DE102012022136B4 - Halbleiter-Gassensor und Verfahren zur Messung eines Restgasanteils mit einem Halbleiter-Gassensor - Google Patents
Halbleiter-Gassensor und Verfahren zur Messung eines Restgasanteils mit einem Halbleiter-Gassensor Download PDFInfo
- Publication number
- DE102012022136B4 DE102012022136B4 DE102012022136.3A DE102012022136A DE102012022136B4 DE 102012022136 B4 DE102012022136 B4 DE 102012022136B4 DE 102012022136 A DE102012022136 A DE 102012022136A DE 102012022136 B4 DE102012022136 B4 DE 102012022136B4
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- gas
- layer
- control electrode
- semiconductor
- gas sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 94
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 5
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 28
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 12
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 239000000446 fuel Substances 0.000 claims description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 45
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 abstract description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 2
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 1
- JUWSSMXCCAMYGX-UHFFFAOYSA-N gold platinum Chemical compound [Pt].[Au] JUWSSMXCCAMYGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021341 titanium silicide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/403—Cells and electrode assemblies
- G01N27/414—Ion-sensitive or chemical field-effect transistors, i.e. ISFETS or CHEMFETS
- G01N27/4141—Ion-sensitive or chemical field-effect transistors, i.e. ISFETS or CHEMFETS specially adapted for gases
- G01N27/4143—Air gap between gate and channel, i.e. suspended gate [SG] FETs
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
- G01N33/0009—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment
- G01N33/0027—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment concerning the detector
- G01N33/0036—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment concerning the detector specially adapted to detect a particular component
- G01N33/004—CO or CO2
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
Halbleiter-Gassensor (10) auf der Basis eines Feldeffekttransistors, – der eine durch einen Spalt von einem Kanalbereich (50) getrennte gassensitive Steuerelektrode (100) aufweist und als Suspended Gate Feldeffekttransistor (SGFET) ausgebildet ist, oder – die Steuerelektrode (100) als eine erste Platte eines Kondensators mit Spalt angeordnet ist und eine zweite Platte (290) des Kondensators mit einem Gate (270) des als Capacitve Controlled ausgebildeten Feldeffekttransistors (CCFET) verbunden ist, und die Steuerelektrode (100) eine Halbleiter-Trägerschicht (130) oder metallisch leitende Trägerschicht mit einer aufliegenden Haftvermittlerschicht (120) und einer auf der Haftvermittlerschicht (120) aufliegenden gassensitiven Schicht (110) aufweist, und – die Oberfläche der gassensitiven Schicht (110) dem Kanalbereich (50) oder der zweiten Platte (290) zugewandt ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuerelektrode (100) als gassensitive Schicht (110) eine Platin/Gold Legierung mit einem Goldanteil in einem Bereich von 1% bis 20% aufweist und auf der Oberfläche der Platin/Goldlegierung eine Polymerschicht mit einer Dicke unterhalb 100 nm ausgebildet ist und der Spalt mit einem sauerstofffreien Gasgemisch oder einem Gasgemisch mit einem Sauerstoffanteil unterhalb 0,1% ausgefüllt ist.
Description
- Die Erfindung betrifft einen Halbleiter-Gassensor gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 und ein Verfahren zur Messung eines Restgasanteils mit einem Halbleiter-Gassensor gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 7.
- Aus der
DE 199 12 100 A1 ist ein elektrochemischer Gassensor offenbart, der auf oxidierbare Gaskomponenten wie beispielsweise CO anspricht und hierbei jedoch die Gleichgewichtseinstellung eines Gasgemisches welches Sauerstoff enthält, katalytisch nicht verändert. Für die Messelektrode wird eine Platin/Gold Legierung mit einem Goldanteil in einem Bereich zwischen 0,5% bis 20%, vorzugsweise mit einem Goldanteil von 10% verwendet. Die Betriebstemperatur des Sensors liegt bei etwa 500°C. von 10% verwendet. Die Betriebstemperatur des Sensors liegt bei etwa 500°C. Des Weiteren sind aus derEP 2 105 734 A1 , derEP 2 105 732 A1 und derEP 1079 229 A1 weitere Gassensoren bekannt. - Aus der Druckschrift „M. Zimmer et al, Gold und Platinium as ozone sensitve layer in work-function gas sensors, Sensors and Actuators, B80 (2001) 174–178” ist ein als HSGFET (Hybrid Suspended Gate FET) zur Detektion von Ozone ausgebildeter Halbleiter-Gassensor bekannt. Es zeigte sich, dass eine Platinelektrode keine Empfindlichkeit gegenüber Kohlenmonoxid aufweist. Im Unterschied zu den elektrochemischen Sensoren findet bei den HSGFET Sensoren oder den SGFET Sensoren eine Detektion von Gasen über eine Änderung der Austrittsarbeit an der gassensitiven Schicht statt. Derartige Sensoren werden im Allgemeinen weit unterhalb von 500°C betrieben.
