CZ309901B6 - Způsob uchovávání informací o vytváření struktur na objektu a vytváření struktur na objektu - Google Patents
Způsob uchovávání informací o vytváření struktur na objektu a vytváření struktur na objektu Download PDFInfo
- Publication number
- CZ309901B6 CZ309901B6 CZ2015-668A CZ2015668A CZ309901B6 CZ 309901 B6 CZ309901 B6 CZ 309901B6 CZ 2015668 A CZ2015668 A CZ 2015668A CZ 309901 B6 CZ309901 B6 CZ 309901B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- parameter
- describes
- values
- process parameters
- structures
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 146
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 99
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 88
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/362—Laser etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/047—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using irradiation by energy or particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/304—Controlling tubes
- H01J2237/30433—System calibration
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3174—Etching microareas
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Způsob uchovávání informací o vytváření struktur a vytváření struktur na objektu pomocí alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic, obsahující: vytvoření první struktury na prvním objektu, obsahující: stanovení první struktury; stanovení první sady hodnot prvních procesních parametrů; řízení přístroje na vyzařování částic za použití uvedené první sady hodnot a vytvoření první struktury na prvním objektu; dále vytvoření druhé struktury na prvním objektu, obsahující: stanovení druhé struktury, přičemž druhá struktura reprezentuje informace o první sadě hodnot prvních procesních parametrů; řízení přístroje na vyzařování částic a vytvoření druhé struktury na prvním objektu; a vytvoření třetí struktury na druhém objektu, obsahující: stanovení třetí struktury; detekování druhé struktury; analyzování druhé struktury a stanovení první sady hodnot prvních procesních parametrů reprezentovaných druhou strukturou; stanovení druhé sady hodnot prvních procesních parametrů, která je buď shodná s první sadou, nebo je modifikována; řízení přístroje na vyzařování částic za použití druhé sady hodnot prvních procesních parametrů a vytvoření třetí struktury na druhém objektu.
Description
Způsob uchovávání informací o vytváření struktur na objektu a vytváření struktur na objektu
Oblast techniky
Vynález se týká vytváření struktur na objektech pomocí přístrojů na vyzařování částic.
Dosavadní stav techniky
Přístroje na vyzařování částic se používají k tomu, aby se vytvářely struktury na objektech. K tomu účelu se namíří paprsek částic, vytvořený přístrojem na vyzařování částic, na vybraná místa objektu. Na těchto místech se může materiál z objektu odstranit, nebo se může na těchto místech materiál na objektu odloučit. Odstranění materiálu je možno dosáhnout tím, že se paprsek částic namíří s dostatečnou energií na objekt za tím účelem, aby se z něj materiál odstranil. Tento postup se také označuje za leptání paprskem částic. Odstranění materiálu je možno také podpořit tím, že se na místo dopadu zavede procesní plyn, který je aktivován paprskem částic a vejde do spojení s těmi komponentami objektu, které se mají z objektu nechat odstranit. Odloučení materiálu na objektu lze dosáhnout tím, že se na místo dopadu paprsku částic přivede vhodný procesní plyn, který je aktivován paprskem částic, a jehož produkty aktivace vedou k požadovanému odloučení materiálu na objektu.
S popsanými technikami je možné vytvořit s pomocí přístroje na vyzařování částic na objektu miniaturizované struktury s velkou přesností. Je také možné výsledek opracování opakovaně paprskem částic přezkoušet, a to tím, že se přístroj na vyzařování částic použije jako mikroskop a sejme se obraz právě vytvarované struktury. V závislosti na porovnání sejmutého obrazu s požadovaným výsledkem je možno iterativně řídit další průběh procesu pro vytvoření požadované struktury na objektu.
Přesto je náročné nalézt hodnoty a nastavení procesních parametrů, které charakterizují provoz přístroje na vyzařování částic, při jejichž použití se má na objektu vytvořit požadovaná struktura, a při jejichž použití je možno požadovanou strukturu rychle a spolehlivě, a pokud možno bez nutnosti iterativního přezkoušení opakovaným sejmutím obrazu vytvarované struktury ji vytvořit.
Podle toho je úkolem vynálezu navrhnout způsob strukturalizace objektu s alespoň jedním přístrojem na vyzařování částic, který umožňuje vytvořit na objektu požadovanou strukturu.
Při vývoji způsobu, jak na daném objektu vytvořit požadovanou strukturu s pomocí přístroje na vyzařování částic, se obvykle provedou řady pokusů, při nichž se mění hodnoty procesních parametrů, které charakterizují provoz přístroje na vyzařování částic, a se vždy pozměněnými parametry se vytváří množství testovacích struktur se vždy pozměněnými parametry. Nato je možno vytvořené testovací struktury přezkoušet, zda odpovídají vlivu změněných procesních parametrů na vytvořenou strukturu, a s testovacími strukturami je možno zjišťovat, které se blíží požadovanému výsledku. Procesní parametry, použité pro zjištěnou testovací strukturu, se pak následně mohou použít k tomu, aby se vytvořila požadovaná struktura, kterou je možno značit jako užitkovou strukturu, na jiném objektu.
K tomu účelu je nutné znát procesní parametry, které se použijí při vytvoření zjištěné testovací struktury. Pomocí vhodných záznamů a protokoluje možné obdržet přímé přiřazení mezi vyhotovenými testovacími strukturami a podle zjištění vhodné testovací struktury) na základě tohoto přiřazení zjistit použité procesní parametry.
