DE102006042620A1 - Aluminoborosilicate glass for use as a substrate glass - Google Patents

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Abstract

Es wird ein Aluminoborosilikatglas angegeben, das als Substratglas verwendbar ist, insbesondere für LCD-Anwendungen, wobei das Glas folgende Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis) aufweist: 75-90 S-18 B<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>, 0-3 MgO, 0-5 CaO, 0-3 SrO, 0-5 BaO, 0-1 SnO<SUB>2</SUB>, 0-2 As<SUB>UB>, wobei das Glas abgesehen von zufälligen Verunreinigungen alkalifrei ist.An aluminoborosilicate glass is disclosed which is useful as a substrate glass, particularly for LCD applications, where the glass has the following composition (in weight percent based on oxide): 75-90 S-18 B <SUB> 2 </ SUB> O <SUB> 3 </ SUB>, 0-3 MgO, 0-5 CaO, 0-3 SrO, 0-5 BaO, 0-1 SnO <SUB> 2 </ SUB>, 0-2 As <SUB> UB >, the glass is alkali-free apart from accidental impurities.

Description

Die Erfindung betrifft ein Aluminoborosilikatglas, das optimierte Eigenschaften für eine Verwendung als Substratglas aufweist.The The invention relates to an aluminoborosilicate glass having optimized properties for one Use as a substrate glass.

LCD-Displays erfreuen sich in den letzten Jahren zunehmender Verbreitung. Insbesondere TFT-LCD-Displays (Active Matrix Thin Film Transistor LCD) weisen eine geringe Dicke auf, eine niedrige Leistungsaufnahme, und werden deshalb in zahlreichen Anwendungen verwendet, wie z.B. in Notebooks, in Flachbildschirmen, in Digitalkameras und dgl. mehr. Dabei besteht das Display-Substrat im Allgemeinen aus einer Glasplatte.LCD displays have enjoyed increasing popularity in recent years. In particular, TFT LCD displays (Active Matrix Thin Film Transistor LCD) have a small thickness On, a low power consumption, and therefore in numerous Uses applications such as e.g. in notebooks, in flat screens, in digital cameras and the like more. There is the display substrate generally from a glass plate.

An derartige Substrate werden hohe Anforderungen gestellt. Neben einer hohen Temperaturwechselbeständigkeit sowie einer guten Resistenz bezüglich der im Herstellungsverfahren der Flachbildschirme eingesetzten aggressiven Chemikalien sollten die Gläser über einen weiten Spektralbereich (VIS, UV) hohe Transparenz sowie zur Gewichtseinsparung eine geringe Dichte aufweisen. Der Einsatz als Trägermaterial für integrierte Halbleiterschaltkreise z.B. in TFT-Displays erfordert darüber hinaus die thermische Anpassung an das Dünnfilmmaterial Silizium. Werden durch Hochtemperaturbehandlungen oberhalb von 700°C bzw. durch direkte Abscheidung über CVD-Prozesse weitgehend kristalline Siliziumschichten erzeugt, so ist ein Substrat mit einem niedrigen thermischen Ausdehnungskoeffizienten von möglichst weniger als 4·10–6/K erforderlich.On such substrates high demands are made. In addition to a high thermal shock resistance and a good resistance to the aggressive chemicals used in the production process of flat screens, the glasses should have high transparency over a wide spectral range (VIS, UV) and a low density to save weight. The use as a carrier material for integrated semiconductor circuits, for example in TFT displays, moreover requires the thermal adaptation to the thin-film material silicon. If crystalline silicon layers are largely produced by high-temperature treatments above 700 ° C. or by direct deposition via CVD processes, a substrate with a low coefficient of thermal expansion of as low as 4 × 10 -6 / K is required.

