-
Die
Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Vorform für optische
Fasern aus Quarzglas unter Einsatz eines Plasmabrenners, der in
einer Abscheidephase und in einer Glättungsphase betrieben wird,
wobei während
der Abscheidephase dem Plasmabrenner eine siliziumhaltige Ausgangssubstanz
zugeführt
wird und in einer dem Plasmabrenner zugeordneten Plasmaflamme daraus SiO2 gebildet, und auf der Zylindermantelfläche eines um
seine Längsachse
rotierenden Substratkörpers durch
reversierende Bewegung des Plasmabrenners entlang der Vorformoberfläche schichtweise
unter Bildung von Quarzglas abgeschieden und direkt verglast wird,
und wobei die Vorformoberfläche
während der
Glättungsphase
mittels der mindestens einmal entlang der Vorform sich bewegenden
Plasmaflamme mit einer im Vergleich zur Abscheidephase höheren Temperatur
beaufschlagt wird.
-
Die
Herstellung von Vorformen für
optische Fasern mittels des sogenannten „POD-Verfahrens" (Plasma Outside
Deposition) ist allgemein bekannt und beispielsweise in der
DE 25 36 457 A1 beschrieben.
Zur Herstellung der Vorform wird ein Kernglaszylinder aus undotiertem
Quarzglas bereitgestellt, auf dessen Zylinderaußenmantel mit Fluor dotiertes Quarzglas
als Mantelglasschicht abgeschieden wird. Zur Erzeugung der Mantelglasschicht
wird ein induktionsgekoppelter Plasmabrenner eingesetzt, dem ein Gasstrom
zugeführt
wird, der eine wasserstofffreie Siliziumverbindung und Sauerstoff
enthält.
Außerdem
wird in die dem Plasmabrenner zugeordnete Plasmaflamme eine fluorhaltige
Verbindung eingeleitet. Aus den Ausgangssubstanzen bildet sich SiO
2, das auf dem um seine Längsachse rotierenden Kernglaszylinder
schichtweise abgeschieden und unter Bildung der fluorhaltigen SiO
2-Mantelglasschicht auf der Kernglasschicht
direkt verglast (gesintert) wird.
-
Der
Kernglaszylinder weist in der Regel ein homogenes radiales Brechzahlprofil
auf. Er besteht meist aus undotiertem Quarzglas, kann aber auch
die Brechzahl verändernde
Dotierstoffe enthalten.
-
Ein
besonderes Augenmerk liegt auf der Vermeidung von Blasen in der
Mantelglasschicht der Vorform. Blasen sind grundsätzlich nicht
erlaubt oder extrem unerwünscht,
weil sie beim Ziehen der Vorformen Faserfehler erzeugen, die die
Lichtführung
beeinträchtigen
oder zum Faserbruch führen.
Daher wird nach Abschluss des Abscheideprozesses eine Nachbehandlung
durchgeführt,
bei dem eine Heizquelle mit langsamer Vorschubgeschwindigkeit entlang
der Vorformmantelfläche
bewegt wird. Ziel der Nachbehandlung ist nicht nur eine Glättung der
Vorformoberfläche,
sondern auch die Beseitigung darauf abgelagerter Partikel und oberflächennaher
Defekte und das Verschmelzen von Blasen.
-
Ein
derartiges Verfahren ist aus der
EP 727 392 A1 bekannt. Darin wird ein gattungsgemäßes POD-Verfahren
beschrieben, bei dem der Plasmabrenner nach Abschluss des Abscheideprozesses mindestens
ein weiteres Mal ohne Zufuhr von Glasausgangsmaterial entlang der
Oberfläche
der erzeugten Vorform verfahren wird, um die Oberfläche zu glätten bzw.
um Ablagerungen von porösem SiO
2-Material
auf der Oberfläche
zu verglasen. Hierzu wird die Temperatur der Plasmaflammen erhöht und so
eingestellt, dass die Oberflächentemperatur der
Vorform während
dieser Nachbehandlung unterhalb der Verdampfungstemperatur von Quarzglas
jedoch oberhalb von dessen Erweichungstemperatur liegt.
-
Wegen
der notwendigerweise langsamen Vorschubgeschwindigkeit und des dabei
erzeugten Abbrandes geht diese Nachbehandlung mit einem beträchtlichen
Zeitaufwand und Materialverlust einher. Dennoch ist es mit dem bekannten
Verfahren nicht möglich,
sicher und reproduzierbar blasenfreie Vorformen herzustellen. Insbesondere
Blasen, die tief unterhalb der Oberfläche liegen, können mit
dem bekannten Verfahren nicht entfernt werden.
