CZ2019113A3 - Způsob ovládání tlakového systému zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu a zařízení vykonávající tento způsob - Google Patents

Způsob ovládání tlakového systému zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu a zařízení vykonávající tento způsob Download PDF

Info

Publication number
CZ2019113A3
CZ2019113A3 CZ2019-113A CZ2019113A CZ2019113A3 CZ 2019113 A3 CZ2019113 A3 CZ 2019113A3 CZ 2019113 A CZ2019113 A CZ 2019113A CZ 2019113 A3 CZ2019113 A3 CZ 2019113A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
pressure
tank
vacuum
time
pump
Prior art date
Application number
CZ2019-113A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ309534B6 (cs
Inventor
Luyang Han
Original Assignee
Carl Zeiss Microscopy Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss Microscopy Gmbh filed Critical Carl Zeiss Microscopy Gmbh
Publication of CZ2019113A3 publication Critical patent/CZ2019113A3/cs
Publication of CZ309534B6 publication Critical patent/CZ309534B6/cs

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/16—Vessels; Containers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/06—Electron sources; Electron guns
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/08—Ion sources; Ion guns
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/02—Details
    • H01J2237/0216—Means for avoiding or correcting vibration effects
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/18—Vacuum control means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/18—Vacuum control means
    • H01J2237/182—Obtaining or maintaining desired pressure
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/18—Vacuum control means
    • H01J2237/182—Obtaining or maintaining desired pressure
    • H01J2237/1825—Evacuating means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
    • H01J2237/24571—Measurements of non-electric or non-magnetic variables
    • H01J2237/24585—Other variables, e.g. energy, mass, velocity, time, temperature

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)

Abstract

Vynález se týká způsobu ovládání tlakového systému zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu. Dále se vynález týká zařízení částicového paprsku vykonávajícího tento způsob. Zejména, zařízení částicového paprsku je zařízení elektronového paprsku a/nebo zařízení iontového paprsku. Způsob se skládá z odpojení čerpadla od tlakové nádrže, připojení tlakové nádrže k vakuové komoře, měření tlaku (V) nádrže přítomného v tlakové nádrži, stanovení první hodnoty tlaku (V1) tlakové nádrže (V) v prvním čase (T1) a druhé hodnoty tlaku (V2) tlaku (V) nádrže v druhém čase (T2), přičemž druhý čas (T2) je pozdější než první čas (T1), stanovení funkčního vztahu mezi první hodnotou tlaku (V1) tlaku (V) nádrže a druhou hodnotou tlaku (V2) tlaku (V) nádrže. Funkční vztah je funkce času, extrapolace funkčního vztahu pro časy pozdější než druhý čas (T2), stanovení prahové hodnoty času (TT1) za použití extrapolovaného funkčního vztahu, přičemž prahová hodnota času (TT1) je čas, kdy extrapolovaná funkce vztahu dosáhne prahové hodnoty tlaku, dále stanovení zbývající časové periody (RT1) dokud tlaková (V) nádrž nedosáhne prahové hodnoty tlaku, a neinformuje uživatele a/nebo řídící systém zařízení o zbývající časové periodě (RT1).

Description

Vynález se týká způsobu ovládání tlakového systému zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu. Dále se vynález týká zařízení částicového paprsku vykonávajícího tento způsob. Konkrétně je zařízení částicového paprsku zařízením s elektronovým nebo s iontovým paprskem.
Dosavadní stav techniky
Zařízení elektronového paprsku, zejména skenovací elektronový mikroskop (nazývaný níže také jako SEM) nebo přenosový elektronový mikroskop (také nazývaný níže jako TEM) se používají ke zkoumání předmětů (také nazývaných jako vzorky) za účelem získání znalosti o vlastnostech a chování předmětů za určitých podmínek.
U SEM je elektronový paprsek (nazývaný níže také jako primární elektronový paprsek) generován pomocí generátoru paprsků a je soustředěn na zkoumaný předmět pomocí systému pro navádění paprsku. Pro účely zaostření je použita čočka objektivu. Primární elektronový paprsek je naváděn přes povrch zkoumaného předmět pomocí vychylovacího zařízení. Toto je také označováno jako skenování. Plocha skenovaná primárním elektronovým paprskem je také označována jako oblast skenování. Zde elektrony primárního elektronového paprsku interagují s předmětem, který má být zkoumán. Interakční částice a / nebo interakční záření jsou výsledkem následku interakce. Příkladem interakčních částic jsou elektrony. Konkrétně jsou elektrony vyzařovány předmětem - tzv. sekundární elektrony - a elektrony primárního elektronového paprsku jsou rozptýleny zpět - tzv. zpětně rozptýlené elektrony. Interakční částice tvoří takzvaný paprsek sekundárních částic a jsou detekovány alespoň jedním detektorem částic. Detektor částic generuje detekční signály, které se používají ke generování snímku předmětu. Tímto dojde k získání snímku zkoumaného předmětu. Příkladem interakčního záření je rentgenové záření nebo katodoluminiscenční světlo. Pro detekci interakčního záření se používá alespoň jeden detektor záření.
V případě TEM je primární elektronový paprsek také generován pomocí generátoru paprsků a směrován na zkoumaný předmět pomocí systému navádění paprsku. Primární elektronový paprsek prochází zkoumaným předmětem. Při průchodu primárního elektronového paprsku zkoumaným předmětem, interagují elektrony primárního elektronového paprsku s materiálem zkoumaného předmětu. Elektrony procházející zkoumaným předmětem jsou zobrazeny na luminiscenčním stínítku nebo na detektoru - například formou kamery - systémem obsahující objektiv. Příklad výše uvedeného systému dále obsahuje také projekční čočku. Zde může také proběhnout snímání ve skenovacím režimu TEM. Takovýto TEM je označován jako STEM. Dodatečně může být zavedeno opatření pro detekci elektronů rozptýlených zpět na zkoumaný předmět a / nebo detekci sekundárních elektronů emitovaných zkoumaným předmětem, a to pomocí alespoň jednoho dalšího detektoru pro snímání zkoumaného předmětu.
Kombinace funkcí STEM a SEM v zařízení s jednorázovým paprskem je známa. Použitím tohoto zařízení částicového paprsku je proto možné zkoumat předměty pomocí funkce SEM a / nebo funkce STEM.
Kromě toho je také známo zařízení částicového paprsku ve formě sloupce iontového paprsku. Ionty používané pro zpracování předmětu jsou generovány pomocí generátoru iontových paprsků umístěného ve sloupci iontového paprsku. Příkladem je odstranění materiálu předmětu nebo
- 1 CZ 2019 -113 A3 nanášení materiálu na předmět během zpracování. Ionty se dají dodatečně nebo alternativně použít pro snímání.
Kromě toho dosavadní stav techniky popsal praxi analýzy a / nebo zpracování předmětu zařízením částicového paprsku za použití jak elektronů, tak iontů. Příkladem je sloupec elektronového paprsku, který má funkci SEM a je umístěn na zařízení částicového paprsku. Na zařízení částicového paprsku je dodatečně umístěn sloupec iontového paprsku, který byl vysvětlen výše. Sloupec elektronového paprsku s funkcí SEM slouží zejména pro další zkoumání zpracovaného nebo nezpracovaného předmětu, ale také pro samotné zpracování objektu.
Při vytváření snímku předmětu je uživatel zařízení s elektronovým paprskem vždy zaměřen na získání ideální kvality záznamu snímku obrazu předmětu, jež je vyžadován pro zkoumání předmětu. Vyjádřeno jinak, uživatel si vždy přeje vygenerovat snímek předmětu s tak vysokou kvalitou snímku, že je schopen dobře analyzovat předmět,který má být zkoumán vzhledem ke snímku a obrazovým informacím obsaženým v něm.
Jak bylo uvedeno výše, je také možné detekovat interakční záření, například ve formě katodoluminiscenčního světla a rentgenového záření. Při detekci interakčního záření může uživatel zařízení elektronového paprsku usilovat především o získání kvalitní reprezentace detekčních signálů detektoru záření založených na zjištěném interakčním záření, jež je požadováno pro zkoumání předmětu. Například pokud je rentgenové záření detekováno detektorem záření, je stanovena kvalita reprezentace např. dobrým detekčním signálem detektoru záření.
Kvalita snímku a znázornění detekčních signálů na základě zjištěné interakce záření závisí na vibracích, zejména generovaných pomocí čerpadel užívaných k vytváření vakua uvnitř zařízení elektronového paprsku a ventilů spojujících komory zařízení s elektronovým paprskem s čerpadly. Známé zařízení elektronového paprsku obsahuje vakuovou komoru. Vakuová komora může obsahovat generátor částic pro generování elektronového paprsku s elektrony a / nebo může obsahovat předmět, který má být zobrazen, analyzován a / nebo zpracován. Turbomolekulámí čerpadlo je kapalně propojeno s vakuovou komorou. Navíc je turbomolekulámí čerpadlo kapalně propojeno s vakuovou nádrží. První ventil je umístěn mezi turbomolekulámí čerpadlo a vakuovou nádrž. Kapalné propojení mezi turbomolekulámím čerpadlem a vakuovou nádrží může být propojeno nebo odpojeno pomocí prvního ventilu. Vakuová nádrž je kapalně propojena s vakuovým čerpadlem. Mezi vakuovou nádrží a vakuovým čerpadlem je umístěn druhý ventil. Kapalné propojení mezi vakuovou nádrží a vakuovým čerpadlem může být připojeno nebo odpojeno pomocí druhého ventilu.
Vakuové čerpadlo se používá k vytvoření vakua s nízkým vakuovým tlakem uvnitř vakuové nádrže. Nízký tlak vakuové nádrže může být roven nebo být větší jak 0,1 Pa. Když tlak vakuové nádrže dosáhne nižší prahové hodnoty, je vakuové čerpadlo odpojeno od vakuové nádrže. Nízká prahová hodnota může být například 0,2 Pa. Jinými slovy, druhý ventil je uzavřen proto, aby bylo přerušeno kapalné propojení mezi vakuovou nádrží a vakuovým čerpadlem. Kromě toho je vakuová nádrž připojena k vakuové komoře. Jinými slovy, kapalné propojení mezi vakuovou nádrží a vakuovou komorou je vytvořeno otevřením prvního ventilu. Při vytvoření kapalného propojení mezi vakuovou komorou a vakuovou nádrží, dojde ke zvýšení přítomného vakuového tlaku. Když tlak vakuové nádrže dosáhne dané prahové hodnoty tlaku vakuové nádrže, první ventil je uzavřen a tím je přerušeno kapalné propojení mezi vakuovou komorou a vakuovou nádrží. Kromě toho je vakuové čerpadlo opět připojeno k vakuové nádrži otevřením druhého ventilu. Vakuová nádrž je vypuštěna pomocí vakuového čerpadla. Výše zmíněný okruh může být zopakován tolikrát, kolikrát je třeba, a to dokud je zařízení elektronového paprsku v provozu.
Otevírání a zavírání prvního ventilu a druhého ventilu může způsobit rušení zařízení elektronového paprsku. Těmito rušeními mohou být vibrace. Dále mohou být vibrace způsobeny také vypouštěním vakuové nádrže. Pokud je předmět snímán během výskytu takovýchto rušení,
-2CZ 2019 -113 A3 získaný snímek předmětu může mít nedostatečnou kvalitu, a proto je třeba zopakovat snímání předmětu, aby byl získán vysoko kvalitní snímek předmětu. Výše zmíněné může být také problém v případě, že dochází k automatickému snímání velkých předmětů a když uživatel zařízení elektronového paprsku není přítomen po celou dobu snímání. Snímek velkého předmětu může zabrat až stovky hodin. Pokud dojde během celého procesu snímání velkého předmětu k několika rušením v různých časech, může být několik získaných snímků nedostatečné kvality. Uživatel musí ručně vybrat snímky, jež nemají dostatečnou kvalitu, a tyto snímky pořídit znovu. Dále mohou rušení způsobit poškození během operace s použitím mikromanipulátoru, který se používá pro umístění předmětu uvnitř předmětové komory zařízení elektronového paprsku. Mikromanipulátor může, když dojde k rušení, kolidovat s předmětem nebo s částí zařízení elektronového paprsku. Toto může zničit předmět a poškodit mikromanipulátor.
Proto je žádoucí poskytnout způsob pro snímání, který není ovlivňován výše uvedeným rušením. Jako jedno z možných řešení je ponechat první a druhý ventil otevřený, takže mezi vakuovou komorou, vakuovou nádrží a vakuovým čerpadlem existuje vždy kapalné propojení. To však může mít také negativní vliv na kvalitu získaných snímků, jelikož vakuové čerpadlo, které má konstantní kapalné propojení, bude pokračovat v chodu, což může vést k poklesu poměru signálu k šumu vzhledem k získaným snímkům.
Úkolem vynálezu je proto určit způsob provozu tlakového systému a to zejména u vakuového systému zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu a zařízení pro vykonání tohoto způsobu, který zajišťuje dostatečnou kvalitu obrazu předmětu, i v případě, kdy by mohlo dojít k poruchám způsobených ventily.
Podstata vynálezu
Podle tohoto vynálezu je tento úkol řešen způsobem dle nároku 1. Další způsob vynálezu je uveden v nároku 9. Počítačový program obsahující programový kód pro ovládání zařízení s částicovými paprsky je dán vlastnostmi nároku 11. Zařízení částicového paprsku pro vykonávání způsobuje uvedeno v nároku 12. Další vlastností vynálezu jsou zřejmé z následujícího popisu, následujících tvrzení a/nebo doprovodných obrázků.
Způsob dle vynálezu se používá pro ovládání tlakového systému zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu. Tlakovým systémem může být například vakuový systém nebo tlumicí jednotka výše zmíněného zařízení. Vakuový systém může obsahovat alespoň jednu komoru pod vakuem a alespoň jedno čerpadlo pro generování vakua. Výše zmíněné zařízení může být umístěno na tlumicí jednotce, která je pro změnu umístěna na povrchu. Povrchem může být například podlaha místnosti. Tlumicí jednotka je použita pro tlumení vibrací, jež mohou být skrze podlahu přenášeny na výše zmíněné zařízení.
Zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu může být zařízení částicového paprsku, zejména zařízení elektronového paprsku nebo zařízení iontového paprsku. Zařízení částicového paprsku může obsahovat alespoň jeden generátor částic pro generování částicového paprsku s nabitými částicemi a alespoň jednu čočku objektivu pro zaostření částicového paprsku na předmět. Nabité částice mohou být elektrony nebo ionty. Dále může zařízení částicového paprsku obsahovat alespoň jeden detektor pro detekci interakčních částic a / nebo interakčního záření a interakční částice a interakční záření generované při dopadu paprsku částic na předmět. Interakční částice mohou být sekundární částice, například sekundární elektrony, nebo zpětně odražené částice, například zpětně odražené elektrony. Interakční záření může být rentgenové záření nebo katodoluminiscenční světlo.
Zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu, konkrétně zařízení částicového paprsku, se může skládat z alespoň jedné vakuové komory. Předmět, který má být snímán, analyzován a/nebo zpracován, může nebo je umístěn ve vakuové komoře. Mimo to, výše zmíněné
-3 CZ 2019 -113 A3 zařízení může mít tlakovou nádrž. Tlaková nádrž může být kapalně propojena s alespoň jedním čerpadlem. Ventil je umístěn mezi tlakovou nádrží a čerpadlem. Kapalné propojení mezi vakuovou nádrží a čerpadlem může být propojeno nebo odpojeno pomocí ventilu.
Způsob dle vynálezu zahrnuje krok odpojení čerpadla od tlakové nádrže. Jinými slovy, kapalné propojení mezi tlakovou nádrží a čerpadlem je odpojeno. Například, pro odpojení čerpadla od tlakové nádrže je nutno zavřít ventil.
Způsob dle vynálezu rovněž zahrnuje krok měření tlaku zásobníku, který je přítomen v tlakovém zásobníku. Například jednotka měření tlaku umístěná na tlakové nádrži se používá pro měření tlaku nádrže. Konkrétně je stanovena nejméně jedna první tlaková hodnota tlaku nádrže při prvním čase TI a nejméně jedna druhá tlaková hodnota tlaku nádrže při druhém čase T2. Druhý čas T2 je pozdější než první čas TI. Vynález není omezeno na určení dvou hodnot tlaku, jmenovitě první tlakové hodnoty tlaku nádrže v prvním čase TI a druhé tlakové hodnoty tlaku nádrže ve druhém čase T2. Vynález dále spočívá v určování více než dvou tlakových hodnot tlaku nádrže, každá v různých časech a to zejména 5, 10, 15, 20 nebo až 100 tlakových hodnot tlaku nádrže, přičemž každá tlaková hodnota tlaku nádrže je určena v jiném čase.
