DE102006034309A1 - Device for cleaning a flat object - Google Patents
Device for cleaning a flat object Download PDFInfo
- Publication number
- DE102006034309A1 DE102006034309A1 DE200610034309 DE102006034309A DE102006034309A1 DE 102006034309 A1 DE102006034309 A1 DE 102006034309A1 DE 200610034309 DE200610034309 DE 200610034309 DE 102006034309 A DE102006034309 A DE 102006034309A DE 102006034309 A1 DE102006034309 A1 DE 102006034309A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- compressed air
- wafer
- pressure medium
- medium supply
- supply means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/04—Cleaning by suction, with or without auxiliary action
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02041—Cleaning
- H01L21/02096—Cleaning only mechanical cleaning
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft einen Waferreiniger (10), der ohne bewegliche Teile zum Reinigen der Oberfläche eines Wafers (70) auskommt. Hierzu sind oberhalb einer Aufnahmeeinrichtung (60) mehrere hintereinander angeordnete Druckluftröhren (20 bis 36) angesetzt, die nacheinander derart mit Druckluft beaufschlagt werden, dass ein Druckluftvorhang (40) erzeugt wird, der über die Oberfläche des Wafers (70) wandert und somit Staub- und/oder Schmutzpartikel zu einer Absaugeinrichtung (90) schiebt, die die Staub- und/oder Schmutzpartikel absaugt.The invention relates to a wafer cleaner (10) which manages without moving parts for cleaning the surface of a wafer (70). For this purpose, a plurality of compressed air tubes (20 to 36) arranged one behind the other are attached above a receiving device (60), which are successively supplied with compressed air in such a way that a compressed air curtain (40) is generated which moves over the surface of the wafer (70) and thus generates dust. and / or dirt particles to a suction device (90) pushes, which sucks the dust and / or dirt particles.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung, mit der die Oberfläche eines flachen Gegenstands, insbesondere eines Halbleiter-Wafers, mittels eines Druckmedims gereinigt werden kann.The The invention relates to a device with which the surface of a flat article, in particular a semiconductor wafer by means of a printing median can be cleaned.
Bekannt ist beispielsweise ein Waferreiniger, der die Oberfläche eines Wafers reinigt, indem Druckluft durch einen Schlitz gepresst wird. Um die gesamte Oberfläche des Wafers reinigen zu können, wird der Schlitz mittels Druckluftzylinder über den Wafer gefahren.Known For example, a wafer cleaner that is the surface of a Wafers cleans by pushing compressed air through a slot. To the entire surface to be able to clean the wafer becomes the slot moved over the wafer by means of a pneumatic cylinder.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zum Reinigen eines flachen Gegenstands zu schaffen, die keine beweglichen Teile aufweist, so dass eine Kontamination der Umgebung, in der sich der Gegenstand befindet, infolge von Reibungen beweglicher Teile vermieden wird.Of the Invention is based on the object, a device for cleaning to create a flat object that has no moving parts so that contamination of the environment in which the Object is avoided due to friction of moving parts becomes.
Ein Kerngedanke der Erfindung ist darin zu sehen, eine Reinigungsvorrichtung bereitzustellen, bei dem ein Druckmedium, insbesondere Druckluft oder Stickstoff, gezielt über mehrere unabhängig voneinander ansteuerbare Druckmedium-Zuführungseinrichtungen, die stationär in der Vorrichtung angeordnet sind, auf die Oberfläche eines zu reinigenden Gegenstands geblasen wird. Die Ansteuerung der Druckmedium-Zuführungseinrichtungen erfolgt derart, dass das auf die Oberfläche gerichtete Druckmedium Schmutzpartikel auf der Oberfläche des Gegenstands von einer Seite zur anderen schiebt oder „fegt". Die Schmutzpartikel können dann von einer Absaugeinrichtung abgesaugt werden. Die Absaugeinrichtung wird so dimensioniert, dass die Absaugleistung größer ist als die zugeführte Druckluft, und somit die Öffnung, durch die der Gegenstand zugeführt wird, nicht geschlossen werden muss, also ebenfalls auf bewegliche Teile an der Öffnung verzichtet werden kann.One The core idea of the invention is to be seen in a cleaning device in which a pressure medium, in particular compressed air or Nitrogen, deliberately over several independently controllable pressure medium feed devices, the stationary are arranged in the device on the surface of a is blown to be cleaned object. The control of the pressure medium supply means takes place in such a way that the pressure medium directed onto the surface Dirt particles on the surface of the Pushes or sweeps objects from one side to the other can then be sucked off by a suction device. The suction device is dimensioned so that the suction power is greater as the fed Compressed air, and thus the opening, fed by the object will not have to be closed, so also on moving Parts at the opening can be waived.
