DE10140041B4 - Procedure for determining the area of an engraved cell - Google Patents

Abstract

Verfahren zur Ermittlung der Flächen eines gravierten Näpfchens bei der Herstellung von Druckformen in einer elektronischen Graviermaschine, dadurch gekennzeichnet, daß
– um die zu ermittelnde Fläche (F_N) mindestens eines gravierten Näpfchens (2) ein Oberflächenbereich der Druckform (1) als Bezugsfläche (F_B) festgelegt wird, wobei der Detektionsfaktor (r₁ ) der Oberfläche der Druckform (1), der den Anteil eines Lichtstrahls angibt, der von der Oberfläche der Druckform (1) in einen Lichtempfänger (11) zurückgeworfen wird, und der Detektionsfaktor (r₂) der Näpfchenfläche (F_N) unterschiedlich groß sind,
– ein Lichtbündel (9) der Lichtleistung (P) erzeugt und auf die Oberfläche der Druckform (1) fokussiert wird,
– die Bezugsfläche (F_B) mit dem Lichtbündel (9) beleuchtet wird,
– die in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtleistung (P_r) über die Bezugsfläche (F_B) gemessen und integriert wird und
– die Näpfchenfläche (F_N) aus der Lichtleistung (P) des Lichtbündels (9), aus der gemessenen in den Lichtempfänger (11)...Method for determining the areas of an engraved cell in the production of printing forms in an electronic engraving machine, characterized in that
- Around the surface to be determined (F _N ) of at least one engraved cell (2), a surface area of the printing form (1) is defined as the reference surface (F _B ), the detection factor (r ₁ ) of the surface of the printing form (1), which is the Indicates the proportion of a light beam which is thrown back from the surface of the printing form (1) into a light receiver (11) and the detection factor (r ₂ ) of the well area (F _N ) are of different sizes,
A light beam (9) of the light output (P) is generated and focused on the surface of the printing form (1),
- The reference surface (F _B ) is illuminated with the light beam (9),
- The light power (P _r ) reflected in the light receiver (11) is measured and integrated over the reference surface (F _B ) and
- The well area (F _N ) from the light output (P) of the light beam (9), from the measured in the light receiver (11) ...

Description

Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der elektronischen Reproduktionstechnik und betrifft ein Verfahren und eine Meßvorrichtung zur Ermittlung der Fläche eines gravierten Näpfchens bei der Herstellung von Druckformen in einer elektronischen Graviermaschine.The Invention relates to the field of electronic reproduction technology and relates to a method and a measuring device for determining the area of an engraved cup in the production of printing forms in an electronic engraving machine.

Aus der DE 25 087 34 A ist bereits eine elektronische Graviermaschine bekannt. Ein Gravierorgan mit einem durch ein Graviersteuersignal gesteuerten Gravierstichel wird in axialer Richtung an einem rotierenden Druckzylinder entlang geführt. Der Gravierstichel schneidet gravierlinienweise in einem Gravurraster angeordnete Näpfchen in den Druckzylinder. Das Graviersteuersignal wird durch Überlagerung eines periodischen Rastersignals mit einem Graviersignal gewonnen, welches die zu gravierenden Tonwerte zwischen "Licht" und "Tiefe" repräsentiert. Während das Rastersignal eine oszillierende Hubbewegung des Gravierstichels zur Erzeugung des Gravurrasters bewirkt, bestimmt das Graviersignal die Abmessungen und damit die Tonwerte der gravierten Näpfchen. Die Abmessungen der gravierten Näpfchen sind beispielsweise ihre Querdiagonalen, ihre Längsdiagonalen oder ihre Flächen.From the DE 25 087 34 A an electronic engraving machine is already known. An engraving element with an engraving stylus controlled by an engraving control signal is guided in the axial direction along a rotating printing cylinder. The engraving stylus cuts wells arranged in engraving lines in the printing cylinder. The engraving control signal is obtained by superimposing a periodic raster signal with an engraving signal which represents the tonal values to be engraved between "light" and "depth". While the raster signal causes an oscillating stroke movement of the engraving stylus to generate the engraving grid, the engraving signal determines the dimensions and thus the tonal values of the engraved cells. The dimensions of the engraved cells are, for example, their transverse diagonals, their longitudinal diagonals or their surfaces.

Es ist bekannt, die Abmessungen von gravierten Näpfchen mittels eines Meßmikroskops zu bestimmen.It is known, the dimensions of engraved cells using a measuring microscope to determine.

Aus der WO 94/19900 A ist es auch schon bekannt, die Abmessungen von gravierte Näpfchen in einem mit einer Videokamera aufgenommenen Videobild auszumessen.Out WO 94/19900 A it is also known to measure the dimensions of engraved cups to be measured in a video image recorded with a video camera.

In der WO 98/55302 A ist angegeben, wie die Abmessungen eines gravierten Näpfchens in einem Videobild anhand der Kontur des Näpfchens mit Hilfe einer im Videobild verschiebbaren elektronischen Meßbandes mit mindestens einer aus Pixeln gebildeten Meßzeile ermittelt werden. In dem Videobild wird zunächst eine Konturensuche durchgeführt, bei der auf der Kontur des zu vermessenden Näpfchens liegende Pixel als Konturpunkte markiert werden. Anschließend wird mittels des Meßbandes die Abmessung eines Näpfchens als Anzahl von Pixeln zwischen den markierten Konturpunkten auf der Näpfchenkontur festgestellt. Die Fläche eines Näpfchens wird in diesem Fall berechnet, indem die in den einzelnen Meßzeilen des Meßbandes zwischen den markierten Konturpunkten liegenden Pixel aufaddiert werden.In WO 98/55302 A specifies how the dimensions of an engraved small bowl in a video image based on the contour of the well using an im Video image of movable electronic measuring tape with at least one measurement line formed from pixels be determined. A contour search is first carried out in the video image at the pixel lying on the contour of the well to be measured as Contour points are marked. Then using the measuring tape the dimension of a well as the number of pixels between the marked contour points the well contour detected. The area of a well is calculated in this case by the in the individual measuring lines the measuring tape pixels lying between the marked contour points are added become.

Aus der noch nicht veröffentlichten deutschen Patentanmeldung 100 55 030.4 ist ein Verfahren zur Ermittlung der Abmessungen von gravierten Näpfchen in einem Videobild bekannt, bei dem zur Erhöhung der Meßgenauigkeit eine "rauhe" Näpfchenkontur vor der Ermittlung der Abmessungen des Näpfchens durch mathematische Funktionen nachgebildet wird und die Näpfchenfläche als Fläche zwischen den die Näpfchenkontur nachbildenden mathematischen Funktionen ermittelt wird.Out the not yet released German patent application 100 55 030.4 is a method for the determination the dimensions of engraved cells known in a video image in which a "rough" well contour to increase the measuring accuracy before determining the dimensions of the well by mathematical Functions is reproduced and the cell surface as the surface between which the cell contour simulating mathematical functions is determined.

Damit die gravierten Isttonwerte auch den durch die Graviersignalwerte vorgegebenen Solltonwerten entsprechen, werden die Istabmessungen, in der Regel die Querdiagonalen und die Längsdiagonalen, der bei einer Probegravur gravierten Näpfchen ausgemessen, mit den entsprechenden Sollabmessungen verglichen und dann das Graviersteuersignal anhand von beim Vergleich gewonnenen Einstellwerten kalibriert.In order to the engraved actual tone values also those from the engraving signal values correspond to the specified target tone values, the actual dimensions, as a rule, the transverse diagonals and the longitudinal diagonals, which in a Trial engraving of engraved cells measured, compared with the corresponding nominal dimensions and then the engraving control signal based on those obtained from the comparison Adjusted values calibrated.