-
Der
Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, ein wirtschaftliches
Verfahren anzugeben, das die Herstellung blasenarmer oder blasenfreier Vorformen
mit vertretbarem Zeit- und Materialaufwand ermöglicht.
-
Diese
Aufgabe wird ausgehend von dem eingangs genannten Verfahren erfindungsgemäß dadurch
gelöst,
dass die Abscheidephase eine Vielzahl aufeinanderfolgender Teil-Abscheidephasen,
im Verlauf derer jeweils eine Quarzglasschicht mit einer Dicke von
weniger als 400 μm
erzeugt wird, umfasst, wobei aufeinanderfolgende Teil-Abscheidephasen von
einer Glättungsphase
unterbrochen werden.
-
Eine
Teil-Abscheidephase umfasst mindestens einen Abscheidehub, während dem
mittels des reversierend entlang der Zylindermantelfläche bewegten
Plasmabrenners eine einzelne verglaste SiO2-Schicht
erzeugt wird. Die SiO2-Schicht besteht aus
reinem Quarzglas oder aus dotiertem Quarzglas. In der Regel umfasst
eine Teil-Abscheidephase mehrere Abscheidehübe, von denen jeder zum Schichtaufbau
und zur Verstärkung
der Quarzglasschicht beiträgt.
-
Erfindungsgemäß wird die
Abscheidephase in eine Vielzahl derartiger Teil-Abscheidephasen aufgeteilt, wobei nach
Abschluss jeder Teil-Abscheidephase eine Glättungsphase eingeschoben wird,
in der die gerade erzeugte Quarzglasschicht thermisch behandelt
wird.
-
Während der
Glättungsphase
wird der weitere Schichtaufbau gestoppt oder vermindert. Statt dessen
wird die Oberfläche
der sich bildenden Vorform mittels des Plasmabrenners thermisch
behandelt. Hierzu unterscheidet sich die Einsatzweise des Plasmabrenners
während
der Glättungsphase
von seinem Einsatz während
der Abscheidephase mindestens in zweierlei Hinsicht.
- • Zum
einen wird die Zufuhr an siliziumhaltiger Ausgangssubstanz zu dem
Plasmabrenner gestoppt oder vermindert.
- • Zum
anderen wird die Temperatur der Vorformoberfläche erhöht. Dies kann erfolgen durch
eine Änderung
des Abstandes des Plasmabrenners von der Vorformoberfläche oder
durch Verringerung der Relativgeschwindigkeit, mittels der der Plasmabrenner
entlang der Vorformoberfläche bewegt
wird, oder durch eine höhere
Flammentemperatur. Eine höhere
Flammentemperatur ergibt sich zum Beispiel durch Verändern der
Gaszusammensetzung im Plasmabereich oder im einfachsten Fall bereits
durch Abschalten oder Vermindern der Zufuhr an siliziumhaltiger
Ausgangssubstanz.
-
Es
hat sich gezeigt, dass durch diese Verfahrensweise die Bildung von
Blasen mit ausreichend hoher Sicherheit vermieden werden kann, sofern während der
Teil-Abscheidephasen
jeweils eine Quarzglasschicht mit einer Dicke von weniger als 400 μm erzeugt
wird. Durch die zwischen den einzelnen Teil-Abscheidephasen durchgeführten Glättungsphasen
wird die Oberfläche
in vergleichsweise kurzen zeitlichen Abständen geglättet, wobei etwaige oberflächennahe
Defekte zuverlässig
beseitigt werden. Eine aufwändige
und langwierige Nachbehandlung der Oberfläche, die unter Umständen auch
einen Materialabtrag zur Beseitigung von tiefer liegender Blasen
umfassen kann, wird auf diese Weise vermieden. Damit ergibt sich
trotz zusätzlichem
Zeitaufwand für die
Durchführung
der Glättungsphasen
eine insgesamt kurze Prozessdauer ohne die Notwendigkeit eines nennenswerten
Abtrags von Materialschichten und damit insgesamt ein kostengünstiges
Verfahren.
-
Es
wird mindestens ein Plasmabrenner für die Abscheidung eingesetzt.