Für Anwendungen in der Display- und Photovoltaiktechnologie ist ferner die Abwesenheit von Alkaliionen Bedingung. Herstellungsbedingte Toleranzen sollten vorzugsweise unterhalb von 1000 ppm, bevorzugt < 100 ppm liegen.For applications in the display and photovoltaic technology is also the absence of alkali ions condition. Manufacturing tolerances should preferably below 1000 ppm, preferably <100 ppm.

Geeignete Gläser sollten großtechnisch in ausreichender Qualität (keine Blasen, Knoten, Einschlüsse) produzierbar sein. Bei der Herstellung dünner (< 1 mm) streifenfreier Substrate von geringer Oberflächenwelligkeit über Ziehverfahren ist eine hohe Entglasungsstabilität der Gläser gefordert. Um einem auf die Halbleiter-Mikrostruktur nachteilig wirkenden Schrumpf ("compaction") des Substrates während der Herstellung, insbesondere im Falle von TFT-Displays, entgegenzuwirken, benötigt das Glas ferner eine geeignete temperaturabhängige Viskositätskennlinie, d.h. hinsichtlich der thermischen Prozess- und Formstabilität sollte es eine nicht zu hohe Viskosität im Schmelz- und Verarbeitungsbereich aufweisen und dennoch eine ausreichend hohe Transformationstemperatur.suitable glasses should be large-scale in sufficient quality (no bubbles, knots, inclusions) producible be. In the production of thinner (<1 mm) streak-free Substrates of low surface waviness via drawing processes a high devitrification stability of the glasses is required. To one on the semiconductor microstructure detrimentally acting "compaction" of the substrate while production, especially in the case of TFT displays, counteract needed the glass also has a suitable temperature-dependent viscosity characteristic, i.e. in terms of thermal process and dimensional stability should it is not too high viscosity in the melting and processing area and still have a sufficiently high transformation temperature.

Substratgläser, die zur Verwendung in LCDs und TFT-LCDs geeignet sind, sind im Stand der Technik grundsätzlich bekannt. Ein aus der US 6 992 030 B2 bekanntes Substratglas für LCDs weist eine Zusammmensetzung (in Mol-% auf Oxidbasis) mit 70-80% Si02, 3-9% Al2O3, 8-18% B2O3, 3-10% CaO, 0-4% RO, 0- 0,2% SnO, 0–1% XO auf, wobei RO insgesamt für MgO, SrO und ZnO steht und wobei XO insgesamt für TiO2, ZrO2, Y2O3 und La2O3 steht.Substrate glasses suitable for use in LCDs and TFT-LCDs are well known in the art. One from the US Pat. No. 6,992,030 B2 known substrate glass for LCDs has a composition (in mole% on oxide basis) with 70-80% Si0 2 , 3-9% Al 2 O 3 , 8-18% B 2 O 3 , 3-10% CaO, 0-4 % RO, 0-0.2% SnO, 0-1% XO, where RO is total MgO, SrO and ZnO and where XO is TiO 2 , ZrO 2 , Y 2 O 3 and La 2 O 3 in total.

Die offenbarten Ausführungsbeispiele entsprechen einem Gehalt an SiO2 zwischen 66,68 und 73,97 Gew.-%, einem Gehalt an B2O3 von 8,61 bis 17,37 Gew.-%, einem Gehalt an Al2O3 von 7,31 bis 13,57 Gew.-%, einem Gehalt an CaO zwischen 1,63 und 7,02 Gew.-%, einem Gehalt an MgO zwischen 0 und 1,26 Gew.-%, einem Gehalt an SrO zwischen 0 und 4,75 Gew.-%, einem Gehalt an ZnO zwischen 0 und 2,52 Gew.-%. Dabei liegt der thermische Ausdehnungskoeffizient CTE im Bereich von 20 bis 300°C zwischen 2,44 und 3,18·10–6/K.The disclosed embodiments correspond to a content of SiO 2 between 66.68 and 73.97 wt .-%, a content of B 2 O 3 from 8.61 to 17.37 wt .-%, a content of Al 2 O 3 of 7.31 to 13.57 wt .-%, a content of CaO between 1.63 and 7.02 wt .-%, a content of MgO between 0 and 1.26 wt .-%, a content of SrO between 0 and 4.75 weight percent, ZnO content between 0 and 2.52 weight percent. The thermal expansion coefficient CTE in the range of 20 to 300 ° C is between 2.44 and 3.18 · 10 -6 / K.

