DE102004007702B4

DE102004007702B4 - Schleifbahnvorrichtung und Bürstenvorrichtung mit Oberflächenbeschichtung

Info

Publication number: DE102004007702B4
Application number: DE102004007702A
Authority: DE
Inventors: Harry Schilling
Original assignee: Schleifring und Apparatebau GmbH
Current assignee: Schleifring und Apparatebau GmbH
Priority date: 2004-02-16
Filing date: 2004-02-16
Publication date: 2006-04-20
Anticipated expiration: 2024-02-17
Also published as: EP1723703A1; US20070032099A1; DE102004007702A1; WO2005078872A1; US7377786B2

Abstract

Schleifbahnvorrichtung zum Einsatz in einer Schleifkontaktvorrichtung mit einer oder mehreren Schleifbahnen (3a, 3b, 3c), welche durch Bahnisolatoren (2a, 2b, 2c) an einem Träger (4) isoliert befestigt oder im Falle eines Trägers (4) aus isolierendem Material direkt an dem Träger (4) befestigt sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Bahnisolatoren (2a, 2b, 2c) und/oder der Träger (4) auf den Oberflächen zumindest teilweise mit einer Oberflächenstruktur versehen sind, welche eine Doppelstruktur mit einer groben Struktur zwischen 1 μm und 100 μm und einer darüberliegenden Feinstruktur von 10 nm – 5 μm aufweist.

Description

Technisches Gebiet
Die Erfindung betrifft eine Schleifbahnvorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 bzw. eine Bürstenvorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 2, welche zur kontaktierenden Übertragung elektrischer Signale bzw. Energie zwischen beweglichen Teilen eingesetzt werden.
Stand der Technik
Bei Schleifringen oder auch Schleifleitungen, welche nachfolgend unter dem Oberbegriff Schleifkontaktvorrichtung zusammengefasst werden, ist die Sicherstellung bzw. Aufrechterhaltung der elektrischen Isolation im Betrieb für die korrekte Funktion zwingend notwendig. Bei Schleifkontaktvorrichtungen besteht häufig das Problem einer Verschmutzung, welche die Isolation beeinträchtigt. Schleifkontaktvorrichtungen sind häufig so groß, dass sie nicht vollständig gekapselt werden können. So wird es kaum möglich sein eine viele Meter lange Schleifleitung vollständig dicht zu umschließen. Dies ist ebenso bei Schleifringen, welche oft in Durchmessern von über einem Meter hergestellt werden, nur noch mit großem Aufwand möglich. Daher muss mit dem Eindringen von Staub und Schmutz in die Schleifkontaktvorrichtung gerechnet werden. Ein weitaus größeres Problem stellt aber meist die in der Schleifkontaktvorrichtung selbst erzeugte Verschmutzung dar. So werden die Kontaktbürsten häufig aus leitfähigen Materialzusammensetzungen unter Verwendung von Graphit und Metallen wie beispielsweise Silber hergestellt. Im Betrieb, wenn diese Kontaktbürsten über die Schleifbahnen schleifen, werden diese kontinuierlich geringfügig abgerieben. Der Abrieb wird als feinster Staub an die Umgebung abgegeben. Dieser Staub besitzt ebenso wie die Kontaktbürsten eine relativ hohe Leitfähigkeit und führt oft nach kurzer Betriebsdauer zu Störungen der Isolation.

So müssen bei einer Konstruktion von Schleifkontaktvorrichtungen die in den entsprechenden Sicherheitsvorschriften vorgegebenen Isolationsabstände zwischen den Schleifbahnen und zwischen den Kontaktbürsten eingehalten werden. Tatsächlich werden aber wesentlich größere Isolationsabstände, insbesondere Kriechstrecken vorgesehen, um auch noch bei einer vorgegebenen Verschmutzung die Isolation aufrecht zu erhalten. Die Anforderung an die Kriechstrecken führt dann zu besonders aufwändigen Konstruktionen, wie sie beispielsweise in der US 5745976 A offenbart sind. Nachteilig an solchen großen Abständen bzw. Barrieren zwischen den Schleifbahnen ist der hohe Platzbedarf und die hohen Herstellungskosten. Gleichzeitig sind meist kurze Wartungsintervalle notwendig, in denen die Isolation wieder gereinigt werden muss. Solche Reinigungsverfahren sind relativ aufwändig und zeitintensiv, da der Abrieb meist sehr stark an den Oberflächen haftet.

