DD233644A1 - Anordnung zur interferometrischen ebenheitspruefung technischer oberflaechen - Google Patents

Abstract

Ziel der Erfindung ist es, im laufenden Prozess Werkstuecke, beispielsweise Halbleiterscheiben, zu selektieren, die den Ebenheitsanforderungen nicht entsprechen. Die Aufgabe besteht darin, ein mit einem Rechner verbindbares Pruefinterferometer derart auszubilden, dass ein die Information ueber die Prueflingsflaeche enthaltendes reines Zweistrahlinterferogramm zur Auswertung bereitgestellt wird. Die unter Anwendung eines Mach-Zehnder-Interferometers aufgebaute Anordnung hat eine Laserlichtquelle mit nachgeschaltetem Aufweitungssystem. Ein Teilerspiegel spaltet den Strahlengang in einen Referenz- und einen Prueflingsstrahlengang auf. Beide werden von einem zweiten Teilerspiegel zum Beobachtungsstrahlengang vereinigt. Im Prueflingsstrahlengang sind aufeinanderfolgend angeordnet ein erstes Gitter, der Pruefling und ein zweites Gitter, deren Normalen parallel zueinander verlaufen. Der Strahlengang zwischen dem ersten Gitter und dem Pruefling sowie dem Pruefling und dem zweiten Gitter hat jeweils die Richtung der ersten Beugungsordnung. Zwischen dem zweiten Gitter und dem zweiten Teilerspiegel verlaeuft der Prueflingsstrahlengang in Richtung der Gitternormalen. Im Beobachtungsstrahlengang sind nacheinander angeordnet ein teleskopisches Abbildungssystem, ein Polarisator und ein Matrixempfaenger, der mit einem Rechner verbunden ist. Ein vom Rechner steuerbarer Translator ist mit einem der Gitter gekoppelt zur Einstellung der Referenzphase. Fig. 1

Description

Anwendungsgebiet der Erfindung

Die Erfindung ist anwendbar zur automatischen interferometrischen Ebenheitsprüfung reflektierender glatter technischer Oberflächen, beispielsweise Halbleiterscheiben.

Charakteristik der bekannten technischen Lösungen

Es sind bereits eine Reihe von Verfahren und Anordnungen zur interferometrischen Vermessung von ebenen Oberflächen bekannt. Bekannt ist ein Gitterinterferometer, mit dessen Hilfe sich die effektive Wellenlänge bei der Prüfung beträchtlich vergrößern läßt. Einem Streifenabstand entsprechen Abweichungen von der Größe Gitterkonstante/2 (Birch, K. G.Journal of Physics E., Scientific Instruments 6 (1973] S. 1045).

Der Nachteil dieser Anordnung besteht in dem Problem der projektiven Verzerrung der Objektoberfläche. Bei einem anderen bekannten Gitterinterferometer zur Ebenheitsprüfung von Siliziumscheiben wird das Licht von zwei benachbarten Beugungsordnungen, die beide unter verschiedenen Winkeln auf das Objekt gelangen, zur Interferenz gebracht (Järisch.W., Feinwerktechnik und Meßtechnik 83 [1975] S. 199; DE-AS 2636211/G 01 B, 9/02).

Da der Gangunterschied von dem Winkel abhängt, unter dem das Licht das Interferometer durchläuft, ergeben sich bei der Überlagerung durch die Differenzbildung der Phasen bedeutende Variationsmöglichkeiten der topographischen Empfindlichkeit.

Störend wirken hier Mehrfachüberlagerungen durch den Einfluß von anderen Beugungsordnungen und ähnliche projektive Verzerrungen wie bei der erstgenannten bekannten Anordnung.

Bekannt ist auch eine als „Interferoscope" bezeichnete Anordnung zur Ebenheitsprüfung technischer Oberflächen, z. B. Stahlflächen, bei der die Wellenlängenvergrößerung ebenfalls durch streifende Inzidenz erzeugt wird (Abramson, N., Optik 20 [1969] S. 56).

In dieser Anordnung wird ein 90°-Prisma verwendet, dessen Hypotenuse als Referenzfläche in einem Fizeauinterferometer benutzt wird. Das Licht fällt unter etwa 45° auf die Hypotenuse des Prismas und tritt nahezu streifend aus dieser aus. Nach Reflexion an der Prüflingsoberfläche tritt das Licht in das Prisma wieder ein und verläßt dieses unter 45° zur Hypotenuse senkrecht zur Kathete des Prismas. Durch die Brechung wird der Bündelquerschnitt anamorphotisch verzerrt und bei Wiedereintritt wieder entzerrt.