Ferner sind andere Aluminoborosilikatgläser mit einer ähnlichen Zusammensetzung für andere Einsatzbereiche bekannt, wie etwa ein von der Anmelderin unter der Bezeichnung 8228 vermarktetes Übergangsglas mit der Zusammensetzung von 83,2 Gew.-% SiO2, 12,5 Gew.-% B2O3, 4,12 Gew.-% Al2O3 und 0,12 Gew.-% Sb2O3. Solche Übergangsgläser werden ausschließlich dazu verwendet, Glasbauteile mit stark voneinander abweichenden Ausdehnungskoeffizienten miteinander zu verbinden. Wesentliche Eigenschaft hierzu ist der thermische Ausdehnungskoeffizient GTE, der zwischen 20 und 300°C bei 1,3·10–6/K liegt.Other aluminoborosilicate glasses having a similar composition for other applications are also known, such as a transition glass marketed by the Applicant under the designation 8228 and having the composition of 83.2 wt.% SiO 2 , 12.5 wt.% B 2 O 3 , 4.12 wt.% Al 2 O 3 and 0.12 wt.% Sb 2 O 3 . Such transition glasses are used exclusively to connect glass components with highly divergent coefficients of expansion. An essential feature of this is the thermal expansion coefficient GTE, which is between 20 and 300 ° C at 1.3 · 10 -6 / K.

Solche Gläser sind jedoch ziemlich hochschmelzend und werden als nicht geeignet angesehen, um Substratgläser herzustellen.Such glasses However, they are rather high melting and are not suitable viewed to substrate glasses manufacture.

Ein weiteres sehr hochschmelzendes Glas mit den Komponenten SiO2, B2O3 und Al2O3 mit einem ähnlichen Zusammensetzungsbereich ist aus der US 3 853 384 bekannt. Dieses Glas wird als Faserglas für den Faserkern oder den Fasermantel in Lichtleitern verwendet und durch ein Faserziehverfahren verarbeitet.Another very high melting glass with the components SiO 2 , B 2 O 3 and Al 2 O 3 with a similar composition range is from US 3,853,384 known. This glass is used as fiberglass for the fiber core or cladding in optical fibers and processed by a fiber drawing process.

Vor diesem Hintergrund liegt der Erfindung die Aufgabe zu Grunde, ein verbessertes Substratglas anzugeben, das besonders vorteilhafte Eigenschaften für die Verwendung als Substratglas aufweist.Against this background, the object of the invention is to provide an improved substrate glass which has particularly advantageous properties for use as a substrate glass.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Aluminoborosilikatglas gelöst, das als Substratglas verwendet wird und das folgende Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis) aufweist: SiO2 75-90 Al2O3 2-7 B2O3 8-18 MgO 0-3 CaO 0-5 SrO 0-3 BaO 0-5 Läutermittelrückstände 0-5, wobei das Glas abgesehen von zufälligen Verunreinigungen alkalifrei ist. Zur Läuterung werden gängige Oxide verwendet (z.B. SnO2, As2O3, Sb2O3), deren Rückstände sich teilweise im Glas finden können.This object is achieved according to the invention by an aluminoborosilicate glass which is used as a substrate glass and has the following composition (in% by weight based on oxide): SiO 2 75-90 Al 2 O 3 2-7 B 2 O 3 8-18 MgO 0-3 CaO 0-5 SrO 0-3 BaO 0-5 Läutermittelrückstände 0-5, the glass being alkali-free except for incidental impurities. For refining common oxides are used (eg SnO 2 , As 2 O 3 , Sb 2 O 3 ), whose residues can be found partially in the glass.

