DE102009057375B3 - ECR plasma source with a coating protection and application of the coating protection - Google Patents

ECR plasma source with a coating protection and application of the coating protection Download PDF

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Abstract

ECR-Plasmaquelle, bestehend aus einem Gehäuse, einem zentrischen Wellenverteiler (12), welcher mit einer Einrichtung (13, 14) zur Erzeugung einer Hochfrequenz verbunden ist, und zwischen dem Gehäuse und dem zentrischen Wellenverteiler (12) einem Beschichtungsschutz (7), der mindestens teilweise einen Raum innerhalb des Gehäuses umschließt, dadurch gekennzeichnet, dass der Beschichtungsschutz (7) aus einem organischen oder mineralischen Faserwerkstoff besteht.An ECR plasma source, comprising a housing, a central shaft distributor (12) which is connected to a device (13, 14) for generating a high frequency, and between the housing and the central shaft distributor (12) a coating protection (7) at least partially enclosing a space within the housing, characterized in that the coating protection (7) consists of an organic or mineral fiber material.

Figure 00000001
Figure 00000001

Description

Die Erfindung betrifft eine ECR-Plasmaquelle mit einem Beschichtungsschutz mit den Merkmalen nach Anspruch 1. Insbesondere betrifft die Erfindung eine ECR-Plasmaquelle mit einer linearen Plasmaaustrittsöffnung. Weiter betrifft die Erfindung eine Anwendung des Beschichtungsschutzes.The invention relates to an ECR plasma source with a coating protection having the features of claim 1. In particular, the invention relates to an ECR plasma source having a linear plasma exit opening. Furthermore, the invention relates to an application of the coating protection.

Stand der TechnikState of the art

Nach dem Stand der Technik ist eine Vielzahl von ECR-Plasmaquellen (ECR – Electron Cyclotron Resonance/Electron-Zyklotron-Resonanz) bekannt. Beispielsweise gibt die DE 198 12 558 A1 eine Vorrichtung zur Erzeugung linear ausgedehnter ECR-Plasmen an, bestehend aus einer Kombination eines linear ausgedehnten Doppelkoaxialleiters und einer Multipolmagnetanordnung. Die Anordnung besteht im Wesentlichen aus einem Plasmaraum, dessen Mantel den äußeren Koaxialwellenleiter gegenüber einem zentrischen Innenleiter mit einem Schutzrohr bildet. In axialer Richtung weist der äußere Koaxialwellenleiter eine spaltförmige Öffnung auf. Die Einspeisung der HF-Leistung erfolgt einseitig oder beidseitig des Innenleiters. An der spaltförmigen Öffnung im äußeren Koaxialwellenleiter treten starke elektrische Feldkomponenten auf, die auf das statische Magnetfeld der Multipolmagnetanordnung treffen, wodurch ein starkes ECR-Plasma ausgebildet wird. Das Prozessgas wird bevorzugt direkt in den Plasmaraum eingelassen.A variety of ECR (ECR) plasma sources (ECR - Electron Cyclotron Resonance / Electron Cyclotron Resonance) are known in the art. For example, the DE 198 12 558 A1 a device for generating linearly extended ECR plasmas, consisting of a combination of a linearly extended Doppelkoaxialleiters and a multipole magnet arrangement. The arrangement consists essentially of a plasma chamber, the jacket of which forms the outer coaxial waveguide with respect to a central inner conductor with a protective tube. In the axial direction, the outer coaxial waveguide has a slit-shaped opening. The RF power is fed in on one or both sides of the inner conductor. At the gap-shaped opening in the outer coaxial waveguide occur strong electric field components that strike the static magnetic field of the multipole magnet arrangement, whereby a strong ECR plasma is formed. The process gas is preferably introduced directly into the plasma chamber.