Der Projektionsfehler beträgt daher nur /2 und nicht z. B. "0. Dies kann als eindeutiger Vorteil gegenüber den bisher genannten Lösungen angeführt werden, da dadurch z. B. eine photoelektrische Erfassung vereinfacht bzw. erst ermöglicht wird. Nachteilig ist, daß das Interferogramm ein Mehrstrahlinterferogramm ist, wobei von der Dicke des Luftspaltes zwischen Prisma und Prüfling abhängige unsymmetrische Interferenzstreifen auftreten können. Weiterhin ist die effektive Wellenlänge λ eine Funktion der Einfallswinkel und der Brechzahlen des Prismas und der Luft. Zwar ist die effektive Wellenlänge in weiten Grenzen wählbar, jedoch tritt dann das Problem auf, daß bei automatischer Erfassung der Interferenzbilder nach bekanntem Verfahren (Bruning et al., Appl. Opt. 13 [1974] 2693; s.a. Gallagher, J.E., u. Herriott, D. R., DD-PS 96779/G01 N, 21/46) die Verschiebung des Referenzspiegels jeweils in weiten Grenzen angepaßt werden muß, da die Referenzphase um eine volle Periode (2n) durchgestimmt werden muß.

Es ist bereits eine Anordnung zur interferometrischen Ebenheitsprüfung technischer Oberflächen vorgeschlagen worden (WP G 01 B/257478.5, Int. Cl. G 01 B, 9/02), die auf dem „Interferoskop" (Abramson) aufbaut, aber einerseits durch optische Filterung den störenden Einfluß von Mehrstrahlinterferenzen vermeidet und andererseits durch ein spezielles nachgeschaltetes Moire-Interferometer die Lösung für elektronische Auswertung zugänglich macht. Die für die automatische Auswertung erforderliche Phasenschiebung läßt sich dabei durch Translation eines niederfrequenten Gitters im nachgeschalteten Moire-Interferometer in der Gitterebene senkrecht zu den Gitterlinien erreichen

Nachteilig bei dieser Lösung ist eine anamorphotische Verzerrung des Prüflings.

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Ziel der Erfindung

Ziel der Erfindung ist es, eine Anordnung zur interferometrischen Ebenheitsprüfung reflektierender technischer Oberflächen verfügbar zu haben, mit der im laufenden Prozeß eine automatische Selektion von Werkstücken möglich ist, die den vorgegebenen Anforderungen an die Ebenheit nicht entsprechen.

Darlegung des Wesens der Erfindung

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein mit einem Rechner verbindbares Prüfinterferometer zur direkten Messung von Ebenheitsabweichungen an technischen Planfiächen derart auszubilden, daß ein die Information über die Prüflingsfläche enthaltendes reines Zweistrahlinterferogramm zur Auswertung bereitgestellt wird, ohne daß eine Anwendung komplexer Entzerrungsverfahren nötig ist, wobei die wirksame effektive Wellenlänge in weiten Grenzen variierbar ist, ohne daß sich die Eichung des Referenzphasenstellgiiedes ändert.

Die Aufgabe wird gelöst durch eine Anordnung unter Anwendung eines von einem Prüflingsarm und einem Referenzarm gebildeten Mach-Zehnder-Interferometers, mit einem Laser als Lichtquelle, dem eine V2-Platte und ein Aufweitungssystem mit Lochblende nachgeschaltet sind, und die erfindungsgemäß in nachstehend beschriebener Weise ausgebildet ist.

Hinter dem Aufweitungssystem befindet sich ein dielektrischer Teilerspiegel, der den Strahlengang in einen Referenz- und einen Prüflingsstrahlengang aufteilt. Der Referenzstrahlengang schließt mit einem weiteren Teilerspiegel ab, der Referenzstrahlengang und Prüflingsstrahlengang zum Beobachtungsstrahlengang vereinigt. Im Prüflingsstrahlengang sind aufeinanderfolgend angeordnet ein erstes Gitter, dessen Normale die Richtung der optischen Achse des Prüflingsstrahlenganges hat, der Prüfling, dessen Normale zur Normalen des ersten Gitters parallel verläuft und der im Strahlengang sitzt, der die Richtung der ersten Beugungsordnung des ersten Gitters hat, ein zweites Gitter, dessen Normale zur Normalen des Prüflings parallel verläuft, und zwar im Strahlengang in Richtung des Reflexionswinkels am Prüfling, wobei die erste Beugungsordnung dieses Gitters die Richtung des genannten Reflexionswinkels hat. Der als Vereinigungsspiegel dienende Teilerspiegel schließt den hinter dem zweiten Gitter in Richtung der Gitternormalen verlaufenden Prüflingsstrahlengang ab. Im Beobachtungsstrahlengang sind nacheinander ein teleskopisches Abbildungssystem, ein Polarisator und ein Matrixempfänger angeordnet.