Dadurch, dass derselbe Plasmabrenner – zwar in anderer Betriebsweise,
wie oben erläutert – auch für die Glättung der
Vorformoberfläche
verwendet wird, ergibt sich außerdem
eine konstruktiv einfache und insbesondere kostengünstige Vorrichtung
zur Durchführung
des erfindungsgemäßen Verfahrens.
-
Bei
dem Substratkörper
handelt es sich um einen stabförmigen
oder rohrförmigen
Körper
aus Graphit, aus einem keramischen Material wie Aluminiumoxid oder
aus Glas, insbesondere aus dotiertem oder undotiertem Quarzglas.
Der Substratkörper
wird nach dem Abscheideprozess entfernt oder er bildet einen integralen
Bestandteil der Vorform.
-
Bei
der Vorform handelt es sich um einen Quarzglaskörper, aus dem unmittelbar optische
Fasern gezogen werden können,
oder es handelt sich um ein Vorprodukt, beispielsweise in Form eines Rohres,
für einen
derartigen Quarzglaskörper.
-
Es
hat sich als günstig
erwiesen, wenn im Verlauf einer Teil-Abscheidephase jeweils eine Quarzglasschicht
mit einer Dicke im Bereich zwischen 25 μm und 300 μm erzeugt wird.
-
Mit
der Wiederholungsfrequenz der Glättungsphasen
während
des Abscheideprozess nimmt die Effektivität der Glättungsmaßnahme zu und damit die Wahr scheinlichkeit
einer Blasenbildung ab. Bei einer so hohen Wiederholungsfrequenz,
bei der eine Glättungsphase
bereits nach Bildung einer Quarzglasschicht mit einer geringen Dicke
von weniger als 25 μm
folgt, ist der dadurch erzielbare zusätzliche Effekt jedoch gering,
andererseits nimmt die Prozessdauer mit der Anzahl der Glättungsphasen
zu.
-
Die
besten Ergebnisse werden erzielt, wenn im Verlauf einer Teil-Abscheidephase
jeweils eine Quarzglasschicht mit einer Dicke von maximal 150 μm erzeugt
wird.
-
Die
Gesamtdicke der während
einer Abscheidephase gebildeten Quarzglasschicht hängt von
der Anzahl der durchgeführten
Abscheidehübe ab.
Geeignete Schichtdicken werden erhalten, wenn die reversierende
Bewegung des Plasmabrenners im Verlauf einer Teil-Abscheidephase
weniger als 50 Abscheidehübe
umfasst.
-
Übliche Abscheideraten
erzeugen Quarzglasschichten mit Stärken im Bereich zwischen 4
und 8 μm
pro Abscheidehub. Unter Berücksichtigung dessen
umfasst die reversierende Bewegung des Plasmabrenners im Verlauf
einer Teil-Abscheidephase
zwischen 4 und 38 Abscheidehübe,
vorzugsweise maximal 30 Abscheidehübe.
-
Die
Anzahl der in aufeinanderfolgenden Teil-Abscheidephasen durchgeführten Abscheidehübe und die
dadurch erzeugten Dicken der verglasten Quarzglasschichten können sich
unterscheiden. Besonders bevorzugt wird jedoch eine Verfahrensweise,
bei der in aufeinanderfolgenden Teil-Abscheidephasen die gleiche
Anzahl von Abscheidehüben durchgeführt wird.
-
Die
dadurch bewirkte Regelmäßigkeit
im Schichtaufbau der Vorform wirkt sich auf deren optische Eigenschaften
vorteilhaft aus, und die Reproduzierbarkeit des Verfahrensergebnisses
wird verbessert. Das Verfahren lässt
sich außerdem
besonders einfach automatisieren. Eine gleiche Anzahl an Abscheidehüben während der
Teil-Abscheidephasen geht in der Regel mit der gleichen Dauer der
Teil-Abscheidephasen
und mit einer etwa gleichen Schichtdicke pro Abscheidephase einher.
-
Das
erfindungsgemäße Verfahren
hat den Vorteil, dass aus den jeweils dünnen zu glättenden oberflächennahen
Quarzglasschichten etwaige Blasen relativ leicht entfernt werden
können,
so dass ein Materialabtrag während
der Glättungsphase
nicht erforderlich ist. Andererseits kann es sich als günstig erweisen,
die Vorformoberfläche
während
der Glättungsphase
mit einem fluorhaltigen Ätzmittel
zu beaufschlagen.
-
Das Ätzmittel
bewirkt einen gewissen Abtrag der Quarzglasschicht während der
Glättungsphase. Diese
Verfahrensweise hat sich vorallem als vorbeugende Maßnahme bewährt, um
Defekte, die später zu
Blasenbildung führen
könnten,
in kurzer Zeit zu entfernen.