Problematisch ist bei allen Plasmaanordnungen, dass sowohl bei Beschichtungsprozessen wie bei Ätzprozessen zur Behandlung der Oberflächen von Substraten auch alle weiteren Oberflächen, die dem Plasma ausgesetzt sind mit Prozessspezifischen Ablagerungen beschichtet werden. In der Praxis wird versucht, derartige unerwünschte Ablagerungen zu minimieren, indem die Plasmaquelle direkt gegenüber dem zu behandelnden Substrat angeordnet wird. Gegenüber dem Plasma offene Bauteile oder Oberflächen werden oft mit einem Beschichtungsschutz abgedeckt, der selbst beschichtet wird und entsprechend regeneriert oder ausgetauscht werden muss.It is problematic in all plasma arrangements that both during coating processes and during etching processes for the treatment of the surfaces of substrates, all other surfaces which are exposed to the plasma are coated with process-specific deposits. In practice, it is attempted to minimize such unwanted deposits by placing the plasma source directly opposite the substrate to be treated. Compared to the plasma, open components or surfaces are often covered with a coating protection that is self-coated and must be regenerated or replaced accordingly.

Eine besonders intensive Beschichtung erfolgt auch unmittelbar auf der inneren Oberfläche der Plasmakammer einer Plasmaquelle, z. B. bei solchen gemäß der beschriebenen DE 198 12 558 A1 . In der Praxis werden im Dauerbetrieb der ECR-Plasmaquellen Oberflächen im Plasmaraum in kurzer Zeit mit Ablagerungen beschichtet, die 10 mm und mehr dick sein können. Die Bleche bestehen meist aus einem korrosionsbeständigen Stahl, der regelmäßig wesentlich andere Ausdehnungskoeffizienten als die Schichtablagerungen aufweist. Die Plasmaprozesse laufen unter teils erheblichen Temperaturen, was zu entsprechenden thermischen Belastungen aller Bauteile einschließlich der instabilen Bleche des Beschichtungsschutzes führt. In der Folge kommt es zu unkontrollierten Abplatzungen der Schichtablagerungen. Insbesondere werden die Bleche wegen deren guten Wärmeleitfähigkeit örtlich mit sehr ungleichmäßigen Schichtablagerungen beschichtet. Wenn derartige Bleche Öffnungen zum Einlass von Prozessgasen aufweisen, können diese ungleichmäßig beschichtet und durch Ablagerungen auch verschlossen werden. Derartige Abplatzungen können in den Prozessraum fallen, was zu unerwünschten Fehlern führen und den Plasmaprozess in der Gesamtheit außerordentlich negativ beeinflussen kann.A particularly intensive coating is also carried out directly on the inner surface of the plasma chamber of a plasma source, for. B. in such according to the described DE 198 12 558 A1 , In practice, in continuous operation of the ECR plasma sources, surfaces in the plasma chamber are coated in a short time with deposits which may be 10 mm thick and more. The sheets are usually made of a corrosion-resistant steel, which regularly has significantly different coefficients of expansion than the layer deposits. The plasma processes run under partly considerable temperatures, which leads to corresponding thermal loads on all components including the unstable sheets of the coating protection. As a result, uncontrolled flaking of the layer deposits occurs. In particular, the sheets are locally coated because of their good thermal conductivity with very uneven layer deposits. If such sheets have openings for the inlet of process gases, they can be unevenly coated and also closed by deposits. Such spalling may fall into the process space, resulting in undesirable errors and may greatly adversely affect the plasma process as a whole.

In der WO 2009/096954 A1 wird ein System und Verfahren zur Behandlung einer Oberfläche eines Substrats mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD) angegeben. Das System umfasst eine Prozesskammer, Halterungen für Substrate, innerhalb der Prozesskammer eine Antenne und mindestens teilweise ein Plasma-Extraktionsgitter. Die Plasmakammer ist mit einer dielektrischen Schicht ausgekleidet. Damit soll ein höherer Ionisierungsgrad des Plasmas erzielt werden.In the WO 2009/096954 A1 For example, a system and method for treating a surface of a substrate by plasma assisted chemical vapor deposition (PECVD) is disclosed. The system comprises a process chamber, supports for substrates, within the process chamber an antenna and at least partially a plasma extraction grid. The plasma chamber is lined with a dielectric layer. This is intended to achieve a higher degree of ionization of the plasma.

