DE102011050112A1 - Producing coated particle, comprises evaporating a first starting material, and condensing below formation of particles, which are subsequently coated below supply of a second starting material - Google Patents

Producing coated particle, comprises evaporating a first starting material, and condensing below formation of particles, which are subsequently coated below supply of a second starting material Download PDF

Info

Publication number
DE102011050112A1
DE102011050112A1 DE102011050112A DE102011050112A DE102011050112A1 DE 102011050112 A1 DE102011050112 A1 DE 102011050112A1 DE 102011050112 A DE102011050112 A DE 102011050112A DE 102011050112 A DE102011050112 A DE 102011050112A DE 102011050112 A1 DE102011050112 A1 DE 102011050112A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
particles
starting material
coating
carbon
coated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102011050112A
Other languages
German (de)
Inventor
Maik Liebau
Dr. de Vries Edgar
Ralf Uhlemann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IABG Industrieanlagen Betriebs GmbH
Original Assignee
IABG Industrieanlagen Betriebs GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by IABG Industrieanlagen Betriebs GmbH filed Critical IABG Industrieanlagen Betriebs GmbH
Priority to DE102011050112A priority Critical patent/DE102011050112A1/en
Publication of DE102011050112A1 publication Critical patent/DE102011050112A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/4417—Methods specially adapted for coating powder
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/16—Metallic particles coated with a non-metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26—Deposition of carbon only

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

The method for producing coated particle (10b) with an average particle size of 100 nm, comprises evaporating a first starting material (11), and condensing below formation of particles, which are subsequently coated below supply of a second starting material (13), where the second starting material has hydrocarbon-containing gas, the particle is coated by a chemical vapor deposition having a layer (12) from carbon and the evaporation of the first starting material is carried out by a direct current plasma. The process pressure such as atmospheric pressure during coating is 0.8-1.2 bar. The method for producing coated particle (10b) with an average particle size of 100 nm, comprises evaporating a first starting material (11), and condensing below formation of particles, which are subsequently coated below supply of a second starting material (13), where the second starting material has hydrocarbon-containing gas, the particle is coated by a chemical vapor deposition having a layer (12) from carbon and the evaporation of the first starting material is carried out by a direct current plasma. The process pressure such as atmospheric pressure during coating is 0.8-1.2 bar. The producing and the coating of the particle are performed in a continuous operation. The particle is directly mixed after the condensation with the hydrocarbon-containing gas. The carbon is obtained by a pyrolysis of the second hydrocarbon-containing starting material. The particle is coated with a graphite-like layer from the carbon or a diamond-like-carbon-layer. The coating of the particle is carried out at a temperature of less than 500[deg] C. The layer is non-conductive from the carbon. An independent claim is included for a device for producing coated particles.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von beschichteten Partikeln mit den Merkmalen des Oberbegriffs des Anspruchs 1. Die Erfindung bezieht sich ferner auf eine Vorrichtung zur Herstellung von beschichteten Partikeln.The invention relates to a process for the production of coated particles having the features of the preamble of claim 1. The invention further relates to an apparatus for producing coated particles.

Ein Verfahren und eine Vorrichtung der eingangs genannten Art sind beispielsweise aus US 2005/0217421 A1 bekannt.A method and a device of the type mentioned are, for example US 2005/0217421 A1 known.

Die sich einerseits aufgrund des bei nanoskaligen Partikeln, also bei Partikeln mit einer maximalen mittleren Teilchengröße von 100 nm, sehr großen Oberflächen-Volumenverhältnisses ergebenden Vorteile bzw. speziellen Eigenschaften stehen andererseits der Neigung nanoskaliger Partikel zur Agglomeration und verstärktem Kornwachstum bei erhöhten Temperaturen, bspw. bei Sinterprozessen gegenüber. Dabei gehen die speziellen Eigenschaften nanoskaliger Partikel meist verloren. Zur Vermeidung der Agglomeration und des unerwünschten Kornwachstums ist es daher bekannt, nanoskalige Partikel zu beschichten. Als Beschichtungsmaterialien werden keramische Materialien oder Polymere verwendet. Die Herstellung so genannter Core-Shell-Nanopartikel mit organischen Polymerhüllen erfolgt in getrennten Verfahrensschritten, weil die Umhüllung von feinteiligen Partikeln mit organischen Materialien Niedertemperaturprozesse erfordert, insbesondere in Temperaturbereichen kleiner 200°C. Diese erfordern relativ lange Abkühlzeiten und erhöhen damit das Risiko einer Agglomeration im Reaktor. Beschichtungen mit Polymeren, bedingen neben der Kondensation an Oberflächen auch die Polymerisation, die beispielsweise durch Wärmezufuhr oder unter UV-Strahlung erfolgt. Dadurch müssen relativ lange Verweilzeiten im nachgeschalteten Reaktor realisiert werden.On the one hand, on the one hand due to the nanoscale particles, so for particles with a maximum average particle size of 100 nm, very large surface area ratio resulting advantages or special properties on the other hand are the tendency of nanoscale particles for agglomeration and increased grain growth at elevated temperatures, eg Sintering processes. The special properties of nanoscale particles are usually lost. To avoid the agglomeration and the unwanted grain growth, it is therefore known to coat nanoscale particles. As coating materials, ceramic materials or polymers are used. The production of so-called core-shell nanoparticles with organic polymer shells takes place in separate process steps, because the coating of finely divided particles with organic materials requires low-temperature processes, in particular in temperature ranges below 200 ° C. These require relatively long cooling times and thus increase the risk of agglomeration in the reactor. Coatings with polymers, in addition to the condensation on surfaces also cause the polymerization, which takes place, for example, by supplying heat or under UV radiation. As a result, relatively long residence times must be realized in the downstream reactor.

Aus der eingangs genannten Druckschrift sind ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung von Titandioxid-Nanopartikeln bekannt, die mit Methacrylsäuremethylester (MAA) beschichtet werden. Ferner ist in der Druckschrift die Beschichtung mit Fluorverbindungen und Diethylzink offenbart. Als Ausgangsmaterial für die Herstellung der Titandioxid-Nanopartikel wird Titantetrachlorid verwendet, das zusammen mit einem Oxidationsgas einem RF-Plasma zugeführt wird, so dass ein Metalloxiddampf gebildet wird. Der Metalloxiddampf wird in einem Kühlbereich schnell abgekühlt, so dass die gewünschten Titandioxid-Nanopartikel erhalten werden, die eine mittlere Teilchengröße von 43,3 nm aufweisen. Die so erhaltenen Partikel werden weiter abgekühlt und dann beschichtet.From the document mentioned above, a method and an apparatus for the production of titanium dioxide nanoparticles are known, which are coated with methyl methacrylate (MAA). Furthermore, the document discloses the coating with fluorine compounds and diethylzinc. Titanium tetrachloride is used as the starting material for the preparation of the titanium dioxide nanoparticles, which is fed together with an oxidizing gas to an RF plasma, so that a metal oxide vapor is formed. The metal oxide vapor is rapidly cooled in a cooling zone to yield the desired titanium dioxide nanoparticles having a mean particle size of 43.3 nm. The particles thus obtained are further cooled and then coated.

Aufgrund der für die Beschichtung erforderlichen weiteren Abkühlung und der damit verbundenen verlängerten Verweilzeit im Reaktor besteht das eingangs genannte Risiko der Agglomeration der Partikel.Due to the further cooling required for the coating and the associated extended residence time in the reactor, the risk of agglomeration of the particles mentioned at the outset exists.

DE 10 2006 046 806 A1 offenbart ein Verfahren zum Herstellen von beschichteten Partikeln, bei dem in einem thermischen Reaktor mit pulsierender Verbrennung eine Rohstoffmischung in einen Heissgasstrom eingebracht wird und so Partikel mit einer Korngröße von ca. 50 nm erhalten werden. Die Partikel werden mit Siliziumdioxid oder Aluminiumoxid beschichtet. Für die Beschichtung wird eine weitere Rohstoffmischung in den Heissgasstrom fein eingestäubt. Weitere Verfahren, bei denen nanoskalige Partikel mit Siliziumdioxid bzw. mit Aluminiumoxid sowie mit Zirkondioxid beschichtet werden, sind in DE 10 2006 046 806 A1 genannt, auf die hiermit verwiesen wird. DE 10 2006 046 806 A1 discloses a process for the production of coated particles, in which a raw material mixture is introduced into a hot gas stream in a thermal reactor with pulsating combustion and thus particles having a particle size of about 50 nm are obtained. The particles are coated with silica or alumina. For the coating, a further mixture of raw materials is finely dusted into the hot gas stream. Other methods in which nanoscale particles are coated with silicon dioxide or with aluminum oxide and with zirconium dioxide are in DE 10 2006 046 806 A1 referred to, to which reference is hereby made.