Často se testovací struktury vytvoří a udržují po delší dobu, aby se později, když vznikne úkol vytvoření určité požadované užitkové struktury, opět prohlédly, a aby se zjistilo, zda jedna z
- 1 CZ 309901 B6 dříve vyhotovených testovacích struktur vykazuje vlastnosti a význaky, které alespoň zčásti souhlasí s vlastnostmi a význaky vytvářené užitkové struktury, takže procesní parametry, které se použily při vytvoření této testovací struktury, se také mohou použít pro vytvoření nyní požadované užitkové struktury.
Zde spočívá problém v tom, získat přiřazení mezi vytvořenými testovacími strukturami a procesními parametry, použitými pro jejich vytvoření, a udržet ho po delší dobu a případně přímo získat k tomu účelu různá místa a zainteresované instituce a osoby.
Podstata vynálezu
Podle vynálezu se proto použije uspořádání, kdy při vytváření první struktury na prvním objektu, která má být testovací strukturou, se na prvním objektu vytvoří další, druhá struktura, která je informační strukturou a reprezentuje procesní parametry, které se použily při vytvoření testovacích struktur s pomocí přístroje na vyzařování částic. Tato informační struktura může reprezentovat hodnoty užitkové struktury, přiřazené k vytvoření použitých procesních parametrů. To se může stát například tak, že se tyto hodnoty předem určeným způsobem zakódují, a to tak, aby byly reprezentovány sledem informačních jednotek. Pak je možné tento sled informačních jednotek vytvořit jako informační strukturu na objektu, a to tím, že se pro každou informační jednotku zakódovaných hodnot vytvoří příslušný prvek informační struktury na objektu, který reprezentuje příslušnou informační jednotku. Například se mohou uspořádat pro reprezentování hodnot dvě různé informační jednotky („bity), které jsou reprezentovány dvěma různými a odlišitelnými prvky informační struktury. Oba prvky informační struktury mohou být realizovány například jako prohlubně na povrchu objektu, přičemž se oba tyto prvky odlišují s ohledem na hloubku prohlubní nebo na boční rozměr prohlubní. Pak je následně možné detekovat a analyzovat tuto informační strukturu, aby se stanovily hodnoty procesních parametrů, které jsou reprezentovány touto informační strukturou.
Tímto způsobem je možno uložit procesní parametry, použité pro vytvoření testovacích struktur, trvale spolu s testovacími strukturami na stejném objektu, takže je možno tyto testovací struktury zachovat pro pozdější analýzu, přičemž vždy je možné zjistit procesní 15 parametry, použité pro vytvoření testovací struktury, a to tak, že se informační struktura, přiřazená k určité testovací struktuře, detekuje a analyzuje.
Podle příkladných forem provedení obsahuje způsob strukturalizace objektu pomocí alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic stanovení první struktury, vytvářené na prvním objektu; stanovení první sady hodnot množství prvních procesních parametrů alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic v závislosti na první struktuře; vytvoření první struktury na prvním objektu pomocí alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic při použití první sady hodnot prvních procesních parametrů; stanovení druhé struktury, přiřazené k první struktuře a vytvářené na druhém objektu, která reprezentuje první sadu hodnot prvních procesních parametrů; vytvoření druhé struktury na prvním objektu pomocí alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic; stanovení třetí struktury, vytvářené na druhém objektu; detekování druhé struktury, vytvořené na prvním objektu: analyzování detekované druhé struktury a stanovení první sady hodnot prvních procesních parametrů, reprezentujících detekovanou druhou strukturu; stanovení druhé sady hodnot množství prvních procesních parametrů, založených na stanovené první sadě hodnot prvních procesních parametrů; a vytvoření třetí struktury na druhém objektu pomocí alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic při použití druhé sady hodnot prvních procesních parametrů.
Přístrojem na vyzařování částic může být přístroj na vyzařování iontů a/nebo přístroj na vyzařování elektronů. Je také možné použít pro vytvoření požadované struktury systém, který obsahuje více přístrojů na vyzařování částic. Například se může použít systém, který obsahuje přístroj na vyzařování iontů a přístroj na vyzařování elektronů, kteréžto přístroje je možno
- 2 CZ 309901 B6 současně nasměrovat na stejné místo opracování na objektu. S takovýmto systémem je jednoduše možné dosáhnout účinného vytváření požadovaných struktur s pomocí přístroje na vyzařování iontů a přezkoušení vytvořené struktury s pomocí přístroje na vyzařování elektronů, provozovaného jako mikroskop. Procesní parametry pro charakterizování přístroje na vyzařování částic, použitého pro vytvoření požadované struktury na objektu, mohou být rozličné. Procesní parametry mohou obsahovat alespoň jeden procesní parametr, který popisuje paprsek částic, použitý pro vytvoření testovací struktury. Tento parametr může například popisovat kinetickou energii částic v paprsku částic, dopadajících na objekt, může popisovat proud paprsků částic, nebo může popisovat pracovní vzdálenost objektu od přístroje na vyzařování částic.
Procesní parametry mohou dále obsahovat i parametr, který popisuje procesní plyn, použitý při vytváření testovací struktury. Tento parametr může popisovat chemické složení procesního plynu, může popisovat tlak procesního plynu, který existuje například v systému pro přívod procesního plynu k objektu, nebo může popisovat hmotnostní proud procesního plynu, který se k objektu přivádí.
Procesní parametry mohou dále obsahovat i parametr, který popisuje strategii skenování, použitou při vytváření testovací struktury. Pro vytvoření struktur se paprsek částic obvykle nad objektem skenuje, přičemž paprsek částic se může zapínat a vypínat, nebo může být nasměrován pouze na zvolená místa uvnitř popisovaného pole.