Unter der Freiheit von zufälligen Verunreinigung durch Alkali wird hierbei vorzugsweise verstanden, dass ein durch zufällige Verunreinigungen bedingter Alkaligehalt höchstens 1000 ppm, bevorzugt < 100 ppm beträgt.Under the freedom of chance Alkali contamination is preferably understood to mean that a by accidental Impurity conditional alkali content is at most 1000 ppm, preferably <100 ppm.

Die chemische Beständigkeit der erfindungsgemäßen Gläser gemessen als Massenverlust pro Flächeneinheit bei Ätzen mit gepuffferter Flusssäurelösung (BHF-Verfahren) ist vorzugsweise kleiner 0,3 bzw. kleiner 0,1 mg/cm2.The chemical resistance of the glasses according to the invention, measured as mass loss per unit area in the case of etching with buffered hydrofluoric acid solution (BHF method), is preferably less than 0.3 or less than 0.1 mg / cm 2 .

Dies ist vorteilhaft bei der Herstellung, da die Ätzlösung lange benutzt werden kann (geringere Kontamination mit aufgelösten Glasbestandteilen).This is advantageous in the production, since the etching solution can be used for a long time (less contamination with dissolved glass components).

Die erfindungsgemäß verwendeten Gläser weisen eine Transformationstemperatur Tg im Bereich von etwa 700°C oder darunter auf.The glasses used according to the invention have a transformation temperature T g in the range of about 700 ° C. or below.

Auch ist der erfindungsgemäß erzielbare thermische Ausdehnungskoeffizient CTE20-300 besonders gering und ist ≤ 4·10–6/K, vorzugsweise ≤ 2,5·10–6/K, besonders bevorzugt zwischen 1 und 2,2·10–6/K.Also, the thermal expansion coefficient CTE 20-300 achievable according to the invention is particularly low and is ≦ 4 × 10 -6 / K, preferably ≦ 2.5 × 10 -6 / K, particularly preferably between 1 and 2.2 × 10 -6 / K ,

Eine derartig geringe thermische Ausdehnung ist besonders vorteilhaft, da die durch Temperaturdifferenzen bedingten Spannungen sehr gering sind.A Such low thermal expansion is particularly advantageous because the voltages caused by temperature differences are very low are.

Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung beträgt die Transformationstemperatur mindestens 600°C, vorzugsweise mindestens 630°C, höchstens jedoch etwa 700°C, vorzugsweise höchstens 690°C.According to one Another embodiment of the invention is the transformation temperature at least 600 ° C, preferably at least 630 ° C, at the most but about 700 ° C, preferably at most 690 ° C.

Auf diese Weise weist das Substratglas eine ausreichende Beständigkeit gegen Kristallisation auf, während gleichzeitig die Verarbeitung bei hoher Temperatur nicht negativ beeinträchtigt wird.On In this way, the substrate glass has sufficient resistance against crystallization, while at the same time the processing at high temperature is not negative impaired becomes.

Mit den erfindungsgemäßen Gläsern lassen sich ferner besonders geringe Dichten erzielen, was vorteilhaft wegen Gewichtseinsparungen insbesondere bei tragbaren Geräten, wie etwa Notebooks, ist.With leave the glasses of the invention Furthermore, achieve particularly low densities, which is advantageous because of weight savings, especially for portable devices, such as about notebooks, is.

Der Elastizitätsmodul ist verhältnismäßig gering. Jedoch wird dies als vorteilhaft für eine bessere Polierbarkeit bei der Herstellung durch Gießen und anschließendes Sägen und Polieren angesehen.Of the modulus of elasticity is relatively low. However, this will be beneficial for better polishability in the production by casting and subsequent Sawing and Polishing viewed.