Die DE 196 28 952 A1 gibt eine Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma in einem Unterdruckbehälter mit Hilfe von elektromagnetischen Wechselfeldern an. Dabei ist ein stabförmiger Leiter innerhalb eines Rohres aus isolierendem Werkstoff durch den Unterdruckbehälter geführt und an seinen beiden Enden an Quellen zur Erzeugung der elektromagnetischen Wechselfelder angeschlossen. Mindestens auf einem Teil der Länge des Rohres ist der Leiter auf einem Teil des Umfanges von einer leitenden Abschirmung umschlossen. Dadurch soll die Erzeugung des Plasmas auf Bereiche konzentriert werden, in denen sich die Werkstücke befinden, während auf der von den Werkstücken abgewandten Seite der Vorrichtung kein Plasma erzeugt wird.The DE 196 28 952 A1 indicates a device for generating plasma in a vacuum container by means of electromagnetic alternating fields. In this case, a rod-shaped conductor is guided within a tube of insulating material through the vacuum vessel and connected at its two ends to sources for generating the alternating electromagnetic fields. At least over part of the length of the tube, the conductor is enclosed on part of the circumference by a conductive shield. Thereby, the generation of the plasma is to be concentrated on areas in which the workpieces are located, while no plasma is generated on the side facing away from the workpieces of the device.

Aufgabenstellungtask

Ausgehend vom bekannten Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine ECR-Plasmaquelle mit einem Beschichtungsschutz zu schaffen, bei der die nachteiligen Folgen von unerwünschten Ablagerungen auf Oberflächen minimiert werden. Weiterhin besteht eine Aufgabe darin, eine vorteilhafte Anwendung für den Beschichtungsschutz anzugeben.Starting from the known prior art, the invention has for its object to provide an ECR plasma source with a coating protection, in which the adverse effects of undesirable deposits on surfaces are minimized. Furthermore, an object is to provide an advantageous application for the coating protection.

Die Erfindung löst die Aufgabe für die ECR-Plasmaquelle durch die im Anspruch 1 angegebenen Merkmale. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet und werden nachstehend zusammen mit der Beschreibung der bevorzugten Ausführung der Erfindung, einschließlich der Zeichnung, näher dargestellt.The invention solves the problem for the ECR plasma source by the features specified in claim 1. Advantageous developments of the invention are characterized in the subclaims and will be described below together with the Description of the preferred embodiment of the invention, including the drawing, shown in more detail.

Die Anwendung des Beschichtungsschutzes ist durch die Merkmale des Anspruchs 5 definiert.The application of the coating protection is defined by the features of claim 5.

Die Erfindung offenbart eine ECR-Plasmaquelle, die im Wesentlichen aus einem Gehäuse und einem zentrischen Wellenverteiler, der mit einer Einrichtung zur Erzeugung einer Hochfrequenz verbunden ist. Das Gehäuse umschließt mindestens teilweise den Raum mit dem zentrischen Wellenleiter. Zwischen dem Gehäuse und dem zentrischen Wellenleiter ist ein flächiger Beschichtungsschutz vorgesehen, der das Beschichten des Gehäuses verhindern oder wenigstens mindern soll. Als Gehäuse wird jede vollflächig oder gerüstartige Konstruktion verstanden, die die Bauteile der ECR-Plasmaquelle innerhalb einer Vakuumbeschichtungskammer zusammenhält. Erfindungsgemäß besteht der Beschichtungsschutz aus einem organischen oder mineralischen Faserwerkstoff.The invention discloses an ECR plasma source, which consists essentially of a housing and a central shaft distributor, which is connected to a device for generating a high frequency. The housing at least partially encloses the space with the centric waveguide. Between the housing and the central waveguide, a planar coating protection is provided, which is intended to prevent or at least reduce the coating of the housing. As a housing, any full-surface or framework-like construction is understood, which holds together the components of the ECR plasma source within a vacuum coating chamber. According to the invention, the coating protection consists of an organic or mineral fiber material.

In einer bevorzugten Ausführung nach Anspruch 2 weist die dem Plasmaraum zugewandte Oberfläche des Beschichtungsschutzes eine mindestens teilweise offene Gewebestruktur auf. Als Faserwerkstoff können grundsätzlich alle formbaren und thermisch im erforderlichen Umfang belastbaren Faser- und Filzgewebe eingesetzt werden. In der Praxis haben sich insbesondere Faser- bzw. Filzgewebe aus Basalt, Kohlenstoff oder Aluminiumoxid in vorteilhafter Weise bewährt. Die geometrische Ausbildung eines derartigen Beschichtungsschutzes aus Faser- und Filzgewebe kann gut an die gegebene Konfiguration der ECR-Plasmaquelle angepasst werden.In a preferred embodiment according to claim 2, the plasma chamber facing surface of the coating protection on an at least partially open fabric structure. In principle, all moldable and thermally to the extent required resilient fiber and felt fabric can be used as the fiber material. In particular, fiber or felt fabric made of basalt, carbon or aluminum oxide have proven to be advantageous in practice. The geometric design of such fiber and felt fabric coating protection can be well adapted to the given ECR plasma source configuration.

