DD128692B1 - ARRANGEMENT FOR ANGLE MEASUREMENT - Google Patents

Description

Titel der Erfindung; Anordnung zur Winkelmessung Title of the invention; Arrangement for angle measurement

Anwendungsgebiet der Erfindung:Field of application of the invention:

Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Winkelmessung, die einen Teilkreis mit mindestens einer Ablesestelle enthält, die über ein optisches Mikrometer auf mindestens einen lichtelektrischen Empfänger abgebildet wird.The invention relates to an arrangement for angle measurement, which contains a pitch circle with at least one reading point, which is imaged via an optical micrometer on at least one photoelectric receiver.

Charakteristik der bekannten technischen Lösungen; Bekannte Winkelmeßgeräte besitzen zur Winkelmessung einen Teilkreis mit einer Strichteilung und ein Mikrometer zur Winkelfeinablesung. Das Mikrometer ist mit einer Strichmarkierung versehen, die mit einer Ablesestelle der Strichmarkierung korrespondiert, indem der entsprechende Teilkreisstrich eingefangen und seine Lage einer Mikrometerskala zugeordnet wird. Durch die unterschiedliche räumliche Anordnung von Teilkreis und Mikrometer sind die zur Abbildung der Strichteilung und der Strichmarkierung in ein Ableseokular notwendigen optischen Elemente unterschiedlichen äußeren Einflüssen, wie z.B. mechanischen Belastungen, ausgesetzt. Dadurch kommt es zu Meßfehlern. Auch bei der fotoelektrischen Ablesung der Winkelwer.te bleiben diese Meßfehler bestehen. Characteristic of the known technical solutions; Known angle gauges have for angular measurement a pitch circle with a pitch line and a micrometer for Winkelelfeinablesung. The micrometer is provided with a bar code which corresponds to a reading of the bar code by capturing the corresponding pitch circle and assigning its location to a micrometer scale. Due to the different spatial arrangement of the pitch circle and micrometer, the optical elements necessary for imaging the graduation pitch and the bar marking into a reading eyepiece are exposed to different external influences, such as, for example, mechanical loads. This leads to measurement errors. Even with the photoelectric reading of Winkelwer.te these measurement errors remain.

Andere bekannte Winkelmeßgeräte verwenden zur weitestgehenden Ausschaltung von Teilkreisexzentrizität Teilkreise mit diametral liegenden Ablesestellen, die aufeinander abgebildet werden. Das kann sowohl gegenläufig, als auch gleichläufig aufeinander geschehen. Um bei beiden Möglich-Other well-known angle measuring devices use partial circuits with diametrically opposed reading points, which are imaged onto one another, for the most part eliminating partial circle eccentricity. This can happen both in opposite directions, as well as in the same direction. In order to

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keiten die Vorteile, die eine fotoelektrische Auswertung bietet, ausnutzen zu können, ist für die gegenläufige Abbildung der Ablesestellen aufeinander eine aufwendige Elektronik erforderlich. Es ergeben sich hier mehrere Möglichkeiten der Zuordnung der Ablesestellen im Empfangsbereich des Mikrometers. Über eine Auswerteeleictronik muß die richtige Zuordnung herausgefunden werden. Bei gleichzeitig aufeinander abgebildeten Ablesestellen tritt bei vorhandener Teilkreisexzentrizität die Erscheinung auf, daß die Teilkreisstriche in ihrer Breite über den Teilkreis variieren, der in der Strichbreite variierende Teilkreisstrich wird durch eine Strichmarkierung eines Mikrometers eingefangen und das durchlaufende Intervall als Winkelfeinwert abgelesen. Nachteilig ist hierbei der unterschiedliche Kontrast der abzubildenden Teilkreisstellen.In order to be able to exploit the advantages that a photoelectric evaluation offers, sophisticated electronics are required for the opposite representation of the reading points. This results in several possibilities of assigning the reading points in the reception range of the micrometer. An evaluation telecontrol must find out the correct assignment. In the case of simultaneous partial circle eccentricity, the appearance occurs that the pitch circle lines vary in their width over the pitch circle, the pitch circle varying in the line width is captured by a bar marking of a micrometer and the passing interval is read off as an angle fine value. The disadvantage here is the different contrast of the subcircuits to be imaged.