Der Strainpoint (unterer Kühlpunkt), d.h. die Temperatur, bei der die Viskosität η = 1014.5 Pas ist, ist bei den erfindungsgemäß verwendeten Gläsern mit mehr als 600°C recht hoch, was zu einer geringen "Compaction" (Schrumpfung nach Temperaturbehandlung) führt.The strain point (lower cooling point), ie the temperature at which the viscosity η = 10 14.5 Pas, is quite high for the glasses used according to the invention at more than 600 ° C., which leads to a low "compaction" (shrinkage after temperature treatment) ,

Das erfindungsgemäß verwendete Glas kann in Schmelztiegeln (vorzugsweise aus Iridium) erschmolzen und dann zu Blöcken zu gegossen werden. Nach Abkühlung erfolgt ein Zerschneiden zu Platten und schließlich ein Polieren.The used according to the invention Glass can be melted in crucibles (preferably of iridium) and then to blocks to be poured. After cooling a slicing into plates and finally a polishing takes place.

Es wird erwartet, dass sich ein solches Glas auch im Floatverfahren verarbeiten lässt, wenn an Stelle eines Zinnbades ein Metallbad aus einem höher schmelzendem Material, bevorzugt ein Goldbad oder gegebenenfalls ein Silberbad, verwendet wird.It is expected that such a glass also in the float process lets process, if, instead of a tin bath, a metal bath of a higher melting Material, preferably a gold bath or optionally a silver bath, is used.

Auch eine Verarbeitung im Down-Draw-Verfahren (Ausziehen nach unten) wird als möglich angesehen. Hierbei wird das Glas aus der Schmelzwanne zunächst einem Rührtiegel zugeführt, in dem das Glas mechanisch homogenisiert wird. Über ein Zuführrohr wird die Glasschmelze dann einem Ziehtank zugeführt, an dem eine Ziehdüse mit einem Schlitz befestigt ist, durch den ein Glasband nach unten ausgezogen wird. Dabei ist die Ziehdüse das formgebende Bauteil. Hierbei besteht die Ziehdüse vorzugsweise nicht wie üblich aus Platin, sondern aus Iridium.Also processing in the down-draw process (pull-down) is considered possible considered. Here, the glass from the melting tank is first a stirring crucible supplied in which the glass is mechanically homogenized. About a feed tube is the glass melt then fed to a drawing tank, on which a drawing nozzle attached with a slot through which a glass band down is pulled out. The drawing die is the shaping component. Here is the drawing nozzle preferably not as usual made of platinum, but of iridium.

Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung wird ein Substratglas mit folgende Zusammensetzung verwendet: SiO2 80-85 Al2O3 3,5-5 B2O3 10-15 MgO 0-3 CaO 0-2 SrO 0-3 BaO 0-3 SnO2 0-1 As2O3 0-2 Sb2O3 0-2. According to a further embodiment of the invention, a substrate glass with the following composition is used: SiO 2 80-85 Al 2 O 3 3,5-5 B 2 O 3 10-15 MgO 0-3 CaO 0-2 SrO 0-3 BaO 0-3 SnO 2 0-1 As 2 O 3 0-2 Sb 2 O 3 0-2.

Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung wird ein Substratglas mit folgende Zusammensetzung verwendet: SiO2 81-85 Al2O3 3,5-5 B2O3 10-15 MgO 0-3 CaO 0-2 SrO 0-3 BaO 0-3 SnO2 0-1 As2O3 0-2 Sb2O3 0-2. According to a further embodiment of the invention, a substrate glass with the following composition is used: SiO 2 81-85 Al 2 O 3 3,5-5 B 2 O 3 10-15 MgO 0-3 CaO 0-2 SrO 0-3 BaO 0-3 SnO 2 0-1 As 2 O 3 0-2 Sb 2 O 3 0-2.

