DE102011053340A1 - Continuous furnace of substrate processing system, has heating unit and gas supply unit that are formed inside the interior spaces - Google Patents

Continuous furnace of substrate processing system, has heating unit and gas supply unit that are formed inside the interior spaces Download PDF

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Abstract

The furnace (1,1') has a division walls (4-6) that are formed in the interior spaces (7,8). The division walls are arranged separated from each other and from transport system (9,10). The heating unit (11,12) and gas supply unit (13,14) are formed inside the interior spaces. Independent claims are included for the following: (1) substrate processing system; and (2) method for processing substrate.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Durchlaufofen mit einem in einer Transportrichtung Substrate durch den Durchlaufofen transportierenden Rollentransportsystem mit Transportrollen, deren Achsen horizontal und quer zu der Transportrichtung angeordnet sind und die sich ununterbrochen über die Ofeninnenraumbreite des Durchlaufofens erstrecken. Die Erfindung betrifft ferner ein Substratbearbeitungssystem mit einem solchen Durchlaufofen. Zudem betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Bearbeiten von Substraten in einem Durchlaufofen, wobei die Substrate mittels eines Rollentransportsystems mit Transportrollen in einer Transportrichtung durch den Durchlaufofen transportiert werden, wobei die Achsen der Transportrollen horizontal und quer zu der Transportrichtung angeordnet sind und sich die Transportrollen ununterbrochen über die Ofeninnenraumbreite des Durchlaufofens erstrecken. The present invention relates to a continuous furnace with a in a transport direction substrates through the continuous furnace transporting roller transport system with transport rollers whose axes are arranged horizontally and transversely to the transport direction and which extend continuously over the furnace interior width of the continuous furnace. The invention further relates to a substrate processing system with such a continuous furnace. In addition, the present invention relates to a method for processing substrates in a continuous furnace, the substrates are transported by means of a roller transport system with transport rollers in a transport direction through the continuous furnace, the axes of the transport rollers are arranged horizontally and transversely to the transport direction and the transport rollers uninterrupted extend over the furnace interior width of the continuous furnace.

Durchlauföfen und Verfahren der oben genannten Gattung sind in vielfältigen Ausführungen im Stand der Technik zu finden. Beispielsweise können solche Durchlauföfen und die entsprechenden Verfahren zur Bearbeitung von Substraten für die Herstellung von Solarzellen verwendet werden. Dabei können in derartigen Durchlauföfen und entsprechenden Verfahren Schichtabscheidungen, Dotierungen oder Temperaturbehandlungen, das heißt sogenannte Feuerungsschritte, an den Substraten vorgenommen werden. Continuous furnaces and methods of the above-mentioned type can be found in various designs in the prior art. For example, such continuous furnaces and the corresponding methods for processing substrates for the production of solar cells can be used. Layer depositions, doping or temperature treatments, that is to say so-called firing steps, can be carried out on the substrates in such continuous furnaces and corresponding processes.

Durchlauföfen der oben genannten Gattung weisen ein Rollentransportsystem mit Transportrollen auf, auf welchen die zu bearbeitenden Substrate während der Bearbeitung in dem Durchlaufofen aufliegen. Die Transportrollen werden zum Transportieren der Substrate durch den Durchlaufofen gedreht, wodurch sich die Substrate in der Transportrichtung in einer horizontalen Ebene durch den Durchlaufofen bewegen. Continuous ovens of the above-mentioned type have a roller transport system with transport rollers on which rest the substrates to be processed during processing in the continuous furnace. The transport rollers are rotated to transport the substrates through the continuous furnace, whereby the substrates move in the transport direction in a horizontal plane through the continuous furnace.

Zur Bearbeitung der Substrate in den im Stand der Technik bekannten Durchlauföfen werden bestimmte Bearbeitungsregime eingestellt. Hierzu werden in den Ofeninnenräumen bestimmte Temperaturen oder Temperaturverläufe mittels der in dem Durchlaufofen vorgesehenen Heizung eingestellt. Als Heizung können beispielsweise oberhalb der Transportrollen angeordnete Heizlampen verwendet werden. For processing the substrates in the known in the art furnaces certain processing regimes are set. For this purpose, certain temperatures or temperature profiles are adjusted in the furnace interiors by means of the heating provided in the continuous furnace. As heating, for example, arranged above the transport rollers heating lamps can be used.

Je nachdem, welche Substratbearbeitung in dem jeweiligen Durchlaufofen durchgeführt werden soll, besitzen diese Durchlauföfen typischerweise auch Gasversorgungen mit entsprechenden Gaseinlässen und Gasabsaugungen. Hierdurch können die für die jeweilige Bearbeitung notwendigen Gase in den Durchlaufofen eingebracht und aus diesem wieder abgesaugt werden. Depending on which substrate processing is to be carried out in the respective continuous furnace, these furnaces typically also have gas supplies with corresponding gas inlets and Gasabsaugungen. As a result, the necessary for the respective processing gases can be introduced into the continuous furnace and sucked out of this again.

Häufig werden beispielsweise in sogenannten Feuerungsöfen Substrate aus unterschiedlichen Vorprozessierungen zusammengeführt und in einem einzigen Durchlaufofen temperaturbehandelt. Eigentlich benötigen jedoch Substrate, die unterschiedlichen Vorprozessierungen ausgesetzt waren, jeweils andere Prozessbedingungen bei der späteren Temperaturbehandlung. Andererseits ist es notwendig, die sowohl in ihrer Anschaffung als auch bei der Prozessführung mit einigen Kosten verbundenen Feuerungs-Durchlauföfen möglichst effizient auszunutzen. Es ist damit nicht wirtschaftlich, in solche Öfen nur einzelne Substrate einzuspeisen, an diesen eine Temperaturbehandlung vorzunehmen und erst daraufhin einen nächsten Prozess zu starten, in welchem andere Substrate bei anderen Temperaturbedingungen oder Gaseinflüssen behandelt werden. Frequently, for example, in so-called firing furnaces, substrates from different preprocessings are combined and heat-treated in a single continuous furnace. Actually, however, substrates that have been exposed to different pre-processing, each require different process conditions in the subsequent temperature treatment. On the other hand, it is necessary to make the most efficient use of the firing furnaces associated with their acquisition as well as the process management with some costs. It is therefore not economical to feed such substrates into individual substrates, to carry out a temperature treatment on these and only then to start a next process in which other substrates are treated under different temperature conditions or gas influences.

Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Durchlaufofen und ein in diesem ausführbares Verfahren zum Bearbeiten von Substraten vorzuschlagen, welche es ermöglichen, den Durchlaufofen bei gleicher Qualität der Substratbehandlungsergebnisse wesentlich effizienter nutzen zu können. Vorzugsweise soll gemäß der vorliegenden Erfindung zudem ein Substratbearbeitungssystem vorgeschlagen werden, in welchem der vorzuschlagende Durchlaufofen zum Einsatz kommen kann. It is therefore the object of the present invention to propose a continuous furnace and an executable in this process for processing substrates, which make it possible to use the continuous furnace with the same quality of the substrate treatment results much more efficient. Preferably, according to the present invention, a substrate processing system should also be proposed, in which the continuous furnace to be proposed can be used.

Diese Aufgabe wird einerseits durch einen Durchlaufofen der oben genannten Gattung gelöst, wobei der Durchlaufofen wenigstens eine vertikal und in der Transportrichtung ausgerichtete Raumteilungswand aufweist, welche den Ofeninnenraum des Durchlaufofens in Ofeninnenteilräume unterteilt, in welchen voneinander durch die wenigstens eine Raumteilungswand getrennte Transportsystemspuren ausgebildet sind, wobei die Ofeninnenteilräume jeweils eine eigene Heizung und eine eigene Gasversorgung aufweisen. This object is achieved on the one hand by a continuous furnace of the abovementioned type, wherein the continuous furnace has at least one vertical and in the direction of transport aligned partition wall dividing the furnace interior of the continuous furnace in furnace interior part spaces in which separate from each other through the at least one partition wall transport system tracks are formed the furnace inner part spaces each have their own heating and their own gas supply.

Durch den erfindungsgemäßen Durchlaufofen ist es möglich, wenigstens zwei voneinander getrennte Transportsystemspuren mit unterschiedlichen Temperatur- und Gasverhältnissen auszubilden. Somit können auf den wenigstens zwei dadurch ausgebildeten Transportsystemspuren Substrate bei unterschiedlichen Temperatur- und Gasverhältnissen prozessiert werden. Man benötigt also erfindungsgemäß einen einzigen Durchlaufofen und kann dennoch gleichzeitig Substrate bei unterschiedlichen Bedingungen prozessieren. Hierdurch kann eine nahezu ideale Behandlung der jeweiligen Substrate vorgenommen werden und dennoch der Durchlaufofen höchst effizient ausgenutzt werden. Dies stellt einen bedeutenden Vorteil gegenüber dem Stand der Technik dar, in welchem zum Erreichen des gleichen Ergebnisses mehrere Durchlauföfen erforderlich gewesen wären, die zeitlich parallel betrieben werden müssten. By the continuous furnace according to the invention, it is possible to form at least two separate transport system tracks with different temperature and gas ratios. Thus, substrates can be processed at different temperature and gas ratios on the at least two transport system tracks formed thereby. Thus, according to the invention, it is necessary to use a single continuous furnace and yet at the same time be able to process substrates under different conditions. In this way, a nearly ideal treatment of the respective substrates can be made and yet the continuous furnace can be used very efficiently. This represents a significant advantage over the state of the art Technique in which to achieve the same result several continuous furnaces would have been required, which would have to be operated parallel in time.

Gemäß einer Ausführungsvariante der vorliegenden Erfindung kann der Durchlaufofen so gestaltet sein, dass die Raumteilungswand oberhalb der Transportrollen, auf welchen die Substrate transportiert werden, vorgesehen ist. So kann die Raumteilungswand den für die Behandlung der Oberfläche der Substrate entscheidenden Bereich des Ofeninnenraums des Durchlaufofens vorteilhaft in unterschiedliche Ofeninnenteillräume trennen, in welchen die Substrate geeigneten Temperatur- und Gasbedingungen ausgesetzt sind. According to one embodiment of the present invention, the continuous furnace may be designed so that the space dividing wall above the transport rollers on which the substrates are transported, is provided. Thus, the partition wall separating the decisive for the treatment of the surface of the substrates area of the furnace interior of the continuous furnace advantageously separate into different furnace interior parts spaces in which the substrates are exposed to suitable temperature and gas conditions.

In einer anderen Variante der vorliegenden Erfindung ist es auch möglich, dass die Raumteilungswand unterhalb der Transportrollen, auf welchen die Substrate transportiert werden, vorgesehen ist. So können beispielsweise Heizaggregate, die unter den Transportrollen vorgesehen sind, geeignet thermisch voneinander getrennt werden. In another variant of the present invention, it is also possible that the space dividing wall below the transport rollers, on which the substrates are transported, is provided. For example, heating units, which are provided under the transport rollers, are suitably thermally separated from each other.

Selbstverständlich ist es in einer weiteren Variante der vorliegenden Erfindung auch möglich, dass die wenigstens eine Raumteilungswand sowohl oberhalb als auch unterhalb der Transportrollen, auf welchen die Substrate transportiert werden, vorgesehen ist. Of course, it is also possible in a further variant of the present invention for the at least one partition wall to be provided both above and below the transport rollers on which the substrates are transported.

In einem ebenfalls günstigen Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung ist der Durchlaufofen so gestaltet, dass die Transportrollen durch die Raumteilungswand hindurchgeführt sind. Das heißt, in dieser Variante der Erfindung ist die Raumteilungswand durchgehend durch die Ebene der Transportrollen ausgebildet. Die Transportrollen sind durch entsprechende Öffnungen in der Raumteilungswand hindurchgeführt. In an equally favorable embodiment of the present invention, the continuous furnace is designed so that the transport rollers are passed through the partition wall. That is, in this variant of the invention, the space dividing wall is formed continuously through the plane of the transport rollers. The transport rollers are passed through corresponding openings in the partition wall.

Bei dieser Variante der Erfindung kann es hilfreich sein, an den Durchführungen der Transportrollen durch die Raumteilungswand entsprechende Dichtungen vorzusehen, welche jedoch ein Drehen der Transportrollen nicht behindern. In this variant of the invention, it may be helpful to provide corresponding seals on the bushings of the transport rollers through the partition wall, which, however, do not hinder rotation of the transport rollers.