In der CH-PS 444 508 wird ein Index, d.h. eine als Index dienende Strichteilung einer Strichplatte zur Winkelmessung verwendet, indem der Index ortsfest angeordnet ist.In CH-PS 444 508 an index, i. used an index dividing Strichteilung a reticle for angle measurement by the index is arranged stationary.

über ein optisches Mikrometer und ein optisches Abbildungssystem wird dieser Index auf einen Teilkreis und beide zusammen auf einen Fotoempfänger abgebildet. Die Bilder vom Ind8x und Teilkreisstrich, die auf dem Fotoempfänger erscheinen, sind mit unterschiedlichen Fehlern behaftet, da das Indexbild von mehr optischen Systemen beeinflußt wird, als das Teilkreisbild und da Index und Teilkreis räumlich verschieden lokalisiert sind. Der Nachteil der bekannten Anordnungen besteht darin, daß das Indexbild bei Verwendung von mehr als einem optischen System durch Abbildungsfehler beeinflußt wird.an optical micrometer and an optical imaging system, this index is mapped to a pitch circle and both together on a photoreceiver. The Ind8x and subcircle images appearing on the photoreceiver are subject to various errors because the index image is affected by more optical systems than the pitch image and because the index and pitch are spatially distinct. The disadvantage of the known arrangements is that the index image is affected by aberrations when using more than one optical system.

Durch die Anordnung des Indexes außerhalb des Teilkreises können Meßfehler daraus resultieren, daß in der Bildebene die Ablesestelle des Kreises und des Index verschieden scharf erscheinen und daß sämtliche optische Bauelemente zwischen Kreisebene und Bildebene bei Einwirkung äußerer Einflüsse Meßfehler verursachen können.The arrangement of the index outside the pitch circle measurement errors can result from the fact that in the image plane, the reading of the circle and the index appear different sharp and that all optical components between circle level and image plane can cause measurement errors when exposed to external influences.

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Ziel der Erfindung;Aim of the invention;

Die Erfindung hat das Ziel, in einer Anordnung zur Winkelmessung die genannten Nachteile zu beseitigen, die Einflüsse der Instabilität des Abbildungssystems vom Teilkreis bis zur Bildebene auszuschalten und eine komplizierte fotoelektrische Auswertung zu vermeiden.The invention has the object to eliminate the disadvantages mentioned in an arrangement for angle measurement, to eliminate the influences of the instability of the imaging system from the pitch circle to the image plane and to avoid a complicated photoelectric evaluation.

Darlegung des Wesens der Erfindung;Explanation of the essence of the invention;

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Anordnung zur Winkelmessung zu schaffen, in der Teilkreisstriche und Meßmarke über das gleiche optische System abgebildet und gemeinsam mit einem fotoelektrischen Mikrometer ausgemessen werden.The invention has for its object to provide an arrangement for angle measurement, imaged in the pitch circle lines and measuring mark on the same optical system and measured together with a photoelectric micrometer.

Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß der Index in einer zur Objektebene eines optischen Abbildungssystems gleichwertigen Ebene angeordnet ist. Vorteilhaft ist es, wenn der Index in einer zur Objektebene eines ersten oder zweiten optischen Abbildungssystems gleichwertigen Ebene angeordnet ist. Außerdem ist es auch möglich, den Index in der Nähe der durch die BiIdebene des ersten optischen Abbildungssystems und die Objektebene des zweiten optischen Abbildungssystems gemeinsam definierten Ebene anzuordnen. Der Index kann dabei aus mehreren Einzelstrichen nebeneinander bestehen und auch als eine Gtrichmarkierung auf einem teilverspiegeltan Prisma vorgesehen sein.According to the invention, this object is achieved in that the index is arranged in a plane equivalent to the object plane of an optical imaging system. It is advantageous if the index is arranged in a plane equivalent to the object plane of a first or second optical imaging system. In addition, it is also possible to arrange the index in the vicinity of the plane jointly defined by the imaging plane of the first optical imaging system and the object plane of the second optical imaging system. The index can consist of several individual lines next to each other and also be provided as a Gtrich marker on a teilverspiegeltan prism.

Durch die Erfindung ist es möglich, Meßfehler, die durch unterschiedliche Bildebenen auftreten zu vermeiden, da der Index in einer zur Objektebene gleichwertigen Ebene des Abbildungssystems angeordnet ist.By means of the invention it is possible to avoid measurement errors which occur due to different image planes, since the index is arranged in a plane of the imaging system equivalent to the object plane.

