DE102007016029A1 - Holding arrangement used in a CVD or a PVD installation comprises a holder having a section made from a dielectric material which is in contact with the substrate during a deposition process - Google Patents

Holding arrangement used in a CVD or a PVD installation comprises a holder having a section made from a dielectric material which is in contact with the substrate during a deposition process Download PDF

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Sönke SIEBELS
Jürgen Dr. Klein
Gregor Arnold
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KHS GmbH
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Abstract

Holding arrangement (1) comprises a holder (2) having a section made from a dielectric material which is in contact with the substrate (5) during a deposition process. An independent claim is also included for a chemical vapor deposition (CVD) or a physical vapor deposition (PVD) installation with the above holding arrangement.

Description

Gebiet der ErfindungField of the invention

Die Erfindung betrifft eine Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage sowie eine PVD und CVD-Beschichtungsanlage.The The invention relates to a holding device for a CVD or PVD coating system as well as a PVD and CVD coating line.

Hintergrund der ErfindungBackground of the invention

CVD (Chemical Vapor Deposition) und PVD (Physical Vapor Deposition) Beschichtungsanlagen sind bekannt. Insbesondere sind Rundläufer-Beschichtungsanlagen für Kunststoffflaschen bekannt, mit welchen eine Siliziumoxidschicht als Barriereschicht auf die Innenseite der Kunststoffflaschen aufgebracht wird.CVD (Chemical Vapor Deposition) and PVD (Physical Vapor Deposition) Coating plants are known. In particular, rotary coating systems are for plastic bottles known, with which a silicon oxide layer as a barrier layer is applied to the inside of the plastic bottles.

Eine derartige Barrierebeschichtung ist insbesondere für kohlensäurehaltige Getränke sowie für medizinische Produkte notwendig, um Diffusionsprozesse zu verringern.A Such barrier coating is especially for carbonated beverages as well as for medical Products necessary to reduce diffusion processes.

In derartigen Anlagen wird insbesondere mittels eines PICVD(Plasma Impulse Chemical Vapour Deposition)-Verfahren die Beschichtung aufgebracht. Dabei wird ein zu beschichtender Hohlkörper aus Kunststoff, insbesondere eine Flasche, zumindest im Innenraum evakuiert und mit einem Precursor-Gas gefüllt. Sodann wird über die Einkopplung von gepulster elektromagnetischer Strahlung, insbesondere im Hochfrequenz- oder Mikrowellenfrequenz-Bereich ein Plasma gezündet und es scheidet sich eine im Wesentlichen Siliziumoxid enthaltende Schicht am Flaschenrand ab. Das PICVD-Verfahren hat den Vorteil, dass die Substrattemperaturen gering gehalten werden können und ist daher für Kunststoffe besonders geeignet.In Such systems are in particular by means of a PICVD (plasma Impulse Chemical Vapor Deposition) method applied the coating. there becomes a hollow body to be coated made of plastic, in particular a bottle, at least in the interior evacuated and filled with a precursor gas. Then it is over the Coupling of pulsed electromagnetic radiation, in particular in High-frequency or microwave frequency range ignited a plasma and It separates a substantially silicon oxide-containing layer at the edge of the bottle. The PICVD method has the advantage that the Substrate temperatures can be kept low and is therefore for plastics particularly suitable.

Die Flaschen werden in der Beschichtungsanlage von einer Haltevorrichtung aufgenommen und zur Evakuierung auf eine Dichtung gedrückt. Bei Kunststoffflaschen muss in der Regel nicht nur der Innenraum der Flasche, sondern auch der die Flasche umgebende Raum evakuiert werden, um zu verhindern, dass sich die Flasche aufgrund des Vakuums im Innenraum verformt.The Bottles are in the coating system of a holding device picked up and pressed on a seal for evacuation. For plastic bottles usually not only needs the interior of the bottle, but also evacuate the space surrounding the bottle to prevent that the bottle deforms due to the vacuum in the interior.

In der Praxis hat sich herausgestellt, dass es nach mehrstündigem Dauerbetrieb derartiger Anlagen zu Aufschmelzungen des Behälterhalses der Flasche kommen kann.In In practice, it has been found that after several hours of continuous operation such installations to melting the container neck of the bottle come can.

Es könnte sein, dass diese Aufheizungen durch die Haltevorrichtung, welche den Flaschenhals packt, verursacht werden. Derartige aus Metall hergestellte Haltevorrichtungen könnten beispielsweise durch entstehende Wirbelströme oder Überschlägen in den Spalten der Haltevorrichtung aufgeheizt werden.It could be that these heaters by the holding device, which the bottleneck packs, caused. Such metal produced holding devices could, for example, by resulting eddy currents or rollovers in the Columns of the holding device to be heated.