Als Matrixempfänger können in an sich bekannter Weise CCD-Matrizen, Dioden-Matrizen oder digitalisierte Vidikons eingesetzt werden. Der Prüfling ist möglichst scharf in die Ebene des Matrixempfängers abzubilden. Der Ausgang des Matrixempfängers ist mit einem Rechner verbunden zur Verarbeitung der gewonnenen elektrischen Signale. Die Anordnung enthält ferner einen Phasenschieber, beispielsweise einen Keilkompensator, im Referenzstrahlengang oder einen Translator, vom Rechner steuerbar. Der Translator ist mit einem der Gitter gekoppelt, das in der Gitterebene senkrecht zu den Gitterlinien verschiebbar angeordnet ist.

Bei einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Anordnung sind im Referenzstrahlengang Mittel zum Gangunterschiedsabgleich und zur Wellenf rontfaltung vorgesehen. Dies erlaubt die Verwendung von partiell kohärentem Licht zur Beleuchtung des Interferometers.

Zur Variation der Nachweisempfindlichkeit kann ein durchstimmbarer Laser vor das Interferometer geschaltet und der Prüfling in Richtung seiner Normalen verschiebbar angeordnet sein. Um die Lichtverluste im Prüflingsstrahlengang möglichst klein zu halten, werden zweckmäßigerweise geblazte Gitter verwendet.

Nachstehend soll die Funktionsweise der erfindungsgemäßen Anordnung beschrieben werden.

Das polarisierte Licht des Lasers durchsetzt zunächst die V2-Platte. Durch Drehen dieser Platte um eine zur optischen Achse parallele Achse lassen sich die Intensitäten in den Teilstrahlengängen aneinander anpassen, weil die Anordnung zugleich dielektrische Teilerspiegel und einen Polarisator im Beobachtungsstrahlengang enthält. Das Licht durchsetzt dann das Aufweitungssystem und wird am Teilerspiegel in zwei Bündel aufgespalten. Das Bündel im Referenzstrahlengang trifft dann auf den Vereinigungsspiegel. Das Bündel im anderen Strahlengang trifft senkrecht auf das erste Gitter und verläßt dieses Gitter in Richtung der ersten Beugungsordnung, wobei es anamorphotisch verzerrt wird. Dieses anamorphotisch verzerrte Bündel fällt schräg auf den Prüfling, so daß auf dem Prüfling ein Querschnitt von der Form des ursprünglichen Bündelquerschnitts getroffen wird, obwohl das Bündel schräg auffällt. Das reflektierte, den Prüfling schräg verlassende Bündel gelangt auf das zweite Gitter aus der Richtung der ersten Beugungsordnung und verläßt dieses Gitter wiederum senkrecht, wobei der ursprüngliche, unverzerrte Bündelquerschnitt wieder hergestellt wird.

Das Bündel vereinigt sich nun am Vereinigungsspiegel mit dem Bündel aus dem Referenzstrahlengang zum Beobachtungsbündel, das noch den Polarisator durchsetzt und mit dem Matrixempfänger detektiert wird. Der Polarisator muß so eingestellt werden, daß die Interferenzerscheinung auf dem Empfänger maximalen Kontrast hat. Mit dem Phasenschieber im Referenzstrahlengang oder durch laterale Verschiebung eines der Gitter senkrecht zu den Gitterlinien können verschiedene, beispielsweise vier äquidistante und eine Periode des Interferenzbildes überstreichende Referenzphasenwerte eingestellt werden. Das ist für die Berechnung der Ebenheitsabweichungen aus den Intensitätswerten nach deren A/D-Wandlung und Übernahme in einen Rechner, der zugleich die Einstellung der Referenzphasenwerte steuert, notwendig. Zur Anpassung der Nachweisempfindlichkeit an die zu messenden Prüflingsabweichungen muß der Prüfling unter schräger Inzidenz beleuchtet werden. Dazu wird die Gitterkonstante der identischen Gitter je nach geforderter Empfindlichkeit gewählt. Meistens wird der Prüfling unter nahezu streifender Inzidenz beleuchtet werden, so daß eine Gitterkonstante g, wenig größer als die benutzte Lichtwellenlänge λ, erforderlich ist.

