DE102006042117A1 - Surface defect i.e. micro scratch, detecting device, for e.g. thin film transistor-flat screen, has enlargement unit arranged between surface and illuminator, which is oriented transverse and perpendicular to feed direction of substrate - Google Patents
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Abstract
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur optischen Detektion eines Oberflächenfehlers, insbesondere eines Feinstkratzers, eines Substrats.The The present invention relates to a device for optical detection a surface defect, in particular a Feinstkratzers, a substrate.
Die Detektion von Oberflächenfehlern im Allgemeinen und Feinstkratzern im Besonderen ist vor allem bei der Produktion von Glassubstraten für die Herstellung von Flachbildschirmen, insbesondere von auf TFT-Technik basierenden Flachbildschirmen, von Bedeutung, da hier besonders hohe Anforderungen an die Qualität der Oberflächenbeschaffenheit der Glassubstrate gestellt werden.The Detection of surface defects in general and micro-scratches in particular is especially at the production of glass substrates for the production of flat screens, in particular of TFT technology-based flat screens, of Importance, because here particularly high demands on the quality of the surface condition of the Glass substrates are provided.
Die für die Herstellung von TFT-Flachbildschirmen verwendeten Glassubstrate weisen derzeit typischerweise eine Größe von etwa 2000 mm × 2000 mm bei einer Stärke von 0,4 mm bis 1,1 mm auf. Bei der Produktion dieser Glassubstrate werden die Oberflächen der Substrate poliert. Dabei kommt es vor, dass kleine Fehler, wie beispielsweise Kratzer, an der Substratoberfläche entstehen oder dass bereits zuvor entstandene Oberflächenfehler durch das Polieren nicht vollständig entfernt werden.The for the Production of TFT flat screens used glass substrates currently typically have a size of about 2000 mm x 2000 mm at a strength from 0.4 mm to 1.1 mm. In the production of these glass substrates become the surfaces the substrates polished. It happens that small mistakes, like For example, scratches that arise on the substrate surface or that already previously formed surface defects not completely polished be removed.
Es existieren Oberflächeninspektionssysteme, welche die Detektion von aus der Glasherstellung resultierenden Glasfehlern, z.B. lokalen Verformungen oder Bläschen, ermöglichen. Die Detektion von kleineren Oberflächenfehlern, insbesondere von Feinstkratzern, erweist sich bislang jedoch als problematisch. Unter Feinstkratzern werden dabei solche Kratzer verstanden, die bei einer beliebigen Länge eine Tiefe im Nanometerbereich und eine Breite im Bereich von einigen 10 nm bis einigen 100 nm aufweisen.It exist surface inspection systems, which results in the detection of glassmaking Glass defects, e.g. local deformations or bubbles. The detection of minor surface defects, especially of micro-scratches, but proves so far as problematic. Under Feinstkratzern are doing such scratches understood that at any length a depth in the nanometer range and a width ranging from several 10 nm to several 100 nm exhibit.
Herkömmlicherweise erfolgt die Detektion von Kratzern in Glassubstraten mittels Inaugenscheinnahme durch eine Person. Da das Detektionsergebnis aufgrund der im Wesentlichen zweidimensionalen Ausbildung der Kratzer in erheblichem Maße vom Lichteinfall abhängt, muss die mit der Kratzerdetektion beauftragte Person das zu überprüfende Glassubstrat relativ zu einer Lichtquelle verkippen können. Dies gestaltet sich bei dünnen Glassubstraten mit einer Größe im Bereich von einigen Quadratmetern jedoch als schwierig.traditionally, the detection of scratches in glass substrates takes place by means of visual inspection by a person. Because the detection result due to the essentially two-dimensional formation of the scratches to a considerable extent from the light depends the person responsible for the scratch detection must identify the glass substrate to be checked can tilt relative to a light source. This is the case thin Glass substrates with a size in the range of a few square meters, however, as difficult.