- Vor diesem Hintergrund besteht die Aufgabe der Erfindung darin, einen Halbleiter-Gassensor anzugeben, der den Stand der Technik weiterbildet.
- Die Aufgabe wird durch einen Halbleiter-Gassensor mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 und durch ein Verfahren zur Messung eines Restgasanteils mit einem Halbleiter-Gassensor mit den Merkmalen des Patentanspruchs 7 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand von Unteransprüchen.
- Gemäß dem ersten Gegenstand der Erfindung wird ein Halbleiter-Gassensor, vorzugsweise eingerichtet zu einer Bestimmung von Kohlenmonoxid, auf der Basis eines Feldeffekttransistors bereitgestellt, der eine durch einen Spalt von einem Kanalbereich getrennte gassensitive Steuerelektrode aufweist und als Suspended Gate Feldeffekttransistor ausgebildet ist oder die Steuerelektrode als eine erste Platte eines Kondensators mit Spalt angeordnet ist und eine zweite Platte des Kondensators mit einem Gate des als Capacitve Controlled ausgebildeten Feldeffekttransistors verbunden ist und die Steuerelektrode eine Halbleiter-Trägerschicht oder metallisch leitende Trägerschicht mit einer aufliegenden Haftvermittlerschicht und einer auf der Haftvermittlerschicht aufliegenden gassensitiven Schicht aufweist und die Oberfläche der gassensitiven Schicht dem Kanalbereich oder der zweiten Platte zugewandt ist, wobei die Steuerelektrode als gassensitive Schicht eine Platin/Gold Legierung mit einem Goldanteil in einem Bereich von 1% bis 20% aufweist und auf der Oberfläche der Platin/Goldlegierung eine Polymerschicht mit einer Dicke unterhalb 100 nm ausgebildet ist und der Spalt mit einem sauerstoffarmen oder sauerstofffreien Gasgemisch ausgefüllt ist. Es sei angemerkt, dass unter einem sauerstoffarmen Gemisch, ein Gasgemisch verstanden wird, dessen Sauerstoffanteil im Volumen kleiner als 0,1% ist.
- Gemäß dem zweiten Gegenstand der Erfindung wird ein Verfahren zur Messung eines Restgasanteils mit einem Halbleiter-Gassensor auf der Basis eines Feldeffekttransistors bereitgestellt, wobei der Feldeffekttransistors eine durch einen Spalt von einem Kanalbereich getrennte gassensitive Steuerelektrode aufweist und als Suspended Gate Feldeffekttransistor (SGFET) ausgebildet ist, oder die Steuerelektrode als eine erste Platte eines Kondensators mit Spalt angeordnet ist und eine zweite Platte des Kondensators mit einem Gate des als Capacitve Controlled ausgebildeten Feldeffekttransistors (CCFET) verbunden ist, und die Steuerelektrode eine Halbleiter-Trägerschicht oder metallisch leitende Trägerschicht mit einer aufliegenden Haftvermittlerschicht und einer auf der Haftvermittlerschicht aufliegenden gassensitiven Schicht aufweist, und die Oberfläche der gassensitiven Schicht dem Kanalbereich oder der zweiten Platte zugewandt ist, wobei die gassensitive Schicht eine Platin/Gold Legierung mit einem Goldanteil in einem Bereich von 1% bis 20% ausgebildet wird und auf der Oberfläche der Platin/Goldlegierung eine Polymerschicht mit einer Dicke unterhalb 100 nm ausgebildet wird, und der Steuerelektrode ein sauerstofffreies Gasgemisch zugeleitet wird und der Restgasanteil mit Kohlenmonoxid angereichert wird und die Höhe des Anteils an Kohlenmonoxid bestimmt wird.