Kromě toho způsob dle vynálezu zahrnuje krok určování funkčního vztahu mezi první tlakovou hodnotou tlaku v nádrži a druhou tlakovou hodnotou tlaku v nádrži. Funkční vztah je funkcí času. Funkční vztah T může být stanoven různými metodami, například pomocí interpolace první tlakové hodnoty tlaku nádrže a druhé tlakové hodnoty tlaku nádrže. Další metody jsou podrobněji vysvětleny níže. Funkční vztah může být lineární nebo nelineární vztah. Kroková funkce může také sestávat z funkčního vztahu nebo může tvořit první funkční vztah.
Další krok způsobu dle vynálezu zahrnuje extrapolaci funkčního vztahu pro pozdější čas než druhý čas T2. Jinými slovy, je stanoveno, jak se tlak nádrže tlakové nádrže zvyšuje nebo snižuje po druhém čase T2. V dalším kroku způsobu dle vynálezu je stanovena prahová hodnota času za použití extrapolovaného funkčního vztahu. Prahová hodnota času je čas, kdy extrapolovaný funkční vztah dosáhne prahové hodnoty tlaku daného pro tlak nádrže. Prahová hodnota tlaku může být dána uživatelem a / nebo systémem řízení u zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu. Prahová hodnota tlaku je hodnota tlaku, která nesmí být překročena nebo nedosažena, v opačném případě je tlak ve vakuové komoře a / nebo v tlakové nádrži nedostatečný pro dobré snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu v zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu.
Další krok způsobu dle vynálezu zahrnuje stanovení zbývající časové periody, do které tlak nádrže dosáhne prahové hodnoty tlaku. Zbývající časová perioda je časový rozdíl mezi prahovou hodnotou času a druhou hodnotou času T2. Jinými slovy, zbývající časová perioda odpovídá času, jež zbývá, dokud tlak nádrže nedosáhne prahové hodnoty tlaku. Další krok způsobu podle vynálezu zahrnuje informování uživatele a / nebo řídicího systému zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu o zbývající časové periodě. Zejména zbývající časová perioda může být uživateli zobrazena.
Způsob podle vynálezu má tu výhodu, že uživatel a / nebo řídicí systém zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu jsou informováni, jestliže může dojít k poruchám způsobeným otevřením a uzavřením ventilu. Proto uživatel a / nebo řídicí systém zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu vědí, kdy tato rušení mohou nastat a mohou se takovéto situaci přizpůsobit. Zejména uživatel a / nebo řídicí systém zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu může zastavit jakékoli snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu, když je čerpadlo připojeno k tlakové nádrži a tlaková nádrž je pomocí čerpadla vyprázdněn nebo naplněn vzduchem popřípadě plynem. Tímto způsobem je snížen zejména počet nekvalitních snímků. Navíc je způsob dle vynálezu výhodný zejména pro snímání velkých předmětů. Vzhledem k tomu, že jsou známy časy výskytu rušení, může být snímání velkého předmětu během výskytu rušení zastaveno. Tímto způsobem budou získány pouze
-4CZ 2019 -113 A3 snímky velkého předmětu, které nejsou rušením narušeny. Tyto snímky mají dostatečnou kvalitu pro analýzu. Dodatečně, protože jsou známy časy výskytu rušení, mohou být také činnosti, jako je použití mikromanipulátoru používaného pro umístění předmětu uvnitř předmětové komory zařízení pro snímání, analýzu a zpracování předmětu, během výskytu rušení zastaveny. Tímto způsobem je riziko zničení předmětu a poškození mikromanipulátoru nižší.
V jednom provedení způsobu dle vynálezu je dodatečně nebo alternativně stanoveno, že tlakový zásobník je vakuová nádrž a že tlak zásobníku je tlak vakuové nádrže a prahová hodnota tlaku je horní prahová hodnota. Vakuová komora může být kapalně propojena s vakuovou nádrží. Například první ventil je umístěn mezi vakuovou komorou a vakuovou nádrží. Kapalné propojení mezi vakuovou komorou a vakuovou nádrží může být propojeno nebo odpojeno pomocí prvního ventilu. Dále je mezi vakuovou nádrží a vakuovým čerpadlem umístěn druhý ventil. Kapalné propojení mezi vakuovou nádrží a čerpadlem může být propojeno nebo odpojeno pomocí druhého ventilu. Provedení způsobu dle vynálezu zahrnuje krok připojení vakuové nádrže k vakuové komoře po, během nebo před odpojením čerpadla od vakuové nádrže. Jinými slovy, je vytvořeno kapalné propojení mezi vakuovou komorou a vakuovou nádrží. Například první ventil je otevřen pro vytvoření kapalného propojení mezi vakuovou komorou a vakuovou nádrží. Dodatečně nebo alternativně může být ve vakuové komoře umístěno další čerpadlo. Další čerpadlo je kapalně propojeno s vakuovou komorou. Kromě toho, je další čerpadlo kapalně propojeno s vakuovou nádrží. Například první ventil je umístěn mezi dalším čerpadlem a vakuovou nádrží. Kapalné propojení mezi dalším čerpadlem, vakuovou nádrží a vakuovou komorou může být propojeno nebo odpojeno pomocí prvního ventilu.
V provedení způsobu dle vynálezu je dodatečně nebo alternativně stanoveno, že tlaková nádrž je zásobník tlumicí jednotky s přetlakem a že tlak nádrže je tlak přetlakové nádrže, přičemž prahová hodnota tlaku je nižší prahová hodnota.
Jak již bylo uvedeno výše, je ve způsobu vynálezu dodatečně nebo alternativně stanoveno, že způsob zahrnuje zastavení snímání, analýzy a / nebo zpracování předmětu pomocí zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu po zbývající časové periodě, tj. když je dosažena prahová hodnota času. K tlakové nádrži je připojeno čerpadlo. Kromě toho, pokud je tlaková nádrž vakuová nádrž, je vakuová nádrž odpojena od vakuové komory. Tím pádem, když je čerpadlo připojeno k tlakové nádrži není předmět snímán, analyzován a/nebo zpracováván pomocí zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu.
Kromě toho je v provedení způsobu dle vynálezu dodatečně nebo alternativně stanoveno, že způsob nestanovuje pouze jedna zbývající časová perioda jednoho tlakové nádrži zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu. Provedení způsobu dle vynálezu spíše stanovuje několik zbývajících časových period několika tlakových nádrží zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu. Tudíž tlaková nádrž zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu může být první tlakovým zásobníkem a tlak nádrže může být prvním tlakem nádrže. Dále může být čerpadlo prvním čerpadlem a prahová hodnota tlaku může být první prahovou hodnotou tlaku. Kromě toho může být prahová hodnota času první prahovou hodnotou času a funkční vztah může být první funkční vztah. Druhá tlaková nádrž může být kapalně propojen s alespoň jedním druhým čerpadlem. Mezi druhou tlakovou nádrží a druhým čerpadlem je umístěn ventil. Kapalné propojení mezi druhým tlakovou nádrží a druhým čerpadlem může být pomocí tohoto ventilu propojeno nebo odpojeno. Dodatečně nebo alternativně může být ve vakuové komoře umístěno další čerpadlo, přičemž další čerpadlo je kapalně propojeno s vakuovou komorou a s druhým tlakovou nádrží. Ventil je umístěn mezi dalším čerpadlem a druhou tlakovou nádrží. Kapalné propojení mezi dalším čerpadlem, druhou tlakovou nádrží a vakuovou komorou může být pomocí tohoto ventilu propojeno nebo odpojeno.
Toto provedení způsobu dle vynálezu zahrnuje krok odpojení druhého čerpadla od druhé tlakové nádrže. Jinými slovy, kapalné propojení mezi druhým takovou nádrží a druhým čerpadlem je odpojeno. K odpojení například druhého čerpadla od druhé vakuové nádrže je nutné ventil zavřít.
-5 CZ 2019 -113 A3
Toto provedení způsobu dle vynálezu zahrnuje krok měření tlaku druhého zásobníku, přítomného ve druh tlakové nádrži. Například další měřící jednotka tlaku, umístěná na druhém tlakové nádrži, se používá pro měření tlaku druhé nádrže. Zejména je stanovena nejméně jedna první tlaková hodnota tlaku druhé nádrže v třetím čase T3 a nejméně jedna druhá tlaková hodnota tlaku druhé nádrže ve čtvrtém čase T4. Čtvrtý čas T4 je pozdější než třetí čas T3. Vynález není omezen na určení dvou hodnot tlaku, jmenovitě první tlakové hodnoty tlaku druhé nádrže ve třetím čase T3 a druhé tlakové hodnoty tlaku druhé nádrže ve čtvrtém čase T4. Spíše vynález spočívá ve stanovení více než dvou tlakových hodnot tlaku nádrže, každá v různých časech a to zejména 5, 10, 15, 20 nebo až 100 tlakových hodnot tlaku nádrže, přičemž každá tlaková hodnota tlaku zásobníku je stanovena v jiném čase.
Dále způsob dle vynálezu zahrnuje krok určování funkčního vztahu mezi první tlakovou hodnotou tlaku nádrže a druhou tlakovou hodnotou tlaku nádrže. Druhý funkční vztah je druhou funkcí času. Funkční vztah T může být stanoven různými metodami, například pomocí interpolace první tlakové hodnoty tlaku druhé nádrže a druhé tlakové hodnoty tlaku druhé nádrže. Další metody jsou podrobněji vysvětleny níže. Druhý funkční vztah může být lineární nebo nelineární vztah. Krok funkce může také sestávat ze vztahu druhé funkce nebo tvaru druhého funkčního vztahu.
Dalším krok provedení způsobu dle vynálezu zahrnuje extrapolaci druhého funkčního vztahu pro pozdější časy než je čtvrtý čas T4. Jinými slovy, je stanoveno, jak se druhý tlak nádrže druhé tlakové nádrže zvyšuje nebo snižuje po čtvrtém čase T4. Další krok provedení způsobu dle vynálezu je stanoveni druhé prahové hodnoty času za použití extrapolovaného druhého funkčního vztahu. Druhá prahová hodnota času je čas, kdy extrapolovaný druhý funkční vztah dosáhne druhé prahové hodnoty tlaku daného pro tlak druhé nádrže. Prahová hodnota tlaku může být dána uživatelem a / nebo systémem řízení u zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu. Druhá prahová hodnota tlaku je hodnota tlaku, která nesmí být překročena nebo nedosažena, v opačném případě je tlak ve vakuové komoře a / nebo ve druhém tlakové nádrži nedostatečný pro dobré snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu v zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu.
Další krok provedení způsobu dle vynálezu zahrnuje určení druhé zbývající časové periody, dokud tlak druhé nádrže nedosáhne druhé prahové hodnoty tlaku. Druhá zbývající časová perioda je časový rozdíl mezi druhou prahovou hodnotou a čtvrtou hodnotou času T4. Jinými slovy, druhá zbývající časová perioda odpovídá době, která je ponechána, dokud tlak druhé nádrže nedosáhne druhé prahové hodnoty tlaku. V dalším kroku provedení způsobu dle vynálezu způsob zahrnuje informování uživatele a / nebo řídicího systému zařízení pro snímání, analýzu a zpracování předmětu a o druhé zbývající časové periodě. Zejména druhá zbývající časová perioda může být zobrazena uživateli.
V provedení způsobu dle vynálezu je dodatečně nebo alternativně stanoveno, že druhý tlaková nádrž je vakuová nádrž a že tlak nádrže je druhý tlak vakuové nádrže a druhá prahová hodnota tlaku je druhá horní prahová hodnota. Vakuová komora může být kapalně propojena s druhou vakuovou nádrží. Třetí ventil může být umístěn mezi vakuovou komorou a druhou vakuovou nádrží. Kapalné propojení mezi vakuovou komorou a druhou vakuovou nádrží může být pomocí třetího ventilu propojeno nebo odpojeno. Kromě toho je mezi druhou vakuovou nádrží a druhým čerpadlem umístěn čtvrtý ventil. Kapalné propojení mezi druhou vakuovou nádrží a druhým čerpadlem může být propojeno nebo odpojeno pomocí čtvrtého ventilu. Způsob provedení vynálezu zahrnuje krok připojení druhé vakuové nádrže k vakuové komoře po, během nebo před odpojením druhého čerpadla od druhé vakuové nádrže. Jinými slovy, je vytvořeno kapalné propojení mezi vakuovou komorou a druhou vakuovou nádrží. Například třetí ventil je otevřen pro vytvoření kapalného propojení mezi vakuovou komorou a druhou vakuovou nádrží. Dodatečně nebo alternativně může být ve vakuové komoře umístěno další čerpadlo. Další čerpadlo je kapalně propojeno s vakuovou komorou. Kromě toho je další čerpadlo kapalně
-6CZ 2019 -113 A3 propojeno s druhou vakuovou nádrží. Třetí ventil je například umístěn mezi dalším čerpadlem a druhou vakuovou nádrží. Kapalné propojení mezi dalším čerpadlem, druhou vakuovou nádrží a vakuovou komorou může být propojeno nebo odpojeno pomocí třetího ventilu.
V provedení způsobu dle technického řešení je dodatečně nebo alternativně stanoveno, že druhý vynález je zásobník druhé tlumicí jednotky s přetlakem a že tlak druhé nádrže je tlak druhé přetlakové nádrže, přičemž druhá prahová hodnota tlaku je druhá nižší prahová hodnota.
V provedení způsobu dle vynálezu je dodatečně nebo alternativně stanoveno, že první čerpadlo je totožné s druhým čerpadlem. Jinými slovy, první tlaková nádrž a druhá tlaková nádrž jsou kapalně propojeny se stejnými čerpadly. Kromě toho je v provedení způsobu dle vynálezu dodatečně nebo alternativně stanoveno, že první funkční vztah je totožný s druhým funkčním vztahem.
V dalším provedení způsobu dle vynálezu je dodatečně nebo alternativně stanoveno, že způsob zahrnuje informování uživatele a / nebo řídicího systému zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu, o tom jestli je kratší první zbývající časová perioda a/nebo druhá zbývající časová perioda. Dodatečně nebo alternativně způsob zahrnuje informování uživatele a/nebo řídicího systému zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu, jestli je kratší jeho první a nebo druhá zbývající časová perioda a to v případě, že je časový rozdíl mezi první a druhou zbývajícím časovou periodou kratší než 1 nebo 2 minuty. Výše uvedené provedení způsobu dle vynálezu je založen na následujících myšlenkách. Jak bylo uvedeno výše, zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu může obsahovat několik tlakových nádrží. Každá z tlakových nádrží může být monitorována a zbývající časová perioda je stanovena pro každou tlakovou nádrž. Uživatel a / nebo řídicí systém zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu je informován o době příštího rušení, jež má nejmenší časovou periodu s ohledem na několik monitorovaných tlakových nádrží. Navíc, jestliže jsou poruchy vzhledem k několika tlakovým nádržím v určitém čase těsně u sebe, provedení způsobu dle vynálezu kombinuje tato rušení do jediného rušení tak, že uživatel a / nebo řídicí systém zařízení pro snímání, analyzování a / nebo zpracování předmětu je informován o jediném rušení s ohledem na tlakové zásobníky, přičemž jediné rušení je dáno nejkratší zbývající časovou periodou všech zbývajících časových period sledovaných tlakových nádrží.
Další způsob dle vynálezu je použit také k ovládání tlakového systému zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu. Další způsob může být kombinován se způsobem obsahujícím alespoň jeden z výše uvedených kroků nebo kombinace alespoň dvou z výše uvedených kroků. Tlakovým systémem může být například vakuový systém nebo tlumicí jednotka výše zmíněného zařízení. Vakuový systém může obsahovat alespoň jednu komoru pod vakuem a alespoň jedno čerpadlo pro generování vakua. Výše zmíněné zařízení může být umístěno na tlumicí jednotce, která je pro změnu umístěna na povrchu. Povrchem může být například podlaha místnosti. Tlumicí j ednotka j e použita pro tlumení vibrací, j ež mohou být skrze podlahu přenášeny na výše zmíněné zařízení.
Zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu, ve kterém je použit další způsob, může být zařízení částicového paprsku a to zejména zařízení elektronového paprsku a / nebo zařízení iontového paprsku. Zařízení částicového paprsku může obsahovat alespoň jeden generátor částic pro generování částicového paprsku s nabitými částicemi a alespoň jednu čočku objektivu pro zaostření částicového paprsku na předmět. Nabité částice mohou být elektrony nebo ionty. Dále může zařízení částicového paprsku obsahovat alespoň jeden detektor pro detekci interakčních částic a / nebo interakčního záření a interakční částice a interakční záření generované při dopadu paprsku částic na předmět. Interakční částice mohou být sekundární částice, například sekundární elektrony, nebo zpětně odražené částice, například zpětně odražené elektrony. Interakční záření může být rentgenové záření nebo katodoluminiscenční světlo.