Um zumindest das Eindringen von Stäuben durch Spalte in geschlossene Gehäuse zu erschweren, wird in der DE 10011999 C1 vorgeschlagen, eine Staubfalle bzw. Staubbarriere einzusetzen. Diese weist auf der Oberfläche eine speziell gestaltete Mikrostruktur auf, auf welcher der Staub besonders gut haftet. Damit kann eine Wande unterbunden werden. Für den Einsatz in Schleifringen bzw. Schleifleitungen ist eine solche Staubbarriere nicht geeignet, da der Staub durch den Bürstenabrieb bereits im Inneren der Vorrichtung selbst entsteht und nicht erst in diese von außen hinein wandert. Eine solche Oberfläche, an der sich Staub bevorzugt ablagert, würde sogar zu einer schnelleren Anlagerung von Bürstenabrieb und damit zu einer noch schnelleren Beeinträchtigung der Isolation führen.

In der DE 10118351 A1 , deren Inhalt auch als Inhalt dieses Dokuments zu betrachten sei, werden sogenannte selbstreinigende Oberflächen offenbart, wobei der Selbstreinigungseffekt ähnlich dem bekannten Lotus-Effekt darauf basiert, dass Wassertropfen von der Oberfläche abperlen und den auf der Oberfläche liegenden Schmutz mitnehmen. Eine solche Selbstreinigung funktioniert nur bei Oberflächen, welche regelmäßig mit Wasser in Kontakt kommen. Dies ist beispielsweise bei Oberflächen der Fall, welche der Witterung ausgesetzt sind und so regelmäßig mit Regenwasser in Kontakt kommen. Ebenso wäre eine Selbstreinigung möglich bei Oberflächen, die mit Wasser abgewaschen werden können. Damit der beschriebene Selbstreinigungseffekt funktioniert, genügt es nicht, dass die Oberflächen mit einem feuchten Tuch abgewischt werden. Vielmehr müssen sich Tropfen auf der Oberfläche ausbilden können. Eine mechanische Reinigung, wie beispielsweise mit einem feuchten Tuch kann der Beschädigung der Oberfläche sowie zu einem Einpressen der Schmutzpartikeln in die Oberfläche führen, so dass diese dann durch den Selbstreinigungseffekt nicht mehr gereinigt werden kann. Gerade in elektrischen bzw. e lektronischen Geräten und Anlagen, in denen Schleifkontaktvorrichtungen eingesetzt werden, scheidet eine Reinigung unter fließendem Wasser von vorneherein aus.

Auch eine nur feuchte Reinigung, welche ohnehin nicht zu dem Selbstreinigungseffekt führen würde, kann in vielen Fällen aufgrund korrosionsempfindlicher Oberflächen nicht durchgeführt werden.

In der DE 10219958 A1 als nächstliegender Stand der Technik ist in allgemeiner Form eine elektrische Schleifkontaktanordnung offenbart. Zwischen den Schleifbahnen sind Schirmflächen aus elektrisch leitfähigem Material vorgesehen.

Die DE 2539091 A1 offenbart eine Schleifkontaktanordnung, bei der die Schleifbahnen auf elektrisch isolierendem Material befestigt sind.

In der WO 03/072849 A1 ist eine selbstreinigende Substratoberfläche offenbart, die als Doppelstruktur aufgebaut ist und obenliegend eine Feinstruktur von 1-250 nm besitzt.

Darstellung der Erfindung

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Schleifbahnvorrichtung bzw. eine Bürstenvorrichtung derart weiterzubilden, dass die Zuverlässigkeit der Isolation erhöht und die Wartungsintervalle verlängert werden können. Weiterhin sollen Schleifbahn- bzw. Bürstenvorrichtungen mit kleinerem Platzbedarf und zu niedrigeren Herstellungskosten realisiert werden können.

Eine erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe ist in den unabhängigen Patentansprüchen angegeben. Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.