Procesní parametry mohou obsahovat i parametry, které popisují geometrii vytvářené struktury. Takovéto parametry mohou být uváděny například jako souřadnice v systému souřadnic přístroje na vyzařování částic, nebo jako souřadnice vzhledem k referenční poloze, stanovené vzhledem k vytvářené struktuře. To nevylučuje, že struktura, skutečně vyhotovená s těmito parametry, se v důsledku tolerancí a procesně podmíněných odchylek, jako jsou například zvýšené nebo snížené hodnoty úběru materiálu nebo hodnoty odlučování materiálu, nebo hodnoty, dosažené v důsledku přeložení odstraněného materiálu v oblasti vyhotovované struktury, se může popsat pomocí geometrických parametrů, které se odlišují od těchto parametrů, popisujících geometrii vyhotovované struktury. Procesní parametry mohou obsahovat i parametry, které popisují i parametr, obsahující podtlak ve vakuovaném prostoru, obsahujícím první objekt při vytváření první struktury. Dále mohou procesní parametry obsahovat i parametry, které popisují tok plynu, jenž se přivádí k prvnímu objektu pro zabránění tlakového přeplnění prvního objektu při vytváření první struktury. Dále pak mohou procesní parametry obsahovat i parametry, které popisují teplotu prvního objektu při vytváření první struktury. Dále pak mohou procesní parametry obsahovat i parametry, které popisují elektrický potenciál prvního objektu vzhledem k přístroji na vyzařování částic při vytváření první struktury. Dále pak mohou procesní parametry obsahovat i parametry, které popisují orientaci krystalů prvního objektu vzhledem k přístroji na vyzařování částic při vytváření první struktury. Navíc pak mohou procesní parametry obsahovat ještě i parametry, které popsují změnu nastavení ohniska přístroje na vyzařování částic během vytváření první struktury.
Sled opatření pro skenování objektu se může označit jako strategie skenování. Parametry, které ji popisují, jsou například velikost skenovaného pole, jako například jeho horizontální nebo vertikální rozměr, nastavené zvětšení přístroje na vyzařování částic, vzdálenost mezi body rastru, které jsou použity při vytváření struktury, doba setrvání paprsku částic na každém bodu rastru, doba opakovaně prováděného průběhu skenování, počet takovýchto průběhů skenování, přestávka mezi za sebou následujícími průběhy skenování a podobně.
Procesní parametry mohou dále obsahovat i parametr, který popisuje polohu a/nebo orientaci objektu vzhledem k přístroji na vyzařování částic, použitému při vytváření testovací struktury. Dále pak mohou procesní parametry obsahovat i identifikační znak přístroje na vyzařování částic, použitého při vytváření testovací struktury. To může být nápomocné tehdy, když se pro vytvoření testovací struktury a pro následné vytvoření užitkové struktury používají různé přístroje na vyzařování částic. Tyto různé přístroje na vyzařování částic mohou náležet ke stejnému typu a
- 3 CZ 309901 B6 mohou být pouze různými instancemi tohoto typu. Zde je možné, že přístroje samotné dodávají při stejném nastavení hodnot svých procesních parametrů různé výsledky. Pomocí uloženého identifikačního znaku přístroje na vyzařování částic, použitého při vytváření testovací struktury, je pak možné takovéto rozdíly zjistit a stanovit pro přístroj na vyzařování částic, použitý při vytváření testovací struktury, vhodné hodnoty použitých procesních parametrů. Také když je přístroj na vyzařován částic, použitý při vytváření testovací struktury, určitého typu, který je odlišný od typu přístroje na vyzařování částic, jenž byl použit pro vytvoření testovací struktury, je pro uložení identifikačního znaku nápomocné podniknout vhodná přizpůsobení hodnot těch parametrů, které se mohou použít k provozu přístroje na vyzařování částic při vytváření užitkové struktury.
Dále je možné shrnout hodnoty několika procesních parametrů, které se často vyskytují ve své kombinaci, a označit je identifikačním znakem, jehož hodnota jakožto parametr popisuje procesní parametry. V důsledku toho je možné redukovat velikost informační struktury na objektu.
Podle příkladných forem provedení se určuje množství sad hodnot procesních parametrů, přičemž tyto sady hodnot jsou párově od sebe odlišné. Pak je možno vytvořit množství testovacích struktur na objektu, přičemž každá z testovacích struktur se vytvoří při použití jiné sady hodnot procesních parametrů. Množství testovacích struktur, příslušně vytvořené na objektu, reprezentuje tak jednu sérii zkoušek, při níž se změní jeden nebo více procesních parametrů. Také zde se vytvoří na objektu pro každou z testovacích struktur k ní přiřazená informační struktura, přičemž jedna každá z informačních struktur reprezentuje hodnoty sady hodnot procesních parametrů, které se nepoužily pro vytvoření testovací struktury, přiřazené k příslušné informační struktuře.
Podle příkladných forem provedení se později, to znamená po vytvoření testovacích struktur, stanoví vytvářená užitková struktura, která vykazuje určité vlastnosti. Těmito vlastnostmi mohou být například geometrické vlastnosti, jako například rozměry a úhly mezi prvky užitkové struktury. Těmito vlastnostmi mohou být i materiálové vlastnosti, jako například materiál objektu, na němž má být užitková struktura vytvořena, nebo materiál, který se má z objektu odloučit.
Poté se předtím vytvořené testovací struktury analyzují a porovnají se s ohledem na své vlastnosti s požadovanou užitkovou strukturou. Když se nalezne dostatečně podobná testovací struktura, vybere se. Poté se detekuje a analyzuje informační struktura, přiřazená k vybrané testovací struktuře, a to ta tím účelem, aby se zjistily procesní parametry, které se použily pro vytvoření vybrané testovací struktury. Přitom zejména není nutné detekovat i ty informační struktury, které nejsou přiřazeny k vybraným testovacím strukturám.
