DE102009003221A1 - Transparente, witterungsbeständige Barrierefolie für die Einkapselung von Solarzellen II - Google Patents
Transparente, witterungsbeständige Barrierefolie für die Einkapselung von Solarzellen II Download PDFInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Barrierefolie, bei der eine anorganische Barriere (3) (SiOx oder AlOx) auf die Trägerschicht (1) PMMA aufgetragen wird. Die Haftung wird durch einen Lack (2) ermöglicht. Auf der anorganischen Barriereschicht (3) befindet sich eine organische Lackschicht (4), die die Barrichanischen Einflüssen schützt.
Description
- Gebiet der Erfindung
- Die Erfindung betrifft eine Barrierefolie aus Kunststoffen, die witterungsbeständig und transparent ist und eine hohe Barrierefunktion gegen Wasserdampf und Sauerstoff aufweist.
- Stand der Technik
- Witterungsbeständige, transparente und schlagzähe Folien auf Polymethacrylat-Basis werden vom Anmelder unter dem Namen PLEXIGLAS vertrieben. Das Patent
DE 38 42 796 A1 beschreibt die Herstellung einer klaren, schlagzähen Formmasse auf Acrylatbasis, daraus hergestellte Folien und Formkörper sowie ein Verfahren zur Herstellung der Formmasse. Diese Folien haben den Vorteil, dass sie sich unter Wärme- und Feuchtigkeitseinwirkung nicht verfärben. Des Weiteren vermeiden sie den sogenannten Weißbruch bei Schlageinwirkung oder Biegebeanspruchung. Diese Folien sind transparent und bleiben es auch bei der Einwirkung von Wärme und Feuchtigkeit, bei Bewitterung und bei Schlag- oder Biegebeanspruchung. - Die Verarbeitung der Formmasse zu den genannten transparenten, schlagzähen Folien erfolgt idealerweise durch Extrusion der Schmelze durch eine Schlitzdüse und Glätten auf einem Walzenstuhl. Derartige Folien zeichnen sich durch dauerhafte Klarheit, Unempfindlichkeit gegen Wärme und Kälte, Witterungsbeständigkeit, geringe Vergilbung und Versprödung und durch geringen Weißbruch beim Knicken oder Falten aus und eignen sich deshalb beispielsweise als Fenster in Planen, Autoverdecken oder Segeln. Solche Folien haben eine Dicke unter 1 mm, beispielsweise 0,05 bis 0,5 mm. Ein wichtiger Anwendungsbereich liegt in der Bildung von dünnen Oberflächenschichten von z. B. 0,05 bis 0,5 mm Dicke auf steifen, formbeständigen Grundkörpern, wie Blechen, Pappen, Spanplatten, Kunststoffplatten und dergleichen. Für die Herstellung derartiger Überzüge stehen verschiedene Verfahren zur Verfügung. So kann die Folie zu einer Formmasse extrudiert, geglättet und auf das Substrat aufkaschiert werden. Durch die Technik der Extrusionsbeschichtung kann ein extrudierter Strang auf die Oberfläche des Substrats aufgebracht und mittels einer Walze geglättet werden. Wenn als Substrat selbst ein thermoplastischer Kunststoff dient, besteht die Möglichkeit der Coextrusion beider Massen unter Bildung einer Oberflächenschicht aus der klaren Formmasse der Erfindung.
- PMMA-Folien bieten jedoch nur unzureichende Barriereeigenschaften gegenüber Wasserdampf und Sauerstoff, was aber für medizinische Anwendungen, Anwendungen in der Verpackungsindustrie, vor allem aber in elektrischen Anwendungen, die im Außenbereich verwendet werden, notwendig ist.