DE 11 2005 001 429 T5 offenbart ein Verfahren zur Bildung von Nanopartikeln. Dabei wird ein kapazitives HF-Plasma erzeugt, das die wesentliche Voraussetzung für die Herstellung der Nanopartikel bildet. Mit diesem Verfahren wird eine besonders hohe Plasmadichte, Ionisationsrate und Gastemperatur erreicht, die für die Herstellung der nanoskaligen Partikel vorteilhaft ist. Das bekannte Verfahren ist dazu geeignet, core-shell-Partikel zu erzeugen. Dazu werden ein Plasmareaktor und ein Gasphasenreaktor in Serie geschaltet. Im Zusammenhang mit diesem kombinierten Verfahren ist die Erzeugung von Metalloxid-, Metall- und Metallnitritbeschichtungen offenbart. Außerdem wird im Zusammenhang mit der Abscheidung aus der Gasphase die Beschichtung von CdS-Nanopartikeln mit einer Schwefelschicht offenbart. Die Beschichtung mit Kohlenstoff ist im Zusammenhang mit der Gasphasenabscheidung nicht offenbart. DE 11 2005 001 429 T5 discloses a method of forming nanoparticles. In this case, a capacitive RF plasma is generated, which forms the essential prerequisite for the production of the nanoparticles. With this method, a particularly high plasma density, ionization rate and gas temperature is achieved, which is advantageous for the production of nanoscale particles. The known method is suitable for producing core-shell particles. For this purpose, a plasma reactor and a gas phase reactor are connected in series. In the context of this combined process, the production of metal oxide, metal and metal nitride coatings is disclosed. In addition, in the context of deposition from the gas phase, the coating of CdS nanoparticles with a sulfur layer is disclosed. The coating with carbon is not disclosed in connection with the vapor deposition.

Aus DE 42 17 328 C1 ist die Beschichtung von Filamenten mit einer Graphitschicht durch eine CVD-Verfahren bekannt. Wesentlich für dieses Verfahren ist die Gasführung in einem geschlossenen Kreislauf. Eine Beschichtung von Nanopartikeln ist mit diesem Verfahren nicht möglich. Ein weiteres Verfahren zum Beschichten von Filamenten mit Kohlenstoff ist aus DE 694 02 352 T2 bekannt. Auch dieses Verfahren ist nicht zum Beschichten von Nanopartikeln geeignet.Out DE 42 17 328 C1 For example, the coating of filaments with a graphite layer by a CVD method is known. Essential for this process is the gas flow in a closed circuit. A coating of nanoparticles is not possible with this method. Another method of coating filaments with carbon is out DE 694 02 352 T2 known. This method is also not suitable for coating nanoparticles.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung von beschichteten Partikeln anzugeben, die eine mittlere Teilchengröße von höchstens 100 nm aufweisen, wobei die Agglomeration der Partikel vermieden oder zumindest reduziert und die Oberflächeneigenschaften der Partikel modifiziert werden sollen.The invention is based on the object to provide a method and an apparatus for producing coated particles having an average particle size of at most 100 nm, wherein the agglomeration of the particles should be avoided or at least reduced and the surface properties of the particles to be modified.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe im Hinblick auf das Verfahren durch den Gegenstand des Anspruchs 1, im Hinblick auf die Vorrichtung durch den Gegenstand des Anspruchs 11 gelöst.According to the invention, this object is achieved with regard to the method by the subject matter of Claim 1, with regard to the device by the subject-matter of claim 11.

Die Erfindung beruht auf dem Gedanken, ein Verfahren zur Herstellung von beschichteten Partikeln mit einer mittleren Teilchengröße von höchstens 100 nm anzugeben, bei dem wenigstens ein erstes Ausgangsmaterial verdampft und unter Bildung von Partikeln kondensiert wird, die anschließend unter Zufuhr eines zweiten Ausgangsmaterials beschichtet werden. Das zweite Ausgangsmaterial umfasst wenigstens ein kohlenwasserstoffhaltiges Gas. Die Partikel werden durch chemische Gasphasenabscheidung mit wenigstens einer Schicht aus Kohlenstoff beschichtet. Die Verdampfung des ersten Ausgangsmaterials erfolgt durch ein Gleichstromplasma. Die Beschichtung der Partikel mit Kohlenstoff hat einerseits den Vorteil, dass die Agglomeration der Partikel reduziert oder sogar vollständig verhindert wird. Überdies bietet die Erfindung die Voraussetzung für die Herstellung leitfähiger nanoskaliger Partikel. Derartige leitfähige nanoskalige Partikel können beispielsweise als Kompositmaterialien für elektrisch leitende Polymere mit antistatischen Eigenschaften eingesetzt werden. Die leitfähigen nanoskaligen Partikel können ferner zur Erzeugung leitfähiger Tinte oder für Siebdruckverfahren verwendet werden.The invention is based on the idea to provide a process for the production of coated particles having an average particle size of at most 100 nm, in which at least a first starting material is vaporized and condensed to form particles, which are then coated by supplying a second starting material. The second starting material comprises at least one hydrocarbon-containing gas. The particles are coated by chemical vapor deposition with at least one layer of carbon. The evaporation of the first starting material is carried out by a DC plasma. The coating of the particles with carbon on the one hand has the advantage that the agglomeration of the particles is reduced or even completely prevented. Moreover, the invention provides the prerequisite for the production of conductive nanoscale particles. Such conductive nanoscale particles can be used for example as composite materials for electrically conductive polymers having antistatic properties. The conductive nanoscale particles may also be used to form conductive ink or for screen printing processes.

Da die Beschichtung mit Kohlenstoff durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD-Verfahren) bei relativ hohen Temperaturen erfolgen kann, ist ein Abkühlen der Partikel, wie beispielsweise bei der Beschichtung mit Polymeren, nicht erforderlich. Damit verringern sich die Verweilzeiten der Partikel im Reaktor.Since the carbon coating can be carried out by chemical vapor deposition (CVD) at relatively high temperatures, it is not necessary to cool the particles, as in the case of coating with polymers. This reduces the residence times of the particles in the reactor.

Eine zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens geeignete Vorrichtung weist einen Reaktor auf, der wenigstens zwei Zonen umfasst, wobei eine erste Zone wenigstens eine Zufuhr für ein erstes Ausgangsmaterial, Mittel zur Verdampfung des ersten Ausgangsmaterials durch Gleichstromplasma und Mittel zur Kondensation des ersten Ausgangsmaterials unter Bildung von Partikeln mit einer mittleren Teilchengröße von höchstens 100 nm aufweist. Die zweite Zone zur Beschichtung der Partikel weist wenigstens eine Zufuhr für ein zweites Ausgangsmaterial auf. Die Zufuhr für das zweite Ausgangsmaterial ist mit einem Behälter verbunden, der mit einem kohlenwasserstoffhaltigen Gas gefüllt ist. Die zweite Zone ist derart beheizbar, dass der zweiten Zone für die Pyrolyse des kohlenstoffhaltigen Gases ausreichende thermische Energie zuführbar ist. Die erste und zweite Zone sind derart gekoppelt, dass die in der ersten Zone erhältlichen Partikel der zweiten Zone zum Beschichten mit pyrolysiertem Kohlenstoff in einem kontinuierlichen Arbeitsgang zuführbar sind.A suitable apparatus for carrying out the method according to the invention comprises a reactor comprising at least two zones, wherein a first zone at least one supply for a first starting material, means for evaporation of the first starting material by DC plasma and means for condensation of the first starting material to form particles having an average particle size of at most 100 nm. The second zone for coating the particles has at least one feed for a second starting material. The feed for the second feedstock is connected to a container filled with a hydrocarbon-containing gas. The second zone can be heated in such a way that sufficient thermal energy can be supplied to the second zone for the pyrolysis of the carbon-containing gas. The first and second zones are coupled in such a way that the particles obtainable in the first zone can be fed to the second zone for coating with pyrolyzed carbon in a continuous operation.

Ferner werden die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren bzw. der erfindungsgemäßen Vorrichtung herstellbaren Partikel beansprucht, d. h. Partikel mit einer mittleren Teilchengröße von höchstens 100 nm, die mit wenigstens einer Schicht aus Kohlenstoff beschichtet sind.Furthermore, the particles which can be produced with the method according to the invention or the device according to the invention are claimed, d. H. Particles having an average particle size of at most 100 nm coated with at least one layer of carbon.

Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.Preferred embodiments of the invention are specified in the subclaims.

Zweckmäßigerweise erfolgt die Herstellung und die Beschichtung der Partikel in einem kontinuierlichen Arbeitsgang. Dadurch wird die Verweilzeit der Partikel im Reaktor weiter verringert. Vorzugsweise werden die Partikel unmittelbar nach der Kondensation mit einem kohlenwasserstoffhaltigen Gas vermischt. Dadurch wird die Verweilzeit im Reaktor weiter verkürzt.Conveniently, the production and coating of the particles takes place in a continuous operation. This further reduces the residence time of the particles in the reactor. Preferably, the particles are mixed immediately after condensation with a hydrocarbon-containing gas. This further shortens the residence time in the reactor.