Das oben genannte technische Problem wird durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst.The The above technical problem is explained by the features of the claim 1 solved.
Danach ist eine Vorrichtung zum Reinigen eines flachen Gegenstands, insbesondere eines Halbleiter-Wafers, vorgesehen, die eine Aufnahmeeinrichtung zur Aufnahme wenigstens eines Gegenstands aufweist. Denkbar ist auch, mehrere Gegenstände nebeneinander auf der Aufnahmeeinrichtung anzuordnen. Mehrere unabhängig voneinander ansteuerbare Druckmedium-Zuführungseinrichtungen sind stationär zur Aufnahmeeinrichtung angeordnet. Sie dienen zum Zuführen eines Druckmediums, insbesondere von Druckluft oder Stickstoff, auf die Oberfläche eines Gegenstands, und zwar insbesondere in der Weise, dass Schmutzpartikel auf der Oberfläche von einer Seite zur gegenüberliegenden Seite geschoben werden.After that is a device for cleaning a flat object, in particular a semiconductor wafer, provided, which is a receiving device for receiving at least one article. It is conceivable also, several items to arrange next to each other on the receiving device. Several independently controllable pressure medium supply means are stationary arranged to the receiving device. They serve to feed one Pressure medium, in particular of compressed air or nitrogen, on the surface of a Object, in particular in such a way that dirt particles on the surface from one side to the opposite side be pushed.
Ein Vorteil einer derartigen Reinigungsvorrichtung ist darin zu sehen, dass sie keine beweglichen Teile zum Reinigen eines Gegenstands aufweist. Auf diese Weise kann eine zusätzliche Verschmutzung der Umgebung, in der sich der zu reinigende Gegenstand befindet, sowie eine Rekontamination des Gegenstands verhindert werden. Eine derartige Vorrichtung bietet weiterhin den Vorteil, dass sie ohne weitere Vorkehrungen in Reinräumen eingesetzt werden kann und zudem die Prozesssicherheit erhöht. Denn es gibt keine beweglichen Teile, die bei einem automatisierten Reinigungsprozess mit einem Roboterarm, der einen Gegenstand in die Vorrichtung einführt, kollidieren können.One Advantage of such a cleaning device can be seen therein that they have no moving parts to clean an object having. In this way, additional pollution of the environment, in which the object to be cleaned is located, as well as a recontamination of the object. Such a device offers furthermore the advantage that they are used without further precautions in clean rooms and also increases process reliability. Because there are no moving ones Parts involved in an automated cleaning process with a Robot arm, which introduces an object into the device, collide can.
Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand der Unteransprüche.advantageous Further developments are the subject of the dependent claims.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform handelt es sich bei den Druckmedium-Zuführungseinrichtungen um Druckmediumröhren, die im Abstand und parallel zueinander sowie oberhalb der Aufnahmeeinrichtung angeordnet sind. Die Druckmediumröhren sind über die gesamte Oberfläche eines Gegenstands verteilt. Bei den Druckmedium-Zuführungseinrichtungen kann es sich ferner um unabhängig voneinander ansteuerbare Öffnungen oder Kanäle handeln, die auf einem gemeinsamen Träger angeordnet sein können.According to one preferred embodiment it is the pressure medium feeders around pressure medium tubes, at a distance and parallel to each other and above the receiving device are arranged. The pressure medium tubes are over the entire surface of a Distributed object. In the printing medium supply devices It can also be independent mutually controllable openings or channels act, which may be arranged on a common carrier.