Vorzugsweise sind den Ofeninnenteilräumen separat regelbare Gaseinlässe und/oder Gasabsaugungen zugeordnet, sodass sowohl der Gaseinlass als auch der Gasauslass geeignet für jeden der Ofeninnenteilräume eingestellt werden kann. Separately controllable gas inlets and / or gas extractors are preferably associated with the furnace interior part spaces, so that both the gas inlet and the gas outlet can be suitably adjusted for each of the furnace interior part spaces.

Es hat sich als besonders vorteilhaft erwiesen, wenn gemäß einer Variante der vorliegenden Erfindung die wenigstens eine Raumteilungswand eine thermisch isolierende Wand ist. Somit können die einzelnen Ofeninnenteilräume des Durchlaufofens unabhängig von dem jeweils daneben befindlichen Ofeninnenteilraum hinsichtlich ihrer Temperaturverhältnisse eingestellt werden. It has proved to be particularly advantageous if, according to a variant of the present invention, the at least one partition wall is a thermally insulating wall. Thus, the individual furnace internal part spaces of the continuous furnace can be adjusted independently of the respectively adjacent furnace interior compartment with respect to their temperature conditions.

Dabei ist es besonders vorteilhaft, wenn die wenigstens eine Raumteilungswand eine evakuierte Edelstahl-Hohlwand ist. Eine solche Edelstahl-Hohlwand zeichnet sich durch besonders gute thermische Isolation aus. It is particularly advantageous if the at least one partition wall is an evacuated stainless steel cavity wall. Such a stainless steel cavity wall is characterized by particularly good thermal insulation.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung wird zudem durch ein Substratbearbeitungssystem mit einer Variante des erfindungsgemäßen Durchlaufofens gelöst, wobei der Durchlaufofen ein Feuerofen mit wenigstens zwei Transportsystemspuren ist, vor dem wenigstens zwei einzelne einspurige Schichtdruckvorrichtungen vorgesehen sind, wobei ein Substrattransportmechanismus zum Transport der Substrate aus jeder Schichtdruckvorrichtung auf jeweils eine der Transportsystemspuren vorgesehen ist. The object of the present invention is also achieved by a substrate processing system with a variant of the continuous furnace according to the invention, wherein the continuous furnace is a furnace with at least two transport system tracks, in front of which at least two single-lane layer printing devices are provided, wherein a substrate transport mechanism for transporting the substrates from each layer printing device each one of the transport system tracks is provided.

Mit diesem Substratbearbeitungssystem können die Substrate zunächst auf unterschiedlichen Schichtdruckvorrichtungen mit entsprechenden Schichten versehen werden. Die Schichtdruckvorrichtungen können beispielsweise Siebdruckeinrichtungen sein. Vorzugsweise werden mit den Schichtdruckvorrichtungen sogenannte Dickschichten auf die Substrate aufgebracht. Zum nachfolgenden Temperaturbehandeln der auf die Substrate aufgebrachten Schichten ist direkt im Anschluss an die Schichtdruckvorrichtungen der erfindungsgemäße Durchlaufofen in Form eines Feuerofens vorgesehen. Da in dem erfindungsgemäßen Durchlaufofen wenigstens zwei Transportsystemspuren ausgebildet sind, obgleich nur ein einziger Ofen vorliegt, kann jede der Transportsystemspuren mit Substraten von einer der vorgelagerten Schichtdruckvorrichtungen versorgt werden. Hierdurch ist eine besonders effiziente Prozessführung möglich. Die Prozesssicherung der Substrate kann dabei konkret auf deren spezielle Anforderungen abgestellt werden. So können sowohl Temperatur- als auch Gasbedingungen auf den einzelnen Transportsystemspuren des Feuerofens genau auf die vorher auf die Substrate aufgebrachten Schichten abgestellt werden. With this substrate processing system, the substrates can first be provided on different layer printing devices with corresponding layers. The layer printing devices may be screen printing devices, for example. Preferably, with the layer printing devices so-called thick films are applied to the substrates. For subsequent temperature treatment of the layers applied to the substrates, the continuous furnace according to the invention in the form of a furnace is provided directly after the layer printing devices. Since at least two transport system tracks are formed in the continuous furnace of the present invention, although there is only a single oven, each of the transport system tracks may be supplied with substrates from one of the upstream layer printing devices. This makes a particularly efficient process management possible. The process assurance of the substrates can be tailored specifically to their specific requirements. Thus, both temperature and gas conditions on the individual transport system traces of the furnace can be placed exactly on the previously applied to the substrates layers.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung wird außerdem durch ein Verfahren der oben genannten Gattung gelöst, bei welchem die Substrate in durch wenigstens eine vertikal und in der Transportrichtung ausgerichtete Raumteilungswand voneinander getrennten Ofeninnenteilräumen auf hierdurch getrennten Transportsystemspuren bearbeitet werden, wobei Temperatur- und Gasversorgung in den Ofeninnenteilräumen separat eingestellt werden. The object of the present invention is also achieved by a method of the above-mentioned type, in which the substrates are processed in separated by at least one vertically and in the direction of transport space partition wall furnace inner part spaces on thereby separated transport system tracks, with temperature and gas supply in the furnace inner part spaces separately be set.

Damit liefert das erfindungsgemäße Verfahren eine Möglichkeit, auch auf unterschiedliche Weise vorprozessierte Substrate zeitgleich geeignet in dem Durchlaufofen bearbeiten zu können. Dabei kann die Temperatur- als auch die Gasversorgung auf die jeweiligen Anforderungen der Substrate konkret abgestellt werden. Trotz der Verwendung eines einzigen Durchlaufofens können auf den einzelnen Transportsystemspuren voneinander entkoppelte Systeme geschaffen werden. Durch die räumliche Trennung mittels der Raumteilungswand sind Temperatur und Gasfluss in den verschiedenen Ofeninnenteilräumen getrennt. Dadurch dass der genutzte Durchlaufofen jedoch nur ein einziges Rollentransportsystem mit durch den Durchlaufofen hindurch verlaufenden Transportrollen aufweist, wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren ein kontinuierlicher Substratfluss in gleicher Geschwindigkeit bei paralleler Bearbeitung der Substrate durch die Anlage ermöglicht. In this way, the method according to the invention provides a possibility of being able to process substrates which have been preprocessed in different ways at the same time suitably in the continuous furnace. there can the temperature and the gas supply to the particular requirements of the substrates are turned off concretely. Despite the use of a single continuous furnace, decoupled systems can be created on the individual transport system tracks. Due to the spatial separation by means of the partition wall, temperature and gas flow are separated in the different furnace interior part spaces. However, since the continuous furnace used has only one single roller transport system with transport rollers running through the continuous furnace, in the method according to the invention a continuous flow of substrate at the same speed is made possible with parallel processing of the substrates by the installation.