Als weiterer Grund wird vermutet, dass es durch entstehende Aufladungen zu elektrischen Überschlägen zwischen den Flaschen und der Haltevorrichtung oder zwischen einzelnen Bauteilen kommt, durch welche Aufschmelzungen verursacht werden.When Another reason is suspected that it is due to resulting charges to electric flashovers between the bottles and holding device or between individual components, caused by which melting.

Hierbei könnte eine Rolle spielen, dass geerdete Bauteile durch Verschmutzungen nach längerem Betrieb keine ausreichende Verbindung zur Masse mehr haben. So könnte es zu Potentialänderungen kommen.in this connection could play a role that earthed components due to contamination after a while Operation no longer have sufficient connection to the ground. It could be like that to potential changes come.

Weiter könnte die nicht zu vermeidende Evakuierung des Außenbereiches der Flasche besonders von Nachteil sein. Aufgrund des Paschen-Gesetzes nimmt beim Evakuieren die Gefahr eines Überschlags aufgrund der steigenden mittleren freien Weglängen zunächst ab. Erst bei sehr niedrigen Drücken beginnt die Überschlagsspannung wieder zu steigen. Diese Drücke werden in derartigen Anlagen normalerweise aber nicht erreicht, vielmehr arbeiten die Anlagen im Grobvakuum, das heißt der Druck im Außenbereich des Substrats liegt bei über einem mbar.Further could the unavoidable evacuation of the outside area of the bottle especially be a disadvantage. Due to the Paschen law takes place during evacuation the danger of a rollover due to the increasing mean free path lengths initially. Only at very low To press begins the flashover voltage to rise again. These pressures are normally not reached in such plants, Rather, the plants work in a rough vacuum, that is, the pressure outside of the substrate is above an mbar.

Aufgabe der ErfindungObject of the invention

Der Erfindung liegt demgegenüber die Aufgabe zugrunde, die genannten Nachteile des Standes der Technik zumindest zu reduzieren.Of the Invention is in contrast the task is based, the mentioned disadvantages of the prior art at least reduce.

Insbesondere ist Aufgabe der Erfindung, durch Überhitzungen der Haltevorrichtung auftretende Schäden am Substrat zu vermeiden.Especially Object of the invention, by overheating of the holding device occurring damage to avoid on the substrate.

Weiter ist Aufgabe der Erfindung, die Wärmeübertragung zwischen Haltevorrichtung und Substrat zu verringern.Further Object of the invention, the heat transfer between holding device and substrate to reduce.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, das Auftreten von Spannungsüberschlägen beim Betrieb einer PVD- oder CVD-Anlage zu reduzieren.A Another object of the invention is the occurrence of voltage flashovers during Operation of a PVD or CVD system to reduce.

Zusammenfassung der ErfindungSummary of the invention

Die Aufgabe der Erfindung wird bereits durch eine Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage sowie durch eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach einem der unabhängigen Ansprüche gelöst.The The object of the invention is already achieved by a holding device for a CVD or PVD coating system and by a CVD or PVD coating system after one of the independent ones claims solved.

Bevorzugte Ausführungsformen und Weiterbildungen der Erfindung sind den jeweiligen Unteransprüchen zu entnehmen.preferred embodiments and further developments of the invention are the respective dependent claims remove.

Gemäß der Erfindung ist eine Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage vorgesehen, die eine Aufnahme zum Halten eines Substrats während der Beschichtung umfasst. Dabei ist zumindest ein während der Beschichtung mit dem Substrat in Kontakt stehender Abschnitt der Aufnahme aus einem dielektrischen Material ausgebildet.According to the invention, a holding device for a CVD or PVD coating system is provided which comprises a receptacle for holding a substrate during the coating. there At least one portion of the receptacle made of a dielectric material, which is in contact with the substrate during the coating, is formed.

Die Erfinder haben herausgefunden, dass durch die Verwendung eines dielektrischen Materials, mit welchem das Substrat gehalten wird, hitzebedingte Schäden am Substrat weitgehend vermieden werden können.The Inventors have found that by using a dielectric Material with which the substrate is held, heat-related damage can be largely avoided on the substrate.

Man vermutet, dass dieser Effekt vor allem auf die Reduzierung von Spannungsüberschlägen zurückgeht. Die meisten dielektrischen Materialien verringern aber auch die direkte Wärmeübertragung zwischen Haltevorrichtung und Substrat.you suspected that this effect is mainly due to the reduction of flashovers. But most dielectric materials also reduce that direct heat transfer between Holding device and substrate.

Weiter kann es bei der Verwendung von dielektrischen Bauteilen nicht zum Hitzeeintrag durch entstehende Wirbelströme kommen.Further it can not be used when using dielectric components Heat input by emerging eddy currents come.