Die Druckmedium-Zuführungseinrichtungen müssen jedoch nicht parallel angeordnet sein. Vielmehr können sie in jeder beliebigen Lage zueinander angeordnet sein. Beispielsweise sind die Druckmedium-Zuführungseinrichtungen in einem vorbestimmten Winkel zueinander angeordnet.The However, pressure medium feeders must not be arranged in parallel. Rather, they can be in any one Be arranged to each other. For example, the printing medium feeding means arranged at a predetermined angle to each other.
Um ein Druckmedium auf die Oberfläche eines Gegenstands blasen zu können, weist jede Druckmedium-Zuführungseinrichtung wenigstens eine Öffnung auf, durch die ein Druckmedium, welche von einer Druckmittelversorungseinrichtung bereitgestellt wird, strömt.Around a print medium on the surface to blow an object, includes each print medium supply device at least one opening on, by which a pressure medium, which of a pressure medium supply device is provided, flows.
Um die Effizienz beim Reinigen eines Gegenstands zu steigern, weist jede Druckmedium-Zuführungseinrichtung eine Vielzahl von Löchern auf. Vorzugsweise beträgt der Abstand zwischen benachbarten Löchern 1 cm, wobei der Durchmesser der Löcher etwa 0,5 mm betragen kann.Around to increase the efficiency of cleaning an item has each print medium supply device a lot of holes on. Preferably the distance between adjacent holes is 1 cm, with the diameter the holes can be about 0.5 mm.
Um die Oberfläche eines Gegenstands wirkungsvoll mittels stationärer Druckmedium-Zuführungseinrichtungen reinigen zu können, ist eine Steuereinrichtung vorgesehen, die die Druckmedium-Zuführungseinrichtungen in einer programmierbaren Zeitabfolge ansteuert. Insbesondere können die Druckmedium-Zuführungseinrichtungen zeitlich nacheinander angesteuert werden, und zwar derart, dass Staubpartikel auf der Oberfläche eines Gegenstands von einer Seite zur gegenüberliegenden Seite „gefegt" oder geschoben werden können. Denkbar ist es auch, dass die Druckmedium-Zuführungseinrichtungen gruppenweise angesteuert werden können.In order to be able to effectively clean the surface of an object by means of stationary pressure medium feed devices, a control device is provided which drives the pressure medium feed devices in a programmable time sequence. In particular, the printing medium supply means can be controlled in succession in time, in such a way that dust particles on the surface of a counter It is also conceivable for the printing medium feed devices to be controlled in groups.
Zweckmäßigerweise wird jeweils nur eine Druckmedium-Zuführungseinrichtung angesteuert, während die übrigen Druckmedium-Zuführungseinrichtungen abgeschaltet sind. Dies wird beispielsweise dadurch erreicht, dass jede Druckluft-Zuführungseinrichtung ein ansteuerbares Ventil aufweist und über eine Druckluftleitung an eine Druckmittelversorgungseinrichtung angeschlossen ist. Die Ventile werden dann von der Steuereinrichtung entsprechend geöffnet und geschlossen.Conveniently, in each case only one printing medium feeding device energized while the remaining Pressure medium supply facilities are switched off. This is achieved, for example, by the fact that each compressed air supply device having a controllable valve and via a compressed air line a pressure medium supply device is connected. The valves are then opened by the control device accordingly and closed.
Um den Gegenstand während des Reinigungsvorgangs zu fixieren, wird der zu reinigende Gegenstand mittels Unterdruck an der Aufnahmeeinrichtung gehalten. Hierzu weist die Aufnahmeeinrichtung eine Auflage oder einen Chuck mit mehreren Öffnungen und/oder Kanälen auf, über die der Gegenstand an die Auflageoberfläche angesaugt werden kann.Around the object during to fix the cleaning process, the object to be cleaned held by negative pressure on the receiving device. For this purpose points the receiving device a pad or a chuck with multiple openings and / or channels up, over the object can be sucked to the support surface.