- Es sei angemerkt, dass die Höhe des Anteils an Kohlenmonoxid sich bei dem erfindungsgemäßen Verfahren oder der Vorrichtung aus der Höhe der Spannungsänderung an der Steuerelektrode ergibt. Des Weiteren arbeitet der Halbleiter-Gassensor bei einer Detektion von Gasanteilen gegenüber einem elektrochemischen Gassensor nach einem völlig unterschiedlichen Wirkprinzip. Anstelle einer chemischen oder katalytischen Reaktion bei einem elektrochemischen Gassensor wird bei dem Halbleiter-Gassensor auf physikalischem Wege mittels einer Bestimmung der Austrittsarbeitsänderung Gase detektiert. Hierdurch lässt sich eine Zusammensetzung einer gassensitiven Schicht von einem Sensorart auf die andere Sensorart nicht übertragen. Durch die Änderung der Austrittsarbeit an der gassensitiven Schicht des Halbleiter-Gassensors findet mittels der Steuerelektrode eine Modulation von Eigenschaften des Feldeffekttransistors (kurz FET) in Abhängigkeit der Höhe des Kohlenmonoxidanteils statt. Anders ausgedrückt, mit den unterschiedlich hohen Anteilen an Kohlenmonoxid wird die Leitfähigkeit des Kanalbereichs moduliert, d. h. bei dem SGFET wirkt die Steuerelektrode als Gate, während bei dem CCFET die Steuerelektrode indirekt mittels einer zweiten Platte, welche mit dem Gate des entfernt liegenden Feldeffekttransistors verschaltet ist, die Leitfähigkeit des Kanalbereichs moduliert.
- Ein Vorteil ist, dass sich mittels des Halbleiter-Gassensors in einer sauerstofffreien Umgebung zuverlässig und auf einfache Weise der Anteil des Kohlenmonoxids in einem Gasgemisch bestimmen lässt. Im Unterschied zu einem elektrochemischen Sensor, gemäß dem Stand der Technik, bei dem mittels eins reaktiven oxidierenden Prozesses und Temperaturen oberhalb 400°C Sauerstoff erforderlich sind, um mittels einer Pt/AU Schicht eine Oxidation von Kohlenmonoxid durchzuführen, haben Untersuchungen gezeigt, dass in völlig überraschender Weise mittels des Zusammenfügens zweier Edelmetalle Platin und Gold eine Kohlenmonoxid Detektion bei einem Halbleiter-Gassensor bei Temperaturen weit unterhalb von 200°C durchführbar ist.
- Gemäß einer Weiterbildung ist es vorteilhaft, wenn die Haftvermittlerschicht Titan enthält und eine Dicke unterhalb von 300 nm, vorzugsweise unterhalb 100 nm, höchst vorzugsweise unterhalb 50 nm aufweist. Es versteht sich, dass sich die Haftvermittlerschicht auch als Titansilizid ausbilden lässt, um hierdurch bei einem Träger aus Silizium eine besonders haltbare Zwischenschicht auszubilden.
- In einer anderen Weiterbildung liegt der Goldanteil der Legierung der gassensitiven Schicht in einem Bereich zwischen 5% und 15%, vorzugsweise liegt der Anteil bei 10%. Untersuchungen haben gezeigt, dass insbesondere bei einem Anteil von 10% Gold der Halbleiter-Gassensor eine überraschend hohe Empfindlichkeit gegenüber Kohlenmonoxid aufweist. Des Weiteren lässt sich die Sensitivität und Zuverlässigkeit des Gassensors steigern, wenn auf der gassensitiven Schicht eine Polymerschicht, vorzugsweise aus Polymethylmethacrylat, ausgebildet wird. Insbesondere ist es vorteilhaft, wenn die Polymerschicht eine Dicke im Bereich von 5 nm bis 40 nm aufweist. Höchst vorzugsweise weist die Polymerschicht eine Dicke im Bereich von 10 nm–20 nm auf.