- Wie aus K. Noller, 19th European PVSEC, Proceedings, 2004, p. 2156–2159, bekannt ist, finden Permeationsprozesse in organischen Materialien diffusionskontrolliert statt, während sie in anorganischen Schichten durch die Fehlstellen in der anorganischen Schicht beeinflusst werden. Daher werden zur Verbesserung der Barriereeigenschaften transparente, anorganische Schichten auf Polymerfolien aufgebracht. Insbesondere haben sich Siliziumoxid- und Aluminiumoxidschichten durchgesetzt. Diese anorganische Oxidschicht (SiOx oder AlOx), wird im Vakuumbeschichtungsverfahren (chemisch,
JP-A-10025357 JP-A-07074378 EP 1 018 166 B1 ) aufgebracht. InEP 1018166 B1 wird dargestellt, dass über das Verhältnis Silizium zu Sauerstoff der SiOx-Schicht die UV-Absorption der SiOx-Schicht beeinflusst werden kann. Dies ist wichtig, um darunter liegende Schichten vor der UV-Strahlung zu schützen. Der Nachteil ist jedoch, dass sich mit der Veränderung des Verhältnisses Silizium zu Sauerstoff auch die Barriereeigenschaft ändert. Es können also Transparenz und Barriere nicht unabhängig voneinander variiert werden. - Die anorganische Oxidschicht wird bisweilen hauptsächlich auf Polyestern und Polyolefinen aufgebracht, da diese Materialien der Temperaturbeanspruchung während des Verdampfungsprozesses standhalten. Außerdem haftet die anorganische Oxidschicht gut auf Polyestern und Polyolefinen, wobei letztere vor der Beschichtung einer Coronabehandlung unterzogen werden. Da diese Materialien jedoch nicht witterungsstabil sind, werden sie oft mit halogenierten Folien laminiert, wie beispielsweise in
WO 94/29106 - Wie aus U. Moosheimer, Galvanotechnik 90 Nr. 9, 1999, p. 2526–2531, bekannt ist, verbessert die Beschichtung von PMMA mit einer anorganischen Oxidschicht nicht die Barriere gegenüber Wasserdampf und Sauerstoff, da PMMA amorph ist. PMMA ist jedoch im Unterschied zu Polyestern und Polyolefinen witterungsstabil. Die Teilentladungsspannung ist abhängig vom Folienmaterial und von der Schichtdicke. Um eine Teilentladungsspannung von 1000 V zu erreichen, werden ebenfalls Laminate aus mehreren Folienlagen hergestellt.
- Wie aus S. Amberg-Schwab et al., Journal of Sol-Gel Sciene and Technology 1/2 (1998), p. 141–146, bekannt ist, können die Fehlstellen, wie sie in anorganische Oxidschichten immer auftreten, durch organisch-anorganische Sol-Gel-Hybridsysteme verschlossen werden. Sie verbessern also die Barrierewirkung, wenn sie auf der anorgansichen SiOx-Schicht aufgebracht werden, da sie die Fehlstellen verschließen. Besonders stark ist dieser Effekt auf Polypropylen. Der Nachteil dieser Sol-Gel-Systeme ist jedoch die eingeschränkte Witterungsbeständigkeit und der lange Aushärteprozess durch Hydrolyse.
- Im Patent
DE 10260067 A1 beschreibt der Anmelder umformbare Kratzfestbeschichtungen. Diese haben den Vorteil, dass sie nicht nur für feste Formkörper, sondern auch für flexible, wie z. B. Folien, verwendet werden können. Des Weiteren sind sie UV-stabil und schmutzabweisend. Sie haften jedoch nicht auf anorganischen Schichten, wie z. B. Siliziumoxid- oder Aluminiumoxid-Schichten. - Aufgabenstellung
- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Barrierrefolie zur Verfügung zu stellen, die witterungsstabil und hoch transparent ist (> 90% im Wellenlängenbereich > 380 nm), wobei hohe Barriereeigenschaften gegenüber Wasserdampf und Sauerstoff gewährleistet werden. PMMA erfüllt die Eigenschaft der Witterungsstabilität, die anorganische Oxidschicht erfüllt die Eigenschaften der Barriere. Die vorliegende Erfindung hat die erstens die Aufgabe, PMMA als Trägerschicht mit einer anorganischen Oxidschicht zu beschichten, die die Barrierefunktion verbessert, obwohl dies nicht nach dem Stand der Technik nicht möglich ist. Zweitens soll die Funktion des Schutzes vor UV-Strahlung nicht mehr von der anorganischen Oxidschicht übernommen werden, damit diese ausschließlich nach optischen Kriterien optimiert werden kann, sondern von der PMMA-Schicht. Drittens soll bereits mit dieser Materialkombination eine Teilentladungsspannung von größer 1000 V erreicht werden. Viertens sollen die Fehlstellen der anorganischen Oxidschicht mit einer schnellen und einfachen Methode verschlossen werden.
