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Die
Erfindung betrifft eine Schaltungsanordnung zur temperaturdriftkompensierten
Strommessung mit einer in einen Halbleiterkörper integrierten Messwiderstandsstruktur.
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Bei
Messwiderständen,
wie sie beispielsweise in Anordnungen zur Messung von Strömen eingesetzt
werden, handelt es sich um Widerstände, die in Reihe in den zu
messenden Stromkreis geschaltet werden, wobei die an diesem Messwiderstand
abfallende Spannung zur Bestimmung der Stromstärke herangezogen wird. Dabei
werden hinsichtlich der Präzision
hohe Anforderungen an Messwiderstände gestellt, das heißt an die
absolute Genauigkeit des Widerstandswertes und die möglichst
große
Unabhängigkeit
gegenüber
Temperaturschwankungen. Beide Faktoren haben wesentlichen Einfluss
auf die erzielbare Messgenauigkeit der Strommessanordnungen.
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Diese
Anforderungen stellen den wesentlichen Grund dar, weshalb Messwiderstände in Schaltungsanordnungen
zur Strommessung nach dem Stand der Technik überwiegend als diskrete, externe Bauelemente
ausgeführt
werden. Neben der bei diskreten Bauelementen sehr gut beherrschbaren
absoluten Genauigkeit des Widerstandswertes kann hier durch geeignete
Auswahl der Materialien, des Aufbaus und der Fertigungstechnik auch
eine geringe Temperaturabhängigkeit
erreicht werden. Die Temperaturabhängigkeit eines Bauelements
wird durch den Temperaturkoeffizient beschrieben, der die Temperaturdrift
pro 1 Grad Kelvin angibt. Üblich
ist dabei die Einheit ppm/K. Ein normaler diskreter Metallschichtwiderstand
weist einen Temperaturkoeffizienten von 100 ppm/K auf, das heißt er ändert seinen Widerstandswert
um 0,01% (100 ppm) bei einer Temperaturänderung von 1 Grad Kelvin.
Diskrete Präzisionswiderstände hingegen
driften nur um einen Wert von 25 ppm/K. Dennoch sollte durch geeignete
aktive Temperaturkorrektur von Präzisions messgeräten deren
Empfindlichkeit gegenüber
störenden
Temperatureinflüssen
weiter deutlich gesenkt werden.
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Die
US 5,426,416 A schreibt
einen Hochstromsensor mit einem externen Shuntelement und einem
Referenzelement, welches ein Referenzsignal zur Verfügung stellt,
das die Temperatur trifft des Shuntwiderstandes repräsentiert.
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Die
immer weiter fortschreitende Forderung nach Integration von Bauelementen
in Halbleiterkörper
mit geringem Flächenbedarf
betrifft auch die Integration von Messwiderständen in Halbleiterschaltungsanordnungen
zur Messung der Stromstärke. Die
beschriebenen Faktoren der absoluten Genauigkeit des Widerstandswertes
und die möglichst
große Unabhängigkeit
gegenüber
Temperaturschwankungen stellen auch hier die wesentlichen Herausforderungen
dar. Bedingt durch die Ausführung
als Widerstandsstruktur in einem integrierten Halbleiterkörper und
die damit verbundenen fertigungstechnischen Toleranzen sowie die
auf den verwendeten Materialeigenschaften (Silizium) beruhenden
Temperaturkoeffizienten lässt
sich dabei jedoch nicht die von diskreten, externen Bauelementen
bekannte Präzision hinsichtlich
Widerstandswert und Temperaturkoeffizient erreichen.
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Zur
Erzielung der gewünschten
absoluten Genauigkeit des Widerstandswertes einer in einen Halbleiterkörper integrierten
Widerstandsstruktur ist es bekannt, im Fertigungsprozess so genannte
Laserfuses in diese Widerstandsstruktur zu integrieren. Dabei handelt
es sich um auftrennbare Verbindungsbrücken in der Widerstandsstruktur
des Halbleiterkörpers,
die gezielt durchtrennt werden, um einen präzise Abgleich der Widerstandsstruktur
auf den gewünschten
Widerstandswert zu erzielen. Dies erfolgt beispielsweise durch die
Energie eines gepulsten Lasers, beispielsweise eines Neodym YAG-Lasers,
der die Metallbahn der Fuse-Anordnung lokal, das heißt in einer
typischen Breite von 2 bis etwa 5 μm aufschmilzt und auf diese
Weise unterbricht.