Durch die erfindungsgemäße Anordnung zur Winkelmessung kann der Index auch in der Nähe eines optischen Abbildungssystems liegen und erscheint hier ebenfalls in einer analogen Bildebene des Abbildungssystems· Der Index wird wie die Ablesestelle von einer gemeinsamen Lichtquelle beleuchtet. Den Nachteil, daß sämtliche optische Bauelemente zwischen Kreisebene und Bildebene Meßfehler verursachen können, wird durch die erfindungsgemäße LösungDue to the arrangement according to the invention for angle measurement, the index can also lie in the vicinity of an optical imaging system and also appears here in an analogue image plane of the imaging system. The index, like the reading location, is illuminated by a common light source. The disadvantage that all optical components between the circle plane and the image plane can cause measurement errors, is due to the inventive solution

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verhindert, indem der Index in einer zur Objektebene eines optischen Abbildungssystems gleichwertigen Ebene so angeordnet ist, daß er über die gleiche Optik und das gleiche Mikrometer wie die Ablesestelle in den Empfänger abgebildet wird.is prevented by arranging the index in a plane equivalent to the object plane of an optical imaging system so that it is imaged into the receiver via the same optics and the same micrometer as the reading location.

Ausführungsbeispiel:Embodiment:

Die Erfindung wird nachstehend anhand der schematischen Zeichnungen näher erläutert.The invention will be explained in more detail below with reference to the schematic drawings.

Es zeigen:Show it:

Fig. 1 den schematischen Aufbau eines Teiles eines fotoelektrischen Winkelmeßgerätes mit einer ersten möglichen Anordnung des Index Fig. 2 das Prinzip der Teilkreisablesung Fig. 3 den schematischen Aufbau eines fotoelektrischen Winxelmeßgerätes mit einer AblesestelleFig. 1 shows the schematic structure of a part of a photoelectric Winkelmeßgerätes with a first possible arrangement of the index Fig. 2, the principle of Teilkreisablesung Fig. 3 shows the schematic structure of a photoelectric Winxelmeßgerätes with a reading point

Fig. 4 den schematischen Aufbau eines fotoelektrischen Winkelmeßgerätes mit diametralen Ablesestellen und einer zweiten möglichen Anordnung des Index Die Anordnung nach Fig. 1 enthält eine Lichtquelle 1, sie beleuchtet über ein optisches Abbildungssystem 2 und ein Prisma 3 eine Ablesestelle 4 auf einem Teilkreis 5. Über dem Teilkreis 5 sind ein Prisma 31, dessen Fläche 33 halbseitig mit einem Spiegelbelag 34 versehen ist, und eine Prisma 32 angeordnet. Ein auf dem Prisma 31 angebrachter Index 30 wird durch die Lichtquelle 1 über ein Prisma 28 und eine Kondensorlinse beleuchtet. Der Index 30 und die Ablesestelle 4 werden über ein Prisma 6 und ein Abbildungssystem 7 gemeinsam wie in Fig. 4 weitergeleitet. Der Index 30 hat von einem Punkt 35 den gleichen Abstand wie die Ablesestelle 4« Dadurch wird erreicht, daß beide,das Bild 25 eines Index 11 und die Ablese'stelle 4 vom optischen Abbildungssystem 13 (Fig. 4) aus gesehen, in der Ebene der Ablesestelle (Fig. 4) liegen. Somit können die lichtelektrischen Empfanger 17, 18 (Fig. 4) ebenfalls in der gemeinsamen Ebene liegen. Der Prismenanordnung 31; 32 kann auch einFig. 4 shows the schematic structure of a photoelectric Winkelmeßgerätes with diametrical readouts and a second possible arrangement of the index The arrangement of FIG. 1 includes a light source 1, it illuminated via an optical imaging system 2 and a prism 3, a reading point 4 on a pitch circle 5 via the pitch circle 5 are a prism 31, the surface 33 is provided on one side with a mirror coating 34, and a prism 32 is arranged. An index 30 mounted on the prism 31 is illuminated by the light source 1 via a prism 28 and a condenser lens. The index 30 and the reading point 4 are forwarded together via a prism 6 and an imaging system 7 as in FIG. The index 30 is spaced from a point 35 by the same distance as the reading point 4. As a result, both the image 25 of an index 11 and the reading position 4 seen from the optical imaging system 13 (FIG. 4) are in the plane the reading point (Fig. 4) are located. Thus, the photoelectric receivers 17, 18 (Figure 4) may also be in the common plane. The prism assembly 31; 32 can also be

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Abbildungssystem 43 nach Fig. 3 mit der dort angegebenen Ablesung folgen. In Fig. 1 werden die Teile, die die gleichen wie in Fig. 4 sind mit gleichen Bezugsziffern versehen.Imaging system 43 of FIG. 3 with the reading given there follow. In Fig. 1, the parts which are the same as in Fig. 4 are given the same reference numerals.