Bekanntlich gilt bei senkrechter Inzidenz für den Beugungswinkel α

g sind = λ (1)

Für die effektive Streifenverschiebung ist die Gangunterschiedsvariation AG aufgrund der Flächenabweichung Δζ(χ,γ) maßgebend

Es gilt

AG = 2Az(x,y)cosa (2)

Mit AG = mXfolgt:

Δζ(χ,ν) = mV2COsa (3)

Im Vergleich mit senkrechter Inzidenz (α = 0) ergibt sich eine effektive Wellenlänge

λ* = Vcosc (4)

Deshalb entspricht der Verschiebung um einen Streifen eine bedeutend größere Flächenabweichung Az als bei senkrechter Inzidenz. Das aber wird für die Prüfung technischer Planfiächen mit Abweichungen Az von einigen μητι gerade benötigt.

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Vorteilhafterweise läßt sich bei gegebener Gitterkonstante g das Interferometer mit einem durchstimmbaren Laser koppeln. Dadurch ergibt sich gem. Gl. (1) eine Variationsmöglichkeit für α:

Sin О = Xvanabel/g (5)

Je nach Vorzeichen der Wellenlängenänderung Δλ ergibt sich eine Vergrößerung (Δλ > 0) oder Verringerung (Δλ < 0) der effektiven Wellenlänge λ*.

Um den Empfindlichkeitsbereich 1 μπν-10μπι zu überdecken reicht/Δλ/ <50nm aus.

Auch die Anwendung von partiell kohärenten Lasern (z. B. Halbleiterlasern) ist möglich. Dazu wird zweckmäßigerweise der Referenzstrahlengang mit einem verschiebbaren Winkelspiegel ausgerüstet und die Anzahl der Spiegelungen in den beiden Teilstrahlgängen gleich gemacht. Dann kann der Gangunterschied abgeglichen werden und eine Wellenfrontfaltung ist vermieden. Durch die automatisierte Auswertung sind die Fehler der Interferenzanordnung in einem ersten Schritt (idealer ebener Spiegel als Prüfling) gewinnbar. Nach Speichern dieser Kalibrierungswerte können beliebige Flächen relativ zu einem Planspiegel geprüft werden.

Ausführungsbeispiele

Die Erfindung soll nachstehend an zwei Ausführungsbeispielen näher erläutert werden. In den zugehörigen Zeichnungen zeigen Fig. 1: die schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen Anordnung mit einem Einmodenlaser als Lichtquelle, ohne

Zwischenschaltung weiterer Bauelemente im Referenzstrahlengang, Fig. 2: die schematische Darstellung einer anderen Anordnung nach der Erfindung mit einem Halbleiterlaser als Lichtquelle, mit Mitteln zum Gangunterschiedsabgleich und zur Wellenfrontfaltung im Referenzstrahlengang.

Bei der Anordnung nach Fig. 1 folgt dem als Lichtquelle dienenden Einmodenlaser EL im Strahlengang eine ^A/2-Platte und ein kollimierendes Aufweitungssystem AS, bestehend aus Objektiv O₁, Lochblende B₁ und Objektiv O₂. Hinter dem Aufweitungssystem AS befindet sich der Teilerspiegel T₁, der den Strahlengang in einen Referenz- und einen Prüflingsstrahlengang aufteilt. Diese beiden Strahlengänge werden am Teilerspiegel T₂ wieder vereinigt. Im Prüflingsstrahlengang folgen nach dem Teilerspiegel T₁ ein Gitter G₁, der Prüfling P, ein Gitter G₂ und der Teilerspiegel T₂. Die optische Achse des Prüflingsstrahlenganges hat vor dem Gitter G₁ die Richtung von dessen Flächennormale, hinter dem Gitter G₁ die Richtung der ersten Beugungsordnung dieses Gitters. Die Normale der Prüflingsfläche P ist der Normalen des Gitters G₁ und der des Gitters G₂ parallel, so daß der Strahlengang hinter dem Prüfling P die Richtung des Reflexionswinkels hat, unter dem entsprechenden Winkel auf G₂ trifft, hinter G₂ aber wieder die Richtung der Flächennormalen dieses Gitters hat und damit dem Strahlengang vor G₁ wieder parallel ist.