Der Strain Point (unterer Kühlpunkt) ist hierbei > 600°C, der thermische Ausdehnungskoeffizient liegt zwischen 1 und 2,2·10–6/K. Die Dichte liegt zwischen 1 und 2,2 g/cm–3.The Strain Point (lower cooling point) here is> 600 ° C, the thermal expansion coefficient is between 1 and 2.2 · 10 -6 / K. The density is between 1 and 2.2 g / cm -3 .

Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung beträgt der Summengehalt an MgO + CaO + SrO + BaO mindestens 1 Gew.-%, vorzugsweise mindestens 2 Gew.-%, besonders bevorzugt mindestens 2,5 Gew.-%.According to one Another embodiment of the invention is the sum of MgO + CaO + SrO + BaO at least 1 wt%, preferably at least 2 Wt .-%, more preferably at least 2.5 wt .-%.

Hierbei kann insbesondere der Summengehalt von CaO + BaO mindestens 2 Gew.-%, vorzugsweise mindestens 2,5 Gew.-% betragen.in this connection In particular, the total amount of CaO + BaO can be at least 2% by weight, preferably at least 2.5 wt .-% amount.

Die Zugabe der genannten Bestandteile wirkt sich vorteilhaft auf die chemische Beständigkeit des Glases aus.The Addition of the ingredients mentioned has an advantageous effect on the Chemical resistance of the glass.

Das erfindungsgemäße Substratglas kann ferner vorteilhaft als Substratglas für Filter, OLED, AMOLED (Active Matrix OLED), FED (Field Emission Display), SED (Surface Emission Display) verwendet werden. Eine weiter vorteilhafte Anwendung besteht als Substratglas in LCD-TFT-Displays, in Displays mit Hintergrundbeleuchtung von Flachbildschirmen in Non-Seif-Emitter-Systemen, insbesondere als Flachglas in Beschichtungssystemen für FFL (Flat Flourescent Lamp), insbesondere für Systeme mit außen liegenden Elektroden EEFL (External Electrode Flourescent Lamp).The Inventive substrate glass can also be used advantageously as a substrate glass for filters, OLED, AMOLED (Active Matrix OLED), FED (Field Emission Display), SED (Surface Emission Display). A further advantageous application exists as a substrate glass in LCD TFT displays, in backlit displays of flat screens in non-seif emitter systems, in particular as flat glass in coating systems for FFL (Flat Flourescent Lamp), especially for Systems with outside lying electrodes EEFL (External Electrode Flourescent Lamp).

BeispieleExamples

In Tabelle 1 sind drei Beispiele 1, 2, 3 mit ihrer Glaszusammensetzung und mit den wichtigsten Eigenschaften aufgeführt.In Table 1 are three examples 1, 2, 3 with their glass composition and listed with the main features.

Diese Gläser können auf herkömmliche Weise in Schmelzwannen (vorzugsweise in Iridium-Tiegeln) erschmolzen werden, dann in eine Form gegossen werden und nach der Abkühlung gesägt, geschnitten und poliert werden. Es können die üblichen Läutermittel, wie etwa As2O3, Sb2O3, SnO2, in üblichen Mengen zugesetzt sein.These glasses can be conventionally melted in melting tanks (preferably in iridium crucibles), then poured into a mold and, after cooling, sawn, cut and polished. The usual refining agents, such as As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , SnO 2 , may be added in conventional amounts.

Es wird erwartet, dass auch eine Herstellung im Floatglasverfahren oder im Down-Draw-Verfahren möglich ist.It is also expected to manufacture in the float glass process or in the down-draw method is possible.

Beim Floatglasverfahren wird hierzu anstelle des üblichen Zinnbades ein Goldbad oder ein Silberbad verwendet. Dagegen wird im Down-Draw-Verfahren vorzugsweise eine Ziehdüse verwendet, die aus Iridium besteht.At the Float glass method is this instead of the usual tin bath a gold bath or a silver bath used. In contrast, in the down-draw process preferably a drawing nozzle used, which consists of Iridium.

