DE102004029081A1 - Device for processing a substrate by means of at least one plasma jet - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (10) zur Bearbeitung eines Substrates (11) mittels mindestens eines Plasma-Jets (13), umfassend ein Behältnis (15), durch welches ein Trägergas entlang einer Strömungsrichtung (x) hindurchströmt, und umfassend eine erste Elektrode (17) und eine zweite Elektrode (18). DOLLAR A Die Besonderheit besteht darin, dass die beiden Elektroden (17, 18) durch wenigstens eine dielektrische Barriere (15) voneinander getrennt sind, dass zwischen den Elektroden (17, 18) zur Erzeugung eines Atmosphärendruck-Glimmentladungs-Plasmas eine Wechselspannung angelegt wird und dass die erste Elektrode (17) von der zweiten Elektrode (18), bezogen auf die Strömungsrichtung (x) des Trägergases, axial (L) und radial (R) beabstandet ist.The invention relates to a device (10) for processing a substrate (11) by means of at least one plasma jet (13), comprising a container (15) through which a carrier gas flows along a flow direction (x), and comprising a first electrode ( 17) and a second electrode (18). DOLLAR A The special feature is that the two electrodes (17, 18) by at least one dielectric barrier (15) are separated from each other, that between the electrodes (17, 18) for generating an atmospheric pressure glow discharge plasma, an AC voltage is applied and the first electrode (17) is axially (L) and radially (R) spaced from the second electrode (18) with respect to the flow direction (x) of the carrier gas.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Bearbeitung eines Substrates mittels mindestens eines Plasma-Jets gemäß dem Oberbegriff des Anspruches 1.The The invention relates to a device for processing a substrate by means of at least one plasma jet according to the preamble of the claim 1.
Die
Erfindung geht aus von einer Vorrichtung gemäß der
Ausgehend von diesem Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Anspruches 1 derart weiterzubilden, dass mit ihr auch bei Arbeitsdrücken im Bereich des Atmosphärendrucks unter Ermöglichung einer großen Bearbeitungstiefe in effizienter Weise Plasma-Jets erzeugbar sind.outgoing From this prior art, the invention is based on the object a device according to the preamble of claim 1 such that with her even at working pressures in Range of atmospheric pressure under possibility a big one Machining depth can be generated efficiently plasma jets.
Die Erfindung löst diese Aufgabe mit den Merkmalen des Anspruches 1, insbesondere mit denen des Kennzeichenteils, und ist demgemäß dadurch gekennzeichnet, dass die beiden Elektroden durch wenigstens eine dielektrische Barriere voneinander getrennt sind, dass zwischen den Elektroden zur Erzeugung eines Atmosphärendruck-Glimmentladungs-Plasmas eine Wechselspannung angelegt wird, und dass die erste Elektrode von der zweiten Elektrode bezogen auf die Strömungsrichtung des Trägergases axial und radial beabstandet ist.The Invention solves This object with the features of claim 1, in particular with those of the license plate part, and is accordingly characterized in that the two electrodes through at least one dielectric barrier are separated from each other that between the electrodes for generating an atmospheric pressure glow discharge plasma an AC voltage is applied, and that the first electrode from the second electrode related to the flow direction the carrier gas axially and radially spaced.
Das Prinzip der Erfindung besteht zunächst darin, anstelle einer Hohlkathoden-Entladung, wie sie der Stand der Technik vorschlägt, eine Atmosphärendruck-Glimmentladung vorzusehen. Ein Atmosphärendruck-Glimmentladungs-Plasma erfordert eine dielektrische Barriere zwischen den beiden Elektroden und stellt im Vergleich zur Hohlkathoden-Entladung ein völlig anderes physikalisches Prinzip der Plasmaerzeugung dar, welches zu einer anderen Art von Plasma führt. Der Begriff „Atmosphärendruck-Glimmentladungs-Plasma" macht in diesem Zusammenhang deutlich, dass dieses Plasma auch bei Atmosphärendruck brennen kann und die Vorrichtung entsprechend bei Atmosphärendruck betrieben werden kann. Möglich und sinnvoll sind Arbeitsdrücke im Bereich zwischen 50 mbar und 10 bar.The The principle of the invention is first, instead of a Hollow cathode discharge, as proposed in the prior art, a Atmospheric pressure glow discharge provided. An atmospheric pressure glow discharge plasma requires a dielectric barrier between the two electrodes and represents a completely different compared to the hollow cathode discharge physical principle of plasma generation, which is another Type of plasma leads. The term "atmospheric pressure glow discharge plasma" makes in this Context clearly that this plasma is also at atmospheric pressure can burn and the device operated accordingly at atmospheric pressure can be. Possible and useful are working pressures in the range between 50 mbar and 10 bar.
Die
erfindungsgemäße Vorrichtung
unterscheidet sich somit von der Vorrichtung gemäß der
Zwar
ist theoretisch mit der Vorrichtung gemäß der
Die mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung beabsichtigte Bearbeitung von Substraten, insbesondere auch mit großen Substratflächen, sowie von Substraten, die eine besondere Topografie aufweisen und eine große Bearbeitungstiefe erfordern, ist mit der bekannten Vorrichtung nicht möglich.The intended with the device according to the invention Processing of substrates, especially with large substrate surfaces, as well of substrates that have a particular topography and a size Require processing depth is not with the known device possible.
Als Plasma-Jet im Sinne der Erfindung wird ein Atmosphärendruck-Glimmentladungs-Plasma bezeichnet, welches bei optischer Betrachtung im Betriebszustand der Vorrichtung eine Jet- oder Strahlform aufweist und aus der Vorrichtung heraus, insbesondere aus dem Behältnis heraus extrahiert ist und sich bis zu einem distanziert von der Vorrichtung angeordneten Substrat erstreckt. Anzumerken ist, dass das Substrat während der Bearbeitung durch die Vorrichtung stationär angeordnet sein kann oder relativ zu der Vorrichtung eine Bewegung durchlaufen kann.When Plasma jet in the sense of the invention is called an atmospheric pressure glow discharge plasma, which when viewed optically in the operating state of the device has a jet or jet shape and out of the device, in particular from the container is extracted out and distanced itself from the Device arranged substrate extends. It should be noted that the substrate during the processing by the device may be arranged stationary or relative to the device can undergo a movement.