Beim Einsatz der angegebenen ECR-Plasmaquelle mit dem erfindungsgemäßen Beschichtungsschutz können außerordentliche lange Prozesszeiten realisiert werden. In überraschender Weise wurde gefunden, dass die sich zwangsweise ausbildenden Abscheidungen durch das thermische Verhalten des erfindungsgemäßen Beschichtungsschutzes in Kombination mit der guten Haftfestigkeit auf dem Beschichtungsschutz verbleiben, ohne dass es zu unerwünschten Abplatzungen der Abscheidungen kommt. Dabei wurde in vorteilhafter Weise auch festgestellt, dass sich innerhalb von Gasdurchlässen im Beschichtungsschutz keine oder nur geringe Abscheidungen aufbauen, d. h. auch die technologischen Bedingungen bezüglich der Zufuhr von Prozessgasen in die Plasmakammer wird nicht negativ beeinflusst.When using the indicated ECR plasma source with the coating protection according to the invention, extraordinarily long process times can be realized. Surprisingly, it has been found that the precipitates forming by force remain on the coating protection due to the thermal behavior of the coating protection according to the invention in combination with the good adhesive strength, without causing undesired spalling of the deposits. It was also found in an advantageous manner that build up within gas passages in the coating protection no or only small deposits, d. H. Also, the technological conditions regarding the supply of process gases in the plasma chamber is not adversely affected.

Erst wenn die Schichtdicke ein Maß erreicht hat, dass sie wegen der Dicke problematisch werden, werden die Ablagerungen mechanisch von dem Beschichtungsschutz entfernt. Dabei kommt es mindestens teilweise zum Ausreisen der an den Abplatzungen fest verankerten Oberflächenteilchen des Faser- oder Filzgewebes, was überraschend dazu führt, dass auf dem Beschichtungsschutz eine neue Oberfläche mit offener Gewebsstruktur ausbildet, die unmittelbar für den nächsten Plasmaprozess zur Verfügung steht.Only when the layer thickness has reached a level that they are problematic because of the thickness, the deposits are mechanically removed from the coating protection. It comes at least partially to the exit of the flakes firmly anchored surface particles of the fiber or felt fabric, which surprisingly leads to that on the coating protection forms a new surface with an open tissue structure, which is directly available for the next plasma process.

Der erfindungsgemäße Beschichtungsschutz kann auch zur Abdeckung beliebiger Oberflächen angewendet werden, die einem physikalischen Plasma ausgesetzt sind und die bei dem jeweils eingesetzten Verfahren nicht beschichtet werden sollen.The coating protection according to the invention can also be used to cover any surfaces that are exposed to a physical plasma and that should not be coated in the particular method used.

Ausführungsbeispielembodiment

Die Erfindung wird nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert. Zugehörig zeigt 1 eine perspektivische Ansicht auf eine ECR-Plasmaquelle mit einer linearen Plasmaaustrittsöffnung nach oben. 2 zeigt einen vergrößerten Ausschnitt des Gehäuses mit einem Beschichtungsschutz und 3 zeigt schematisch einen Schnitt im Bereich der Oberfläche des Beschichtungsschutzes.The invention will be explained in more detail using an exemplary embodiment. Belonging shows 1 a perspective view of an ECR plasma source with a linear plasma outlet opening upwards. 2 shows an enlarged section of the housing with a coating protection and 3 schematically shows a section in the region of the surface of the coating protection.