Die Erfindung umfasst Komponenten einer Schleifkontaktvorrichtung mit einem ersten Teil 1 umfassend wenigstens eine Schleifbahn 3a, 3b, 3c sowie einen zweiten Teil 2 umfassend wenigstens eine Kontaktbürste 13a, 13b, 13c. wenigstens eine oder auch mehrere Schleifbahnen 3a, 3b, 3c sind durch die Bahnisolation 2a, 2b, 2c isoliert auf einem Träger 4 befestigt. Ein solcher Träger kann wahlweise aus Metall oder auch aus isolierenden Materialien, wie beispielsweise Kunststoff bestehen. Er muss nicht ein selbstständiger Schleifring-Träger sein, vielmehr kann er auch Bestandteil einer Maschine oder eines Lagers wie z. B. ein Lagerring sein. Wesentlich für die Erfindung ist, dass wenigstens eine Schleifbahn mittels wenigstens eines Bahnisolators 2a, 2b, 2c isoliert gegenüber dem Träger ist. Eine solche Bahnisolation kann im Falle eines leitfähigen Trägers, wie beispielsweise aus einem Metall, durch die Aufnahme- bzw. Haltevorrichtungen erfolgen. Ebenso kann die Bahnisolation durch dünne Schichten, wie beispielsweise Folien, Lacke, keramische Schichten oder Oxidschichten ausgebildet sein. Es sind auch Konstruktionen bekannt, bei denen die Bahnisolation durch den Träger aus Kunststoff selbst erfolgt.

Weiterhin sind wenigstens eine oder mehrere Kontaktbürsten 13a, 13b, 13c durch Bürstenisolatoren 12a, 12b, 12c, 12d isoliert auf einem Bürstenträger 14 befestigt.

Auch hier können die Bürstenisolatoren entsprechend wie die zuvor beschriebenen Bahnisolatoren bzw. die Bahnisolation ausgeführt sein. Wesentlich ist ebenfalls, dass wenigstens eine Kontaktbürste isoliert befestigt ist. Der Begriff der Kontaktbürste umfasst alle zur Kontaktierung der Schleifbahnen verwendeten Gegenstände. Dies können beispielsweise die üblicherweise eingesetzten Silber-Graphit-Bürsten, Kupfer-Bürsten, Silberbandbürsten, oder auch Goldfederdraht-Bürsten sein.

Um nun eine Ablagerung von Bürstenabrieb und anderen Verschmutzungen an die Bahnisolatoren bzw. die Isolation von Schleifbahnen oder Bürstenisolatoren bzw. die Isolation von Kontaktbürsten zu verringern bzw. zu verhindern, wird erfindungsgemäß zumindest ein Bahnisolator bzw. ein Bürstenisolator auf wenigstens einer Oberfläche zumindest teilweise mit einer speziellen Beschichtung versehen. Diese Beschichtung weist eine Doppelstruktur mit einer groben Struktur (Mikrostruktur) zwischen 1 μm und 100 μm, bevorzugt zwischen 10 μm und 50 μm, und einer darüberliegenden Feinstruktur auf (Nanostruktur) von 10 nm bis 5 μm, bevorzugt von 20 nm bis 1 μm auf. Die Mikrostruktur wird vorzugsweise durch auf der Oberfläche fixierte Partikel gebildet, welche eine Größe von kleiner 50 μm aufweisen. Bevorzugt ist deren Größe kleiner 35 μm und ganz besonders bevorzugt kleiner 20 μm. Die Partikel weisen vorzugsweise eine zerklüftete Struktur mit Erhebungen und/oder Vertiefungen in Nanometer(nm)- Bereich auf. Diese weisen vorzugsweise eine Höhe von 20 nm bis 500 nm, und besonders bevorzugt eine höhere und 50 nm bis 200 nm auf. Der Abstand von Erhöhungen bzw. Vertiefungen, welche beispielsweise über Hohlräume, Poren, Riefen, Spitzen und/oder Zacken gebildet werden, beträgt vorzugsweise weniger als 500 nm, besonders bevorzugt weniger als 200 nm. Die beschichteten Oberflächen weisen die strukturbildenden Partikel auf der Oberfläche vorzugsweise in Abständen von 0 bis 10 Partikeldurchmessern, insbesondere in Abständen von 0 bis 3 und ganz besonders bevorzugt von ein bis zwei Partikeldurchmessern auf.