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Der
Temperaturkoeffizient einer solchen in einen Halbleiterkörper integrierten
Widerstandsstruktur nach dem Stand der Technik unterliegt jedoch weiterhin
den der Erstellung von Halbleiterkörpern innewohnenden fertigungstechnischen
Tole ranzen und Materialeigenschaften und kann die gewünschten Messergebnisse
in unzulässiger
Weise beeinflussen.
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Aufgabe
der vorliegenden Erfindung ist es, eine Schaltungsanordnung mit
einer in den Halbleiterkörper
mitintegrierten Widerstandsstruktur zur Verfügung zu stellen, bei welcher
die oben genannten Probleme nicht auftreten.
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Die
Aufgabe wird durch eine Schaltungsanordnung gemäß dem Patentanspruch 1 gelöst. Vorteilhafte
Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
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Die
vorteilhafte Wirkung der Erfindung basiert auf der allgemeinen Eigenschaft
integrierter Schaltungen, dass sich Widerstandsstrukturen infolge
des nahezu identischen Ausgangsmaterials und aufgrund der Herstellung
in ein und demselben Prozess mit sehr geringen relativen Abweichungen
der Kennwerte („Matching") herstellen lassen.
Dabei wird der Umstand ausgenutzt, dass die Bauelementestrukturen
wegen ihrer geringen Ausdehnung und ihrer engen Nachbarschaft im
Halbleiterkörper
nahezu die gleiche Temperatur aufweisen und somit Änderungen
der Kennwerte aufgrund von Temperaturänderungen, im vorliegenden
Fall die der parallel geschalteten Widerstandsstrukturen des Messwiderstandes
und die der zusätzlich
integrierten, seriell geschalteten Widerstandsstrukturen gleichartig
verlaufen. Auf dieser Basis lässt
sich die Temperaturdrift des Messwiderstandes durch geeignete Auswertung der
Temperatur ab hängigkeit
der zusätzlichen,
seriell geschalteten Widerstandsstrukturen idealer Weise vollständig kompensieren.
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Weitere
Vorteile können
sich auch daraus ergeben, dass für
Mehrkanalanwendungen zur Strommessung alle dazu notwendigen Widerstandsstrukturen
der verschiedenen Messwiderstände
und die zugehörigen,
räumlich
auf dem Substrat des Halbleiterkörpers
verschachtelt angeordneten Widerstandsstrukturen zur Temperaturkorrektur
als Halbleiterschaltungen realisiert sind und sich gegenüber der Verwendung
diskreter Präzisionswiderstände Kostenvorteile
ergeben und dass die Temperaturinformation gemittelt oder ungemittelt
in die Messwerterfassung einfließen kann.
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Die
Erfindung wird nachfolgend anhand der in den Figuren der Zeichnung
dargestellten Ausführungsbeispiele
näher erläutert, wobei
gleiche Elemente mit gleichen Bezugszeichen versehen sind. Es zeigt
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1 das
Schaltbild eines in einen Halbleiterköper integrierten Messwiderstandes
und eines zusätzlich
in den Halbleiterkörper
integrierten, hinsichtlich der Kennwerte übereinstimmenden weiteren Widerstandes
sowie die Komponenten zur wechselseitigen Auswertung der Spannungen
an diesen beiden Widerständen
und
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2 das
Detailschaltbild und die Anordnung der Vielzahl der Widerstandsstrukturen
zur Bildung eines Messwiderstandes und eines zusätzlich in den Halbleiterkörper integrierten, übereinstimmenden
weiteren Widerstandes.
