DD201107A1 - UV CADMIUM LOW PRESSURE SPRAYER FOR IRRADIATOR PURPOSES - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf eine elektrische Strahlungsquelle, die bei 326,1 nm eine besonders hohe Strahlungsausbeute erreicht und ohne Gefahr schaedigender Nebenwirkungen fuer den Menschen in Medizin und Technik eingesetzt werden kann. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die starke Resonanzlinie des Kadmiums bei 326,1 nm fuer Strahler effektiv zu nutzen. Erfindungsgemaess wird die Aufgabe dadurch geloest, dass neben Kadmium auch ein die Entladung anregendes Element, wie Quecksilber in Mengen von 0,01 Mikro/cm&exp3!-1 mg/cm&exp3! vorhanden ist und das folgende Parameter eingehalten sind: (Formel), wobei I fuer die Entladungsstromstaerke und R&ind1! fuer den Innenrohrdurchmesser steht und das Produkt aus Innenrohrdurchmesser und Kadmiumpartialdruck zwischen 0,07 cm (Formel), der Edelgasdruck im Bereich von (Formel) und die Kadiumtemperatur im Bereich von (Formel) liegt.The invention relates to an electric radiation source which achieves a particularly high radiation yield at 326.1 nm and can be used without risk of damaging side effects for humans in medicine and technology. The invention has for its object to effectively use the strong resonance line of cadmium at 326.1 nm for emitters. According to the invention, the object is achieved in that, in addition to cadmium, a discharge-stimulating element, such as mercury, in amounts of 0.01 micro / cm.sup.-1 mg / cm.sup.-3 exp.! is present and the following parameters are met: (formula), where I for the discharge current and R & ind1! is the inner tube diameter and the product of inner tube diameter and cadmium partial pressure between 0.07 cm (formula), the noble gas pressure in the range of (formula) and the kadium temperature in the range of (formula).
Description
2 3524912 352491
UV-Kadmium-Niederdruck-Strahler für Bestrahlungszwecke Anwendungsgebiet der Erfindung UV-cadmium low-pressure radiator for irradiation Field of application of the invention
Die Erfindung betrifft eine elektrische UV-Strahlungsquelle, die sowohl in der Medizin zur Therapie von Hautkrankheiten, z.B. der Schuppenflechte psoriasis vulgaris und für kosmetische Zwecke als auch in der Technik z.B. zur Lacktrocknung eingesetzt werden kann·The invention relates to a source of electric UV radiation used both in medicine for the treatment of skin diseases, e.g. Psoriasis vulgaris psoriasis and for cosmetic purposes as well as in the art e.g. can be used for paint drying ·
Bekannt ist, daß bei der Behandlung der Schuppenflechte ein hoher therapeutischer Effekt dann erreicht werden kann, wenn eine Bestrahlung des Patienten mit Strahlung im UV-A-Spektralbereich mit schwerpunktmäßiger Emission um 325 nm vorgenommen wird. Um die Gefahr des Auftretens schädigender Nebenwirkungen für den Patienten auszuschließen, sollen Wellenlangen unterhalb 320 nm vermieden werden und die Strahlung möglichst innerhalb des sog, "Therapeutischen Fensters" zwischen 323 und 333 nm liegen.It is known that in the treatment of psoriasis, a high therapeutic effect can be achieved if the patient is irradiated with radiation in the UV-A spectral range with a focus emission around 325 nm. In order to exclude the risk of the occurrence of harmful side effects for the patient, wavelengths below 320 nm should be avoided and the radiation should be within the so-called "therapeutic window" between 323 and 333 nm.
3QROY. 1931*9745643QROY. 1931 * 974 564
2 35 2Λ9 12 35 2Λ9 1
Bisher bekannte Lösungen zur Strahlungserzeugung innerhalb des "Therapeutischen Fensters" beruhen auf der Anwendung der Halogenmetalldampf-Hochdruckentladung mit Füllgaszusätzen wie Kupfer- oder Silberhalogenid (OD 141733), Lutetiumverbindungen (WP 144479), Indium- und Thalliumjodld (WP 146549), Eisen-Galliumjodid oder Gallium-Indium-Samarium-Bleijodid (DE OS - 2531876).Previously known solutions for generating radiation within the "therapeutic window" are based on the application of the metal halide high-pressure discharge with filler gas additives such as copper or silver halide (OD 141733), lutetium compounds (WP 144479), indium and Thalliumjodld (WP 146549), iron gallium iodide or Gallium indium samarium lead iodide (DE OS - 2531876).
