DE10030495A1 - Verfahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Elementen mit einem Grundkörper - Google Patents
Verfahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Elementen mit einem GrundkörperInfo
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Abstract
Bei einem Verfahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Elementen (9) mit einem Grundkörper (8), insbesondere zum Herstellen eines Facettenspiegels (1), z. B. zur Strahlmischung und Feldabbildung für ein EUV-Beleuchtungssystem, werden die einzelnen optischen Elemente (9) auf dem Grundkörper (8, 14) positioniert und anschließend durch einen Galvanisierungsprozeß miteinander verbunden. Alternativ wird die Vielzahl der optischen Elemente auf einer Hilfsstruktur (11) ausgerichtet und anschließend läßt man die optischen Elemente (9) auf ihren Rückseiten unter Bildung einer Tragstruktur (14) als Grundkörper galvanoplastisch aufwachsen.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Verbinden einer Viel
zahl von optischen Elementen mit einem Grundkörper, insbesonde
re zum Herstellen eines Facettenspiegels. Die Erfindung be
trifft auch einen nach dem Verfahren hergestellten Facetten
spiegel.
Aus der US-PS 4 277 141 ist ein Verfahren bekannt, wonach ein
Multifacettenspiegel in mehreren Schritten hergestellt wird,
nämlich in einem ersten Schritt werden Einzelspiegel geschaf
fen, anschließend werden die Einzelspiegel fixiert und ausge
richtet und über einen Klebstoff mit einem Tragkörper verbun
den.
In der US-PS 4 195 913 ist ein Facettenspiegel beschrieben, bei
dem eine Vielzahl von Einzelspiegeln auf einer sphärischen Trä
gerstruktur angeklebt oder angeschraubt wird.
In der DE 197 35 831 A1 ist eine Optikfassung für ein Optikbau
teil beschrieben, wobei ein Innenteil mit einem Außenrahmen
durch eine Mehrzahl von Federgelenkbalken verbunden ist. Die
Federgelenkbalken sind galvanoplastisch hergestellt.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Ver
fahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Elementen der
eingangs erwähnten Art zu schaffen, wobei die Vielzahl der op
tischen Elemente mit hoher Genauigkeit, insbesondere bezüglich
Position und Winkligkeit, auf dem Grundkörper angeordnet werden
können, so daß z. B. Strahlmischungen und Feldabbildungen mit
hoher Präzision erfolgen können.
Der vorliegenden Erfindung liegt auch die Aufgabe zugrunde,
einen Facettenspiegel mit einer Vielzahl von einzelnen opti
schen Spiegelelementen zu bilden, der eine homogene Beleuch
tungsverteilung bzw. homogene Ausleuchtung und eine sehr exakte
Strahlmischung und Feldabbildung erzeugt.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe durch das im kennzeichnenden
Teil von Anspruch 1 genannte Verfahren gelöst. Ein nach dem
erfindungsgemäßen Verfahren hergestellter Facettenspiegel ist
in Anspruch 12 beschrieben.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren können eine Vielzahl ein
zelner optischer Elemente, die völlig identisch ausgebildet
sein können, auf relativ einfache Weise und sehr präzise durch
den Galvanisierungsprozeß miteinander und mit einem Grundkörper
verbunden werden. Da durch den Galvanisierungsprozeß exakt
nachvollziehbare Verhältnisse geschaffen werden, läßt sich auf
diese Weise z. B. ein Facettenspiegel bilden, der die homogene
Ausleuchtung eines Feldes ermöglicht, womit eine entsprechend
gute Strahlmischung und eine exakte Feldabbildung möglich wer
den.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren lassen sich eine Strahlmi
schung bzw. eine Beleuchtung erreichen, die die nachteilige
höhere Lichtintensität im mittleren Bereich beseitigt. Dies ist
insbesondere in der optischen Lithographie mit einem EUV-
Beleuchtungssystem von Vorteil, wobei man z. B. auf dem Reticle
(Maske) eine möglichst große homogen ausgeleuchtete Fläche ha
ben möchte.