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Die
erfindungsgemäße Schaltungsanordnung
nach 1 umfasst eine in einen Halbleiterkörper 1 integrierte
Anordnung zur Messung eines Stromes 16 durch eine externe
induktive Last 11, bestehend aus einer Messwiderstandsstruktur
R und einem Differenzverstärker 15.
Weiterhin sind in dem Halbleiterkör per 1 vorgesehen
eine als Freilaufdiode für
die induktive Last 11 wirkende erste Diodenstruktur 12,
eine als elektronischer Schalter dienende erste Transistorstruktur 14,
einer der Laststrecke der ersten Transistorstruktur 14 parallel
liegenden zweiten Diodenstruktur 13. Die Messwiderstandsstruktur R
ist dabei in Serie geschaltet zur Last 11 und zur Laststrecke
der ersten Transistorstruktur 14, sodass sie vom Laststrom 16 durchflossen
wird. Die über
der Messwiderstandsstruktur R abfallende Spannung 18 ist,
verstärkt
durch Differenzverstärker 15 auf
einen Eingang einer ebenfalls im Halbleiterkörper 1 integrierten
Multiplexerstruktur 19 gelegt.
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Weiterhin
umfasst die Schaltungsanordnung nach 1 eine Schaltung 2 zur
Erzeugung eines konstanten Stromes 3 mit einem zweiten
Differenzverstärker 6,
einer zweiten Transistorstruktur 7, einer nicht gezeigten
internen oder externen Bandgag-Schaltung zur Erzeugung einer Referenzspannung 21 sowie
eine zu einem Stromspiegel gegen eine Versorgungsspannung 22 verschaltete
dritte 9 und vierte 10 Transistorstruktur zur
Spiegelung des Stromes 3 in den Strom 4. Zudem
umfasst die Schaltungsanordnung einen nicht in den Halbleiterkörper 1 integrierten,
also externen Präzisionswiderstand 8 im Lastkreis
der Schaltung 2, welcher zusammen mit der Referenzspannung 21 den
Strom 3 bestimmt derart, dass der Strom 3 gleich
dem Verhältnis
von Referenzspannung 21 zum Wert des Widerstands 8 ist. Der
in festem Verhältnis
zum Strom 3 stehende Strom 4 durchfließt die auf
die Messwiderstandsstruktur R abgestimmte Widerstandsstruktur R*
gegen Masse. Die über
dieser abfallende Spannung 5 wird mittels eines dritten
Differenzverstärkers 20 gebuffert
und auf einen Eingang eines Multiplexers 19 geschaltet,
dessen anderer Eingang mit dem Ausgang des ersten Differenzverstärkers 15 verbunden ist.
Dem Multiplexer 19 folgt ein Analog-Digital-Converter 25 (ADC)
sowie eine Auswerteschaltung 26.
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Im
einzelnen ist bei der Schaltung 2 der nichtinvertierende
Eingang des Differenzverstärkers 6 verbunden
mit einer stabi lisierten Referenzspannung 21 und der Ausgang
des Differenzverstärkers 6 mit
dem Gate-Anschluss der zweiten Transistorstruktur 7. Weiterhin
ist der Source-Anschluss der zweiten Transistorstruktur 7 mit
dem invertierenden Eingang des Differenzverstärkers 6 verbunden
und über
den externen Präzisionswiderstand 8 mit
Masse, wodurch der konstante Strom 3 erzeugt wird, der
durch den externen Präzisionswiderstand 8 fließt. Beide Drain-Anschlüsse der
dritten Transistorstruktur 9 und der vierten Transistorstruktur 10 sind
verbunden mit der Versorgungsspannung 22, wobei der Gate-Anschluss
der dritten Transistorstruktur 9 verbunden ist mit dem
Gate-Anschluss der
vierten Transistorstruktur 10 und dem Source-Anschluss der dritten
Transistorstruktur 9. Der Source-Anschluss der vierten Transistorstruktur 10 ist über die
Widerstandsstruktur R* mit Masse gekoppelt. Die weitere Widerstandsstruktur
R* ist dabei auf die Messwiderstandsstruktur R derart abgestimmt,
dass sie den selben Temperaturkoeffizient aufweist und damit alle
temperaturbedingten Widerstandsänderungen
der Messwiderstandsstruktur R abbildet.
