DD143921A1 - EXTRACTS FOR REMOVING POSITIVE VARNISHES - Google Patents

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Ausstreifmittel zum Entfernen von Positivfotolacken von metallischen, insbesondere aus Aluminium bestehenden Unterlagen. Es findet bevorzugt Anwendung zur Entfernung von Positivfotolacken von mit L-eitbannen und Kontaktflächen versehenen Bauelementen der Mikroelektronik. Die Aufgabe der Erfindung, ein alkalisches alkalisilikathaltiges Ausstreifmittel anzugeben, welches über eine große Standzeit verfügt, wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß an sich bekannten anorganischen alkalischen wäßrigen alkalisilikathaltigen Lösungen Alkohol, insbesondere Äthanol,, und vorzugsweise Ammoniak zugegeben ist, wobei der Anteil des Alkohols zur Gesamtlösung 1 : 4 bis 1 : 1z vorzugsweise 1 : 2, beträgt und Ammoniak vorzugsweise in 25%iger wäßriger Lösung zugegeben ist.The invention relates to a stripping agent for removing Positive photocoats of metallic, especially aluminum existing documents. It is preferably used for removal of positive photo lacquers with L-eitbannen and contact surfaces provided components of microelectronics. The object of the invention indicate an alkaline alkali-silicate stripping agent, which has a long service life, is according to the invention solved by known inorganic alkaline aqueous alkali silicate-containing solutions alcohol, in particular ethanol ,, and preferably ammonia is added, the proportion of the alcohol to the total solution 1: 4 to 1: 1z, preferably 1: 2, and Ammonia is preferably added in 25% aqueous solution.

Description

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Titel der Erfindung .. . ..... Title of the invention ... .....

Ausstreifmittel zum Entfernen von PositivlackenStripping agent for removing positive coatings

Anwendungsgebiet der ErfindungField of application of the invention

Die Erfindung betrifft ein Ausstreifmittel zum Entfernen von Positivfotolacken von metallischen Unterlagen. Das erfindungsgemäße Ausstreifmittel findet vorteilhaft Anwendung zur Entfernung von Positivfotolacken von mit Leitbahnen und Eontaktflächen versehenen Halbleiterbauelementen, insbesondere bei Verwendung von Aluminium, dem meistverwendeten Material für derartige Metallbelegungen·The invention relates to a stripping agent for removing positive photosensitive paints from metallic substrates. The stripping agent according to the invention is advantageously used for removing positive photoresists of semiconductor devices provided with interconnects and contact pads, especially when using aluminum, the most widely used material for such metal deposits.

Charakteristik der bekannten technischen Lösungen Characteristic of the known technical solution

Es ist bekannt, zur Entfernung von Fotolacken von Halbleiterscheiben oder metallischen Unterlagen organische, saure oder alkalische Ausstreifmittel zu verwenden. Sauere Medien (z. B. ^SOr oder chromschwefelsäurehaltige Bäder) erfordern z. T. höhere Temperaturen bzw. sind nur für spezielle Materialkombinationen (ζ. B. Si/SiOg/Al)- einsetzbar. Bei anderen Materialien besteht die Gefahr des unkontrollierbaren Ätzens beim Lacklösen. Es ist weiterhin bekannt, daß eine wässrige alkalische Metallhydroxidlösung zur Fotolackentfernung geeignet ist. Zum Beispiel wird dies in der US-PS 3.331.718 angegeben. Solch eine Behandlung einer Al-Kombination ist jedoch nur möglich, wenn es sich um große Al-Schichtdicken bzw. unkritische Strukturgrößen handelt, da die Lacklösung und das Al-Ätzen rait vergleichbaren Raten erfolgt. Ebenfalls sind trockene Fotolackentfernungsverfahren bekannt (DD-WP 134.654), bei denen der Fotolack einer Plasmaentladung ausgesetzt wird. Die Verwendung solcher Verfahren zur Fotolackentfernung zwecks !ReinigungIt is known to use organic, acidic or alkaline stripping agents for the removal of photoresists from semiconductor wafers or metallic substrates. Acidic media (eg ^ SOr or chromosulfuric acid-containing baths) require, for. T. higher temperatures or are only for special material combinations (ζ B. Si / SiO / Al) - can be used. For other materials there is a risk of uncontrollable etching during paint dissolution. It is also known that an aqueous alkaline metal hydroxide solution is suitable for photoresist removal. For example, this is stated in U.S. Patent 3,331,718. However, such a treatment of an Al combination is only possible if it is a question of large Al layer thicknesses or uncritical structure sizes, since the lacquer solution and the Al etching take place at comparable rates. Also, dry photoresist removal methods are known (DD-WP 134.654) in which the photoresist is subjected to a plasma discharge. The use of such photoresist removal processes for the purpose of cleaning