Derartige Beschichtungen wurden ursprünglich als so genannte selbstreinigende Oberflächen konzipiert, auf welchen Wassertropfen abperlen und angelagerten Schmutz mitnehmen. Bei Versuchen konnte allerdings der überraschende Effekt festgestellt werden, dass derartige Oberflächen bereits eine Anlagerung feinster Schmutzpartikel, wie diese beispielsweise durch Bürstenabrieb entstehen, größtenteils verhindern. Somit ist eine "Wäsche" der Oberfläche durch Wassertropfen, welche von dieser abperlen, ähnlich wie bei dem Lotus-Effekt nicht nötig. Dieser vorbeugende Effekt wird durch Luft- bzw. Gasströmungen weiter verbessert. Gerade bei Systemen, wie Schleifkontaktvorrichtungen, bei denen sich die Komponenten im Betrieb gegeneinander bewegen, wird eine solche Luftströmung bereits durch die Bewegung hervorgerufen. Durch eine stärkere Luftströmung, wie sie beispielsweise durch eine Zwangsbelüftung entstehen kann, wird der Effekt weiter erhöht.

Mit dieser Erfindung kann nun die Anlagerung von Bürstenabrieb vermieden oder zumindest reduziert werden. Somit ist auch die Beeinträchtigung der Isolation durch Bürstenabrieb wesentlich geringer. Dadurch können die Wartungsintervalle der Vorrichtung verlängert werden.

Die Erfindung bezieht sich allgemein auf die Ausbildung einer Oberfläche. Eine erfindungsgemäße Oberfläche kann vorzugsweise durch eine Beschichtung, oder aber auch durch eine anderweitige Gestaltung der Oberflächenstruktur, wie beispielsweise durch Ätzen erreicht werden. Nachfolgend wird aus Gründen der Übersichtlichkeit meist auf den Begriff Beschichtung alleine Bezug genommen, welche auch andere Ausbildungen der Oberflächenstruktur mit einschließen soll.

Weiterhin umfasst die Erfindung Schleifbahnvorrichtungen, wie sie in einer zuvor dargestellten Schleifkontaktvorrichtung eingesetzt werden. Diese Schleifbahnvorrichtungen umfassen ein erstes Teil 1 mit einer oder mehreren Schleifbahnen 3a, 3b, 3c, welche durch Bahnisolatoren 2a, 2b, 2c an einem Träger 4 isoliert oder im Falle eines Trägers aus isolierenden Material wahlweise direkt an dem Träger 4 befestigt sind. Die Isolation und insbesondere die Oberfläche der Kriechstrecke der Isolation ist zumindest teilweise mit einer Beschichtung zur Erzeugung der oben dargestellten Doppelstruktur versehen.

Ebenso umfasst die Erfindung Bürstenvorrichtungen, wie sie in einer zuvor dargestellten Schleifkontaktvorrichtung eingesetzt werden. Diese Bürstenvorrichtungen umfassen ein zweites Teil 2 mit einer oder mehreren Kontaktbürsten 13a, 13b, 13c, welche durch Bürstenisolatoren 12a, 12b, 12c, 12d an wenigstens einem Bürstenträ ger 14 isoliert oder im Falle eines Bürstenträger 14 aus isolierenden Material wahlweise direkt an die Bürstenträger 14 befestigt sind. Die Isolation und insbesondere die Oberfläche der Kriechstrecke der Isolation ist zumindest teilweise mit einer Beschichtung zur Erzeugung der oben dargestellten Doppelstruktur versehen.

In einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die Beschichtung um Schleifbahnen bzw. Bürstenhaltevorrichtungen vorzugsweise in einer in sich geschlossenen Fläche aufgebracht. Damit umschließt die Beschichtung Schleifbahnen bzw. Bürstenhaltevorrichtungen. Diese sitzen ähnlich einer Insel innerhalb der durch die Beschichtung abgeschlossenen Fläche.