In Fig. 2 werden aktive Flächen 26; 27 von lichtelektrischen Empfänger 17; 18 auf einer Achse F-F dargestellt. Dabei stellen 23; 24 die Bilder zweier Teilkreisstriche und 25 das Bild des Index 11 dar. Durch ein optisches Mikrometer 15 (siehe Fig. 4) werden die Bilder 23; 24 der Teilkreisstriche 4 und das Bild 25 des Index 11 über die aktiven Flächen in Pfeilrichtung geführt. Erreicht das Bild 23 die aktive Fläche 26 eines Empfängers 17 (siehe Fig. 4), so gibt dieser einen elektrischen Impuls ab, der an einem lichtelektrischen Empfänger 22 (Fig. 4) den Zählbeginn der von einer Skala 19 (.Fig. 4) gelieferten Lichtimpulse markiert· Die von einem lichtelektrischen Empfänger 22 gelieferten elektrischen Impulse werden von einem nicht dargestellten Zähler vorwärts gezählt. Gelangt jetzt das Bild 25 des Index 11 auf die aktive Fläche 27 des Empfängers 18, so stoppt ein von diesem abgegebener elektrischer Impuls den Zählvorgang. Die Zählung kann auch mit dem Bild 25 des Index 11 begonnen werden und mit dem Auftreffen des eines Bildes 24 eines nachfolgenden Teilkreisstriches auf die Fläche 26 enden. Hierbei werden die Lichtimpulse an dem lichtelektrischen Empfänger 22 in umgekehrter Richtung gezählt. Die aktiven Flächen 26; 27 der lichtelektrischen Empfänger 17; 18 müssen nicht auf einer gemeinsamen Achse liegen, da eine Abweichung einen konstanten Betrag zum Zählwerk liefert. Falls erforderlich, läßt sich dieser Betrag durch entsprechende Justierung einer Platte 10 mit dem Index 11 (siehe Fig. 4) bezüglich des Teilkreises 5 ausgleichen. Mit dem Überstreichen des Bildes 25 des Index 11 über die aktive Fläche 27 des Empfängers ist die Ablesung des Winkelgrobwertes auf der Grundlage eines absoluten oder inkrementellen Verfahrens gekoppelt.In Fig. 2, active surfaces 26; 27 of photoelectric receiver 17; 18 shown on an axis F-F. There are 23; 24 shows the images of two pitch circles and 25 the image of the index 11. By means of an optical micrometer 15 (see FIG. 4), the images 23; 24 of the pitch circle lines 4 and the image 25 of the index 11 over the active surfaces in the direction of arrow out. If the image 23 reaches the active surface 26 of a receiver 17 (see FIG. 4), this emits an electrical pulse which at a photoelectric receiver 22 (FIG. 4) indicates the start of counting of a scale 19 (FIG. 4). The pulses of light supplied by a photoelectric receiver 22 are counted up by a counter (not shown). If the image 25 of the index 11 now reaches the active surface 27 of the receiver 18, an electrical pulse emitted by it stops counting. The count can also be started with the image 25 of the index 11 and end with the impact of an image 24 of a subsequent pitch circle on the surface 26. Here, the light pulses are counted on the photoelectric receiver 22 in the reverse direction. The active surfaces 26; 27, the photoelectric receiver 17; 18 need not be on a common axis, as a deviation provides a constant amount to the counter. If necessary, this amount can be compensated by appropriate adjustment of a plate 10 with the index 11 (see FIG. 4) with respect to the pitch circle 5. With the sweep of the image 25 of the index 11 over the active area 27 of the receiver, the reading of the angle coarse value is coupled based on an absolute or incremental method.