_ 2 ~ £ 1 O 119_ 2 ~ £ 1 O 119

der Oberfläche nach erfolgten Behandlungsschritten verbietet sich jedoch aus ökonomischen Gründen bei vorheriger Verwendung naßchemischer Ätz- und Strukturierungsverfahren. Die bekannten anorganischen alkalisilikathaltigen Ausstreifmittel haben neben'den genannten Nachteilen auch eine zu geringe Standzeit bei ihrer Verwendung an Luft·However, the surface after completed treatment steps prohibits for economic reasons with prior use of wet chemical etching and patterning process. The known inorganic alkali-silicate stripping agents have in addition to the aforementioned disadvantages also too short a service life when used in air.

Ziel der Erfindung .. . Object of the invention ...

Es ist das Ziel der Erfindung, die Mangel des Standes der Technik zu beheben.It is the object of the invention to remedy the deficiencies of the prior art.

Wesen der ErfindungEssence of the invention

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein alkalisches alkalisilikathaltiges Ausstreifmittel anzugeben, welches über eine große Standzeit verfügt. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß an sich bekannten anorganischen alkalischen wäßrigen alkalisilikathaltigen lösungen Alkohol, insbesondere Äthanol, und vorzugsweise Ammoniak zugegeben ist, wobei der Anteil des Alkohols zur Gesamtlösung 1 J 4 bis 1:1, vorzugsweise 1:2, beträgt und Ammoniak vorzugsweise in 25 $- iger wäßriger Lösung zugegeben ist. Ein derartiges Ausstreifmittel verfügt über eine extrem hohe Standzeit, die bei gleichem Substratdurchsatz mindestens das Zehnfache der Zeit ohne den erfindungsgemäßen Alkoholzusatz beträgt. Durch die Zugabe von Alkohol in die alkalische wäßrige alkalisilikathalt-ige Lösung, insbesondere aus Ua₂SiO^♦ 8H₂O und Ήβ^ΒΟ.» 12H₂O und einem Zusatz von Ammoniak gebildet, entsteht ein Bodensatz, der sich überraschenderweise gerade so langsam wieder auflöst, daß praktisch ständig eine mit aktiven Spezies gesättigte Lösung vorliegt. Ferner zeigte sich überraschenderweise, daß mit Hilfe des erfindungsgemäßen Zusatzes zu den anorganischen alkalischen wäßrigen alkalisilikathaltigen. Lösungen, nicht nur die Standzeit bei Substratdurchsatz, also beim Lacklösen, erhöht wird, sondern auch die negative Eigenschaft alkalisilikathaltiger Lösungen ihre Wirkung durch Stehen an der Luft zu verlieren, verhindert wird»The invention has for its object to provide an alkaline alkali silicate-containing stripping, which has a long service life. According to the invention the object is achieved in that per se known inorganic alkaline aqueous alkali metal silicate solutions alcohol, especially ethanol, and preferably ammonia is added, wherein the proportion of the alcohol to the total solution 1 J 4 to 1: 1, preferably 1: 2, and ammonia preferably in 25% aqueous solution. Such stripping agent has an extremely long service life, which is at least ten times the time at the same substrate throughput without the addition of alcohol according to the invention. The addition of alcohol to the alkaline aqueous alkali metal silicate-containing solution, in particular of Ua ₂ SiO ₂ .8H ₂ O and .RTM. 12H ₂ O and an addition of ammonia, produces a sediment which, surprisingly, is just as slowly formed again dissolves that there is almost always a solution saturated with active species. Furthermore, it was surprisingly found that with the aid of the additive according to the invention to the inorganic alkaline aqueous Alkalisilikathaltigen. Solutions, not only the service life of substrate throughput, ie during paint dissolution, is increased, but also the negative property of alkalisilikaltaltiger solutions to lose their effect by standing in the air, is prevented »