Als Bearbeitung eines Substrates im Sinne der Erfindung wird jegliche Behandlung, insbesondere Oberflächenbehandlung, eines Substrates, insbesondere eine Beschichtung, Strukturierung (Lithografie), Reinigung oder Modifikation der Substratoberfläche beziehungsweise des Substrates verstanden. Der Plasma-Jet ist ein kalter, chemisch reaktiver Plasma-Jet, der bei geringen Temperaturen von wenigen 10° C brennt. Jedem Plasma-Jet werden bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung die chemisch reaktiven und physikalisch angeregten Spezies mit Hilfe einer dielektrisch behinderten Primärentladung bereitgestellt.When Processing a substrate within the meaning of the invention will be any Treatment, in particular surface treatment, a substrate, in particular a coating, structuring (Lithography), cleaning or modification of the substrate surface or of the substrate understood. The plasma jet is a cold, chemical reactive plasma jet, which at low temperatures of a few 10 ° C burns. Each plasma jet in the inventive device, the chemically reactive and physically excited species using a dielectric handicapped primary discharge provided.
Zum ergänzenden und vertieften Verständnis der Erfindung wird im Folgenden ein Überblick über eine Vielzahl weiterer Vorrichtungen des Standes der Technik gegeben, die mit Bogenentladungen arbeiten. Bei Bogenentladungen befindet sich jedoch zwischen der ersten und der zweiten Elektrode keine dielektrische Barriere, so dass es sich um nicht vergleichbare Plasmen handelt.For a supplementary and in-depth understanding of the invention, an overview of a large number of other devices of the prior art is given below, with arc discharges work. In the case of arc discharges, however, there is no dielectric barrier between the first and the second electrode, so that they are incomparable plasmas.
Die
Plasma-Jets in Form von Bogenentladung sind schon seit langer Zeit
bekannt. Unterschiedliche Varianten und Anwendungen sind Gegenstand
von zahlreichen Patentschriften. In der
Eine
wesentliche Rolle spielt bei den Vorrichtungen des Standes der Technik
auch die Art und Weise der Gaszuführung in die Vorrichtung. Damit befasst
sich z.B. die WO 01/43512. Das Gas wird hier in die Entladungszone
unter einem bestimmten azimuthalen und axialen Winkel eingeführt, so
dass es zur Entstehung einer Verwirbelung des Gasflusses kommt.
Dies führt
zur Erhöhung
der Effizienz der Wechselwirkung der Entladung mit dem Gas. Diese Vorrichtung
findet bei der Reinigung von Walzen und Bändern Anwendung (vgl.
Ein „Atmospheric-pressure
Plasma jet" gemäß
Die parasitäre Schichtabscheidung, Überhitzung sowie der chemische Angriff der Entladungselektroden sind ernste Probleme bei allen Vorrichtungen zur Erzeugung von chemisch reaktiven Plasma-Jets. In der WO 01/40543 wird das Problem mit Hilfe eines an der Fläche der Außenelektrode geführten innerten Hüllgases gelöst, das die Zone des mit Prozessgas erzeugten Plasmas von der Elektrodenfläche trennt.The parasitic Layer deposition, overheating as well as the chemical attack of the discharge electrodes are serious Problems with all devices for the production of chemically reactive Plasma jets. In WO 01/40543 the problem with the help of a on the surface the outer electrode out internal envelope gas solved, which separates the zone of plasma generated by the process gas from the electrode surface.
Die
häufig
in der Literatur beschriebene Lösung
für die
Bereitstellung des Prozessgases ist eine direkte Zuführung in
die Zone des Plasma-Jets, wie z.B. die Zuführung eines kohlenstoffhaltigen
Monomers zum Aufbau von Diamantfilmen mit einer Methode und einer
Vorrichtung nach
Der Nachteil der zahlreichen, zuvor beschriebenen Vorrichtungen, die mit Bogenentladungen arbeiten, ist, dass eine direkte Stromverbindung zwischen den zwei elektrisch nur durch das Plasma voneinander getrennten Elektroden entsteht. Bereits kleine Variationen des Elektrodenabstandes oder der Beschaffenheit der Elektrodenoberfläche führen zur Fokussierung der Entladung und Entstehung eines Hot-Spots oder anderer Arten von räumlichen Inhomogenitäten.Of the Disadvantage of the numerous devices described above, the Working with arc discharges, that is a direct power connection between the two electrically separated only by the plasma Electrodes are created. Already small variations of the electrode distance or the nature of the electrode surface lead to the focusing of the discharge and emergence of a hot-spot or other types of spatial Inhomogeneities.
Zur
Vermeidung dieser Nachteile sind darüber hinaus Vorrichtungen bekannt,
die zwischen den beiden Elektroden eine dielektrische Barriere vorsehen.
So ist beispielsweise in der
Von diesem Nachteil befreit sind unterschiedliche, aus der Literatur bekante koaxiale Anordnungen der Elektroden mit einer ebenfalls koaxial angeordneten dielektrischen Barriere zwischen den Elektroden.From freed from this disadvantage are different, from the literature bekante coaxial arrangements of the electrodes with a likewise Coaxially disposed dielectric barrier between the electrodes.
Koinuma
et al beschreiben in
Eine komplexe Konfiguration von Magnetfeldern wird auch zur Steuerung der Lage des Plasma-Jets in der WO 01/88220 (auch US 2002/0030038) beschrieben.A complex configuration of magnetic fields is also used to control the position of the plasma jet in WO 01/88220 (also US 2002/0030038) described.