- Lösung
- Gelöst wird die Aufgabe durch eine Barrierefolie, die eine transparente Trägerschicht (vorzugsweise Polymethylmethacrylat (PMMA), schlagzähes PMMA) aufweist, die witterungsstabil ist. Des Weiteren enthält die Trägerschicht einen UV-Absorber. Diese Trägerschicht wird mit einem Lack behandelt, der die Haftung einer anorganischen Oxidschicht auf PMMA verbessert. Die Trägerschicht besitzt außerdem eine ausreichende Schichtdicke, um die Teilentladungsspannung von 1000 V zu gewährleisten. Die Fehlstellen der anorganischen Schicht werden mit einem organischen Lack verschlossen, der überraschender Weise die Barriere verbessert. Der Lack hat auch überraschender Weise eine gute Haftung zu der anorganischen SiOx-Schicht, obwohl der Lack selbst nur organische Bestandteile aufweist.
- Vorteile der Erfindung:
-
- • Die erfindungsgemäße Barrierefolie ist witterungsstabil ohne zusätzlichen Witterungsschutz.
- • Die erfindungsgemäße Barrierefolie ist halogenfrei.
- • Die erfindungsgemäße Barrierefolie besitzt eine hohe Barriere gegenüber Wasserdampf und Sauerstoff (< 0,1 g/(m2d)).
- • Die erfindungsgemäße Barrierefolie schützt darunterliegende Schichten vor UV-Strahlung unabhängig von der Zusammensetzung der SiOx-Schicht.
- • Die erfindungsgemäße Barrierefolie besitzt eine anorganische Schicht, die vor mechanischen Einflüssen geschützt ist.
- • Die Fehlstellen der anorganischen Schicht in der erfindungsgemäßen Folie sind durch eine einfache Methode verschließbar, was die Barriere verbessert.
- Die Trägerschicht
- Als Trägerschicht werden Folien aus vorzugsweise Polymethylmethacrylat (PMMA) oder schlagzähem PMMA (sz-PMMA) verwendet.
- Die Trägerschicht weist ein Dicke von 20 μm bis 500 μm auf, bevorzugt liegt die Dicke bei 50 μm bis 400 μm und ganz besonders bevorzugt bei 200 μm bis 300 μm. Die Trägerschicht enthält einen UV-Absorber, beispielsweise Tinuvin® 234, Tinuvin® 360, Chimasorb® 119 oder Irganox® 1076. Die Konzentration des UV-Absorbers beträgt 0 bis 20%, bevorzugt 0 bis 5%, ganz besonders bevorzugt 0 bis 2%. Die Trägerschicht wird des Weiteren mit einem Lack behandelt, der die Haftung der anorganischen Oxidschicht auf PMMA verbessert. Als Lack kann beispielsweise Dynasylan MEMO verwendet werden. Die Schichtdicke des Lacks beträgt 0 bis 50 μm, bevorzugt 0 bis 30 μm, ganz besonders bevorzugt 0 bis 10 μm. Diese Lackschicht verbessert nicht nur die Haftung zwischen anorganischer Oxidschicht und der Trägerfolie (
1 ), sondern verbessert überraschender Weise auch die Barrierewirkung gegenüber Wasserdampf und Sauerstoff. - Die Trägerschicht weist eine Transparenz von mehr als 80%, bevorzugt mehr als 85%, besonders bevorzugt mehr als 90% im Wellenlängenbereich von > 300 nm, bevorzugt 350 bis 2000 nm, besonders bevorzugt 380 bis 800 nm auf.