-7 CZ 2019 -113 A3
Zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu, konkrétně zařízení částicového paprsku, se může skládat z alespoň jedné vakuové komory. Předmět, který má být snímán, analyzován a / nebo zpracován, může být nebo je umístěn ve vakuové komoře. Mimo to, výše zmíněné zařízení může mít tlakovou nádrž. Tlaková nádrž může být navíc kapalně propojen s alespoň jedním čerpadlem. Ventil je umístěn mezi tlakovou nádrží a čerpadlem. Kapalné propojení mezi vakuovou nádrží a čerpadlem může být propojeno nebo odpojeno pomocí ventilu.
Další způsob dle vynálezu zahrnuje krok odpojení čerpadla od tlakové nádrže. Jinými slovy, kapalné propojení mezi tlakovou nádrží a čerpadlem je odpojeno. Například, pro odpojení čerpadla od tlakové nádrže je nutno zavřít ventil.
Způsob podle vynálezu rovněž zahrnuje krok měření tlaku nádrže, který je přítomen v tlakové nádrži. Například jednotka měření tlaku umístěná na tlakové nádrži se používá pro měření tlaku nádrže. Dále je určeno, kdy tlak zásobníku dosáhne prahové hodnoty tlaku daného pro tlak nádrže. Prahová hodnota tlaku může být dána uživatelem a / nebo systémem řízení u zařízení pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu. Prahová hodnota tlaku je hodnota tlaku, která nesmí být překročena nebo nedosažena, v opačném případě je tlak ve vakuové komoře a / nebo v tlakové nádrži nedostatečný pro dobré snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu v zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu.
Další způsob dle vynálezu zahrnuje krok zastavení snímání, analýzy a / nebo zpracování předmětu během daného zpoždění po dosažení tlakového limitu tlaku nádrže. Zadané zpoždění může trvat méně než dvě minuty, méně než jednu minutu nebo méně než 30 sekund. Další způsob dle vynálezu také zahrnuje připojení čerpadla k tlakové nádrži. Například ventil je pro vytvoření kapalného propojení mezi tlakovou nádrží a čerpadlem otevřen. Proto, když je čerpadlo připojeno k tlakové nádrži je snímání, analýza a / nebo zpracování předmětu zastaveno.
V provedení dalšího způsobu dle vynálezu je dodatečně nebo alternativně zajištěno, že způsob zahrnuje, že tlakový zásobník je vakuová nádrž a že tlak zásobníku je tlak vakuové nádrže, přičemž prahová hodnota tlaku je horní prahová hodnota, přičemž po odpojení čerpadla od vakuové nádrže je vakuová nádrž připojena k vakuové komoře zařízení. Ventil je například uzavřen nebo otevřen, tak aby narušil kapalné propojení mezi vakuovou nádrží a vakuovou komorou. Dále je vakuová nádrž odpojena od vakuové komory s daným zpožděním poté, co tlak vakuové nádrže dosáhl prahové hodnoty tlaku.
V provedení podle dalšího způsobu dle vynálezu je dodatečně nebo alternativně stanoveno, že způsob zahrnuje, že tlaková nádrž je zásobník tlumicí jednotky s přetlakem a že tlak nádrže je tlak přetlakové nádrže, přičemž prahová hodnota tlaku je nižší prahová hodnota.
Další způsob dle vynálezu má tu výhodu, že uživatel a / nebo řídicí systém zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu může dokončit proces snímání, analýzy a / nebo zpracování předmětu dříve než mohou rušení nastat. Tímto způsobem je snížen zejména počet nekvalitních snímků. Kromě toho je následující způsob dle vynálezu také výhodný zejména pro snímání velkých předmětů nebo automatizovaných procesů snímání předmětu. Dodatečně, jelikož rušení nezačne předtím, než budou zastaveny specifické operace zařízení pro snímání, analýzu a zpracování předmětu, dojde k zabránění poškození předmětu nebo částí zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu, zejména je zabráněno poškození předmětu nebo mikromanipulátoru používaného pro umístění předmětu uvnitř zařízení pro snímání, analýzu a zpracování předmětu.
Vynález se rovněž týká počítačového programu obsahujícího programový kód, který může být načten nebo je načítán do procesoru a který, při spuštění, řídí zařízení částicového paprsku takovým způsobem, že je proveden způsob, jež obsahuje alespoň jeden z výše uvedených nebo dále uvedených kroků popřípadě z kombinace alespoň dvou z výše uvedených nebo níže uvedených kroků.
-8CZ 2019 -113 A3
Vynález se rovněž týká zařízení částicového paprsku pro snímání, analyzování a/nebo zpracování předmětu. Zařízení částicového paprsku obsahuje alespoň jeden generátor částic pro generování částicového paprsku obsahujícího nabité částice. Nabité částice mohou být elektrony nebo ionty. Zařízení částicového paprsku má dle vynálezu také alespoň jednu čočku objektivu pro zaostření částicového paprsku na předmět. Navíc zařízení částicového paprsku má dle vynálezu alespoň jeden detektor pro detekci interakčních částic a/nebo interakčního záření, interakční částice a interakční záření jsou generovány, když paprsek částic zasahuje předmět. Interakční částice mohou být sekundární a / nebo zpětně rozptýlené částice, zejména sekundární elektrony a zpětně rozptýlené elektrony. Interakční záření může být rentgenové záření a / nebo katodoluminiscenční světlo.
Zařízení částicového paprsku dle vynálezu navíc obsahuje vakuovou komoru. Vakuová komora může být předmětová komora, ve které může být umístěn předmět, který má být snímán, analyzován a/nebo zpracován. Dodatečně nebo alternativně může být vakuovou komorou jakákoli komora, ve které jsou umístěny části zařízení částicového paprsku, které kolem sebe vyžadují vakuum. Zařízení částicového paprsku dle vynálezu navíc obsahuje alespoň jednu tlakovou nádrž. Dodatečně je alespoň jedno čerpadlo přizpůsobeno pro připojení k tlakové nádrži. V jednom provedení zařízení částicového paprsku je dle vynálezu ventilu umístěn mezi vakuovou komorou a tlakovou nádrží. V dalším provedení zařízení částicového paprsku dle vynálezu může být mezi tlakovou nádrží a čerpadlem umístěn druhý ventil.
Zařízení částicového paprsku dle vynálezu také obsahuje alespoň jeden procesor, do něhož je vložen počítačový program jako ten, který byl zmíněn výše.
V jednom provedení zařízení částicového paprsku je dle vynálezu dodatečně nebo alternativně stanoveno, že tlakovou nádrží je jeden z následujících: (i) vakuová nádrž upravený tak, aby byl kapalně propojen s vakuovou komorou nebo (ii) přetlaková nádrž tlumicí jednotky. Tlumicí jednotka je vysvětlena výše.
V dalším provedení zařízení částicového paprsku je dle vynálezu dodatečně nebo alternativně stanoveno, že tlaková nádrž je uzavírací komora. Uzavírací komora je výměnná komora zařízení částicového paprsku, do níž je předmět vložen předtím, než je dále zaveden do vakuové komory zařízení paprsků částic.
V dalším provedení zařízení částicového paprsku je dle vynálezu dodatečně nebo alternativně stanoveno, že generátor částic je generátor prvních částic pro generování prvního paprsku částic obsahujícího první nabité částice. Čočka objektivu je první čočkou objektivu pro zaostření prvního paprsku částic na objekt. Zařízení částicového paprsku podle provedení dle vynálezu dále obsahuje druhý generátor částic pro generování druhého částicového paprsku obsahujícího druhé nabité částice a druhou čočkou objektivu pro zaostření druhého částicového paprsku na předmět. Druhou nabitou částicí mohou být elektrony a / nebo ionty.
V dalším provedení zařízení částicového paprsku dle vynálezu je dodatečně nebo alternativně stanoveno, že zařízení částicového paprsku je alespoň jedno z následujících: zařízení s elektronovým paprskem a zařízení s iontovým paprskem. Konkrétně může být zařízení částicového paprsku jak zařízením elektronového paprsku, tak i zařízení iontového paprsku.
Objasnění výkresů
Zde popsaná provedení vynálezu budou podrobněji vysvětlena v následujícím textu s odkazem na obrázky, u kterých:
-9CZ 2019 -113 A3
Obr. 1 znázorňuje schematické znázornění prvního provedení zařízení částicového paprsku;
Obr. 1A znázorňuje schematické znázornění druhého provedení zařízení částicového paprsku;
Obr. 2 paprsku; znázorňuje schematické znázornění třetího provedení zařízení částicového
Obr. 3 znázorňuje schematické znázornění čtvrtého provedení zařízení částicového paprsku;
Obr. 4 3; znázorňuje další schematické znázornění zařízení částicového paprsku podle obr.
Obr. 5 zobrazuje schematické znázornění vakuového systému ve formě čerpadlového systému;
Obr. 5A znázorňuje další schematické znázornění vakuového systému ve formě čerpadlového systému podle obrázku 5;
Obr. 6 znázorňuje vývojový diagram provedení způsobu provozu vakuového systému;
Obr. 6A znázorňuje další vývojový diagram provedení způsobu provozu vakuového systému dle obrázku 6;
Obr. 7 znázorňuje schematické znázornění tlaku vakuové nádrže, který je přítomen ve vakuové nádrži v závislosti na čase;
Obr. 8 znázorňuje vývojový diagram dalšího provedení způsobu provozu vakuového systému;
Obr. 9 znázorňuje vývojový diagram jiného provedení způsobu provozu vakuového systému;
Obr. 10 znázorňuje schematické znázornění dalšího vakuového systému ve formě čerpadlového systému;
Obr. 11 znázorňuje schematické znázornění tlakového systému ve formě tlumicí jednotky;
Obr. 12 znázorňuje vývojový diagram provedení způsobu ovládání tlakového systému ve formě tlumicí jednotky;
Obr. 13 znázorňuje schematické znázornění tlaku nádrže, který je přítomen v tlakové nádrži, v závislosti na čase.
Příklad uskutečnění vynálezu
Obrázek 1 znázorňuje schematické znázornění SEM 100. SEM 100 má generátor paprsků ve formě zdroje 101 elektronů, který je katodou, extrakční elektrodou 102 a anodou 103, která je umístěna na konci paprsku vodicí trubice 104 vedení SEM 100. Zdrojem 101 elektronů je například emitor tepelného pole. Avšak vynález není omezeno jen na takovýto zdroj elektronů. Místo toho může být použit jakýkoli zdroj elektronů.
- 10CZ 2019 -113 A3
Elektrony vycházející ze zdroje elektronů 101 tvoří primární elektronový paprsek. Elektrony jsou zrychleny na anodový potenciál v důsledku potenciálního rozdílu mezi zdrojem 101 elektronů a anodou 103. Anodový potenciál v tomto příkladném provedení je mezi 0,2 kV a 30 kV vzhledem k zemnímu potenciálu předmětové komory 120, například 5 kV až 15 kV, zejména 8 kV, ale alternativně by mohl být také na potenciálu země.
Dvě kondensační čočky jsou uspořádány v paprsek vodicí trubici 104, tj. při pohledu od zdroje 101 elektronů směrem k čočce 107 objektivu je první kondensační čočka 105 a druhá kondensační čočka 106, první kondensační čočka 105 je umístěna jako první a poté druhá kondensační čočka 106. Vynález však není omezeno na použití dvou kondenzátorových čoček. Místo toho mohou další provedení obsahovat pouze jednu kondenzátorovou čočku.
Mezi anodou 103 a první kondensační čočkou 105 je umístěna první clonová jednotka 108. První clonová jednotka 108 má spolu s anodou 103 a s paprsek vodicí trubicí 104 paprsku vysokonapěťový potenciál, tj. potenciálem anody 103 nebo s potenciálem země. První clonová jednotka 108 může mít několik prvních clonových otvorů 108A clony. Jeden z těchto prvních clonových otvorů 108A je znázorněn na Obrázku 1. Například první clonová jednotka 108 má dva první clonové otvory 108A. Každý z několika prvních clonových otvorů 108A může mít jiný průměr otvoru. Vybraný první clonový otvor 108A může být umístěn na optické ose OA SEM 100 pomocí adaptačního mechanismu. Tento vynález však není omezen na toto provedení. Místo toho může mít v alternativním provedení první clonová jednotka 108 pouze jediný první clonový otvor 108A. Pro toto alternativní provedení není použit žádný adaptační mechanismus. První clonová jednotka 108 tohoto alternativního provedení je umístěna pevně kolem optické osy OA.
Druhá stacionární clonová jednotka 109 je umístěna mezi první kondensační čočkou 105 a druhou kondensační čočkou 106. Alternativně je druhá clonová jednotka 109 pohyblivá.
Čočka 107 objektivu má póly 110, do nichž byl vytvořen otvor. Paprsek vodicí trubice 104 je umístěna a vedena tímto otvorem. Dále jev pólech 110 umístěna cívka 111.
Zařízení elektrostatického zpomalení je umístěno za paprsek vodicí trubicí 104. Má elektrodu 112 a elektrodu 113 trubice uspořádanou na konci paprsek vodicí trubici 104, obrácenou k předmětu 114. V důsledku toho je elektroda 113 trubice společně s paprsek vodicí trubici 104 na potenciálu anody 103, zatímco elektroda 112 a předmět 114 mají nižší potenciál než potenciál anody 103. V tomto případě je toto zemní potenciál předmětové komory 120. Tak mohou být elektrony primárního elektronového paprsku zpomalovány na požadovanou energii potřebnou pro analýzu předmětu 114.
Navíc má SEM 100 skenovací zařízení 115, kterým může být primární elektronový paprsek vychylován a skenován přes předmět 114. V tomto procesu interagují elektrony primárního elektronového paprsku s předmětem 114. V důsledku této interakce vzniknou interakční částice a/nebo interakční záření, které jsou detekovány. Takto získané detekční signály jsou vyhodnocovány.
Interakční částice a to zejména elektrony jsou emitovány z povrchu předmětu 114 (tzv. sekundární elektrony), nebo jsou elektrony primárního elektronového paprsku rozptýleny zpět (tzv. zpětně rozptýlené elektrony). Pro detekci sekundárních elektronů a/nebo zpětně rozptýlených elektronů jev paprsek vodicí trubici 104 umístěn detekční systém, který má první detektor 116 a druhý detektor 117. První detektor 116 je umístěn na straně zdroje podél optické osy OA, zatímco druhý detektor 117 je umístěn na straně předmětu podél optické osy OA v paprsek vodicí trubici 104. Kromě toho jsou první detektor 116 a druhý detektor 117 umístěny proti sobě směrem k optické ose OA SEM 100. Jak první detektor 116, tak druhý detektor 117 mají průchozí otvor, kterým může procházet primární elektronový paprsek a tyto otvory jsou přibližně na potenciálu anody 103 a paprsek vodicí trubice 104. Optická osa OA SEM 100 prochází odpovídajícími průchozími otvory.
- 11 CZ 2019 -113 A3
Druhý detektor 117 se používá k detekci převážně sekundárních elektronů. Sekundární elektrony jsou vyzařovány z předmětu 114 a mají nízkou kinetickou energii a libovolný směr pohybu. Avšak sekundární elektrony jsou zrychleny díky silnému extrakčnímu poli generovaného elektrodou 113 trubice ve směru čočky 107 objektivu. Sekundární elektrony vstupují do čočky 107 objektivu téměř paralelně k optické ose OA. Průměr svazku paprsků sekundárních elektronů je v čočce 107 objektivu malý . Čočka 107 objektivu ovšem ovlivňuje paprsek sekundárních elektronů a generuje krátké zaostření sekundárních elektronů, které mají poměrně strmé úhly vzhledem k optické ose OA, takže se sekundární elektrony po zaostření od sebe oddělí a mohou zasáhnout druhý detektor 117. Elektrony zpětně rozptýlené na předmět 114, tj. zpětně rozptýlené elektrony, mají ve srovnání se sekundárními elektrony při opuštění předmětu 114 relativně vysokou kinetickou energii . Zpětně rozptýlené elektrony jsou druhým detektorem 117 detekovány na velmi malé úrovni. Vysoká kinetická energie a úhel paprsku zpětně rozptýlených elektronů s ohledem na optickou osu OA při zpětném rozptýlení na předmět 114, mají za následek pás paprsku, tj. oblast paprsku s minimálním průměrem, zpětně rozptýlených elektronů, přičemž pás paprsku je umístěn v blízkosti druhého detektoru 117. Proto velká část zpětně rozptýlených elektronů prochází otvorem druhého detektoru 117. V souladu s tím jsou zpětně rozptýlené elektrony detekovány hlavně prvním detektorem 116.
První detektor 116 dalšího provedení SEM 100 může mít protilehlé pole 116A, které je polem s opačným potenciálem. Protilehlé pole 116A může být umístěno na straně prvního detektoru 116 obráceného k předmětu 114. Protilehlé pole 116A může obsahovat negativní potenciál vzhledem k potenciálu paprsek vodicí trubice 104 tak, že hlavně nebo pouze zpětně rozptýlené elektrony, které mají vysokou energii, mohou projít protilehlým polem 116A a zasáhnout první detektor 116. Dodatečně nebo alternativně může mít druhý detektor 117 další protilehlé pole, které je podobné výše uvedenému protilehlému poli 116A prvního detektoru 116 a má analogovou funkci.