- Ferner ist es bevorzugt, dass das Gasgemisch einen oder mehrere der Stoffe Edelgas, Wasserstoff, Wasser, Kohlendioxid und Kohlenmonoxid umfasst. Des Weiteren ist es bevorzugt, dass die Temperatur der gassensitiven Schicht und oder der Steuerelektrode in einem Bereich zwischen –40°C und 150°C liegt. Insbesondere wird eine Bestimmung des Anteils an Kohlenmonoxid bei einer Temperatur der Steuerelektrode in einem Bereich zwischen –40°C und 150°C durchgeführt. Demnach ist eine bevorzugte Verwendung des Halbleiter-Gassensor in der Bestimmung des Kohlenmonoxidgehaltes, insbesondere bei einer Brennstoffzelle.
- Die Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert. Hierbei werden gleichartige Teile mit identischen Bezeichnungen beschriftet. Die dargestellten Ausführungsformen sind stark schematisiert, d. h. die Abstände und laterale und vertikale Erstreckung sind nicht maßstäblich und weisen, sofern nicht anders angegeben auch keine ableitbare geometrische Relation zueinander auf. Darin zeigen die:
-
1 eine erste Ausführungsform des Halbleitergassensors als SGFET in einer Querschnittsdarstellung, -
2 eine zweite Ausführungsform des Halbleitergassensors als CCFET in einer Querschnittsdarstellung, -
3 eine Darstellung der Modulation der Austrittsarbeit der gassensitiven Schicht in Abhängigkeit des Kohlenmonoxidanteils. - Die Abbildung der
1 zeigt einen Halbeleiter-Gassensor10 in einer ersten Ausführungsform als SGFET, mit einem Halbleiterkörper20 , einer in dem Halbleiterkörper20 ausgebildeten ersten Wanne30 , einen in der Wanne30 ausgebildete Source40 , einen Kanalbereich50 und eine Drain60 . Auf dem Halbleiterkörper ist eine Abstandschicht70 mit einer Aussparung80 angeordnet. Mittels der Aussparung80 wird ein Spalt zwischen dem Kanalbereich50 und einer Auf der Abstandsschicht70 angeordneten Steuerelektrode100 , die auch als Suspended Gate bezeichnet wird, ausgebildet. Die Steuerelektrode100 weist auf der dem Kanalbereich50 gegenüberliegenden Seite eine gassensitive Schicht110 aus einer Platin Gold Legierung auf. Die gassensitive Schicht110 ist mittels einer Haftvermittlerschicht120 mit einer Halbleiter-Trägerschicht130 oder metallisch leitende Trägerschicht verbunden. Der Spalt ist mit einem Vorratbehälter oder der Umgebung verbunden – nicht dargestellt. Wird nun in den Spalt ein Gas oder Gasgemisch eingeleitet, welches neben anderen Bestandteilen unter anderem Kohlenmonoxid enthält, ändert sich die Austrittsarbeit der gassensitiven Schicht. Hierdurch wird mittels einer Potentialbeeinflussung die Leitfähigkeit des Kanalbereichs in Abhängigkeit von der Konzentration geändert. - In der Abbildung der
2 ist eine zweite Ausführungsform des Halbleiter-Gassensors als CCFET in einer Querschnittsdarstellung dargestellt. Im Folgenden werden nur die Unterschiede zu der Abbildung der1 erläutert. Entsprechend dem Prinzip eines kapazitiv gesteuerten FETs wirkt die Steuerelektrode100 als eine erste Platte eines Kondensators. In einer zweiten Wanne230 sind eine Source240 , ein Kanalbereich250 und eine Drain260 ausgebildet, wobei die zweite Wanne230 von der ersten Wanne30 räumlich getrennt ist. Auf dem Kanalbereich250 ist ein Gate270 ausgebildet, wobei das Gate270 mittels einer Leiterbahn280 mit einer zweiten Platte290 verschaltet ist. Die zweite Platte290 ist in der Aussparung80 ausgebildet und von der Gateelektrode100 beabstandet angeordnet. Unterhalb der zweiten Platte290 ist die Abstandssicht70 ausgebildet und deckt die zweite Wanne30 gegen Fremdeinflüsse ab. Wird in den Spalt unter anderem Kohlenmonoxid eingeleitet, ändert sich die Spannung zwischen der ersten Platte und der zweiten Platte290 und hierdurch die Spannung an dem Gate270 . Hierdurch wird in Abhängigkeit von der Konzentration die Leitfähigkeit des Kanalbereich250 geändert. - In der