Die in 1 dargestellte industrielle ECR-Plasmaquelle 1 weist ein gerüstartiges Gehäuse mit eine Breite von beispielsweise ca. 1.000 mm auf. Wie insbesondere aus 2 zu entnehmen ist, besteht das Gehäuse im Wesentlichen aus einer Grundplatte 3, auf welcher mittels Tragbolzen 4 in Längsrichtung zwei parallele Seitenleisten 5 und 6 mit integrierter Multipolmagnetanordnung gehaltert sind. Zwischen den beiden Seitenleisten 5 und 6 ist ein Beschichtungsschutz 7 angeordnet, der an die Grundplatte 3 sowie an die beiden Seitenleisten 5 und 6 angepasst und über Haltestege 8 sowie Befestigungen 9 an den Seitenleisten 5 und 6 befestigt ist. Im Gehäuse sind Kühlwasserleitungen 10 zu den beiden Seitenleisten 5 und 6 geführt. Prozessgas wird über Leitungen 11 zu den Seitenleisten 5 und 6 sowie in den Raum zwischen der Grundplatte 3 und dem Beschichtungsschutz 7 geleitet. Durch Löcher 17 im Beschichtungsschutz 7 hindurch wird das Prozessgas direkt in den Plasmaraum geleitet.In the 1 illustrated industrial ECR plasma source 1 has a framework-like housing with a width of for example about 1,000 mm. As in particular from 2 can be seen, the housing consists essentially of a base plate 3 , on which by means of carrying bolts 4 in the longitudinal direction two parallel sidebars 5 and 6 are mounted with integrated Multipolmagnetanordnung. Between the two sidebars 5 and 6 is a coating protection 7 arranged, attached to the base plate 3 as well as the two sidebars 5 and 6 adjusted and over retaining bars 8th as well as fixings 9 on the sidebars 5 and 6 is attached. In the housing are cooling water pipes 10 to the two sidebars 5 and 6 guided. Process gas is transmitted via lines 11 to the sidebars 5 and 6 as well as in the space between the base plate 3 and the coating protection 7 directed. Through holes 17 in the coating protection 7 Through the process gas is passed directly into the plasma chamber.

In der 1 nach oben gerichtet weist die ECR-Plasmaquelle 1 parallel der Seitenleisten 5 und 6 eine lineare Plasmaaustrittsöffnung 16 auf. Ein nicht dargestelltes zu beschichtendes Substrat ist in einer ebenfalls nicht dargestellten Vakuumbeschichtungskammer unmittelbar gegenüber der Plasmaaustrittsöffnung 16 angeordnet.In the 1 directed upward, the ECR plasma source 1 parallel to the sidebars 5 and 6 a linear plasma exit opening 16 on. An unillustrated substrate to be coated is in a vacuum coating chamber, also not shown, directly opposite the plasma exit opening 16 arranged.

Wie aus 1 ersichtlich ist, befindet sich innerhalb des Gehäuses mit dem Beschichtungsschutz 7 ein Wellenverteiler 12, der beidseitig an Einrichtungen 13 und 14 gehaltert ist, in denen auch die HF-Leistung bereitgestellt wird. Beim Betrieb der ECR-Plasmaquelle bildet sich um den Wellenverteiler 12 im Raum innerhalb des Beschichtungsschutzes 7 ein Plasma aus, der hier als Plasmaraum bezeichnet wird.How out 1 is visible, located inside the housing with the coating protection 7 a shaft distributor 12 , the two-sided to facilities 13 and 14 is held, in which the RF power is provided. When operating the ECR plasma source forms around the shaft distributor 12 in the room within the coating protection 7 a plasma, which is referred to here as plasma space.

Die ECR-Plasmaquelle 1 ist innerhalb und die Einrichtungen 13 und 14 sind außerhalb einer nicht dargestellten Vakuumbeschichtungskammer angeordnet, wobei die elektrischen Verbindungen zwischen diesen Baugruppen über bekannte Wanddurchführungen realisiert sind.The ECR plasma source 1 is inside and the facilities 13 and 14 are arranged outside of a vacuum coating chamber, not shown, wherein the electrical connections between these assemblies are realized via known wall penetrations.