Die Genauigkeit der Kalibrierung des Graviersignals kann gesteigert und die zur Kalibrierung benötigte Zeit verkürzt werden, wenn zum Vergleich von Istabmessungen und Sollabmessungen der gravierten Näpfchen nicht die Längs- und Querdiagonalen, sondern die Flächen oder Volumina der Näpfchen herangezogen werden.The Accuracy of the calibration of the engraving signal can be increased and the time required for calibration shortened when comparing actual dimensions and target dimensions of the engraved cells not the longitudinal and transverse diagonals, but the areas or volumes of the cells are used.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfahren zur Ermittlung der Fläche eines gravierten Näpfchens bei der Herstellung von Druckformen in einer elektronischen Graviermaschine sowie eine entsprechende Meßvorrichtung derart zu verbessern, daß ein weitestgehend automatischer Ablauf bei hoher Genauigkeit und geringem Aufwand gewährleistet ist.task The present invention is therefore a method for determination the area of an engraved cup in the production of printing forms in an electronic engraving machine and a corresponding measuring device to improve so that a largely automatic process with high accuracy and low Effort guaranteed is.

Diese Aufgabe wird bezüglich des Verfahrens durch die Merkmale des Anspruchs 1 und bezüglich der Meßvorrichtung zur Ermittlung der Flächen gravierter Näpfchen durch die Merkmale des Anspruchs 16 gelöst.This Task is regarding of the method by the features of claim 1 and with respect to the measuring device to determine the areas engraved cup solved by the features of claim 16.

Vorteilhafte Weiterbildungen sind in den Unteransprüchen angegeben.advantageous Further developments are specified in the subclaims.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand der 1 bis 4 näher erläutert.The invention is based on the 1 to 4 explained in more detail.

Es zeigen:It demonstrate:

1 eine prinzipielle Darstellung zur Ermittlung der Fläche eines gravierten Näpfchens, 1 a basic representation for determining the area of an engraved well,

2 den prinzipiellen Aufbau einer elektronischen Graviermaschine und ein Blockschaltbild einer Meßvorrichtung zur Ermittlung der Fläche eines gravierten Näpfchens, 2 the basic structure of an electronic engraving machine and a block diagram of a measuring device for determining the area of an engraved well,

3 den Strahlengang des Lichtbündels und des in einen Lichtempfänger zurückgeworfenen Lichtbündels zwischen Meßvorrichtung und Druckform und 3 the beam path of the light bundle and of the light bundle thrown back into a light receiver between the measuring device and the printing form and

4 ein Zeitdiagramm 4 a timing diagram

1 zeigt eine prinzipielle Darstellung zur Ermittlung der Fläche eines gravierten Näpfchens. 1 shows a basic representation for determining the area of an engraved well.

1 zeigt einen Oberflächenausschnitt aus einer mit einer elektronischen Graviermaschine gravierten Druckform (1). Dargestellt ist ein ausgewähltes Näpfchen (2), das in einer Rastermasche (3) eines orthogonalen Gravurrasters (4) angeordnet ist. Das Gravurraster ist in einer Gravierrichtung (5) und in einer dazu senkrechten Vorschubrichtung (6) ausgerichtet. Das Näpfchen (2) wurden bei einer vor der eigentlichen Gravur der Druckform (1) liegenden Probegravur oder während der Gravur der Druckform (1) erzeugt. 1 shows a surface section from a printing form engraved with an electronic engraving machine ( 1 ). A selected well is shown ( 2 ) in a grid ( 3 ) of an orthogonal engraving grid ( 4 ) is arranged. The engraving grid is in one engraving direction ( 5 ) and in a perpendicular feed direction ( 6 ) aligned. The cup ( 2 ) were made before the actual engraving of the printing form ( 1 ) horizontal test engraving or during the engraving of the printing form ( 1 ) generated.

Das Näpfchen (2) hat als Abmessung eine Längsdiagonale d_L in Gravierrichtung (5), eine Querdiagonale d_Q in Vorschubrichtung (6) und eine Fläche F_N, nachfolgend kurz Näpfchenfläche F_N genannt. Als Näpfchenfläche F_N wird diejenige Fläche bezeichnet, die ein Näpfchen auf der Oberfläche der Druckform (1) einnimmt. Ein den Tonwert "Licht" repräsentierendes Näpfchen hat eine kleine Näpfchenfläche und ein den Tonwert "Tiefe" repräsentierendes Näpfchen eine große Näpfchenfläche.The cup ( 2 ) has a longitudinal diagonal d _L in the engraving direction ( 5 ), a transverse diagonal d _Q in the feed direction ( 6 ) and an area F _N , hereinafter also called cup area F _N. The well area F _N is the area that a well on the surface of the printing form ( 1 ) occupies. A well representing the tonal value "light" has a small well area and a well representing the tonal value "depth" has a large well area.

Die Näpfchenfläche F_N des Näpfchens (2) wird nach den Verfahrensschritten [A] bis [D] wie folgt ermittelt.The well area F _{N of} the well ( 2 ) is determined as follows after process steps [A] to [D].

In einem Verfahrensschritt [A] wird in der Rastermasche (3) ein Oberflächenbereich der Druckform (1) um die zu ermittelnde Näpfchenfläche F_N des Näpfchens (2) als rechteckförmige Bezugsfläche F_B mit der Ausdehnung x in Gravierrichtung (5) und der Ausdehnung y in Vorschubrichtung (6) definiert.In a process step [A], the grid mesh ( 3 ) a surface area of the printing form ( 1 ) around the well area F _N of the well to be determined ( 2 ) as a rectangular reference surface F _B with the dimension x in the engraving direction ( 5 ) and the extension y in the feed direction ( 6 ) Are defined.

Die minimale Ausdehnung x_min der Bezugsfläche F_B beträgt in Gravierrichtung (5) mindestens der Längsdiagonalen d_L und die minimale Ausdehnung y_min in Vorschubrichtung (6) mindestens der Querdiagonalen d_Q des Näpfchens (2). Die maximalen Ausdehnungen x_max und y_max der Bezugsfläche FB in Gravierrichtung (5) und Vorschubrichtung (6) entsprechen etwa den Abmessungen der Rastermasche (3) bzw. den Rasterweiten w des Gravurrasters (4).The minimum extension x _{min of} the reference surface F _B is in the engraving direction ( 5 ) at least the longitudinal diagonal d _L and the minimum extension y _min in the feed direction ( 6 ) at least the transverse diagonals d _Q of the cell ( 2 ). The maximum dimensions x _max and y _{max of} the reference surface FB in the engraving direction ( 5 ) and feed direction ( 6 ) correspond approximately to the dimensions of the grid mesh ( 3 ) or the raster widths w of the engraving grid ( 4 ).

Die aus der Differenz zwischen Bezugsfläche F_B und Näpfchenfläche F_N gebildete Restfläche F_R hat einen Detektionsfaktor r₁, der dem Anteil des eingestrahlten Lichtes entspricht, der von der Oberfläche der Druckform (1) in einen Lichtempfänger (11) zurückgeworfen wird, und die Näpfchenfläche F_N einen Detektionsfaktor r₂.The residual area F _R formed from the difference between the reference area F _B and the cup area F _N has a detection factor r ₁ , which corresponds to the proportion of the incident light that is emitted by the surface of the printing form ( 1 ) in a light receiver ( 11 ) is thrown back, and the well area F _{N has} a detection factor r ₂ .

In einer in 1 nicht dargestellten Meßvorrichtung (7) wird in einer Lichtquelle (8) ein auf die Druckform (1) gerichtetes Lichtbündel (9) mit der Lichtleistung P zur Beleuchtung der Bezugsfläche F_B erzeugt. Das Lichtbündel (9) ist auf die Oberfläche der Druckform (1) fokussiert, hat eine geringe Tiefenschärfe und ist im Ausführungsbeispiel derart geformt, daß es auf der Oberfläche der Druckform (1), wie in 1 gezeigt, einen rechteckförmigen Strahlquerschnitt in Form eines schmalen, homogenen Lichtbandes (10) aufweist.In one in 1 measuring device, not shown ( 7 ) is in a light source ( 8th ) on the printing form ( 1 ) directed light beam ( 9 ) with the light output P for illuminating the reference surface F _B. The bundle of light ( 9 ) is on the surface of the printing form ( 1 ) has a shallow depth of field and, in the exemplary embodiment, is shaped such that it is on the surface of the printing form ( 1 ), as in 1 shown a rectangular beam cross-section in the form of a narrow, homogeneous light band ( 10 ) having.