3 ist eine Modulation der Austrittsarbeit der gassensitiven Schicht in Abhängigkeit des Kohlenmonoxidanteils dargestellt. Im Folgenden werden nur die Unterschiede zu den bisherigen Abbildungen erläutert. Auf der linken Ordinatenachse ist in einem oberen Bildabschnitt die Austrittsarbeit WA und in einem unteren Bildabschnitt die Temperatur aufgetragen. Auf der Abszissenachse ist für beide Bildabschnitte die Zeit t aufgetragen. Auf der rechten Ordinatenachse ist für den unteren Bildabschnitt zusätzlich die Konzentration der Anteile des in dem Spalt befindlichen Gasgemisches aufgetragen. In dem unteren Bildabschnitt wird eine schnelle zeitliche rechtförmig ausgebildete Änderung der Kohlenmonoxidkonzentration anhand einer Linie K1 dargestellt. Die langsamere zeitliche Änderung eines weiteren Gasbestandteils nämlich H2O wird mittels einer Linie K2 für eine hohe und eine niedrige Konzentration von Wasserstoffdioxid dargestellt. Des Weiteren wird mittels einer Linie K3 die Änderung der Temperatur dargestellt und zwar zuerst für eine niedrige Temperatur, anschließend für eine mittlere Temperatur und zuletzt für eine höchste Temperatur dargestellt, wobei die höchste Temperatur in einem Bereich zwischen 100°C und 150°C liegt. - In dem oberen Bildabschnitt ist mittels einer gestrichelten Linie WA1 oder einer durchgezogenen Linie WA2 die zeitliche Änderung der Austrittsarbeit in Abhängigkeit der Änderung der Kohlenmonoxidkonzentration und der Temperatur der gassensitiven Schicht und der Konzentration von H2O dargestellt. Die Linie WA1 gibt die Änderung der Austrittsarbeit für eine Legierung von ca. 20% Gold und 80% Platin, während die Linie WA2 die Änderung der Austrittsarbeit für eine Legierung von ca. 10% Gold und 90% Platin angibt. Es zeigt sich, dass sich die Austrittsarbeit für beide Legierungen sehr schnell und deutlich in Abhängigkeit der Kohlenmonoxidkonzentration ändert. Des Weiteren zeigt sich, dass die eine Erhöhung der Temperatur die Lage der Linen WA1 und WA2 zwar verschiebt, jedoch die Empfindlichkeit auf einen Änderung des Kohlenmonoxidgehaltes bestehen bleibt. Ferner hat eine Änderung der H2o- Konzentration nur einen geringen Einfluss auf die Modulation der Austrittsarbeit aufgrund der Änderung der Kohlenmonoxidkonzentration.
Claims (11)
- Halbleiter-Gassensor (
10 ) auf der Basis eines Feldeffekttransistors, – der eine durch einen Spalt von einem Kanalbereich (50 ) getrennte gassensitive Steuerelektrode (100 ) aufweist und als Suspended Gate Feldeffekttransistor (SGFET) ausgebildet ist, oder – die Steuerelektrode (100 ) als eine erste Platte eines Kondensators mit Spalt angeordnet ist und eine zweite Platte (290 ) des Kondensators mit einem Gate (270 ) des als Capacitve Controlled ausgebildeten Feldeffekttransistors (CCFET) verbunden ist, und die Steuerelektrode (100 ) eine Halbleiter-Trägerschicht (130 ) oder metallisch leitende Trägerschicht mit einer aufliegenden Haftvermittlerschicht (120 ) und einer auf der Haftvermittlerschicht (120 ) aufliegenden gassensitiven Schicht (110 ) aufweist, und – die Oberfläche der gassensitiven Schicht (110 ) dem Kanalbereich (50 ) oder der zweiten Platte (290 ) zugewandt ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuerelektrode (100 ) als gassensitive Schicht (110 ) eine Platin/Gold Legierung mit einem Goldanteil in einem Bereich von 1% bis 20% aufweist und auf der Oberfläche der Platin/Goldlegierung eine Polymerschicht mit einer Dicke unterhalb 100 nm ausgebildet ist und der Spalt mit einem sauerstofffreien Gasgemisch oder einem Gasgemisch mit einem Sauerstoffanteil unterhalb 0,1% ausgefüllt ist. - Halbleiter-Gassensor (