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Für die Berücksichtigung
der Temperaturabhängigkeit
des Widerstandswertes der Messwiderstandsstruktur R werden die gemäß der Schaltungsanordnung
nach 1 an den Eingängen
der Multiplexerstruktur 19 anliegenden Spannungen 23 und 24 vom
Differenzverstärker 15 bzw. 20 ausgewertet.
Dabei stellt die über
der Messwiderstandsstruktur R abfallende und durch den Differenzverstärker 15 verstärkte Spannung 18 (die
Spannung 23 ergebend) zunächst ein Maß dar für den zu messenden und über diese
Messwiderstandsstruktur R fließenden Laststrom 16,
jedoch ohne Kompensation der unerwünschten Temperaturabhängigkeit
der Messwiderstandsstruktur R. Abwechselnd zu dieser Spannung 23 wird über den
weiteren Eingang der Multiplexerstruktur 19 dem nachfolgenden
Analog-Digital-Converter 25 (ADC) die über der weiteren Widerstandsstruktur
R* abfallende Spannung 24 zur Wandlung in ein digitales
Signal zugeführt,
wobei diese Spannung 24 erzeugt wird durch den als Impedanzwandler
(Buffer) geschalteten Differenzverstärker 20, an des sen nichtinvertierndem
Eingang die Spannung 5, die gleich dem Produkt des Widerstandswertes
der Widerstandsstruktur R* und des aus der Stromspiegelung hervorgegangenen
konstanten Stromes 4 ist, anliegt. Die Änderung dieser Spannung 24 in
Abhängigkeit
von der Temperatur (Änderung
des Widerstandswertes der Widerstandsstruktur R*) ist ein Maß für die durch
Temperaturänderung
und demzufolge die Änderung
des Widerstandswertes der Widerstandsstruktur R* ausgelöste Änderung
der Spannung 18. Da die Widerstandswerte der weiteren Widerstandsstruktur
R* und der Messwiderstandsstruktur R erfindungsgemäß den gleichen
Temperaturkoeffizienten aufweisen und von der gleichen Temperatur
beaufschlagt werden, ist die temperaturbedingte Änderung der Spannung 24 ein
Maß für die temperaturbedingte Änderung
der Spannung 23.
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Auf
diese Weise kann in der dem Analog-Digital-Converter 25 (ADC)
nachgeschalteten Auswerteschaltung 26 die Temperaturabhängigkeit
des Widerstandswertes der Messwiderstandsstruktur R aus der Temperaturabhängigkeit
des Widerstandswertes der weiteren Widerstandsstruktur R* abgeleitet
und – Bemittelt
oder ungemittelt – als
entsprechender Korrekturwert bei der Messung des Stromes 16 berücksichtigt
werden.
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Das
geschilderte Verfahren und die Schaltungsanordnung nach 1 setzen
für die
erfindungsgemäße Funktion
voraus, dass die Messwiderstandsstruktur R und die zusätzlich in
den Halbleiterkörper 1 integrierte
Widerstandsstruktur R* erfindungsgemäß in allen Betriebszuständen im
Wesentlichen die gleiche Temperatur aufweisen und sich bei Temperaturänderungen
gleichartig verhalten.
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Diese
Forderungen werden beispielsweise durch die Schaltungsanordnung
nach 2 gelöst. 2 zeigt
im Detail die Ausgestaltung der beiden Widerstandsstrukturen R und
R*. Dabei wird die Messwiderstandstruktur R durch eine Vielzahl
n von einzelnen, parallel geschalteten Widerstandsstrukturen R1 bis Rn mit jeweils
gleichem Widerstandswert ausgeführt.