-
In
dem Zusammenhang hat es sich als vorteilhaft erwiesen, wenn das
Quarzglas mit Fluor dotiert wird, wobei das Ätzmittel als Dotierstoffquelle dient.
-
Dem
Plasmabrenner wird somit ein und dieselbe Substanz während der
Abscheidephase als Dotierstoffquelle und während der Glättungsphase als Ätzmittel
zugeführt.
Ein Abschalten der Zufuhr beim Wechsel der Phasen ist somit nicht
erforderlich, was die Prozessführung
vereinfacht. Als Ätz-
und Dotiermittel wird beispielsweise SF6 oder
CF4 eingesetzt.
-
Vorzugsweise
wird der Plasmabrenner während
der Glättungsphase
einmal entlang der Vorformoberfläche
bewegt.
-
Die
Vorschubgeschwindigkeit des Plasmabrenners wird dabei so eingestellt,
dass sich bei einmaliger Translation entlang der Vorformoberfläche eine
ausreichende Glättung
ergibt. Dies verkürzt
die Prozessdauer und führt
im Vergleich zu einem mehrmaligen Aufheizen der Vorformoberfläche zu einem niedrigeren
Energieaufwand.
-
Hierzu
wird der Plasmabrenner vorzugsweise mit einer Vorschubgeschwindigkeit
entlang der Vorformoberfläche
bewegt wird, die während
der Glättungsphase
kleiner ist als während
der Abscheidephase.
-
In
einer weiteren bevorzugten Verfahrensvariante wird dem Plasmabrenner
während
der Glättungsphase
die siliziumhaltige Ausgangssubstanz in einer geringeren Menge zugeführt als
während
der Abscheidephase.
-
Eine
geringfügige
Zufuhr der siliziumhaltigen Ausgangssubstanz auch während der
Glättungsphase
hat den Vorteil, dass während
dieser Phase ein gewisser Schichtaufbau stattfinden kann, was zu
einer insgesamt kürzeren
Prozessdauer führt.
-
Nachfolgend
wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen und einer
Patentzeichnung näher
erläutert.
In der Zeichnung zeigen im Einzelnen
-
1 das
POD-Verfahren zur Herstellung einer Vorform in schematischer Darstellung,
und
-
2 eine
statistische Auswertung der Ergebnisse von Abscheideverfahren anhand
eines sogenannten „Box-and-Whisker-Plots"
-
In 1 ist
schematisch das Verfahren zur Herstellung einer Vorform für sogenannte
Multimode-Fasern mit stufenförmigen
Brechungsindexprofil dargestellt. Hierzu wird ein Stab 3 aus
hochreinem, undotiertem synthetischem Quarzglas mit einem Durchmesser
von 85 mm bereitgestellt und mittels eines "Plasma-Outside-Deposition-Verfahrens" (POD-Verfahren)
mit einem Mantel 4 aus fluordotiertem Quarzglas beschichtet.
Einem Plasmabrenner 1 werden hierzu SiCl4,
Sauerstoff und SF6 zugeführt und in einer dem Plasmabrenner 1 zugeordneten Brennerflamme 2 zu
SiO2-Partikeln umgesetzt. Die Hauptausbreitungsrichtung
der Plasmaflamme 2 ist durch eine punktierte Linie 5 angedeutet.
Indem der Plasmabrenner 1 entlang des Stabes 3 reversierend von
einem Ende zum anderen Ende bewegt wird, werden die SiO2-Partikel
schichtweise auf der Zylindermantelfläche 9 des um seine
Längsachse 6 rotierenden
Stabes 3 abgeschieden. Auf diese Weise gelingt es, hohe
Fluorkonzentrationen von mehr als 3 Gew.-% in dem Quarzglas netzwerk
des Mantels 4 einzubinden. Die Plasmaflamme 2 wird
innerhalb einer Reaktionshülse 8 aus
Quarzglas erzeugt, das von einer Hochfrequenzspule 7 umgeben
ist. Die Hochfrequenzspule 7 hat eine Höhe von ca. 92 mm und sie wird
von der Reaktionshülse 8 um
ca. 7,5 mm überragt.
Zwischen dem oberen Ende der Hochfrequenzspule 7 und der
Oberfläche
des Stabes 3 wird ein Abstand von 65 mm eingestellt.