Die Realisierung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist durch
zwei Fertigungsprinzipien möglich:
- 1. Die optischen Elemente können durch ein galvanoplastisches
Fügen mit dem Grundkörper verbunden werden, wobei auch der
Grundkörper galvanisch abgeformt werden kann.
Bei einer galvanischen Abformung des Grundkörpers wird die ser so geschaffen, daß die Position und Lage der Facetten, nicht jedoch deren Oberflächengüte, auf dem Tragkörper ent halten ist. Die erforderliche Oberflächengüte wird dann durch die optischen Elemente, z. B. Spiegelelemente, reali siert, die nach der Belegung auf den Grundkörper durch ein galvanisches Zusammenwachsen mit diesem verbunden werden. Durch die galvanische Verbindung wird nicht nur eine präzi se, vollflächige und damit sehr exakte Positionierung und Verbindung erreicht, sondern auch eine sehr gute Wärmelei tung zur schnellen Wärmeabfuhr von den Spiegelelementen in den Grundkörper. - 2. Auf einer Hilfsstruktur, die die Negativform des herzustel
lenden optischen Teiles, z. B. eines Facettenspiegels, dar
stellt, werden die optischen Elemente z. B. durch einen Kle
ber oder ein Harz fixiert, wobei bei der Herstellung eines
Facettenspiegels aus Spiegelelementen deren verspiegelten
Seiten zur Hilfsstruktur gerichtet sind. Durch die Hilfs
struktur wird dabei die exakte Position und Ausrichtung der
optischen Elemente definiert. Durch diese Art der Fixierung
werden auch die zur Hilfsstruktur gerichteten optischen
Flächen, wie z. B. die Spiegelflächen, bei dem nachfolgenden
Galvanisierungsprozeß vor Verunreinigungen geschützt.
Sobald alle Elemente in Position und Lage gebracht sind, wird die komplette Einheit in einem Bade kathodisch ge schaltet und die optischen Elemente werden in einen sich aufbauenden bzw. aufwachsenden Körper eingebunden.
Bei Verwendung von Linsen als optische Elemente werden die se an einer der optischen Flächen fixiert. Die zweite opti sche Fläche muß in diesem Falle dann noch separat vor Ver unreinigungen geschützt werden. Linsen oder nichtleitende Spiegelelemente müssen vorher durch eine entsprechende Be schichtung elektrisch leitend gemacht werden.
In vorteilhaften Weiterbildungen der Erfindung kann vorgesehen
sein, daß in den aufwachsenden Körper während des Galvanisie
rungsprozesses noch Kühl- und/oder Versteifungseinrichtungen
eingebaut werden.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren wird praktisch ein mono
lithischer Körper gebildet, der durch einen guten Wärmeübergang
der einzelnen optischen Elemente zum Grundkörper eine effizien
te Kühlung des optischen Elements ermöglicht.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der
Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen und aus den
nachfolgend anhand der Zeichnung prinzipmäßig beschriebenen
Ausführungsbeispielen.
Es zeigt:
Fig. 1 Prinzipdarstellung eines in einem EUV-Beleuchtungs
system für die Mikrolithographie angeordneten erfin
dungsgemäßen Facettenspiegels,
Fig. 2 ein erstes Herstellungsverfahren für einen Facetten
spiegel,
Fig. 3 ein zweites Herstellungsverfahren für einen Facetten
spiegel, und
Fig. 4 einen Grundkörper für einen Facettenspiegel mit Ver
steifungen in Wabenstruktur und mit Kühlkanälen.