Im Referenzstrahlengang folgt dem Teilerspiegel T₁ der Teilerspiegel T₂ ohne Zwischenschaltung weiterer Elemente. Hinter dem Teilerspiegel T₂ sind im Strahlengang ein teleskopisches Abbildungssystem TS, bestehend aus Objektiv O₃, Blende B₂ und Objektiv O₄, ein Polarisator PO und ein Matrixfotodetektor MA angeordnet. Das teleskopische Abbildungssystem ist so angeordnet, daß Prüfling P möglichst scharf in die Ebene des Matrixfotodetektor MA abgebildet wird. Die Anordnung enthält darüber hinaus einen Translator TR (z. B. piezoelektrischer Geber) zur Einstellung der Referenzphase durch Verschiebung des Gitters G₂ senkrecht zur Richtung der Gitterlinien in der Gitterebene und einen Rechner RE, der die Photosignale aus dem Matrixfotodetektor MA nach A/D-Wandlung weiterverarbeitet und den Translator TR steuert.

Die Anordnung nach Fig. 2 ist für die Beleuchtung des Interferometers mit partiell kohärentem Licht ausgelegt. Als Lichtquelle dient ein Halbleiterlaser HLL. Dann folgen ein Objektiv O₁, ein Polarisator PO₁, eine ^A/2-Platte PL, ein Objektiv O₂ und eine rotierende Mattscheibe RMS. Objektiv O₁ und Objektiv O₂ bilden gemeinsam ein Abbildungssystem derart, daß die Stirnfläche des Halbleiterlasers HLL und die Mattscheibe RMS nur ungefähr, nicht aber genau konjugierte Ebenen sind, wobei der objektseitige Fokus des Objektivs O₁ in der Stirnfläche des Halbleiterlasers HLL liegt, so daß der Strahlengang zwischen O₁ und O₂ genähert telezentrisch ist. Die Mattscheibe RMS ist ihrerseits im Fokus eines Objektivs O₃ angeordnet, dem ein Teilerspiegel T₁ folgt, der den Strahlengang in einen Referenz- und einen Prüflingsstrahlengang teilt, die am Teilerspiegel T₂ wieder vereinigt werden. Im Prüflingsstrahlengang folgen auf T₁ ein aufweitender Kollimator K₁, bestehend aus Objektiv O₄ und Objektiv O₅, ein Gitter G₁, der Prüfling P, ein Gitter G₂ und der Teilerspiegel T₂. Gitter G₁, Prüfling P und Gitter G₂ sind zueinander ebenso angeordnet, wie bereits im Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 beschrieben.

Im Referenzstrahlengang befinden sich nacheinander ein Spiegel S₁, ein Dove-Prisma DO (entspricht einer Spiegelung) zur Wellenfrontfaltung, ein Winkelspiegel WS, ein Spiegel S₂, ein aufweitender Kollimator K₂, der aus Objektiv O₆ und Objektiv O₇ besteht und der Teilerspiegel T₂. Der Winkelspiegel WS sitzt auf einem Schlitten, so daß er zum Gangunterschiedsabgleich verschoben werden kann. Hinter dem Teilerspiegel T₂ besteht der Strahlengang aus Polarisator PO₂, einem teleskopischen Abbildungssystem TS, bestehend aus Objektiv O₈ und O₉ und dem Matrixfotodetektor MA.

Wie im Ausführungsbeispiel Fig. 1 beschrieben, enthält auch die Anordnung nach Fig. 2 einen Translator TR zur Einstellung der Referenzphase und einen Rechner RE.

Bei einer in der Zeichnunq nicht dargestellten Variante der Anordnung nach Fig. 2 ist der Translator TR nicht mit dem Gitter G₂, sondern mit dem Winkelspiegel WS zur Einstellung der Referenzphase verbunden. Mit aer erfindungsgernSßen Anordnung lassen sich eine Reihe von Vortei.en erzielen.

Durch die Benutzung von Gittern ist eine unverzerrte Prüflingsabbildung bei gleichzeitiger streifender Prüflingsantastung möglich. Das ermöglicht unabhängig von der eingestellten Empfindlichkeit die Bestimmung globaler Krümmungen durch mathematische Anpassung parabolischer Funktionale.