-
Erfindungsgemäß wird der
Plasmabrenner 1 während
des Abscheideprozesses zur Herstellung des Mantelglases (4)
in zwei verschiedenen Modi betrieben. Wäh rend der Abscheidephase werden
dem Plasmabrenner 1 SiCl4, Sauerstoff
und SF6 zugeführt, wie oben erwähnt, und
er wird mit einer Translationsgeschwindigkeit von 500 mm/min reversierend entlang
der Vorformoberfläche 9 verfahren.
Die Rotationsgeschwindigkeit des Stabes 3 und die Translationsgeschwindigkeit
des Plasmabrenners 1 ergeben eine mittlere Stärke der
einzelnen Mantelglasschichten von etwa 6 μm.
-
In
der Glättungsphase
wird dem Plasmabrenner 1 kein SiCl4 zugeführt, und
er wird mit einer deutlich geringeren Translationsgeschwindigkeit
von 300 mm/min einmal von einem Ende zum anderen Ende der Vorform
bewegt. Eine Materialabscheidung findet während der Glättungsphase
nicht statt. Die Zufuhr von Sauerstoff und SF6 wird
im Vergleich zur Abscheidephase nicht geändert.
-
Abscheidephasen
und Glättungsphasen wechseln
sich ab. Auf eine Abscheidephase mit einer bestimmten Dauer, die
zur Bildung einer Quarzglasschicht vorgegebener Dicke führt und
die im Folgenden noch näher
erläutert
wird, folgt jeweils eine Glättungsphase,
während
der die Vorformoberfläche stärker erhitzt,
geglättet
und von Defekten befreit wird.
-
Die
nach dem erfindungsgemäßen Verfahren
erhaltene Vorform besteht aus einem Kern aus reinem Quarzglas, das
einen Brechungsindex bei 633 nm von 1,4571 aufweist, und aus einem
Mantel aus fluordotiertem Quarzglas, das bei einer Wellenlänge von
633 nm einen Brechungsindex von 1,440 aufweist. Der Fluorgehalt
des Mantelglases liegt bei 5 Gew.-%. Der Gehalt an Hydroxylgruppen
im Kern liegt bei 700 Gew.-ppm. Der Kern hat einen Durchmesser von
70 mm, und der Mantel einen Außendurchmesser
von 77 mm.
-
Nachfolgend
wird das erfindungsgemäße Verfahren
anhand von Ausführungsbeispielen
und der 2 näher beschrieben. Es wurden
fünf Versuchsreihen
zur Herstellung von Vorformen gemäß dem oben allgemein erläuterten
Verfahren durchgeführt.
Die Figur zeigt für
jede Versuchsreihe eine statistische Auswertung anhand eines sogenannten „Box-and-Whisker-Plots" 20, wobei
auf der Y Achse die Aufbauzeit tA in h bis
zum Erreichen eines vorgegebenen Enddurchmessers der Vorform aufgetragen ist.
-
Die
sternförmigen
Enden 21 jedes Plots 20 zeigen jeweils die kürzeste und
die längste
Dauer der Aufbauzeit der jeweiligen Versuchsreihe. Innerhalb des
durch die rechteckige Box 22 umfassten Bereiches liegen
50% der Aufbauzeiten. Die Unterteilung der Box 22 durch
eine waagerechte Linie 23 gibt den Medianwert an, oberhalb
und unterhalb von dem jeweils 25% der Aufbauzeiten liegen. Das kleine
Quadrat 24 symbolisiert den arithmetischen Mittelwert aller
Aufbauzeiten der Versuchsreihe.
-
Bei
den Versuchsreihen A und B wurde die Abscheidephase jeweils nach
4 Stunden, in denen eine Zunahme des Vorform-Durchmessers um ca. 2000 μm erzeugt
wurde, durch einen "Abbrandlauf" unterbrochen. Während eines
Abbrandlaufes wurde der Plasmabrenner 1 einmal entlang
der Vorformoberfläche 9 mit
einer Translationsgeschwindigkeit von 20 mm/min bewegt, wobei die
SiCl4-Zufuhr abgeschaltet wurde. Infolge
eines Abbrandlaufes kommt es durch Ätzangriff zu einer. Abnahme
des Außendurchmessers
der Vorform um ca. 300 μm.