Bekannt ist auch eine Detektion von Kratzern auf Glassubstraten mittels Streulichtdetektion in einer Hellfeldanordnung. Aufgrund der Beugungslimitierung sind durch diese Methode jedoch lediglich vergleichsweise grobe Kratzer, nicht aber Feinstkratzer mit den voranstehend genannten Abmessungen detektierbar. Außerdem muss das zu prüfende Glassubstrat wegen der im Wesentlichen zweidimensionalen Ausbildung der Kratzer wie bereits erwähnt relativ zu einer Beleuchtung und/oder relativ zu einem lichtempfindlichen Detektor der Detektionsvorrichtung verdreht bzw. verkippt werden, so dass sich eine derartige Detektionsvorrichtung nicht für einen Einsatz in einem Durchlaufprozess eignet.Known is also a detection of scratches on glass substrates by means of Stray light detection in a bright field arrangement. Due to the diffraction limit However, this method is only comparatively rough Scratches, but not fine scratches with the above Dimensions detectable. Furthermore must be the one to be tested Glass substrate because of the essentially two-dimensional design the scratch as already mentioned relative to illumination and / or relative to a photosensitive one Detector of the detection device can be twisted or tilted, so that such a detection device not for a Use in a continuous process is suitable.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zu schaffen, die eine einfachere Detektion von Feinstkratzern ermöglicht.Of the Invention has for its object to provide a device which allows easier detection of Feinstkratzern.
Zur Lösung der Aufgabe ist eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 1 vorgesehen.to solution The object is a device with the features of the claim 1 provided.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung umfasst eine Beleuchtung zum Ausleuchten eines Detektionsbereichs einer Substratoberfläche und einen auf den Detektionsbereich gerichteten Detektor zum Detektieren von von der Beleuchtung ausgestrahltem Licht.The inventive device includes a lighting for illuminating a detection area a substrate surface and a detector directed to the detection area for detecting of light emitted by the illumination.
Die Beleuchtung und der Detektor sind derart relativ zueinander angeordnet, dass an einem im Detektionsbereich befindlichen Oberflächenfehler gestreutes Licht der Beleuchtung zumindest teilweise zu dem Detektor und in einem fehlerfreien Detektionsbereich der Substratoberfläche reflektiertes Licht der Beleuchtung nicht zu dem Detektor gelangt. Bei der erfindungsgemäßen Anordnung von Beleuchtung und Detektor handelt es sich mit anderen Worten also um eine Dunkelfeldanordnung, die im Vergleich zu einer Hellfeldanordnung eine Detektion von wesentlich kleineren Strukturen ermöglicht. So lassen sich mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung beispielsweise Feinstkratzer detektieren, welche eine Tiefe im Bereich von 10 nm und eine Breite im Bereich von 100 nm aufweisen.The Illumination and the detector are arranged relative to each other, that at a located in the detection area surface defects scattered light of the illumination at least partially to the detector and reflected in a defect-free detection area of the substrate surface Light of the illumination does not reach the detector. In the inventive arrangement of lighting and detector so in other words around a darkfield array compared to a bright field array allows detection of much smaller structures. Thus, for example, with the device according to the invention Fine scrapers detect which have a depth in the range of 10 nm and have a width in the range of 100 nm.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung umfasst ferner ein optisches Aperturvergrößerungsmittel, welches zwischen der Beleuchtung und der Substratoberfläche angeordnet ist und durch welches die Apertur des aus der Beleuchtung austretenden Lichts vergrößerbar ist. Das Aperturvergrößerungsmittel dient dazu, den Bereich der Winkel zu maximieren, unter denen die von der Beleuchtung ausgestrahlten Lichtstrahlen in der Projektion auf die Substratoberfläche gesehen auf einen Kratzer auftreffen. Durch eine geeignete Ausbildung des Aperturvergrößerungsmittels und eine geeignete Anordnung des Aperturvergrößerungsmittels relativ zu der Substratoberfläche ist es beispielsweise möglich, in der Projektion auf die Substratoberfläche einen Winkelbereich der Lichtstrahlen von annähernd 180° zu erreichen.The inventive device further comprises an optical aperture enlarging means interposed between the illumination and the substrate surface is arranged and through which the aperture of the light emerging from the illumination can be enlarged. The aperture magnifying agent serves to maximize the range of angles among which those of the illumination emitted light beams in the projection the substrate surface seen striking a scratch. Through a suitable education of the aperture magnifier and a suitable arrangement of the aperture magnifying means relative to the substrate surface is it possible, for example, in the projection on the substrate surface an angular range of Light rays of approximate 180 ° to to reach.