Objasnění výkresů
Formy provedení vynálezu jsou následně objasněny na základě obrázků. Přitom představuje obrázek 1 graf průběhu způsobu strukturalizace objektu pomocí alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic; a obrázek 2 obraz z elektronového mikroskopu, znázorňující příklad struktury, vytvořené na objektu.
Příklady uskutečnění vynálezu
Následně bude objasněna jedna forma provádění způsobu strukturalizace objektu pomocí přístroje na vyzařování částic s odvoláním na graf průběhu podle obrázku 1. Při tomto popsaném způsobu se používá přístroj na vyzařování částic nebo systém přístrojů na vyzařování částic k
- 4 CZ 309901 B6 tomu účelu, aby se na objektu vytvořila požadovaná struktura, která se následně označí jakožto užitková struktura.
Příkladně bude objasněna jedna forma provádění způsobu strukturalizace objektu pomocí přístroje na vyzařování částic s odvoláním na graf průběhu z obrázku 1. Popsaný způsob používá přístroj na vyzařování částic systému přístrojů na vyzařování částic, který je použitelný k provádění tohoto způsobu, se může vybrat ze spisu DE 102012001267, jehož zveřejnění je v celém rozsahu převzato do předložené patentové přihlášky.
Užitkovou strukturu požaduje například objednatel a ta vykazuje požadované vlastnosti. Požadovanými vlastnostmi mohou být geometrické vlastnosti nebo materiálové vlastnosti. Geometrické vlastnosti popisují prostorové uspořádání struktur například pomocí délkových údajů, které například obsahují vzdálenosti mezi různými prvky struktury nebo úhly, které mají vykazovat různé prvky struktury vzhledem k jiným prvkům této struktury. Materiálové vlastnosti popisují například chemické složení prvků struktury nebo konfiguraci materiálu, jako je například krystalická konfigurace, amorfní konfigurace nebo hustota materiálu.
Úkol tedy pak spočívá v tom, vytvořit na objektu s pomocí přístroje na vyzařování částic nebo s pomocí systému přístrojů na vyzařování částic užitkovou strukturu s požadovanými vlastnostmi. Vytvoření této užitkové struktury obsahuje odstranění materiálu z objektu a odloučení materiálu na objektu, přičemž tyto postupy se ovládají paprskem částic, vytvořeným přístrojem na vyzařování částic. Příslušně je potřebné stanovit hodnoty procesních parametrů, které popisují způsob práce přístroje na vyzařování částic. Tyto procesní parametry mohou například obsahovat parametr, který popisuje paprsek částic, použitý pro vytvoření užitkové struktury. Dále pak mohou tyto procesní parametry obsahovat parametr, který popisuje strategii skenování pro vytvoření užitkové struktury na objektu. Procesní parametry mohou dále obsahovat parametry, které popisují přestávky mezi za sebou následujícími kroky způsobu vytvoření užitkové struktury na objektu. Procesní parametry mohou dále obsahovat parametry, které popisují polohu a/nebo orientaci objektu vzhledem k přístroji na vyzařování částic, použitému při vytváření užitkové struktury. Dále pak mohou procesní parametry obsahovat parametry, které popisují použití procesních plynů, které se aktivují paprskem částic a vedou k odloučení materiálu nebo k odstranění materiálu z objektu. Procesní parametry mohou obsahovat i parametry, které popisují geometrii užitkové struktury, například jako souřadnice ve vhodném souřadnicovém systému.
Nalezení hodnot procesních parametrů, které se použijí pro vytvoření požadované užitkové struktury pomocí přístroje na vyzařování částic a vedou k požadovanému výsledku, je náročné. Ve zde popsaném příkladu se proto provedly řady pokusů s testovacími strukturami a měnícími se sadami hodnot procesních parametrů, aby se pak, když se vytváří užitková struktura, zjistily na základě testovacích struktur vhodné sady hodnot procesních parametru.
V kroku 1 se v grafu průběhu podle obrázku 1 stanoví testovací struktura. Touto testovací strukturou může být jednoduchá geometrická struktura, jako například takové struktury, které obsahují kvádr, jenž se má odloučit ze stanoveného materiálu, jako je například zlato, na určitý objekt, například z křemíku. Na základě dříve získaných zkušeností se stanoví sada hodnot vhodně vypadajících procesních parametrů. Nato se pak hodnoty této sady hodnot mění, aby se získalo množství sad hodnot procesních parametrů, které jsou párově od sebe odlišné. Například se mění hodnoty tří procesních parametrů ve čtyřech krocích, takže pro každý ze tří procesních parametrů existuje pět různých hodnot a vytvoří se 5 x 5 x 5 = 125 různých sad hodnot procesních parametrů 3.
V kroku 5 se hodnoty jedné každé sady procesních parametrů například digitálně zakódují a na objektu se stanoví informační struktura, kterou je možno vytvořit a která reprezentuje zakódované hodnoty. To se provede tak, že se detekuje a analyzuje na objektu později vytvořená informační struktura, aby bylo možno dekódováním obdržet z informační struktury sadu hodnot procesních parametrů. K tou účelu může testovací struktura obsahovat dva různé geometrické
- 5 CZ 309901 B6 prvky, které reprodukují oba stavy bitů v digitální reprezentaci hodnot. Může tak například malá prohlubeň reprezentovat nasazený bit a hlubší prohlubeň nenasazený bit. Sled bitů hodnot odpovídá sledu takových geometrických prvků, které jsou uspořádány v předem stanoveném pořadí v informační struktuře. Tato informační struktura může dále obsahovat značkovací prvky, které umožňují jednoznačnou orientaci a následné přiřazení sledu prvků ke sledu bitů. Příkladem takovéto informační struktury je obvyklý QR-kód. Prvky struktury, reprezentující bity, jsou vytvořeny tak, aby je bylo možno později rozpoznat například elektronovým mikroskopem.