Vorzugsweise umfasst das zweite Ausgangsmaterial gasförmige Recktanten, wie Ethen und/oder Methan und/oder Acetylen, oder flüssige Recktanten, wie Toluol, Alkohol oder Benzol, umfasst, die vor dem Beschichten der Partikel verdampft werden. Diese Gase sind als Ausgangsstoff bzw. Ausgangsmaterial für die chemische Gasphasenabscheidung besonders gut geeignet. Ebenfalls möglich ist die Zufuhr des zweiten Ausgangsmaterial als flüssige Recktanten, die vor dem Vermischen mit den Partikeln bzw. vor dem Beschichten verdampft werden und ein kohlenwasserstoffhaltiges Gas im Sinne der Erfindung bilden.Preferably, the second feedstock comprises gaseous reactants, such as ethene and / or methane and / or acetylene, or liquid reactants, such as toluene, alcohol or benzene, which are evaporated prior to coating the particles. These gases are particularly well suited as starting material or starting material for the chemical vapor deposition. Also possible is the supply of the second starting material as liquid reactants, which are evaporated before mixing with the particles or before coating and form a hydrocarbon-containing gas in the context of the invention.

Bei einer bevorzugten Ausführungsform wird der Kohlenstoff durch Pyrolyse des zweiten kohlenwasserstoffhaltigen Ausgangsmaterials erhalten. Bei einer weiteren bevorzugten Ausführungsform werden die Partikel mit wenigstens einer graphitartigen Schicht aus Kohlenstoff oder mit wenigstens einer DLC-Schicht beschichtet. Dadurch lassen sich neue Eigenschaften der aus den beschichteten Partikeln hergestellten Produkte realisieren, bspw. leitfähige Partikel mit einer graphitartigen Beschichtung. Die mit eine DLC-Schicht (Diamond-Like-Carbon-Schicht) versehenen Partikel sind nicht leitfähig. Weitere vorteilhafte Eigenschaften der Schicht aus Kohlenstoff sind deren hohe thermische Stabilität, deren thermodynamische Kompatibilität beispielsweise zu siliziumbasierten Partikeln sowie deren relativ niedrigen Herstellungskosten, beispielsweise im Gegensatz zur an sich bekannten Beschichtung mit Titannitrid.In a preferred embodiment, the carbon is obtained by pyrolysis of the second hydrocarbonaceous feedstock. In a further preferred embodiment, the particles are coated with at least one graphite-like layer of carbon or with at least one DLC layer. As a result, new properties of the products produced from the coated particles can be realized, for example conductive particles with a graphite-like coating. The particles provided with a DLC (diamond-like-carbon) layer are not conductive. Further advantageous properties of the layer of carbon are its high thermal stability, its thermodynamic compatibility, for example, to silicon-based particles and their relatively low production costs, for example, in contrast to the known titanium nitride coating.

Vorzugsweise erfolgt die Beschichtung der Partikel bei einer Temperatur von mindestens 500°C, insbesondere von etwa 500°C bis 1.200°C. Dieser Temperaturbereich ist für die Entstehung graphitartiger, leitfähiger Kohlenstoffschichten besonders geeignet. Wird der Reaktant vor der Beschichtung mit so hohen Temperaturen beaufschlagt, dass er vollständig dissoziiert, werden elektrisch nicht leitfähige Kohlenstoffschichten bei hohen Temperaturen abgeschieden, die keinen Wasserstoff enthalten. Diese Schichten sind so genannte DLC (Diamond like Carbon) Schichten, die üblicherweise in Plasmareaktoren mittels eines CVD oder PVD Verfahrens hergestellt werden.Preferably, the coating of the particles is carried out at a temperature of at least 500 ° C, in particular from about 500 ° C to 1200 ° C. This temperature range is particularly suitable for the formation of graphitic, conductive carbon layers. If the reactant is subjected to such high temperatures before coating that it completely dissociated, electrically non-conductive carbon layers are deposited at high temperatures that do not contain hydrogen. These layers are so-called DLC (diamond like carbon) layers, which are usually produced in plasma reactors by means of a CVD or PVD process.

Wenn die Schicht aus Kohlenstoff nicht leitfähig ist, steht die Funktion der Schicht im Vordergrund, die Agglomerationsneigung der Partikel zu verringern. Die Beschichtung der Partikel mit nicht leitfähigen Schichten aus Kohlenstoff kann alternativ zur Abscheidung der DLC-Schichten bei einer Temperatur von weniger als etwa 500°C erfolgen.If the layer of carbon is not conductive, the function of the layer is in the foreground to reduce the agglomeration tendency of the particles. Coating the particles with non-conductive layers of carbon may alternatively be done at a temperature of less than about 500 ° C for deposition of the DLC layers.

Besonders gut für die Kombination mit der Schicht aus Kohlenstoff sind siliziumhaltige Partikel, wie Silizium- und/oder Siliziumnitrid-Partikel geeignet.Particularly suitable for combination with the layer of carbon are silicon-containing particles, such as silicon and / or silicon nitride particles suitable.

Die thermische Energie zur Beschichtung der Partikel kann extern zugeführt werden. Dies hat den Vorteil der einfachen Regelung bzw. Steuerung der Energiezufuhr. Alternativ kann die thermische Energie zur Beschichtung der Partikel durch die für das Verdampfen des ersten Ausgangsmaterials zugeführte thermische Energie erzeugt werden. Damit wird die thermische Energie beispielsweise des Plasmas für die Pyrolyse der kohlenwasserstoffhaltigen Gase verwendet. Dies hat den Vorteil, dass das Verfahren besonders energieeffizient arbeitet. Bei einer weiteren Ausführungsform des Verfahrens werden die Partikel mit einer einzigen Schicht oder mit mehreren unterschiedlichen Schichten beschichtet, so dass verschiedene Funktionen, insbesondere multifunktionale Partikel erhältlich sind.The thermal energy for coating the particles can be supplied externally. This has the advantage of easy control of the power supply. Alternatively, the thermal energy for coating the particles can be generated by the thermal energy supplied for the evaporation of the first starting material. Thus, the thermal energy of, for example, the plasma is used for the pyrolysis of the hydrocarbon-containing gases. This has the advantage that the process is particularly energy-efficient. In a further embodiment of the method, the particles are coated with a single layer or with a plurality of different layers, so that different functions, in particular multifunctional particles, are obtainable.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezug auf die beigefügten Zeichnungen mit weiteren Einzelheiten näher erläutert. In diesen zeigenThe invention will be explained in more detail by means of embodiments with reference to the accompanying drawings with further details. In this show

1 einen Längsschnitt durch eine schematisch dargestellte Vorrichtung zur Herstellung beschichteter Partikel nach einem erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiel und 1 a longitudinal section through a schematically illustrated apparatus for producing coated particles according to an embodiment of the invention and

2 den Prozessschritt der Beschichtung eines Partikels mit pyrolysiertem Kohlenstoff. 2 the process step of coating a particle with pyrolyzed carbon.

In 1 ist das Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens zur Herstellung beschichteter Partikel gezeigt. Die Vorrichtung weist einen Reaktor 20 mit wenigstens zwei Zonen 21, 22 auf. Die erste Zone 21 dient der Herstellung der nanoskaligen Partikel. Die sich an die erste Zone 21 anschließende zweite Zone 22 dient der Beschichtung der in der ersten Zone 21 hergestellten Partikel 10a.In 1 the embodiment of an apparatus for carrying out the method for producing coated particles is shown. The device has a reactor 20 with at least two zones 21 . 22 on. The first zone 21 serves to produce the nanoscale particles. The first zone 21 subsequent second zone 22 The coating is used in the first zone 21 produced particles 10a ,