Günstigerweise werden in einer bevorzugten Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens Temperatur, Gaszuführung und Gasabsaugung für jede Transportsystemspur separat kontrolliert. Hierdurch kann beispielsweise dann, wenn ein Durchlaufofen als Feuerofen genutzt wird, auf jeder Transportsystemspur eine optimale Feuertemperatur unabhängig von anderen Transportsystemspuren eingestellt werden. Somit können Schwankungen, die sich durch vorhergehende Prozessierungen ergeben haben, auf jeder der Transportsystemspuren kompensiert werden. Conveniently, in a preferred embodiment of the method according to the invention, temperature, gas supply and gas extraction are separately controlled for each transport system track. As a result, for example, if a continuous furnace is used as a furnace, an optimal fire temperature can be set independently of other transport system tracks on each transport system track. Thus, variations that have resulted from previous processing can be compensated for on each of the transport system tracks.

Mit Hilfe einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens können die Substrate auf wenigstens zwei der Transportsystemspuren unterschiedlich bearbeitet werden, wobei die unterschiedliche Bearbeitung dadurch erfolgt, dass an den wenigstens zwei Transportsystemspuren unterschiedliche Temperaturen und/oder unterschiedliche Gasflüsse eingestellt werden. With the aid of an embodiment of the method according to the invention, the substrates can be processed differently on at least two of the transport system tracks, wherein the different processing takes place in that different temperatures and / or different gas flows are set on the at least two transport system tracks.

Es ist jedoch in einer anderen Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens auch möglich, dass die Substrate auf wenigstens zwei der Transportsystemspuren gleich bearbeitet werden, wobei die gleiche Bearbeitung dadurch erfolgt, dass an den wenigstens zwei Transportsystemspuren unterschiedliche Temperaturen und/oder unterschiedliche Gasflüsse eingestellt werden. However, in another variant of the method according to the invention, it is also possible for the substrates to be processed identically on at least two of the transport system tracks, wherein the same processing takes place in that different temperatures and / or different gas flows are set on the at least two transport system tracks.

Grundsätzlich ist das erfindungsgemäße Verfahren natürlich auch dann ausführbar, wenn auf unterschiedlichen Transportsystemspuren des verwendeten Durchlaufofens gleiche Temperaturen und gleiche Gasflüsse eingestellt werden. In principle, the method according to the invention can of course also be carried out if identical temperatures and identical gas flows are set on different transport system tracks of the continuous furnace used.

Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die Bearbeitung der Substrate an Typen von auf der jeweiligen Transportsystemspur bearbeiteten Substraten, an Varianten einer Vorprozessierung der Substrate und/oder an Messergebnisse zur Charakterisierung einer Vorprozessierung der Substrate gekoppelt. So können die Substrate auf den jeweiligen Transportsystemspuren individuell nach ihren jeweiligen Anforderungen prozessiert werden, um optimale Prozessergebnisse zu erreichen. According to an advantageous embodiment of the method according to the invention, the processing of the substrates is coupled to types of substrates processed on the respective transport system track, to variants of preprocessing of the substrates and / or to measurement results for characterizing preprocessing of the substrates. Thus, the substrates on the respective transport system tracks can be processed individually according to their respective requirements in order to achieve optimum process results.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann auch energiesparend betrieben werden, indem die Substrate nur auf einer ersten Transportsystemspur bearbeitet werden, während die Heizung auf einer zweiten Transportsystemspur heruntergeregelt oder abgeschaltet wird. The inventive method can also be operated to save energy by the substrates are processed only on a first transport system track, while the heater is down-regulated or switched off on a second transport system track.

Bevorzugte Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung, deren Aufbau, Funktion und Vorteile werden im Folgenden anhand von Figuren näher erläutert, wobei Preferred embodiments of the present invention, their structure, function and advantages are explained in more detail below with reference to figures, wherein

1 ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Durchlaufofens mit einer oberhalb der Transportrollen vorgesehenen Raumteilungswand in einer geschnittenen Seitenansicht zeigt; 1 shows an embodiment of a continuous furnace according to the invention with a space dividing wall provided above the transport rollers in a sectional side view;

2 schematisch eine weitere mögliche Ausführungsform des erfindungsgemäßen Durchlaufofens mit einer den Durchlaufofen vertikal teilenden Raumteilungswand, durch welche die Transportrollen hindurchgeführt sind, in einer geschnittenen Seitenansicht zeigt; und 2 schematically shows a further possible embodiment of the continuous furnace according to the invention with a continuous furnace dividing wall dividing wall, through which the transport rollers are guided, shown in a sectional side view; and

3 schematisch in einer Draufsicht eine mögliche Variante für die Ausgestaltung eines erfindungsgemäßen Substratbearbeitungssystems mit einem erfindungsgemäßen Durchlaufofen in Form eines Feuerofens und zwei davor angeordneten Schichtdruckvorrichtungen zeigt. 3 schematically shows in a plan view a possible variant for the embodiment of a substrate processing system according to the invention with a continuous furnace according to the invention in the form of a furnace and two previously arranged layer printing devices.

1 zeigt schematisch in einer geschnittenen Seitenansicht einen möglichen Aufbau eines erfindungsgemäßen Durchlaufofens 1. Der in 1 dargestellte Durchlaufofen 1 ist ein sogenannter Feuerofen, in welchem Substrate 2 gegebenenfalls unter bestimmten Gasverhältnissen erhöhten Temperaturen oder Temperaturverläufen ausgesetzt werden. In anderen, nicht gezeigten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung kann der erfindungsgemäße Durchlaufofen 1 auch zur Ausführung anderer Bearbeitungsverfahren von Substraten 2 verwendet werden. So können beispielsweise in dem erfindungsgemäßen Durchlaufofen 1 auch Schichtabscheidungen oder Dotierprozesse an Substraten 2 vorgenommen werden. 1 schematically shows a sectional side view of a possible construction of a continuous furnace according to the invention 1 , The in 1 illustrated continuous furnace 1 is a so-called furnace, in which substrates 2 optionally be exposed to elevated temperatures or temperature profiles under certain gas conditions. In other, not shown embodiments of the present invention, the continuous furnace according to the invention 1 also for carrying out other processing methods of substrates 2 be used. Thus, for example, in the continuous furnace according to the invention 1 also layer depositions or doping processes on substrates 2 be made.