In
der
Eine
umgekehrte Anordnung der koaxialen Elektroden und der dielektrischen
Barriere liegt der
Die erfindungsgemäße Vorrichtung unterscheidet sich von den zuvor beschriebenen Vorrichtungen auch wesentlich durch ihre Elektrodengeometrie. So ist erfindungsgemäß vorgesehen, dass die erste Elektrode von der zweiten Elektrode, bezogen auf die Strömungsrichtung des Trägergases, axial und radial beabstandet ist. Eine derartige Elektrodengeometrie setzt zunächst eine Strömungsrichtung des Trägergases voraus. Es wird dabei davon ausgegangen, dass das Trägergas im Bereich der beiden Elektroden im Wesentlichen entlang einer Geraden strömt. insbesondere entspricht die Strömungsrichtung des Trägergases im Bereich der Elektroden der Längserstreckung des Behältnisses in dem Bereich der Elektroden, beispielsweise einer Mittellängsachse des Behältnisses.The inventive device differs from the devices described above also essentially by their electrode geometry. Thus, according to the invention, that the first electrode of the second electrode, based on the flow direction the carrier gas, axially and radially spaced. Such an electrode geometry sets first a flow direction the carrier gas ahead. It is assumed that the carrier gas in the Area of the two electrodes substantially along a straight line flows. in particular, the flow direction corresponds the carrier gas in the region of the electrodes of the longitudinal extent of the container in the region of the electrodes, for example a central longitudinal axis of the container.
Die erste Elektrode und die zweite Elektrode sind erfindungsgemäß axial und radial voneinander beabstandet. Das Trägergas strömt dabei entlang der Strömungsrichtung zwischen den beiden Elektroden hindurch, wobei sich aufgrund der angelegten Wechselspannung Hauptentladungskanäle zwischen den beiden Elektroden ausbilden. Die Hauptentladungskanäle bilden sich dabei im Wesentlichen entlang kürzester Verbindungslinien zwischen den beiden Elektroden. Da die erste Elektrode von der zweiten Elektrode axial und radial beabstandet ist, ist die kürzeste Verbindungslinie zwischen den beiden Elektroden im Wesentlichen schräg zu der Strömungsrichtung des Trägergases angeordnet. Dies ermöglicht eine besonders intensive Wechselwirkung zwischen dem Trägergas und der Entladung.The The first electrode and the second electrode are according to the invention axially and radially spaced from each other. The carrier gas flows along the flow direction between the two electrodes, wherein due to the applied AC main discharge channels between the two electrodes form. The main discharge channels are essentially formed along the shortest Connecting lines between the two electrodes. Because the first electrode is axially and radially spaced from the second electrode the shortest Connecting line between the two electrodes substantially aslant to the flow direction the carrier gas arranged. this makes possible a particularly intense interaction between the carrier gas and the discharge.
Durch die erfindungsgemäß vorgesehene besondere Anordnung der Elektroden zueinander kann eine besonders lang ausgebildete und schräg zu der Strömungsrichtung des Trägergases verlaufende kürzeste Verbindungslinie erreicht werden. Je länger die kürzeste Verbindungslinie gewählt ist, umso mehr Volumenanteile des Trägergases können mit dem Plasma wechselwirken. Zu beachten ist dabei allerdings auch, dass sich zu lang gewählte kürzeste Verbindungslinien zwischen den beiden Elektroden nachteilig auf die Plasmaerzeugung auswirken. Es gibt eine optimale Länge der kürzesten Verbindungslinie.By the invention provided special Arrangement of the electrodes to each other can be a particularly long-trained and obliquely too the flow direction the carrier gas running shortest Connecting line can be achieved. The longer the shortest connecting line is chosen, the better more volume fractions of the carrier gas can with interact with the plasma. It should be noted, however, that too long chosen shortest Connecting lines between the two electrodes disadvantageous affect the plasma generation. There is an optimal length of the shortest Connecting line.
Die erfindungsgemäße Elektrodengeometrie unterscheidet sich von einer Elektrodengeometrie, die lediglich radial voneinander beabstandete Elektroden vorsieht, durch eine Schrägstellung der kürzesten Verbindungslinie relativ zu der Strömungsrichtung des Trägergases, was die Wechselwirkung zwischen Plasma und Trägergas verbessert. Die erfindungsgemäße Elektrodengeometrie unterscheidet sich von einer Elektrodenanordnung, die lediglich eine axiale Beabstandung von Elektroden vornimmt, durch eine wesentliche Komponente der kürzesten Verbindungslinie und eines im Wesentlichen entlang der kürzesten Verbindungslinie ausgerichteten Hauptentladungskanales im Wesentlichen quer zur Strömungsrichtung des Trägergases.The differs according to the invention electrode geometry itself from an electrode geometry, only radially from each other spaced electrodes provides, by an inclination the shortest Connecting line relative to the flow direction of the carrier gas, which improves the interaction between plasma and carrier gas. The electrode geometry according to the invention differs from an electrode arrangement which only has one axial spacing of electrodes, by a substantial Component of the shortest connecting line and a substantially aligned along the shortest connecting line Main discharge channel substantially transverse to the flow direction the carrier gas.
Da sich erfindungsgemäß Hauptentladungskanäle entlang einer Richtung schräg zur Strömungsrichtung des Trägergases bilden, kann ein großer Volumenanteil des Trägergases mit dem Plasma wechselwirken, so dass eine effiziente Betriebsweise möglich wird.There according to the invention along main discharge channels a direction at an angle to the flow direction the carrier gas can form a big one Volume fraction of the carrier gas interact with the plasma, allowing efficient operation possible becomes.
Angemerkt sei, dass im Sinne der Erfindung eine axiale Beabstandung der beiden Elektroden voneinander eine Beabstandung entlang der Strömungsrichtung des Trägergases bedeutet. Eine radiale Beabstandung der beiden Elektroden voneinander bedeutet im Sinne der vorliegenden Patentanmeldung eine Beabstandung der beiden Elektroden voneinander quer zur Strömungsrichtung des Trägergases.noted be that in the context of the invention, an axial spacing of the two Electrodes from one another a spacing along the flow direction the carrier gas means. A radial spacing of the two electrodes from each other means a spacing in the sense of the present patent application the two electrodes from each other transversely to the flow direction of the carrier gas.