Zur Herstellung der Partikel umfasst die erste Zone 21 wenigstens eine Zufuhr 23 für ein erstes Ausgangsmaterial 11. Die erste Zone 21 umfasst ferner Mittel zur Verdampfung 24 des ersten Ausgangsmaterials 11. Im Ausführungsbeispiel gemäß 1 ist dazu ein Plasmagenerator mit einer Plasmadüse 27 zur Erzeugung eines Gleichstromplasmas vorgesehen. Die Plasmadüse 27 umfasst eine mittig angeordnete Kathode 28 sowie zwei konzentrisch angeordnete Anoden 29, 30. Die näher an der Kathode 28 angeordnete erste Anode 29 dient in der Form einer Pilotanode zum Zünden eines Lichtbogens zwischen der Kathode 28 und der ersten Anode 29. Der Lichtbogen wird durch die weiter entfernt angeordnete zweite Anode 30 verlängert. Mit der Spitze der Plasmadüse 27 ist eine rohrförmige Düsenverlängerung 31 gasdicht verbunden. Der verlängerte Lichtbogen zwischen der Kathode und der zweiten Anode 30 erstreckt sich über die gesamte Länge der Düsenverlängerung 31. Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 1 ist die Zufuhr 23 für das erste Ausgangsmaterial 11 in die Plasmadüse 27 integriert. Andere Möglichkeiten der Zufuhr, beispielsweise eine separate Zufuhr für das erste Ausgangsmaterial, ist möglich. Zum Aufbau und zu den Einzelheiten der Plasmadüse 27 wird auf die auf die Anmelderin zurückgehende deutsche Anmeldung 10 2010 015 891 verwiesen.For producing the particles, the first zone comprises 21 at least one feed 23 for a first starting material 11 , The first zone 21 further comprises means for evaporation 24 of the first starting material 11 , In the embodiment according to 1 is a plasma generator with a plasma nozzle 27 provided for generating a DC plasma. The plasma nozzle 27 includes a centrally located cathode 28 and two concentrically arranged anodes 29 . 30 , The closer to the cathode 28 arranged first anode 29 serves in the form of a pilot anode to ignite an arc between the cathode 28 and the first anode 29 , The arc is passed through the remotely located second anode 30 extended. With the tip of the plasma nozzle 27 is a tubular nozzle extension 31 connected gas-tight. The extended arc between the cathode and the second anode 30 extends over the entire length of the nozzle extension 31 , In the embodiment according to 1 is the feed 23 for the first starting material 11 into the plasma nozzle 27 integrated. Other possibilities of supply, for example a separate feed for the first starting material, is possible. For the structure and details of the plasma nozzle 27 is attributed to the applicant German application 10 2010 015 891 directed.

An Stelle des Plasmagenerators gemäß 1 kann ein herkömmlicher Plasmagenerator verwendet werden, bei dem auf die Übertragung des Lichtbogens über eine definierte Reaktorlänge, d. h. bei dem auf die Düsenverlängerung 31 verzichtet wird. In diesem Fall verdampfen die als erstes Ausgangsmaterial 11 zugeführten mikroskaligen Partikel bereits im Brennerbereich. Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 1 werden ebenfalls mikroskalige Partikel als Precursor bzw. als erstes Ausgangsmaterial 11 zugeführt.Instead of the plasma generator according to 1 For example, a conventional plasma generator can be used which is capable of transmitting the arc over a defined reactor length, ie, the nozzle extension 31 is waived. In this case, the first raw material evaporates 11 supplied microscale particles already in the burner area. In the embodiment according to 1 are also microscale particles as precursor or as the first starting material 11 fed.

An Stelle des Gleichstromplasmas kann ein induktiv gekoppeltes RF-Plasma oder ein Mikrowellenplasma eingesetzt werden bzw. dazu entsprechend angepasste Plasmageneratoren. Generell ist es möglich, die nanoskaligen Partikel durch plasmagestützte Verdampfung eines Precursors, beispielsweise eines mikroskaligen Precursors oder auch eines flüssigen oder gasförmigen Precursors herzustellen.Instead of the DC plasma, an inductively coupled RF plasma or a microwave plasma can be used or correspondingly adapted plasma generators. In general, it is possible to produce the nanoscale particles by plasma-assisted evaporation of a precursor, for example a microscale precursor or else a liquid or gaseous precursor.

Der Reaktor 20 umfasst ferner Mittel zur Kondensation 25 des ersten Ausgangsmaterials 11, beispielsweise in der Form einer Kühldüse. Die Mittel zur Kondensation 25 sind so ausgebildet, dass für die Herstellung nanoskaliger Partikel ausreichende Abkühlgeschwindigkeiten realisierbar sind. Die hierfür erforderlichen Parameter sind dem Fachmann bekannt.The reactor 20 further comprises means for condensation 25 of the first starting material 11 , for example in the form of a cooling nozzle. The means of condensation 25 are designed so that sufficient cooling rates can be realized for the production of nanoscale particles. The parameters required for this purpose are known to the person skilled in the art.

An die erste Zone 21 bzw. die Mittel zur Kondensation 25 des ersten Ausgangsmaterials 11 schließt sich die zweite Zone 22 zur Beschichtung der in der ersten Zone 21 erhaltenen Partikel 10a an. Die zweite Zone 22 umfasst wenigstens eine Zufuhr 26 für ein zweites Ausgangsmaterial 13 auf. Das zweite Ausgangsmaterial 13 ist ein kohlenwasserstoffhaltiges Gas oder eine kohlenwasserstoffhaltige Flüssigkeit. Konkret ist die Zufuhr 26 für das zweite Ausgangsmaterial 13 mit einem Behälter verbunden (nicht dargestellt), der mit einem kohlenwasserstoffhaltigen Gas oder mit einer kohlenwasserstoffhaltigen Flüssigkeit gefüllt ist. Es ist auch möglich, zwei, drei oder mehr als drei Zufuhreinrichtungen für verschiedene zweite Ausgangsmaterialien vorzusehen, wobei wenigstens eine Zufuhr mit dem Behälter mit dem kohlenwasserstoffhaltigen Gas verbunden ist. Die Zufuhr für das zweite Ausgangsmaterial 13 ist dem Mittel zur Kondensation 25 des ersten Ausgangsmaterials 11 in Strömungsrichtung der Partikel 10a bzw. 10b nachgeordnet. Die zweite Zone 22 ist derart beheizbar, dass der zweiten Zone 22 die für die Pyrolyse des zugeführten kohlenstoffhaltigen Gases bzw. der zu verdampfenden kohlenstoffhaltigen Flüssigkeiten ausreichende thermische Energie zugeführt werden kann. Dazu ist der die zweite Zone 22 begrenzende Reaktionsraum aktiv beheizt. Die der Wandung 32 der zweiten Zone 22 zugeordnete Heizung 33 kann beispielsweise durch Wärmestrahlung erfolgen. Die Beheizung des Reaktors 20 durch Lampen hat den Vorteil schneller Aufheiz- und Abkühlraten. Alternativ kann der Reaktor eine zweite nicht aktiv geheizte Zone 22 aufweisen. In diesem Fall wird die thermische Energie der heißen Plasmagase für die Zersetzung der kohlenwasserstoffhaltigen Gase verwendet, die gasförmig oder als Flüssigkeit mit anschließender Verdampfung zugeführt werden. To the first zone 21 or the means for condensation 25 of the first starting material 11 closes the second zone 22 for coating in the first zone 21 obtained particles 10a at. The second zone 22 includes at least one feed 26 for a second starting material 13 on. The second starting material 13 is a hydrocarbon-containing gas or a hydrocarbon-containing liquid. The supply is concrete 26 for the second starting material 13 connected to a container (not shown) filled with a hydrocarbon-containing gas or with a hydrocarbon-containing liquid. It is also possible to provide two, three or more than three feeders for different second feedstocks with at least one feed connected to the container with the hydrocarbonaceous gas. The feed for the second starting material 13 is the means of condensation 25 of the first starting material 11 in the direction of flow of the particles 10a respectively. 10b downstream. The second zone 22 is so heated that the second zone 22 the sufficient thermal energy can be supplied for the pyrolysis of the supplied carbon-containing gas or the carbonaceous liquids to be evaporated. This is the second zone 22 limiting reaction space actively heated. The wall 32 the second zone 22 associated heating 33 can be done for example by heat radiation. The heating of the reactor 20 by lamps has the advantage of faster heating and cooling rates. Alternatively, the reactor may be a second non-actively heated zone 22 exhibit. In this case, the thermal energy of the hot plasma gas is used for the decomposition of the hydrocarbon-containing gases, which are supplied in gaseous form or as liquid with subsequent evaporation.

Die erste und zweite Zone 21, 22 sind derart gekoppelt, dass die in der ersten Zone 21 erhältlichen Partikel 10a der zweiten Zone 22 zum Beschichten mit pyrolysiertem Kohlenstoff in einem kontinuierlichen Arbeitsgang zuführbar sind. Dazu schließt sich die zweite Zone 22 direkt an die erste Zone 21 an, so dass die aus der Kühldüse bzw. allgemein aus dem Mittel zur Kondensation 25 austretenden Partikel 10a direkt in die zweite Zone 22 überführt werden. Der Transport der Partikel im Reaktor erfolgt durch die Trägergase. Die zweite Zone 22 kann bspw. als Rohrofen, insbesondere als Heißwandrohrofen ausgebildet seinThe first and second zones 21 . 22 are coupled such that in the first zone 21 available particles 10a the second zone 22 for coating with pyrolyzed carbon in a continuous operation can be fed. This is followed by the second zone 22 directly to the first zone 21 on, so that from the cooling nozzle or generally from the means for condensation 25 exiting particles 10a directly into the second zone 22 be transferred. The transport of the particles in the reactor is carried out by the carrier gases. The second zone 22 can, for example, be designed as a tube furnace, in particular as a hot wall tube furnace

Das mit der Vorrichtung gemäß 1 durchführbare Verfahren zur Herstellung von beschichteten Partikeln 10b arbeitet wie folgt:
In der Plasmadüse 27 bzw. im unmittelbaren Bereich in Strömungsrichtung nach der Plasmadüse 27 werden die dem Plasma zugeführten Partikel aus dem ersten Ausgangsmaterial 11 verdampft und dissoziiert. Durch an sich bekannte Gasphasenkondensation werden nanoskalige Partikel abgeschieden, deren mittlere Teilchengröße höchstens 100 nm beträgt. Dem Fachmann sind die hierfür erforderlichen Parameter bekannt.The with the device according to 1 feasible processes for the production of coated particles 10b works as follows:
In the plasma nozzle 27 or in the immediate area in the flow direction after the plasma nozzle 27 become the particles supplied to the plasma from the first starting material 11 vaporizes and dissociates. By per se known gas phase condensation nanoscale particles are deposited, whose average particle size is at most 100 nm. The person skilled in the known parameters are known.