Vorzugsweise wird als dielektrisches Material Polyetheretherketon (PEEK), Polycarbonat (PC), Teflon, Keramik, Aluminuimoxid und/oder Glas verwendet.Preferably is used as a dielectric material polyetheretherketone (PEEK), polycarbonate (PC), Teflon, ceramic, aluminum oxide and / or glass used.

Als besonders vorteilhaft für CVD und PVD-Beschichtungsanlagen hat sich PEEK erwiesen, welches eine hohe Schlagbeständigkeit und eine hohe Temperaturbeständigkeit aufweist.When especially advantageous for CVD and PVD coating systems PEEK has proved to be a high impact resistance and a high temperature resistance having.

Das dielektrische Material weist vorzugsweise eine Temperaturbeständigkeit von mindestens 100oC, vorzugsweise 150oC und besonders bevorzugt von mindestens 200oC auf. So kann die Haltevorrichtung auch in PVD- und CVD-Anlagen mit hohem Anlagedurchsatz und daraus resultierender hoher thermischer Belastung des Anlagenteile verwendet werden.The Dielectric material preferably has a temperature resistance of at least 100 ° C, preferably 150 ° C and more preferably of at least 200oC. Thus, the holding device can also be used in PVD and high capacity CVD systems and resulting high thermal load of the system parts are used.

Bei einer Weiterbildung der Erfindung ist die Aufnahme in zumindest eine Richtung bewegbar ausgebildet. So kann das Substrat mittels der Aufnahme beispielsweise auf eine Dichtfläche geführt werden, um evakuiert zu werden, um das Precursor-Gas für eine CVD-Beschichtung einzuleiten.at a development of the invention is the inclusion in at least one direction formed movable. So the substrate can by means of the recording, for example, be performed on a sealing surface to evacuated to be to the precursor gas for to initiate a CVD coating.

Bei einer Weiterbildung der Erfindung ist die Haltevorrichtung zur Aufnahme eine Hohlkörpers, insbesondere zur Aufnahme einer Kunststoffflasche ausgebildet. Dabei wird die Kunststoffflasche vorzugsweise am Flaschenhals von der Aufnahme der Haltevorrichtung festgehalten.at a development of the invention is the holding device for receiving a hollow body, in particular designed for receiving a plastic bottle. Here is the Plastic bottle preferably at the bottleneck of the recording the holding device held.

Vorzugsweise bestehen alle mit dem Substrat in Kontakt stehenden Bauteile zumindest an den Kontaktflächen aus einem dielektrischen Material.Preferably All consist of at least standing in contact with the substrate components at the contact surfaces made of a dielectric material.

Noch vorteilhafter ist es, wenn alle dem Substrat gegenüberliegenden Bauteile im wesentlichen aus einem dielektrischen Material bestehen. So werden Spannungsüberschläge, welche das Substrat erreichen könnten, weitgehend vermieden.Yet it is more advantageous if all the opposite to the substrate Components consist essentially of a dielectric material. So are flashovers, which could reach the substrate, largely avoided.

Bei einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weist die Aufnahme der Haltevorrichtung eine Zange mit zumindest zwei beweglichen Armen und einen Anlageabschnitt auf. Das Substrat wird zwischen den Armen der Zange und dem Anlageabschnitt fixiert. Arme und Anlageabschnitt sind aus dielektrischem Material ausgebildet. Das Substrat kann durch einfaches Öffnen der Zange manuell oder mittels einer mechanischen Vorrichtung entnommen werden.at a further preferred embodiment the invention, the recording of the holding device a pair of pliers with at least two movable arms and an abutment section. The substrate is placed between the arms of the forceps and the abutment section fixed. Arms and abutment section are made of dielectric material educated. The substrate can be manually or by simply opening the pliers be removed by a mechanical device.

Vorzugsweise werden die Arme der Zange über einen Federmechanismus in einer Ausgangsstellung gehalten. Das Substrat wird so durch den Federmechanismus zwischen den Armen der Zange und dem Anlageabschnitt eingeklemmt und/oder formflüssig gehalten.Preferably the arms of the pliers become over a spring mechanism held in an initial position. The substrate is done so by the spring mechanism between the arms of the pliers and clamped the plant section and / or held form liquid.

Der Federmechanismus ist dabei aus einem dielektrischen Material ausgebildet. Vorzugsweise wird als Feder ein Ring aus einem elastischen Material, insbesondere ein Gummiring verwendet. Es hat sich herausgestellt, dass überraschender Weise selbst der Austausch derartiger kleinerer Bauteile durch Bauteile aus einem dielektrischen Material erhebliche Verbesserungen mit sich bringt. Es ist zu vermuten, dass insbesondere Metallfedern im laufenden Betrieb der Anlage schnell den Kontakt zur Erde verlieren und so Spannungsüberschläge infolge elektrostatischer Aufladung verursachen.Of the Spring mechanism is formed of a dielectric material. Preferably, as a spring is a ring made of an elastic material, especially a rubber ring used. It turned out that more surprising Even the replacement of such smaller components by components From a dielectric material with significant improvements brings. It is likely that metal springs in particular quickly lose contact with the earth during operation of the system and so flashes due cause electrostatic charge.