Die erfindungsgemäße Ausbildung der Hauptentladungskanäle bewirkt durch gesteigerte Wechselwirkung mit dem Trägergas eine wesentliche Steigerung der Effizienz der Vorrichtung. Die elektromagnetische Energie wird in ein wesentlich größeres Volumen an Trägergas eingekoppelt, wodurch ein höherer Anteil an Helium-Atomen in einen metastabil angeregten Zustand versetzt wird. Die so gespeicherte Energie erleichtert die Ionisationsprozesse und andere Plasmaprozesse im Plasma-Jet, wodurch sowohl die Länge als auch die Intensität des Plasma-Jets im Sinne der Elektronenkonzentration und im Sinne seiner chemischen Reaktivität erhöht wird.The inventive training the main discharge channels caused by increased interaction with the carrier gas a substantial increase in the efficiency of the device. The electromagnetic Energy is injected into a much larger volume of carrier gas, which makes a higher Share of helium atoms in a metastable excited state added becomes. The stored energy facilitates the ionization processes and other plasma processes in the plasma jet, whereby both the length and also the intensity of the plasma jet in the sense of the electron concentration and in the sense its chemical reactivity is increased.
Die Konsequenz aus dieser Effizienzsteigerung ist, dass man wesentlich weniger Leistung und weniger Heliumfluss benötigt, um eine bestimmte Prozesswirkung zu erzielen. Dementsprechend verbessert sich die Wirtschaftlichkeit des Betriebes einer erfindungsgemäßen Vorrichtung. Gleichzeitig kann die Vorrichtung in Form einer wesentlich leichteren, einfacher skalierbaren und damit weniger aufwändigen Konstruktion realisiert werden.The The consequence of this increase in efficiency is that you are essential less power and less helium flow needed to get a specific process effect to achieve. Accordingly, the profitability improves the operation of a device according to the invention. simultaneously The device in the form of a much lighter, easier scalable and thus less expensive construction realized become.
Die Gasführung in der erfindungsgemäßen Vorrichtung, insbesondere innerhalb des Behältnisses, ermöglicht die Aufrechterhaltung einer laminaren Strömung, wodurch gemäß den durchgeführten Experimenten der Plasma-Jet länger und die Behandlungsfläche eines Plasma-Jets größer wird.The gas guide in the device according to the invention, especially within the container, allows the maintenance of a laminar flow, whereby according to the experiments carried out the plasma jet longer and the treatment area of a plasma jet gets bigger.
Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist es auch möglich, zusätzlich zu dem Trägergas ein Prozessgas zuzuleiten. Beispielsweise kann dafür ein gesondertes Behältnis nach Art eines Innenrohres vorgesehen sein, welches konzentrisch zu dem äußeren Behältnis angeordnet ist. Der Ringraum zwischen dem inneren Rohr und dem Behältnis wird durch Trägergas durchflossen, wobei das Innenrohr von Prozessgas durchflossen ist. Es kommt im Bereich eines Auslasses der Vorrichtung für den Plasma-Jet zu einer Bildung eines Kernbereiches aus Prozessgas und eines Mantelbereiches, der durch den Plasma-Jet gebildet wird. Das Prozessgas wird innerhalb des Plasmamantels und durch den Plasmamantel bis an das Substrat herangeführt. Da das Trägergas eine wesentlich höhere Konzentration an metastabil angeregten Spezies als das Prozessgas aufweist, lässt sich im Trägergas bei gleicher eingekoppelter Leistung ein wesentlich höherer Ionisierungsgrad als im Prozessgas erreichen. Deshalb lassen sich in einem aus Trägergas bestehenden Mantelbereich höhere Elektronenkonzentration und demzufolge eine höhere elektrische Leitfähigkeit erzielen. Die elektromagnetische Leistung kann entlang eines solchen Plasma-Jets auf größere Entfernungen und über größere Substratflächen transportiert werden. Die Prozesstiefe, also die Bearbeitungstiefe, und die Prozesshomogenität werden dadurch wesentlich verbessert.With the device according to the invention it is also possible additionally to the carrier gas to feed a process gas. For example, a separate container be provided in the manner of an inner tube, which concentric arranged to the outer container is. The annulus between the inner tube and the container is through carrier gas flowed through, wherein the inner tube is traversed by process gas. It comes in the area of an outlet of the device for the plasma jet to form a core region of process gas and a cladding region, which is formed by the plasma jet. The process gas is within of the plasma coat and through the plasma coat to the substrate introduced. As the carrier gas a much higher one Has concentration of metastable excited species as the process gas, let yourself in the carrier gas at the same coupled power a much higher degree of ionization than in the process gas. Therefore, can be in a consisting of carrier gas Sheath area higher Electron concentration and consequently a higher electrical conductivity achieve. The electromagnetic power can travel along such Plasma jets at greater distances and over transported larger substrate surfaces become. The process depth, ie the processing depth, and the process homogeneity become significantly improved.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung arbeitet beispielsweise in einem Frequenzbereich von ca. 1 kHz bis zu wenigen zehn kHz, der ausreicht, um im Betriebsmodus der Atmosphärendruck-Glimmentladung zu arbeiten und der die kapazitive Leistungseinkopplung durch die dielektrischer Barriere ermöglicht. Im Prinzip sind, je nach geometrischer Ausführung und Betriebsbedingungen, auch höhere Frequenzen bis in den MHz-Bereich anwendbar. Jedoch kann beim Betrieb im niedrigen kHz Bereich auf eine teuere Abstimmeinheit verzichtet werden. Auch die dielektrischen Verluste sind im Vergleich zu Hochfrequenz oder Mikrowellen wesentlich kleiner.The inventive device works for example in a frequency range of about 1 kHz to to a few tens of kHz sufficient to operate in the atmospheric pressure glow discharge mode to work and the capacitive power input through the dielectric barrier allows. In principle, depending on the geometric design and operating conditions, also higher Frequencies up to the MHz range applicable. However, during operation dispensed in the low kHz range on a costly tuning unit become. Also, the dielectric losses are compared to high frequency or microwaves much smaller.
Alle diese technischen Vorteile führen zu einer wesentlichen Steigerung der Wirtschaftlichkeit der Vorrichtung im Vergleich mit den zum Stand der Technik gehörenden Vorrichtungen dieser Art.All lead to these technical advantages to a substantial increase in the efficiency of the device in comparison with the prior art devices of these Art.