Detekční signály generované prvním detektorem 116 a druhým detektorem 117 jsou použity pro generování snímku nebo snímků povrchu předmětu 114.
Je výslovně uvedeno, že clonové otvory první clonové jednotky 108 a druhé clonové jednotky 109 apod., jakož i průchozí otvory prvního detektoru 116 a druhého detektoru 117 jsou zobrazeny zveličeně. Průchozí otvory prvního detektoru 116 a druhého detektoru 117 mají maximální délku mezi 1 mm až 5 mm kolmou k optické ose OA. Mají například kruhový tvar a průměr v rozmezí od 1 mm do 3 mm kolmo k optické ose OA.
V ukázce příkladu provedení je druhá clonová jednotka 109 kruhová clona, který má druhý clonový otvor 118 pro průchod prvního elektronového paprsku, přičemž druhý clonový otvor 118 má rozšíření v rozmezí od 25 pm do 50 μιη, například 35 pm. Druhá clonová jednotka 109 může být tlakový stupeň clony. Druhá clonová jednotka 109 dalšího příkladu provedení může mít několik otvorů, které mohou být mechanicky posunuty s ohledem na primární elektronový paprsek nebo které mohou procházet primárním elektronovým paprskem za použití elektrických a / nebo magnetických vychylovacích zařízení. Jak bylo uvedeno výše, druhá clonová jednotka 109 může být také jednotka s tlakovým stupněm. Odděluje první oblast, ve které je umístěn zdroj 101 elektronů, který má ultra-vysoké vakuum (od 10_7do 1012 hPa), z druhé oblasti s vysokým vakuem (od 10'3 do 10'7 hPa). Druhá oblast je oblast středního tlaku paprsek vodicí trubice 104, která vede k předmětové komoře 120.
Vedle výše uvedeného detekčního systému má SEM 100 detektor 500 záření, který je umístěn v předmětové komoře 120. Detektor záření 500 je například umístěn mezi paprsek vodicí trubicí 104 a předmětem 114. Kromě toho je detektor 500 záření umístěn na straně předmětu 114. Detektor 500 záření může být detektorem CCD.
- 12CZ 2019 -113 A3
Předmětová komora 120 je provozována v prvním tlakovém rozsahu nebo ve druhém tlakovém rozsahu, přičemž první tlakový rozsah zahrnuje pouze tlak nižší nebo rovnající se 10'3 hPa a kde druhý tlakový rozsah zahrnuje pouze tlak větší než 10'3 hPa. Snímač 600 tlaku je umístěn v předmětové komoře 120 pro měření tlaku v předmětové komoře 120. Vakuový systém ve formě čerpadlového systému 601, který je připojen k tlakovému snímači 600 a který je umístěn v předmětové komoře 120, zajišťuje rozsah tlaku, buď první tlakový rozsah nebo druhý tlakový rozsah, v předmětové komoře 120.
SEM 100 může mít dále třetí detektor 121, který je umístěn v předmětové komoře 120. Třetí detektor 121 je umístěn za předmětem 114, jak je vidět od zdroje 101 elektronů ve směru předmětu 114 podél optické osy OA. Primární elektronový paprsek může být přenášen předmětem 114. Elektrony primárního elektronového paprsku interagují s materiálem předmětu 114. Elektrony přenášené předmětem 114 budou detekovány pomocí třetího detektoru 121.
První detektor 116, druhý detektor 117 a detektor 500 záření jsou připojeny k řídicí jednotce 700. Řídicí jednotka 700 obsahuje procesor 701, do něhož je načten počítačový program obsahující programový kód, který při provozu ovládá SEM 100 takovým způsobem, že je vykonán způsob dle vynálezu. Toto bude vysvětleno níže.
Obrázek 1A znázorňuje schematické znázornění dalšího SEM 100. Provedení Obrázku lAje založeno podle provedení Obrázku 1. Identické referenční značky označují totožné součásti. Na rozdíl od SEM 100 z Obrázku 1 obsahuje SEM 100 z Obrázku 1A předmětovou komoru 122. Otvor 602 pro omezování tlaku je umístěn mezi paprsek vodicí trubicí 104 a předmětovou oblastí 123 předmětové komory 122. SEM 100 podle Obrázku 1A je vhodný zejména pro provoz SEM 100 v druhém tlakovém rozsahu.
Obrázek 2 je schematickým znázorněním dalšího provedení zařízení částicového paprsku dle vynálezu. Toto provedení zařízení částicového paprsku je označeno vztahovou značkou 200 a obsahuje zrcadlový korektor pro korekci například chromatických a sférických aberací. To bude podrobněji vysvětleno níže. Zařízení 200 částicového paprsku obsahuje sloupec 201 paprsku částic, který je vytvořen jako sloupec elektronového paprsku a v zásadě odpovídá sloupci elektronového paprsku korigovaného SEM. Zařízení 200 částicového paprsku dle vynálezu však není omezeno na SEM se zrcadlovým korektorem. Spíše může být použito libovolné zařízení paprsku částic obsahující korekční jednotky.
Sloupec 201 paprsku částic obsahuje generátor paprsků ve formě zdroje 202 elektronů, který je katodou, extrakční elektrodou 203 a anodou 204. Například zdroj 202 elektronů může být emitorem tepelného pole. Elektrony, které vycházejí ze zdroje 202 elektronů, jsou urychleny anodou 204 v důsledku potenciálního rozdílu mezi zdrojem 202 elektronů a anodou 204. Proto je primární paprsek částic ve formě elektronového paprsku umístěn podél první optické osy OA1.
Primární paprsek částic je veden podél dráhy paprsku, která - po opuštění primárního paprsku částic ze zdroje 202 elektronů - je přibližně první optická osa OA1 s použitím první elektrostatické čočky 205, druhé elektrostatické čočky 206 a třetí elektrostatické čočky 207.
Primární paprsek částic je vyrovnán podél dráhy paprsku pomocí alespoň jednoho vyrovnávacího zařízení. Zařízení tohoto provedení pro vyrovnávání paprsku obsahuje jednotku pro vyrovnávání elektronové trysky obsahující dvě magnetické vychylovací jednotky 208 umístěné podél první optické osy OA1. Kromě toho zařízení 200 částicového paprsku obsahuje vychylovací jednotky elektrostatických paprsků. Jednotka 209 pro vychylování elektrostatického paprsku je umístěna mezi druhou elektrostatickou čočkou 206 a třetí elektrostatickou čočkou 207. Jednotka 209 pro vychylování elektrostatického paprsku je rovněž umístěna za magnetickými vychylovacími jednotkami 208. První vícepólová jednotka 209A ve formě první magnetické vychylovací jednotky je umístěna na jedné straně jednotky 209 pro vychylování elektrostatického paprsku. Dále je druhá vícepólová jednotka 209B ve formě druhé magnetické vychylovací jednotky
- 13 CZ 2019 -113 A3 umístěna na druhé straně jednotky 209 pro vychylování elektrostatického paprsku. Jednotka 209 pro vychylování elektrostatického paprsku, první vícepólová jednotka 209A a druhá vícepólová jednotka 209B se používají pro nastavení primárního paprsku částic vzhledem k ose třetí elektrostatické čočky 207 a vstupního okna zařízení 210 pro vychylování paprsku. Jednotka 209 pro vychylování elektrostatického paprsku, první vícepólová jednotka 209A a druhá vícepólová jednotka 209B mohou působit společně jako filtr Wien. Na vstupu vychylovacího zařízení 210 paprskuje umístěno další magnetické vychylovací zařízení 232.
Zařízení 210 pro vychylování paprskuje použito jako dělič částicového optického paprsku, který specifickým způsobem odvádí primární paprsek částic. Zařízení 210 pro vychylování paprsku obsahuje několik magnetických sektorů, jmenovitě první magnetický sektor 211 A, druhý magnetický sektor 211B, třetí magnetický sektor 211C, čtvrtý magnetický sektor 211D, pátý magnetický sektor 211E, šestý magnetický sektor 211F a sedmý magnetickou sektor sektor 211G. Primární paprsek částic vstupuje do zařízení 210 pro vychylování paprsku podél první optické osy OA1 a je odkloněn zařízením 210 pro vychylování paprsku ve směru druhé optické osy OA2. Vychýlení paprsku je provedeno prvním magnetickým sektorem 211 A, druhým magnetickým sektorem 211B a třetím magnetickým sektorem 211C v úhlu od 30 ° do 120 °. Druhá optická osa OA2 je umístěna ve stejném úhlu jako první optická osa OA1. Zařízení 210 pro vychylování paprsku rovněž vychyluje primární paprsek částic, který je veden podél druhé optické osy OA2 a ve směru třetí optické osy OA3. Vychýlení paprsku je prováděno třetím magnetickým sektorem 211C, čtvrtým magnetickým sektorem 211D a pátým magnetickým sektorem 211E. V provedení znázorněném na Obrázku 2 bude vychylování k druhé optické ose OA2 a ke třetí optické ose OA3 provedeno vychýlením primárního paprsku částic pod úhlem 90 °. Třetí optická osa OA3 probíhá koaxiálně s první optickou osou OA1. Zařízení 200 částicového paprsku podle vynálezu však není omezeno na úhel vychýlení 90 °. Spíše je možno u zařízení 210 pro vychylování paprsku použít libovolný vhodný úhel vychýlení, například 70 ° nebo 110°, tak, že první optická osa OA1 probíhá souose s třetí optickou osou OA3. Pro další podrobnosti o zařízení 210 pro vychylování paprsku, je odkazováno na WO 2002/067286 A2, jež je zde zahrnut jako odkaz.
Po vychýlení prvním magnetickým sektorem 211 A, druhým magnetickým sektorem 211B a třetím magnetickým sektorem 211C je primární paprsek částic veden podél druhé optické osy OA2. Primární paprsek částic je veden k elektrostatickému zrcadlu 214 a prochází - na své cestě k elektrostatickému zrcadlu 214 - čtvrtou elektrostatickou čočku 215, třetí vícepólovou jednotkou 216A ve formě magnetické vychylovací jednotky, druhou elektrostatickou vychylovací jednotkou 216 , třetí vychylovací jednotkou 217 elektrostatického svazku a čtvrtou vícepólovou jednotkou 216B ve formě magnetické vychylovací jednotky. Elektrostatické zrcadlo 214 obsahuje první zrcadlovou elektrodu 213A, druhou zrcadlovou elektrodu 213B a třetí zrcadlovou elektrodu 213C. Elektrony primárního paprsku částic, které se odrážejí zpátky elektrostatickým zrcadlem 214, opět běží podél druhé optické osy OA2 a znovu vstupují do zařízení 210 pro vychylování paprsku. Jsou vychýleny třetím magnetickým sektorem 211C, čtvrtým magnetickým sektorem 211D a pátým magnetickým sektorem 211E směrem k třetí optické ose OA3. Elektrony primárního paprsku částic opouštějí zařízení 210 pro vychylování paprsku, přičemž jsou vedeny podél třetí optické osy OA3 k předmětu 225, který má být zkoušen. Na své cestě k předmětu 225 primární paprsek částic prochází pátou elektrostatickou čočkou 218, paprsek vodicí trubice 220, pátou vícepólovou jednotkou 218A, šestou vícepólovou jednotkou 218B a čočkou 221 objektivu. Pátá elektrostatická čočka 218 je elektrostatická ponorná čočka. Primární paprsek částic je zpomalen nebo zrychlen pátou elektrostatickou čočkou 218 k elektrickému potenciálu paprsku vodicí trubice 220.
Primární paprsek částic je zaostřen čočkou 221 objektivu do ohniskové roviny, ve které je umístěn předmět 225. Předmět 225 je umístěn na pohyblivé vzorkovací fázi 224. Pohyblivá úroveň 224 vzorkuje umístěna v předmětové komoře 226 zařízení 200 částicového paprsku.
- 14CZ 2019 -113 A3
Čočka 221 objektivu může být provedena jako kombinace magnetické čočky 222 a šesté elektrostatické čočky 223. Konec paprsek vodicí trubice 220 může být jedna elektroda elektrostatické čočky. Částice primárního paprsku částic jsou po opuštění paprsku 220 vodicí trubice zpomaleny k potenciálu předmětu 225 umístěného na vzorkovací fázi 224. Čočka 221 objektivu není omezena na kombinaci magnetické čočky 222 a šesté elektrostatické čočky 223. Místo toho může být čočka 221 objektivu provedena v jakékoliv vhodné formě. Zejména čočka 221 objektivu může být také pouhým magnetickou čočkou nebo pouze elektrostatickou čočkou.
Primární paprsek částic zaměřený na předmět 225 interaguje s předmětem 225. Jsou generovány interakční částice a interakční záření. Konkrétně jsou předmětem 225 vyzařovány sekundární elektrony a zpětně odražené elektrony jsou z předmětu 225 navráceny. Sekundární elektrony a zpětně rozptýlené elektrony se znovu zrychlují a vedou do paprsek vodicí trubice 220 podél třetí optické osy OA3. Zejména sekundární elektrony a zpětně rozptýlené elektrony se pohybují po dráze paprsku primárního paprsku částic v opačném směru primárního paprsku částic.
Zařízení 200 částicového paprsku obsahuje první detektor 219, který je umístěn podél dráhy paprsku mezi zařízením 210 pro vychylování paprsku a čočkou 221 objektivu. Sekundární elektrony, které jsou vedeny ve směrech orientovaných do velkých úhlů vzhledem k třetí optické ose OA3. jsou detekovány prvním detektorem 219. Avšak zpětně rozptýlené elektrony a sekundární elektrony, které jsou vedeny ve směrech, které mají malou axiální vzdálenost vzhledem k třetí optické ose OA3 u prvního detektoru 219, tj. zpětně rozptýlené elektrony a sekundární elektrony, které mají malou vzdálenost od třetí optické osy OA3 v poloze prvního detektoru 219 vstupují do zařízení 210 pro vychylování paprsku a jsou vychýleny pátým magnetickým sektorem 211E, šestým magnetickým sektorem 211F a sedmým magnetickým sektorem 211G podél detekční dráha 227 paprsku k druhému detektoru 228 analytické jednotky 231. Celkový úhel vychýlení může být například 90 ° nebo 110°.
První detektor 219 generuje detekční signály většinou na základě vyzařovaných sekundárních elektronů. Druhý detektor 228 analytické jednotky 231 generuje detekční signály většinou na základě zpětně rozptýlených elektronů. Detekční signály generované prvním detektorem 219 a druhým detektorem 228 jsou přenášeny do řídicí jednotky 700 a jsou použity k získání informací o vlastnostech oblasti interakce zaostřeného primárního paprsku částic s předmětem 225. Pokud zaměřený paprsek primárních částic skenuje předmět 225 pomocí skenovacího zařízení 229 a pokud řídicí jednotka 700 získává a ukládá detekční signály generované prvním detektorem 219 a druhým detektorem 228, snímek skenované oblasti předmětu 225 může být získán a zobrazen řídicí jednotkou 700 nebo monitorem (není zobrazen).
Filtrační elektroda 230 může být umístěna před druhým detektorem 228 analytické jednotky 231. Filtrační elektroda 230 může být použita pro oddělení sekundárních elektronů od zpětně rozptýlených elektronů v důsledku kinetického rozdílu energie mezi sekundárními elektrony a zpětně rozptýlenými elektrony.
Vedle prvního detektoru 219 a druhého detektoru 228 má zařízení 200 částicového paprsku také detektor 500 záření, který je umístěn v předmětové komoře 226. Detektor 500 záření je umístěn na straně předmětu 225 a je směrován na předmět 225. Detektor 500 záření může být detektorem CCD a detekuje interakční záření vznikající interakcí primárního částicového paprsku s předmětem 225, zejména rentgenovým zářením nebo katodoluminiscenčním světlem.
Předmětová komora 226 je provozována v prvním tlakovém rozsahu nebo ve druhém tlakovém rozsahu, přičemž první tlakový rozsah zahrnuje pouze tlaky nižší nebo rovné 10'3 hPa a přičemž druhý tlakový rozsah zahrnuje pouze tlaky větší než 10'3 hPa. Snímač 600 tlaku je umístěn v předmětové komoře 226 pro měření tlaku v předmětové komoře 226. Vakuový systém ve formě čerpadlového systému 601, který je připojen k tlakovému snímači 600 a jež je umístěn v předmětové komoře 226, stanovuje tlakový rozsah v předmětové komoře 226, ať už se jedná o první tlakový rozsah nebo druhý tlakový rozsah.