Testovací struktury a k testovacím strukturám přiřazené informační struktury se na objektu vytvoří v krocích 7. Přitom se vytvoří na objektu počet různých testovacích struktur, odpovídající počtu různých sad hodnot procesních parametrů. Tyto testovací struktury se v každém případě zásadně od sebe odlišují, jelikož byly vytvořeny při použití různých hodnot procesních parametrů. Nicméně je však možné, že rozdíly mezi jednotlivými testovacími strukturami je možno pouze těžko zjistit nebo je není možno vůbec zjistit běžnými nebo existujícími metodami měření. Je však nicméně možné i to, že tyto rozdíly bude možno přece jen zjistit budoucími metodami měření. S pomocí kroků 7 se tak vytvoří množství testovacích struktur 9 a příslušný počet informačních struktur 11, přiřazených k testovacím strukturám. Testovací struktury 9 mohou být vytvořeny na stejných nebo na různých objektech v jednom pracovním pochodu. Nicméně se však každá jednotlivá testovací struktura vytvoří spolu s k ní přiřazenou informační strukturou na stejném objektu, takže přiřazení mezi testovací strukturou informační strukturou je trvalé. Toto přiřazení může například spočívat v tom, že se jedna informační struktura na objektu uspořádá stále v předem daném vztahu vzhledem k testovací struktuře. Například se mohou informační struktury vždy vytvářet vpravo dole vedle příslušné testovací struktury. Je také možné, že testovací struktury 9 a přiřazené informační struktury 11 se vytvářejí jednotlivě nebo ve skupinách s velkými časovými odstupy na různých objektech, které se skladují ve skladu a později vytvoří základ pro vytváření požadované užitkové struktury.
Aby se vytvořila požadovaná užitková struktura, porovná se v kroku 13 požadovaná užitková struktura s testovacími strukturami 9. To se může stát například tak, že se sejmou obrazy 30 testovacích struktur 9 z elektronového mikroskopu, z nichž se měřením stanoví zajímavé parametry, a ty se porovnají s odpovídajícími parametry užitkové struktury. Při dalekosáhlém souhlasu se předpokládá, že testovací struktura, u níž k tomuto dalekosáhlému souhlasu došlo, se vytvořila při použití těch procesních parametrů, které jsou vhodné i pro vytvoření požadované užitkové struktury. Tato sada hodnot procesních parametrů se zjistí v kroku 15, v němž se detekuje informační struktura, která je přiřazena k vybrané testovací struktuře. Tato informační struktura se detekuje a analyzuje v kroku 15, přičemž detekce obsahuje například sejmutí obrazu informační struktury z elektronového mikroskopu, a to za tím účelem, aby se dekódováním obsahu obrazu získala sada hodnot procesních parametrů, které se použily pro 5 vytvoření vybrané testovací struktury. Tato sada procesních parametrů pak tvoří základ pro následné formy užitkové struktury v kroku 17, v němž se na objektu vytvoří užitková struktura 19. Pro vytvoření užitkové struktury na objektu se může přímo použít sada hodnot procesních parametrů, zjištěná v kroku 15, nebo se může použít sada hodnot procesních parametrů, která se vytvořila na základě sady hodnot procesních parametrů, stanovená v kroku 15 v jejich obměnou. Například užitková struktura vykazuje vlastnosti, které odpovídají určeným vlastnostem vybrané testovací struktury, a i jiné vlastnosti, které neodpovídají vlastnostem vybrané testovací struktury. Pak se s výhodou převezmou hodnoty procesních parametrů ze sady hodnot, získané v kroku 15, u nichž se předpokládá, že vedou k požadovaným vlastnostem užitkové struktury. Pro vytvoření jiných vlastností užitkové struktury, které se opětovně nenacházejí ve vybrané testovací struktuře, je možno příslušně použít při vytváření užitkové struktury ty hodnoty parametrů, které se odlišují od těch příslušných hodnot procesních parametru, které se použily pro vytvoření vybrané testovací struktury.
Je možné, že v rámci vývoje požadované užitkové struktury získá nějaká její vlastnost velký význam, který doposud nebyl jakožto významná vlastnost znám. Jistě tak to není ten případ, kdy i detailní protokoly v minulosti vyhotovených testovacích struktur měly informace o těchto
- 6 CZ 309901 B6 vlastnostech. Rovněž je předchozím způsobem možné dostat se ke dříve vyhotoveným testovacím strukturám a ty prozkoumat s ohledem na nalezenou vlastnost. Tento průzkum je možno provést na základě měření v minulosti vyhotovených testovacích struktur. Nalezne-li se pak testovací struktura, která má požadovanou vlastnost, je bezprostředně možné zjistit i ty hodnoty procesních parametrů, s nimiž byla tato vybraná testovací struktura vytvořena. Tyto hodnoty procesních parametrů se totiž mohou získat dekódováním informační struktury, přiřazené k testovací struktuře, a pro následující vytvoření užitkové struktury je lze použít spolu s nově vzniklou vlastností.