Der wirtschaftliche Nutzen der erfindungsgemäßen Vorrichtung besteht daran, dass sie ganz neue technologische Möglichkeiten bietet, um auch in dreidimensionale Substrate zu behandeln. Als dreidimensionale Substrate werden solche Substrate bezeichnet, die eine besondere Oberflächentopografie aufweisen, die beispielsweise Wellentäler und Wellenberge aufweist oder eine sonstige Strukturierung. Dank einer hohen Produktion von metastabil angeregten Atomen bzw. Molekülen und deren direkter Zuführung zu der Substratoberfläche ist es möglich die bereits bekannten Prozesse, wie Oberflächenmodifikation, Reinigung, Entfettung mit höheren Prozessraten und besserer Homogenität durchzuführen. Darüber hinaus ist es möglich, die Abscheidungsprozesse analog zu Niederdruck PECVD Prozessen durchzuführen, da es erfindungsgemäß möglich ist, die Substratoberfläche oder sogar deren innere Struktur der Wirkung von metastabil angeregten Spezies auszusetzen. Dies kann durch zusätzliche Zufuhr von Monomeren in Form von Gas, Dampf oder Flüssigkeit an die Substratoberfläche oder in die Substratstruktur realisiert werden.Of the economic benefit of the device according to the invention is that it offers completely new technological possibilities, even in to treat three-dimensional substrates. As three-dimensional substrates Such substrates are called, which have a special surface topography have, for example, wave troughs and peaks or any other structuring. Thanks to a high production of metastable excited atoms or molecules and their direct supply to the substrate surface Is it possible the already known processes, such as surface modification, cleaning, Degreasing with higher process rates and better homogeneity perform. About that It is also possible the deposition processes analogous to low pressure PECVD processes perform since it is possible according to the invention the substrate surface or even their internal structure of action of metastable excited species suspend. This can be done by additional feed of monomers in the form of gas, vapor or liquid to the substrate surface or be realized in the substrate structure.
Ein neuer Kreis von interessanten Anwendungen, die bisher weitgehend unerforscht geblieben sind, ist die Beeinflussung von biologischem Material bzw. von organischem Gewebe durch die Einwirkung von metastabil angeregten Spezies. Die Beeinflussung der Substrateigenschaften im Nanometerbereich ist auch denkbar.One new circle of interesting applications, so far largely has remained unexplored, is the bias of biological Material or organic tissue by the action of metastable excited species. The influence on the substrate properties in the nanometer range is also conceivable.
Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist das Behältnis von einem zylindrischen, insbesondere kreiszylindrischen, Rohr gebildet. Dies ermöglicht die Erzeugung einer laminaren Strömung des Trägergases. Außerdem ermöglicht ein derartiges Behältnis die konzentrische Anordnung eines inneren Behältnisses, innerhalb dem ein Prozessgas zusätzlich geführt werden kann. Schließlich kann die Anordnung der Elektroden an dem Behältnis auf einfache Weise vorgenommen werden, vorteilhafterweise derart, dass eine Elektrode außerhalb des Behältnisses, bzw. an dessen Außenmantelfläche, und die andere Elektrode im Innenraum des Behältnisses angeordnet ist. Auf diese Weise lässt sich eine besonders einfache radial und axial beabstandete Anordnung der Elektroden erreichen.According to an advantageous embodiment of the invention, the container is formed by a cylindrical, in particular circular cylindrical, tube. This allows the generation of a laminar flow of the carrier gas. In addition, such a container allows the concentric arrangement of an inner container, within which a process gas additionally can be led. Finally, the arrangement of the electrodes can be made to the container in a simple manner, advantageously such that one electrode outside the container, or on the outer circumferential surface, and the other electrode is arranged in the interior of the container. In this way, a particularly simple radially and axially spaced arrangement of the electrodes can be achieved.
Als zylindrisches Rohr im Sinne der vorliegenden Patentanmeldung wird jedes axial langgestreckte Behältnis angesehen, welches einen über seine Axialerstreckung im Wesentlichen konstanten Querschnitt aufweist. Der Querschnitt kann rechteckig, insbesondere quadratisch, aber gleichermaßen auch elliptisch ausgebildet sein. Vorzugsweise ist das Behältnis ein kreiszylindrisches Rohr. Denkbar sind auch beliebige andere Querschnitte, z.B. Polygon-Züge, oder Rohrquerschnitte, die gerade Abschnitte und gekrümmte Abschnitte aufweisen.When Cylindrical tube in the sense of the present patent application is each axially elongated container viewed one over his Axially extending substantially constant cross-section. The cross section may be rectangular, in particular square, but equally too be elliptical. Preferably, the container is a circular cylindrical tube. Also conceivable are any other cross sections, e.g. Polygon features, or pipe sections, the straight sections and curved sections exhibit.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung besteht das Rohr aus einem dielektrischen Material, insbesondere aus einer oxidischen oder nitridischen Keramik oder aus Glas. Dies ermöglicht eine besonders einfache Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Vorrichtung derart, dass ein Wandungsbereich des Rohres unmittelbar die dielektrische Barriere bereitstellt.According to one Another advantageous embodiment of the invention is the tube of a dielectric material, in particular of an oxidic or nitridic ceramic or glass. This allows a particularly simple embodiment of the device according to the invention such that a wall region of the tube directly the dielectric Barrier provides.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist innerhalb des Behältnisses ein zweites (inneres) Behältnis für ein Prozessgas angeordnet. Dies ermöglicht eine konzentrische Anordnung des inneren Behältnisses und des (äußeren) Behältnisses, so dass der aus dem (äußeren) Behältnis austretende Plasma-Jet mantelartig einen inneren Kernbereich an Prozessgas umhüllen und so bis zur Substratoberfläche führen kann.According to one further advantageous embodiment of the invention is within of the container second (inner) container arranged for a process gas. this makes possible a concentric arrangement of the inner container and the (outer) container, so that the emerging from the (outer) container Plasma jet coat a inner core area of process gas enveloping and so to the substrate surface to lead can.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist das Verhältnis des Querschnittes des von Trägergas durchflossenen Bereiches des Behältnisses zu dem Querschnitt des inneren Behältnisses gleich dem Verhältnis des Flusses an Trägergas zu dem Fluss an Prozessgas. Dies ermöglicht eine besonders effiziente Betriebsweise der erfindungsgemäßen Vorrichtung.According to one Another advantageous embodiment of the invention, the ratio of Cross-section of the carrier gas through-flow area of the container to the cross section of the inner container equal to the ratio of Flow of carrier gas to the flow of process gas. This allows a particularly efficient Operation of the device according to the invention.