Aufgrund dieser Aufweitung des von der Beleuchtung ausgestrahlten Lichts ist die erfindungsgemäße Fehlerdetektion im Wesentlichen unabhängig von der Lage bzw. Orientierung eines Kratzers. Auf diese Weise ist eine zuverlässige Detektion von Feinstkratzern auch ohne eine Verdrehung und/oder Verkippung des zu prüfenden Substrats relativ zu der Beleuchtung bzw. dem Detektor möglich. Dadurch ist die Kratzerdetektion erfindungsgemäß nicht nur erheblich vereinfacht, sondern auch in einem Durchlaufprozess durchführbar.Due to this widening of the light emitted by the illumination, the defect detection according to the invention is essentially independent of the position or orientation of a scratch. In this way is a reliable detection of Feinstkratzern even without a rotation and / or tilting of the substrate to be tested relative to the illumination or the detector possible. As a result, scratch detection is not only considerably simplified according to the invention but can also be carried out in a continuous process.
Es wird darauf hingewiesen, dass die erfindungsgemäße Vorrichtung, obwohl sie hier vor allem anhand der Detektion von Feinstkratzern erläutert wird, nicht auf die Detektion von Feinstkratzern beschränkt ist, sondern sich grundsätzlich auch zur Detektion von anderen, z.B. dreidimensionalen, Oberflächenfehlern eignet.It It should be noted that the device according to the invention, although they is explained above all with reference to the detection of micro-scratches, not limited to the detection of micro-scratches, but basically also for detection of others, e.g. three-dimensional, surface defects suitable.
Ferner ist die erfindungsgemäße Vorrichtung nicht auf die Prüfung von Glassubstraten beschränkt, sondern sie lässt sich ebenso zur Oberflächeninspektion von Halbleitersubstraten, wie z.B. Siliziumwafern oder dergleichen, einsetzen.Further is not the device of the invention on the exam limited by glass substrates, but she lets also for surface inspection of semiconductor substrates, such as e.g. Silicon wafers or the like, deploy.
Vorteilhafte Ausbildungen der Erfindung sind den Unteransprüchen, der Beschreibung und der Zeichnung zu entnehmen.advantageous Forms of the invention are the subclaims, the description and to take the drawing.
Gemäß einer Ausführungsform sind die Beleuchtung und der Detektor auf der gleichen Seite der Substratoberfläche angeordnet. Eine derartige Anordnung wird auch als Auflicht-Dunkelfeldanordnung bezeichnet. Dies ermöglicht die Detektion von Oberflächenfehlern unabhängig davon, ob das Substrat transparent, d.h. für das von der Beleuchtung ausgestrahlte Licht durchlässig, ist oder nicht.According to one embodiment Both the illumination and the detector are located on the same side of the substrate surface. Such an arrangement is also referred to as epi-darkfield array. this makes possible the detection of surface defects independently of whether the substrate is transparent, i. for the one emitted by the lighting Light permeable, is or not.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform handelt es sich bei der Beleuchtung um eine Linienbeleuchtung. Das von der Linienbeleuchtung ausgestrahlte Licht definiert eine Abtastebene, die beim Auftreffen auf die Substratoberfläche zu einem länglichen und insbesondere zumindest annähernd linienförmigen Detektionsbereich führt. Dieser ermöglicht ein schnelles und genaues Abscannen großflächiger Substrate.According to one another embodiment the lighting is a line lighting. That of the Line illumination emitted light defines a scanning plane, which when impacted on the substrate surface to an elongated and in particular at least approximately linear Detection area leads. This allows a fast and accurate scanning of large-area substrates.