In der Aufnahmeeinrichtung kann eine Aussparung oder ein Schlitz vorgesehen sein, in den ein Roboterarm, welcher einen Gegenstand in die Reinigungsvorrichtung einsetzt, eingeführt werden kann.In the receiving device may be provided with a recess or a slot in which a robot arm, which an object in the cleaning device used, introduced can be.
Für den Fall, dass die Reinigungsvorrichtung manuell bestückt werden soll, ist ein aufklappbarer oder abnehmbarer Deckel vorgesehen. In diesem Fall kannn der Gegenstand manuell auf die Aufnahmeeinrichtung gelegt und von dieser wieder entnommen werden.In the case, that the cleaning device is to be populated manually, is a hinged or removable cover provided. In this case, the article can manually placed on the receiving device and from this again be removed.
An einer Seite der Aufnahmeeinrichtung ist eine Absaugeinrichtung vorgesehen, die unter anderem die von den Druckmedium-Zuführungseinrichtungen auf die Oberfläche eines Gegenstands geblasene Druckluft absaugt, und somit verhindert, dass sich aufgewirbelte Staub- und/oder Schmutzteilchen wieder an einer anderen Stelle auf dem Gegenstand ablagern können. Die Absaugeinrichtung ist vorzugsweise derart dimensioniert, dass auch dann, wenn die Druckmedium-Zuführungseinrichtungen ein Druckmedium auf den Gegenstand blasen, noch Umgebungsluft in den Schlitz gesaugt werden kann, so dass eine Kontamination der Umgebung verhindert wird. Dank der Absaugeinrichtung kann auf eine Verschlussklappe verzichtet werden.At one side of the receiving device, a suction device is provided, including those of the printing medium supply means on the surface sucked off compressed air from an object, thus preventing that stirred up dust and / or dirt again another place on the object can deposit. The Suction device is preferably dimensioned such that also when the print medium supply means blow a pressure medium on the object, nor ambient air in the slit can be sucked, so that contamination of the Environment is prevented. Thanks to the suction device can on a Closing flap can be omitted.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispiels in Verbindung mit den Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:The Invention will be described below with reference to an embodiment in connection closer with the drawings explained. Show it:
In
Der
Waferreiniger
Die
Druckluftröhren
Wie
in
An
die Anschlußeinrichtung
Dem
Waferreiniger
Um
einen zu reinigenden Wafer auch manuell auf die Waferauflage
Über dem
Eingangsschlitz
Die
Funktionsweise des Waferreinigers
Gemäß einer
besonderen Ausführungsform wird
demzufolge zunächst
die Druckluftröhre
Der
vom Druckluftvorhang
Claims (11)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE200610034309 DE102006034309A1 (en) | 2006-07-21 | 2006-07-21 | Device for cleaning a flat object |
PCT/EP2007/006433 WO2008009452A2 (en) | 2006-07-21 | 2007-07-19 | Device for cleaning a flat object |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE200610034309 DE102006034309A1 (en) | 2006-07-21 | 2006-07-21 | Device for cleaning a flat object |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102006034309A1 true DE102006034309A1 (en) | 2008-01-31 |
Family
ID=38859244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE200610034309 Ceased DE102006034309A1 (en) | 2006-07-21 | 2006-07-21 | Device for cleaning a flat object |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102006034309A1 (en) |
WO (1) | WO2008009452A2 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08236498A (en) * | 1995-02-28 | 1996-09-13 | Nec Corp | Method of air knife drying |
JPH11354487A (en) * | 1998-06-03 | 1999-12-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Method and equipment for drying substrate |
US20050268408A1 (en) * | 2004-06-04 | 2005-12-08 | Au Optronics Corp. | Cleaning system |
EP0813230B1 (en) * | 1996-06-14 | 2006-07-26 | Micronas Semiconductor Holding AG | Method for dry cleaning dust soiled objects for carrying and keeping semi-conductor wafers |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5839455A (en) * | 1995-04-13 | 1998-11-24 | Texas Instruments Incorporated | Enhanced high pressure cleansing system for wafer handling implements |