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die Strömungsrichtung des Prozessgases im Wesentlichen parallel zu der Strömungsrichtung des Trägergases. Dies ermöglicht auf besonders einfache Weise die Erzielung laminarer Strömungen.According to one Another advantageous embodiment of the invention is the flow direction the process gas substantially parallel to the flow direction the carrier gas. this makes possible in a particularly simple way, the achievement of laminar flows.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung besteht das innere Behältnis aus einem dielektrischen Material, insbesondere aus einer oxidischen oder nitridischen Keramik oder aus Glas. Diese Ausgestaltung der Erfindung ermöglicht eine besonders einfache Konstruktion der Vorrichtung und eine einfache Anordnung der radial inneren Elektrode an dem inneren Behältnis.According to one further advantageous embodiment of the invention, the inner Container out a dielectric material, in particular of an oxidic or nitridic ceramic or glass. This embodiment of Invention allows a particularly simple construction of the device and a simple Arrangement of the radially inner electrode on the inner container.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist wenigstens eine Elektrode im Wesentlichen ringförmig oder hülsenartig ausgebildet. Dies ermöglicht eine besonders einfache Ausbildung der Elektroden. Des Weiteren wird mit dieser Ausgestaltung der Erfindung aber auch eine zumindest teilweise Rotationssymmetrie der Vorrichtung möglich, die für eine besonders effiziente Wechselwirkung des Plasmas mit dem Trägergas sorgen kann, da eine Vielzahl möglicher Entladungskanäle ausbildbar ist.According to one Another advantageous embodiment of the invention is at least an electrode is formed substantially annular or sleeve-like. This allows a particularly simple design of the electrodes. Furthermore but with this embodiment of the invention but also at least one partially rotational symmetry of the device possible for a particular efficient interaction of the plasma with the carrier gas can provide, as a Variety of possible Discharge channels can be formed is.
Bei
einer einfachen Ausgestaltung der Erfindung sind beide Elektroden
im Wesentlichen ringförmig
oder hülsenartig
ausgebildet. Die beiden Elektroden sind axial voneinander beabstandet
und weisen unterschiedliche Durchmesser auf, so dass eine innere
und eine äußere Elektrode
entsteht, es mithin zu einer radialen Beabstandung der Elektroden
voneinander kommt. Bei dieser Anordnung ist eine unendliche Vielzahl
kürzester
Verbindungslinien zwischen den beiden Elektroden denkbar. Die beiden
Elektroden weisen nämlich
einander zugewandte Wirkkanten auf, die von kreisförmigen Randkanten
der beiden Elektroden sind. Kürzeste
Verbindungslinien zwischen den beiden Elektroden sind in diesem
Falle solche, die zu den beiden Wirkkanten senkrecht stehen. Als
Wirkkante einer Elektrode wird diejenige äußerste Begrenzungskante bezeichnet,
die der anderen Elektrode am nächsten
ist. Handelt es sich beispielsweise, wie in den
Im
Falle zweier ringförmiger
oder hülsenartiger
Elektroden, wie dies schematisch beispielsweise in
Es handelt sich bei den Wirkkanten der Elektroden also um die einander unmittelbar benachbarten äußersten Ränder oder Randbereiche der Elektroden.It Thus, the effective edges of the electrodes are the one another immediately adjacent extreme margins or edge regions of the electrodes.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weist wenigstens eine Elektrode eine der anderen Elektrode zugewandte Wirkkante auf, die von einer Kreisform abweicht. Beispielsweise können hierzu Vorsprünge an den Wirkkanten vorgesehen werden, die die kürzeste Verbindungslinie zwischen den Elektroden verkürzen. Es kommt mithin zu einer vorbestimmten Anzahl genau definierter und geometrisch festgelegter kürzester Verbindungslinien. Entlang dieser kürzesten Verbindungslinien zwischen den beiden Elektroden bilden sich vornehmlich die Entladungskanäle aus. Durch Berechnung der Geometrie der Elektroden und durch Berechnung der räumlichen Anordnung und der Länge der kürzesten Verbindungslinie oder mehrerer kürzester Verbindungslinien zwischen den beiden Elektroden kann die Wechselwirkung zwischen dem Plasma und dem Trägergas weiter optimiert werden.According to a further advantageous embodiment of the invention, at least one electric de one of the other electrode facing active edge, which deviates from a circular shape. For example, projections for this purpose can be provided on the active edges, which shorten the shortest connecting line between the electrodes. It thus comes to a predetermined number of well-defined and geometrically defined shortest connecting lines. Along these shortest connecting lines between the two electrodes, primarily the discharge channels are formed. By calculating the geometry of the electrodes and calculating the spatial arrangement and the length of the shortest connecting line or several shortest connecting lines between the two electrodes, the interaction between the plasma and the carrier gas can be further optimized.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die kürzeste Verbindungslinie zwischen zwei Wirkkanten der beiden Elektroden gekrümmt. Als kürzeste Verbindungslinie zwischen zwei Wirkkanten der beiden Elektroden wird derjenige geometrische Vektor bezeichnet, der die beiden Elektroden auf kürzestem Wege miteinander verbindet. Eine kürzeste Verbindungslinie im Sinne der vorliegenden Patentanmeldung durchschneidet auch die dielektrische Barriere. Eine gekrümmte kürzeste Verbindungslinie im Falle einer konzentrischen Anordnung von Innenrohr und Außenrohr durchschneidet jedoch nicht das dielektrische Innenrohr, sondern schmiegt sich beispielsweise wendelförmig an das Innenrohr an. Diese Definition einer kürzesten Verbindungslinie trägt den tatsächlich entstehenden elektromagnetischen Feldern RechnungAccording to one Another advantageous embodiment of the invention is the shortest connecting line curved between two effective edges of the two electrodes. When shortest Connecting line between two active edges of the two electrodes the one geometric vector is called, the two electrodes on the shortest Connecting paths with each other. A shortest connecting line in the As used in the present application, the dielectric also cuts through Barrier. A curved one shortest connecting line in the case of a concentric arrangement of inner tube and outer tube However, does not cut through the dielectric inner tube, but nestles for example helical to the inner tube. This definition of a shortest connecting line carries the actually arising electromagnetic Fields bill
Gleichermaßen kann eine gekrümmte kürzeste Verbindungslinie zwischen zwei Wirkkanten der Elektroden auch dadurch gebildet sein, dass eine radial äußere Elektrode durch Segmentierung derart ausgebildet ist, dass eine kürzeste Verbindungslinie aus verschiedenen Abschnitten unterschiedlicher Richtungen besteht und somit insgesamt eine einer gekrümmten Verbindungslinie angenäherte Verbindungslinie bildet.Likewise a curved one shortest Connecting line between two active edges of the electrodes also characterized be formed, that a radially outer electrode is formed by segmentation such that a shortest connecting line consists of different sections of different directions and thus a total of one curved Connecting line approximated Connecting line forms.