Die Strahlung dieser Entladungssysteme wird leider auch wesentlich in Teilen des Spektrums emittiert, von denen eine starke Belastung oder Gefährdung des bestrahlten Objektes ausgeht, dene schädliche Strahlung muß deshalb in geeigneter und aufwendiger Weise entfernt werden. Dadurch wird die Effektivität der Strahlungsquelle nicht nur gemindert, sondern es bedarf auch eines hohen technischen Aufwandes bei der Filterung und Temperaturabführung in dem der Strahlungsquelle angepaßten Bestrahlungsgerät.The radiation of these discharge systems is unfortunately also emitted substantially in parts of the spectrum, from which a strong load or endanger the irradiated object, the harmful radiation must therefore be removed in a suitable and expensive manner. As a result, the effectiveness of the radiation source is not only reduced, but it also requires a high technical effort in the filtering and temperature dissipation in the irradiation device adapted to the radiation source.
Auch die Messung der innerhalb und außerhalb des "Therapeutischen Fensters" emittierten Strahlung ist bei den derzeit bekannten Strahlungsquellen aufwendig, da sich eine Vielzahl von Linien und ein Kontinuum überlagern.The measurement of the radiation emitted inside and outside of the "therapeutic window" is complicated in the currently known radiation sources, as superimpose a variety of lines and a continuum.
Auch die bekannte Kadmium-Niederdruck-Entladungslampe, die unter Verwendung von Leuchtstoffen zur Erzeugung von sichtbarem Licht dienen kann, (DD-WP 105 937, Franz.Pat. 1488562), ist ohne besondere Maßnahmen nicht in der Lage, eine genügend starke Emission der langwelligen Cd-Resonanzlinie bei 326,1 nrr zu gewährleisten und zugleich unerwünschte Strahlungsanteile zu unterdrücken.The known cadmium low-pressure discharge lamp, which can be used to produce visible light using phosphors (DD-WP 105 937, Franz.Pat. 1488562), is not able without special measures, a sufficiently strong emission of long-wave Cd resonance line at 326.1 nrr and at the same time to suppress unwanted radiation components.
Läßt man nämlich bei dieser Lampe nur den Leuchtstoff weg und fertigt Innen- und Außenkolben aus Kieselglas, so fehlt in der Leistungsbilanz des Entladungsrohres die Wärme, die vorher bei der Strahlungstransformation im Leuchtstoff freiIf, in this lamp, one removes only the phosphor and produces inner and outer flasks of silica glass, the heat that was previously released in the phosphor transformation in the phosphor is missing from the power balance of the discharge tube
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wurde und wesentlich zu der notwendigen Aufheizung des Entladungsrohres beitrug.was and contributed significantly to the necessary heating of the discharge tube.
Daraue ergeben sich zusätzliche Anforderungen an die Vorrichtung zum Wärmestau, an die Abmessungen des Entladungsrohres, an die Entladungsstromstärke, an die Anregungsbedingungen des Kadmiums und an die Durchlässigkeit der IR-reflektierenden Schichten. Außerdem tritt durch die Kieselglasrohre die schädliche Strahlung der 228,8 nm-Cd-Linie hindurch.This results in additional requirements for the device for heat accumulation, the dimensions of the discharge tube, the discharge current, the excitation conditions of cadmium and the permeability of the IR-reflecting layers. In addition, the harmful radiation of the 228.8 nm Cd line passes through the silica glass tubes.
Strahlung, die für chemische Reaktionen, z.B. zur Lackhärtung, eingesetzt werden soll, muß, um die für chemische Reaktionen notwendige Energie bereitstellen zu können, im nahen UV-Gebiet liegen, jedoch größer als 300 nm sein. Noch kurzwelligere Strahlung unter 300 nm dringt nicht mehr tief genug in die Lackoberfläche ein.Radiation responsible for chemical reactions, e.g. for paint curing, in order to provide the necessary energy for chemical reactions can be in the near UV region, but be greater than 300 nm. Even short-wave radiation below 300 nm does not penetrate deep enough into the paint surface.