In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die Beschichtung bzw. Oberflächenstruktur mit antistatischen Eigenschaften ausgebildet oder einem dünnen Film mit antistatischen Eigenschaften überzogen. So wird Staub häufig durch statische Aufladung der Oberfläche verstärkt angezogen. Durch eine antistatische Ausbildung der Oberfläche, beispielsweise derart, dass die Oberfläche eine zumindest geringfügige Leitfähigkeit aufweist, kann nun dieser zusätzliche Anziehungseffekt reduziert werden.

In einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung sind zwischen den Flächen, welche mit einer Beschichtung 5a, 5b, 5c bzw. 15a, 15b, 15c, 15d versehen sind, weitere Flächen 6a, 6b, 6c ohne Beschichtung vorgesehen bzw. weist die Beschichtung Unterbrechungen durch Flächen ohne Beschichtung auf. Diese Flächen sind vorzugsweise derart angeordnet, dass sie keine Verbindungswege zwischen leitenden Teilen unterschiedlicher Potenziale darstellen. Auf den beschichteten Flächen kann sich kein Bürstenabrieb festsetzen. Vielmehr wird dieser auf den beschichteten Flächen solange wandern, bis er auf eine unbeschichtete Fläche trifft, auf der er sich absetzen kann. Die unbeschichteten Bereiche am Rand der beschichteten Flächen dienen somit als Sammelflächen für den Bürstenabrieb. Damit kann der Bürstenabrieb in vordefinierten Bereichen gehalten werden, in denen er die Isolation nicht beeinträchtigt. Zudem können die Sammelflächen derart angebracht werden, dass sie für eine Reinigung leicht zugänglich sind. Werden beispielsweise schwer zugängliche Bereiche mit der Beschichtung versehen, so müssen diese zur Wartung nicht mehr gereinigt werden. Diese Flächen können auch als Sammelbehälter mit hohem Fassungsvolumen ausgebildet werden. Es kann der Bürstenabrieb in den leicht zugänglichen Flächen ohne Beschichtung beispielsweise mittels eines Staubsaugers entfernt werden.

Eine weitere Ausgestaltung der Erfindung besteht darin, dass die Unterbrechungen 6a, 6b, 6c der beschichteten Flächen zumindest eine mikrokristallin strukturierte Mikrostruktur aufweisen, deren Oberflächenstruktur Erhebungen und Vertiefungen in Bereich von 5 μm bis 100 μm mit einem Abstand zueinander in Bereich von 5 μm bis 200 μm aufweist.

Ein erfindungsgemäßer Computertomograph umfasst wenigstens eine Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche. Somit ist in den Computertomographen wenigs tens eine erfindungsgemäße Schleifkontaktvorrichtung, insbesondere ein Schleifring bzw. eine Schleifbahnen Vorrichtung und/oder Bürstenvorrichtung integriert.

In einer weiteren vorteilhafte Ausgestaltung weisen weitere Bauteile bzw. Baugruppen eines Computertomographen an ihrer Oberfläche eine künstliche mikrokristallin strukturierte Mikrostruktur auf.

Ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Verbesserung der Isolation einer Schleifkontaktvorrichtung, einer Schleifbahnanordnung oder einer Bürstenanordnung umfasst die Beschichtung isolierender Oberflächen mit einer Beschichtung, welche eine Doppelstruktur mit einer groben Struktur zwischen 1 μm und 100 μm und eine darüberliegenden Feinstruktur von 10 Nanometer bis 5 μm aufweist.