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In der Anordnung nach Fig. 3 beleuchtet eine Lichtquelle 36 über ein optisches Abbildungssystem 37 und ein Prisma 38 eine Platte 39 mit einem Index 40. Eine Ablesestelle 41 auf einem Teilkreis 42 liegt im gleichen Strahlengang der Lichtquelle 36 wie die Platte 39 mit dem Index 40. Der Index 40 und die üblesestelle 41 werden durch ein optisches Abbildungssystem 43 über ein optisches Mikrometer, das dem in Fig. 4 gleicht, auf einen lichtelektrischen Empfänger ebenfalls analog Fig. 4 abgebildet. Mikrometer und lichtelektrischer Empfänger sind daher der Einfachheit wegen nicht mitgezeichnet. Die ablesung erfolgt hierbei in gleicher Weise, wie in Fig. 2 dargestellt und wird daher nicht nochmals erläutert. Die Anordnung nach Fig. 4 enthält eine Lichtquelle 1, über ein optisches Abbildungssystem 2 und ein Prisma 3, eine erste Ablesestelle 4 auf einem Teilkreis 5. Diese wird über ein Prisma 6, ein optisches Abbildungssystem 7 und ein Prisma 8 in die Ebene einer zweiten Ablesestelle 9 abgebildet. Das Bild der Ablesestelle 4 und die Ablesestelle 9 gelangen durch eine Platte 10 mit einem Index 11 und über ein Prisma 12 und werden von einem optischen Abbildungssystem 13 durch einen optischen Keil 14 als fester Teil eines schematisch dargestellten optischen Mikrometers 15, einen optischen Keil 16 als bewegtes Teil des Mikrometers 15 auf zwei lichtelektrische Empfänger 17; 18 abgebildet. Der optische Keil 16 und eine ihm zugeordnete Skala 19 mit einer beleuchteten Strichteilung werden von einem Motor 20 entlang einer Führung 21 bewegt. Der Skala 19 ist ein lichtelektrischer Empfänger 22 als Ableseeinrichtung zugeordnet.In the arrangement according to FIG. 3, a light source 36 illuminates a plate 39 with an index 40 via an optical imaging system 37 and a prism 38. A reading point 41 on a pitch circle 42 lies in the same beam path of the light source 36 as the plate 39 with the index 40 The index 40 and the read spot 41 are imaged by an optical imaging system 43 via an optical micrometer similar to that in FIG. 4 onto a photoelectric receiver also analogous to FIG. Micrometer and photoelectric receiver are therefore not marked for the sake of simplicity. The reading takes place here in the same way as shown in Fig. 2 and is therefore not explained again. The arrangement according to FIG. 4 contains a light source 1, via an optical imaging system 2 and a prism 3, a first reading point 4 on a pitch circle 5. This is transmitted via a prism 6, an optical imaging system 7 and a prism 8 in the plane of a second Reading point 9 shown. The image of the reading point 4 and the reading point 9 pass through a plate 10 with an index 11 and a prism 12 and are from an optical imaging system 13 through an optical wedge 14 as a fixed part of a schematically represented optical micrometer 15, an optical wedge 16 as moved part of the micrometer 15 on two photoelectric receiver 17; 18 pictured. The optical wedge 16 and an associated scale 19 with an illuminated line graduation are moved by a motor 20 along a guide 21. The scale 19 is associated with a photoelectric receiver 22 as a reading device.

Bei einer Teilkreisablesung wird die von der Lichtquelle 1 beleuchtete Ablesestelle 4 auf die diametral liegende Ablesestelle 9 gleichläufig abgebildet, was bekannterweise zur Eliminierung vorhandener Teilkreisexzentrizitäten dient. Der durch die Ablesestelle 4 und 9 gebildete Teilkreisstrich wird in die Ebene des lichtelek-In the case of a partial circle reading, the reading point 4 illuminated by the light source 1 is imaged in the same direction on the diametrically situated reading point 9, which is known to eliminate existing partial circle eccentricities. The subcircuit formed by the reading points 4 and 9 is placed in the plane of the light-emitting