- Die Trägerschicht besitzt außerdem eine ausreichende Schichtdicke, um die Teilentladungsspannung von 1000 V zu gewährleisten. Dies sind in Abhängigkeit von der Dicke beispielsweise bei PMMA ab 250 μm.
- Die Barriereschicht
- Die Barriereschicht ist auf die Trägerschicht aufgebracht und besteht vorzugsweise aus anorganischen Oxiden, beispielsweise SiOx oder AlOx. Für den genauen Schichtaufbau siehe Ausführungsbeispiele. Als SiOx-Schichten finden bevorzugt Schichten mit dem Verhältnis von Silizium und Sauerstoff von 1:1 bis 1:2, besonders bevorzugt 1:1,3 bis 1:1,7 Verwendung. Die Schichtdicke beträgt 5–300 nm, bevorzugt 10–100 nm, besonders bevorzugt 20–80 nm.
- Als AlOx-Schichten finden bevorzugt Schichten mit dem Verhältnis von Aluminium und Sauerstoff von 2:3 Verwendung. Die Schichtdicke beträgt 5–300 nm, bevorzugt 10–100 nm, besonders bevorzugt 20–80 nm.
- Die anorgansichen Oxide können mittels physikalischer Vakuumabscheidung (Elektronenstrahl- oder thermischer Prozess), Magnetron-Sputtern oder Chemsicher Vakuumabscheidung aufgebracht werden. Eine Flammen-, Plasma- oder Corona-Vorbehandlung ist ebenfalls möglich.
- Der organische Lack
- Der organische Lack ist auf der Barriereschicht aufgebracht und verschließt die Fehlstellen, die in der Barriereschicht vorhanden sind. Er dient des Weiteren auch als Schutz der anorganischen Oxidschicht vor mechanischen Einflüssen. Der organische Lack weist eine Schichtdicke von 0,1 bis 50 μm auf, bevorzugt 1 bis 20 μm, besonders bevorzugt 2–5 μm. Der Lack enthält 1 Gew.-%–80 Gew.-% mehrfunktionelle Methacrylate oder Acrylate oder Mischungen davon als Hauptkomponente. Bevorzugt werden mehrfunktionelle Acrylate, z. B. Hexandioldimethycrylat. Zur Erhöhung der Flexibilität können monofunktionelle Acrylate oder Methacrylate zugegeben werden, beispielsweise Hydroxyethylmethacrylat oder Laurylmethacrylat. Des Weiteren kann der Lack eine Komponente enthalten, die die Haftung zu SiOx verbessert, beispielsweise Methacryloxypropyltrimethoxysilan. Der Lack enthält 0,1 Gew.-%–10 Gew.-%, bevorzugt 0,5 Gew.-% – 5 Gew.-%, besonders bevorzugt 1 Gew.-%–3% Initiator, z. B. Irgacure® 184 oder Irgacure® 651. Der Lack kann als Regler auch 0 Gew.-%–10 % Schwefelverbindungen enthalten. Eine Variante ist, zur einen Teil der Hauptkomponente durch 1 Gew.-%–30 Gew.-% Präpolymerisat zu ersetzen. Unter einem Präpolymerisat versteht man ein Monomer-Polymer-Gemisch, das dadurch entsteht, dass das Monomer nur teilweise polymerisiert (siehe beispielsweise
DE 10349544 A1 .) - Anwendung
- Diese Barrierefolie kann in der Verpackungsindustrie, der Displaytechnologie, der organischen Photovoltaik, in der Dünnschichtphotovoltaik, in kristallinen Siliziummodulen sowie für organische LEDs eingesetzt werden.