Der Durchlaufofen 1 aus 1 weist eine Durchlaufofenkammer 16 mit einem Durchlaufofeninnenraum 17 auf. Quer über eine Ofeninnenraumbreite B erstreckt sich in dem Durchlaufofen 1 ein Rollentransportsystem. Das Rollentransportsystem dient zum Transport von Substraten 2 durch den Durchlaufofen 1 in einer Transportrichtung A, welche sich in dem in 1 gezeigten Ausführungsbeispiel in die Bildebene hinein erstreckt. The continuous furnace 1 out 1 has a continuous furnace chamber 16 with a continuous furnace interior 17 on. Across a furnace interior width B extends in the continuous furnace 1 a roller transport system. The roller transport system is used to transport substrates 2 through the continuous furnace 1 in a transport direction A, which is in the 1 shown embodiment extends into the image plane.

Das Rollentransportsystem weist eine Vielzahl von parallelen Transportrollen 3 auf, von welchen in 1 eine Transportrolle 3 in einer Seitenansicht gezeigt ist. Die Transportrollen 3 werden mit wenigstens einem entsprechenden Antrieb gedreht, welcher der Einfachheit halber in 1 nicht dargestellt ist. Durch das Drehen der Transportrollen 3 werden die auf den Transportrollen 3 aufliegenden Substrate 2 in der Transportrichtung A in einer horizontalen Ebene durch den Durchlaufofen 1 hindurchbewegt und in dem Durchlaufofen 1 prozessiert. The roller transport system has a plurality of parallel transport rollers 3 on, of which in 1 a transport role 3 is shown in a side view. The transport wheels 3 are rotated with at least one corresponding drive, which for the sake of simplicity in 1 not shown. By turning the transport rollers 3 be on the transport wheels 3 resting substrates 2 in the transport direction A in a horizontal plane through the continuous furnace 1 moved through and in the continuous furnace 1 processed.

Die Achsen der Transportrollen 3 sind horizontal in dem Durchlaufofen 1 vorgesehen und quer zu der Transportrichtung A angeordnet. Die Transportrollen 3 erstrecken sich dabei ununterbrochen über die Ofeninnenraumbreite B des Durchlaufofens 1. The axes of the transport rollers 3 are horizontal in the continuous furnace 1 provided and arranged transversely to the transport direction A. The transport wheels 3 extend uninterrupted over the furnace interior width B of the continuous furnace 1 ,

Die Transportrollen 3 weisen eine solche Länge auf, dass wenigstens zwei Substrate 2 nebeneinander liegend auf den Transportrollen 3 vorgesehen werden können und somit zeitlich parallel prozessiert werden können. The transport wheels 3 have such a length that at least two substrates 2 lying side by side on the transport wheels 3 can be provided and thus temporally processed in parallel.

In dem Ausführungsbeispiel von 1 ist in einem Bereich oberhalb der Transportrollen 3 eine den dortigen Ofeninnenraum 17 etwa halbierende Raumteilungswand 4 vorgesehen. Die Raumteilungswand 4 teilt den Ofeninnenraum 17 in diesem Bereich in zwei Ofeninnenteilräume 7, 8. In diesen Ofeninnenteilräumen 7, 8 ist jeweils eine Transportsystemspur 9 bzw. 10 auf den Transportrollen 3 zum Transport und zur Bearbeitung von Substraten 2 vorgesehen. Zudem weist jeder der in 1 dargestellten Ofeninnenteilräume 7, 8 eine separate Heizung 11, 12 und eine separate Gasversorgung 13, 14 auf. In the embodiment of 1 is in an area above the transport rollers 3 a the local oven interior 17 approximately halving partition wall 4 intended. The partition wall 4 shares the oven interior 17 in this area in two furnace interior part spaces 7 . 8th , In these furnace interior part spaces 7 . 8th is each a transport system track 9 respectively. 10 on the transport wheels 3 for transporting and processing substrates 2 intended. In addition, each of the in 1 shown furnace interior part spaces 7 . 8th a separate heating 11 . 12 and a separate gas supply 13 . 14 on.

Hierdurch ist es möglich, die auf den einzelnen Transportsystemspuren 9, 10 durch den Durchlaufofen 1 transportierten Substrate 2 bei unterschiedlichen Prozessbedingungen, das heißt insbesondere unterschiedlicher Temperatur und unterschiedlicher Gaszusammensetzung, zu prozessieren. Damit kann in dem gezeigten Durchlaufofen 1 gezielt auf die jeweiligen Anforderungen der Substrate 2 abgestellt werden, welche insbesondere durch unterschiedliche Vorprozessierungen der Substrate 2 bedingt sind. Dabei können die Substrate 2 bei gleicher Durchlaufgeschwindigkeit durch den Durchlaufofen 1 transportiert und dementsprechend darin prozessiert werden. This makes it possible to track on the individual transport system tracks 9 . 10 through the continuous furnace 1 transported substrates 2 at different process conditions, that is, in particular, different temperature and different gas composition to process. This can be done in the continuous furnace shown 1 targeted to the particular requirements of the substrates 2 be turned off, which in particular by different preprocessing of the substrates 2 are conditional. In this case, the substrates 2 at the same throughput speed through the continuous furnace 1 transported and accordingly processed in it.

Wie es in 1 schematisch gestrichelt angedeutet ist, kann in dem Durchlaufofen 1 auch unterhalb der Transportrollen 3 eine Raumteilungswand 5 vorgesehen sein. Die Raumteilungswand 5 kann anstelle oder auch zusätzlich zu der Raumteilungswand 4 vorgesehen werden. As it is in 1 indicated schematically by dashed lines, can in the continuous furnace 1 also below the transport rollers 3 a partition wall 5 be provided. The partition wall 5 may instead or in addition to the partition wall 4 be provided.

2 zeigt schematisch eine weitere mögliche Ausführungsform des erfindungsgemäßen Durchlaufofens 1‘. Gleiche Bezugszeichen des Durchlaufofens 1‘ im Vergleich zu dem Durchlaufofen 1 von 1 bezeichnen gleiche bzw. ähnliche Elemente. Auf die obige Beschreibung dieser Elemente sei hiermit verwiesen. 2 schematically shows another possible embodiment of the continuous furnace according to the invention 1' , Same reference numerals of the continuous furnace 1' compared to the continuous furnace 1 from 1 denote the same or similar elements. Reference should be made to the above description of these elements.