- 15 CZ 2019 -113 A3
První detektor 219, druhý detektor 228 analytické jednotky 231 a detektor 500 záření jsou připojeny k řídicí jednotce 700. Řídicí jednotka 700 obsahuje procesor 701, do něhož je načten počítačový program obsahující programový kód, který při provozu ovládá zařízení 200 částicového paprsku takovým způsobem, že je vykonán způsob dle vynálezu. Toto bude vysvětleno níže.
Obrázek 3 znázorňuje schematické znázornění dalšího provedení zařízení 300 částicového paprsku dle vynálezu. Zařízení 300 částicového paprsku má první sloupec 301 paprsku částic ve formě sloupce iontového paprsku a druhý sloupec 302 částicového paprsku ve formě sloupce elektronového paprsku. První sloupec 301 paprsku částic a druhý sloupec paprsku částic 302 jsou umístěny na předmětové komoře 303, ve které je umístěn předmět 304, který má být snímán, analyzován a / nebo zpracován. Je výslovně uvedeno, že zde popsaný systém není omezen na první sloupec 301 paprsků částic, který je ve formě sloupce iontového paprsku a druhý 302 sloupec paprsku částic, který je ve formě sloupce elektronového paprsku. Ve skutečnosti zde popisovaný systém rovněž poskytuje první sloupec 301 paprsku částic ve formě sloupce elektronového paprsku a druhý sloupec 302 paprsku částic ve formě sloupce iontového paprsku. Další provedení vynálezu, které je zde popsáno, poskytuje jak první sloupec 301 paprsku částic tak i druhý sloupec 302 paprsku částic ve formě sloupce iontového paprsku.
Obrázek 4 znázorňuje detailní zobrazení zařízení 300 částicového paprsku zobrazeného na Obrázku 3. Z důvodu přehlednosti není předmětová komora 303 znázorněna. První sloupec 301 paprsku částic ve formě sloupce iontového paprsku má první optickou osu 305. Kromě toho druhý sloupec 302 paprsku částic ve formě sloupce elektronového paprsku má druhou optickou osu 306.
Druhý sloupec 302 paprsku částic, ve formě sloupce elektronového paprsku, bude popsán dále. Druhý sloupec 302 paprsku částic má druhý generátor 307 paprsků, první elektrodu 308, druhou elektrodu 309 a třetí elektrodu 310. Například druhým generátorem 307 paprsku je emitor tepelného pole. První elektroda 308 má funkci supresorové elektrody, zatímco druhá elektroda 309 má funkci extrakční elektrody. Třetí elektroda 310 je anoda a současně tvoří jeden konec paprsek vodicí trubice 311.
Druhý paprsek 312 částic ve formě elektronového paprskuje generován druhým generátorem 307 paprsků. Elektrony, které vycházejí z druhého generátoru 307 paprsku, zrychlují na anodový potenciál, například v rozmezí od 1 kV do 30 kV, v důsledku rozdílu potenciálů mezi druhým generátorem 307 paprsků a třetí elektrodou 310. Druhý paprsek 312 částic ve formě elektronového paprsku prochází paprsek vodicí trubicí 311 a je zaměřen na předmět 304.
Paprsek vodicí trubice 311 prochází umístěním kolimátoru 313, které má první prstencovou cívku 314 a třmen 315. Při pohledu na předmět 304 je od druhého generátoru 307 paprsku umístění 313 kolimátoru následováno dírkovanou membránou 316 a detektorem 317 se středovým otvorem 318 umístěným podél druhé optické osy 306 v paprsek vodicí trubici 311.
Paprsek vodicí trubice 311 pak prochází otvorem v druhé čočce 319 objektivu. Druhá čočka 319 objektivu se používá pro zaostření druhého paprsku 312 částic na předmět 304. Pro tento účel má druhá čočka 319 objektivu magnetickou čočku 320 a elektrostatickou čočku 321. Magnetická čočka 320 je opatřena druhou prstencovou cívkou 322, vnitřním pólovým dílem 323 a vnějším pólovým dílem 324. Elektrostatická čočka 321 obsahuje konec 325 paprsek vodicí trubice 311 a koncová elektrodu 326.
Konec 325 paprsek vodicí trubice 311 a koncová elektroda 326 současně tvoří elektrostatické zpomalovací zařízení. Konec 325 paprsek vodicí trubice 311 spolu s paprsek vodicí trubicí 311 je na anodovém potenciálu, zatímco koncová elektroda 326 a předmět 304 mají potenciál, který je nižší než potenciál anody. To umožňuje, aby byly elektrony druhého paprsku 312 částic
- 16CZ 2019 -113 A3 zpomalovány na požadovanou energii, která je potřebná pro zkoumání předmětu 304.
Druhý sloupec 302 paprsku částic má dále rastrové zařízení 327, kterým může být druhý paprsek 312 částic odkloněn a může být skenovat předmět 304 ve formě rastru.
Pro účely snímání detektor 317, jež je umístěn v paprsek vodicí trubici 311, detekuje sekundární elektrony a zpětně rozptýlené elektrony, které jsou výsledkem interakce mezi druhým paprskem 312 částic a předmětem 304. Signály generované detektorem 317 jsou přenášeny do řídicí jednotky 700.
Interakční záření, například rentgenové nebo katodoluminiscenční světlo, může být detekováno pomocí detektoru 500 záření, například CCD detektoru, který je umístěn v předmětové komoře 303 (viz Obrázek 3). Detektor 500 záření je umístěn na straně předmětu 304 a je směrován na předmět 304.
Předmět 304 je umístěn na držáku 328 předmětu ve formě vzorkovací fáze, jak je znázorněno na Obrázku 3, přičemž předmět 304 je umístěn tak, že se může pohybovat podél tří os, které jsou umístěny vzájemně kolmo (konkrétně osa x, osa y a osa z). Navíc se může vzorkovací fáze otáčet kolem dvou rotačních os, které jsou uspořádány vzájemně kolmé. Proto je možné předmět 304 přemístit do požadované polohy. Otáčení držáku 328 předmětu kolem jedné ze dvou os otáčení může být použito k naklánění držáku 328 předmětu tak, že povrch předmětu 304 může být orientován kolmo k druhému paprsku 312 částic nebo k prvnímu paprsku 329 částic, které budou popsány níže. Alternativně může být povrch předmětu 304 orientován takovým způsobem, že povrch předmětu 304 na jedné straně a první paprsek částic 329 nebo druhý paprsek částic 312 jsou na straně druhé v úhlu, například v rozmezí 0° až 90°.
Jak bylo výše uvedeno, referenční symbol 301 označuje první sloupec paprsku částic ve formě sloupce iontového paprsku. První sloupec 301 paprsku částic má první generátor 330 paprsků ve formě iontového zdroje. První generátor 330 paprsků je použit pro generování prvního paprsku 329 částic ve formě iontového paprsku. Kromě toho je první sloupec paprsku 301 částic opatřen extrakční elektrodou 331 a kolimátorem 332. Kolimátor 332 je následován proměnnou clonou 333 ve směru předmětu 304 podél první optické osy 305. První paprsek 329 částic je zaměřen na předmět 304 pomocí první čočky 334 objektivu ve formě zaostřovacích čoček. Rastrové elektrody 335 jsou zajištěny pro skenování předmětu 304 ve formě rastru prvním paprskem 329 částic.
Když první paprsek 329 částic dopadne na předmět 304, první paprsek 329 částic interaguje s materiálem předmětu 304. Při tomto procesu se vytváří interakční záření, které je detekováno pomocí detektoru 500 záření. Vznikají interakční částice, zejména sekundární elektrony a/nebo sekundární ionty. Ty se detekují pomocí detektoru 317.
Předmětová komora 303 je provozována v prvním tlakovém rozsahu nebo ve druhém tlakovém rozsahu, přičemž první tlakový rozsah zahrnuje pouze tlak nižší nebo rovnající se 10'3 hPa a kde druhý tlakový rozsah zahrnuje pouze tlak větší než 10'3 hPa. Pro měření tlaku v předmětové komoře 303 (viz Obrázek 3) je snímač 600 tlaku umístěn v předmětové komoře 303. Vakuový systém ve formě čerpadlového systému 601, který je připojen k tlakovému snímači 600 a je umístěn v předmětové komoře 303, zajišťuje rozsah tlaku v předmětové komoře 303, a to ať už se jedná o první tlakový rozsah nebo druhý tlakový rozsah.
První paprsek 329 částic může být také použit pro zpracování předmětu 304. Materiál může být například nános na povrchu předmětu 304 za použití prvního paprsku 329 částic, přičemž materiál je opatřen systémem vstřikování plynu (GIS). Dodatečně nebo alternativně mohou být struktury leptány do předmětu 304 za použití prvního paprsku 329 částic. Kromě toho může být druhý paprsek 312 částic použit pro zpracování předmětu 304, například pomocí nánosu vyvolaného elektronovým paprskem.
- 17 CZ 2019 -113 A3
Detektor 317 a detektor 500 záření jsou připojeny k řídicí jednotce 700, jak je znázorněno na Obrázku 3 a 4. Řídicí jednotka 700 obsahuje procesor 701, do něhož je vložen počítačový program zahrnující programový kód, který, když proveden, ovládá zařízení 300 částicového paprsku takovým způsobem, že vykonává způsob dle vynálezu. Toto bude vysvětleno níže.
Schematické znázornění vakuového systému ve formě čerpadlového systému 601 je nyní znázorněno na Obrázku 5 s ohledem na SEM 100 dle Obrázku 1. Je třeba poznamenat, že čerpací systém 601 může být umístěn také na dalších zmíněných zařízeních částicového paprsku, zejména SEM 100 z Obrázku 1A, zařízení 200 částicového paprsku z Obrázku 2 zařízení 300 paprsků částic z Obrázku 3 a 4.
SEM 100 zahrnuje paprsek vodicí trubici 104, která má vakuovou komoru 605. Vakuová komora 605 může obsahovat zdroj 101 elektronů pro generování elektronového paprsku a může obsahovat předmět 114, který má být snímán, analyzován a / nebo zpracován. Proto vakuová komora 605 může být předmětová komora 120. Je třeba poznamenat, že vynález není omezen na výše uvedenou vakuovou komoru. Spíše může být pro vynález použita jakákoliv vakuová komora SEM 100, která může být vhodná pro použití pro technické řešení.
První getrovací čerpadlo 603 a druhé iontové getrovací čerpadlo 604 jsou umístěny v paprsek vodicí trubici 104 a jsou kapalně propojeny s vakuovou komorou 605. První iontové getrovací čerpadlo 603 a druhé iontové getrovací čerpadlo 604 proto vypouštějí podtlakovou komoru 605 a zajišťují vakuum uvnitř vakuové komory 605.
První turbomolekulámí čerpadlo 606 je umístěno ve paprsek vodicí trubici 104 a je kapalně propojeno s vakuovou komorou 605. Navíc je první turbomolekulámí čerpadlo 606 kapalně propojeno s prvním vakuovou nádrží 607 prostřednictvím prvního potrubí 608. První ventil 609 je umístěn mezi prvním turbomolekulámím čerpadlem 606 a prvním vakuovou nádrží 607. Kapalné propojení mezi prvním turbomolekulámím čerpadlem 606, vakuovou komorou 605 a prvním vakuovou nádrží 607 může být propojeno nebo odpojeno použitím prvního ventilu 609. První vakuová nádrž 607 je také kapalně propojena s prvním vakuovým čerpadlem 610 prostřednictvím druhého potrubí 611. Druhý ventil 612 je umístěn mezi první vakuovou nádrží 607 a prvním vakuovým čerpadlem 610. Kapalné propojení mezi první vakuovou nádrží 607 a prvním vakuovým čerpadlem 610 může být připojeno nebo odpojeno pomocí druhého ventilu 612. První snímací jednotka 613 pro měření tlaku je umístěna na první vakuové nádrže 607 pro měření prvního tlaku vakuové nádrže uvnitř první vakuové nádrže 607.
Další schematické znázornění vakuového systému ve formě čerpadlového systému 601 je nyní znázorněno na Obrázku 5As ohledem na SEM 100 dle Obrázku 1. Jak je znázorněno na Obrázku 5A, čerpadlový systém 601 může obsahovat více než jedno čerpadlo a/nebo více než jednu vakuovou nádrž. Přesněji, provedení čerpadlového systému 601, znázorněné na Obrázku 5 a 5A, obsahuje druhé turbomolekulové čerpadlo 606A, které je umístěno ve paprsek vodicí trubici 104 a které je kapalně propojeno s vakuovou komorou 605. Kromě toho je druhé turbomolekulámí čerpadlo 606A kapalně propojeno s druhou vakuovou nádrží 607A prostřednictvím třetího potrubí 608A. Třetí ventil 609A je umístěn mezi druhým turbomolekulámím čerpadlem 606A a druhou vakuovou nádrží 607A. Kapalné propojení mezi druhým turbomolekulámím čerpadlem 606A, vakuovou komorou 605 a druhou vakuovou nádrží 607A může být připojeno nebo odpojeno použitím třetího ventilu 609A. Druhá vakuová nádrž 607A je kapalně propojena s druhým vakuovým čerpadlem 610A prostřednictvím čtvrtého potrubí 611A. Čtvrtý ventil 612A je umístěn mezi druhou vakuovou nádrží 607A a druhým vakuovým čerpadlem 610A. Kapalné propojení mezi druhou vakuovou nádrží 607A a druhým vakuovým čerpadlem 610A může být připojeno nebo odpojeno použitím čtvrtého ventilu 612A. Druhá tlaková měřící jednotka 613A je umístěna u druhé vakuové nádrže 607A pro měření druhého tlaku vakuové nádrže uvnitř druhé vakuové nádrže 607A.
- 18 CZ 2019 -113 A3
Čerpací systém 601 může být provozován pomocí okruhů. Přesněji může být čerpací systém 601 provozován s použitím prvního kruhu čerpadla a použitím druhého okruhu čerpadla.
První okruh čerpadla je popsán níže. První vakuové čerpadlo 610 se používá k vytvoření vakua s nízkým prvním tlakem vakuové nádrže, který je přítomný v první vakuové nádrži 607. Nízký první tlak vakuové nádrže může být roven nebo vyšší než 10'3 hPa. Když první tlak vakuové nádrže dosáhne nižší prahové hodnoty, například 2-10 3 hPa, je první vakuové čerpadlo 610 odpojeno od první vakuové nádrže 607. Jinými slovy, druhý ventil 612 je uzavřen tak, že je přerušeno kapalné propojení mezi první vakuovou nádrží 607 a prvním vakuovým čerpadlem 610. Kromě toho je první vakuová nádrž 607 spojena s vakuovou komorou 605 a prvním turbomolekulámím čerpadlem 606. Jinými slovy, kapalné propojení mezi prvním vakuovou nádrží 607, vakuovou komorou 605 a prvním turbomolekulámím čerpadlem 606 je vytvořeno otevřením prvního ventilu 609. Při vytvoření kapalného propojení mezi vakuovou komorou 605, prvním turbomolekulámím čerpadlem 606 a první vakuovou nádrží 607, je vytvořen první tlak vakuové nádrže, který je přítomný v první vakuové nádrži 607. Když tlak prvního vakuové nádrže dosáhne dané prahové hodnoty tlaku tlaku první vakuové nádrže, například 5 -103 hPa, první ventil 609 je uzavřen tak, že kapalné propojení mezi vakuovou komorou 605, prvním turbomolekulámím čerpadlem 606 a první vakuovou nádrží 607 je přerušeno. Prahová hodnota tlaku může být stanovena uživatelem a / nebo řídící jednotkou 701 SEM 100. První vakuové čerpadlo 610 je opět připojeno k první vakuové nádrži 607 otevřením druhého ventilu 612. První vakuová nádrž 607 je vypouštěna pomocí prvního vakuového čerpadla 610, dokud první tlak vakuové nádrže nedosáhne opět nízké prahové hodnoty. Po dosažení nízké prahové hodnoty začíná první okruh čerpadla znovu.