Der Plasmadruck kann von 0,5 bar bis 1,5 bar, insbesondere 0,8 bar bis 1,2 bar, insbesondere 0,9 bar bis 1,1 bar, insbesondere Atmosphärendruck betragen. Niedrige Plasmadrücke sind möglich, die weniger als 0,5 bar betragen.The plasma pressure can be from 0.5 bar to 1.5 bar, in particular 0.8 bar to 1.2 bar, in particular 0.9 bar to 1.1 bar, in particular atmospheric pressure. Low plasma pressures are possible, which are less than 0.5 bar.

Die aus der ersten Zone 21 austretenden noch unbeschichteten Partikel 10a werden in der zweiten Zone 22 durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) mit wenigstens einer Schicht 12 aus Kohlenstoff beschichtet. Ein Beispiel für ein beschichtetes Partikel 10b ist in 2 dargestellt. In der Praxis ist nicht immer eine vollständige Beschichtung gegeben. Insofern sind auch nach dem beschriebenen und beanspruchten Verfahren hergestellte zumindest teilweise beschichtete Partikel von der Erfindung erfasst. Der für die Beschichtung bzw. die Schicht 12 verwendete Kohlenstoff wird bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 1 durch Pyrolyse des zweiten kohlenwasserstoffhaltigen Ausgangsmaterials 13 erhalten. Die Pyrolyse findet im selben Reaktionsraum, d. h. in der zweiten Zone 22 statt, wie die Beschichtung.The from the first zone 21 emerging uncoated particles 10a be in the second zone 22 by chemical vapor deposition (CVD) with at least one layer 12 made of carbon. An example of a coated particle 10b is in 2 shown. In practice, a complete coating is not always given. In this respect, at least partially coated particles produced by the process described and claimed are also covered by the invention. The one for the coating or the layer 12 Carbon used in the embodiment according to 1 by pyrolysis of the second hydrocarbonaceous starting material 13 receive. The pyrolysis takes place in the same reaction space, ie in the second zone 22 instead of how the coating.

Bei dem Verfahren werden die beiden Verfahrensschritte, nämlich die plasmagestützte Herstellung der nanoskaligen Partikel und deren Beschichtung in einer Anlage bzw. in einem Verfahren gekoppelt, so dass eine in-situ Umhüllung der primären Core-Partikel erfolgen kann. Die Herstellung und die Beschichtung der Partikel 10a erfolgt somit in einem kontinuierlichen Arbeitsgang. Die Beschichtung der Partikel 10a erfolgt durch in-situ Umsetzung mit pyrolysierten Kohlenwasserstoffen, wie z. B. Ethen, Methan oder Acetylen bei Temperaturen zwischen 500°C und 1.200°C. Die Obergrenze des Temperaturbereichs kann 1.150°C, 1.100°C, 1.050°C, 1.000°C, 950°C oder 900°C betragen. Die Untergrenze des Temperaturbereichs kann 550°C, 600°C, 650°C, 700°C, 750°C, 800°C oder 850°C betragen. Die vorstehend genannten Unter- und Obergrenzen können miteinander kombiniert werden.In the method, the two method steps, namely the plasma-assisted production of the nanoscale particles and their coating are coupled in a system or in a process, so that an in-situ coating of the primary core particles can take place. The production and coating of the particles 10a thus takes place in a continuous operation. The coating of the particles 10a takes place by in situ reaction with pyrolyzed hydrocarbons, such as. As ethene, methane or acetylene at temperatures between 500 ° C and 1200 ° C. The upper limit of the temperature range may be 1,150 ° C, 1,100 ° C, 1,050 ° C, 1,000 ° C, 950 ° C or 900 ° C. The lower limit of the temperature range may be 550 ° C, 600 ° C, 650 ° C, 700 ° C, 750 ° C, 800 ° C or 850 ° C. The above lower and upper limits can be combined.

Die Beschichtung kann bei Prozessdrücken von 0,5 bar bis 1,5 bar, insbesondere 0,8 bar bis 1,2 bar, insbesondere 0,9 bar bis 1,1 bar, insbesondere bei Atmosphärendruck erfolgen. Diese Bereiche werden im Zusammenhang mit den vorgenannten Temperaturbereichen offenbart.The coating can be carried out at process pressures of 0.5 bar to 1.5 bar, in particular 0.8 bar to 1.2 bar, in particular 0.9 bar to 1.1 bar, in particular at atmospheric pressure. These areas are disclosed in connection with the aforementioned temperature ranges.

Bei einem konkreten Ausführungsbeispiel wird die Beschichtung in der zweiten Zone 22 bei einem Prozessdruck von 1 bar, einer Temperatur von 930°C, der Zufuhr von Stickstoff mit 9 slm, der Zufuhr von Ethylen mit 1 slm und einer Verweilzeit von 60 Sekunden durchgeführt.In a specific embodiment, the coating in the second zone 22 at a process pressure of 1 bar, a temperature of 930 ° C, the supply of nitrogen with 9 slm, the feed of ethylene with 1 slm and a residence time of 60 seconds.

Die beschichteten Partikel 10b weisen graphitartige, leitfähige Schichten aus Kohlenstoff auf.The coated particles 10b have graphitic, conductive layers of carbon.

Bei der Umsetzung von bspw. Methan zu Graphit entstehen aromatische Zwischenverbindungen, die mehr oder weniger Wasserstoff reich sein können. Solche Zwischenverbindungen treten in der Gasphase auf. Es wird vermutet, dass die aromatischen Verbindungen die Entstehung von graphitartigen Schichten begünstigen und zwar auf Grund der strukturellen Ähnlichkeiten (Pi-Elektronen-Gerüst). Die entstehenden Schichten bestehen aus Kohlenstoff. Es wurden Rest-Wasserstoffgehalte von bis zu 5% gemessen. Der Wasserstoffgehalt hängt von den Reaktionsbedingungen aber auch von einer möglichen Nachbehandlung der Schichten ab, bei der die beschichteten Partikel getempert werden.In the conversion of, for example, methane to graphite, aromatic intermediate compounds are formed which can be more or less hydrogen-rich. Such intermediates occur in the gas phase. It is believed that the aromatic compounds favor the formation of graphitic layers due to the structural similarities (pi-electron backbone). The resulting layers are made of carbon. Residual hydrogen contents of up to 5% were measured. The hydrogen content depends on the reaction conditions, but also on a possible post-treatment of the layers, in which the coated particles are annealed.

Im Rahmen der Erfindung werden deshalb Kohlenstoffschichten mit einem Restgehalt von bis zu 5% Wasserstoff als Schichten aus Kohlenstoff angesehen, insbesondere wenn die Schichten graphitartig sind. Graphitartig sind die Schichten, weil die ausgebildeten Strukturen mikrokristallin sind. Es entstehen allerdings keine ausgedehnten 2-dimensionalen Strukturen wie bei Graphit. Die graphitartige Struktur der Schichten wird u. a. dadurch untermauert, dass die Schichten elektrisch leitfähig sind. Der vorstehend erwähnte geringe Wasserstoff-Gehalt ist ein weiterer Unterschied zu Graphit.In the context of the invention, therefore, carbon layers with a residual content of up to 5% hydrogen are regarded as layers of carbon, in particular if the layers are graphitic. Graphite-like are the layers because the formed structures are microcrystalline. However, there are no extended 2-dimensional structures as in graphite. The graphitic structure of the layers is u. a. underpinned by the fact that the layers are electrically conductive. The above-mentioned low hydrogen content is another difference from graphite.

Alternativ zur Umsetzung von Kohlenwasserstoffen in einem Heisswandreaktor, wie in 1 dargestellt, ist eine plasmagesteuerte Umsetzung bei Temperaturen unter 500°C möglich, wodurch nichtleitfähige Kohlenstoffschichten mit hohem H2-Gehalt (sp3-Hybridisierung) erzeugt werden.Alternatively to the reaction of hydrocarbons in a hot wall reactor, as in 1 is shown, a plasma-controlled reaction at temperatures below 500 ° C is possible, whereby non-conductive carbon layers with high H 2 content (sp 3 hybridization) are generated.