Die Gleichheit der Absolutwerte der Widerstandswerte der Vielzahl
n der parallel geschalteten Widerstandsstrukturen R1 bis
Rn wird durch Trimmung der Absolutwerte über Laserfuses
erreicht, die im Zuge des Fertigungsprozesses für jeden einzelnen dieser Widerstandsstrukturen
R1 bis Rn realisiert werden.
Die Parallelschaltung der Vielzahl n von Widerstandsstrukturen R1 bis Rn ermöglicht die
Realisierung eines ausreichend niedrigen Gesamtwiderstandswertes
für die
Messwiderstandsstruktur R, wie dieser für einen Messwiderstand bei
der Messung von Strömen
erwünscht
ist.
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Weiterhin
wird die Widerstandsstruktur R* durch eine Vielzahl n von einzelnen,
seriell geschalteten (Teil-)Widerstandsstrukturen R*1 bis
R*n mit jeweils gleichem Widerstandswert
ausgeführt.
Die Gleichheit der Absolutwerte der Widerstandswerte der Vielzahl
n der seriell geschalteten Widerstandsstrukturen R*1 bis
R*n wird durch Trimmung der Absolutwerte über Laserfuses
erreicht, die im Zuge des Fertigungsprozesses für jeden einzelnen dieser Widerstandsstrukturen
R*1 bis R*n realisiert
werden. Dabei werden die absoluten Widerstandswerte der Widerstandsstrukturen
R1 bis Rn und R*1 bis R*n nicht nur
innerhalb jeweils der einzelnen Gruppen der parallel beziehungsweise
seriell geschalteten Widerstandsstrukturen, sondern auch von Gruppe
zu Gruppe mit demselben Widerstandswert ausgeführt, also beispielsweise Widerstandswert
R1 ist gleich Widerstandswert R*1, Widerstandswert R2 ist
gleich Widerstandswert R*2 bis hin zu Widerstandswert
Rn ist gleich Widerstandswert R*n sowie Widerstandswerte R1..n und
Widerstandswerte R*1..n sind gleich.
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Auf
diese Weise wird erreicht, dass eine durch unterschiedliche Widerstandswerte
bedingte unterschiedliche Flächenausdehnung
der Widerstandsstrukturen auf dem Substrat des Halbleiterkörpers nicht
zu unterschiedlichen Temperaturkoeffizienten des jeweiligen Pärchens führt. Die
Ausführung nicht
nur einzelner Pärchen
der Widerstandsstrukturen mit dem gleichen absoluten Widerstandswert, sondern
aller zu jeweils einer Widerstandsstruktur R und Widerstandsstruktur
R* gehörigen
Teilstruktur, ist äußerst vorteilhaft
für die
Funktion der Schaltungsanordnung und die Auswertung der über der
Widerstandsstruktur R* abfallenden Spannung 5. Darüber hinaus
bringt es auch fertigungstechnische Vorteile mit sich, da gleiche
Strukturen in Halbleitern mit großer relativer Präzision hergestellt
werden können.
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Weiterhin
werden bevorzugt die beiden Widerstandsstrukturen R und R* über ihre
Teilstrukturen auf dem Halbleiterkörper derart ineinander verschachtelt,
dass immer mindestens jedes einzelne Pärchen aus Widerstandstrukturen
R1 und R*1, R2 und R*2 bis Rn und R*n in fertigungstechnisch
größtmöglicher
Nähe zueinander
angeordnet sind. Dabei wird der Umstand ausgenutzt, dass diese Widerstandsstrukturen
wegen ihrer geringen Ausdehnung und ihrer engen Nachbarschaft im
Halbleiterkörper jederzeit
die gleiche Temperatur aufweisen und somit Änderungen der Widerstandswerte
aufgrund von Temperaturänderungen
gleichartig verlaufen. Bevorzugt werden nicht nur die einzelnen
Pärchen
der Widerstandsstrukturen in fertigungstechnisch größtmöglicher
Nähe zueinander
realisiert, sondern alle Teilstrukturen von Widerstandsstruktur
R und Widerstandsstruktur R*, was unter anderem eine höchst gleichmäßige Beaufschlagung
mit der gleichen Temperatur für
alle Teilstrukturen und wiederum auch fertigungstechnische Vorteile
mit sich bringt.