Vorteilhafterweise ist die Beleuchtung quer und insbesondere rechtwinklig zu einer Vorschubrichtung des Substrats orientiert. Dies ermöglicht eine besonders effiziente Inspektion eines sich an der Beleuchtung vorbei bewegen Substrats. Die Beleuchtung kann so dimensioniert sein, dass sich der Detektionsbereich über die gesamte Breite des Substrats erstreckt. Alternativ können zu diesem Zweck mehrere nebeneinander angeordnete Beleuchtungen vorgesehen sein. In beiden Fällen ist es bei einer entsprechenden Ausbildung des Detektors zur Inspektion der Substratoberfläche ausreichend, das Substrat einmalig an der Detektionsvorrichtung vorbei zu bewegen. Damit eignet sich diese besonders gut für eine Detektion von Oberflächenfehlern in einem Durchlaufprozess.advantageously, the lighting is transverse and in particular perpendicular to one Feed direction of the substrate oriented. This allows a particularly efficient inspection of a past the lighting move substrate. The lighting can be dimensioned so that the detection area over the entire width of the substrate extends. Alternatively, too provided for this purpose a plurality of juxtaposed lights be. In both cases it is with a corresponding design of the detector for inspection the substrate surface sufficiently, the substrate once on the detection device to move over. This makes it particularly suitable for detection of surface defects in a continuous process.
Vorteilhafterweise ist das Aperturvergrößerungsmittel zumindest annähernd ausschließlich in Richtung einer Längserstreckung der Beleuchtung, d.h. also in der Abtastebene des Lichts, wirksam. Auf diese Weise ist sichergestellt, dass die Linienform des Detektionsbereichs durch das Aperturvergrößerungsmittel nicht beeinträchtigt wird.advantageously, is the aperture enhancer at least approximately exclusively in the direction of a longitudinal extent the lighting, i. So in the scanning plane of the light, effective. In this way it is ensured that the line shape of the detection area through the aperture magnifying agent not impaired becomes.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst das Aperturvergrößerungsmittel einen Strahlteiler und eine Lentikularlinse, welche dem Strahlteiler in Lichtausbreitungsrichtung gesehen insbesondere nachgeordnet ist. Eine derartige Anordnung von Strahlteiler und Lentikularlinse bewirkt eine besonders große Aufweitung des von der Beleuchtung ausgestrahlten Lichts, d.h. eine besonders signifikante Vergrößerung der Apertur. Außerdem sorgt ein derartiges Aperturvergrößerungsmittel dafür, dass über den gesamten Winkelbereich eine für die Detektion von Feinstkratzern ausreichend hohe Lichtintensität erreicht wird.According to one another embodiment includes the aperture magnifying agent a beam splitter and a lenticular lens, which the beam splitter in Seen light propagation direction is in particular subordinate. Such an arrangement of beam splitter and lenticular lens causes a very big one Expansion of the light emitted by the illumination, i. a especially significant enlargement of the Aperture. Furthermore such an aperture enlargement means ensures that over the entire angle range one for the detection of Feinstkratzern reaches sufficiently high light intensity becomes.
Der Strahlteiler kann mehrere – in Richtung einer Längserstreckung der Beleuchtung gesehen – hintereinander angeordnete Prismen umfassen. Entsprechend kann die Lentikularlinse mehrere – in Richtung einer Längserstreckung der Beleuchtung gesehen – hintereinander angeordnete Zylinderlinsen umfassen. Sowohl bei dem Strahlteiler als auch bei der Lentikularlinse handelt es sich somit also um fresneloptische Bauteile.Of the Beam splitter can multiple - in Direction of a longitudinal extension seen the lighting - in a row arranged prisms include. Accordingly, the lenticular lens several - in the direction a longitudinal extension seen the lighting - in a row arranged arranged cylindrical lenses. Both at the beam splitter as well as with the lenticular lens are thus thus fresneloptische Components.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Beleuchtung einen Querschnittswandler, durch den der Querschnitt des von einer Lichtquelle der Beleuchtung ausgestrahlten Lichts in einen zumindest annähernd linienförmigen Querschnitt umwandelbar ist. Durch den Querschnittswandler ist es möglich, eine Kaltlichtquelle, wie z.B. eine Halogenlampen, eine Bogenlampe oder eine Halogen-Metalldampflampe, zur Erzeugung eines linienförmigen Detektionsbereichs zu verwenden.According to one another embodiment The lighting comprises a cross-section converter through which the Cross section of the radiated from a light source of illumination Light in one at least approximate linear Cross-section is convertible. Due to the cross-section converter, it is possible to use a Cold light source, e.g. a halogen lamp, an arc lamp or a metal halide lamp, for generating a linear detection area to use.