Vorzugsweise ist die Aufnahme im Wesentlichen senkrecht zu einer Bewegungsrichtung eines Armes der Zange über einen Verschiebemechanismus verschiebbar, um das Substrat beispielsweise auf einen Dichtungsring aufzudrücken.Preferably the image is substantially perpendicular to a direction of movement an arm of pliers over a sliding mechanism displaceable to the substrate, for example to apply a sealing ring.

Bei einer besonderen Ausführungsform der Erfindung weist auch dieser Verschiebemechanismus einen Federmechanismus auf, der die Aufnahme unbelastet in einer Ausgangsstellung hält. Dieser Federmechanismus weist vorzugsweise zumindest an den dem Substrat zugewandten Flächen ein dielektrisches Material auf.at a particular embodiment According to the invention, this displacement mechanism also has a spring mechanism on, which holds the recording unloaded in a starting position. This spring mechanism preferably has at least on the surfaces facing the substrate dielectric material.

Eine besondere Ausführungsform sieht dabei eine Metallfeder vor, welche zumindest auf der dem Substrat gegenüberliegenden Seite in einer Hülse aus dielektrischem Material, insbesondere Kunststoff, angeordnet ist.A special embodiment provides a metal spring, which at least on the substrate opposite Side in a sleeve made of dielectric material, in particular plastic is.

Bei einer Weiterbildung der Erfindung weist die Haltevorrichtung eine Basis auf, in der die Aufnahme, Zange oder der Federmechanismus angebracht ist. Auch dieses Basis ist vorzugsweise aus einem dielektrischen Material ausgebildet.at a development of the invention, the holding device a Base on where the pickup, pliers or the spring mechanism is appropriate. This base is preferably made of a dielectric Material formed.

Vorzugsweise besteht die Basis auf der gegenüberliegenden, also der dem Substrat abgewandten Seite, aus einem nicht dielektrischen Material, insbesondere aus einem Metall. Da diese Seite der Basis in einer Beschichtungsanlage direkten Kontakt mit den eingeleiteten Precursor-Gasen beziehungsweise mit dem gezündeten Plasma hat, wird auf dieser Seite ein Metall verwendet, da dieses eine höhere Beständigkeit hat. Die Basis wird somit aus einem Verbundmaterial mit einer dielektrischen Schicht und einer Schicht aus einem anderen Material gebildet.Preferably is the base on the opposite, that is, the side facing away from the substrate, made of a non-dielectric Material, in particular of metal. Because this side of the base in a coating plant direct contact with the initiated Precursor gases or with the ignited plasma has, is on This page uses a metal, as this has a higher resistance Has. The base is thus made of a composite material with a dielectric Layer and a layer formed from a different material.

Vorzugsweise weist das dielektrische Material in einem Frequenzbereich zwischen 10 MHz und 3 GHz einen Verlustwinkel tan δ von unter 0,05, bevorzugt unter 0,01 und besonders bevorzugt unter 0,007 auf. Gedacht ist auch an einen Wert von 0,006 gemessen bei 1 MHz.Preferably rejects the dielectric material in a frequency range 10 MHz and 3 GHz, a loss angle tan δ of less than 0.05, preferably below 0.01 and more preferably below 0.007. Thought is also on a value of 0.006 measured at 1 MHz.

Es hat sich gezeigt, dass durch die Verwendung derartiger Materialien Überschläge weiter verringert werden.It has been shown to continue rollovers through the use of such materials be reduced.

Weiter betrifft die Erfindung eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage mit einer erfindungsgemäßen Haltevorrichtung.Further The invention relates to a CVD or PVD coating system with a holding device according to the invention.

Die Anlage ist vorzugsweise als PICVD-Beschichtungsanlage ausgebildet. Es hat sich herausgestellt, dass das Problem von Überschlägen bei gepulster Leistung, insbesondere bei kurzen Pulsanstiegzeiten verstärkt vorkommt.The Plant is preferably designed as a PICVD coating system. It has been proven that the problem of rollovers pulsed power, especially occurs at short pulse rise times occurs.

Bei einer Weiterbildung der Erfindung ist die Anlage als Rundläuferanlage zur Barrierebeschichtung von Kunststoffflaschen ausgebildet und weist sowohl Mittel zum Evakuieren des Innenraums eines Hohlkörpers beziehungsweise einer Flasche als auch Mittel zum Evakuieren des den Hohlkörper umgebenden Außenraums auf.at a development of the invention is the system as a rotary machine designed for barrier coating of plastic bottles and has both means for evacuating the interior of a hollow body or a bottle as well as means for evacuating the hollow body surrounding outer space on.