Die Länge des Lichtbandes (10) in Vorschubrichtung (6) definiert die Ausdehnung y der Bezugsfläche F_B. Die Breite des Lichtbandes (10) in Gravierrichtung (5) beträgt ein Bruchteil der Ausdehnung x der Bezugsfläche F_B. In einem praktischen Ausführungsbeispiel hat das Lichtband (10) eine Größe von 5μm × 300μm.The length of the light band ( 10 ) in the feed direction ( 6 ) defines the extent y of the reference surface F _B. The width of the light band ( 10 ) in the engraving direction ( 5 ) is a fraction of the dimension x of the reference surface F _B. In a practical embodiment, the light band ( 10 ) a size of 5μm × 300μm.

Alternativ kann das Lichtband (10) auch dadurch erzeugt werden, daß ein Lichtbündel (9) mit einem punktförmigen Stahlquerschnitt verwendet wird, das laufend in Richtung der Längsausdehnung y des Lichtbandes (10) ausgelenkt wird.Alternatively, the light band ( 10 ) can also be generated by a light beam ( 9 ) is used with a punctiform steel cross-section that runs continuously in the direction of the longitudinal extent y of the light band ( 10 ) is deflected.

Die Meßvorrichtung (7) mit dem Lichtband (10) und die Druckform (1) können sich relativ zueinander bewegen. Die Meßvorrichtung (7) wird beispielsweise in Vorschubrichtung (6) gegenüber der Druckform (1) derart verschoben, daß das Lichtband (10), wie dargestellt, bei einer Messung direkt über der Bezugsfläche F_B positioniert ist. Die Meßvorrichtung (7) und die Druckform (1) führen eine Relativbewegung zueinander in Gravierrichtung (5) aus, wenn die Ermittlung der Näpfchenfläche F_N während einer Probegravur oder während der Gravur der Druckform (1) erfolgt. Die Meßvorrichtung (7) wird in 2 näher dargestellt und beschrieben.The measuring device ( 7 ) with the light band ( 10 ) and the printing form ( 1 ) can move relative to each other. The measuring device ( 7 ) is, for example, in the feed direction ( 6 ) compared to the printing form ( 1 ) so that the light band ( 10 ), as shown, is positioned directly above the reference surface F _B during a measurement. The measuring device ( 7 ) and the printing form ( 1 ) cause a relative movement to each other in the engraving direction ( 5 ) if the determination of the well area F _N during a test engraving or during the engraving of the printing form ( 1 ) he follows. The measuring device ( 7 ) is in 2 shown and described in more detail.

In einem Verfahrensschritt [B] wird die Bezugsfläche F_B auf der Druckform (1) aufgrund der Relativbewegung zwischen Lichtband (10) und Bezugsfläche F_B in Gravierrichtung (5) streifenweise mit dem Lichtband (10) beleuchtet.In a method step [B], the reference surface F _B on the printing form ( 1 ) due to the relative movement between the light band ( 10 ) and reference surface F _B in the engraving direction ( 5 ) in strips with the light band ( 10 ) illuminated.

Dabei überstreicht das Lichtband (10) mit der Lichtleistung P, das sich mit der Relativgeschwindigkeit v in Gravierrichtung (5) bewegt, die Bezugsfläche F_B in ihrer Ausdehnung x in einem Zeitintervall ΔT (x = v × ΔT), das nachfolgend als Meßintervall ΔT bezeichnet wird. Die Ausdehnung x der Bezugsfläche F_B wird somit durch das Meßintervall ΔT definiert, in dem die Oberfläche der Druckform (1) durch das Lichtband (10) beleuchtet wird. Die während des Meßintervalls ΔT auf die Bezugsfläche F_B auftreffende Lichtenergie E ergibt sich zu E = P × ΔT.The light strip sweeps over ( 10 ) with the light power P, which changes with the relative speed v in the engraving direction ( 5 ) moves, the reference surface F _B in its extension x in a time interval ΔT (x = v × ΔT), which is referred to below as the measuring interval ΔT. The extent x of the reference surface F _B is thus defined by the measuring interval ΔT in which the surface of the printing form ( 1 ) through the light band ( 10 ) is illuminated. The light energy E incident on the reference surface F _B during the measurement interval ΔT results in E = P × ΔT.

In einem Verfahrensschritt [C] wird die innerhalb des Meßintervalls ΔT von der Bezugsfläche F_B zurückgeworfene Lichtenergie E_r mit einem Lichtempfänger (11) der Meßvorrichtung (7) über die Bezugsfläche F_B gemessen, integriert und gespeichert.In a method step [C], the light energy E _r reflected by the reference surface F _B within the measurement interval ΔT is measured with a light receiver ( 11 ) of the measuring device ( 7 ) measured, integrated and stored via the reference surface F _B.

Die von der Bezugsfläche F_B in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtenergie E_r setzt sich entsprechend dem Verhältnis Restfläche F_D zu Bezugsfläche F_B und dem Verhältnis Näpfchenfläche FN zu Bezugsfläche F_B unter Berücksichtigung der Detektionsfaktoren r₁ und r₂ gemäß Gleichung (I) zusammen:

mit
E = auf die Bezugsfläche auftreffende Lichtenergie
E_r = von der Bezugsfläche bzw. Restfläche in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtenergie
F_B = Bezugsfläche
F_R = Restfläche
F_N = Näpfchenfläche
r₁ = Detektionsfaktor der Bezugsfläche und
r₂ = Detektionsfaktor der NäpfchenflächeThe from the reference surface F _B in the light receiver ( 11 ) reflected light energy E _r is composed according to the ratio of residual area F _D to reference area F _B and the ratio of well area FN to reference area F _B , taking into account the detection factors r ₁ and r ₂ according to equation (I):

With
E = light energy striking the reference surface
E _r = from the reference surface or remaining surface into the light receiver ( 11 ) reflected light energy
F _B = reference surface
F _R = residual area
F _N = cell area
r ₁ = detection factor of the reference surface and
r ₂ = detection factor of the well area

Ist die Näpfchenfläche F_N = 0, beträgt die in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtenergie E_r = r₁ × E. Ist die Näpfchenfläche F_N = F_B, beträgt die zurückgeworfene Lichtenergie E_r = r₂ × E.If the cell area F _N = 0, it is in the light receiver ( 11 ) reflected light energy E _r = r ₁ × E. If the cell area F _N = F _B , the reflected light energy E _r = r ₂ × E.

In einem Verfahrensschritt [D] wird die Näpfchenfläche F_N gemäß Gleichung (III) berechnet.In a method step [D] the well area F _{N is} calculated according to equation (III).