Nach Abschluss eines Abbrandlaufes wurde die Qualität der behandelten
Quarzglasschicht mit bloßem
Auge überprüft und dabei
insbesondere auf noch vorhandene Blasen geachtet. Im Bedarfsfall
wurde der Abbrandlauf fortgesetzt, bis eine zufriedenstellende Qualität der Quarzglasschicht
erreicht ist. Bei Versuchsreihe A erfolgte der erste Abbrandlauf
nach einer Abscheidephase von 4 Stunden, bei der Versuchsreihe B
nach 2 Stunden.
-
Infolge
des wenig reproduzierbaren zeitlichen Ablaufs der jeweiligen Abbrandläufe ergeben sich
große
zeitliche Schwankungen zum vollständigen Aufbau der Sollstärke der
Mantelglasschicht und zudem teilweise lange Aufbauzeiten über 16 bzw.
19 Stunden. Diese Verfahrensweise führt zwar im Großen und
Ganzen zu brauchbaren Ergebnissen, hat aber den weiteren wesentlichen
Nachteil, dass sie nicht ohne Weiteres automatisiert werden kann.
-
Die
Vorformen der Versuchsreihe C wurden anhand eines automatisierten
Verfahrens hergestellt, wobei nach einer abgeschiedenen Schichtdicke
von 405 μm,
in denen der Plasmabrenner 1 in der Abscheidephase betrieben
wurde einmal ein Glättungshub
durchgeführt
wurde. Beim Glättungshub
wird der Plasmabrenner 1 mit verminderter Translationsgeschwindigkeit
einmal entlang der Vorformoberfläche 9 bewegt,
wobei er so betrieben wird, wie oben für die Glättungsphase be schrieben. Infolge
der geringeren Translationsgeschwindigkeit ergibt sich eine höhere Temperatur
der Vorformoberfläche 9.
-
Durch
die regelmäßigen kurzen
Glättungshübe nach
vergleichsweise kurzen Abscheidephasen wurden blasenarme Quarzglasschichten
erhalten. Es zeigt sich jedoch, dass nicht in allen Fällen vollständige Blasenfreiheit
erreicht werden konnte, so dass zum Entfernen von Blasen ein zusätzlicher
Abbrandlauf wie oben für
die Versuchsreihen A und B beschrieben, erforderlich wurde. Die
nachträgliche
Entfernung der entstandenen Blasen führt zu langen Aufbauzeiten
mit großen
zeitlichen Schwankungen.
-
Die
Vorformen der Versuchsreihen D und E wurden ebenfalls anhand eines
automatisierten Verfahrens hergestellt, wobei nach jeweils 11 Abscheidehüben, während denen
der Plasmabrenner 1 in der Abscheidephase betrieben wurde
einmal ein einfacher Glättungshub
durchgeführt
wurde.
-
Während der
Glättungsphasen
wurde dem Plasmabrenner 1 kein SiCl4 zugeführt, sondern
nur SF6 und Sauerstoff, wie oben erläutert. Der
erste Glättungshub
erfolgte nach einer anfänglichen
Aufbauzeit von 2 Stunden. Bei der Versuchsreihe D ergab sich nach
jeder Abscheidephase eine Quarzglas-Schichtdicke von ca. 70 μm, die von
einem Glättungshub
abgeschlossen wurde.
-
Blasen
wurden dadurch vollkommen vermieden; es wurden reproduzierbar kurze
Aufbauzeiten mit sehr geringen Schwankungen erreicht, wie sie für die industrielle
Produktion wünschenswert
sind.
-
Bei
der Versuchsreihe E wurde die Aufbaurate durch eine Erhöhung der
SiCl4-Zufuhr
um etwa 10% gegenüber
der Versuchsreihe D gesteigert, wodurch sich auch eine um ca. 10%
größere Schichtdicke
während
der Abscheidephase ergibt. Dadurch konnte die Aufbauzeit weiter
verkürzt
werden, ohne dass dies mit einer unvorhergesehenen und nicht reparablen
Blasenbildung einherging. Auch diese Versuchsreihe ergab somit einen
blasenfreien Aufbau und eine entsprechend kurze Aufbauzeit.
-
Die
Brechzahlprofile der mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten
Vorformen unterscheiden sich trotz der Glättungshübe nicht von Brechzahlprofilen von
nach dem Standardverfahren erhaltenen Vorformen. Insbesondere ist
bei Abfolgen von SiCl4-freien Glättungshüben mit
einem Zeitabstand von 15 Minuten keine radiale Fluktuation der Brechzahl
erkennbar. Die aus der Vorform gezogenen Fasern zeichnen sich durch
hohe Transmission aus.