- Ausführungsbeispiel
- Tragerschicht – Lack – Barriereschicht – organischer Lack
- Eine transparente und witterungsbeständige Trägerschicht (
1 ) (vorzugsweise PMMA oder schlagzähes PMMA), wird mit einem Lack (2 ) beschichtet. Darauf wird eine anorganische Barriereschicht (3 ) (vorzugsweise SiOx oder AlOx) aufgebracht. Die Trägerschicht (1 ) zeichnet sich dadurch aus, dass sie einen UV-Absorber enthält und dass sie mit einem Lack beschichtet ist, der überraschender Weise nicht nur die Haftung verbessert, sondern auch die Barrierewirkung gegenüber Wasserdampf und Sauerstoff. Die Barriereschicht (3 ) wird mit einem organischen Lack beschichtet, der überraschender Weise die Barriere weiter erhöht. - Prozess:
-
- 1. Aufbringen des Lacks (
2 ) auf die Trägerschicht (1 ) mittels Roll Coating - 2. Vakuumbeschichtung (PVD, CVD) des Lacks (
2 ) - 3. Aufbringen des organischen Lacks (
4 ) auf die Barriereschicht (3 ) mittels Roll Coating - Messung der Barriere der erfindungsgemäßen Folie
- Die Messung der Wasserdampfdurchlässigkeit des Foliensystems erfolgt nach ASTM F-1249 bei 23°C/85% rel. Feuchte.
- Die Messung der Sauerstoffdurchlässigkeit erfolgt nach ISO 15105-2 (DIN 53380 T3) bei 23°C/50% rel. Feuchte.
- Die Messung der Teilentladungsspannung erfolgt nach DIN 61730-1 und IEC 60664-1.
- Beispiele
- Vergleichsbeispiel:
- Eine Folie nach dem Stand der Technik (
EP 1 018 166 B1 ), z. B. SiOx-beschichtetes ETFE mit 50 μm Schichtdicke weist eine Barriere von 0,7 g/(m2 d) auf. - Eine erfindungsgemäße Folie mit 50 μm Schichtdicke der Trägerschicht weist eine Barriere zwischen 0,01 und 0,1 g/(m2d) auf (siehe Beispiel 1).
- Beispiel 1
-
- Trägerschicht: PMMA, Schichtdicke 50 μm, enthält 1% UV-Absorber Tinuvin® 234.
- Lack: 80% Hydroxyethylmethacrylat + 20% Dynasylan® MEMO, Schichtdicke: 5 μm.
- Barriereschicht: SiO1,5 mittels Elektronenstrahl-Vakuumverdampfung aufgebracht, Schichtdicke: 40 nm.
- organischer Lack: 62% Laromer UA 9048 V, 31% Hexandioldiacrylat, 2% Hydroxyethylmethacrylat, 3% Irgacure 184, 2% Butylacrylat, 1% Methacryloxypropyltrimethoxysilan
- Beispiel 2
-
- Trägerschicht: schlagzähes PMMA, Schichtdicke: 250 μm, enthält 2% UV-Absorber Cesa Light® GXUVA006.
- Lack: 80% Hexandioldiacrylat + 20% Dynasylan® MEMO, Schichtdicke: 5 μm. Barriereschicht: Al2O3, Schichtdicke 40 nm, mittels Magnetron-Sputtern aufgebracht.
- organischer Lack: 70% Hexandioldiacrylat, 17% Pentaerythrittetraacrylat, 5% Methylmethacrylat, 2% Irgacure 184, 2% Hydroxyethylmethacrylat, 2% Methacryloxypropyltrimethoxysilan
- Beispiel 3
-
- Trägerschicht: Coextrudat aus PMMA und schlagzähem PMMA, Schichtdicke 150 μm, enthält 1,5% UV-Absorber Tinuvin® 360.
- Lack: Nanoresign®, Schichtdicke 3 μm.
- Barriereschicht: SiO1,7, Schichtdicke 80 nm, mittels Magnetron-Sputtern aufgebracht.
- organischer Lack: 62% Laromer UA 9048 V, 31% Hexandioldiacrylat, 2% Hydroxyethylmethacrylat, 3% Irgacure 651, 2% Methacryloxypropyltrimethoxysilan
- Beispiel 4
-
- Trägerschicht schlagzähes PMMA, Schichtdicke 150 μm, enthält 1,5% UV-Absorber Tinuvin® 360 und 1% Aerosil® als zusätzliche Barriere.