Druhý okruh čerpadla je popsán níže. Druhé vakuové čerpadlo 610A se používá k vytvoření vakua s nízkým tlakem druhé vakuové nádrže, který je přítomný ve druhé vakuové nádrži 607A. Nízký tlak druhé vakuové nádrže může být roven nebo vyšší než 10'3 hPa. Když tlak druhé vakuové nádrže dosáhne nižší prahové hodnoty, například 2-10 3 hPa, druhé vakuové čerpadlo 610A je odpojeno od druhé vakuové nádrže 607A. Jinými slovy, čtvrtý ventil 612A je uzavřen aby bylo přerušeno kapalné propojení mezi druhou vakuovou nádrží 607A a druhým vakuovým čerpadlem 610A. Kromě toho je druhá vakuová nádrž 607A propojena s vakuovou komorou 605 a druhým turbomolekulámím čerpadlem 606A. Jinými slovy, kapalné propojení mezi druhou vakuovou nádrží 607A, vakuovou komorou 605 a druhým turbomolekulámím čerpadlem 606A je vytvořeno otevřením třetího ventilu 609A. Při vytvoření kapalného propojení mezi vakuovou komorou 605, druhým turbomolekulámím čerpadlem 606A a druhou vakuovou nádrží 607A, dojde ke zvyšování tlaku druhé vakuové nádrže, přítomného ve druhé vakuové nádrží 607A. Když tlak druhé vakuové nádrže 607A dosáhne dané prahové hodnoty tlaku tlaku druhé vakuové nádrže, například 5-10-3 hPa, třetí ventil 609A je uzavřen tak, že kapalné propojení mezi vakuovou komorou 605, druhým turbomolekulámím čerpadlem 606A a druhou vakuovou nádrží 607A je přerušeno. Prahová hodnota tlaku může být stanovena uživatelem a / nebo řídící jednotkou 701 SEM 100. Druhé vakuové čerpadlo 610A je opět připojeno k druhé vakuové nádrži 607A otevřením čtvrtého ventilu 612A. Druhá vakuová nádrž 607A je vypuštěna pomocí druhého vakuového čerpadla 610A, a to dokud tlak druhé vakuové nádrže nedosáhne opět nízké prahové hodnoty. Po dosažení nízké prahové hodnoty se druhý okruh čerpadla znovu zapne.
Otevírání a zavírání prvního ventilu 609, druhého ventilu 612, třetího ventilu 609A a čtvrtého ventilu 612A může způsobit rušení SEM 100. Tato rušení jsou vibrace. Kromě toho mohou být vibrace způsobeny vypuštěním první vakuové nádrže 607 a druhé vakuové nádrže 607A. Pokud je předmět 114 snímán, analyzován a/nebo zpracován během rušení, může být získaný snímek předmětu 114 například nedostatečné kvality, a proto je třeba zopakovat zejména snímání předmětu 114 pro získání kvalitního snímku předmětu 114. Provedení způsobu dle vynálezu, vylučujícího tuto nevýhodu, bude nyní vysvětleno. Způsob dle vynálezu je proveden použitím SEM 100 dle Obrázku 1. Je třeba poznamenat, že způsob může být také vykonáván s jinými zařízeními částicových paprsků, zejména SEM 100 z Obrázku 1A, zařízením 200 částicového paprsku Obrázku 2 zařízení 300 z Obrázku 3 a 4.
- 19CZ 2019 -113 A3
Obr. 6 a 6A znázorňují způsob provedení podle vynálezu. Způsob bude vysvětlen s ohledem na první vakuovou nádrž 607. V kroku S1 způsobu je první vakuová nádrž 607 odpojena od vakuové komory 605 a první turbomolekulámí pumpy 606 uzavřením prvního ventilu 609. V kroku S2 způsobu je první vakuové čerpadlo 610 připojeno k první vakuové nádrži 607 otevřením druhého ventilu 612. V kroku S3 způsobu je první vakuová nádrž 607 vypouštěna prvním vakuovým čerpadlem 610. Jak bylo uvedeno výše, první vakuové čerpadlo 610 se používá k vytvoření vakua s nízkým tlakem první vakuové nádrže, který je přítomen v první vakuové nádrži 607. Nízký tlak první vakuové nádrže může být roven nebo vyšší než 10-3 hPa. Když první tlak vakuové nádrže dosáhne nižší prahové hodnoty, například 2· 10'3 hPa , první vakuové čerpadlo 610 je odpojeno od první vakuové nádrže 607 v kroku S4 způsobu. Jinými slovy, druhý ventil 612 je uzavřen aby bylo narušeno kapalinové propojení mezi první vakuovou nádrží 607 a prvním vakuovým čerpadlem 612.
V kroku S5 způsobu je první vakuová nádrž 607 připojena k vakuové komoře 605 a k prvnímu turbomolekulámímu čerpadlu 606. Jinými slovy, kapalné propojení mezi první vakuovou nádrží 607, vakuovou komorou 605 a prvním turbomolekulámím čerpadlem 606 je vytvořeno otevřením prvního ventilu 609. Dále je snímání, analýza a/nebo zpracování předmětu 114 pomocí SEM 100 zahájeno v kroku S5 způsobu.
Jak už bylo zmíněno výše, tlak první vakuové nádrže, který je přítomen v první vakuové nádrži 607, se zvyšuje po vytvoření kapalného propojení mezi vakuovou komorou 605, prvním turbomolekulámím čerpadlem 606 a prvním vakuovou nádrží 607. Proto v kroku S6 způsobu se tlak první vakuové nádrže měří pomocí první jednotky 613 pro měření tlaku. Hodnoty prvního tlaku vakuové nádrže jsou stanoveny v různých časech. Přesněji je stanovena nejméně jedna první tlaková hodnota tlaku první vakuové nádrže v prvním čase TI a nejméně druhá hodnota tlaku první vakuové nádrže ve druhém čase T2, kde T2 je pozdější než TI. V jiných provedeních způsob zahrnuje stanovení více než dvou tlakových hodnot tlaku první vakuové nádrže, zejména 5, 10, 15, 20 nebo až 100 tlakových hodnot tlaku první vakuové nádrže, přičemž každá tlaková hodnota první vakuové nádrže se stanoví v jiném čase.
Obrázek 7 znázorňuje schematické znázornění tlaku první vakuové nádrže nacházejícího se v první vakuové nádrži 607 v závislosti na čase. Byly stanoveny hodnoty 10 tlaků první vakuové nádrže v různých časech. Přesněji jsou stanoveny, první tlaková hodnota VI tlaku první vakuové nádrže v prvním čase TI, druhá tlaková hodnota V2 tlaku první vakuové nádrže v druhém čase T2, třetí tlaková hodnota V3 tlaku první vakuové nádrže ve třetím čase T3, čtvrtá tlaková hodnota V4 tlaku první vakuové nádrže ve čtvrtém čase T4, pátá tlaková hodnota V5 tlaku první vakuové nádrže pátého času T5, šestá tlaková hodnota V6 tlaku první vakuové nádrže v šestém čase T6, sedmá tlaková hodnota V7 tlaku první vakuové nádrže sedmém čase T7, osmá tlaková hodnota V8 tlaku první vakuové nádrže v osmém čase T8, devátá tlaková hodnota V9 tlaku první vakuové nádrže v devátém čase T9 a desátá tlaková hodnota VI0 tlaku první vakuové nádrže v desátém čase T10. Z důvodů srozumitelnosti jsou na Obrázku 7 jen první čas TI až sedmý čas T7 a desátý čas T10. Kromě toho jsou hodnoty tlaku VI až V10 označeny písmenem V.
V kroku S7 způsobu se pro určení prvního funkčního vztahu mezi hodnotami tlaku VI až V10 používají hodnoty tlaku VI až V10. První funkční vztah je první funkcí času. První funkční vztah může být lineární nebo nelineární vztah. Kroková funkce může být také obsažena v prvním funkčním vztahu nebo může tvořit první funkční vztah. První funkční vztah může být určen různými způsoby. První funkční vztah může být například určen interpolací. Při interpolaci se může použít jakýkoli vhodný způsob interpolace, například lineární interpolace, nelineární interpolace, trigonometrická interpolace, logaritmická interpolace a/nebo interpolace splíne. Navíc a / nebo jako alternativa k němu může být funkční vztah určen extrapolací. Při extrapolaci se může použít jakákoli vhodná metoda extrapolace, například lineární extrapolace, nelineární extrapolace, trigonometrická extrapolace a logaritmická extrapolace. Jako alternativa nebo navíc
-20CZ 2019 -113 A3 k němu může být první funkční vztah určen vytvořením průměru zjišťujících náhodné hodnoty nebo určením nejmenší a / nebo největší hodnoty ze sady tlakových hodnot VI až V10.
Určený první funkční vztah může být následující:
p(t) = p0 + h (1 — exp
přičemž po je první tlak vakuové nádrže první vakuové nádrže 607 v počátečním čase t o a přičemž h je určitelná konstanta. Proměnné po, to a h mohou být vhodné parametry pro určení prvního funkčního vztahu.
V kroku S8 způsobu bude určený první funkční vztah extrapolován pro dobu pozdější než poslední čas, kdy byla změřena tlaková hodnota prvního tlaku vakuové nádrže první vakuové nádrže 607. V provedení znázorněném na Obrázku 7 je desátý čas T10 poslední čas.
Proto je první stanovený funkční vztah extrapolován pro časy T pozdější než T10. Extrapolací prvního funkčního vztahu je určeno, jak se první tlak vakuové nádrže první vakuové nádrže 607 po desátém čase T10 zvyšuje nebo snižuje.
V dalším kroku S9 způsobu je stanoven první prahová hodnota času TT1 za použití extrapolované funkce (viz obrázek 7 ). První prahová hodnota času TT1 je čas, kdy extrapolovaný funkční vztah dosáhne prahové hodnoty tlaku danou pro první tlak vakuové nádrže první vakuové nádrže 607. Prahová hodnota tlaku může být stanovena uživatelem a / nebo řídícím systémem 701 SEM 100. Například prahová hodnota tlaku je 5-103 hPa. Prahová hodnota tlaku je hodnota tlaku, která nesmí být překročena, jinak vakuum ve vakuové komoře 605 a/nebo v první vakuové nádrži 607 již nebude dostačující pro zajištění dobrého snímání, například předmětu 114.
V dalším kroku S10 způsobu je určena první zbývající časová perioda RT1. První zbývající časová perioda RT1 je čas, který uplyne, dokud první tlak vakuové nádrže první vakuové nádrže 607 nedosáhne prahové hodnoty tlaku. První zbývající časová perioda RT1 je časový rozdíl mezi prvním prahovým časem TT1 a posledním časem, ve kterém byla měřena hodnota tlaku prvního tlaku vakuové nádrže první vakuové nádrže 607. V provedení na Obrázku 7 je desátý čas T10 poslední čas. Jinými slovy, první zbývající časová perioda RT1 odpovídá době, která zbývá, dokud tlak vakuové nádrže prvního vakuové nádrže 607 nedosáhne prahové hodnoty tlaku.
V dalším kroku Sil způsobu jsou uživatel a / nebo řídicí systém 701 SEM 100 informováni o první zbývající časové periodě RT1. Zejména může být uživateli zobrazena první zbývající časová perioda RT1.
V dalším kroku S12 způsobuje snímání, analýza a / nebo zpracování předmětu 114 zastaveno po dosažení prvního prahového času TT1 a po první zbývající časové periodě RT1. Tímto způsobem se při poruchách způsobených výše zmíněným prvním ventilem 609, druhým ventilem 612 a prvním vakuovým čerpadlem 610 neuskutečňuje žádné snímání, analýza a / nebo zpracování předmětu 114. Po kroku S12 způsobu může způsob dle vynálezu začít opět od kroku S1 způsobu. Proto může být způsob dle vynálezu způsob okruhu.
Provedení způsobu dle vynálezu, znázorněné na Obrázku 6, 6A a 7, může být rovněž provedeno analogicky s ohledem na další části čerpadlového systému 601, jmenovitě druhé turbomolekulámí čerpadlo 606A, druhá vakuová nádrž 607A a druhé vakuové čerpadlo 610A. Druhá zbývající časová perioda RT2 je určena s ohledem na toto provedení.
Obrázek 8 znázorňuje další způsob provedení dle vynálezu. Provedení způsobu Obrázku 8 je založeno na provedení způsobu znázorněné na Obrázku 6, 6A a 7. Provedení Obrázku 8 proto
-21 CZ 2019 -113 A3 obsahuje výše popsané kroky způsobu. Avšak provedení způsobu znázorněné na Obrázku 8 zahrnuje krok Sil A způsobu namísto kroku Sil způsobu. Krok způsobu Sil A se provádí mezi kroky S10 a S12. Provedení metody znázorněné na Obrázku 8 se provádí, jestliže SEM 100 obsahuje několik vakuových nádrží. Například SEM 100 obsahuje první vakuovou nádrž 607 a druhou vakuovou nádrž 607A. Jak bylo uvedeno výše, krok S1 až S10 způsobu se provádí pro každou vakuovou nádrž 607, 607A SEM 100. Tak je určen první zbývající časová perioda RT1 pro první vakuovou nádrž 607 a druhá zbývající časová perioda RT2 pro druhou vakuovou nádrž 607A. V kroku S11A způsobuje uživatel a / nebo řídicí systém 701 SEM 100 informován o tom, která jestli, první zbývající časová perioda RT1 nebo druhá zbývající časová perioda RT2, je kratší zbývající časová perioda. Proto je uživateli zobrazen pouze jeden z první zbývající časová perioda RT1 a druhá zbývající časová perioda RT2 Dodatečně nebo alternativně je uživateli a / nebo řídicímu systému 701 SEM 100 poskytnuta kratší zbývající časová perioda první zbývající časová perioda RT1 a druhá zbývající časová perioda RT2, a to v případě, že je časový rozdíl mezi první zbývající časovou periodou RT1 a druhou zbývající dobou RT2 kratší než jedna minuta nebo dvě minuty. Tato dvě výše uvedená provedení jsou založena na následujících myšlenkách. Jak bylo uvedeno výše, SEM 100 může obsahovat několik vakuových nádrží. Každá z několika vakuových nádrží může být monitorována a je určena zbývající časová perioda pro každou vakuovou nádrž. Uživatel a/nebo řídicí systém systému SEM 100 jsou informováni o době dalšího rušení, které má nejmenší hodnotu všech zbývajících časových period několika monitorovaných vakuových nádrží. Kromě toho, jestliže jsou rušení vakuových nádrží v určitém čase těsně u sebe, provedení způsobu kombinuje tato rušení do jediného rušení tak, že uživatel a / nebo řídicí systém 701 SEM 100 je informován pouze o jediném rušení vakuových nádrží. Jediná porucha odpovídá nejkratší zbývající časové periodě zbývajících časových period sledovaných vakuových zásobníků, které jsou v čase těsně u sebe.
Obrázek 9 znázorňuje další způsob dle vynálezu. Způsob Obrázku 9 je nyní vysvětlen s ohledem na první vakuovou nádrž 607.
Způsob Obrázku 9 je založen na provedení způsobu znázorněného na Obrázku 6, 6A a 7 a zahrnuje také kroky S1 až S5 způsobu, jak bylo uvedeno výše. Krok S13 způsobu se však provádí po kroku S5. V kroku S13 způsobu se první tlak vakuové nádrže měří pomocí první jednotky 613 pro měření tlaku pro stanovení, kdy tlak vakuové nádrže dosáhne první prahové hodnoty tlaku dané pro první tlak vakuové nádrže první vakuové nádrže 607. Prahová hodnota prvního tlaku může být stanovena uživatelem a / nebo řídicím systémem 701 SEM 100. Například prahová hodnota prvního tlaku je 5-103 hPa. Prahová hodnota prvního tlaku je hodnota tlaku, která by neměla být překročena, jinak by vakuum ve vakuové komoře 605 a/nebo v první vakuové nádrži 607 již nebylo dostatečné pro zajištění dobrého snímání, například předmětu 114.
Když první tlak vakuové nádrže dosáhne prahové hodnoty prvního tlaku a/nebo překročí prahovou hodnotu prvního tlaku, v dalším kroku S14 způsobu je první vakuová nádrž 607 odpojena od vakuové komory 605 s daným zpožděním po dosažení první prahové hodnoty tlaku prvního tlaku vakuové nádrže. Zadané zpoždění může trvat méně než dvě minuty, méně než jednu minutu nebo méně než 30 sekund. Například první ventil 609 je uzavřen, aby narušil kapalné propojení mezi první vakuovou nádrží 607, vakuovou komorou 605 a prvním turbomolekulámím čerpadlem 606. V kroku 15 způsobuje snímání, analýza a/nebo zpracování předmětu 114 pomocí SEM 100 během zpoždění zastaveno. Po kroku 15 způsobu opět začíná další způsob s krokem S2 způsobu, přičemž první vakuové čerpadlo 610 je připojeno k první vakuové nádrži 607. Snímání, analýza a/nebo zpracování předmětu 114 se zastaví, dokud je vakuové čerpadlo 610 připojeno k první vakuové nádrži 607.
Další způsob zobrazený na Obrázku 9 má tu výhodu, že uživatel a / nebo řídící systém 701 SEM 100 mohou dokončit proces snímání, analýzy a zpracování předmětu 114 ještě předtím, než dojde k rušením . Proto se sníží zejména počet obrázků nízké kvality. Další metoda je navíc rovněž výhodná zejména pro snímání velkých předmětů nebo automatizovaných procesů snímání
-22CZ 2019 -113 A3 předmětu. Dodatečně, jelikož rušení nezačne předtím, než jsou zastaveny určité operace uvnitř SEM 100, je zabráněno poškození předmětu 114 nebo částí SEM 100.