Ausf ühruns;sb ei spie 1 See also 1

Zur näheren Erläuterung der erfindungsgemäßen Lösung möge folgendes Ausführungsbeispiel dienen: 19 g Na-OPO. · 12HgO und 13,3 g Ua₂SiO₃ · 8H₂O werden in etwa 350 ml H₂O gelöst, dazu werden 135 ml JTCLOH (25'#ig) und 500 ml Äthanol hinzugefügt. In diese lösung τ/erden mit einer Al-Belegung versehene belackte Substrate (Postivfotolack wurde 1 Stunde bei 460 K getempert) eingebracht. Die Lackablösezeit beträgt 20 bis 30 see. Mit einem solchen Ausstreifmittel läßt sich die, die Konzentration der aktiven lacklösenden Spezies aufrechterhaltende, allmähliche Auflösung des Bodensatzes erreichen. Trennt man den Bodensatz durch eine Pritte vom überstehenden Medium, können die Substrate von Partikeln des Bodensatzes frei gehalten werden. Sine Al-Ätzung konnte nicht nachgewiesen werden.For a more detailed explanation of the solution according to the invention may serve the following embodiment: 19 g Na-OPO. · 12HgO and 13.3 g of Ua ₂ SiO ₃ · 8H ₂ O are dissolved in about 350 ml of H ₂ O, to which is added 135 ml of JTCLOH (25%) and 500 ml of ethanol. In this solution τ / earth provided with an Al-coated coated substrates (Postivfotolack was annealed for 1 hour at 460 K) introduced. The paint stripping time is 20 to 30 see. With such a stripping agent, the gradual dissolution of the sediment maintaining the concentration of the active lacquer dissolving species can be achieved. Separating the sediment by a Pritte from the supernatant medium, the substrates of particles of the sediment can be kept free. Sine Al etch could not be detected.

Claims (2)

- 4 - '£ 1 4 1 1 f- 4 - '£ 1 4 1 1 f Erfindungsansprüche .Inventions claims . 1· Ausstreifmittel zum Entfernen von Positivfotolacken, die auf Halbleitern und/oder metallischen Unterlagen aufgebracht sind unter Verwendung an sich "bekannter anorganischer alkalischer wäßriger alkalisilikathaltiger lösungen, gekennzeichnet dadurch, daß den anorganischen alkalischen wäßrigen alkalisilikathaltigen lösungen Alkohol, insbesondere Äthanol, und vorzugsweise Ammoniak zugegeben ist·Stripping agent for removing positive photoresists which are applied to semiconductors and / or metallic substrates using "known inorganic alkaline aqueous alkali metal silicate-containing solutions, characterized in that the inorganic alkaline aqueous alkali silicate-containing solutions, alcohol, especially ethanol, and preferably ammonia added · 2. Ausstreifmittel nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß den alkalischen wäßrigen alkalisiliksthaltigen Lösungen Alkohol, insbesondere A'thanol, im Verhältnis zur Gesamt lösung von 1 : 4 bis 1:1, vorzugsweise 1 ί 2, und Ammoniak in vorzugsweise 25 $iger wäßriger Lösung zugegeben ist.2. Ausstreifmittel according to item 1, characterized in that the alkaline aqueous Alkalisiliksthaltigen solutions of alcohol, in particular ethanol, in relation to the total solution of 1: 4 to 1: 1, preferably 1 ί 2, and ammonia in preferably 25 $ iger aqueous Solution is added.