- Lack: 80% Hexandioldiacrylat + 20% Dynasylan MEMO, Schichtdicke: 5 μm.
- Barriereschicht: SiO1,7, Schichtdicke 60 nm, mittels Elektronenstrahl-Vakuumverdampfung aufgebracht.
- organischer Lack: 62% Laromer UA 9048 V, 31% Hexandioldiacrylat, 2% Hydroxyethylmethacrylat, 3% Irgacure 651, 2% Butylacrylat
- Beispiel 5.
-
- Trägerschicht Coextrudat aus PMMA und schlagzähem PMMA, Schichtdicke 150 μm, enthält 1,5% UV-Absorber Irganox® 1076.
- Lack: 80% Hydroxyethylmethacrylat + 20% Dynasylan® MEMO, Schichtdicke: 5 μm.
- Barriereschicht: Al2O3, Schichtdicke 20 nm, mittels Elektronenstrahl-Vakuumverdampfung aufgebracht.
- organischer Lack: 46% Laromer UA 9048 V, 44% Hexandioldiacrylat, 5% Hydroxyethylmethacrylat, 3% Irgacure 184, 2% Methacryloxypropyltrimethoxysilan
-
- 1
- Trägerschicht
- 2
- Lack
- 3
- Barriereschicht
- 4
- organischer Lack
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- - DE 3842796 A1 [0002]
- - JP 10025357 A [0005]
- - JP 07074378 A [0005]
- - EP 1018166 B1 [0005, 0005, 0025]
- - WO 94/29106 [0006]
- - DE 10260067 A1 [0009]
- - DE 10349544 A1 [0019]
- Zitierte Nicht-Patentliteratur
-
- - K. Noller, 19th European PVSEC, Proceedings, 2004, p. 2156–2159 [0005]
- - U. Moosheimer, Galvanotechnik 90 Nr. 9, 1999, p. 2526–2531 [0007]
- - S. Amberg-Schwab et al., Journal of Sol-Gel Sciene and Technology 1/2 (1998), p. 141–146 [0008]
- - ASTM F-1249 [0022]
- - ISO 15105-2 [0023]
- - DIN 53380 T3 [0023]
- - DIN 61730-1 [0024]
- - IEC 60664-1 [0024]
Claims (9)
- Barrierefolie, bestehend aus einer witterungsstabilen Trägerschicht, einer Lackschicht und einer Barriereschicht, wobei die Lackschicht die Haftung auf der Trägerschicht und somit die Barrierewirkung gegenüber Wasserdampf und Sauerstoff verbessert.
- Barrierefolie nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie halogenfrei ist.
- Barrierefolie nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine Teilentladungsspannung von mindestens 1000 V aufweist.
- Barrierefolie nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine Transparenz von mehr als 80% im Bereich von mehr als 300 nm aufweist.
- Barrierefolie nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass auf der Barriereschicht eine organische Lackschicht aufgebracht ist, die die Barrierefunktion verbessert.
- Barrierefolie nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die organische Lackschicht aus einer Lackformulierung folgender Zusammensetzung gebildet wird: a) 1 Gew.-%–80 Gew.-% ein- oder mehrfunktioneller Acrylate oder Methacrylate b) 1 Gew.-%–50 Gew.-% eines Präpolymerisates c) 0 Gew.-%–48 Gew.-% eines Siloxangruppen enthaltenden Acrylates oder Methacrylates d) 1 Gew.-%–10 Gew.-% mindestens eines Initiators e) 0,1 Gew.-%–10 Gew.-% mindestens eines Reglers e) 0,5 Gew.-%–40% übliche Additive
- Verfahren zur Herstellung der Barrierefolie, dadurch gekennzeichnet, dass a) eine transparente, witterungsbeständige PMMA-Kunststoffolie mit einer Lackschicht ausgestattet wird, die die Haftung zu SiOx verbessert und die Lackschicht mittels Roll Coating aufgetragen wird. b) die in nach Anspruch 7 a) hergestellte Folie mittels physikalischer Vakuumverdampfung mit einer anorganischen Barriere ausgestattet wird, oder c) bei der in 7 b) genannten physikalischen Vakuumverdampfung SiO mittels Elektronenstrahl verdampft wird, oder d) bei der in 7 b) genannten physikalischen Vakuumverdampfung SiO thermisch verdampft wird, und e) auf die Barriereschicht der in Anspruch 7 a) hergestellten Folie eine organische Lackschicht aufgetragen wird, die aus der in Anspruch 6 genannten Lackformulierung gebildet wird.