Eine einfache Form eines Querschnittswandlers umfasst beispielsweise mehrere lichtleitende Fasern, die im Bereich der Lichtquelle gebündelt sind und in Richtung einer Lichtaustrittsöffnung der Beleuchtung auseinander laufen.A simple form of a cross-sectional transducer includes, for example a plurality of light-conducting fibers which are bundled in the region of the light source and in the direction of a light exit opening of the lighting apart to run.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist wenigstens eine Strahlfalle vorgesehen, um nicht in Richtung des Detektors gestreutes Licht der Beleuchtung einzufangen. Bei dem nicht in Richtung des Detektors gestreuten Licht kann es sich beispielsweise um Licht handeln, welches an einer fehlerfreien Substratoberfläche reflektiert wird oder welches durch das Substrat transmittiert wird. Das Einfangen dieses Lichts in der Strahlfalle verhindert, dass das Licht auf unerwünschter Weise zu dem Detektor gelangen und das Detektionsergebnis verfälschen kann.According to a further embodiment, at least one beam trap is provided in order to capture light not scattered in the direction of the detector. The light that is not scattered in the direction of the detector may, for example, be light which is reflected on a defect-free substrate surface or which is transmitted through the substrate. Capturing this light in the beam trap prevents the light from undesirably getting to the detector and corrupting the detection result can.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst der Detektor wenigstens eine Kamera. Bei dieser kann es sich beispielsweise um eine CCD-Kamera handeln.According to one another embodiment the detector comprises at least one camera. With this it can For example, be a CCD camera.
Vorteilhafterweise umfasst der Detektor mehrere – in Richtung einer Längserstreckung der Beleuchtung gesehen – hintereinander angeordnete Kameras. Bevorzugt ist die Anzahl der Kameras an die Länge des Detektionsbereichs angepasst. Die Verwendung mehrerer Kameras trägt zu einer schnellen Inspektion eines großflächigen Substrats bei.advantageously, the detector comprises several - in Direction of a longitudinal extension seen the lighting - in a row arranged cameras. Preferably, the number of cameras to the Length of the Detection range adjusted. The use of multiple cameras contributes to a fast Inspection of a large-area substrate at.
Die oder jede Kamera kann eine Linearkamera sein, die insbesondere parallel zu einem länglichen und bevorzugt zumindest annähernd linienförmigen Detektionsbereich ausgerichtet ist. Um beispielsweise in einem Durchlaufprozess eine effiziente Inspektion eines großflächigen Substrats zu ermöglichen, sollte die oder jede Linearkamera entsprechend einem linienförmigen Detektionsbereich quer zur Vorschubrichtung des Substrats ausgerichtet sein.The or any camera can be a linear camera, in particular, in parallel to an elongated one and preferably at least approximately linear Detection area is aligned. For example, in a continuous process to allow efficient inspection of a large area substrate the or each linear camera should be transverse according to a linear detection area be aligned to the feed direction of the substrate.
Vorteilhafterweise handelt es sich bei der oder jeder Kamera um eine TDI-Kamera (TDI für "time delay and integration") mit mehreren Zeilen von lichtempfindlichen Elementen, wobei die Zeilen – in einer Vorschubrichtung des Substrats gesehen – hintereinander angeordnet sind. Bei einer derartigen TDI-Kamera wird das Kamerasignal im Takt des Vorschubs des Substrats aufintegriert, wodurch eine besonders hohe Empfindlichkeit erreicht wird, die zu einer zuverlässigen Detektion von Feinstkratzern im Dunkelfeld beiträgt.advantageously, is the or each camera a TDI camera (TDI for "time delay and integration") with multiple lines of photosensitive elements, the lines - in one Feed direction of the substrate seen - arranged one behind the other are. In such a TDI camera, the camera signal is in tact the feed of the substrate integrated, creating a special high sensitivity is achieved, resulting in reliable detection of fine scratches in the dark field contributes.