Přitom je možné, že se automaticky vytvoří informační struktura, vyrobená v kroku 5 podle obrázku 1, například řídicím počítačem přístroje na vyzařování částic, přičemž software řídicího počítače přímo využije hodnoty procesních parametrů, které se používají pro vytvoření testovací struktury a zakóduje je do informační struktury. Tím se konečně stane na objektu vytvořená informační struktura automaticky generovanou strukturou, jejíž vzhled není možno uživatelem přístroje na vyzařování částic ovlivnit. Do určité míry je tato informační struktura stabilní vůči případně nastalým lidským chybám uživatele. To představuje i rozdíl mezi informační strukturou a testovací strukturou nebo užitkovou strukturou, které totiž může zadat uživatel. Chyba uživatele tak muže vést k tomu, že testovací struktura nebo užitková struktura má nesprávnou podobu. Procesní parametry, použité pro vytvoření této nesprávné podoby testovací struktury, jsou však bezchybné a automaticky se zakódují do informační struktury, která se rovněž vytvoří na objektu bezchybně.
K vybrání testovací struktury v kroku 15 může dojít například tak, že uživatel sejme například elektronovým mikroskopem jeden nebo více obrazů testovacích struktur. Identifikuje-li se vhodná testovací struktura, vybere se tak, že se v uživatelském rozhraní elektronového paprskového mikroskopu pomocí zadávacího prostředku, jako například počítačovou myší, označí obrazové znázornění testovací struktury a/nebo k ní přiřazené informační struktury. Poté je možno elektronovým mikroskopem sejmout detailní obraz příslušné informační struktury a tuto informační strukturu dekódovat, aby se stanovily hodnoty procesních parametrů. Stanovené hodnoty procesních parametrů je možno pomocí řídicího softwaru přístroje na vyzařování částic převzít a použít je pro vytvoření užitkové struktury. Dále je možné přenést stanovené hodnoty procesních parametrů i do jiného přístroje na vyzařování částic. To se může stát například přenosem pomocí sítě nebo odesláním hodnot procesních parametrů, například E-mailem, uživateli jiného přístroje na vyzařování částic. Navíc je možno informační strukturu znázornit na obrazovce po zpracování obrazu s ideálním kontrastem, jako například výlučně barvami černou a bílou. Znázorněnou informační strukturu může uživatel například vyfotografovat chytrým telefonem a odeslat ji uživateli jiného přístroje na vyzařování částic, jak je to možné například s pomocí, tak zvaného QR-kódu v jiných oblastech techniky.
Na obrázku 2 je znázorněn příklad testovací struktury, vytvořené na objektu. Testovací struktura má podobu kříže, který je na objektu zobrazen jako prohlubeň. Hodnoty parametrů, které popisuje na objektu geometrie této struktury a zejména její boční rozměr, lze reprezentovat jako souřadnice vzhledem k vyhotovované struktuře, například prostřednictvím následující sady parametrů, která definuje polygonový tah, jenž ohrazuje dva vzájemně se křížící pásy:
<POLYGON points=(14.7009 -9.53764) (17.3879 - 6.85064) (7.56874 2.9685) (17.3879 12.7876) (14.7009 15.4746) (4.88173 5.65551) (-4.9374 15.4746) (-7.62441 12.7876) (2.19473 2.9685) (7.62441 -6.85064) (-4.9374 -9.53764) (4.88173 0.281496) contours= 0>
Objekt v tomto případě sestává z křemíku a hloubka struktury, sestávající ze dvou vzájemně se křížících pásů. obnáší 5 μm.
Hodnoty parametrů, které popisují použitou strategii skenování a dávku částic, je možno reprezentovat následující sadou parametrů:
- 7 CZ 309901 B6 <EXPOSURE version= 2.1 column_type=FIB purpose=FB milling computed_parameter=cycles dwell_times_point=le-006 s dwell_times_line=le-006 s dwell_times_area=le006 s dwell_times_image=le-006 s delay - 'medium cycle_delay=0 s dose_image=0 C/m2 dose_area=100 C/m2 dose_line=0 C/m dose_point=0 C pause=false scanning_mode_fast=by purpose scanning_mode_cycle_mode=by purpose pixel_spacing_image=0 m pixel_spacing-area=50 % pixel_spacing_line=0 m track_spacing=50 % description-' >
Hodnoty parametrů, které popisují použitý paprsek částic, je možno reprezentovat následující sadou parametrů:
<PROBE name=30kV:lnA type=specific current=le-009 A diameter=l .2e-008 m/>
Tyto příkladné sady parametrů je možno spolu s dalšími sadami parametrů napsat ve vhodném kódování jakožto informační strukturu vedle testovací struktury na objekt.
Souhrnně řečeno, navrhuje se tak vytváření struktur na objektu pomocí alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic, který obsahuje stanovení testovací struktury, vytvářené na prvním objektu; stanovení prvních procesních parametrů alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic; vytvoření testovací struktury na prvním objektu při použití prvních procesních parametrů; stanovení informační struktury, přiřazené k testovací struktuře a vytvářené na prvním objektu, která reprezentuje první procesní parametry; vytvoření informační struktury na prvním objektu; stanovení užitkové struktury, vytvářené na druhém objektu; detekování informační struktury, vytvořené na prvním objektu; analyzování detekované informační struktury a stanovení prvních procesních parametrů, reprezentovaných detekovanou informační strukturou; stanovení procesních parametrů na základě stanovených prvních procesních parametrů; a vytvoření užitkové struktury při použití těchto stanovených procesních parametrů.