Die eigentliche Erfindung ist im Beschichtungsschutz 7 realisiert, der aus einem Faserwerkstoff aus Kohlenstoffgewebe 2 in Form eines Schichtverbundes besteht. Der beispielhafte Schichtverbund ist aus mehreren zur Oberfläche parallelen Schichten aufgebaut, die in bekannter Weise untereinander mit einem temperaturstabilen Bindemittel verbunden sind. Alternativ eingesetzte Filzgewebe weisen keine gesonderte Schichtstruktur auf. Entsprechend Anspruch 2 weist die dem Plasmaraum zugewandte Oberfläche des Beschichtungsschutzes 7 eine offene Gewebestruktur auf, die derart hergestellt ist, dass mindestens die Oberseite der obersten Schicht des Schichtverbundes frei von Bindemittel ist, derart dass die Gewebestruktur frei liegt und senkrecht zur Oberfläche Hinterschneidungen frei bleiben.The actual invention is in the coating protection 7 realized, made of a fiber material made of carbon fabric 2 in the form of a laminated composite. The exemplary composite layer is composed of several layers parallel to the surface, which are connected in a known manner with each other with a temperature-stable binder. Alternatively used felt fabrics do not have a separate layer structure. According to claim 2, the plasma chamber facing surface of the coating protection 7 an open fabric structure which is made such that at least the top of the top layer of the laminate is free of binder, so that the fabric structure is exposed and perpendicular to the surface undercuts remain free.

In 3 ist schematisch ein Schnitt durch die obere Schicht 15 eines Kohlenstoffgewebes 2 des Schichtverbundes des Beschichtungsschutzes 7 dargestellt. Eine während eines Plasmaprozesses auf dem Beschichtungsschutz 7 abgeschiedene Ablagerung 18 umschließt dabei zwangsweise die frei liegenden Fasern der oberen Schicht 15 des Kohlenstoffgewebes 2 derart, dass eine relativ feste formschlüssige Verbindung aufgebaut wird. In 3 sind die Ablagerungen, welche sich in den Hinterschneidungen befinden, als Ablagerung 19 dicht schraffiert dargestellt.In 3 is schematically a section through the upper layer 15 a carbon fabric 2 of the layer composite of the coating protection 7 shown. One during a plasma process on the coating protection 7 deposited deposit 18 Forcibly encloses the exposed fibers of the upper layer 15 of carbon fabric 2 such that a relatively fixed positive connection is established. In 3 are the deposits that are in the undercuts, as a deposit 19 shown shaded.

Nachfolgend wird die ECR-Plasmaquelle im Betrieb näher beschrieben. In bekannter Weise wird die Vakuumbeschichtungskammer evakuiert, ein Trägergas oder Prozessgas eingelassen und innerhalb des Plasmaraumes eine Plasmaentladung gezündet. Ein Prozessgas wird über die Leitungen 11 und die Löcher 17 direkt in den Plasmaraum eingelassen und das Plasma breitet sich durch die lineare Plasmaaustrittsöffnung 16 hindurch in der gesamten Vakuumbeschichtungskammer aus.The following describes the ECR plasma source in operation. In a known manner, the vacuum coating chamber is evacuated, a carrier gas or process gas admitted and ignited within the plasma chamber a plasma discharge. A process gas is flowing through the pipes 11 and the holes 17 embedded directly into the plasma chamber and the plasma spreads through the linear plasma exit opening 16 throughout the vacuum coating chamber.

Das schichtbildende Prozessgas wird durch das Plasma im Plasmaraum elektrisch geladen und scheidet sich innerhalb der Vakuumbeschichtungskammer je nach den energetischen Bedingungen an allen Oberflächen ab. Unerwünscht und relativ stark erfolgt die Abscheidung auch innerhalb des Plasmaraumes an der inneren Oberfläche des Beschichtungsschutzes 7.The layer-forming process gas is electrically charged by the plasma in the plasma chamber and deposits within the vacuum coating chamber depending on the energetic conditions on all surfaces. Unwanted and relatively strong, the deposition also takes place within the plasma space on the inner surface of the coating protection 7 ,

In überraschender Weise wurde gefunden, dass die Schichtbildung auf dem erfindungsgemäßen Beschichtungsschutz 7 wesentlich homogener und gleichmäßiger erfolgt, als bei einem Beschichtungsschutzblech aus korrosionsfreiem Stahl. Insbesondere kommt es beim Beschichtungsschutz 7 nicht zu temperaturbedingten Verformungen und die Löcher 17 im Beschichtungsschutz 7 bleiben nahezu frei von Ablagerungen.Surprisingly, it has been found that the layer formation on the coating protection according to the invention 7 much smoother and smoother than with a non-corroding steel protective cover. In particular, it comes with the coating protection 7 not to temperature-induced deformations and the holes 17 in the coating protection 7 stay virtually free of deposits.