Eine gekrümmte kürzeste Verbindungslinie ermöglicht eine weiter verbesserte Wechselwirkung zwischen dem Plasma und dem Trägergas. Beispielsweise kann die kürzeste Verbindungslinie zwischen den beiden Wirkkanten wendelförmig ausgebildet sein und sich so schraubenlinienförmig, zumindest abschnittsweise, um das innere Rohr herumwinden.A curved shortest Connection line allows a further improved interaction between the plasma and the Carrier gas. For example, the shortest Connecting line formed between the two active edges helically be and be so helical, at least in sections, to wind around the inner tube.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist wenigstens eine Elektrode segmentiert. Dies bedeutet, dass wenigstens eine Elektrode aus mindestens zwei elektrisch leitenden Elektrodenbestandteilen, beispielsweise Elektrodenflächen besteht, die voneinander getrennt sind. Lediglich an ein erstes Elektrodensegment wird dadurch eine Spannung angelegt. In dem zweiten Elektrodensegment wird eine Spannung induziert. Die kürzeste Verbindungslinie zwischen den beiden Elektroden verläuft dabei vorteilhafterweise insgesamt im Wesentlichen zwischen dem ersten Elektrodensegment und der anderen Elektrode. Tatsächlich verläuft eine erster Abschnitt einer kürzesten Verbindungslinie zwischen dem zweiten Elektrodensegment und einer inneren Elektrode und ein anderer Abschnitt der kürzesten Verbindungslinie zwischen dem zweiten Elektrodensegment und dem ersten Elektrodensegment. Die kürzeste Verbindungslinie zwischen den beiden Elektroden umfasst daher insgesamt zwei Abschnitte unterschiedlicher Richtungen bzw. weist eine den beiden Abschnitten angenäherte Grundform auf.According to one Another advantageous embodiment of the invention is at least segmented an electrode. This means that at least one electrode of at least two electrically conductive electrode components, for example electrode surfaces exists, which are separated from each other. Only a first Electrode segment is thereby applied a voltage. In the second Electrode segment is induced a voltage. The shortest connecting line between the two electrodes extends advantageously generally substantially between the first electrode segment and the other electrode. Indeed runs one first section of a shortest Connecting line between the second electrode segment and a inner electrode and another section of the shortest Connecting line between the second electrode segment and the first electrode segment. The shortest Connecting line between the two electrodes therefore includes a total two sections of different directions or has a approximated to both sections Basic form.
Eine Segmentierung einer Elektrode kann dafür verwendet werden, den Entladungskanal zu beeinflussen und ihm beispielsweise eine vorher bestimmte und vorausberechnete Raumform zu geben. Auf diese Weise kann die Wechselwirkung zwischen Plasma und Trägergas weiter optimiert werden.A Segmentation of an electrode can be used for the discharge channel to influence him and for example a previously determined and to give precalculated spatial form. In this way, the interaction can be between plasma and carrier gas be further optimized.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die erste Elektrode stromaufwärts und die zweite Elektrode stromabwärts, bezogen auf die Strömungsrichtung des Trägergases angeordnet. Insbesondere kann dabei die erste Elektrode an einer Außenmantelfläche des inneren Behältnisses angeordnet sein und mit ihrer elektrisch leitenden, insbesondere metallischen Außenmantelfläche dem Trägergas zugewandt sein. Diese Ausgestaltung der Erfindung ermöglicht eine besonders einfache Kontaktierung der ersten Elektrode zur Verbindung mit einem Spannungsgenerator. Außerdem kann das Trägergas an der metallischen Außenmantelfläche der ersten Elektrode vorbeiströmen, bevor es dem Plasma zugeführt wird. Die Elektrodengeometrie kann daher mit vergleichsweise geringem konstruktiven Aufwand erreicht werden.According to one Another advantageous embodiment of the invention is the first Electrode upstream and the second electrode downstream, with respect to the flow direction arranged the carrier gas. In particular, in this case, the first electrode on an outer circumferential surface of the inner container be arranged and with their electrically conductive, in particular metallic outer surface of the carrier gas to be facing. This embodiment of the invention allows a particularly simple contacting of the first electrode to the connection with a voltage generator. In addition, the carrier gas can the metallic outer surface of the flow past the first electrode, before it is fed to the plasma becomes. The electrode geometry can therefore with comparatively low constructive Effort can be achieved.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die Vorrichtung mit wenigstens einer weiteren Vorrichtung zu einer Reihenanordnung zusammengefasst. Dies ermöglicht eine Vorrichtung, die eine Vielzahl von Plasma-Jets zur Bearbeitung eines Substrates erzeugen kann. Vorteilhafterweise erstreckt sich eine Vielzahl von Vorrichtungen, beispielsweise fünf bis zehn Vorrichtungen, entlang einer Reihe. Mehrere Reihen können auch zu einer rasterartigen Anordnung, einem sogenannten „array" aus Vorrichtungen zusammengesetzt sein.According to one Another advantageous embodiment of the invention is the device with at least one further device to a series arrangement summarized. this makes possible a device that processes a variety of plasma jets of a substrate. Advantageously, extends a variety of devices, for example five to ten Devices, along a row. Several rows can also to a grid-like arrangement, a so-called "array" of devices be composed.