Schematické znázornění dalšího vakuového systému ve formě čerpadlového systému 601 je znázorněno na Obrázku 10 s ohledem na SEM 100 dle Obrázku 1. Další vakuový systém Obrázku 10 je založen na vakuovém systému Obrázku 5. Identické referenční značky označují totožné součásti. Proto další vakuový systém Obrázku 10 obsahuje všechny vlastnosti, jež byly uvedeny výše a to s ohledem na vakuový systém Obrázku 5. Nicméně k vlastnostem vakuového systému Obrázku 5 navíc obsahuje další vakuový systém Obrázku 10 uzavírací komoru 614. která je umístěna na paprsek vodicí trubici 104. Uzavírací komora 614 je výměnná komora SEM 100, do které je vložen předmět 114 předtím, než je předmět 114 dále zaváděn do předmětové komory 120, která je vakuovou komorou 605 Obrázku 10. Uzavírací komora 614 obsahuje dvířka 615, které mohou být otevřeny a zavřeny pro vložení předmětu 114 do uzavírací komory 614. Uzavírací komora 614 navíc obsahuje ventil 616 uzavírací komory, který může být otevřen nebo uzavřen pro vložení předmětu 114 do vakuové komory 605. Uzavírací komora 614 je také kapalně propojena s prvním vakuovým čerpadlem 610 prostřednictvím potrubí 617 uzavírací komory. Mezi uzavírací komorou 614 a prvním vakuovým čerpadlem 610 je umístěn ventil 618 uzavírací komory. Kapalné propojení mezi uzavírací komorou 614 a prvním vakuovým čerpadlem 610 může být připojeno nebo odpojeno pomocí ventilu 618 potrubí uzavírací komory. V uzavírací komoře 614 je umístěna jednotka 619 pro měření tlaku vakuové nádrže uvnitř uzavírací komory 614.
Okruh čerpadla zámkové komory 614 je popsán níže. Okruh čerpadla se provádí se zavřenými dvířky 615. První vakuové čerpadlo 610 se používá k vytvoření vakua s nízkým tlakem vakuové nádrže, přítomné v uzavírací komoře 614. Nízký tlak vakuové nádrže může být roven nebo být větší než 10'3 hPa. Když tlak vakuové nádrže dosáhne nižší prahové hodnoty, například 2-10-3 hPa, je první vakuové čerpadlo 610 odpojeno od blokovací komory 614. Jinými slovy ventil 618 potrubí uzavírací komory je uzavřen tak, že je přerušeno kapalné propojení mezi uzavírací komorou 614 a prvním vakuovým čerpadlem 610. Kromě toho je uzavírací komora 614 propojena s vakuovou komorou 605. Jinými slovy, kapalné propojení mezi uzavírací komorou 614 a vakuovou komorou 605 je dosaženo otevřením ventilu 616 uzavírací komory. Když je vytvořeno kapalné propojení mezi uzavírací komorou 614 a vakuovou komorou 605. tlak vakuové nádrže, přítomný v uzavírací komoře 614, se zvyšuje. Když tlak vakuové nádrže dosáhne dané prahové hodnoty tlaku vakuové nádrže, například 5-103 hPa, je ventil 616 uzavírací komory uzavřen tak, že kapalné propojení mezi uzavírací komorou 614 a vakuovou komorou 605 je přerušeno. Prahová hodnota tlaku může být stanovena uživatelem a / nebo řídící jednotkou 701 SEM 100. První vakuové čerpadlo 610 je opět propojeno s uzavírací komorou 614 otevřením ventilu 618 uzavírací komory. Uzavírací komora 614 je vypuštěna pomocí prvního vakuového čerpadla 610, a to dokud tlak vakuové nádrže opět nedosáhne nižší prahové hodnoty. Po dosažení nízké prahové hodnoty se okruh čerpadla znovu zapne.
Tlak v uzavírací komoře 614 je řízen a nastaven analogicky způsobem dle Obrázku 6, 6A a 7. Uzavírací komora 614 je odpojena od vakuové komory 605 uzavřením ventilu 616 uzavírací komory. Dále je první vakuové čerpadlo 610 propojeno s uzavírací komorou 614 otevřením ventilu 618 potrubí uzavírací komory. Uzavírací komora 614 je vypouštěna prvním vakuovým čerpadlem 610. Jak bylo uvedeno výše, první vakuové čerpadlo 610 se používá k vytvoření vakua s nízkým tlakem vakuové nádrže přítomného se v uzavírací komoře 614. Nízký tlak vakuové nádrže může být roven nebo vyšší než 10-3 hPa. Když tlak vakuové nádrže dosáhne nižší prahové hodnoty, například 2-103 hPa , první vakuové čerpadlo 610 je odpojeno od uzavírací komory 14. Jinými slovy ventil 618 potrubí uzavírací komory je uzavřen tak, že je přerušeno kapalné propojení mezi uzavírací komorou 614 a prvním vakuovým čerpadlem 610. Kromě toho je uzavírací komora 614 propojena s vakuovou komorou 605. Jinými slovy, kapalné propojení mezi uzavírací komorou 614 a vakuovou komorou 605 je dosaženo otevřením ventilu 616 uzavírací komory.
-23 CZ 2019 -113 A3
Jak již bylo uvedeno výše, tlak vakuové nádrže, který se nachází v uzavírací komoře 614, se po vytvoření kapalného propojení mezi uzavírací komorou 614 a vakuovou komorou 605 zvyšuje. Proto se tlak vakuové nádrže měří za pomoc jednotky 619 pro měření tlaku v uzavírací komoře Hodnoty tlaku tlaku vakuové nádrže se určují v různých časech. Přesněji je stanovena nejméně jedna první tlaková hodnota tlaku vakuové nádrže při prvním čase TI a nejméně druhá tlaková hodnota tlaku vakuové nádrže při druhém čase T2, kde T2 je později než TI. V jiných provedeních způsob zahrnuje stanovení více než dvou tlakových hodnot tlaku vakuové nádrže, zejména 5, 10, 15, 20 nebo až 100 tlakových hodnot tlaku vakuové nádrže, přičemž každá tlaková hodnota prvního tlaku vakuové nádrže je stanovena v jiném čase.
Obrázek 7 rovněž znázorňuje schematické znázornění tlaku vakuové nádrže v uzavírací komoře 614 v závislosti na čase. Bylo stanoveno 10 tlakových hodnot tlaku vakuové nádrže v různých časech. Přesněji jsou stanoveny, první tlaková hodnota VI tlaku vakuové nádrže v prvním čase TI, druhá tlaková hodnota V2 tlaku vakuové nádrže v druhém čase T2, třetí tlaková hodnota V3 tlaku vakuové nádrže ve třetím čase T3, čtvrtá tlaková hodnota V4 tlaku vakuové nádrže ve čtvrtém čase T4, pátá tlaková hodnota V5 tlaku vakuové nádrže pátého času T5, šestá tlaková hodnota V6 tlaku vakuové nádrže v šestém čase T6, sedmá tlaková hodnota V7 tlaku vakuové nádrže sedmém čase T7, osmá tlaková hodnota V8 tlaku vakuové nádrže v osmém čase T8, devátá tlaková hodnota V9 tlaku vakuové nádrže v devátém čase T9 a desátá tlaková hodnota V10 tlaku vakuové nádrže v desátém čase T10. Jak již bylo zmíněno, z důvodu přehlednosti jsou na Obrázku 7 označeny pouze první TI až sedmý čas T7 a desátý čas T10. Kromě toho jsou hodnoty tlaku VI až V10 označeny písmenem V.
Hodnoty tlaku VI až V10 se používají pro určení funkčního vztahu mezi hodnotami tlaku VI až V10. Funkční vztah je funkcí času. Funkční vztah může být lineární nebo nelineární vztah. Kroková funkce může také sestávat z funkčního vztahu nebo může tvořit první funkční vztah. Funkční vztah může být určen různými způsoby. Funkční vztah může být určen například interpolací. Při interpolaci se může použít jakýkoli vhodný způsob interpolace, například lineární interpolace, nelineární interpolace, trigonometrická interpolace, logaritmická interpolace a/nebo interpolace splíne. Navíc a / nebo jako alternativa k němu může být funkční vztah určen extrapolací. Při extrapolaci se může použít jakákoli vhodná metoda extrapolace, například lineární extrapolace, nelineární extrapolace, trigonometrická extrapolace a logaritmická extrapolace. Alternativně nebo dodatečně k tomuto může být funkční vztah určen vytvořením průměru zjišťujícího náhodné hodnot nebo určením nejmenší nebo největší hodnoty ze sady tlakových hodnot VI až V10. Jak již bylo zmíněno výše určený funkční vztah může být funkce.
Určený funkční vztah bude extrapolován pro časy pozdější než poslední čas, kdy byla změřena tlaková hodnota tlaku vakuové nádrže uzavírací komory 614. V provedení znázorněném na Obrázku 7 je desátý čas T10 poslední čas. Proto je určený funkční vztah extrapolován pro časy T pozdější než T10. Při extrapolaci funkčního vztahu je určeno, jak se tlak vakuové nádrže v uzavírací komoře 614 zvyšuje nebo snižuje po desátém čase T10.
První prahová hodnota času TT1 se stanoví pomocí extrapolované funkce. První prahová hodnota času TT1 je čas, kdy extrapolovaný funkční vztah dosáhne prahové hodnoty tlaku dané pro tlak vakuové nádrže uzavírací komory 614. Prahová hodnota tlaku může být stanovena uživatelem a / nebo řídícím systémem 701 SEM 100. Například prahová hodnota tlaku je 5-10-3 hPa . Prahová hodnota tlaku je hodnota tlaku, která nesmí být překročena, jinak již není vakuum ve vakuové komoře 605 nebo v uzavírací komoře 614 dostatečné.
Je určena první zbývající časová perioda RTE První zbývající časová perioda RT1 je doba, která uplyne, dokud tlak vakuové nádrže v uzavírací komoře 614 nedosáhne prahové hodnoty tlaku. První zbývající časová perioda RT1 je časový rozdíl mezi první prahovou hodnotou času TT1 a posledním časem, ve kterém byla změřena tlaková hodnota tlaku vakuové nádrže uzavírací komory 614. V provedení Obrázku 7 je desátý čas T10 poslední čas. Jinými slovy, první zbývající časová perioda RT1 odpovídá času, který zbývá, než tlak vakuové nádrže v uzavírací
-24CZ 2019 -113 A3 komoře 614 dosáhne prahové hodnoty tlaku. Uživatelé a/nebo řídicí systém 701 SEM 100 jsou informováni o první zbývající časové periodě RT1. Zejména může být uživateli zobrazena první zbývající časová perioda RT1. Snímání, analýza a/nebo zpracování předmětu 114 jsou zastaveny po dosažení první prahové hodnoty času TT1 a po první zbývající časové periody RT1. Tímto způsobem se při rušeních způsobených výše zmíněným ventilem 616 uzavírací komory, ventilovým potrubím 618 uzavírací komory a prvním hrubovacím čerpadlem 610 neuskutečňuje žádné snímání, analýza a / nebo zpracování předmětu 114.
Schematické znázornění tlumicí jednotky 801 je znázorněno na Obrázku lis ohledem na SEM 100 dle Obrázku 1. Tlumicí jednotka 801 obsahuje montážní desku 800. SEM 100 je umístěna na montážní desce 800. Kromě toho je na montážní desce 800 umístěno množství tlakových nádrží tlumicí jednotky 801. Obrázek 11 znázorňuje dva z tlakových nádrží, jmenovitě první tlaková nádrž 802 a druhá tlaková nádrž 803. Tlakové nádrže tlumicí jednotky 801 jsou umístěny na podlaze 804 místnosti. Tlumicí jednotka 801 se používá pro tlumení vibrací, které mohou být přenášeny do výše zmíněného SEM 100 prostřednictvím podlahy 804.
První tlaková nádrž 802 a druhý tlaková nádrž 803 jsou naplněny vzduchem pro tlumení již zmíněných vibrací. Pro plnění první tlakové nádrže 802 vzduchem je první tlaková nádrž 802 kapalně propojen s čerpadlem 811 přes první potrubí tlumicí jednotky 805. První ventil 807 tlumicí jednotky je umístěn mezi první tlaková nádrž 802 a čerpadlem 811. Kapalné propojení mezi první tlaková nádrž 802 a čerpadlem 811 může být připojeno nebo odpojeno pomocí prvního ventilu tlumicí jednotky 807. První tlaková jednotka 809 pro měření tlumícího tlaku je umístěna na první tlakové nádrži 802 pro měření tlaku nádrže v první tlakové nádrži 802.
Pro plnění druhé tlakové nádrže 803 vzduchem je druhá tlaková nádrž 803 kapalně propojen s čerpadlem 811 prostřednictvím druhého potrubí tlumicí jednotky 806. Druhý ventil tlumicí jednotky 808 je umístěn mezi druhou tlakovou nádrží 803 a čerpadlem 811. Kapalné propojení mezi druhou tlakovou nádrží 803 a čerpadlem 811 může být propojeno nebo odpojeno pomocí druhého ventilu tlumicí jednotky 808. Druhá jednotka 810 pro měření tlumicího tlaku je umístěna u druhé tlakové nádrže 803 pro měření tlaku nádrže uvnitř druhé tlakové nádrže 803.
Čerpací okruh tlakových nádrží tlumicí jednotky 801 je popsán níže s ohledem na první tlaková nádrž 802. Čerpací okruhy dalších tlakových nádrží tlumicí jednotky 801 jsou shodné s okruhem čerpadla první tlakové nádrže 802.
Čerpadlo 811 slouží k čerpání vzduchu nebo plynu do první tlakové nádrže 802, kde je přítomen tlak první tlakové nádrže 802. Tlak nádrže může být roven nebo vyšší než 1 hPa. Když tlak nádrže dosáhne horní prahové hranice, například 1,2 hPa, je čerpadlo 811 odpojeno od první tlakové nádrže 802. Jinými slovy, první ventil tlumicí jednotky 807 je uzavřen tak, že kapalné propojení mezi první tlakovou nádrží 802 a čerpadlem 811 je přerušeno. Tlak nádrže, který je přítomen v prvním tlakové nádrži 802, klesá. Když tlak nádrže dosáhne dané prahové hodnoty tlaku nádrže, například 0,5 hPa, čerpadlo 811 je opět připojeno k první tlakové nádrže 802 otevřením prvního ventilu tlumicí jednotky 807. První tlaková nádrž 802 je opět pomocí čerpadla 811 naplňován vzduchem nebo plynem a to dokud tlak nádrže opět nedosáhne horní prahové hodnoty. Po dosažení horní prahové hodnoty se okruh čerpadla znovu zapne.
Obrázek 12 znázorňuje provedení způsobu dle vynálezu použitého pro první tlakovou nádrž 802. V kroku S1A způsobu je první nádrž 802 připojena k čerpadlu 811 otevřením prvního ventilu tlumicí jednotky 807. Čerpadlo 811 slouží k čerpání vzduchu nebo plynu do první tlakové nádrže 802, kde je přítomen tlak první tlakové nádrže 802. Tlak nádrže může být roven nebo vyšší než 1 hPa. Když tlak nádrže dosáhne horní hranice, například 1,2 hPa, je čerpadlo 811 odpojeno od prvního tlakové nádrže 802 v kroku S3A způsobu. Jinými slovy, první ventil tlumicí jednotky 807 je uzavřen tak, že kapalné propojení mezi první tlakovou nádrží 802 a čerpadlem 811 je přerušeno.
-25 CZ 2019 -113 A3
Jak bylo uvedeno výše, tlak nádrže, který je přítomen v první tlakové nádrže 802, klesá. Proto v kroku S4A způsobu se tento tlak nádrže měří pomocí první měřicí jednotky 809 tlumení. Tlakové hodnoty tlaku nádrže jsou stanoveny v různých časech. Přesněji je stanovena nejméně jedna první tlaková hodnota tlaku nádrže v první době TI a nejméně druhá hodnota tlaku tlaku nádrže v druhém čase T2, kde T2 je později než TI. V jiných provedeních způsob zahrnuje stanovení více než dvou tlakových hodnot tlaku nádrže, zejména 5, 10, 15, 20 nebo až 100 tlakových hodnot tlaku nádrže, přičemž každá tlaková hodnota tlaku nádrže se stanoví v jiný čas.
Obrázek 13 znázorňuje schematické znázornění tlaku nádrže v první tlakové nádrži 802 v závislosti na čase. Bylo stanoveno 10 tlakových hodnot tlaku nádrže v různých časech. Přesněji jsou stanoveny, první tlaková hodnota VI tlaku tlakové nádrže v prvním čase TI, druhá tlaková hodnota V2 tlaku tlakové nádrže v druhém čase T2, třetí tlaková hodnota V3 tlaku tlakové nádrže ve třetím čase T3, čtvrtá tlaková hodnota V4 tlaku tlakové nádrže ve čtvrtém čase T4, pátá tlaková hodnota V5 tlaku tlakové nádrže pátého času T5, šestá tlaková hodnota V6 tlaku tlakové nádrže v šestém čase T6, sedmá tlaková hodnota V7 tlaku tlakové nádrže sedmém čase T7, osmá tlaková hodnota V8 tlaku tlakové nádrže v osmém čase T8, devátá tlaková hodnota V9 tlaku tlakové nádrže v devátém čase T9 a desátá tlaková hodnota VI0 tlaku tlakového zásobníku v desátém čase T10. Z důvodů srozumitelnosti jsou na Obrázku 13označeny jen první čas TI až sedmý čas T7 a desátý čas T10. Kromě toho jsou hodnoty tlaku VI až V10 označeny písmenem V.