10 ) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Goldanteil zwischen 5% und 15% beträgt. - Halbleiter-Gassensor (
10 ) nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das die Polymerschicht Polymethylmethacrylat enthält. - Halbleiter-Gassensor (
10 ) nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Polymerschicht eine Dicke im Bereich von 5 nm bis 15 nm aufweist. - Halbleiter-Gassensor (
10 ) nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Gasgemisch Wasserstoff und Kohlenmonoxid umfasst. - Halbleiter-Gassensor (
10 ) nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das die Steuerelektrode (100 ) eine Temperatur zwischen –40°C und 150°C aufweist. - Verfahren zur Messung eines Restgasanteils mit einem Halbleiter-Gassensor (
10 ) auf der Basis eines Feldeffekttransistors, – der eine durch einen Spalt von einem Kanalbereich (50 ) getrennte gassensitive Steuerelektrode (100 ) aufweist und als Suspended Gate Feldeffekttransistor (SGFET) ausgebildet ist, oder – die Steuerelektrode (100 ) als eine erste Platte eines Kondensators mit Spalt angeordnet ist und eine zweite Platte (290 ) des Kondensators mit einem Gate des als Capacitve Controlled ausgebildeten Feldeffekttransistors (CCFET) verbunden ist, und die Steuerelektrode (100 ) eine Halbleiter-Trägerschicht (130 ) oder metallisch leitende Trägerschicht mit einer aufliegenden Haftvermittlerschicht (120 ) und einer auf der Haftvermittlerschicht aufliegenden gassensitiven Schicht (110 ) aufweist, und – die Oberfläche der gassensitiven Schicht (110 ) dem Kanalbereich (50 ) oder der zweiten Platte (290 ) zugewandt ist, dadurch gekennzeichnet, dass die gassensitive Schicht (110 ) als eine Platin/Gold Legierung mit einem Goldanteil in einem Bereich von 1% bis 20% ausgebildet wird und auf der Oberfläche der Platin/Goldlegierung eine Polymerschicht mit einer Dicke unterhalb 100 nm ausgebildet wird, und der Steuerelektrode (100 ) ein sauerstofffreies Gasgemisch zugeleitet wird und der Restgasanteil mit Kohlenmonoxid angereichert wird und die Höhe des Anteils an Kohlenmonoxid bestimmt wird. - Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestimmung des Anteils an Kohlenmonoxid bei einer Temperatur der Steuerelektrode in einem Bereich zwischen –40°C und 150°C durchgeführt wird.
- Verfahren nach Anspruch 7 oder Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass dem Gasgemisch Wasserstoff beigefügt wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass dem Gasgemisch Wasserdampf beigefügt wird.
- Verwendung des Halbleiter-Gassensors (
10 ) nach einem der vorstehenden Ansprüche zur Bestimmung des Kohlenmonoxidgehaltes bei einer Brennstoffzelle.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102012022136.3A DE102012022136B4 (de) | 2011-11-21 | 2012-11-13 | Halbleiter-Gassensor und Verfahren zur Messung eines Restgasanteils mit einem Halbleiter-Gassensor |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102011118931.2 | 2011-11-21 | ||
DE102011118931 | 2011-11-21 | ||
DE102012022136.3A DE102012022136B4 (de) | 2011-11-21 | 2012-11-13 | Halbleiter-Gassensor und Verfahren zur Messung eines Restgasanteils mit einem Halbleiter-Gassensor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102012022136A1 DE102012022136A1 (de) | 2013-05-23 |
DE102012022136B4 true DE102012022136B4 (de) | 2014-01-23 |
Family
ID=48222117
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102012022136.3A Active DE102012022136B4 (de) | 2011-11-21 | 2012-11-13 | Halbleiter-Gassensor und Verfahren zur Messung eines Restgasanteils mit einem Halbleiter-Gassensor |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8899098B2 (de) |
DE (1) | DE102012022136B4 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014017194A1 (de) | 2014-11-21 | 2016-05-25 | Micronas Gmbh | Halbleiter-Gassensor |