Aus Gleichung (I) ergibt sich zunächst die Näpfchenfläche F_N zu:

mit E = P × ΔT und x = v × ΔT errechnet sich die Näpfchenfläche F_N dann anhand der bekannten Größen zu:

mit:
F_N = Näpfchenfläche
P = Lichtleistung des Lichtbandes
E_r = von der Bezugsfläche bzw. Restfläche in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtenergie
r₁ = Detektionsfaktor der Bezugsfläche bzw. Restfläche
r₂ = Detektionsfaktor der Näpfchenfläche
y = Ausdehnung der Bezugsfläche in Vorschubrichtung
v = Relativgeschwindigkeit zwischen Bezugsfläche und Lichtband in Gravierrichtung und
ΔT = Meßintervall für Bezugsfläche bzw. RestflächeFrom equation (I), the cell area F _{N is given} by:

with E = P × ΔT and x = v × ΔT, the well area F _{N is} then calculated using the known variables:

With:
F _N = cell area
P = light output of the light band
E _r = from the reference surface or remaining surface into the light receiver ( 11 ) reflected light energy
r ₁ = detection factor of the reference surface or residual surface
r ₂ = detection factor of the well area
y = extension of the reference surface in the feed direction
v = relative speed between the reference surface and the light band in the engraving direction and
ΔT = measurement interval for reference surface or remaining surface

Bei einer ersten Annahme, daß die Druckform (1) beispielsweise ein Tiefdruckzylinder ist, dessen Oberfläche aus poliertem Kupfer besteht und optisch wie ein Spiegel wirkt, ist der Detektionsfaktor der Bezugsfläche bzw. der Restfläche r₁ = 1, d.h. alles auf die Bezugsfläche F_B bzw. der Restfläche F_R auftreffende Licht wird in die Meßvorrichtung (7) zurückgeworfen.If you first assume that the printing form ( 1 ) is, for example, an intaglio printing cylinder, the surface of which is made of polished copper and acts optically like a mirror, the detection factor of the reference surface or the residual surface r ₁ = 1, ie all light striking the reference surface F _B or the residual surface F _R is in the measuring device ( 7 ) thrown back.

Näpfchen (2) sind Vertiefungen in der Oberfläche der Druckform (1), deren Flanken unter einem Winkel verlaufen und aufgrund des Schneidvorganges aufgerauht sind. Unter dieser Voraussetzung kann eine zweite Annahme gemacht werden, daß aufgrund der geringen Tiefenschärfe des Lichtbandes (10) von den unter der Oberfläche liegenden Flanken des Näpfchens (2) selbst kein oder nur ein zu vernachlässigender Lichtanteil diffus und ungerichtet in die Meßvorrichtung (7) zurückgeworfen wird. In diesem Fall ist der Detektionsfaktor der Näpfchenfläche r₂ = 0.Cell ( 2 ) are depressions in the surface of the printing form ( 1 ) whose flanks run at an angle and are roughened due to the cutting process. Under this condition, a second assumption can be made that due to the shallow depth of field of the light band ( 10 ) from the flanks of the well lying below the surface ( 2 ) no or only a negligible amount of light diffuse and non-directional into the measuring device ( 7 ) is thrown back. In this case, the detection factor of the well area r ₂ = 0.

Somit vereinfacht sich die Gleichung (III) zur Ermittlung der Näpfchenfläche F_N mit r₁ = 1 und r₂ = zu:

mit:
F_N = Näpfchenfläche
P = Lichtleistung des Lichtbandes
E_r = von der Bezugsfläche bzw. Restfläche in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtenergie
y = Ausdehnung der Bezugsfläche in Vorschubrichtung
v = Relativgeschwindigkeit zwischen Bezugsfläche und Lichtband in Gravierrichtung und
ΔT = Meßintervall für Bezugsfläche bzw. RestflächeThus, equation (III) for determining the cell area F _N with r ₁ = 1 and r ₂ = is simplified:

With:
F _N = cell area
P = light output of the light band
E _r = from the reference surface or remaining surface into the light receiver ( 11 ) reflected light energy
y = extension of the reference surface in the feed direction
v = relative speed between the reference surface and the light band in the engraving direction and
ΔT = measurement interval for reference surface or remaining surface

Die Bestimmung der Näpfchenfläche F_N nach den Verfahrensschritten [A] bis [D] kann bei mindestens einem ausgewählten Näpfchen (2) oder aber aufgrund der Relativbewegung zwischen Druckform (1) und Meßvorrichtung (7) bei einer Vielzahl von in Gravierrichtung (5) angeordneten Näpfchen (2) vorgenommen werden.The determination of the well area F _N according to process steps [A] to [D] can be carried out for at least one selected well ( 2 ) or due to the relative movement between printing form ( 1 ) and measuring device ( 7 ) with a large number of engraving directions ( 5 ) arranged cups ( 2 ) can be made.

Bei Kenntnis der Näpfchenfläche F_N kann das Näpfchenvolumen unter Berücksichtigung des Schneidwinkels des Gravierstichels berechnet werden.If the well area F _{N is known} , the well volume can be calculated taking into account the cutting angle of the engraving stylus.

Nachfolgend wird eine vorteilhafte Weiterbildung des Verfahrens beschrieben, die darin besteht, daß bei der Bestimmung der Näpfchenfläche F_N ein Detektionsfaktor r₁ < 1 berücksichtigt wird.An advantageous development of the method is described below, which consists in that a detection factor r ₁ <1 is taken into account when determining the well area F _N.

In der Praxis ist die erste Annahme, daß die Oberfläche wie ein Spiegel wirkt, nicht immer gegeben, so daß der Detektionsfaktor der Bezugsfläche F_B bzw. der Rest fläche F_R r₁ < 1 ist, wobei angenommen werden kann, daß der Detektionsfaktor des Näpfchenfläche nach wie vor r₂ = 0 ist.In practice, the first assumption that the surface acts like a mirror is not always given, so that the detection factor of the reference area F _B or the remaining area F _R r ₁ <1, it can be assumed that the detection factor of Well area is still r ₂ = 0.

Mit r₁ < 1 und r₂ = 0 ergibt sich aus Gleichung (III):

mit:
F_N = Näpfchenfläche
P = Lichtleistung des Lichtbandes
E_r = von der Bezugsfläche bzw. Restfläche in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtenergie
r₁ = Detektionsfaktor der Bezugsfläche bzw. Restflüche
y = Ausdehnung der Bezugsfläche in Vorschubrichtung
v = Relativgeschwindigkeit zwischen Bezugsfläche und Lichtband in Gravierrichtung und
ΔT = Meßintervall für Bezugsfläche bzw. RestflächeWith r ₁ <1 and r ₂ = 0, the following results from equation (III):

With:
F _N = cell area
P = light output of the light band
E _r = from the reference surface or remaining surface into the light receiver ( 11 ) reflected light energy
r ₁ = detection factor of the reference surface or residual curses
y = extension of the reference surface in the feed direction
v = relative speed between the reference surface and the light band in the engraving direction and
ΔT = measurement interval for reference surface or remaining surface

In diesem Fall erfolgt erfindungsgemäß vor den Verfahrensschritten [A] bis [D] zur Bestimmung der Näpfchenfläche F_N eine Referenzmessung nach einem Verfahrensschritt [A₀], in dem der tatsächliche Detektionsfaktor r₁ der Oberfläche der Druckform (1) festgestellt und bei der Berechnung der Näpfchenfläche F_N nach Gleichung (V) berücksichtigt wird.In this case, according to the invention, before the method steps [A] to [D] for determining the well area F _N, a reference measurement is carried out after a method step [A ₀ ] in which the actual detection factor r _{1 of} the surface of the printing form ( 1 ) is determined and taken into account in the calculation of the well area F _N according to equation (V).

Für die Referenzmessung wird zunächst in einem Schritt [A₀₁] ein Oberflächenbereich, der kein Näpfchen enthält, als Referenzfläche F₀ definiert. Die Referenzfläche F₀ kann innerhalb oder außerhalb der Restfläche F_R liegen. Die Größe der Referenzfläche F₀ ist prinzipiell unabhängig von der Größe der Bezugsfläche F_B. In 1 liegt die Referenzfläche F₀ oberhalb der Bezugsfläche F_B. Wenn das Licht band (10) zur Beleuchtung der Referenzfläche F₀ verwendet wird, ist die Ausdehnung der Referenzfläche F₀ in zweckmäßiger Weise gleich der Ausdehnung y der Bezugsfläche F_B.For the reference measurement, a surface area that does not contain a well is first defined as reference surface F ₀ in a step [A ₀₁ ]. The reference area F ₀ can be inside or outside the remaining area F _R. The size of the reference surface F ₀ is in principle independent of the size of the reference surface F _B. In 1 the reference surface F ₀ lies above the reference surface F _B. When the light tied ( 10 ) is used to illuminate the reference surface F ₀ , the extension of the reference surface F _{0 is} expediently equal to the extension y of the reference surface F _B.