Die auf dem Beschichtungsschutz 7 aufgebauten Ablagerungen haften fest am Beschichtungsschutz 7 und platzen während des Plasmaprozesses nicht stückweise oder als Flocken ab. Erst wenn die Ablagerung eine Dicke aufweist, dass sie für einen ordnungsgemäßen Verfahrensablauf störend wird, muss die Ablagerung entfernt werden. Dazu wird der gesamte Beschichtungsschutz 7 mit den Ablagerungen aus der Plasmaquelle entfernt. Beim mechanischen Trennen der Ablagerungen vom Beschichtungsschutz 7 kommt es zu dem überraschenden Effekt, dass die Ablagerung oft als ganzes Teil aus dem Beschichtungsschutz 7 ausbricht und dabei auch einen geringen Teil der Oberfläche des Kohlenstoffgewebes 2 des Schichtverbundes mit ablöst, derart dass die Oberfläche des Beschichtungsschutzes 7 wieder eine mindestens teilweise offene Gewebestruktur entsprechend Anspruch 2 aufweist.The on the coating protection 7 built-up deposits adhere firmly to the coating protection 7 and do not break off piecewise or as flakes during the plasma process. Only when the deposit has a thickness such that it becomes troublesome for a proper procedure, the deposit must be removed. This is the entire coating protection 7 removed with the deposits from the plasma source. When mechanically separating the deposits from the coating protection 7 There is the surprising effect that the deposit often as a whole from the coating protection 7 breaks out and at the same time a small part of the surface of the carbon fabric 2 of the layer composite with peels, so that the surface of the coating protection 7 again has an at least partially open fabric structure according to claim 2.

Claims (5)

ECR-Plasmaquelle, bestehend aus einem Gehäuse, einem zentrischen Wellenverteiler (12), welcher mit einer Einrichtung (13, 14) zur Erzeugung einer Hochfrequenz verbunden ist, und zwischen dem Gehäuse und dem zentrischen Wellenverteiler (12) einem Beschichtungsschutz (7), der mindestens teilweise einen Raum innerhalb des Gehäuses umschließt, dadurch gekennzeichnet, dass der Beschichtungsschutz (7) aus einem organischen oder mineralischen Faserwerkstoff besteht.ECR plasma source, consisting of a housing, a central shaft distributor ( 12 ), which is equipped with ( 13 . 14 ) is connected to generate a high frequency, and between the housing and the central shaft distributor ( 12 ) a coating protection ( 7 ) which at least partially encloses a space within the housing, characterized in that the coating protection ( 7 ) consists of an organic or mineral fiber material. ECR-Plasmaquelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die dem Plasmaraum zugewandte Oberfläche des Beschichtungsschutzes (7), eine mindestens teilweise offene Gewebestruktur aufweist.ECR plasma source according to claim 1, characterized in that the plasma chamber facing surface of the coating protection ( 7 ), has an at least partially open tissue structure. ECR-Plasmaquelle nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Faserwerkstoff ein Faser- oder Filzgewebe aus Basalt, Kohlenstoff oder Aluminiumoxid ist.ECR plasma source according to claim 1 or 2, characterized in that the fiber material is a fiber or felt fabric of basalt, carbon or alumina. ECR-Plasmaquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Beschichtungsschutz (7) an die gegebene Konfiguration der ECR-Plasmaquelle angepasst ist.ECR plasma source according to one of claims 1 to 3, characterized in that the coating protection ( 7 ) is adapted to the given configuration of the ECR plasma source. Anwendung eines Beschichtungsschutzes in einer ECR-Plasmaquelle nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass beliebige Oberflächen, die einem Plasma ausgesetzt sind und bei dem jeweils eingesetzten Plasmaprozess nicht beschichtet werden sollen, mit dem Beschichtungsschutz abgedeckt werden.Application of a coating protection in an ECR plasma source according to one of the previous claims, characterized in that any surfaces which are exposed to a plasma and should not be coated in the plasma process used in each case be covered with the coating protection.
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