Im Unterschied zu dem Durchlaufofen aus 1 weist der Durchlaufofen 1‘ eine vertikal durch den Durchlaufofen 1‘ durchgehende Raumteilungswand 6 auf. Die Transportrollen 3 sind dabei durch die Raumteilungswand 6 hindurchgeführt. In einer vorteilhaften Ausgestaltung des Durchlaufofens 1‘ können dabei zwischen der Raumteilungswand 6 und den jeweiligen Transportrollen 3 geeignete Dichtungen vorgesehen sein, die jedoch so gestaltet sein müssen, dass sie eine Drehung der Transportrollen 3 nicht behindern. Durch das Vorsehen der Raumteilungswand 6 ergibt sich eine Systemtrennung zwischen den hierdurch ausgebildeten Ofeninnenteilräumen 7, 8, die jeweils eine eigene Heizung 11, 12 und eine eigene Gasversorgung 13, 14 aufweisen. Somit können auch hier trotz des Vorsehens eines einzigen Durchlaufofens 1‘, die Substrate 2 zur gleichen Zeit bei unterschiedlichen Prozessbedingungen innerhalb des Durchlaufofens 1‘ behandelt werden, wobei diese Substrate 2 zur gleichen Zeit in den Durchlaufofen 1‘ eingespeist und aus diesem wieder entnommen werden können. Unlike the continuous furnace 1 has the continuous furnace 1' a vertical through the continuous furnace 1' continuous partition wall 6 on. The transport wheels 3 are doing through the partition wall 6 passed. In an advantageous embodiment of the continuous furnace 1' can between the partition wall 6 and the respective transport roles 3 suitable seals may be provided, however, which must be designed so that they rotate the transport rollers 3 do not hinder. By providing the partition wall 6 This results in a system separation between the thus formed furnace inner part spaces 7 . 8th , each with its own heating 11 . 12 and a private gas supply 13 . 14 exhibit. Thus, even here, despite the provision of a single continuous furnace 1' , the substrates 2 at the same time at different process conditions within the continuous furnace 1' treated, these substrates 2 at the same time in the continuous furnace 1' can be fed and removed from this again.

3 zeigt schematisch eine Draufsicht auf eine mögliche Ausgestaltung eines erfindungsgemäßen Substratbearbeitungssystems 18. Das Substratbearbeitungssystem 18 weist einen Durchlaufofen 1 gemäß der oben erfolgten Beschreibung auf. Der gezeigte Durchlaufofen 1 besitzt in der Ausgestaltung von 3 Transportsystemspuren 9, 10, welche durch eine Raumteilungswand 4 oberhalb der Transportrollen 3 voneinander getrennt sind. Vor dem Durchlaufofen 1 sind zwei einzelne, jeweils einspurige Schichtdruckvorrichtungen 15a, 15b vorgesehen. Die Schichtdruckvorrichtungen 15a, 15b sind beispielsweise Siebdruckvorrichtungen, in welchen auf die Substrate 2 Dickschichten aufgebracht werden. Jede der Schichtdruckvorrichtungen 15a, 15b ist mit Hilfe eines Substrattransportmechanismus 16 mit dem Rollentransportsystem des Durchlaufofens 1 derart gekoppelt, dass jede der Schichtdruckvorrichtungen 15a, 15b mit einer Transportsystemspur 9, 10 in Verbindung steht, um diese jeweils mit Substraten 2 zu beliefern. 3 schematically shows a plan view of a possible embodiment of a substrate processing system according to the invention 18 , The substrate processing system 18 has a continuous furnace 1 as described above. The shown continuous furnace 1 owns in the embodiment of 3 Transport system tracks 9 . 10 passing through a partition wall 4 above the transport rollers 3 are separated from each other. In front of the continuous furnace 1 are two single, each one-lane layer printing devices 15a . 15b intended. The layer printing devices 15a . 15b are, for example, screen printing devices, in which on the substrates 2 Thick layers are applied. Each of the layer printing devices 15a . 15b is by means of a substrate transport mechanism 16 with the roller transport system of the continuous furnace 1 coupled such that each of the layer printing devices 15a . 15b with a transport system track 9 . 10 communicates with these each with substrates 2 to supply.

Obwohl es in den 1 bis 3 nicht separat gezeigt ist, sind vorzugsweise an jeder Transportsystemspur 9, 10 entsprechende Sensoren zur Kontrolle von Temperatur, Gaszuführung und Gasabsaugung vorgesehen. Although it is in the 1 to 3 is not shown separately, are preferably on each transport system track 9 . 10 appropriate sensors for controlling temperature, gas supply and gas extraction provided.

Mit Hilfe des an den gezeigten erfindungsgemäßen Durchlauföfen 1, 1‘ ausführbaren Verfahrens können die Substrate 2 auf wenigstens zwei der Transportsystemspuren 9, 10 sowohl unterschiedlich als auch gleich bearbeitet werden. Typischerweise wird eine unterschiedliche Bearbeitung der Substrate 2 dadurch erzielt, dass an den wenigstens zwei Transportsystemspuren 9, 10 unterschiedliche Temperaturen und/oder Gasflüsse eingestellt werden. Man kann jedoch auch dann, wenn die Substrate 2 unterschiedlichen Vorprozessierungen ausgesetzt waren, diese bei unterschiedlichen Temperaturen und/oder unterschiedlichen Gasflüssen auf wenigstens zwei der Transportsystemspuren 9, 10 behandeln und gerade dadurch gleiche Substratbearbeitungsergebnisse erzielen. So können durch die spezifische Einstellmöglichkeit von Temperatur und/oder Gasfluss auf den unterschiedlichen Transportsystemspuren 9, 10 Unterschiede, die sich in der Vorprozessierung der Substrate 2 ergeben haben, ausgeglichen werden. With the aid of the continuous furnaces according to the invention shown 1 . 1' executable process, the substrates 2 on at least two of the transport system tracks 9 . 10 both different and the same processed. Typically, a different processing of the substrates 2 achieved in that at the at least two transport system tracks 9 . 10 different temperatures and / or gas flows are set. One can however also, if the substrates 2 were subjected to different preprocessing, these at different temperatures and / or different gas flows on at least two of the transport system tracks 9 . 10 treat and thereby achieve the same substrate processing results. So can by the specific adjustment of temperature and / or gas flow on the different transport system tracks 9 . 10 Differences in the pre-processing of the substrates 2 have to be compensated.