Ziel der Erfindung ist es, eine hocheffektive Strahlungsquelle zu entwickeln, dieThe aim of the invention is to develop a highly effective radiation source, the
- ihre Energie überwiegend im "Therapeutischen Fenster" abstrahlt- their energy radiates predominantly in the "therapeutic window"
- keine oder vernachlässigbere Strahlungsanteile unterhalb 323 nm nach außen abstrahlt- radiates no or negligible radiation components below 323 nm to the outside
-gewährleistet, daß die oberhalb des "Therapeutischen Fensters" emittierte Strahlung genügend weit von diesem Fenster entfernt ist, oder deren Intensität vernachlässigbar gering ist- Ensures that the radiation emitted above the "Therapeutic Window" is sufficiently far away from this window, or that its intensity is negligible
- das zu bestrahlende Objekt und die Umwelt nicht unzumutbar belastet.- The object to be irradiated and the environment is not unreasonably burdened.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die starke Resonanzlinie des Kadmiums bgi 326,1 nm für Strahler effektiv zu nutzen.The invention has for its object to effectively use the strong resonance line of the cadmium bgi 326.1 nm for radiators.
35 2 49 135 2 49 1
3 vorzugsweise Quecksilber in Mengen von 0,01 ,ug/cm bis3 preferably mercury in amounts of 0.01 μg / cm to
1 mg/cm , hinzugefügt wird· Optimale Strahlungsbedingungen werden erreicht, wenn die folgenden Parameter eingehalten werrden:1 mg / cm, is added · Optimal radiation conditions are achieved if the following parameters are met:
- Für den Quotienten aus Entladungsstromstärke I und Innenrohrradius R, muß gelten- For the quotient of discharge current I and inner tube radius R, must apply
1/R1 - 3 A/cm1 / R 1 - 3 A / cm
- FQr das Produkt aus Innenrohrradius und Kadmium-Partialdruck ρ «j muß gelten- For the product of inner tube radius and cadmium partial pressure ρ «j must apply
0*07 cm Pa - Ri ' Po Cd " 7 cm Pa* dabei liegt die Kadmium-Temperatur tC(. im Bereich0 * 07 cm Pa - R i 'Po Cd " 7 cm Pa * while the cadmium temperature t C ( in the range
250 0C - tcd * 330 0C250 0 C - t cd * 330 0 C
- Zur Einstellung der Leistungsaufnahme und guter Zündeigenschaften werden die Edelgase He, Ne, Ar, Kr oder Xe oder Gemische derselben eingesetzt· Für den Druck ρ der Edelgase muß gelten- For adjusting the power consumption and good ignition properties, the noble gases He, Ne, Ar, Kr or Xe or mixtures thereof are used · For the pressure ρ of the noble gases must apply
10 Pa - ρ i- 1,5 kPa.10 Pa - ρ i - 1.5 kPa.
Das Austreten der schädlichen 228,8 nm-Strahlung wird durch Aufbringen einer geeigneten IR-reflektierenden Schicht, vorzugsweise aus In2^3 un<Voder Verwendung eines diese Strahlung absorbierenden Außenrohres verhindert. Der oder die Außenkolben müssen in jedem Fall für die 326,1 nm-Strahlung durchlässig sein. Für das Entladungsgefäß werden Nafestes Verbundglas, Keramik oder vorzugsweise Kieselglas eingesetzt.The leakage of the harmful 228.8 nm radiation is prevented un <Voder use of these radiation absorbing outer tube by applying a suitable infra-red reflective layer, preferably of In 2 ^. 3 The outer bulb (s) must in any case be transparent to the 326.1 nm radiation. For the discharge vessel Nafestes laminated glass, ceramic or preferably silica glass are used.