Beschreibung der Zeichnungen
Die Erfindung wird nachstehend ohne Beschränkung des allgemeinen Erfindungsgedankens anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen exemplarisch beschrieben.
1 zeigt beispielhaft eine erfindungsgemäße Vorrichtung im Schnitt.
2. zeigt beispielhaft eine andere Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung.
3 zeigt beispielhaft eine schematische Gesamtdarstellung einer Schleifkontaktvorrichtung
4 zeigt beispielhaft eine besonders einfache Anordnung eines ersten Teils.
5 zeigt beispielhaft eine besonders platzsparende Anordnung eines ersten Teils.
6 zeigt beispielhaft eine Ausführung der Erfindung, bei der die Bahnisolatoren als dünne Schichten ausgebildet sind.
1 zeigt beispielhaft eine erfindungsgemäße Vorrichtung im Schnitt. Die Schleifbahnen 3a, 3b, 3c sind auf einer Trägerplatte 4 aus isolierendem Material befestigt. In diesem Beispiel dient die Trägerplatte gleichzeitig als Aufnahme- bzw. Haltevorrichtung und Isolator zwischen den einzelnen Schleifbahnen. Eine erfindungsgemäße Beschichtung 5a, 5b, 5c ist um die Schleifbahnen auf der Trägerplatte angebracht. Diese Beschichtung weist Unterbrechungen 6a, 6b, 6c auf, in denen sich der Abrieb sammeln kann.
Weiterhin sind mehrere Kontaktbürsten 13a, 13b, 13c dargestellt, welche in Bürstenhaltevorrichtungen 17a, 17b, 17c gehalten und geführt sind. Die zum Andruck der Bürsten notwendigen Federn sind der Übersichtlichkeit halber nicht dargestellt, da diese häufig bereits in die Bürstenhaltevorrichtungen integriert sind. Die Bürstenhaltevorrichtungen sind auf einer gemeinsamen Bürstenträgerplatte 14, welche beispielsweise als Leiterplatte ausgeführt sein kann, befestigt. Eine erfindungsgemäße Beschichtung 15a, 15b, 15c ist auf der Bürstenträgerplatte um die Bürstenhaltevorrichtungen aufgebracht. Zwischen den Beschichtungen kann die restliche Fläche 16 unbeschichtet sein, sodass sich hier der Abrieb sammeln kann.
2. zeigt beispielhaft eine andere Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung. Hier sind die Schleifbahnen 3a, 3b, 3c über zusätzliche als Träger aufgebaute Bahnisolatoren 2a, 2b, 2c auf einer Trägerplatte 4 befestigt. Hier kann die Trägerplatte auch aus leitfähigem Material, beispielsweise einem Metall bestehen. Auch sind mehrere Kontaktbürsten 13a, 13b, 13c dargestellt, welche in Bürstenhaltevorrichtungen 17a, 17b, 17c gehalten und geführt sind. Diese Bürstenhaltevorrichtungen sind mittels Bürstenisolatoren 12a, 12b, 12c, 12d, an dem Bürstenträger isoliert befestigt. Die Bürstenisolatoren weisen auf ihrer Oberfläche eine Beschichtung 15a, 15b, 15c, 15d auf. Sollten die Bürsten haltevorrichtungen bereits isolierend aufgebaut sein, so ist es zweckmäßig, die Beschichtung auf die Isolationsstrecken der Bürstenhaltevorrichtungen aufzubringen. selbstverständlich können grundsätzlich verschiedene Ausgestaltungen von ersten Teilen 1 und zweiten Teilen 2, wie sie beispielsweise in 1 und 2 dargestellt werden, beliebig miteinander kombiniert werden.
3 zeigt beispielhaft eine schematische Gesamtdarstellung einer Schleifkontaktvorrichtung im Falle eines Schleifrings. Ein erstes Teil 1 umfasst die Schleifbahnen 3a, 3b, 3c sowie alle weiteren Teile zu deren Aufnahme und Befestigung, wie beispielsweise einen Bahnträger 4. Weiterhin ist ein zweites Teil 2 dargestellt, welches gegenüber dem ersten Teil beweglich ist und welches insbesondere die Kontaktbürsten 13 sowie alle zur Isolation und Befestigung notwendigen Komponenten, beispielsweise einen Bürstenträger 14 umfasst.
4 zeigt beispielhaft eine besonders einfache Anordnung eines ersten Teils. Hierbei ist die Beschichtung 5a, 5b, 5c jeweils streifenförmig zwischen den Schleifbahnen 3a, 3b, 13c angebracht. Die Bereiche zwischen den Beschichtungen und den Schleifbahnen dienen hier zur Ablagerung des Bürstenabriebes.
5 zeigt beispielhaft eine besonders platzsparende Anordnung eines ersten Teils. Hier sind zwischen den Schleifbahnen zusätzliche Barrieren 18a, 18b, 18c angebracht, um die Kriechstrecken zu erhöhen. Eine erfindungsgemäße Beschichtung 5a, 5b, 5c ist beispielsweise an den Barrieren angebracht. Die Beschichtung kann wahlweise seitlich, auf der Oberseite oder auch auf der ganzen Barriere angebracht sein.
6 zeigt eine Anordnung, bei der die Bahnisolatoren 2a, 2b, 2c durch dünne Filme, beispielsweise durch Folien oder Lackschichten hergestellt sind. Um eine hinreichende Kriechstrecke zu erzielen, müssen die dünnen Schichten über die Breite der Schleifbahnen hinausgehen. Diese überstehende Kriechstrecke wird vorzugsweise mit Beschichtungen 5a, 5b, 5c versehen. Selbstverständlich können auch in einer Anordnung unterschiedliche Ausgestaltungen, wie sie hier dargestellt sind, miteinander kombiniert sein.