Vorzugsweise orientiert sich die Bearbeitung der Substrate 2 auf den unterschiedlichen Transportsystemspuren der Durchlauföfen 1, 1‘ an den Typen der zu bearbeitenden Substrate 2, an den unterschiedlichen Bedingungen der jeweiligen Vorprozessierungen der Substrate 2 und/oder an vorher ermittelten Messergebnissen an den Substraten 2. Preferably, the processing of the substrates is oriented 2 on the different transport system tracks of the continuous furnaces 1 . 1' on the types of substrates to be processed 2 , at the different conditions of the respective preprocessing of the substrates 2 and / or on previously determined measurement results on the substrates 2 ,

Die Durchlauföfen 1, 1‘ können auch dann eingesetzt werden, wenn nur eine der Transportsystemspuren 9 mit Substraten 2 belegt ist. In diesem Fall empfiehlt es sich, insbesondere die Heizung 12, die der anderen, nicht belegten Transportsystemspur 10 zugeordnet ist, herunter zu regeln oder gar abzuschalten. The furnaces 1 . 1' can also be used if only one of the transport system tracks 9 with substrates 2 is occupied. In this case, it is recommended, especially the heater 12 , that of the other, unused transport system track 10 is assigned to down regulate or even turn off.

Claims (15)

Durchlaufofen (1, 1‘) mit einem in einer Transportrichtung (A) Substrate (2) durch den Durchlaufofen (1, 1‘) transportierenden Rollentransportsystem mit Transportrollen (3), deren Achsen horizontal und quer zu der Transportrichtung (A) angeordnet sind und die sich ununterbrochen über die Ofeninnenraumbreite (B) des Durchlaufofens (1, 1‘) erstrecken, dadurch gekennzeichnet, dass der Durchlaufofen (1, 1‘) wenigstens eine vertikal und in der Transportrichtung (A) ausgerichtete Raumteilungswand (4, 5, 6) aufweist, welche den Ofeninnenraum des Durchlaufofens (1, 1‘) in Ofeninnenteilräume (7, 8) unterteilt, in welchen voneinander durch die wenigstens eine Raumteilungswand (4, 5, 6) getrennte Transportsystemspuren (9, 10) ausgebildet sind, wobei die Ofeninnenteilräume (7, 8) jeweils eine eigene Heizung (11, 12) und eine eigene Gasversorgung (13, 14) aufweisen. Continuous furnace ( 1 . 1' ) with a in a transport direction (A) substrates ( 2 ) through the continuous furnace ( 1 . 1' ) transporting roller transport system with transport rollers ( 3 ), whose axes are arranged horizontally and transversely to the transport direction (A) and which are continuously over the furnace interior width (B) of the continuous furnace ( 1 . 1' ), characterized in that the continuous furnace ( 1 . 1' ) at least one vertically and in the transport direction (A) aligned partition wall ( 4 . 5 . 6 ), which the furnace interior of the continuous furnace ( 1 . 1' ) in furnace interior partitions ( 7 . 8th ), in which from each other through the at least one partition wall ( 4 . 5 . 6 ) separate transport system tracks ( 9 . 10 ), wherein the furnace interior part spaces ( 7 . 8th ) each have their own heating ( 11 . 12 ) and its own gas supply ( 13 . 14 ) exhibit. Durchlaufofen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine Raumteilungswand (4) oberhalb der Transportrollen (3), auf welchen die Substrate (2) transportiert werden, vorgesehen ist. Continuous furnace according to claim 1, characterized in that the at least one partition wall ( 4 ) above the transport rollers ( 3 ) on which the substrates ( 2 ), is provided. Durchlaufofen nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine Raumteilungswand (5) unterhalb der Transportrollen (3), auf welchen die Substrate (2) transportiert werden, vorgesehen ist. Continuous furnace according to claim 1 or 2, characterized in that the at least one partition wall ( 5 ) below the transport rollers ( 3 ) on which the substrates ( 2 ), is provided. Durchlaufofen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Transportrollen (3) durch die wenigstens eine Raumteilungswand (6) hindurchgeführt sind. Continuous furnace according to claim 1, characterized in that the transport rollers ( 3 ) through the at least one partition wall ( 6 ) are passed. Durchlaufofen nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass an den Durchführungen der Transportrollen (3) durch die wenigstens eine Raumteilungswand (6) eine Drehung der Transportrollen (3) nicht behindernde Dichtungen vorgesehen sind. Continuous furnace according to claim 4, characterized in that at the passages of the transport rollers ( 3 ) through the at least one partition wall ( 6 ) a rotation of the transport rollers ( 3 ) not obstructing seals are provided. Durchlaufofen nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass den Ofeninnenteilräumen (7, 8) separat regelbare Gaseinlässe und/oder Gasabsaugungen zugeordnet sind. Continuous furnace according to one of the preceding claims, characterized in that the furnace interior part spaces ( 7 . 8th ) are assigned separately controllable gas inlets and / or Gasabsaugungen. Durchlaufofen nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine Raumteilungswand (4, 5, 6) eine thermisch isolierende Wand ist. Continuous furnace according to one of the preceding claims, characterized in that the at least one partition wall ( 4 . 5 . 6 ) is a thermally insulating wall. Durchlaufofen nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine Raumteilungswand (4, 5, 6) eine evakuierte Edelstahl-Hohlwand ist. Continuous furnace according to claim 7, characterized in that the at least one partition wall ( 4 . 5 . 6 ) is an evacuated stainless steel cavity wall. Substratbearbeitungssystem (18) mit einem Durchlaufofen (1, 1‘) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Durchlaufofen (1, 1‘) ein Feuerofen mit wenigstens zwei Transportsystemspuren (9, 10) ist, vor dem wenigstens zwei einzelne einspurige Schichtdruckvorrichtungen (15a, 15b) vorgesehen sind, wobei ein Substrattransportmechanismus (16) zum Transport der Substrate (2) aus jeder Schichtdruckvorrichtung (15a, 15b) auf jeweils eine der Transportsystemspuren (9, 10) vorgesehen ist. Substrate processing system ( 18 ) with a continuous furnace ( 1 . 1' ) according to one of claims 1 to 8, characterized in that the continuous furnace ( 1 . 1' ) a furnace with at least two transport system tracks ( 9 . 10 ) in front of the at least two single single-lane layer printing devices ( 15a . 15b ), wherein a substrate transport mechanism ( 16 ) for transporting the substrates ( 2 ) from each layer printing device ( 15a . 15b ) to one of the transport system tracks ( 9 . 10 ) is provided. Verfahren zum Bearbeiten von Substraten (2) in einem Durchlaufofen (1, 1‘), wobei die Substrate (2) mittels eines Rollentransportsystems mit Transportrollen (3) in einer Transportrichtung (A) durch den Durchlaufofen (1, 1‘) transportiert werden, wobei die Achsen der Transportrollen (3) horizontal und quer zu der Transportrichtung (A) angeordnet sind und sich die Transportrollen (3) ununterbrochen über die Ofeninnenraumbreite (B) des Durchlaufofens (1, 1‘) erstrecken, dadurch gekennzeichnet, dass die Substrate (2) in durch wenigstens eine vertikal und in der Transportrichtung (A) ausgerichtete Raumteilungswand (4, 5, 6) voneinander getrennten Ofeninnenteilräumen (7, 8) auf hierdurch getrennten Transportsystemspuren (9, 10) bearbeitet werden, wobei Temperatur und Gasversorgung in den Ofeninnenteilräumen (7, 8) separat eingestellt werden. Method for processing substrates ( 2 ) in a continuous furnace ( 1 . 1' ), the substrates ( 2 ) by means of a roller transport system with transport rollers ( 3 ) in a transport direction (A) through the continuous furnace ( 1 . 1' ), the axes of the transport rollers ( 3 ) are arranged horizontally and transversely to the transport direction (A) and the transport rollers ( 3 ) continuously over the furnace interior width (B) of the continuous furnace ( 1 . 1' ), characterized in that the substrates ( 2 ) in by at least one vertically and in the transport direction (A) aligned partition wall ( 4 . 5 . 6 ) separate furnace inner compartments ( 7 . 8th ) on thereby separated transport system tracks ( 9 . 10 ), whereby the temperature and gas supply in the furnace interior compartments ( 7 . 8th ) can be set separately. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass Temperatur, Gaszuführung und Gasabsaugung für jede Transportsystemspur (9, 10) separat kontrolliert werden. A method according to claim 10, characterized in that temperature, gas supply and gas extraction for each transport system track ( 9 . 10 ) are controlled separately. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Substrate (2) auf wenigstens zwei der Transportsystemspuren (9, 10) unterschiedlich bearbeitet werden, wobei die unterschiedliche Bearbeitung dadurch erfolgt, dass an den wenigstens zwei Transportsystemspuren (9, 10) unterschiedliche Temperaturen und/oder unterschiedliche Gasflüsse eingestellt werden. Method according to at least one of claims 10 or 11, characterized in that the substrates ( 2 ) on at least two of the transport system tracks ( 9 . 10 ) are processed differently, wherein the different processing takes place in that at the at least two transport system tracks ( 9 . 10 ) different temperatures and / or different gas flows are set. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Substrate (2) auf wenigstens zwei der Transportsystemspuren (9, 10) gleich bearbeitet werden, wobei die gleiche Bearbeitung dadurch erfolgt, dass an den wenigstens zwei Transportsystemspuren (9, 10) unterschiedliche Temperaturen und/oder unterschiedliche Gasflüsse eingestellt werden. Method according to at least one of claims 10 or 11, characterized in that the substrates ( 2 ) on at least two of the transport system tracks ( 9 . 10 ) are processed the same, wherein the same processing takes place in that at the at least two transport system tracks ( 9 . 10 ) different temperatures and / or different gas flows are set. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Bearbeitung der Substrate (2) an Typen von auf der jeweiligen Transportsystemspur (9, 10) bearbeiteten Substraten (2), an Varianten einer Vorprozessierung der Substrate (2) und/oder an Messergebnisse zur Charakterisierung einer Vorprozessierung der Substrate (2) gekoppelt wird. Method according to one of claims 10 to 13, characterized in that the processing of the substrates ( 2 ) to types of on the respective transport system track ( 9 . 10 ) processed substrates ( 2 ), variants of pre-processing of the substrates ( 2 ) and / or measurement results for characterizing preprocessing of the substrates ( 2 ) is coupled. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Substrate (2) nur auf einer ersten Transportsystemspur (9) bearbeitet werden, während die Heizung 12 auf einer zweiten Transportsystemspur (10) heruntergeregelt oder abgeschaltet wird. Method according to one of claims 10 to 14, characterized in that the substrates ( 2 ) only on a first transport system track ( 9 ) are processed while the heater 12 on a second transport system track ( 10 ) is turned down or turned off.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH708881A1 (en) * 2013-11-20 2015-05-29 Besi Switzerland Ag Continuous furnace for substrates that are equipped with components, and die bonders.
WO2016087432A1 (en) * 2014-12-02 2016-06-09 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Method for producing metallised ceramic substrates