Neben den in 2 dargestellten Monoschichten, bei denen nur ein Reaktant mit der Oberfläche chemisch reagiert, können auch Multischichten, beispielsweise durch zyklische Verfahrensweisen hergestellt werden, bei denen wenigstens ein weiterer Reaktant bzw. mehrere Recktanten schichtweise auf die Partikel 10a bzw. die vorbeschichteten Partikel 10b aufgebracht werden. Damit können funktionalisierte nanoskalige Partikel hergestellt werden.In addition to the in 2 monolayers in which only one reactant reacts chemically with the surface, it is also possible to prepare multilayers, for example by cyclic procedures, in which at least one further reactant or more reactants stratified onto the particles 10a or the precoated particles 10b be applied. This allows the production of functionalized nanoscale particles.

Die mit dem erfindungsgemäßen Verfahren herstellbaren Partikel können beispielsweise in der Solarbranche, der Mikroelektronik, der Umwelttechnologie, sowie bei der Herstellung von Li-Ionenbatterien, als Sinterzusätze oder als neuartige Kraftstoffe verwendet werden.The particles which can be produced by the process according to the invention can be used, for example, in the solar industry, microelectronics, environmental technology, as well as in the production of Li ion batteries, as sintering additives or as novel fuels.

Die Erfindung wird ferner im Zusammenhang mit den folgenden Beispielen offenbart

  • 1. Verfahren zur Herstellung beschichteter Partikel (10b) mit einer mittleren Teilchengröße von höchstens 100 nm, bei dem wenigstens ein erstes Ausgangsmaterial (11) verdampft und unter Bildung von Partikeln (10a) kondensiert wird, die unter Zufuhr eines zweiten Ausgangsmaterials (13) anschließend beschichtet werden, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Ausgangsmaterial (13) wenigstens ein kohlenwasserstoffhaltiges Gas umfasst und die Partikel (10a) durch chemische Gasphasenabscheidung mit wenigstens einer Schicht (12) aus Kohlenstoff beschichtet werden.
  • 2. Verfahren nach Beispiel 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Herstellung und die Beschichtung der Partikel (10a) in einem kontinuierlichen Arbeitsgang erfolgen.
  • 3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Beispiele, dadurch gekennzeichnet, dass die Partikel (10a) unmittelbar nach der Kondensation mit dem kohlenwasserstoffhaltigen Gas vermischt werden.
  • 4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Beispiele, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Ausgangsmaterial (13) gasförmige Recktanten, wie Ethen und/oder Methan und/oder Acetylen, oder flüssige Recktanten, wie Toluol, Alkohol oder Benzol, umfasst, die vor dem Beschichten der Partikel (10a) verdampft werden.
  • 5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Beispiele, dadurch gekennzeichnet, dass der Kohlenstoff durch Pyrolyse des zweiten kohlenwasserstoffhaltigen Ausgangsmaterials (13) erhalten wird.
  • 6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Beispiele, dadurch gekennzeichnet, dass die Partikel (10a) mit wenigstens einer graphitartigen Schicht (12) aus Kohlenstoff oder mit wenigstens einer DLC-Schicht (12) beschichtet werden.
  • 7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Beispiele, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung der Partikel (10a) bei einer Temperatur von mindestens 500°C, insbesondere von 500°C bis 1.200°C erfolgt.
  • 8. Verfahren nach einem der Beispiele 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht (12) aus Kohlenstoff nicht leitfähig ist.
  • 9. Verfahren nach einem der Beispiele 1–4 und Beispiel 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung der Partikel (10a) bei einer Temperatur von weniger als 500°C erfolgt.
  • 10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Beispiele, dadurch gekennzeichnet, dass die Partikel (10) siliziumhaltige Partikel, wie Silizium- und/oder Siliziumnitrid-Partikel umfassen.
  • 11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Beispiele, dadurch gekennzeichnet, dass die Verdampfung des ersten Ausgangsmaterials (11) durch ein Plasma, insbesondere ein Gleichstromplasma, ein induktiv gekoppeltes RF-Plasma oder ein Mikrowellenplasma erfolgt.
  • 12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Beispiele, dadurch gekennzeichnet, dass die thermische Energie zur Beschichtung der Partikel (10a) extern zugeführt wird.
  • 13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Beispiele, dadurch gekennzeichnet, dass die thermische Energie zur Beschichtung der Partikel (10a) durch die für das Verdampfen des ersten Ausgangsmaterials (11) zugeführte thermische Energie erzeugt wird.
  • 14. Verfahren nach Beispiel 13, dadurch gekennzeichnet, dass die thermische Energie zur Beschichtung der Partikel (10a) durch die in den Plasmagasen enthaltene thermische Energie erzeugt wird.
  • 15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Beispiele, dadurch gekennzeichnet, dass die Partikel (10a) mit einer einzigen Schicht (12) oder mit mehreren unterschiedlichen Schichten (12) beschichtet werden.
  • 16. Vorrichtung zur Herstellung beschichteter Partikel (10b) mit einem Reaktor (20), der wenigstens zwei Zonen (21, 22) umfasst, wobei eine erste Zone (21) wenigstens eine Zufuhr (23) für ein erstes Ausgangsmaterial (11), Mittel zur Verdampfung (24) des ersten Ausgangsmaterials (11) und Mittel zur Kondensation (25) des ersten Ausgangsmaterials (11) unter Bildung von Partikeln (10a) mit einer mittleren Teilchengröße von höchstens 100 nm aufweist, wobei eine zweite Zone (22) zur Beschichtung der Partikel (10a) wenigstens eine Zufuhr (26) für ein zweites Ausgangsmaterial (13) aufweist dadurch gekennzeichnet, dass die Zufuhr (26) für das zweite Ausgangsmaterial (13) mit einem Behälter verbunden ist, der mit einem kohlenwasserstoffhaltigen Gas gefüllt ist, und die zweite Zone (22) derart beheizbar ist, dass der zweiten Zone (22) für die Pyrolyse des kohlenstoffhaltigen Gases ausreichende, thermische Energie zuführbar ist, wobei die erste und zweite Zone (21, 22) derart gekoppelt sind, dass die in der ersten Zone (21) erhältlichen Partikel (10a) der zweiten Zone (22) zum Beschichten mit pyrolisiertem Kohlenstoff in einem kontinuierlichen Arbeitsgang zuführbar sind.
  • 17. Partikel (10) mit einer mittleren Teilchengröße von höchstens 100 nm, die mit wenigstens einer Schicht (12) aus Kohlenstoff beschichtet sind.
The invention will be further disclosed in connection with the following examples
  • 1. Process for producing coated particles ( 10b ) having an average particle size of at most 100 nm, in which at least a first starting material ( 11 ) and to form particles ( 10a ) condensed, with the supply of a second starting material ( 13 ) are subsequently coated, characterized in that the second starting material ( 13 ) comprises at least one hydrocarbon-containing gas and the particles ( 10a ) by chemical vapor deposition with at least one layer ( 12 ) are coated from carbon.
  • 2. Method according to Example 1, characterized in that the production and the coating of the particles ( 10a ) in a continuous operation.
  • 3. Method according to one of the preceding examples, characterized in that the particles ( 10a ) are mixed with the hydrocarbon-containing gas immediately after condensation.
  • 4. Method according to one of the preceding examples, characterized in that the second starting material ( 13 ) gaseous reactants, such as ethene and / or methane and / or acetylene, or liquid reactants, such as toluene, alcohol or benzene, which before coating the particles ( 10a ) are evaporated.
  • 5. The method according to any one of the preceding examples, characterized in that the carbon by pyrolysis of the second hydrocarbon-containing starting material ( 13 ).
  • 6. Method according to one of the preceding examples, characterized in that the particles ( 10a ) with at least one graphite-like layer ( 12 ) of carbon or at least one DLC layer ( 12 ) are coated.
  • 7. Method according to one of the preceding examples, characterized in that the coating of the particles ( 10a ) at a temperature of at least 500 ° C, in particular from 500 ° C to 1,200 ° C.
  • 8. Method according to one of Examples 1 to 4, characterized in that the layer ( 12 ) of carbon is not conductive.
  • 9. Method according to one of Examples 1-4 and Example 8, characterized in that the coating of the particles ( 10a ) at a temperature of less than 500 ° C.
  • 10. The method according to any one of the preceding examples, characterized in that the particles ( 10 ) comprise silicon-containing particles, such as silicon and / or silicon nitride particles.
  • 11. Method according to one of the preceding examples, characterized in that the evaporation of the first starting material ( 11 ) is effected by a plasma, in particular a DC plasma, an inductively coupled RF plasma or a microwave plasma.
  • 12. Method according to one of the preceding examples, characterized in that the thermal energy for coating the particles ( 10a ) is supplied externally.
  • 13. Method according to one of the preceding examples, characterized in that the thermal energy for coating the particles ( 10a ) by the evaporation of the first starting material ( 11 ) supplied thermal energy is generated.
  • 14. Method according to Example 13, characterized in that the thermal energy for coating the particles ( 10a ) is generated by the thermal energy contained in the plasma gases.
  • 15. Method according to one of the preceding examples, characterized in that the particles ( 10a ) with a single layer ( 12 ) or with several different layers ( 12 ) are coated.
  • 16. Device for producing coated particles ( 10b ) with a reactor ( 20 ), which has at least two zones ( 21 . 22 ), wherein a first zone ( 21 ) at least one feed ( 23 ) for a first starting material ( 11 ), Means for evaporation ( 24 ) of the first starting material ( 11 ) and means for condensation ( 25 ) of the first starting material ( 11 ) with the formation of particles ( 10a ) having an average particle size of at most 100 nm, a second zone ( 22 ) for coating the particles ( 10a ) at least one feed ( 26 ) for a second starting material ( 13 ) characterized in that the supply ( 26 ) for the second starting material ( 13 ) is connected to a container filled with a hydrocarbon-containing gas, and the second zone ( 22 ) is heated in such a way that the second zone ( 22 ) for the pyrolysis of the carbon-containing gas, sufficient thermal energy can be supplied, wherein the first and second zones ( 21 . 22 ) are coupled such that in the first zone ( 21 ) available particles ( 10a ) of the second zone ( 22 ) can be supplied for coating with pyrolyzed carbon in a continuous operation.
  • 17. Particles ( 10 ) having an average particle size of at most 100 nm and having at least one layer ( 12 ) are coated from carbon.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

