der zweite Verbindungsabschnitt im Wesentlichen langgestreckt ausgebildet ist und/oder – der erste Verbindungsabschnitt ein elastisches Element umfasst. An optical arrangement according to claim 16, wherein - The first connecting portion and / or the second connecting portion is formed substantially elongated and or - The first connecting portion comprises an elastic element.

Optische Anordnung nach Anspruch 16, wobei zumindest ein Teil der Verbindungseinheiten, insbesondere sämtliche Verbindungseinheiten, der Verbindungseinrichtung wenigstens zwei Abschnitte unterschiedlicher Steifigkeit entlang ihrer Längsachse aufweisen. An optical arrangement according to claim 16, wherein at least a part of the connection units, in particular all connection units, of the connection device have at least two sections of different stiffness along their longitudinal axis.

Optische Anordnung nach Anspruch 16, wobei – der Stützabschnitt in dem durch die Stützstruktur abgestützten Zustand eine vorgegebbare Sollgeometrie aufweist, und – die wenigstens eine Verbindungseinheit in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine abgestimmte Stützkraft erzeugt, wobei – die abgestimmte Stützkraft der wenigstens einen Verbindungseinheit mittels des wenigstens einen elastischen Elements derart auf die Stützkraft der übrigen Verbindungseinheiten der Verbindungseinrichtung abgestimmt ist, dass eine deformationsbedingte maximale Positionsabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 1 µm vorzugsweise weniger als 100 nm, weiter vorzugsweise weniger als 10 nm, beträgt und/oder eine maximale Winkelabweichung eines Punktes des Stützabschnittes von der Sollgeometrie in dem abgestützten Zustand in wenigstens einem vorgebbaren Teilabschnitt des Stützabschnittes weniger als 10 mrad vorzugsweise weniger als 5 mrad, weiter vorzugsweise weniger als 2 mrad, beträgt. An optical arrangement according to claim 16, wherein - The support portion in the supported by the support structure state has a predetermined target geometry, and - The at least one connection unit in the supported state of the optical module generates a coordinated supporting force, wherein - The coordinated supporting force of the at least one connecting unit by means of the at least one elastic element is tuned to the supporting force of the other connection units of the connecting device such that a deformation-induced maximum positional deviation of a point of the support portion of the desired geometry in the supported state in at least one predetermined portion of the support section less is preferably less than 100 nm, more preferably less than 10 nm, and / or a maximum angular deviation of a point of the support section from the desired geometry in the supported state in at least one predeterminable section of the support section less than 10 mrad, preferably less than 5 mrad , more preferably less than 2 mrad.

Optische Anordnung nach Anspruch 16, wobei – die wenigstens eine Verbindungseinheit eine erste Verbindungseinheit ist, die in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine erste Stützkraft ausübt, und – die Verbindungseinrichtung wenigstens eine von der ersten Verbindungseinheit verschiedene zweite Verbindungseinheit umfasst, wobei – die zweite Verbindungseinheit in dem abgestützten Zustand des optischen Moduls eine von der ersten Stützkraft verschiedene zweite Stützkraft ausübt. An optical arrangement according to claim 16, wherein - The at least one connection unit is a first connection unit which exerts a first support force in the supported state of the optical module, and - The connecting device comprises at least one of the first connection unit different second connection unit, wherein - The second connection unit in the supported state of the optical module exerts a second support force different from the first support force.

Optische Anordnung nach Anspruch 16, wobei die Verbindungseinrichtung wenigstens vier Verbindungseinheiten, vorzugsweise wenigstens sechs Verbindungseinheiten, weiter vorzugsweise wenigstens neun Verbindungseinheiten, umfasst. An optical arrangement according to claim 16, wherein the connection means comprises at least four connection units, preferably at least six connection units, more preferably at least nine connection units.

Optische Anordnung nach Anspruch 16, wobei zumindest die wenigstens einen Verbindungseinheit, insbesondere alle Verbindungseinheiten der Verbindungseinrichtung, als hängende Verbindungseinheit ausgebildet ist, über welche das optische Modul in dem abgestützten Zustand an der Stützstruktur aufgehängt ist. Optical arrangement according to claim 16, wherein at least the at least one connection unit, in particular all connection units of Connecting device, is designed as a hanging connection unit, via which the optical module is suspended in the supported state on the support structure.

Optische Anordnung nach Anspruch 16, wobei – das optische Modul eine Mehrzahl von optischen Elementen umfasst, die von einer Haltestruktur, insbesondere einem Gehäuse, gehalten werden, und – der Stützabschnitt von einem Teil der Haltestruktur gebildet ist. An optical arrangement according to claim 16, wherein - The optical module comprises a plurality of optical elements, which are held by a holding structure, in particular a housing, and - The support portion is formed by a part of the support structure.