Claims (8)
1. Způsob uchovávání informací o vytváření struktur na objektu a vytváření struktur na objektu pomocí alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic, přičemž tento způsob obsahuje:
vytvoření první struktury na prvním objektu pomocí uvedeného alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic, přičemž toto vytvoření obsahuje kroky:
- stanovení první struktury, pro vytvoření na prvním objektu;
- stanovení první sady hodnot množiny prvních procesních parametrů alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic v závislosti na první struktuře;
- řízení uvedeného alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic za použití uvedené první sady hodnot prvních procesních parametrů tak, že se vytvoří první struktura na prvním objektu;
vytvoření druhé struktury na prvním objektu pomocí uvedeného alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic, přičemž toto vytvoření obsahuje kroky:
- stanovení druhé struktury pro vytvoření na prvním objektu, přičemž tato druhá struktura je přiřazená k první struktuře a reprezentuje první sadu hodnot prvních procesních parametrů;
- řízení uvedeného alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic tak, že se vytvoří druhá struktura na prvním objektu;
vytvoření třetí struktury na druhém objektu pomocí uvedeného alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic, přičemž toto vytvoření obsahuje kroky:
- stanovení třetí struktury, pro vytvoření na uvedeném druhém objektu;
- detekování druhé struktury, vytvořené na prvním objektu;
- analyzování detekované druhé struktury a stanovení první sady hodnot prvních procesních parametrů, reprezentovaných detekovanou druhou strukturou;
- stanovení druhé sady hodnot z množiny prvních procesních parametrů tak, že se použije stanovená první sada hodnot prvních procesních parametrů jakožto druhá sada hodnot prvních procesních parametrů, nebo tak, že se modifikuje stanovená první sada hodnot prvních procesních parametrů a použije se tato modifikovaná první sada hodnot prvních procesních parametrů jakožto druhá sada hodnot prvních procesních parametrů; a
- řízení uvedeného alespoň jednoho přístroje na vyzařování částic za použití druhé sady hodnot prvních procesních parametrů tak, že se vytvoří třetí struktura na druhém objektu.
2. Způsob podle nároku 1, vyznačující se tím, že alespoň jeden přístroj na vyzařování částic obsahuje přístroj na vyzařování iontů a/nebo přístroj na vyzařování elektronů.
3. Způsob podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že množina procesních parametrů obsahuje:
alespoň jeden parametr, který popisuje paprsek částic, použitý pro vytvoření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje geometrii první struktury, a/nebo
- 9 CZ 309901 B6 alespoň jeden parametr, který popisuje velikost psacího pole, použitou při vytvoření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje dávku částic, použitou pro vytvoření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje vzdálenost bodů rastru od sebe, použitou při vytváření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje strategii skenování, použitou při vytváření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje dobu průběhu skenování, použitou při vytváření první struktury, kterýžto průběh skenování se provádí opakovaně, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje počet opakovaně provedených průběhů skenování, použitých při vytváření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje přestávku mezi za sebou následujícími procesy skenování, které se použijí při vytváření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje procesní plyn, použitý při vytváření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje polohu a/nebo orientaci prvního objektu vzhledem k přístroji na vyzařování částic, použitou při vytváření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje podtlak ve vakuovaném prostoru, obsahujícím první objekt při vytváření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje tok plynu pro zábranu nabití prvního objektu při vytváření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje teplotu prvního objektu při vytváření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje elektrický potenciál prvního objektu vzhledem k přístroji na vyzařování částic při vytváření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje orientaci krystalů prvního objektu vzhledem k přístroji na vyzařování částic při vytváření první struktury, a/nebo alespoň jeden parametr, který popisuje změnu nastavení ohniska přístroje na vyzařování částic během vytváření první struktury.
4. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 3, vyznačující se tím, že druhá struktura vykazuje alespoň jeden identifikační znak pro množinu předem stanovených parametrů a/nebo jeden identifikační znak přístroje na vyzařování částic, použitého pro vytvoření první struktury.
5. Způsob podle nároku 3, vyznačující se tím, že alespoň jeden z parametrů, který popisuje paprsek částic, použitý pro vytvoření první struktury, obsahuje:
parametr, který popisuje kinetickou energii částic v paprsku částic, dopadající na objekt, a/nebo parametr, který popisuje proud paprsků částic, a/nebo parametr, který popisuje průměr paprsku částic, dopadající na objekt, a/nebo
- 10 CZ 309901 B6 parametr, který popisuje pracovní vzdálenost prvního objektu od přístroje na vyzařování částic.
6. Způsob podle jednoho z nároků 3 až 5, vyznačující se tím, že alespoň jeden z parametrů, který popisuje procesní plyn, použitý při vytváření první struktury, obsahuje:
parametr, který popisuje chemické složení procesního plynu, a/nebo parametr, který popisuje tlak procesního plynu, a/nebo parametr, který popisuje hmotnostní proud procesního plynu.
7. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 6, vyznačující se tím, že dále obsahuje:
vytvoření množiny prvních struktur na prvním objektu, přičemž toto vytvoření obsahuje stanovení množiny sad hodnot procesních parametrů, přičemž každá sada hodnot se od každé z ostatních sad hodnot liší alespoň jednou z hodnot, přičemž každá ze struktur se vytvoří za použití jiné sady hodnot prvních procesních parametrů, a vytvoření množiny druhých struktur na prvním objektu, přičemž jedna každá z druhých struktur reprezentuje jinou sadu hodnot procesních parametrů.
8. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 7, vyznačující se tím, že na jednom nebo na několika prvních objektech se vytvoří množina prvních struktur za použití různých prvních sad hodnot prvních procesních parametrů, a přičemž vytvoření třetí struktury obsahuje:
detekování množiny prvních struktur, porovnání detekovaných prvních struktur s třetí strukturou, vytvořenou na druhém objektu, a výběr jedné z prvních struktur;
detekování druhé struktury, přiřazené k vybrané první struktuře, přičemž několik z druhých struktur, které nejsou přiřazeny k vybraným prvním strukturám, se nedetekuje.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102014014572.7A DE102014014572B4 (de) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | Verfahren zum Strukturieren eines Objekts mit Hilfe eines Partikelstrahlgeräts |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ2015668A3 CZ2015668A3 (cs) | 2016-04-13 |
| CZ309901B6 true CZ309901B6 (cs) | 2024-01-24 |
Family
ID=55485514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ2015-668A CZ309901B6 (cs) | 2014-09-30 | 2015-09-29 | Způsob uchovávání informací o vytváření struktur na objektu a vytváření struktur na objektu |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9905395B2 (cs) |
| CZ (1) | CZ309901B6 (cs) |
| DE (1) | DE102014014572B4 (cs) |
| NL (1) | NL2015530B1 (cs) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040015794A1 (en) * | 2002-03-12 | 2004-01-22 | Toshiya Kotani | Method of setting process parameter and method of setting process parameter and/or design rule |
| CN101034183A (zh) * | 2007-03-30 | 2007-09-12 | 苏州苏大维格数码光学有限公司 | 一种导光板/导光膜模仁的制造方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6863787B2 (en) * | 2003-04-02 | 2005-03-08 | Fei Company | Dummy copper deprocessing |
| JP5134944B2 (ja) | 2007-12-27 | 2013-01-30 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画装置及び描画方法 |
| JP5442958B2 (ja) | 2008-04-09 | 2014-03-19 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画装置及び描画方法 |
| JP5425601B2 (ja) * | 2009-12-03 | 2014-02-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置およびその画質改善方法 |
| DE102012001267A1 (de) | 2012-01-23 | 2013-07-25 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Partikelstrahlsystem mit Zuführung von Prozessgas zu einem Bearbeitungsort |
| US9443697B2 (en) * | 2012-01-31 | 2016-09-13 | Fei Company | Low energy ion beam etch |
| US10465293B2 (en) * | 2012-08-31 | 2019-11-05 | Fei Company | Dose-based end-pointing for low-kV FIB milling TEM sample preparation |
-
2014
- 2014-09-30 DE DE102014014572.7A patent/DE102014014572B4/de active Active
-
2015
- 2015-09-28 US US14/867,304 patent/US9905395B2/en active Active
- 2015-09-29 CZ CZ2015-668A patent/CZ309901B6/cs unknown
- 2015-09-30 NL NL2015530A patent/NL2015530B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040015794A1 (en) * | 2002-03-12 | 2004-01-22 | Toshiya Kotani | Method of setting process parameter and method of setting process parameter and/or design rule |
| CN101034183A (zh) * | 2007-03-30 | 2007-09-12 | 苏州苏大维格数码光学有限公司 | 一种导光板/导光膜模仁的制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL2015530B1 (en) | 2018-05-24 |
| US20160090645A1 (en) | 2016-03-31 |
| DE102014014572B4 (de) | 2023-08-17 |
| DE102014014572A1 (de) | 2016-03-31 |
| NL2015530A (en) | 2016-08-25 |
| US9905395B2 (en) | 2018-02-27 |
| CZ2015668A3 (cs) | 2016-04-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU2017344741B2 (en) | System and method for performing automated analysis of air samples | |
| Singh et al. | Bigbird: A large-scale 3d database of object instances | |
| TW201629909A (zh) | 三維物件識別技術 | |
| EP3405910A1 (en) | Deep machine learning methods and apparatus for robotic grasping | |
| CN103218665A (zh) | 可重复过程中感兴趣项的二元分类 | |
| TWI466065B (zh) | 偵測裝置及偵測方法 | |
| JP2011501875A5 (cs) | ||
| JP2007090448A (ja) | 二次元コード検出装置及びそのプログラム、並びに、ロボット制御情報生成装置及びロボット | |
| US10664964B2 (en) | Abnormal detection apparatus and method | |
| Di Giuseppe et al. | Learning cancer-related drug efficacy exploiting consensus in coordinated motility within cell clusters | |
| JP6601613B2 (ja) | 位置推定方法、位置推定装置及び位置推定プログラム | |
| JP2015049776A (ja) | 画像処理装置、画像処理方法及び画像処理プログラム | |
| Tran et al. | A Structured Light RGB‐D Camera System for Accurate Depth Measurement | |
| US20230158679A1 (en) | Task-oriented 3d reconstruction for autonomous robotic operations | |
| CN109978985B (zh) | 数据处理方法及装置、存储介质、电子设备 | |
| JP2011237296A (ja) | ３次元形状計測方法、３次元形状計測装置、及びプログラム | |
| Arents et al. | Integration of computervision and artificial intelligence subsystems with robot operating system based motion planning for industrial robots | |
| CZ309901B6 (cs) | Způsob uchovávání informací o vytváření struktur na objektu a vytváření struktur na objektu | |
| US10967517B2 (en) | Information processing apparatus, method, and storage medium for presenting information for calibration | |
| Lutz et al. | Probabilistic object recognition and pose estimation by fusing multiple algorithms | |
| CN111385813B (zh) | 用于重复活动序列中的循环持续时间测量的***和方法 | |
| JP2011226860A (ja) | 周辺物体検出装置 | |
| CN112446842A (zh) | 基于稀疏和稠密深度图图像重建方法、***、设备及介质 | |
| JP5966701B2 (ja) | 情報処理装置及びプログラム | |
| US20200306018A1 (en) | Optimized library solution for dental implants |