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10256621B3 (en) * 2002-12-03 2004-04-15 Benteler Automobiltechnik Gmbh Continuous furnace used in the production of vehicle components, e.g. B-columns, comprises two zones lying opposite each other and separated from each other by a thermal insulating separating wall
DE202005006587U1 (en) * 2005-04-20 2005-08-25 Rollmod Hochtemperatur-Transportsysteme Gmbh Drive device for rolls of roller hearth furnaces and roller hearth furnace

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10256621B3 (en) * 2002-12-03 2004-04-15 Benteler Automobiltechnik Gmbh Continuous furnace used in the production of vehicle components, e.g. B-columns, comprises two zones lying opposite each other and separated from each other by a thermal insulating separating wall
DE202005006587U1 (en) * 2005-04-20 2005-08-25 Rollmod Hochtemperatur-Transportsysteme Gmbh Drive device for rolls of roller hearth furnaces and roller hearth furnace

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH708881A1 (en) * 2013-11-20 2015-05-29 Besi Switzerland Ag Continuous furnace for substrates that are equipped with components, and die bonders.
US9666460B2 (en) 2013-11-20 2017-05-30 Besi Switzerland Ag Through type furnace for substrates comprising a longitudinal slit
WO2016087432A1 (en) * 2014-12-02 2016-06-09 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Method for producing metallised ceramic substrates
CN107431031A (en) * 2014-12-02 2017-12-01 德国贺利氏公司 Method for manufacturing metallising ceramic substrate

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