- Verwendung von Barrierefolien nach Anspruch 1 in der Verpackungsindustrie, der Displaytechnologie und für organische LEDs.
- Verwendung von Barrierefolien nach Anspruch 1 in der organischen Photovoltaik, in der Dünnschichtphotovoltaik und in kristallinen Siliziummodulen.
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---|---|
DE (1) | DE102009003221A1 (de) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20140170424A1 (en) * | 2011-07-15 | 2014-06-19 | Konica Minolta, Inc. | Gas barrier film and method for producing same |
US20150050479A1 (en) * | 2012-03-29 | 2015-02-19 | Fujifilm Corporation | Gas barrier film |
CN105008127A (zh) * | 2013-01-18 | 2015-10-28 | 刘大佼 | 隔阻层结构 |
EP3185221A1 (de) | 2015-12-23 | 2017-06-28 | Friedrich Kisters | Authentifikationsvorrichtung und verfahren zur optischen oder akustischen zeichenerkennung |
CN108701731A (zh) * | 2015-12-23 | 2018-10-23 | 安姆科灵活交换有限公司 | 热反射太阳能模块 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3842796A1 (de) | 1988-12-20 | 1990-06-21 | Roehm Gmbh | Klare schlagzaehe acrylat-formmasse |
WO1994029106A1 (de) | 1993-06-11 | 1994-12-22 | ISOVOLTA Österreichische Isolierstoffwerke Aktiengesellschaft | Verfahren zur herstellung fotovoltaischer module sowie eine vorrichtung zur durchführung dieses verfahrens |
JPH0774378A (ja) | 1993-09-01 | 1995-03-17 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 太陽電池シート |
JPH1025357A (ja) | 1996-07-12 | 1998-01-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明複合フィルム |
US6413645B1 (en) * | 2000-04-20 | 2002-07-02 | Battelle Memorial Institute | Ultrabarrier substrates |
JP2003297556A (ja) * | 2002-04-02 | 2003-10-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示素子用基材、表示パネル、表示装置及び表示素子用基材の製造方法 |
JP2004106443A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Toppan Printing Co Ltd | レトルト性を有するガスバリアフィルム積層体 |
DE10260067A1 (de) | 2002-12-19 | 2004-07-01 | Röhm GmbH & Co. KG | Beschichtungsmittel zur Herstellung von umformbaren Kratzfestbeschichtungen mit schmutzabweisender Wirkung, kratzfeste umformbare schmutzabweisende Formkörper sowie Verfahrn zu deren Herstellung |
EP1018166B1 (de) | 1998-07-03 | 2004-09-22 | Isovolta Ag | Verfahren zur Herstellung eines fotovoltaischen Moduls |
DE10349544A1 (de) | 2003-10-22 | 2005-05-25 | Röhm GmbH & Co. KG | Herstellung von farblosen, transparent oder gedeckt eingefärbten PLEXIGLAS-Blöcken aus restinitiatorfreiem Präpolymerisat durch thermische Polymerisation |
WO2005073427A2 (de) * | 2004-02-02 | 2005-08-11 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. | Verfahren zur herstellung eines ultrabarriere-schichtsystems |
JP2005297414A (ja) * | 2004-04-14 | 2005-10-27 | Mitsui Chemicals Inc | プライマー用組成物及びこれを用いたガスバリア性積層フィルム |
JP2007283612A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Tohcello Co Ltd | ガスバリアフィルム |
JP2008056835A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Tokyo Printing Ink Mfg Co Ltd | 蒸着フィルム用コート剤組成物 |
-
2009
- 2009-05-19 DE DE102009003221A patent/DE102009003221A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3842796A1 (de) | 1988-12-20 | 1990-06-21 | Roehm Gmbh | Klare schlagzaehe acrylat-formmasse |