Die Anlage umfasst also ein Rezipienten, in welchem die zu beschichtenden Substrate, insbesondere die zu beschichtenden Flaschen eingebracht werden und bei welchem sowohl der Innenraum eines Hohlkörpers als auch der Rezipient evakuiert werden können. Eine Evakuierung des Rezipienten ist nötig, um Verformungen des Hohlkörpers zu verhindern. Es versteht sich, dass der Druck außerhalb des Hohlkörpers nicht notwendigerweise genau so niedrig sein muss wie der Druck im Hohlkörper.The Plant thus includes a recipient in which to be coated Substrates, in particular introduced the bottles to be coated be and in which both the interior of a hollow body as also the recipient can be evacuated. An evacuation of the Recipients are needed to deformations of the hollow body to prevent. It is understood that the pressure outside of the hollow body not necessarily as low as the pressure in the hollow body.

Beschreibung der ZeichnungenDescription of the drawings

Die Erfindung soll im Folgenden anhand der Zeichnungen 1 bis 5 näher erläutert werden.The invention will be described below with reference to the drawings 1 to 5 be explained in more detail.

1 zeigt eine schematische Ansicht einer erfindungsgemäßen Haltevorrichtung, 1 shows a schematic view of a holding device according to the invention,

2 zeigt eine schematische Draufsicht einer Haltevorrichtung, 2 shows a schematic plan view of a holding device,

3 zeigt eine schematische Seitenansicht einer Haltevorrichtung, 3 shows a schematic side view of a holding device,

4 zeigt eine schematische Ansicht einer Haltevorrichtung eingebaut in eine Beschichtungsanlage, 4 shows a schematic view of a holding device installed in a coating plant,

5 zeigt schematisch die wesentlichen Bestandteile einer CVD-Beschichtungsanlage. 5 schematically shows the essential components of a CVD coating system.

Detaillierte Beschreibung anhand bevorzugter AusführungsbeispieleDetailed description based on preferred embodiments

Bezug nehmend auf 1 sollen die wesentlichen Merkmale eines Ausführungsbeispiels einer erfindungsgemäßen Haltevorrichtung 1 näher erläutert werden.Referring to 1 should the essential features of an embodiment of a holding device according to the invention 1 be explained in more detail.

Die Haltevorrichtung 1 umfasst eine Zange 2, welche zwei bewegliche Arme 3 aufweist. Das Substrat 5 ist in diesem Ausführungsbeispiel als Hohlkörper, nämlich als Flasche 5 ausgebildet. Die Flasche 5 wird am Flaschenhals 24 zwischen den Armen 3 der Zange 2 und einem Anlageabschnitt 4 gehalten. Die Arme 3 der Zange 2 werden durch einen Federmechanismus in einer Ausgangsstellung gehalten und geben die Flasche 5 bei einer vorgegebenen Zugkraft frei.The holding device 1 includes a pair of pliers 2 , which two movable arms 3 having. The substrate 5 is in this embodiment as a hollow body, namely as a bottle 5 educated. The bottle 5 is at the bottleneck 24 between the poor 3 the pliers 2 and a plant section 4 held. The poor 3 the pliers 2 are held by a spring mechanism in a starting position and give the bottle 5 free at a given tensile force.

2 zeigt eine Draufsicht der in 1 dargestellten Haltevorrichtung. 2 shows a plan view of in 1 shown holding device.

Die beiden Arme 3 der Zange sind in der Blattebene drehbar in den Lagern 6 gelagert und mit jeweils einem Sprengring 27 gesichert. Auch die Sprengringe 27 sind vorzugsweise aus dielektrischem Material ausgebildet. Die Arme 3 sind an den Flächen 25 abgeschrägt, so dass beim Einführen des Flaschenhalses (nicht dargestellt) die Arme auseinander gedrückt werden bis der Flaschenhals an dem im Wesentlichen kreisförmig ausgestalteten Anlageabschnitt 4 anliegt. Sodann schwenken die Arme 3 wieder in ihre Ausgangsstellung zurück.The two arms 3 The pliers are rotatable in the bearing in the leaf level 6 stored and each with a snap ring 27 secured. Also the circlips 27 are preferably formed of dielectric material. The poor 3 are on the surfaces 25 bevelled so that upon insertion of the bottle neck (not shown), the arms are pushed apart until the bottleneck at the substantially circularly shaped abutment portion 4 is applied. Then the arms swing 3 back to their original position.