In einem zweiten Schritt [A₀₂] wird die Referenzfläche F₀ mit dem Lichtband (10) aufgrund der Relativbewegung zwischen Referenzfläche F₀ und Lichtband (10) innerhalb eines Meßintervalls ΔT₀, welches bei der Relativgeschwindigkeit v die Ausdehnung der Referenzfläche F₀ in Gravierrichtung (6) bestimmt, streifenweise beleuchtet.In a second step [A ₀₂ ], the reference surface F ₀ with the light band ( 10 ) due to the relative movement between reference surface F ₀ and light band ( 10 ) within a measuring interval ΔT ₀ , which at the relative speed v is the extension of the reference surface F ₀ in the engraving direction ( 6 ) determined, illuminated in strips.

In einem dritten Schritt [A_{0 3}] wird innerhalb des Meßintervalls ΔT₀ die von der Referenzfläche F₀ in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Energie E_r0 in der Meßvorrichtung (7) gemessen, über die Referenzfläche F₀ integriert und gespeichert.In a third step [A _{0 3} ], within the measuring interval ΔT _0, that from the reference surface F ₀ into the light receiver ( 11 ) _reflected energy E _r0 in the measuring device ( 7 ) measured, integrated over the reference surface F ₀ and stored.

Die von der Referenzfläche F₀ in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Energie E_r0 ergibt sich zu: Er0 = r1 × P × ΔT0 (VI) The from the reference surface F ₀ in the light receiver ( 11 ) _reflected energy E _r0 results in: e r0 = r 1 × P × ΔT 0 (VI)

Gleichung (VI) in Gleichung (V) eingesetzt ergibt:

mit:
F_N = Näpfchenfläche
E_r = von der Bezugsfläche bzw. Restfläche in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtenergie
E_r0 = von der Referenzfläche in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtenergie
y = Ausdehnung der Bezugsfläche in Vorschubrichtung
v = Relativgeschwindigkeit zwischen Bezugsfläche und Lichtband in Gravierrichtung und
ΔT₀ = Meßintervall für Referenzfläche und
ΔT = Meßintervall für Bezugsfläche bzw. RestflächeEquation (VI) inserted in equation (V) yields:

With:
F _N = cell area
E _r = from the reference surface or remaining surface into the light receiver ( 11 ) reflected light energy
E _r0 = from the reference surface into the light receiver ( 11 ) reflected light energy
y = extension of the reference surface in the feed direction
v = relative speed between the reference surface and the light band in the engraving direction and
ΔT ₀ = measuring interval for reference surface and
ΔT = measurement interval for reference surface or remaining surface

Wenn ΔT = ΔT₀ vereinfacht sich Gleichung (VII) zu:

If ΔT = ΔT ₀ , equation (VII) simplifies to:

Falls Druckform (1) und Meßvorrichtung (7) keine Relativbewegung zueinander ausführen, wird die Fläche des Lichtbandes (19) gleich der Bezugsfläche F_B gewählt. In diesem Fall kann die Näpfchenfläche F_N aus der Lichtleistung P, der in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfenen Lichtleistung P_r und aus der Größe der Bezugsfläche F_B nach Gleichung (IX) berechnet werden.If printing form ( 1 ) and measuring device ( 7 ) do not move relative to each other, the surface of the light band ( 19 ) selected equal to the reference surface F _B. In this case, the well area F _{N can be} derived from the light power P that is in the light receiver ( 11 ) reflected light power P _r and calculated from the size of the reference surface F _B according to equation (IX).

Nachfolgend wird eine weitere vorteilhafte Weiterbildung des Verfahrens beschrieben, die darin besteht, daß die ermittelten Näpfchenflächen F_N korrigiert werden, um eventuelle Ungenauigkeiten zu kompensieren.A further advantageous development of the method is described below, which consists in correcting the well areas F _N determined in order to compensate for possible inaccuracies.

Dazu werden in einer Graviermaschine für den Tonwertbereich zwischen "Licht" und "Tiefe" Probenäpfchen mit den Tonwerten entsprechenden unterschiedlich großen Näpfchenflächen F_N in die Druckform (1) graviert und die Näpfchenflächen F_Nmessj der Probenäpfchen "j" beispielsweise mit einem Meßmikroskop ausgemessen. Anschließend werden die entsprechenden Näpfchenflächen F_Nrechi nach dem erfindungsgemäßen Verfahren berechnet. Durch Vergleich von gemessenen Näpfchenflächen F_Nmessj mit berechneten Näpfchenflächen F_Nrechj wird eine Korrekturkurve K_j ermittelt, nach der die berechneten Näpfchenflächen F_Nrechj korrigiert werden, um die korrigierten Näpfchenflächen F_Nkorrj = K_j × F_Nrechj zu erhalten.For this purpose, in an engraving machine for the tonal value range between "light" and "depth", sample cups with cup sizes F _N corresponding to the tonal values are inserted into the printing form 1 ) engraved and the well _surfaces F _{Nmessj of} the sample well "j" measured, for example, with a measuring microscope. The corresponding well areas F _Nrechi are then calculated using the method according to the invention. By comparing the measured well areas F _Nmessj with the calculated well areas F _Nrechj , a correction _curve K _{j is} determined, according to which the calculated well areas F _{Nrechj are} corrected in order to obtain the corrected well areas F _Nkorrj = K _j × F _Nrechj .

2 zeigt den prinzipiellen Aufbau einer elektronischen Graviermaschine und ein prinzipielles Blockschaltbild der Meßvorrichtung (7). 2 shows the basic structure of an electronic engraving machine and a basic block diagram of the measuring device ( 7 ).

Die Graviermaschine ist beispielsweise ein HelioKlischograph^® der Firma Hell Gravure Systems GmbH, Kiel, DE. Ein Druckzylinder (1) wird von einem Rotationsantrieb (13) angetrieben. Ein Gravierorgan (14) mit einem Gravierstichel (15) führt mit Hilfe eines Vorschubantriebes (16) eine Vorschubbewegung in Achsrichtung aus. Der durch ein Graviersteuersignal G gesteuerte Gravierstichel (15) schneidet in Gravierrichtung (5) eine Folge von in dem Gravurraster (4) angeordnete Näpfchen (2) in den Druckzylinder (1), während sich das Gravierorgan (14) zur flächenhaften Gravur in Vorschubrichtung (6) an dem Druckzylinder (1) entlang bewegt. Ein an den Druckzylinder (1) mechanisch angekoppelter Impulsgeber (17) erzeugt eine mit der Drehbewegung des Druckzylinders (1) synchronisierte Graviertaktfolge T_G, deren Takte die Gravierorte für die Näpfchen (2) auf dem Druckzylinder (1) markieren.The engraving machine is, for example, a HelioKlischograph ^® from Hell Gravure Systems GmbH, Kiel, DE. A pressure cylinder ( 1 ) is driven by a rotary drive ( 13 ) driven. An engraving organ ( 14 ) with an engraving stylus ( 15 ) leads with the help of a feed drive ( 16 ) a feed movement in the axial direction. The engraving stylus (controlled by an engraving control signal G ( 15 ) cuts in the engraving direction ( 5 ) a sequence of in the engraving grid ( 4 ) arranged cells ( 2 ) in the impression cylinder ( 1 ) while the engraving device ( 14 ) for extensive engraving in the feed direction ( 6 ) on the pressure cylinder ( 1 ) moved along. One on the impression cylinder ( 1 ) mechanically coupled pulse generator ( 17 ) generates one with the rotary movement of the impression cylinder ( 1 ) synchronized engraving cycle sequence T _G , the cycles of which are the engraving locations for the cells ( 2 ) on the impression cylinder ( 1 ) to mark.