10a10a
unbeschichtete Partikeluncoated particles
10b10b
beschichtete Partikelcoated particles
1111
erstes Ausgangsmaterialfirst starting material
1313
zweites Ausgangsmaterialsecond starting material
2020
Reaktorreactor
2121
erste Zonefirst zone
2222
zweite Zonesecond zone
2323
Zufuhrsupply
2424
Mittel zur VerdampfungMeans for evaporation
2525
Mittel zur KondensationMeans for condensation
2626
Zufuhrsupply
2727
Plasmadüseplasma nozzle
2828
Kathodecathode
2929
erste Anodefirst anode
3030
zweite Anodesecond anode
3131
Düsenverlängerungnozzle extension

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list of the documents listed by the applicant has been generated automatically and is included solely for the better information of the reader. The list is not part of the German patent or utility model application. The DPMA assumes no liability for any errors or omissions.

Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • US 2005/0217421 A1 [0002] US 2005/0217421 A1 [0002]
  • DE 102006046806 A1 [0006, 0006] DE 102006046806 A1 [0006, 0006]
  • DE 112005001429 T5 [0007] DE 112005001429 T5 [0007]
  • DE 4217328 C1 [0008] DE 4217328 C1 [0008]
  • DE 69402352 T2 [0008] DE 69402352 T2 [0008]
  • DE 102010015891 [0027] DE 102010015891 [0027]

Claims (11)

Verfahren zur Herstellung beschichteter Partikel (10b) mit einer mittleren Teilchengröße von höchstens 100 nm, bei dem wenigstens ein erstes Ausgangsmaterial (11) verdampft und unter Bildung von Partikeln (10a) kondensiert wird, die unter Zufuhr eines zweiten Ausgangsmaterials (13) anschließend beschichtet werden, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Ausgangsmaterial (13) wenigstens ein kohlenwasserstoffhaltiges Gas umfasst und die Partikel (10a) durch chemische Gasphasenabscheidung mit wenigstens einer Schicht (12) aus Kohlenstoff beschichtet werden, wobei die Verdampfung des ersten Ausgangsmaterials (11) durch ein Gleichstromplasma erfolgt.Process for producing coated particles ( 10b ) having an average particle size of at most 100 nm, in which at least a first starting material ( 11 ) and to form particles ( 10a ) condensed, with the supply of a second starting material ( 13 ) are subsequently coated, characterized in that the second starting material ( 13 ) comprises at least one hydrocarbon-containing gas and the particles ( 10a ) by chemical vapor deposition with at least one layer ( 12 ) are coated from carbon, wherein the evaporation of the first starting material ( 11 ) is done by a DC plasma. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Prozessdruck beim Beschichten 0,5 bar bis 1,5 bar, insbesondere 0,8 bar bis 1,2 bar, insbesondere Atmosphärendruck beträgt.A method according to claim 1, characterized in that the process pressure during coating is 0.5 bar to 1.5 bar, in particular 0.8 bar to 1.2 bar, in particular atmospheric pressure. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Herstellung und die Beschichtung der Partikel (10a) in einem kontinuierlichen Arbeitsgang erfolgen.A method according to claim 1 or 2, characterized in that the production and the coating of the particles ( 10a ) in a continuous operation. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Partikel (10a) unmittelbar nach der Kondensation mit dem kohlenwasserstoffhaltigen Gas vermischt werden.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the particles ( 10a ) are mixed with the hydrocarbon-containing gas immediately after condensation. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Ausgangsmaterial (13) gasförmige Recktanten, wie Ethen und/oder Methan und/oder Acetylen, oder flüssige Recktanten, wie Toluol, Alkohol oder Benzol, umfasst, die vor dem Beschichten der Partikel (10a) verdampft werden.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the second starting material ( 13 ) gaseous reactants, such as ethene and / or methane and / or acetylene, or liquid reactants, such as toluene, alcohol or benzene, which before coating the particles ( 10a ) are evaporated. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Kohlenstoff durch Pyrolyse des zweiten kohlenwasserstoffhaltigen Ausgangsmaterials (13) erhalten wird.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the carbon by pyrolysis of the second hydrocarbon-containing starting material ( 13 ). Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Partikel (10a) mit wenigstens einer graphitartigen Schicht (12) aus Kohlenstoff oder mit wenigstens einer DLC-Schicht (12) beschichtet werden.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the particles ( 10a ) with at least one graphite-like layer ( 12 ) of carbon or at least one DLC layer ( 12 ) are coated. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung der Partikel (10a) bei einer Temperatur von mindestens 500°C, insbesondere von 500°C bis 1.200°C erfolgt.Method according to one of the preceding claims, characterized in that the coating of the particles ( 10a ) at a temperature of at least 500 ° C, in particular from 500 ° C to 1,200 ° C. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht (12) aus Kohlenstoff nicht leitfähig ist.Method according to one of claims 1 to 5, characterized in that the layer ( 12 ) is not conductive from carbon. Verfahren nach einem der Ansprüche 1–5 und Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung der Partikel (10a) bei einer Temperatur von weniger als 500°C erfolgt.Method according to one of claims 1-5 and claim 9, characterized in that the coating of the particles ( 10a ) at a temperature of less than 500 ° C. Vorrichtung zur Herstellung beschichteter Partikel (10b) mit einem Reaktor (20), der wenigstens zwei Zonen (21, 22) umfasst, wobei eine erste Zone (21) wenigstens eine Zufuhr (23) für ein erstes Ausgangsmaterial (11), Mittel zur Verdampfung (24) des ersten Ausgangsmaterials (11) durch ein Gleichstromplasma und Mittel zur Kondensation (25) des ersten Ausgangsmaterials (11) unter Bildung von Partikeln (10a) mit einer mittleren Teilchengröße von höchstens 100 nm aufweist, wobei eine zweite Zone (22) zur Beschichtung der Partikel (10a) wenigstens eine Zufuhr (26) für ein zweites Ausgangsmaterial (13) aufweist, wobei die Zufuhr (26) für das zweite Ausgangsmaterial (13) mit einem Behälter verbunden ist, der mit einem kohlenwasserstoffhaltigen Gas gefüllt ist, und die zweite Zone (22) derart beheizbar ist, dass der zweiten Zone (22) für die Pyrolyse des kohlenstoffhaltigen Gases ausreichende, thermische Energie zuführbar ist, wobei die erste und zweite Zone (21, 22) derart gekoppelt sind, dass die in der ersten Zone (21) erhältlichen Partikel (10a) der zweiten Zone (22) zum Beschichten mit pyrolisiertem Kohlenstoff in einem kontinuierlichen Arbeitsgang zuführbar sind.Apparatus for producing coated particles ( 10b ) with a reactor ( 20 ), which has at least two zones ( 21 . 22 ), wherein a first zone ( 21 ) at least one feed ( 23 ) for a first starting material ( 11 ), Means for evaporation ( 24 ) of the first starting material ( 11 ) by a DC plasma and means for condensation ( 25 ) of the first starting material ( 11 ) with the formation of particles ( 10a ) having an average particle size of at most 100 nm, a second zone ( 22 ) for coating the particles ( 10a ) at least one feed ( 26 ) for a second starting material ( 13 ), wherein the supply ( 26 ) for the second starting material ( 13 ) is connected to a container filled with a hydrocarbon-containing gas, and the second zone ( 22 ) is heated in such a way that the second zone ( 22 ) for the pyrolysis of the carbon-containing gas, sufficient thermal energy can be supplied, wherein the first and second zone ( 21 . 22 ) are coupled such that in the first zone ( 21 ) available particles ( 10a ) of the second zone ( 22 ) can be supplied for coating with pyrolyzed carbon in a continuous operation.
DE102011050112A 2010-05-05 2011-05-05 Producing coated particle, comprises evaporating a first starting material, and condensing below formation of particles, which are subsequently coated below supply of a second starting material Withdrawn DE102011050112A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011050112A DE102011050112A1 (en) 2010-05-05 2011-05-05 Producing coated particle, comprises evaporating a first starting material, and condensing below formation of particles, which are subsequently coated below supply of a second starting material