Die in Tabelle 1 aufgeführten Gläser sind weitgehend alkalifrei, d.h. der Restgehalt an Alkalioxiden liegt unterhalb von 100 ppm. Zusammensetzung [Gew.-%] 1 2 3 SiO2 83,3 80,3 77,0 Al2O3 4,2 5,2 6,0 B2O3 12,5 11,6 14,1 MgO CaO 1,0 1,2 SrO BaO 1,9 1,7 SnO2 As2O3 Sb2O3 CTE20-300 [10–6/K] 1,3 1,9 2,3 Tg [°C] 700 645,00 680,00 Dichte [g/cm3] 2,15 T4 bei η = 104 Pas [°C] 1705 E-Modul [GPa] 54,8 spez. E-Modul [GPa·cm3/g] 25,5 T14 Strain Point [°C] bei η = 10 Pas 633 T13 [°C] 726 T7.6 [°C] 1200 Poissonzahl 0,244 TK100 [°C] 355 BHF [mg/cm2] 0,1 Tab. 1 The glasses listed in Table 1 are largely alkali-free, ie the residual content of alkali oxides is below 100 ppm. Composition [% by weight] 1 2 3 SiO 2 83.3 80.3 77.0 Al 2 O 3 4.2 5.2 6.0 B 2 O 3 12.5 11.6 14.1 MgO CaO 1.0 1.2 SrO BaO 1.9 1.7 SnO 2 As 2 O 3 Sb 2 O 3 CTE 20-300 [10 -6 / K] 1.3 1.9 2.3 T g [° C] 700 645.00 680.00 Density [g / cm 3 ] 2.15 T4 at η = 10 4 Pas [° C] 1705 Modulus of elasticity [GPa] 54.8 spec. Modulus of elasticity [GPa · cm 3 / g] 25.5 T14 Strain Point [° C] at η = 10 Pas 633 T13 [° C] 726 T7.6 [° C] 1200 Poisson 0.244 TK100 [° C] 355 BHF [mg / cm 2 ] 0.1 Tab. 1

Claims (13)