Die Meßvorrichtung (7) weist die Lichtquelle (8) beispielsweise in Form einer Laserdiode, den Lichtempfänger (11) beispielsweise in Form einer Fotodiode, eine Integrationsstufe (18), eine Sample & Hold-Stufe (19), einen Rechner (20) und eine Steuerstufe (21) auf.The measuring device ( 7 ) indicates the light source ( 8th ) for example in the form of a laser diode, the light receiver ( 11 ) for example in the form of a photodiode, an integration stage ( 18 ), a sample & hold level ( 19 ), a calculator ( 20 ) and a tax level ( 21 ) on.

Die beispielsweise als Laserdiode ausgebildete Lichtquelle (8) erzeugt das Lichtbündel (9), dessen Endfläche als Lichtband (10) auf die Referenzfläche F₀ bzw. die Bezugsfläche F_B auf der Oberfläche eines rotierenden Druckzylinders (1) gerichtet ist. In der mit der Graviertaktfolge T_G beaufschlagten Steuerstufe (21) wird ein Steuersignal S₁ erzeugt, mit dem die Lichtquelle (8) in Abhängigkeit von den Gravierorten der zu vermessenden Näpfchen jeweils für die Dauer des Meßintervalls ΔT₀ und des Meßintervalls ΔT zur Beleuchtung der Referenzfläche F₀ und der Bezugsfläche F_B mit dem Lichtband (10) eingeschaltet wird.The light source, for example a laser diode ( 8th ) generates the light beam ( 9 ), the end face of which is a light band ( 10 ) on the reference surface F ₀ or the reference surface F _B on the surface of a rotating printing cylinder ( 1 ) is directed. In the control stage charged with the engraving clock sequence T _G ( 21 ) a control signal S _{1 is} generated with which the light source ( 8th ) depending on the engraving locations of the wells to be measured for the duration of the measuring interval ΔT ₀ and the measuring interval ΔT for illuminating the reference surface F ₀ and the reference surface F _B with the light band ( 10 ) is switched on.

Das von der Referenzfläche F₀ und der Bezugsfläche F_B zurückgeworfene Lichtbündel (9') fällt auf den beispielsweise als Fotodiode ausgebildeten Lichtempfänger (11), mit dem die in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Energie gemessen wird. Die gemessene Energie wird in der Integrationsstufe (18) zeitlich nacheinander über das Meßintervall ΔT₀ und das Meßintervalls ΔT aufintegriert und als Berechnungsgröße E_r0 und E_r für die Näpfchenfläche F_N in der Sample & Hold-Stufe (19) zwischengespeichert. In der Steuerstufe (21) wird eine Sampletaktfolge T_S erzeugt, welche die Zwischenspeicherung in der Sample & Hold-Stufe (19) steuert. In dem Rechner (20) erfolgt dann die Berechnung der Näpfchenflächen F_N.The light beam reflected by the reference surface F ₀ and the reference surface F _B ( 9 ' ) falls on the light receiver designed as a photodiode, for example ( 11 ), with which the light receiver ( 11 ) measured energy is measured. The measured energy is in the integration stage ( 18 ) integrated one after the other over the measuring interval ΔT ₀ and the measuring interval ΔT and as calculation _variable E _r0 and E _r for the well area F _N in the sample & hold stage ( 19 ) cached. In the tax stage ( 21 ) a sample cycle sequence T _{S is} generated, which temporarily stores in the Sample & Hold stage ( 19 ) controls. In the calculator ( 20 ) the cell areas F _N are then calculated.

3 zeigt den Strahlengang des Lichtbündels (9) und des in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfenen Lichtbündels (9') zwischen Meßvorrichtung (7) und Druckform (1). Lichtquelle (8) und Lichtempfänger (11) sind derart zueinander angeordnet, daß das Licht bei einem kleinen Reflexionswinkel in die Ursprungsebene zurück reflektiert wird. Ein Spalt (22) vor dem Lichtempfänger (11) verhindert den Einfall von Streulicht. Zur Formung und Fokussierung des Lichtbandes (10) ist ein Linsensystem vorgesehen, daß aus einer Linse (23) und einer Zylinderlinse (24) besteht. Eine zwischen den Linsen (23, 24) angeordnete bewegliche Linse (25) kann zur Autofokussierung des Lichtbandes (10) verwendet werden. 3 shows the beam path of the light beam ( 9 ) and in the light receiver ( 11 ) reflected light beam ( 9 ' ) between measuring device ( 7 ) and printing form ( 1 ). Light source ( 8th ) and light receiver ( 11 ) are arranged to each other in such a way that the light is reflected back into the original plane at a small angle of reflection. A gap ( 22 ) in front of the light receiver ( 11 ) prevents stray light from entering. For shaping and focusing the light band ( 10 ) a lens system is provided that consists of a lens ( 23 ) and a cylindrical lens ( 24 ) consists. One between the lenses ( 23 . 24 ) arranged movable lens ( 25 ) can be used to auto-focus the light band ( 10 ) be used.

4 zeigt die zeitlichen Verläufe der Graviertaktfolge T_G (Verlauf a), des Steuersignals S₁ für die Meßintervalle ΔT₀ und ΔT (Verlauf b) und der gemessenen reflektierten Energie Er₀ und E_r (Verlauf c). 4 shows the temporal profiles of the engraving cycle sequence T _G (profile a), the control signal S ₁ for the measuring intervals ΔT ₀ and ΔT (profile b) and the measured reflected energy Er ₀ and E _r (profile c).

Kurztitel: "Näpfchenflächen-Messung mit Laserstrahl"

Short title: "Cell area measurement with laser beam"

Claims (16)

Verfahren zur Ermittlung der Flächen eines gravierten Näpfchens bei der Herstellung von Druckformen in einer elektronischen Graviermaschine, dadurch gekennzeichnet, daß – um die zu ermittelnde Fläche (F_N) mindestens eines gravierten Näpfchens (2) ein Oberflächenbereich der Druckform (1) als Bezugsfläche (F_B) festgelegt wird, wobei der Detektionsfaktor (r₁ ) der Oberfläche der Druckform (1), der den Anteil eines Lichtstrahls angibt, der von der Oberfläche der Druckform (1) in einen Lichtempfänger (11) zurückgeworfen wird, und der Detektionsfaktor (r₂) der Näpfchenfläche (F_N) unterschiedlich groß sind, – ein Lichtbündel (9) der Lichtleistung (P) erzeugt und auf die Oberfläche der Druckform (1) fokussiert wird, – die Bezugsfläche (F_B) mit dem Lichtbündel (9) beleuchtet wird, – die in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtleistung (P_r) über die Bezugsfläche (F_B) gemessen und integriert wird und – die Näpfchenfläche (F_N) aus der Lichtleistung (P) des Lichtbündels (9), aus der gemessenen in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfenen Lichtleistung (P_r), aus der Größe der Bezugsfläche (F_B), aus dem Detektionsfaktor (r₁) der Oberfläche der Druckform (1) und aus dem Detektionsfaktor (r₂) der Näpfchenfläche (F_N) berechnet wird.Method for determining the areas of an engraved cell in the production of printing forms in an electronic engraving machine, characterized in that - around the area to be determined (F _N ) of at least one engraved cell ( 2 ) a surface area of the printing form ( 1 ) is defined as the reference surface (F _B ), the detection factor (r ₁ ) of the surface of the printing form ( 1 ), which indicates the proportion of a light beam that is emitted from the surface of the printing form ( 1 ) in a light receiver ( 11 ) is thrown back and the detection factor (r ₂ ) of the well area (F _N ) are of different sizes, - a light beam ( 9 ) of the light output (P) generated and on the surface of the printing form ( 1 ) is focused, - the reference surface (F _B ) with the light beam ( 9 ) is illuminated - which in the light receiver ( 11 ) reflected light power (P _r ) is measured and integrated over the reference surface (F _B ) and - the well surface (F _N ) from the light power (P) of the light beam ( 9 ), from the measured to the light receiver ( 11 ) reflected light power (P _r ), from the size of the reference surface (F _B ), from the detection factor (r ₁ ) of the surface of the printing form ( 1 ) and from the detection factor (r ₂ ) of the well area (F _N ) is calculated. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß – die Oberfläche der Druckform (1) das eingestrahlte Licht vollständig in den Lichtempfänger (11) zurückwirft (r₁ = 1) und die Näpfchenfläche (F_N) kein eingestrahltes Licht in den Lichtempfänger (11) zurückwirft (r₂ = 0) und – die Näpfchenfläche (F_N) nach folgender Gleichung berechnet wird:

A method according to claim 1, characterized in that - the surface of the printing form ( 1 ) the incident light is completely in the light receiver ( 11 ) throws back (r ₁ = 1) and the well surface (F _N ) no incident light into the light receiver ( 11 ) throws back (r ₂ = 0) and - the cell area (F _N ) is calculated according to the following equation:

Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß – die Bezugsfläche (F_B) sich in einer Richtung (5) und einer dazu senkrechten Richtung (6) ausdehnt, – das Lichtbündel (9) auf der Oberfläche der Druckform (1) als Lichtband (10) der Lichtleistung (P) geformt ist, das sich in einer der Richtungen (6) erstreckt und dessen Längsausdehnung die Ausdehnung (y) der Bezugsfläche (F_B) in der einen Richtung (6) definiert, – die Bezugsfläche (F_B) durch eine Relativbewegung zwischen Lichtband (10) und Druckform (1) in der anderen Richtung (5) innerhalb eines Meßintervalls (ΔT) streifenweise von dem Lichtband (10) beleuchtet wird, – die während des Meßintervalls (ΔT) von der Bezugsfläche (F_B) in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtenergie (E_r) gemessen und gespeichert wird und – die Näpfchenfläche (F_N) aus der Lichtleistung (P) des Lichtbandes (10), aus der während des Meßintervalls (ΔT) gemessenen in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfenen Lichtenergie (E_r), aus der Ausdehnung (y) des Lichtbandes (10), aus der Relativgeschwindigkeit (v), aus dem Detektionsfaktor (r₁) der Oberfläche der Druckform (1), aus dem Detektionsfaktor (r₂) der Näpfchenfläche (F_N) und aus der Dauer des Meßintervalls (ΔT) berechnet wird.Method according to claim 1, characterized in that - the reference surface (F _B ) extends in one direction ( 5 ) and a direction perpendicular to it ( 6 ) extends, - the light beam ( 9 ) on the surface of the printing form ( 1 ) as a light band ( 10 ) of the light output (P), which is in one of the directions ( 6 ) extends and the longitudinal extension of which extends the extension (y) of the reference surface (F _B ) in one direction ( 6 ) defined, - the reference surface (F _B ) by a relative movement between the light band ( 10 ) and printing form ( 1 ) in the other direction ( 5 ) within a measuring interval (ΔT) in strips from the light band ( 10 ) is illuminated, - which during the measuring interval (ΔT) from the reference surface (F _B ) into the light receiver ( 11 ) reflected light energy (E _r ) is measured and stored and - the well area (F _N ) from the light output (P) of the light band ( 10 ), from the one measured during the measuring interval (ΔT) into the light receiver ( 11 ) reflected light energy (E _r ), from the extension (y) of the light band ( 10 ), from the relative speed (v), from the detection factor (r ₁ ) of the surface of the printing form ( 1 ), from the detection factor (r ₂ ) of the well area (F _N ) and from the duration of the measuring interval (ΔT) is calculated. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Näpfchenfläche (F_N) nach folgender Gleichung berechnet wird:

Method according to claim 3, characterized in that the well area (F _N ) is calculated according to the following equation:

Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß – die Oberfläche der Druckform (1) alles eingestrahlte Licht in den Lichtempfänger (11) zurückwirft (r₁ = 1) und die Näpfchenfläche (F_N) kein eingestrahlte Licht in den Lichtempfänger (11) zurückwirft (r₂ = 0) und – die Näpfchenfläche (F_N) nach folgender Gleichung berechnet wird:

A method according to claim 3, characterized in that - the surface of the printing form ( 1 ) all incident light into the light receiver ( 11 ) throws back (r ₁ = 1) and the well surface (F _N ) no incident light into the light receiver ( 11 ) throws back (r ₂ = 0) and - the cell area (F _N ) is calculated according to the following equation:

Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausdehnung (x) der Bezugsfläche (F_B) in der anderen Richtung (5) durch die Relativgeschwindigkeit (v) und durch das Zeitintervall (ΔT) festgelegt wird.Method according to one of claims 3 to 5, characterized in that the extension (x) of the reference surface (F _B ) in the other direction ( 5 ) is determined by the relative speed (v) and by the time interval (ΔT). Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß zur Ermittlung des Detektionsfaktors (r₁) der Oberfläche der Druckform (1) mindestens eine Referenzmessung durchgeführt wird, indem – für eine Referenzmessung ein Oberflächenbereich der Druckform (1) als Referenzfläche (F₀) definiert wird, die sich in der einen Richtung (5) und der dazu senkrechten anderen Richtung (6) ausdehnt und deren Längsausdehnung die Ausdehnung (y) des Lichtbandes (10) entspricht, – die Referenzfläche (F₀) durch die Relativbewegung zwischen Lichtband (10) und Druckform (1) in der anderen Richtung (5) innerhalb eines Meßintervalls (ΔT₀) streifenweise durch das Lichtband (10) beleuchtet wird, – die während des Meßintervalls (ΔT₀) von der Referenzfläche (F₀) in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtenergie (E_r0) gemessen wird und – der Detektionsfaktor (r₁) der Oberfläche der Druckform (1) aus der gemessenen in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtenergie (E_r0), aus der Lichtleistung (P) des Lichtbandes (10) und aus dem Zeitintervall (Δ_T0) ermittelt wird.Method according to one of claims 3 to 6, characterized in that to determine the detection factor (r ₁ ) of the surface of the printing form ( 1 ) at least one reference measurement is carried out by - a surface area of the printing form for a reference measurement ( 1 ) is defined as the reference surface (F ₀ ), which is in one direction ( 5 ) and the other direction perpendicular to it ( 6 ) expands and its longitudinal extent extends the extent (y) of the light band ( 10 ) corresponds to - the reference surface (F ₀ ) due to the relative movement between the light band ( 10 ) and printing form ( 1 ) in the other direction ( 5 ) within a measurement interval (ΔT ₀ ) in strips through the light band ( 10 ) is illuminated, - which during the measuring interval (ΔT ₀ ) from the reference surface (F ₀ ) into the light receiver ( 11 ) _reflected light energy (E _r0 ) is measured and - the detection _factor (r ₁ ) of the surface of the printing form ( 1 ) from the measured to the light receiver ( 11 ) _reflected light energy (E _r0 ), from the light output (P) of the light band ( 10 ) and is determined from the time interval (Δ _T0 ). Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Zeitintervalle (ΔT, ΔT₀) zur Messung der von der Bezugsfläche (F_B) und der Referenzfläche (F₀) in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfene Lichtenergien (E_r, E_r0) gleich groß sind.Method according to Claim 7, characterized in that the time intervals (ΔT, ΔT ₀ ) for measuring the from the reference surface (F _B ) and the reference surface (F ₀ ) into the light receiver ( 11 ) _{reflected light energies} (E _r , E _r0 ) are equal. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Referenzmessung einmalig für jede Druckform (1) durchgeführt wird.Method according to Claim 7, characterized in that the reference measurement is made once for each printing form ( 1 ) is carried out. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß – nacheinander die Flächen (F_N) einer Vielzahl von Näpfchen (2) ermittelt werden und – die Referenzmessung jeweils vor der Ermittlung einer Näpfchenfläche (F_N) durchgeführt wird.Method according to claim 7, characterized in that - the surfaces (F _N ) of a multiplicity of cups ( 2 ) are determined and - the reference measurement is carried out in each case before the determination of a well area (F _N ). Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß zur Ermittlung der von der Bezugsfläche (F_B) bzw. der Referenzfläche (F₀) in den Lichtempfänger zurückgeworfenen Lichtenergien (E_r, E_r0) die laufend gemessenen Lichtenergien (E_r, E_r0) innerhalb der Zeitintervalle (ΔT, ΔT₀) integriert werden.Method according to one of Claims 7 to 10, characterized in that, in order to determine the light _energies (E _r , E _r0 ) _thrown back from the reference surface (F _B ) or the reference surface (F ₀ ) into the light receiver, the continuously measured light _energies (E _r , E _r0 ) can be integrated within the time intervals (ΔT, ΔT ₀ ). Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die ermittelten Näpfchenflächen (F_N) zur Erhöhung der Meßgenauigkeit nach einer Korrekturkurve korrigiert werden.Method according to one of claims 1 to 11, characterized in that the determined well surfaces (F _N ) are corrected to increase the measuring accuracy according to a correction curve. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß – für den Tonwertbereich zwischen "Licht" und "Tiefe" Probenäpfchen (2) graviert und deren Näpfchenflächen (FN) ausgemessen werden, – die Näpfchenflächen (F_N) der gravierten Probenäpfchen (2) berechnet werden und – die Korrekturkurve aus dem Vergleich von gemessenen und berechneten Näpfchenflächen (F_N) gewonnen wird.A method according to claim 12, characterized in that - for the tonal range between "light" and "depth" sample cups ( 2 ) engraved and their cell areas (FN) are measured, - the cell areas (F _N ) of the engraved sample cells ( 2 ) are calculated and - the correction curve is obtained from the comparison of measured and calculated well areas (F _N ). Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Näpfchenflächen (F_N) der gravierten Probenäpfchen (2) mit einem Meßmikroskop oder anhand eines mit einer Videokamera aufgenommenen Videobildes ausgemessen werden.Method according to claim 13, characterized in that the well surfaces (F _N ) of the engraved sample wells ( 2 ) be measured with a measuring microscope or on the basis of a video image recorded with a video camera. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß – die Näpfchen (2) auf der Druckform (1) mittels eines Gravierorgans (14) in einer Gravierrichtung graviert werden und das Gravierorgan (14) zur flächenhaften Gravur der Näpfchen (2) eine zur Gravierrichtung senkrechte Vorschubbewegung ausführt, wobei die Gravierrichtung der einen Richtung (5) und die Vorschubrichtung der anderen Richtung (6) entspricht, – die Näpfchen (2) auf der Druckform (1) in Rastermaschen (3) eines orthogonalen Gravurrasters (4) angeordnet sind, das in Gravierrichtung (5) und in Vorschubrichtung (6) ausgerichtet ist, – die minimale Ausdehnung (x_min) der Bezugsfläche (F_B) in Gravierrichtung (5) mindestens so groß wie die Längsdiagonale d_L und die minimale Ausdehnung (ymin) in Vorschubrichtung (6) mindestens so groß wie die Querdiagonale d_Q des zu vermessenden Näpfchens (2) gewählt wird und – die maximalen Ausdehnungen (x_max) und (y_max) der Bezugsfläche (F_B) in Gravierrichtung (5) und Vorschubrichtung (6) kleiner als die Abmessungen der Rastermaschen (3) des Gravurrasters (4) gewählt werden.Method according to one of claims 3 to 14, characterized in that - the cells ( 2 ) on the printing form ( 1 ) by means of an engraving device ( 14 ) are engraved in one direction and the engraving element ( 14 ) for extensive engraving of the cells ( 2 ) executes a feed movement perpendicular to the engraving direction, the engraving direction of one direction ( 5 ) and the feed direction of the other direction ( 6 ) corresponds to - the wells ( 2 ) on the printing form ( 1 ) in grid ( 3 ) of an orthogonal engraving grid ( 4 ) are arranged in the engraving direction ( 5 ) and in the feed direction ( 6 ) is aligned, - the minimum extension (x _min ) of the reference surface (F _B ) in the engraving direction ( 5 ) at least as large as the longitudinal diagonal d _L and the minimum extension (ymin) in the feed direction ( 6 ) at least as large as the transverse diagonal d _{Q of} the well to be measured ( 2 ) is selected and - the maximum dimensions (x _max ) and (y _max ) of the reference surface (F _B ) in the engraving direction ( 5 ) and feed direction ( 6 ) smaller than the dimensions of the grid mesh ( 3 ) of the engraving grid ( 4 ) to get voted. Vorrichtung zur Ermittlung der Flächen gravierter Näpfchen bei der Herstellung von Druckformen in einer elektronischen Graviermaschine, gekennzeichnet durch – eine Lichtquelle (8) zur Erzeugung eines auf die Druckform (1) gerichteten Lichtbündels (9) mit einem auf der Oberfläche der Druckform (1) als Lichtband (10) geformten Strahlquerschnitt, mit dem eine um eine Näpfchenfläche (F_N) definierte Bezugsfläche (F_B) aufgrund einer Relativbewegung zwischen Vorrichtung (7) und Druckform (1) innerhalb eines Zeitintervalls (ΔT) streifenweise beleuchtbar ist, – einem Lichtempfänger (11) zur laufenden Messung der von der Bezugsfläche (F_B) in den Lichtempfänger (11) zurückgeworfenen Lichtenergie (E_r), – einer Integrationsstufe (18) mit nachgeschalteter Sample- and-Hold-Stufe (19) zur Messung und Speicherung der während des Meßintervalls (ΔT) in den Lichtempfänger zurückgeworfenen Lichtenergie (E_r) und – einem Rechner (20) zur Ermittlung der Näpfchenfläche (F_N) aus der Lichtleistung (P) des Lichtbündels (9), aus der während des Meßintervalls (ΔT) gemessenen Lichtenergie (E_r), aus der Ausdehnung des Lichtbandes (10) senkrecht zur Relativbewegung, aus der Relativgeschwindigkeit (v), aus dem Detektionsfaktor (r₁) der Druckform (1) und aus der Dauer des Meßintervalls (ΔT) berechnet wird.Device for determining the areas of engraved cells in the production of printing forms in an electronic engraving machine, characterized by - a light source ( 8th ) to generate a print form ( 1 ) directed light beam ( 9 ) with one on the surface of the printing form ( 1 ) as a light band ( 10 ) shaped beam cross-section with which a reference surface (F _B ) defined around a well surface (F _N ) due to a relative movement between the device ( 7 ) and printing form ( 1 ) can be illuminated in strips within a time interval (ΔT), - a light receiver ( 11 ) for the ongoing measurement of the from the reference surface (F _B ) into the light receiver ( 11 ) reflected light energy (E _r ), - an integration level ( 18 ) with downstream sample and hold stage ( 19 ) for measuring and storing the light energy (E _r ) thrown back into the light receiver during the measurement interval (ΔT) and - a computer ( 20 ) to determine the cell area (F _N ) from the light output (P) of the light beam ( 9 ), from the light energy (E _r ) measured during the measurement interval (ΔT), from the expansion of the light band ( 10 ) perpendicular to the relative movement, from the relative speed (v), from the detection factor (r ₁ ) of the printing form ( 1 ) and is calculated from the duration of the measuring interval (ΔT).