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102010016811 2010-05-05
DE102010016811.4 2010-05-05
DE102011050112A DE102011050112A1 (en) 2010-05-05 2011-05-05 Producing coated particle, comprises evaporating a first starting material, and condensing below formation of particles, which are subsequently coated below supply of a second starting material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102011050112A1 true DE102011050112A1 (en) 2011-11-10

Family

ID=44803214

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102011050112A Withdrawn DE102011050112A1 (en) 2010-05-05 2011-05-05 Producing coated particle, comprises evaporating a first starting material, and condensing below formation of particles, which are subsequently coated below supply of a second starting material

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102011050112A1 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013213646A1 (en) * 2013-07-12 2015-01-15 Siemens Aktiengesellschaft Anisotropic rare earth-free matrix-bonded high-performance permanent magnet with nanocrystalline structure and method for its production
US9962669B2 (en) 2011-09-16 2018-05-08 Baker Hughes Incorporated Cutting elements and earth-boring tools including a polycrystalline diamond material
US10005672B2 (en) * 2010-04-14 2018-06-26 Baker Hughes, A Ge Company, Llc Method of forming particles comprising carbon and articles therefrom
US10066441B2 (en) 2010-04-14 2018-09-04 Baker Hughes Incorporated Methods of fabricating polycrystalline diamond, and cutting elements and earth-boring tools comprising polycrystalline diamond

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4217328C1 (en) 1992-05-26 1993-09-02 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 80636 Muenchen, De Diamond layer CVD appts. - has closed gas circuit contg. carbon reactor for process gas regeneration
DE69402352T2 (en) 1993-04-07 1997-07-10 Applied Sciences Inc Diamond / carbon / carbon composite usable as an integral dielectric heat sink and process for its manufacture
JP2000215887A (en) * 1999-01-26 2000-08-04 Mitsui Mining Co Ltd Negative electrode material for lithium secondary battery, lithium secondary battery and charging method for lithium secondary battery
US20050217421A1 (en) 2001-04-24 2005-10-06 Tekna Plasma Systems, Inc. Apparatus for plasma synthesis of metal oxide nanopowder
DE112005001429T5 (en) 2004-06-18 2007-04-26 Innovalight, Inc., St. Paul Method and apparatus for forming nanoparticles using radio frequency plasmas
DE102006046806A1 (en) 2006-06-14 2007-12-20 Ibu-Tec Gmbh & Co. Kg Coated particles manufacturing method for use in fine divided powders, involves inserting raw material mixture into hot gas flow of thermal reactor with pulsating combustion, where pulsating combustion is provided by high flow turbulence
WO2008130688A1 (en) * 2007-04-20 2008-10-30 Regents Of The University Of Minnesota Growth of coatings of nanoparticles by photoinduced chemical vapor deposition
DE102010015891A1 (en) 2010-03-09 2011-09-15 Industrieanlagen-Betriebsgesellschaft Mbh Apparatus and method for producing nanoscale particulate solids and plasma torches

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4217328C1 (en) 1992-05-26 1993-09-02 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 80636 Muenchen, De Diamond layer CVD appts. - has closed gas circuit contg. carbon reactor for process gas regeneration
DE69402352T2 (en) 1993-04-07 1997-07-10 Applied Sciences Inc Diamond / carbon / carbon composite usable as an integral dielectric heat sink and process for its manufacture
JP2000215887A (en) * 1999-01-26 2000-08-04 Mitsui Mining Co Ltd Negative electrode material for lithium secondary battery, lithium secondary battery and charging method for lithium secondary battery
US20050217421A1 (en) 2001-04-24 2005-10-06 Tekna Plasma Systems, Inc. Apparatus for plasma synthesis of metal oxide nanopowder
DE112005001429T5 (en) 2004-06-18 2007-04-26 Innovalight, Inc., St. Paul Method and apparatus for forming nanoparticles using radio frequency plasmas
DE102006046806A1 (en) 2006-06-14 2007-12-20 Ibu-Tec Gmbh & Co. Kg Coated particles manufacturing method for use in fine divided powders, involves inserting raw material mixture into hot gas flow of thermal reactor with pulsating combustion, where pulsating combustion is provided by high flow turbulence
WO2008130688A1 (en) * 2007-04-20 2008-10-30 Regents Of The University Of Minnesota Growth of coatings of nanoparticles by photoinduced chemical vapor deposition
DE102010015891A1 (en) 2010-03-09 2011-09-15 Industrieanlagen-Betriebsgesellschaft Mbh Apparatus and method for producing nanoscale particulate solids and plasma torches

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Han, Y.-S.; Lee, J.-Y.: Improvement on the electrochemical characteristics of graphite anodes by coating of the pyrolytic carbon using tumbling chemical vapor deposition. In: Electrochimica Acta, 2003, S. 1073-1079. Vol. 48. *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10005672B2 (en) * 2010-04-14 2018-06-26 Baker Hughes, A Ge Company, Llc Method of forming particles comprising carbon and articles therefrom
US10066441B2 (en) 2010-04-14 2018-09-04 Baker Hughes Incorporated Methods of fabricating polycrystalline diamond, and cutting elements and earth-boring tools comprising polycrystalline diamond
US9962669B2 (en) 2011-09-16 2018-05-08 Baker Hughes Incorporated Cutting elements and earth-boring tools including a polycrystalline diamond material
DE102013213646A1 (en) * 2013-07-12 2015-01-15 Siemens Aktiengesellschaft Anisotropic rare earth-free matrix-bonded high-performance permanent magnet with nanocrystalline structure and method for its production

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60319508T2 (en) METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING CARBON NANOSTRUCTURES
WO2001023303A1 (en) Method for producing a nanotube layer on a substrate
DE112014001444T5 (en) A method of producing carbon black using an extender fluid
WO2008145459A1 (en) Vacuum treatment unit and vacuum treatment process
DE1771169A1 (en) Graphite susceptor
EP3010854B1 (en) Formulations containing hydridosilanes and hydridosilane oligomers, method for preparing same and use thereof
DE102011050112A1 (en) Producing coated particle, comprises evaporating a first starting material, and condensing below formation of particles, which are subsequently coated below supply of a second starting material
EP3710153B1 (en) Method and device for plasma-induced water splitting
SK130099A3 (en) Micro-domain graphitic materials and method for producing the same
DE102014109195A1 (en) Apparatus and method for generating a vapor from multiple liquid or solid sources for a CVD or PVD device
EP3523466B1 (en) Device and method for applying a carbon layer
DD211457A3 (en) PREPARATION OF GRASS BY PYROLYSIS
KR20030028464A (en) Fine carbon fiber and process for producing the same, and conductive material comprising the same
EP3322834B1 (en) Method for pecvd deposition of a graphene-based layer on a substrate
WO2014202459A1 (en) Formulations containing hydridosilanes and hydridosilane oligomers, method for preparing same and use thereof
KR20190019652A (en) Preparation Method for Graphene Nanosphere
DE533644C (en) Process for the production of coatings on electrically conductive wires, threads, tapes or the like.
DD292920A5 (en) METHOD FOR PRODUCING A HIGH QUALITY Russian
EP1273676A2 (en) Process for producing gas- and liquid-impermeable layers on a substrate
DE10162245A1 (en) Process for the selective generation of reactive particles
EP0413389A1 (en) Process for the deposition of microcrystalline solid particles from the gas phase by chemical vapour deposition
EP4010286B1 (en) Method and apparatus for producing silicon-containing materials
WO2011098064A1 (en) Method for hydrogenating chlorosilanes and converter for carrying out the method
WO2021089424A1 (en) Use of a cvd reactor for depositing two-dimensional layers
DE4207422A1 (en) METHOD FOR PRODUCING THIN, MICROPOREN-FREE, CONDUCTING POLYMER LAYERS

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R120 Application withdrawn or ip right abandoned

Effective date: 20120202