Da die für die Emission der 326,1 nm-Cd-Linie optimale Temperatur zwischen 250 und 320 0C liegt, ist durch eine besondere thermische Isolierung ein Wärmestau zu erzeugen, der die produzierte Eigenwärme der Entladung zur Erzeugung der notwendigen Temperatur ausnutzt.Since the optimum for the emission of the 326.1 nm line-Cd-temperature 250-320 0 C, to be generated which takes advantage of the natural heat of the discharge for generating the necessary temperature produced by a special thermal insulation, a heat accumulation.
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Der Wärmestau wird durch ein einfach- oder doppelwandiges Entladungsgefäß mit Außenkolben realisiert, dessen Wände teilweise mit spiegelnd reflektierenden Oberflächenschichten vorzugsweise aus Aluminium, Silber, o.a. und/oder teilweise mit Infrarot-reflektierenden Schichten z.B. Ino0Q bedeckt sind. Der Zwischenraum ist evakuiert, mittels Gettersubstanz wird für ein gutes Vakuum gesorgt. Um die Wärmeverluste zu verringern, werden die Enden der Lampe vollständig verspiegelt.The heat build-up is realized by a single-walled or double-walled discharge vessel with outer bulb, the walls of which are partially covered with specularly reflecting surface layers, preferably of aluminum, silver, and / or partially with infrared-reflecting layers, for example In o 0 Q. The gap is evacuated, with Gettersubstanz is provided for a good vacuum. To reduce the heat losses, the ends of the lamp are completely mirrored.
Durch Anbringen von Sicken im Entladungsgefäß und/oder durch eine elliptische Form des Entladungsgefäßes wird einer Cd-Verarmung bzw. Cd-Ablagerung an unerwünschten Stellen vorgebeugt, als zusätzliche Maßnahme zur Temperaturstabilisierung im Entladungsgefäß, kann vor der Strahlenaustrittsöffnung ein Heizdraht, der gleichzeitig die Funktion eines Vorwiderstandes übernimmt, angeordnet werden.By attaching beads in the discharge vessel and / or by an elliptical shape of the discharge vessel, a Cd depletion or Cd deposition is prevented at undesirable locations, as an additional measure for temperature stabilization in the discharge vessel, in front of the beam outlet opening a heating wire, the same time the function of Vorwiderstandes takes over, be arranged.
Der beschriebene Strahler erreicht bei Betrieb am 220 V-Netz mit induktivem Vorschaltgerät bei einer Leistungsaufnahme von 50 W nach ca. 5 Minuten einen Entladung6zustand, bei dem vorwiegend die 326,1 nm-Strahlung emittiert wird.When operated on the 220 V mains with an inductive ballast, the described emitter reaches a discharge state at a power consumption of 50 W after approximately 5 minutes, during which mainly the 326.1 nm radiation is emitted.
Strahlungsquellen gemäß der Erfindung emittieren den größten Teil ihrer Strahlung bei 326,1 nm, lassen kurzwellige Strahlung nicht austreten und geben nur in geringem Maße Wärme an die Umgebung ab. Sie sind damit hervorragend geeignet z.B. für den Einsatz zur Behandlung von ausgewählten Hautkrankheiten - etwa der Schuppenflechte - mittels der Photo-Therapie, für kosmetische Bestrahlungen und für die Lackhärtung.Radiation sources according to the invention emit most of their radiation at 326.1 nm, can not escape short-wave radiation and give only a small amount of heat to the environment. They are thus outstandingly suitable, e.g. for use in the treatment of selected skin diseases - such as psoriasis - by means of photo-therapy, for cosmetic irradiation and for lacquer hardening.
Bei der Behandlung von Hautkrankheiten ergibt sich gegenüber herkömmlichen Phototherapieverfahren der Vorteil, daß die erkrankte Haut vorher nicht sensibilisiert werden muß.In the treatment of skin diseases results over conventional phototherapy method the advantage that the diseased skin must not be previously sensitized.