Weiterer Gegenstand der Erfindung ist außerdem ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 18. Mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens lassen sich die voranstehend genannten Vorteile entsprechend erreichen.Another The invention is also a method having the features of claim 18. By means of the method according to the invention let the advantages mentioned above be achieved accordingly.
Nachfolgend wird die Erfindung rein beispielhaft anhand einer vorteilhaften Ausführungsform unter Bezugnahme auf die beigefügte Zeichnung beschrieben. Es zeigen:following the invention is purely exemplary by way of an advantageous embodiment with reference to the attached Drawing described. Show it:
In
Das
Substrat
Die
Detektionsvorrichtung umfasst eine Beleuchtung mit Querschnittswandler
Die
Beleuchtung mit Querschnittswandler
Die
optische Achse des Detektors
Die
Beleuchtung umfasst eine Kaltlichtquelle, z.B. eine Halogenlampe,
eine Bogenlampe oder eine Halogen-Metalldampflampe, der in Lichtausbreitungsrichtung
gesehen der Querschnittswandler
Der
Querschnittswandler
Dem
Querschnittswandler
Der
Zylinderlinse
Das
Aperturvergrößerungsmittel
Wie
Wie
In
Die
Intensitätsverteilung
des aus der Beleuchtung mit Querschnittswandler
Die
punktierte Kurve (b) gibt die Intensitätsverteilung des Lichts nach
Durchgang durch den Strahlteiler
Die
gestrichelte Kurve (c) stellt den Intensitätsverlauf des Lichts nach Durchgang
durch die Lentikularlinse
Die
strichpunktierte Kurve (d) gibt die Intensitätsverteilung des Lichts wieder,
welches eine Kombination von Strahlteiler
Die
Kombination von Strahlteiler
Durch
eine geeignete Ausbildung des Aperturvergrößerungsmittels
Der
in der Projektion auf die Substratoberfläche erreichbare Winkelbereich
ist dabei proportional abhängig
von der Steilheit des Lichteinfalls, d.h. der Winkelbereich wird
um so größer, je
größer der
Winkel ist, den die optische Achse der Beleuchtung mit Querschnittswandler
Dadurch,
dass der Winkelbereich bzw. die Apertur des auf die Substratoberfläche auftreffenden Lichts
Wie
bereits erwähnt
wurde, ist die optische Achse des Detektors
Dem
Detektor
Der
Detektor
Bei
den Linearkameras handelt es sich um so genannte TDI-Kameras (TDI
für "time delay and integration"), die jeweils mehrere
Zeilen von lichtempfindlichen Elementen aufweisen, wobei die Zeilen
in der Vorschubrichtung
Aufgrund
der erhöhten
Empfindlichkeit der Kameras und der geringen Intensität des Streulichtsignals
eines Feinstkratzers muss die Detektionsvorrichtung gegen Umlicht
und Streulicht abgedichtet sein, damit ein für die Detektion eines Feinstkratzers ausreichender
Kontrast gegenüber
dem Hintergrund erreicht wird. Die Detektionsvorrichtung weist zu
diesem Zweck eine erste Strahlfalle
- 1010
- Substratsubstratum
- 1212
- Vorschubrichtungfeed direction
- 1515
- QuerschnittswandlerCross-section converter
- 1616
- Detektionsbereichdetection range
- 1818
- Detektordetector
- 2020
- Lichtlight
- 2222
- Zylinderlinsecylindrical lens
- 2424
- AperturvergrößerungsmittelAperturvergrößerungsmittel
- 2626
- Strahlteilerbeamsplitter
- 2828
- Lentikularlinselenticular
- 3030
- Prismaprism
- 3232
- Zylinderlinsecylindrical lens
- 3434
- Blendecover
- 3636
- Objektivlens
- 3838
- Strahlfallebeam trap
- 4040
- Strahlfallebeam trap
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2007
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