Die Wellenlänge durchstimmbarer Laser läßt sich auf einfache und relativ genaue Weise einstellen. Damit kann man ohne Änderung des interferometrischen Aufbaues die Nachweisempfindlichkeit variieren.

Wenn der Gangunterschied in der Anordnung abgeglichen ist, lassen sich auch partiell kohärente Laser z. B. Halbleiterlaser, einsetzen. Diese Laser emittieren im nahen Infrarot (800-900nm). Dort liegt das Empfindlichkeitsmaximum der Silizium-Empfänger und außerdem lassen sich Gitter größerer Gitterkonstante, die leicht herstellbar sind, verwenden. Mit Halbleiterlasern ist in kleinen Volumina ausreichende Leistung (einige mW) erzeugbar. Der Abstimmbereich (== 10 nm) dieser Laser reicht für die vorliegenden Zwecke aus.

Das erfindungsgemäße Prüfinterferometer, mit einem Rechner gekoppelt, erlaubt im laufenden Prozeß eine automatische Selektion von Werkstücken, die den vorgegebenen Anforderungen an die Ebenheit nicht entsprechen. Es ist insbesondere einsetzbar zur Prüfung von Halbleiterscheiben.

Claims (4)

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   Erfindungsanspruch:

   1. Anordnung zur interferometrischen Ebenheitsprüfung technischer Oberflächen unter Anwendung eines von einem Prüflingsarm und einem Referenzarm gebildeten Mach-Zehnder-Interferometers, mit einem Laser als Lichtquelle, dem eine Ѵг-Platte und ein Aufweitungssystem mit Lochblende nachgeschaltet sind, gekennzeichnet dadurch, daß sich hinter dem Aufweitungssystem (AS) ein Teilerspiegel (T₁) befindet, der den Strahlengang in einen Referenz- und einen Prüflingsstrahlengang aufteilt, daß der Referenzstrahlengang mit einem Teilerspiegel (T₂) abschließt, und im Prüflingsstrahlengang aufeinanderfolgend angeordnet sind ein erstes Gitter (G₁), dessen Normale die Richtung der optischen Achse des Prüflingsstrahlenganges hat, der Prüfling (P), dessen Normale zur Normalen des ersten Gitters (Gi) parallel verläuft und der im Strahlengang sitzt, der die Richtung der ersten Beugungsordnung des ersten Gitters (G₁) hat, ein zweites Gitter (G₂), dessen Normale zur Normalen des Prüflings (P) parallel verläuft, im Strahlengang in Richtung des Reflexionswinkels am Prüfling (P), wobei die erste Beugungsordnung dieses Gitters (G₂) die Richtung des genannten Reflexionswinkels hat, und der Teilerspiegel (T₂), der den hinter dem zweiten Gitter (G₂) in Richtung der Gitternormalen verlaufenden Prüflingsstrahlengang abschließt und diesen mit dem Referenzstrahlengang zum Beobachtungsstrahlengang vereinigt, daß im Beobachtungsstrahlengang nacheinander ein teleskopisches Abbildungssystem (TS), ein Polarisator (PO) und ein Matrixempfänger (MA) angeordnet sind, wobei der Prüfling (P) möglichst scharf in die Ebene des Matrixempfängers (MA) abgebildet wird, daß der Ausgang des Matrixempfängers (MA) mit einem Rechner (RE) verbunden ist und ein mit dem zweiten Gitter (G₂) gekoppelter und vom Rechner (RE) steuerbarer Translator (TR) vorgesehen ist zur Verschiebung des zweiten Gitters (G₂) in der Gitterebene senkrecht zu den Gitterlinien.
2. 2. Anordnung nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß im Referenzstrahlengang Mittel zum Gangunterschiedsabgleich und zur Wellenfrontfaltung vorgesehen sind.
3. 3. Anordnung nach Punkt 1 oder 1 und 2, gekennzeichnet dadurch, daß ein durchstimmbarer Laser zur Variation der Nachweisempfindlichkeit vor das Interferometer geschaltet wird und der Prüfling in Richtung seiner Normalen verschiebbar ist.
4. 4. Anordnung nach Punkt 1 bis 3, gekennzeichnet dadurch, daß die verwendeten Gitter für eine erste Beugungsordnung geblazt sind.

   Hierzu 2 Seiten Zeichnungen