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Durch den verstärkten Einsatz von Kadmium anstelle von Quecksilber ergibt sich wegen der geringen Giftigkeit und dem bei Zimmertemperatur zu vernachlässigenden Dampfdruck eine Minderung der Umweltbelastung, insbesondere bei der Herstellung der Strahler·The increased use of cadmium instead of mercury results in a reduction in the environmental impact, in particular in the production of the radiators, owing to the low toxicity and the vapor pressure which can be neglected at room temperature.
näher erläutert werden. In den dazugehörigen Zeichnungen zeigenbe explained in more detail. In the accompanying drawings show
Fig. 1: Einen zweiseitig gesockelten UV-Kadmium-Nieder-» druck-Strahler, dessen Entladungsgefäß einen kreisförmigen Querschnitt hat,1 shows a double-capped UV-cadmium low-pressure radiator whose discharge vessel has a circular cross-section,
Fig. 2: Einen zweiseitig gesockelten UV-Kadmium-Niederdruck-Strahler, dessen Entladungsgefäß einen elliptischen Querschnitt hat und/oder mit eingeschlossenen Sicken versehen ist.Fig. 2: A double-capped UV-cadmium low-pressure radiator whose discharge vessel has an elliptical cross-section and / or is provided with trapped beads.
Fig. 3: Einen einseitig gesockelten UV-Kadmium-Niederdruck-Strahler mit einem U-förmig gebogenen Entladungsgefäß.Fig. 3: A single-ended UV-cadmium low-pressure radiator with a U-shaped bent discharge vessel.
Fig. 1 zeigt einen UV-Kadmium-Niederdruck-Strahler, dessen Entladungsgefäß 1 aus fur die Cd-Wellenlänge 326,1 nm durchlässigem Material, z.B. Rasotherm, Na-festem Verbundglas, spezieller Keramik oder Kieselglas besteht, einen Innendurchmesser von 5 - 22rnm aufweist und eine Brennspannung von 70 - 110 V hat sowie eine Füllung von 1 - 10 mg Kadmium, 0,1 ,ug - 10 mg Quecksilber und 10 Pa - 1,5 kPa Neon enthält.Fig. 1 shows a UV-cadmium low-pressure radiator whose discharge vessel 1 is made of material permeable to the Cd wavelength 326.1 nm, e.g. Rasotherm, Na-solid laminated glass, special ceramic or silica glass, has an inner diameter of 5 - 22rnm and has a burning voltage of 70 - 110 V and a filling of 1 - 10 mg cadmium, 0.1 ug - 10 mg of mercury and 10 Pa - contains 1.5 kPa neon.
Die Elektroden 2 des Entladungsgefäßes 1 sind mit einer Elektrodenabschirmung 3 versehen, die die Elektroden 2 ringförmig umschließt.The electrodes 2 of the discharge vessel 1 are provided with an electrode shield 3, which encloses the electrodes 2 in an annular manner.
Auf der äußeren Oberfläche des Entladungsgefäßes 1 ist eine IR-reflektlerende Schicht 4 z.B. aus In3O3 mit hoher Durchlässigkeit für die 326,1 nm-Resonanzlinie angebracht.On the outer surface of the discharge vessel 1, an IR-reflecting layer 4 made of, for example, In 3 O 3 having high transmittance for the 326.1 nm resonance line is mounted.
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Das Entladungsgefäß 1 befindet sich in einem Außenkolben 6 aus einem für die 326,1 nra-Strahlung durchlässigen Material z.B. Rasotherro, Keramik, Plaste,. Kieselglas mit einem Außendurchmesser von 10 bis 38 mm. Der Außenkolben 6 ist. auf 1/2 - 7/8 seines Umfangs und an den Enden auf der Innenseite mit einer spiegelnd reflektierenden Schicht 7 z. B. Aluminium, Silber o. ä. belegt.The discharge vessel 1 is located in an outer bulb 6 made of a 326.1 nra-radiation permeable material, e.g. Rasotherro, ceramics, plastics ,. Silica glass with an outside diameter of 10 to 38 mm. The outer bulb 6 is. to 1/2 - 7/8 of its circumference and at the ends on the inside with a specularly reflective layer 7 z. As aluminum, silver o. Ä.