DE102021111431A1 (de) | 2020-06-29 | 2021-12-30 | Dräger Safety AG & Co. KGaA | Überwachungssystem |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9170165B2 (en) * | 2013-03-25 | 2015-10-27 | Globalfoundries U.S. 2 Llc | Workfunction modulation-based sensor to measure pressure and temperature |
DE102013016330A1 (de) | 2013-10-05 | 2015-04-09 | Micronas Gmbh | Schichtsystem |
DE102013016331A1 (de) * | 2013-10-05 | 2015-04-09 | Micronas Gmbh | Schichtsystem |
DE102014000343A1 (de) * | 2014-01-11 | 2015-07-16 | Dräger Safety AG & Co. KGaA | Gasmessgerät |
CN104062321B (zh) * | 2014-07-08 | 2016-08-24 | 苏州纳格光电科技有限公司 | 功能区为网格状的半导体气体传感器 |
DE102014016394B4 (de) | 2014-11-07 | 2022-09-08 | Dräger Safety AG & Co. KGaA | Gassensor und Gasmessgerät zum Nachweis volatiler organischer Verbindungen |
DE102014226816A1 (de) * | 2014-12-22 | 2016-06-23 | Robert Bosch Gmbh | Halbleiterbasierte Gassensoranordnung zum Detektieren eines Gases und entsprechendes Herstellungsverfahren |
DE102016004338B4 (de) * | 2016-04-13 | 2019-03-21 | Drägerwerk AG & Co. KGaA | Verwendung eines Gassensor für Anästhesiegasse |
JP6783706B2 (ja) * | 2017-06-12 | 2020-11-11 | 日本碍子株式会社 | ガスセンサ素子に備わる電極の検査方法 |
US11636870B2 (en) | 2020-08-20 | 2023-04-25 | Denso International America, Inc. | Smoking cessation systems and methods |
US11828210B2 (en) | 2020-08-20 | 2023-11-28 | Denso International America, Inc. | Diagnostic systems and methods of vehicles using olfaction |
US11760169B2 (en) | 2020-08-20 | 2023-09-19 | Denso International America, Inc. | Particulate control systems and methods for olfaction sensors |
US11813926B2 (en) | 2020-08-20 | 2023-11-14 | Denso International America, Inc. | Binding agent and olfaction sensor |
US12017506B2 (en) | 2020-08-20 | 2024-06-25 | Denso International America, Inc. | Passenger cabin air control systems and methods |
US11932080B2 (en) | 2020-08-20 | 2024-03-19 | Denso International America, Inc. | Diagnostic and recirculation control systems and methods |
US11881093B2 (en) | 2020-08-20 | 2024-01-23 | Denso International America, Inc. | Systems and methods for identifying smoking in vehicles |
US11760170B2 (en) | 2020-08-20 | 2023-09-19 | Denso International America, Inc. | Olfaction sensor preservation systems and methods |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1079229A1 (de) * | 1998-07-27 | 2001-02-28 | General Electric Company | Gassensor mit Schutzgate, sowie Methode zu dessen Herstellung und Messmethode |
EP2105732A1 (de) * | 2008-03-26 | 2009-09-30 | Micronas GMBH | Verfahren zum Messen der Konzentration eines Gases |
EP2105734A1 (de) * | 2008-03-26 | 2009-09-30 | Micronas GmbH | Gassensor |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19912100B4 (de) | 1999-03-18 | 2004-03-04 | Robert Bosch Gmbh | Elektrochemischer Gassensor |
TWI328837B (en) * | 2003-02-28 | 2010-08-11 | Semiconductor Energy Lab | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
US8058802B2 (en) * | 2007-09-28 | 2011-11-15 | General Electric Company | Thermal management article and method |
US20110114914A1 (en) * | 2008-07-25 | 2011-05-19 | Hideaki Numata | Field effect transistor and circuit device |
KR101845480B1 (ko) * | 2010-06-25 | 2018-04-04 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치의 제작 방법 |
-
2012
- 2012-11-13 DE DE102012022136.3A patent/DE102012022136B4/de active Active
- 2012-11-21 US US13/683,235 patent/US8899098B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1079229A1 (de) * | 1998-07-27 | 2001-02-28 | General Electric Company | Gassensor mit Schutzgate, sowie Methode zu dessen Herstellung und Messmethode |
EP2105732A1 (de) * | 2008-03-26 | 2009-09-30 | Micronas GMBH | Verfahren zum Messen der Konzentration eines Gases |