Hierzu umfassen die Arme einen Federmechanismus 7. Dieser Federmechanismus besteht jeweils aus einem Stift 12, welcher jeweils am Arm angeordnet ist, sowie einem Stift 9, welcher auf der Grundplatte 10 der Haltevorrichtung angebracht ist. Über einen Gummiring 8 werden die Stifte 9 und 12 zusammengezogen, so dass die Arme in Richtung des Substrates (nicht dargestellt) in eine Ausgangsstellung geschwenkt werden.For this purpose, the arms comprise a spring mechanism 7 , This spring mechanism consists of a pin 12 , which is respectively arranged on the arm, and a pin 9 , which on the base plate 10 the holding device is mounted. About a rubber ring 8th be the pins 9 and 12 pulled together, so that the arms are pivoted in the direction of the substrate (not shown) in a starting position.

3 zeigt eine Seitenansicht der in 1 dargestellten Haltevorrichtung 1. Zu erkennen ist hier ein Verschiebemechanismus 11, auf welchem die Haltevorrichtung 1 in vertikaler Richtung bewegt werden kann. So kann die Haltevorrichtung von weiteren Komponenten der Anlage (nicht dargestellt) durch Ausübung einer vertikalen Kraft auf die Grundplatte 10 nach unten bewegt werden. 3 shows a side view of in 1 shown holding device 1 , To recognize here is a displacement mechanism 11 on which the holder 1 can be moved in the vertical direction. Thus, the holding device of other components of the system (not shown) by exerting a vertical force on the base plate 10 to be moved down.

4 zeigt die in einer Beschichtungsanlage eingebaute Haltevorrichtung. Es handelt sich hier um einen Doppelplatz, wobei die Haltevorrichtung auf dem linken Platz demontiert ist. Zu erkennen ist eine Flasche 5, welche formschlüssig in einer Haltevorrichtung 1, die dem vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiel entspricht, gehalten wird. zu erkennen ist weiter der Verschiebemechanismus 11, mit welchem die Flasche 5 samt Haltevorrichtung in Richtung einer Basis verschoben werden kann. Die Basis umfasst dabei eine dem Substrat zugewandte Seite 14, welche aus einem dielektrischen Material, insbesondere aus PEEK besteht, sowie eine dem Substrat abgewandte Seite 15, welche aus Metall, insbesondere Aluminium oder Edelstahl besteht. Im Wesentlichen alle der Flasche 5 zugewandten Bauteile, nämlich die Bauteile der Haltevorrichtung, sind aus einem dielektrischen Material ausgebildet, insbesondere aus PEEK. Da die dem Substrat abgewandte Seite 15 direkt mit dem Plasma in Berührung kommt, ist dieser Teil nicht aus einem dielektrischen Material, sondern aus Metall ausgebildet. 4 shows the built-in a coating system holding device. This is a double place, with the holding device is dismantled in the left-hand place. To recognize is a bottle 5 , which form-fitting in a holding device 1 , which corresponds to the embodiment described above, is held. to recognize further is the displacement mechanism 11 with which the bottle 5 together with holding device can be moved in the direction of a base. The base comprises a side facing the substrate 14 , which consists of a dielectric material, in particular of PEEK, as well as a side facing away from the substrate 15 , which consists of metal, in particular aluminum or stainless steel. Essentially all of the bottle 5 facing components, namely the components of the holding device, are formed of a dielectric material, in particular of PEEK. Since the side facing away from the substrate 15 directly in contact with the plasma, this part is not formed of a dielectric material, but of metal.

In der linken Station, bei welcher die Haltevorrichtung demontiert ist, erkennt man eine Dichtung 18, auf welche die Öffnung einer Flasche durch Herunterdrücken der Haltevorrichtung gedrückt wird, so dass diese evakuiert werden kann. Der Verschiebemechanismus umfasst dabei eine Feder 16, welche in einer Hülse geführt wird. Die Feder ist somit während des Beschichtungsvorgangs im Wesentlichen durch eine umlaufende Kunststoffhülse 26 abgedeckt. So wird im Wesentlichen verhindert, dass nicht dielektrisch ausgestaltete Komponenten während des Beschichtungsvorgangs der Flasche 5 direkt gegenüber liegen.In the left station, in which the holding device is dismantled, you can see a seal 18 on which the opening of a bottle is pressed by depressing the holding device, so that it can be evacuated. The displacement mechanism comprises a spring 16 , which is guided in a sleeve. The spring is thus during the coating process essentially by a circumferential plastic sleeve 26 covered. This essentially prevents non-dielectric components during the coating process of the bottle 5 lie directly opposite.