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trischen Empfängers 17 und der Index 11 wird in die Ebene des lichtelektrischen Empfängers 18 abgebildet. Mittels des festen Keiles 14 und des über den Motor 20 verstellbaren Keiles 16 des optischen Mikrometers 15 werden Teilkreisstrichbild und Indexbild über die aktiven Flächen der lichtelektrischen Empfänger 17; 18 geführt. Über den lichtelektrischen Empfänger 22 und die Skala 19, deren Verschiebung der des Keiles 16 gleich ist, erfolgt die Ausmessung des Abstandes zwischen Teilkreisstrich und Index 11, was die Feinablesung darstellt. An den beiden Anschlagpunkten des Mikrometers 15 wird eine automatische Richtungsänderung durch die Drehsinnumkehrung des Motors 20 mittels einer der Einfachheit halber nicht gezeichneten Steuerlogik vorgenommen. Das optische Mikrometer kann auch als Planplattenmikrometer o.a. ausgeführt sein. Die Platte 10 kann einen oder mehrere Indexstriche tragen und auch in der Nähe der Ablesestelle 4 angeordnet sein, wobei sie parallel und senkrecht zur Teilkreisebene justierbar angeordnet ist. Im dynamischen Betrieb genügen einfache lichtelektrische Empfänger 17;trical receiver 17 and the index 11 is imaged in the plane of the photoelectric receiver 18. By means of the fixed wedge 14 and the wedge 16 of the optical micrometer 15, which can be adjusted by means of the motor 20, the partial circuit pattern and the index image are printed over the active surfaces of the photoelectric receivers 17; 18 led. Via the photoelectric receiver 22 and the scale 19, whose displacement is equal to the wedge 16, the distance between the pitch circle line and index 11 is measured, which represents the fine reading. At the two attachment points of the micrometer 15 an automatic change of direction is made by the rotation inversion of the motor 20 by means of a not shown for simplicity control logic. The optical micrometer can also be used as a plane plate micrometer or similar. be executed. The plate 10 may carry one or more indicia and may also be located near the reading location 4, being arranged to be adjustable parallel and perpendicular to the pitch circle plane. In dynamic operation, simple photoelectric receivers 17;

18. Bei größeren Anforderungen an die Genauigkeit im statischen Betrieb ist es vorteilhaft, Differenzfotoempfänger einzusetzen.18. For larger demands on the accuracy in static operation, it is advantageous to use differential photo receiver.

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Claims (4)

196294196294 Erfindungsanspruchinvention claim 1. anordnung zur Winkelmessung, die eine Lichtquelle, einen Teilkreis mit mindestens einer Ablesestelle, einem Index in Form eines Striches auf einem optischen Element, ein erstes Abbildungssystem, das eine Objektebene in die diametral liegende Objektebene eines zweiten optischen Abbildungssystems abbildet, ein zweites optisches Abbildungssystem, das Objekt und diametrales Bild über ein optisches Mikrometer auf mindestens einen fotoelektrischen Empfänger in die Bildebene des zweiten optischen Abbildungssystems abbildet, sowie optische Mittel zur Umlenkung der von der Lichtquelle kommenden Strahlenbündel enthält, gekennzeichnet dadurch, daß der Index in einer zur Objektebene eines optischen Abbildungssystems gleichwertigen Ebene angeordnet ist.An angular measurement arrangement comprising a light source, a pitch circle having at least one reading spot, an index in the form of a stroke on an optical element, a first imaging system imaging an object plane in the diametrically-lying object plane of a second optical imaging system, a second optical imaging system , which images the object and diametric image via an optical micrometer on at least one photoelectric receiver in the image plane of the second optical imaging system, as well as optical means for deflecting the radiation beam coming from the light source, characterized in that the index in one to the object plane of an optical imaging system equivalent level is arranged. 2. Anordnung zur Winkelmessung nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß der Index in einer zur Objektebene eines ersten optischen ^bbildungssystems gleichwertigen Ebene angeordnet ist.2. Arrangement for angle measurement according to item 1, characterized in that the index is arranged in a plane equivalent to the object plane of a first optical education system ¬. 3. Anordnung zur Winkelmessung nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß der Index in einer zur Objektebene eines zweiten optischen Abbildungssystems gleichwertigen Ebene angeordnet ist.3. Arrangement for angle measurement according to item 1, characterized in that the index is arranged in a plane equivalent to the object plane of a second optical imaging system. 4. Anordnung zur Winkelmessung nach Punkt 1, gekennzeichnet dadurch, daß der Index eine Strichmarkierung auf einem teilverspiegelten Prisma ist.4. Arrangement for angle measurement according to item 1, characterized in that the index is a bar mark on a partially mirrored prism. - Hierzu 2 Blatt Zeichnungen WG/La/Wi - For this 2 sheets drawings WG / La / Wi 31843184