Besonders vorteilhaft ist, wenn mehrere Vorrichtungen eine gemeinsame Trägergaszuführung und/oder eine gemeinsame Prozessgaszuführung aufweisen. Der Konstruktionsaufwand für eine derartige Vorrichtung kann auf diese Weise gering gehalten werden.It is particularly advantageous if a plurality of devices have a common carrier gas supply and / or a common process gas supply. The design effort for a derar term device can be kept low in this way.
Weitere Vorteile der Erfindung ergeben sich anhand der nicht zitierten Unteransprüche sowie aus der nun folgenden Beschreibung der in den Figuren dargestellten Ausführungsbeispiele. Darin zeigen:Further Advantages of the invention will become apparent from the non-cited subclaims and from the following description of the illustrated in the figures Embodiments. Show:
Das
erfindungsgemäße Prinzip
soll zunächst anhand
des dritten Ausführungsbeispiels
gemäß den
Die
Vorrichtung
An
der unteren Seitenwand
Eine
zweite, im Wesentlichen plattenförmige Elektrode
Im
Folgenden wird der Übersichtlichkeit
halber die erste Elektrode
Die
stromaufwärtige
Elektrode
Die
kürzeste
Verbindungslinie zwischen den beiden Elektroden
Wird
zwischen den beiden Elektroden
Durch
Wechselwirkung des Entladungshauptkanales mit dem Trägergas bildet
sich ein Plasma
Dadurch,
dass der Hauptentladungskanal
Anhand
der
Die
erste Elektrode
Die
zweite, stromabwärtige
Elektrode
Die
erste Elektrode
Des
Weiteren muss hinsichtlich der
Bei
dem Ausführungsbeispiel
der
Durch
Wechselwirkung des Trägergases
mit den Hauptentladungskanälen
Das
Prozessgas gelangt durch einen Prozessgas-Auslass
Der
außen
liegende Mantelbereich
Das
Innenrohr
Bei
einem nicht dargestellten Ausführungsbeispiel
kann zwischen der ersten Elektrode
Die
erste Elektrode
Die
zweite Elektrode
Für gegebene
Betriebsbedingungen gibt es einen Abstand L, bei dem die Länge I des
Plasma-Jets
Die
effizienteste Methode der Leistungsversorgung ist ein Resonanzschaltkreis.
In solchem Fall hat das Spannungssignal die Form einer Sinus-Funktion.
Aber die Entladung kann prinzipiell auch mit Spannungssignalen anderer
Formen versorgt werden. Die Anwendung eines Resonanzschaltkreises als
Spannungsgenerator für
den Plasma-Jet
Die
Außenelektrode
Es
wurde auch experimentell nachgewiesen, dass sich ein wesentlich
längerer
Plasma-Jet
Bei
der erfindungsgemäßen Vorrichtung
ist es wichtig, dass die Austrittsgeschwindigkeiten des Trägergases
und des Prozessgases ähnlich
sind um Verwirbelungen zu vermeiden. Dies ist erfüllt, wenn das
Verhältnis
der Querschnittsfläche
des koaxialen Bereiches
Bedeutsam
für die
optimale Gestaltung der Struktur des Plasma-Jets
Alternativ
ist auch denkbar, dass sich der Auslass
Das
Ausführungsbeispiel
der
Die
in ihrer Gesamtheit in
Ein
erster Gasverteilungsraum
Bei
der Beobachtung eines Plasma-Jets
Bei
der erfindungsgemäßen Vorrichtung
Aus
Der
Die
Anordnung der Vorsprünge
Im
Fall von kreisförmigen
parallelen Elektrodenkanten
Bei
dem Ausführungsbeispiel
der
Die
Zahl von Vorsprüngen
Anzumerken
ist in diesem Zusammenhang, dass die Elektrodenanordnungen gemäß den
Bei
dem Ausführungsbeispiel
der
Der
Gesamtentladungskanal
Die
Elektrodensegmente
Durch
Anlegen einer Spannung an das Elektrodensegment
Die
Wirkkante
Die
Kanalteilstrecken
Bei
einem weiteren Ausführungsbeispiel
gemäß
Mit
Es
ist darauf hinzuweisen, dass die Ausführungsbeispiele der
Die
im wesentlichen rotationssymmetrische Ausbildung der Rohre
Der
Abstand L zwischen den beiden Elektroden
Vorteilhafterweise
ist die Innenelektrode
Hervorzuheben
ist, dass bei sämtlichen
Ausführungsbeispielen
der erfindungsgemäßen Vorrichtung
Claims (43)
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004029081A DE102004029081A1 (en) | 2004-06-16 | 2004-06-16 | Device for processing a substrate by means of at least one plasma jet |
PCT/DE2005/001015 WO2005125286A2 (en) | 2004-06-16 | 2005-06-08 | Device for the treatment of a substrate by means of at least one plasma jet |
EP05753782A EP1767068B1 (en) | 2004-06-16 | 2005-06-08 | Device for the treatment of a substrate by means of at least one plasma jet |
DE502005007992T DE502005007992D1 (en) | 2004-06-16 | 2005-06-08 | DEVICE FOR MACHINING A SUBSTRATE BY AT LEAST ONE PLASMA JET |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004029081A DE102004029081A1 (en) | 2004-06-16 | 2004-06-16 | Device for processing a substrate by means of at least one plasma jet |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102004029081A1 true DE102004029081A1 (en) | 2006-01-05 |
Family
ID=34970573
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102004029081A Withdrawn DE102004029081A1 (en) | 2004-06-16 | 2004-06-16 | Device for processing a substrate by means of at least one plasma jet |
DE502005007992T Active DE502005007992D1 (en) | 2004-06-16 | 2005-06-08 | DEVICE FOR MACHINING A SUBSTRATE BY AT LEAST ONE PLASMA JET |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE502005007992T Active DE502005007992D1 (en) | 2004-06-16 | 2005-06-08 | DEVICE FOR MACHINING A SUBSTRATE BY AT LEAST ONE PLASMA JET |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1767068B1 (en) |
DE (2) | DE102004029081A1 (en) |
WO (1) | WO2005125286A2 (en) |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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