EP2105734A1 (de) * | 2008-03-26 | 2009-09-30 | Micronas GmbH | Gassensor |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014017194A1 (de) | 2014-11-21 | 2016-05-25 | Micronas Gmbh | Halbleiter-Gassensor |
DE102014017194B4 (de) | 2014-11-21 | 2022-08-18 | Tdk-Micronas Gmbh | Halbleiter-Gassensor |
DE102021111431A1 (de) | 2020-06-29 | 2021-12-30 | Dräger Safety AG & Co. KGaA | Überwachungssystem |
WO2022002555A1 (de) | 2020-06-29 | 2022-01-06 | Dräger Safety AG & Co. KGaA | Überwachungssystem |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102012022136A1 (de) | 2013-05-23 |
US8899098B2 (en) | 2014-12-02 |
US20130139570A1 (en) | 2013-06-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102012022136B4 (de) | Halbleiter-Gassensor und Verfahren zur Messung eines Restgasanteils mit einem Halbleiter-Gassensor | |
EP0823049B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum fortlaufenden nachweis wenigstens einer substanz in einem gasförmigen oder flüssigen gemisch mittels einer sensorelektrode | |
DE69706359T2 (de) | Verfahren zur Bestimmung von Stickoxyd | |
DE19622931C2 (de) | Elektrochemischer Mehrgassensor | |
DE102008033828B4 (de) | Elektrochemischer Gassensor | |
DE2006682A1 (de) | Polarographie-Meßfühler | |
WO2005103668A1 (de) | Verfahren zur messung von gasen und/ oder minimierung von querempfindlichkeiten bei fet-basierten gassensoren | |
EP1738158A1 (de) | Fet-basierter gassensor | |
DE1932581A1 (de) | Verfahren und Anordnung zur Bestimmung des Glukose-Gehaltes von biologischen Fluessigkeiten | |
DE2559959C2 (de) | Anordnung zum Kompensieren von Sauerstoffpartialdruckschwankungen bei Vorrichtungen zum Nachweis gasförmiger Anhydride in einem sauerstoffhaltigen Gas nach dem Prinzip der Potentialdifferenzmessung | |
DE2365477A1 (de) | Elektrochemische vorrichtung zur bestimmung des sauerstoffgehaltes eines fludes | |
DE102005033226A1 (de) | Verfahren zur gleichzeitigen Detektion mehrerer unterschiedlicher Luftbelastungen | |
DE102005047443A1 (de) | Gassensor | |
DE102019120446A1 (de) | Verfahren zur Korrektur von zwei Messwerten von jeweils verschiedener Analysenmessgeräte sowie Messstelle zum Ausführen des Verfahrens | |
DE10322894A1 (de) | Chloritsensor | |
EP1164186B1 (de) | Verfahren zur Untersuchung von membranumschlossenen Biokompartimenten | |
DE102006033058B3 (de) | Sensor zur Wasserstoff-Detektion | |
DE10116184A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Erfassung der Konzentration einer sauerstoffhaltigen Verbindung in einem Meßgas | |
DE69029446T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Minimierung der Effekte, des in einem Elektrolyten gelösten Sauerstoffgehaltes, bei Analysatoren für niedrige Sauerstoffkonzentrationen | |
DE102007035318A1 (de) | Verfahren und Schaltungsanordnung zum Betreiben einer Breitbandlambdasonde | |
DE102018125070A1 (de) | Nanoskaliger Quecksilber-Ionen-Sensor und Verfahren zu dessen Herstellung, sowie Verfahren zur Detektion von Hg2+-Ionen | |
DE3108665A1 (de) | Spuer- und messgeraet fuer schaedliche gase | |
EP1489408A1 (de) | Verfahren und Sensor zum Bestimmen eines chemischen Elements | |
DE102015102945B3 (de) | Phosphatelektrode und Verfahren zur Bestimmung der Phosphatkonzentration | |
EP0913687B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Detektion schwerflüchtiger Substanzen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final | ||
R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20141024 |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: TDK-MICRONAS GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: MICRONAS GMBH, 79108 FREIBURG, DE |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: KOCH-MUELLER PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH, DE |