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Ist
durch die beschriebene erfindungsgemäße Anordnung und Ausführung der
Widerstandswerte gewährleistet,
dass jede einzelne Widerstandsstruktur R*1 bis
R*n hinsichtlich ihrer Kenngrößen wie etwa
absoluter Widerstandswert oder Temperaturkoeffizienten ein genaues
Abbild („Matching") jeder einzelnen
Widerstandsstruktur R1 bis Rn darstellt,
kann die unerwünschte
Temperaturdrift, bedingt durch die temperaturabhängige Änderung des Gesamtwiderstandes
der Messwiderstandsstruktur R, durch die Temperaturdrift, bedingt
durch die temperaturabhängige Änderung
des Gesamtwiderstandes der weiteren Widerstandsstruktur R* nachgebildet
werden. Dabei ist der Wert der Spannungsänderung bei eingeprägtem Strom 4 über der
aus einer Vielzahl n von einzelnen, seriell geschalteten weiteren
Widerstandsstrukturen R*1 bis R*n ein Maß dafür, um welchen
Wert sich der Widerstandswert einer jeden einzelnen Widerstandsstruktur
R1 bis Rn der Messwiderstandsstruktur
R* über
der Temperatur ändert.
Diese ergibt sich im Einzelnen aus gesamter Spannungsänderung über Widerstandsstruktur
R*1 bis R*n dividiert
durch Anzahl n der Widerstandsstrukturen dividiert durch den eingeprägten Strom 4.
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Im
Hinblick darauf, dass jede einzelne Widerstandsstruktur R*1 bis R*n ein genaues
Abbild jeder einzelnen Widerstandsstruktur R1 bis
Rn darstellt, kann damit die temperaturbedingte Änderung
des Widerstandswertes der aus einer Vielzahl n von einzelnen, parallel
geschalteten Widerstandsstrukturen R1 bis
Rn gebildeten Messwiderstandsstruktur R durch
die Schaltungsanordnung zur digitalen Verarbeitung 26 berechnet
und zur Korrektur des an dieser Messwiderstandsstruktur R abfallenden
Spannungswertes 18 und damit zur exakten, von der Temperatur unabhängigen Messung
des Laststromes 16 verwendet werden.
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Da
sich von einem Stromspiegel in einem Halbleiterkörper mehrere konstante Ströme von einem
einzelnen Referenzstrom ableiten lassen, im vorliegenden Fall beispielsweise
durch Parallelschaltung mehrerer der seriellen Widerstandsstrukturen R*,
eignet sich die beschriebene Lösung
auch dazu, bei sonst gleichen externen Komponenten (ein einzelner
Präzisionswiderstand)
mehrkanalige Messanordnungen mit Temperaturkorrektur innerhalb eines einzigen
Halbleiterkörpers
zu realisieren.
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- R
- Messwiderstandsstruktur
- R*
- Widerstandsstruktur
- R*1–R*n
- seriell
geschaltete Teilstrukturen
- R1–Rn
- parallel
geschaltete Teilstrukturen
- 1
- Halbleiterkörper
- 2
- Schaltungsanordnung
- 3
- konstanter
Strom
- 4
- Strom
- 5
- temperaturabhängige Spannung
- 6
- zweiter
Differenzverstärker
- 7
- zweite
Transistorstruktur
- 8
- Präzisionswiderstand
- 9
- dritte
Transistorstruktur
- 10
- vierte
Transistorstruktur
- 11
- induktive
Last
- 12
- erste
Diodenstruktur
- 13
- zweite
Diodenstruktur
- 14
- Transistorstruktur
- 15
- Differenzverstärker
- 16
- Laststrom
- 18
- verstärkte Spannung
- 19
- Multiplexer
- 20
- dritter
Differenzverstärker
- 21
- Referenzspannung
- 22
- Versorgungsspannung
- 25
- Analog-Digital-Converter
(ADC)
- 23,
24
- Spannungen