1: Erstes Teil
2: Zweites Teil
2a, 2b, 2c: Bahnisolatoren
3: Schleifbahnen
4: Bahnträger
5: Beschichtung
6: Unterbrechungen in der Beschichtung
12: Bürstenisolatoren
13: Kontaktbürsten
14: Bürstenträger
15': Beschichtung
16: Unterbrechungen in der Beschichtung
17: Bürstenhaltevorrichtungen
18: Barrieren

Claims

Schleifbahnvorrichtung zum Einsatz in einer Schleifkontaktvorrichtung mit einer oder mehreren Schleifbahnen (3a, 3b, 3c), welche durch Bahnisolatoren (2a, 2b, 2c) an einem Träger (4) isoliert befestigt oder im Falle eines Trägers (4) aus isolierendem Material direkt an dem Träger (4) befestigt sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Bahnisolatoren (2a, 2b, 2c) und/oder der Träger (4) auf den Oberflächen zumindest teilweise mit einer Oberflächenstruktur versehen sind, welche eine Doppelstruktur mit einer groben Struktur zwischen 1 μm und 100 μm und einer darüberliegenden Feinstruktur von 10 nm – 5 μm aufweist.
Bürstenvorrichtung zum Einsatz in einer Schleifkontaktvorrichtung mit einer oder mehreren Kontaktbürsten (13a, 13b, 13c), welche durch Bürstenisolatoren (12a, 12b, 12c, 12d) an einem Bürstenträger (14) isoliert befestigt oder im Falle eines Bürstenträgers (14) aus isolierendem Material direkt an dem Bürstenträger (14) befestigt sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Bürstenisolatoren (12a, 12b, 12c, 12d) und/oder der Bürstenträger (14) auf den Oberflächen zumindest teilweise mit einer Oberflächenstruktur versehen sind, welche eine Doppelstruktur mit einer groben Struktur zwischen 1 μm und 100 μm und einer darü berliegenden Feinstruktur von 10 nm – 5 μm aufweist.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberflächenstruktur durch eine Beschichtung ausgebildet ist.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberflächenstruktur eine Doppelstruktur mit einer graben Struktur zwischen 10 μm und 50 μm, und einer darüberliegenden Feinstruktur von 20 nm – 1 μm aufweist.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberflächenstruktur zumindest teilweise mit antistatischen Eigenschaften ausgebildet oder einem dünnen Film mit antistatischen Eigenschaften überzogen ist.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberflächenstruktur um Schleifbahnen (3a, 3b, 3c) und/oder Bürstenhaltevorrichtungen (17a, 17b, 17c) in einer in sich geschlossenen Fläche aufgebracht ist.
Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberflächenstruktur Unterbrechungen (6a, 6b, 6c) aufweist.
Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Unterbrechungen (6a, 6b, 6c) zumindest teilweise eine künstliche mikrokristallin strukturierte Mikrostruktur aufweisen, deren Oberflächenstruktur Erhebungen und Vertiefungen im Bereich von 5 μm bis 100 μm mit einem Abstand zueinander im Bereich von 5 μm bis 200 μm aufweist.
Computertomograph umfassend wenigstens eine Schleifbahnvorrichtung nach Anspruch 1 und/oder eine Bürstenvorrichtung nach Anspruch 2.
Computertomograph nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eine weitere Baugruppe und / oder ein weiteres Bauteil vorgesehen ist, welches eine künstliche, mikrokristallin strukturierte Mikrostruktur aufweist.