WO1994029106A1 (de) | 1993-06-11 | 1994-12-22 | ISOVOLTA Österreichische Isolierstoffwerke Aktiengesellschaft | Verfahren zur herstellung fotovoltaischer module sowie eine vorrichtung zur durchführung dieses verfahrens |
JPH0774378A (ja) | 1993-09-01 | 1995-03-17 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 太陽電池シート |
JPH1025357A (ja) | 1996-07-12 | 1998-01-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明複合フィルム |
EP1018166B1 (de) | 1998-07-03 | 2004-09-22 | Isovolta Ag | Verfahren zur Herstellung eines fotovoltaischen Moduls |
US6413645B1 (en) * | 2000-04-20 | 2002-07-02 | Battelle Memorial Institute | Ultrabarrier substrates |
JP2003297556A (ja) * | 2002-04-02 | 2003-10-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 表示素子用基材、表示パネル、表示装置及び表示素子用基材の製造方法 |
JP2004106443A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Toppan Printing Co Ltd | レトルト性を有するガスバリアフィルム積層体 |
DE10260067A1 (de) | 2002-12-19 | 2004-07-01 | Röhm GmbH & Co. KG | Beschichtungsmittel zur Herstellung von umformbaren Kratzfestbeschichtungen mit schmutzabweisender Wirkung, kratzfeste umformbare schmutzabweisende Formkörper sowie Verfahrn zu deren Herstellung |
DE10349544A1 (de) | 2003-10-22 | 2005-05-25 | Röhm GmbH & Co. KG | Herstellung von farblosen, transparent oder gedeckt eingefärbten PLEXIGLAS-Blöcken aus restinitiatorfreiem Präpolymerisat durch thermische Polymerisation |
WO2005073427A2 (de) * | 2004-02-02 | 2005-08-11 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. | Verfahren zur herstellung eines ultrabarriere-schichtsystems |
JP2005297414A (ja) * | 2004-04-14 | 2005-10-27 | Mitsui Chemicals Inc | プライマー用組成物及びこれを用いたガスバリア性積層フィルム |
JP2007283612A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Tohcello Co Ltd | ガスバリアフィルム |
JP2008056835A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Tokyo Printing Ink Mfg Co Ltd | 蒸着フィルム用コート剤組成物 |
Non-Patent Citations (8)
Title |
---|
ASTM F-1249 |
DIN 53380 T3 |
DIN 61730-1 |
IEC 60664-1 |
ISO 15105-2 |
K. Noller, 19th European PVSEC, Proceedings, 2004, p. 2156-2159 |
S. Amberg-Schwab et al., Journal of Sol-Gel Sciene and Technology 1/2 (1998), p. 141-146 |
U. Moosheimer, Galvanotechnik 90 Nr. 9, 1999, p. 2526-2531 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20140170424A1 (en) * | 2011-07-15 | 2014-06-19 | Konica Minolta, Inc. | Gas barrier film and method for producing same |
US20150050479A1 (en) * | 2012-03-29 | 2015-02-19 | Fujifilm Corporation | Gas barrier film |
CN105008127A (zh) * | 2013-01-18 | 2015-10-28 | 刘大佼 | 隔阻层结构 |
EP3185221A1 (de) | 2015-12-23 | 2017-06-28 | Friedrich Kisters | Authentifikationsvorrichtung und verfahren zur optischen oder akustischen zeichenerkennung |
WO2017108428A1 (de) | 2015-12-23 | 2017-06-29 | Friedrich Kisters | Authentifikationsvorrichtung und verfahren zur optischen oder akustischen zeichenerkennung |
CN108701731A (zh) * | 2015-12-23 | 2018-10-23 | 安姆科灵活交换有限公司 | 热反射太阳能模块 |
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