Verwendung eines Aluminoborosilikatglases als Substratglas, insbesondere für LCD-Anwendungen, wobei das Glas folgende Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis) aufweist SiO2 75-90 Al2O3 2-7 B2O3 8-18 MgO 0-3 CaO 0-5 SrO 0-3 BaO 0-5 Läutermittelrückstände 0-5,
wobei das Glas abgesehen von zufälligen Verunreinigungen alkalifrei ist.Use of an aluminoborosilicate glass as substrate glass, in particular for LCD applications, wherein the glass has the following composition (in% by weight based on oxide) SiO 2 75-90 Al 2 O 3 2-7 B 2 O 3 8-18 MgO 0-3 CaO 0-5 SrO 0-3 BaO 0-5 Läutermittelrückstände 0-5,
the glass being alkali-free except for incidental impurities. Verwendung nach Anspruch 1, wobei das Glas folgende Zusammensetzung aufweist: SiO2 80-85 Al2O3 3,5-5 B2O3 10-15 MgO 0-3 CaO 0-2 SrO 0-3 BaO 0-3 SnO2 0-1 As2O3 0-2 Sb2O3 0-2.
Use according to claim 1, wherein the glass has the following composition: SiO 2 80-85 Al 2 O 3 3,5-5 B 2 O 3 10-15 MgO 0-3 CaO 0-2 SrO 0-3 BaO 0-3 SnO2 0-1 As 2 O 3 0-2 Sb 2 O 3 0-2.
Verwendung nach Anspruch 1, wobei das Glas folgende Zusammensetzung aufweist: SiO2 81-85 Al2O3 3,5-5 B2O3 10-15 MgO 0-3 CaO 0-2 SrO 0-3 BaO 0-5 SnO2 0-1 As2O3 0-2 Sb2O3 0-2.
Use according to claim 1, wherein the glass has the following composition: SiO 2 81-85 Al 2 O 3 3,5-5 B 2 O 3 10-15 MgO 0-3 CaO 0-2 SrO 0-3 BaO 0-5 SnO 2 0-1 As 2 O 3 0-2 Sb 2 O 3 0-2.
Verwendung nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei der Summengehalt an MgO+CaO+SrO+BaO mindestens 1 Gew.-% beträgt.Use according to claim 1, 2 or 3, wherein the sum amount MgO + CaO + SrO + BaO is at least 1% by weight. Verwendung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der thermische Ausdehnungskoeffizient CTE im Bereich zwischen 20°C und 300°C ≤ 4·10–6/K, vorzugsweise ≤ 2,5·10–6/K, besonders bevorzugt ≤ 2,2·10–6/K ist.Use according to one of the preceding claims, wherein the thermal expansion coefficient CTE in the range between 20 ° C and 300 ° C ≤ 4 · 10 -6 / K, preferably ≤ 2.5 · 10 -6 / K, particularly preferably ≤ 2.2 · 10 -6 / K is. Verwendung nach Anspruch 5, wobei der thermische Ausdehnungskoeffizient CTE im Bereich zwischen 20°C und 300°C 1·10–6/K bis 2,2·10–6/K beträgt.Use according to claim 5, wherein the thermal expansion coefficient CTE in the range between 20 ° C and 300 ° C is 1 · 10 -6 / K to 2.2 · 10 -6 / K. Verwendung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Abtrag nach BHF-Ätzung kleiner als 0,3 mg/cm2 ist.Use according to one of the preceding claims, wherein the removal after BHF etching is less than 0.3 mg / cm 2 . Verwendung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Transformationstemperatur Tg mindestens 600°C, vorzugsweise mindestens 630°C beträgt.Use according to one of the preceding claims, wherein the transformation temperature T g is at least 600 ° C, preferably at least 630 ° C. Verwendung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Transformationstemperatur Tg höchstens 700°C, vorzugsweise höchstens 690°C beträgt.Use according to one of the preceding claims, wherein the transformation temperature T g is at most 700 ° C, preferably at most 690 ° C. Verwendung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Summengehalt MgO+CaO+SrO+BaO mindestens 2 Gew.-%, vorzugsweise mindestens 2,5 Gew.-% beträgt.Use according to one of the preceding claims, wherein the sum amount MgO + CaO + SrO + BaO at least 2% by weight, preferably at least 2.5 wt .-% is. Verwendung nach Anspruch 10, wobei der Summengehalt CaO+BaO mindestens 2 Gew.-%, vorzugsweise mindestens 2,5 Gew.-% beträgt.Use according to claim 10, wherein the sum amount CaO + BaO at least 2 wt .-%, preferably example, at least 2.5 wt .-% is. Verwendung nach einem der vorhergehenden Ansprüche als Substratglas für Filter, OLED, AMOLED (Active Matrix OLED), FED (Field Emission Display), SED (Surface Emission Display).Use according to one of the preceding claims as Substrate glass for Filter, OLED, AMOLED (Active Matrix OLED), FED (Field Emission Display), SED (Surface Emission Display). Verwendung eines Aluminoborosilikatglases nach einem der Ansprüche 1 bis 11 als Substratglas in LCD-TFT-Displays, in Displays mit Hintergrundbeleuchtung von Flachbildschirmen in Non-Self-Emitter-Systemen, insbesondere als Flachglas in Beschichtungssystemen für FFL (Flat Flourescent Lamp), insbesondere für Systeme mit außen liegenden Elektroden EEFL (External Electrode Flourescent Lamp).Use of an aluminoborosilicate glass according to the claims 1 to 11 as a substrate glass in LCD TFT displays, in backlit displays of flat screens in non-self-emitter systems, in particular as flat glass in coating systems for FFL (Flat Flourescent Lamp), especially for Systems with outside lying electrodes EEFL (External Electrode Flourescent Lamp).
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