Nachfolgend wird ein Verfahren zur Herstellung eines Facetten
spiegels und ein nach dem Verfahren hergestellter Facettenspie
gel beispielsweise beschrieben. Grundsätzlich ist das Verfahren
jedoch auch zum Verbinden bzw. Zusammenfügen von anderen opti
schen Elementen, wie z. B. Linsen und Linsenarrays, geeignet. In
der Fig. 1 ist die Verwendung eines Facettenspiegels 1 in ei
nem Beleuchtungssystem für die EUV-Lithographie dargestellt.
Das Licht einer Quelle 2, z. B. eines Lasers, wird über einen
Kollektorspiegel 3 auf den Facettenspiegel 1 geworfen, wo es
mit der gewünschten gleichmäßigen Ausleuchtung über einen Um
lenkspiegel 4 einem Reticle (Maske) 5 zugeführt wird. Das Mu
ster des Reticles 5 wird über ein nicht näher dargestelltes
Projektionsobjektiv 6 einem Wafer 7 zur Abbildung des Bildes
vom Reticle 5 zugeleitet.
Die Herstellung des Facettenspiegles 1 mit entsprechend hoher
Präzision und homogener bzw. wunschgemäßer Ausleuchtung erfolgt
gemäß Fig. 2 auf einem Grundkörper 8. Der Grundkörper 8 kann
z. B. auf galvanische Weise abgeformt sein, wobei dessen Funkti
onsfläche bezüglich Krümmung, Position und Lage den Forderungen
entspricht, die an den fertigen Facettenspiegel 1 gestellt wer
den. Lediglich die Oberflächengüte fehlt noch. Die Oberflächen
güte wird nun durch einzelne Spiegelelemente 9 als optische
Elemente realisiert.
Bei der vorliegenden Erfindung werden in Abwandlung einer nor
malen Galvanoformung eine Vielzahl von Spiegelelementen, z. B.
200 bis 300 Stück, vorab durch einen herkömmlichen Fertigungs
prozeß, wie z. B. fräsen, schleifen, polieren, hergestellt. Eine
Vielzahl von gleichen Spiegelelementen wird anschließend auf
dem Grundkörper 8 in Position und Ausrichtung gebracht und dann
durch einen folgenden Galvanisierungsprozeß miteinander verbun
den. Auf diese Weise ergibt sich am Ende ein Facettenspiegel
als praktisch ein einziges monolithisches Teil in äußerst prä
ziser Ausgestaltung.
Durch die Herstellung vieler gleicher Spiegelelemente wird die
Herstellung eines Facettenspiegels weiterhin auch erleichtert,
vereinfacht und kostengünstig gestaltet. Schlechte Qualitäten
von Spiegelelementen können vorher ausgesondert werden bzw. man
kann eine Auswahl von Spiegelelementen 9 treffen, die identisch
oder nahezu identisch sind, insbesondere bezüglich ihrer opti
schen Eigenschaften.
Galvanisierungsprozesse sind allgemein bekannt, weshalb hier
nicht näher darauf eingegangen wird. Grundsätzlich erfolgt dies
dadurch, daß die Spiegelelemente 9 auf dem Grundkörper 8 in
ihre Position gebracht werden und das ganze dann in einem elek
trolytischen Bad kathodisch geschaltet wird und als Anode das
gewünschte Material, z. B. Cu oder Ni, verwendet wird, so daß
die Teile zu einer Einheit zusammenwachsen können. Auf diese
Weise kann man z. B. das Anwachsen einer Kupferschicht mit be
liebiger Dicke erreichen.
Als Materialien für die Spiegel kommen prinzipiell alle leiten
den Materialien oder Materialien, die durch Beschichtung lei
tend gemacht werden können, in Frage. Für EUV-Beleuchtungs
systeme sollte außerdem noch die Polierbarkeit auf die gefor
derte Oberflächengüte (0,2 bis 0,3 nm RMS) gewährleistet sein.
Außerdem sollte das Material gute Wärmeleitfähigkeiten besit
zen. Aus den vorstehend genannten Gründen wird man im allgemei
nen Kupfer mit Nickel beschichtet als Facettenmaterial verwen
den.