US6096100A (en) * | 1997-12-12 | 2000-08-01 | Texas Instruments Incorporated | Method for processing wafers and cleaning wafer-handling implements |
JP2006140492A (en) * | 2004-11-11 | 2006-06-01 | Samsung Electronics Co Ltd | Dry cleaning equipment used in manufacture of semiconductor device |
-
2006
- 2006-07-21 DE DE200610034309 patent/DE102006034309A1/en not_active Ceased
-
2007
- 2007-07-19 WO PCT/EP2007/006433 patent/WO2008009452A2/en active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08236498A (en) * | 1995-02-28 | 1996-09-13 | Nec Corp | Method of air knife drying |
EP0813230B1 (en) * | 1996-06-14 | 2006-07-26 | Micronas Semiconductor Holding AG | Method for dry cleaning dust soiled objects for carrying and keeping semi-conductor wafers |
JPH11354487A (en) * | 1998-06-03 | 1999-12-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Method and equipment for drying substrate |
US20050268408A1 (en) * | 2004-06-04 | 2005-12-08 | Au Optronics Corp. | Cleaning system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2008009452A2 (en) | 2008-01-24 |
WO2008009452A3 (en) | 2008-08-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60316624T2 (en) | Plant for treating substrates | |
DE112012000193B4 (en) | Attachment machine for Polyethersulfonmembranfilter | |
EP0813230B1 (en) | Method for dry cleaning dust soiled objects for carrying and keeping semi-conductor wafers | |
DE102016111050A1 (en) | Continuous cleaning system and cleaning method for it | |
DE102009045453A1 (en) | Chips discharging device for machine tool in vertical-machining center, has opening adjusting mechanism adjusting area and/or position of opening of covering unit to desired area and/or position | |
DE10348192B4 (en) | Integrated airflow control for a positioning spindle assembly | |
DE8019194U1 (en) | DEVICE FOR CLEANING WORKPIECES | |
DE202019104043U1 (en) | Mechanical arrangement for processing plate-like workpieces, in particular sheets | |
DE19915235A1 (en) | Ventilation plant for cooling a textile machine, has compressed air jet arrangement to clean filter automatically | |
DE102006034309A1 (en) | Device for cleaning a flat object | |
DE102012212809A1 (en) | Device for cleaning e.g. rolling bearing, has rotating unit that is provided with receptacles for receiving to-be-cleaned components, and rotating unit that is rotated into position in which action of cleaning unit is possible | |
DE102011052325A1 (en) | Cleaning module and cleaning method for substrates and / or substrate carrier | |
DE102010038799A1 (en) | Device for drying workpieces after a cleaning process | |
DE19944057A1 (en) | Cleaning of tubular air filters is carried out during continued operation by reverse-blowing into open ends whilst adjacent ends are partially covered | |
EP1509342B1 (en) | Dry cleaning system for workpieces | |
DE102010023322A1 (en) | Device for separating parts | |
DE4130162C2 (en) | Laser processing device | |
DE3214764A1 (en) | Apparatus for the abrasive blasting of precision workpieces | |
EP1083995A1 (en) | Powder supply system for coating installations comprising a plurality of application units | |
DE102018105456B3 (en) | Cleaning device for machines or parts thereof, assembly comprising at least one machine for processing and / or processing of poultry or fish and parts thereof and at least one such cleaning device, and method for cleaning machines or parts thereof | |
DE2724579C3 (en) | Method for cleaning the surface of a plurality of substrates for semiconductor components and device for carrying out this method | |
DE202014009342U1 (en) | Device for drying dripping wet workpieces after cooling in a cooling tank | |
DE202008010060U1 (en) | Tool changing device | |
DE10219771B4 (en) | Device for automatic cleaning of vacuum holders or pipettes accommodated in machine cassettes | |
DE19806940A1 (en) | Cleaning plant for cleaning flat steel bars formed into motor body parts |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8131 | Rejection |