Mindestens auf der verbleibenden Innenfläche ist eine IR-reflektierende und die 325,1 nm-Strahlung durchlassende Schicht aufgebracht. Der Außenkolben 6 hat an den Enden jeweils einen Zweistiftsockel 8, der für ausreichende Kontaktierung und die richtige Orientierung der Ausstrahlungsrichtung sorgt. Ober die Stromzuführungen 9, 10 ist das Entladungsgefäß 1 elektrisch mit den Sockelstiften 11, 12 verbunden, wobei die Stromzuführungen oft außerhalb des Entladungsgefäßes mindestens auf einer Seite als Temperaturkompensationsglied 5 ausgestaltet sind. Der Außenkolben 6 ist evakuiert.At least on the remaining inner surface, an IR-reflective and the 325.1 nm radiation transmitting layer is applied. The outer bulb 6 has at the ends in each case a two-pin base 8, which ensures sufficient contact and the correct orientation of the emission direction. Via the power supply lines 9, 10, the discharge vessel 1 is electrically connected to the base pins 11, 12, wherein the power supply lines are often configured outside of the discharge vessel at least on one side as a temperature compensation element 5. The outer bulb 6 is evacuated.
Figur 2 zeigt einen UV-Kadmium-Niederdruck-Strahler, dessen Entladungsgefäß 1 einen elliptischen Querschnitt hat und/ oder mit eingeschlossenen Sicken 13 versehen ist. Die eingeschlossenen Sicken 13 im Entladungsgefäß 1 sollen einer Undefinierten Cd-Ablagerung im Rohr entgegenwirken. Bei Anwendung eines elliptischen Querschnittes liegt die große Hauptachse in der Zeichenebene. Das Entladungsgefäß 1 ist auf 1/2 bis 7/8 seines Umfanges außen mit einer spiegelnd reflektierenden Schicht z.B. aus Aluminium, Silber oder ähnlichem belegt.FIG. 2 shows a UV-cadmium low-pressure radiator whose discharge vessel 1 has an elliptical cross-section and / or is provided with enclosed beads 13. The enclosed beads 13 in the discharge vessel 1 are intended to counteract an undefined Cd deposit in the pipe. When using an elliptical cross-section, the major axis lies in the plane of the drawing. The discharge vessel 1 is exposed to 1/2 to 7/8 of its circumference externally with a specularly reflective layer, e.g. made of aluminum, silver or similar.
Figur 3 zeigt einen UV-Kadroium-Niederdruck-Strahler mit einem U-förmig gebogenen Entladungsgefäß 1, das in einem zylindrischen Außenkolben 6 untergebracht ist. Die Kontaktierung erfolgt über einen Lampensockel 14 z.B. E 40.Figure 3 shows a UV Kadroium low-pressure radiator with a U-shaped discharge vessel 1, which is housed in a cylindrical outer bulb 6. The contacting takes place via a lamp socket 14, e.g. E 40.
Claims (7)
der Edelgasdruck im Bereich von
10 Pa * ρ ^ 1,5 kPa und
die Kadmiumtemperatur im Bereich von 250 0C *-t d * 330 0C liegt sowie das Austreten der Strahlung 228,8 nm durch das Anordnen einer IR-reflektierenden Schicht, beispielsweise In3O3 und/oder eines diese Strahlung absorbierenden Außenkolben zu verhindern ist.0.07 cm Pa £ P. ^ 7 cm Pa
the noble gas pressure in the range of
10 Pa * ρ ^ 1.5 kPa and
cadmium temperature in the range of 250 0 C * -t d * 330 0 C as well as the leakage of the radiation 228.8 nm by placing an IR-reflective layer to prevent, for example, In 3 O 3, and / or this radiation absorbing outer bulb is.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD23524981A DD201107A1 (en) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | UV CADMIUM LOW PRESSURE SPRAYER FOR IRRADIATOR PURPOSES |
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Publications (1)
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ID=5535010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DD23524981A DD201107A1 (en) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | UV CADMIUM LOW PRESSURE SPRAYER FOR IRRADIATOR PURPOSES |
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DD (1) | DD201107A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998002902A1 (en) * | 1996-07-11 | 1998-01-22 | Philips Electronics N.V. | High-pressure discharge lamp |
-
1981
- 1981-11-30 DD DD23524981A patent/DD201107A1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998002902A1 (en) * | 1996-07-11 | 1998-01-22 | Philips Electronics N.V. | High-pressure discharge lamp |
US5811933A (en) * | 1996-07-11 | 1998-09-22 | U.S. Philips Corporation | High-pressure discharge lamp |
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