Die auf den Grundkörper 8 aufgelegten Spiegelelemente 9 werden
durch ein galvanoplastisches Fügen mit dem Grundkörper 8 ver
bunden, wie dies durch eine Zwischenschicht 10 zwischen Spie
gelelementen 9 und dem Grundkörper 8 angedeutet ist.
Alternativ dazu kann gemäß Fig. 3 eine Hilfsstruktur 11 zur
Positionierung der Spiegelelemente 9 vorgesehen werden. Die
Hilfsstruktur kann zur genaueren Anpassung aus mehreren Einzel
stempeln 12a, 12b, 12c . . . zusammengesetzt sein, die zusammen
eine Oberfläche in Negativform für den herzustellenden Facet
tenspiegel bilden und bei einer sphärischen Fläche entsprechend
auf Abstand zueinander liegen bzw. Zwischenräume aus Platzgrün
den vorsehen.
Die Spiegelelemente werden, z. B. durch einen Kleber oder ein
Harz 13, mit ihrer verspiegelten Seite auf der Hilfsstruktur 11
fixiert. Durch diese Art von Ausrichtung und der Fixierung wer
den die Spiegelflächen der Spiegelelemente 9 beim nachfolgenden
Galvanisierungsprozeß vor Verunreinigungen geschützt. Sind alle
Spiegelelemente 9 in Position und Lage gebracht, wird die kom
plette Vorrichtung in einem elektrolytischen Bad kathodisch
geschaltet und die Elemente werden in einem aufwachsenden Kör
per, der damit eine Tragstruktur 14 für die einzelnen Spiegele
lemente 9 bildet, miteinander verbunden bzw. in den entstehen
den Körper eingebunden.
Bei einer Bildung von Linsenarrays werden ebenfalls die einzel
nen Linsen jeweils mit einer der optischen Flächen auf der
Hilfsstruktur 11 fixiert. Die zweiten optischen Flächen müssen
dann noch separat vor Verunreinigungen geschützt werden. Linsen
oder nicht leitende Spiegelelemente müssen vorher durch eine
entsprechende Beschichtung elektrisch leitend gemacht werden.
Nach Fertigstellung einer genügend starken Tragstruktur 14,
können anschließend noch oder auch parallel mit dem Aufwachsen
Versteifungsstrukturen auf galvanischem Wege eingebaut werden
oder man läßt sie entsprechend aufwachsen. In der Fig. 4 ist
zur Versteifung der Tragstruktur 14 eine Wabenstruktur 15 (ohne
Spiegelelemente) dargestellt. Zusätzlich ist aus der Fig. 4
ersichtlich, daß die Tragstruktur 14 mit einem Kühlsystem in
Form von Kühlkanälen 16 versehen sein kann.
Die Kühlkanäle 16 können während des Galvanisierungsprozesses
eingeformt werden. Hierzu ist es lediglich erforderlich, daß
man entsprechende Wachseinlagen in Schlangenform vorsieht, wel
che anschließend ausgeschmolzen werden.
Eine weitere Lösung kann darin bestehen, daß man ein Kupferrohr
schlangenförmig auflegt und dieses dann beim Galvanisierungs
prozeß einwachsen läßt. Auf diese Weise erhält man dann einen
sehr guten Wärmeübergang aufgrund einer metallischen Verbin
dung.
Selbstverständlich sind auch Kombinationen möglich. Gleiches
gilt z. B. für die Ausbildung der Tragstruktur 14 mit der Waben
struktur 15, in die ebenfalls Kühlkanäle 16 eingeformt sein
können bzw. wobei auch die Waben selbst zur Kühlung dienen kön
nen.
Claims (17)
1. Verfahren zum Zusammenfügen einer Vielzahl von optischen
Elementen (9) auf einem Grundkörper (8), insbesondere zum
Herstellen eines Facettenspiegels, z. B. zur Strahlmischung
und Feldabbildung für ein EUV-Beleuchtungssystem, wobei die
einzelnen optischen Elemente (9) auf dem Grundkörper (8)
positioniert und anschließend durch galvanoplastisches Fü
gen mit dem Grundkörper (8) verbunden werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
Grundkörper (8) galvanisch abgeformt wird.
3. Verfahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Ele
menten mit einem Grundkörper, insbesondere zum Herstellen
eines Facettenspiegels, z. B. zur Strahlmischung und Feldab
bildung für ein EUV-Beleuchtungssystem, wobei die Vielzahl
der optischen Elemente auf einer Hilfsstruktur (11) ausge
richtet wird und wobei man anschließend die optischen Ele
mente (9) auf ihren Rückseiten unter Bildung einer Trag
struktur (14) als Grundkörper galvanoplastisch zusammen
wachsen läßt.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der
aufgewachsene Grundkörper (Tragstruktur 14) mit Versteifun
gen versehen ist.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
Versteifungen (15) auf galvanischem Wege integriert werden.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß zur
Versteifung der aufgewachsenen Körper (Tragstruktur 14) als
Wabenstruktur (15) ausgeführt wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß der aufgewachsene Grundkörper (Tragstruktur
14) mit Kühlkanälen (16) versehen wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die
Kühlkanäle (16) beim Galvanisierungsprozeß durch Kerne mit
eingeformt werden, welche anschließend entfernt werden.
9. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die
Kühlkanäle (16) durch eingelegte Rohre gebildet werden, die
bei dem Galvanisierungsprozeß einwachsen.
10. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Hilfsstruktur (11) aus mehreren Teilen (Stempel 12a, 12b, . . .)
mit dazwischen liegenden Abstands- oder Positionshaltern
gebildet wird.
11. Facettenspiegel zur Strahlmischung und Feldabbildung für
ein Beleuchtungssystem, wobei eine Vielzahl von
Spiegelelementen auf einem Grundkörper angeordnet sind, da
durch gekennzeichnet, daß die Spiegelelemente (9) durch
galvanisches Fügen mit dem Grundkörper (8, 14) verbunden
sind.
12. Facettenspiegel nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß der Grundkörper (8) galvanisch abgeformt ist.
13. Facettenspiegel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Spiegelelemente (9) auf ihren Rückseiten mit einer
Tragstruktur (14) als Grundkörper versehen sind, mit dem
sie galvanoplastisch aufgewachsen sind.
14. Facettenspiegel nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet,
daß der aufgewachsene Körper (Tragstruktur 14) mit Verstei
fungen versehen ist.
15. Facettenspiegel nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet,
daß die Versteifungen auf galvanischem Wege hergestellt
sind.
16. Facettenspiegel nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet,
daß die Versteifungen als Wabenstruktur (15) ausgeführt
sind.
17. Facettenspiegel nach einem der Ansprüche 13 bis 16, dadurch
gekennzeichnet, daß der aufgewachsene Körper (Tragstruktur
14) mit Kühlkanälen (16) versehen ist.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE10030495A DE10030495A1 (de) | 2000-06-21 | 2000-06-21 | Verfahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Elementen mit einem Grundkörper |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10030495A1 true DE10030495A1 (de) | 2002-01-03 |
Family
ID=7646455
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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DE50110380T Expired - Fee Related DE50110380D1 (de) | 2000-06-21 | 2001-05-18 | Verfahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Elementen mit einem Grundkörper |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE50110380T Expired - Fee Related DE50110380D1 (de) | 2000-06-21 | 2001-05-18 | Verfahren zum Verbinden einer Vielzahl von optischen Elementen mit einem Grundkörper |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7034998B2 (de) |
EP (1) | EP1168006B1 (de) |
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EP1168006B1 (de) | 2006-07-05 |
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JP2002071922A (ja) | 2002-03-12 |
US7034998B2 (en) | 2006-04-25 |
US20020021507A1 (en) | 2002-02-21 |
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