Bezugnehmend auf die schematische Darstellung der 5 sollen die wesentlichen Bestandteile einer CVD-Anlage 19 näher erläutert werden. Die CVD-Anlage ist als PICVD-Anlage ausgebildet und umfasst einen Rezipienten 20, in welchem eine Flasche 5 von einer Haltevorrichtung 1 gehalten wird. Weiter umfasst die CVD-Anlage 19 eine Pumpe 22, über die der Innenraum der Flasche 5 evakuiert werden kann. Über eine Gaslanze 23 kann sodann ein Precursor-Gas in die Flasche 5 geleitet werden. Weiter umfasst die CVD-Anlage 19 eine weitere Pumpe 21, um auch den Rezipienten zu evakuieren. So wird verhindert, dass sich die Flasche 5 aufgrund des Unterdrucks im Innenraum der Flasche 5 verformt.Referring to the schematic representation of 5 intended to be the essential components of a CVD plant 19 be explained in more detail. The CVD system is designed as a PICVD system and includes a recipient 20 in which a bottle 5 from a holding device 1 is held. Next includes the CVD system 19 a pump 22 about which the interior of the bottle 5 can be evacuated. About a gas lance 23 can then a precursor gas in the bottle 5 be directed. Next includes the CVD system 19 another pump 21 to evacuate the recipient as well. This will prevent the bottle 5 due to the negative pressure in the interior of the bottle 5 deformed.

Es versteht sich, dass der Gegenstand der Erfindung nicht auf eine Kombination aller vorstehend beschriebenen Merkmale beschränkt ist, sondern dass der Fachmann die Merkmale beliebig, soweit technisch sinnvoll, kombinieren wird.It is understood that the subject matter of the invention is not limited to a Combination of all the features described above is limited, but that the expert features the arbitrary, as far as technical makes sense, combine.

11
Haltevorrichtungholder
22
Aufnahmeadmission
33
Armpoor
44
Anlageabschnittcontact section
55
Flaschebottle
66
Lagercamp
77
Federmechanismusspring mechanism
88th
Gummiringrubber ring
99
Stiftpen
1010
Grundplattebaseplate
1111
Verschiebemechanismusdisplacement mechanism
1212
Stiftpen
1313
BasisBase
1414
dem Substrat zugewandte Seitethe Substrate-facing side
1515
dem Substrat abgewandte Seitethe Substrate side facing away
1616
Federfeather
1717
Schraubescrew
1818
Dichtungpoetry
1919
CVD-AnlageCVD system
2020
Rezipientrecipient
2121
Vakuumpumpevacuum pump
2222
Vakuumpumpevacuum pump
2323
Gaslanzegas lance
2424
Flaschenhalsbottleneck
2525
Flächearea
2626
KunststoffhülsePlastic sleeve
2727
Sprengringsnap ring

Claims (19)

Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage, mit zumindest einer Aufnahme zum Halten eines Substrats während der Beschichtung, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein während der Beschichtung mit dem Substrat in Kontakt stehender Abschnitt der Aufnahme ein dielektrisches Material umfasst.Holding device for a CVD or PVD coating system, comprising at least one receptacle for holding a substrate during the coating, characterized in that at least one portion of the receptacle in contact with the substrate during the coating comprises a dielectric material. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass das dielektrische Material Polyetheretherketon (PEEK), Polycarbonat (PC), Teflon, Keramik, Aluminuimoxid und/oder Glas umfasst.Holding device for a CVD or PVD coating system according to the preceding claim, characterized in that the dielectric material polyetheretherketone (PEEK), polycarbonate (PC), Teflon, ceramic, aluminum oxide and / or glass. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das dielektrische Material eine Temperaturbeständigkeit von mindestens 100, vorzugsweise 150 und besonders bevorzugt 200°C aufweist.Holding device for a CVD or PVD coating system according to one of the preceding claims, characterized that the dielectric material is a temperature resistance of at least 100, preferably 150 and more preferably 200 ° C. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Aufnahme in zumindest eine Richtung bewegbar ausgebildet ist.Holding device for a CVD or PVD coating system according to one of the preceding Claims, characterized in that the receptacle is designed to be movable in at least one direction. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Haltevorrichtung zur Aufnahme eines Hohlkörpers, insbesondere einer Kunststoffflasche ausgebildet ist.Holding device for a CVD or PVD coating system according to one of the preceding claims, characterized that the holding device for receiving a hollow body, in particular a plastic bottle is formed. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass alle mit dem Substrat in Kontakt stehenden Bauteile im Wesentlichen aus einem dielektrischen Material bestehen.Holding device for a CVD or PVD coating system according to one of the preceding claims, characterized that all the components in contact with the substrate substantially consist of a dielectric material. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass alle dem Substrat gegenüberliegenden Bauteile im Wesentlichen aus einem dielektrischen Material bestehen.Holding device for a CVD or PVD coating system according to one of the preceding claims, characterized that all are opposite to the substrate Components consist essentially of a dielectric material. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Aufnahme eine Zange mit zumindest zwei beweglichen Armen und einen Anlageabschnitt umfasst, der derart ausgebildet ist, dass das zu be schichtende Substrat zumindest während der Beschichtung zwischen den Armen und dem Anlageabschnitt fixiert ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Arme und der Anlageabschnitt ein dielektrisches Material umfassen, insbesondere aus einem dielektrischen Material ausgebildet sind.Holding device for a CVD or PVD coating system according to any one of the preceding claims, wherein the receptacle a Pliers with at least two movable arms and a contact section includes, which is formed such that the substrate to be coated at least during the Fixed coating between the arms and the abutment section is, characterized in that the arms and the abutment portion comprise a dielectric material, in particular a dielectric material Material are formed. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Zange zumindest einen, vorzugsweise zwei bewegliche Arme umfasst, die über einen Federmechanismus in einer Ausgangsstellung gehalten werden, dadurch gekennzeichnet, dass der Federmechanismus ein dielektrisches Material umfasst.Holding device for a CVD or PVD coating system according to one of the preceding claims, wherein the pliers at least one, preferably comprises two movable arms which over a Spring mechanism can be kept in a home position, characterized characterized in that the spring mechanism is a dielectric material includes. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass der Federmechanismus zumindest einen elastischen Ring, insbesondere einen Gummiring, umfasst.Holding device for a CVD or PVD coating system according to the preceding claim, characterized in that the Spring mechanism at least one elastic ring, in particular a rubber ring, includes. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Aufnahme im Wesentlichen senkrecht zu einer Bewegungsrichtung eines Arms der Zange über einen Verschiebemechanismus verschiebbar ist.Holding device for a CVD or PVD coating system according to any one of the preceding claims, wherein the inclusion in the Substantially perpendicular to a direction of movement of an arm of the Pliers over a sliding mechanism is displaceable. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach dem vorstehenden Anspruch, wobei der Verschiebemechanismus zumindest einen Federmechanismus aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass der Federmechanismus zumindest an den dem Substrat zugewandten Flächen ein dielektrisches Material umfasst.Holding device for a CVD or PVD coating system according to the preceding claim, wherein the displacement mechanism at least one spring mechanism, characterized that the spring mechanism faces at least at the substrate surfaces a dielectric material. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Haltevorrichtung eine Basis aufweist, an der die Aufnahme, die Zange und/oder ein Federmechanismus angebracht ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Basis auf der dem Substrat zugewandten Seite ein dielektrisches Material aufweist.Holding device for a CVD or PVD coating system according to one of the preceding claims, wherein the holding device a base on which the receptacle, the pliers and / or a Spring mechanism is mounted, characterized in that the Base on the substrate side facing a dielectric Material has. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die Basis auf der dem Substrat abgewandten Seite ein nicht dielektrisches Material, insbesondere ein Metall aufweist.Holding device for a CVD or PVD coating system according to the preceding claim, characterized in that the Base on the side facing away from the substrate a non-dielectric Material, in particular a metal. Haltevorrichtung für eine CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das dielektrische Material in einem Frequenzbereich zwischen 10 Mhz und 3 GHz einen Verlustwinkel tan δ von unter 0,05, bevorzugt unter 0,01 und besonders bevorzugt von unter 0,007 hat.Holding device for a CVD or PVD coating system according to one of the preceding claims, characterized that the dielectric material is in a frequency range between 10 MHz and 3 GHz, a loss angle tan δ of less than 0.05, preferably below 0.01 and more preferably less than 0.007. CVD oder PVD-Beschichtungsanlage, umfassend zumindest eine Haltevorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche.CVD or PVD coating system comprising at least a holding device according to one of the preceding claims. CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach dem vorstehen den Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die CVD oder PVD-Beschichtungsanlage als PICVD-Beschichtungsanlage ausgebildet ist.CVD or PVD coating system after projecting the claim, characterized in that the CVD or PVD coating system as PICVD coating system is trained. CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die CVD oder PVD-Beschichtungsanlage als Rundläuferanlage zur Barrierebeschichtung von Kunststoffflaschen ausgebildet ist.CVD or PVD coating system according to one of previous claims, characterized in that the CVD or PVD coating equipment as a rotary machine for Barrier coating of plastic bottles is formed. CVD oder PVD-Beschichtungsanlage nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die CVD oder PVD-Beschichtungsanlage zum Beschichten von Hohlkörpern ausgebildet ist und sowohl Mittel zum Evakuieren des Innenraums des Hohlkörpers, als auch Mittel zum Evakuieren des den Hohlkörper umgebenden Außenraums aufweist.CVD or PVD coating system according to one of previous claims, characterized in that the CVD or PVD coating equipment for coating hollow bodies is formed and both means for evacuating the interior of the hollow body, as well as means for evacuating the outer space surrounding the hollow body having.
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