V kroku S5A způsobu jsou hodnoty tlaku VI až V10 se používány pro určení funkčního vztahu mezi hodnotami tlaku VI až V10. Funkční vztah je funkcí času. Funkční vztah může být lineární nebo nelineární vztah. Kroková funkce může také sestávat z funkčního vztahu nebo může tvořit první funkční vztah. Funkční vztah může být určen různými způsoby. Funkční vztah může být určen například interpolací. Při interpolaci se může použít jakýkoli vhodný způsob interpolace, například lineární interpolace, nelineární interpolace, trigonometrická interpolace, logaritmická interpolace a/nebo interpolace splíne. Navíc a / nebo jako alternativa k němu může být funkční vztah určen extrapolací. Při extrapolaci se může použít jakákoli vhodná metoda extrapolace, například lineární extrapolace, nelineární extrapolace, trigonometrická extrapolace a logaritmická extrapolace. Alternativně nebo dodatečně k tomuto může být funkční vztah určen vytvořením průměru zjišťujícího náhodné hodnot nebo určením nejmenší nebo největší hodnoty ze sady tlakových hodnot VI až VI0.
Určený funkční vztah může být následující funkce:
p(t) = p0 + h (1 — exp přičemž poje tlak nádrže první tlakové nádrže 802 v počátečním čase to a přičemž h je určitelná konstanta. Proměnné po, to a h mohou být vhodné parametry pro určení funkčního vztahu.
V kroku S6A způsobu bude určený funkční vztah extrapolován pro časy pozdější než poslední čas, kdy byla změřena tlaková hodnota tlaku prvního tlakové nádrže 802. V provedení znázorněném na Obrázku 13 je desátý čas T10 poslední čas. Proto je určený funkční vztah extrapolován pro časy T pozdější než T10. Extrapolaci funkčního vztahu je určeno, jak se tlak vakuové nádrže po desátém čase T10 první vakuové nádrže 802 zvyšuje nebo snižuje.
V kroku S7A způsobu je první prahová hodnota času TT1 stanovena pomocí extrapolované funkce (viz Obrázek 13) . První prahová hodnota času TT1 je čas, kdy extrapolovaný funkční vztah dosáhne prahové hodnoty tlaku nádrže daného pro tlak první vakuové nádrže 802. Prahová hodnota tlaku může být stanovena uživatelem a / nebo řídícím systémem 701 SEM 100. Prahová hodnota tlaku je například 0,5 hPa. Prahová hodnota tlaku je hodnota tlaku, která by neměla být nedosažena, jinak tlak v první tlakové nádrži 802 již nebude dostačující pro zajištění dobrého tlumení.
-26CZ 2019 -113 A3
V dalším kroku S8A způsobu je určena zbývající časová perioda RT1. Zbývající časová perioda RT1 je čas, který uplyne, dokud tlak nádrže prvního tlakové nádrže 802 nedosáhne prahové hodnoty tlaku. První zbývající časová perioda RT1 je časový rozdíl mezi první prahovou hodnotou času TT1 a posledním časem, ve kterém byla změřena hodnota tlaku prvního tlakové nádrže 802. V provedení Obrázku 13 je desátý čas T10 čas poslední. Jinými slovy, první zbývající časová perioda RT1 odpovídá době, která zbývá, dokud tlak tlak nádrže v první vakuové nádrži 802 nedosáhne prahové hodnoty tlaku.
V dalším kroku S9A způsobu jsou uživatel a / nebo řídicí systém 701 SEM 100 informováni o zbývající časové periodě RT1. Zejména zbývající časová perioda RT1 může být uživateli zobrazena.
V kroku S10A způsobu je snímání, analýza a zpracování předmětu 114 zastaveno po dosažení první prahové hodnoty času TT1 a po dosažení zbývající časové periody RT1. Tímto způsobem se při poruchách způsobených výše zmíněným čerpadlem 811 a prvním ventilem 807 tlumicí jednotky nevykonává žádné snímání, analýza a / nebo zpracování předmětu 114.
Po kroku S10A způsobu dle vynálezu může způsob začít znovu od kroku S1A. Proto může být způsob dle vynálezu způsob okruhu.
Různá provedení popsaná v tomto dokumentu mohou být vzájemně kombinována ve vhodných kombinacích propojených se zde popsaným systémem. Navíc v některých případech může být pořadí kroků blokového schéma, vývojových diagramů a / nebo popsaný vývojový diagram upraven. Dále mohou být různé aspekty zde popsaného systému implementovány pomocí softwaru, hardwaru, kombinace softwaru a hardwaru a / nebo jiných počítačových modulů nebo zařízení, které mají zmíněné funkce a provádějí zmíněné funkce. Systém může dále obsahovat displej a / nebo jiné počítačové komponenty pro poskytování vhodného rozhraní pro uživatele a / nebo s jinými počítači.
Softwarové implementace aspektů zde popsaného systému mohou zahrnovat spustitelný kód, který je uložen na počítači čitelném médiu a je vykonán jedním nebo více procesory. Počítačem čitelné médium může zahrnovat nestálou paměť a / nebo stálou paměť a může zahrnovat například počítač pevný disk, paměť ROM, paměť RAM, paměť flash, přenosná média pro ukládání dat, jako je například mechanika CD-ROM, DVD-ROM, karta SO, jednotka flash nebo jiná jednotka s rozhraním USB, a / nebo jakéhokoliv jiné vhodné hmatatelné nebo stálé počítačem čitelné médium nebo paměti počítače, na němž může být spustitelný kód uložen a vykonán procesorem. Zde popsaný systém může být použit ve spojení s libovolným vhodným operačním systémem.
Jiné provedení vynálezu budou odborníkům v oboru z pohledu specifikace a / nebo pokusu o uvedení do praxe zde popsaného vynálezu zřejmé. Předpokládá se, že specifikace a příklady budou považovány pouze za příklady, přičemž skutečný rozsah a duch vynálezu jsou uvedeny v následujících nárocích.
PATENTOVÉ NÁROKY

Claims (16)

1. Způsob provozování tlakového systému (601, 801) zařízení (100, 200, 300) pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu(l 14, 225, 304), přičemž tento způsob zahrnuje:
a) odpojení čerpadla (610, 610A, 811) od tlakové nádrže (607, 607A, 614, 802, 803);
-27 CZ 2019 -113 A3
b) měření tlaku nádrže (V) přítomného v tlakové nádrži (607, 607A, 614, 802, 803) a stanovení nejméně jedné první hodnoty tlaku (VI) tlaku nádrže (V) poprvé (TI) a nejméně jednu hodnotu tlaku (V2 ) tlakové nádrže (V) ve druhém okamžiku (T2), přičemž druhý čas (T2) je později než čas první (TI).
c) určení funkčního vztahu mezi první hodnotou tlaku (VI) tlaku nádrže (V) a druhou hodnotu tlaku (V2) tlaku nádrže (V), přičemž funkční vztah je funkcí času .
d) extrapolace funkčního vztahu pro čas později než druhý čas (T2).
e) určení prahové hodnoty času (TT1) použitím extrapolovaného funkčního vztahu, přičemž prahová hodnota času (TT1) je čas, kdy extrapolovaný funkční vztah dosáhne prahové hodnoty tlaku daného pro tlak nádrže (V).
f) určení zbývající časové periody (RT1), než tlak nádrže (V) dosáhne prahové hodnoty tlaku, přičemž zbývající časová perioda (RT1) je časový rozdíl mezi prahovou hodnotou času (TT1) a druhou prahovou hodnotou času (T2).
g) poskytnutí informací o zbývajícím časovém období (RT1) uživateli a / nebo řídicímu systému (701) zařízení (100, 200, 300).
2. Způsob dle nároku 1, vyznačující se tím, že způsob dále zahrnuje jedno z následujících:
(i) tlaková nádrž je vakuová nádrž (607, 607A, 614) a tlak nádrže je tlak vakuové nádrže (V), kde prahová hodnota tlaku je horní prahová hodnota a kde je po odpojení čerpadla (610, 610A) od vakuové nádrže (607, 607A, 614) vakuová nádrž (607, 607A, 614) připojena k vakuové komoře (605) zařízení (100, 200, 300).
(ii) tlaková nádrž je přetlaková nádrž (802, 803) tlumicí jednotky (801) a tlak nádrže je tlak přetlakové nádrže (V), kde prahová hodnota tlaku je nižší prahová hodnota.
3. Způsob dle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že způsob dále zahrnuje:
snímání, analýzy a/nebo zpracování předmětu (114, 225, 304) jsou zastaveny po dosažení první prahové hodnoty času (TT1) a po první zbývající časové periodě (RT1).
připojte čerpadlo (610, 610A, 811) k tlakové nádrži (607, 607A, 614, 802, 803).
4. Způsob dle nároků 2 a 3, vyznačující se tím, že v případě, že je tlaková nádrž vakuová nádrž (607, 607A, 614), způsob dále zahrnuje odpojení vakuové nádrže (607, 607A, 614) od vakuové komory (605).
5. Způsob dle jednoho z výše zmíněných nároků, vyznačující se tím, že tlaková nádrž (607, 802) je první tlaková nádrž, přičemž tlak nádrže (V) je první tlak nádrže , přičemž čerpadlo (610, 811) je první čerpadlo , přičemž prahová hodnota času (TT1) je první prahová hodnota času a přičemž funkční vztah je první funkční vztah, způsob dále zahrnuje:
a) odpojení druhého čerpadla (610A, 811) od druhého tlakové nádrže (607A, 803).
b) měření tlaku druhé nádrže (V) přítomného v druhé tlakové nádrži (607A, 803) a stanovení nejméně jedné první hodnoty tlaku (V3) druhého tlaku nádrže (V) ve třetím čase (T3) a alespoň jedné druhé hodnoty tlaku (V4) druhého tlaku nádrže (V) ve čtvrtém čase (T4), přičemž čtvrtý čas (T4) je později než třetí čas (T3).
-28 CZ 2019 -113 A3
c) stanovení druhého funkčního vztahu mezi první hodnotou tlaku (V3) tlaku druhé nádrže (V) a druhou hodnotou tlaku (V4) tlaku druhé nádrže (V), přičemž druhý funkční vztah je druhou funkcí času.
d) extrapolace druhého funkčního vztahu pro časy pozdější než čtvrtý čas (T4).
e) stanovení druhé prahové hodnoty času s použitím extrapolovaného druhého funkčního vztahu, přičemž druhá prahová hodnota časuje čas, kdy extrapolovaný druhý funkční vztah dosáhne druhého prahové hodnoty tlaku daného pro druhý tlak nádrže (V).
f) stanovení druhé zbývající časové periody než druhý tlak nádrže (V) dosáhne prahové hodnoty tlaku, přičemž druhá zbývající časová perioda je časový rozdíl mezi druhou a čtvrtou (T4) prahovou hodnotou času.
g) g) poskytnutí informací o zbývající časové periodě uživateli a / nebo řídicímu systému (701) zařízení (100, 200, 300).
6. Způsob dle nároku 5, vyznačující se tím, že způsob dále zahrnuje jeden z následujících :
(i) druhá tlaková nádrž je druhá vakuová nádrž (607A) a tlak nádrže je druhý tlak vakuové nádrže (V), přičemž druhá prahová hodnota tlaku je druhá horní prahová hranice tlaku a kde po odpojení druhého čerpadla (610A) od druhé vakuové nádrže (607A) je druhá vakuová nádrž (607) připojena k vakuové komoře (605) zařízení (100, 200, 300).
(ii) druhá tlaková nádrž je druhou přetlakovou nádrží (803) tlumicí jednotky (801) a druhý tlak nádrže je druhý tlak přetlakové nádrže, přičemž druhá prahová hodnota tlaku je nižší prahová hodnota.
7. Způsob dle nároku 5 nebo 6, vyznačující se tím, že obsahuje alespoň jednu z následujících vlastností:
první čerpadlo (610) j e totožné s druhým čerpadlem (610A).
první funkční vztah je totožný s druhým funkčním vztahem.
8. Způsob dle nároku 5 nebo 7, vyznačující se tím, že způsob obsahuje jeden z následujících:
(i) informování uživatele a / nebo řídicího systému (701) zařízení (100, 200, 300), kde první zbývající časová perioda RT1 nebo druhá zbývající časová perioda je kratší zbývající časová perioda.
(ii) informování uživatele a / nebo řídicího systému (701) zařízení (100, 200, 300) o kratší zbývající časové periodě první zbývající časové periody (RT1) a druhé zbývající časové periody, pokud je časový rozdíl mezi první zbývající časovou periodou (RT1) a druhou zbývající časovou periodou kratší než dvě minuty nebo jedna minuta.
9. Způsob provozu tlakového systému (601) zařízení (100, 200, 300) pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu (114, 225, 304), způsob obsahující:
a) odpojení čerpadla (610, 610A, 811) od tlakové nádrže (607, 607A, 614, 802, 803).
b) měření tlaku nádrže (V) přítomného v tlakové nádrži a určení doby, kdy tlak nádrže (V) dosáhne prahové hodnoty tlaku daného pro tlak nádrže (V).
-29CZ 2019 -113 A3
c) zastavení snímání, analyzování a/nebo zpracování předmětu (114, 225, 304) během daného zpoždění poté, co tlak nádrže (V) dosáhl prahové hodnoty tlaku.
d) připojení čerpadla (610, 610A, 811) k tlakové nádrži (607, 607A, 614, 802, 803).
10. Způsob dle nároku 9, vyznačující se tím, že dále zahrnuje jeden z následujících:
(i) tlaková nádrž je vakuová nádrž (607, 607A) a tlak nádrže je tlak vakuové nádrže (V), přičemž prahová hodnota je horní prahová hodnota a kde po odpojení čerpadla (610, 610A) od vakuové nádrže (607, 607A) je vakuová nádrž (607, 607A) propojena s vakuovou komorou (605) zařízení (100, 200, 300) a přičemž vakuová nádrž (607, 607A)) je odpojena od vakuové komory (605 )s daným zpožděním poté, co tlak vakuové nádrže (V) dosáhl prahové hodnoty tlaku.
(ii) tlakový zásobník je přetlaková nádrž (802, 803) tlumicí jednotky (801) a tlak nádrže je tlak přetlakové nádrže, přičemž prahová hodnota tlaku je nižší prahová hodnota.
11. Počítačový program obsahující programový kód, vyznačující se tím, že je vložen do procesoru (701) a který, při provedení, ovládá zařízení (100, 200, 300) částicového paprsku tak, že je proveden způsob dle jednoho z předcházejících nároků.
12. Zařízení (100, 200, 300) částicového paprsku pro snímání, analýzu a/nebo zpracování předmětu (114, 225, 304), sestává z alespoň jednoho generátoru (101, 202, 307, 330) částic pro generování částicového paprsku (312, 329), alespoň jedné čočky (107, 221, 319, 334) objektivu pro zaostření částicového paprsku (312, 329) na předmět (114, 225, 304), alespoň jeden detektor (116, 117, 219, 228, 317) pro detekci interakčních částic a / nebo interakčního záření, interakční částice a interakční záření generované, když paprsek částic (312, 329) dopadána předmět (114, 225, 304), vakuové komory (605), alespoň jednoho tlakové nádrže (607, 607A, 614, 802, 803), alespoň jednoho čerpadla (610, 610A, 811) upraveného tak, aby bylo kapalně propojeno s tlakovou nádrží (607, 607A, 614, 802, 803) a procesoru (701), do kterého je vložen počítačový program dle nároku 11.
13. Zařízení (100, 200, 300) částicového paprsku dle nároku 12, vyznačující se tím, že tlaková nádrž je jedna z následujících:
(i) vakuová nádrž (607, 607A, 614) upravená tak, aby byla kapalně propojena s vakuovou komorou (605).
(ii) přetlaková nádrž (802, 803) tlumicí jednotky (801).
14. Zařízení (100, 200, 300) částicového paprsku dle nároku 12 nebo 13, vyznačující se tím, že tlaková nádrž je uzavírací komora (614).
-30CZ 2019 -113 A3
15. Zařízení (200) částicového paprsku dle jednoho z nároků 12 až 14, vyznačující se tím, že generátorem částic je první generátor (330) paprsků částic pro generování prvního paprsku částic majícího první nabité částice, přičemž čočka (334) objektivuje první čočka objektivu pro soustředění první paprsku částic (329) na předmět (304) a kde zařízení (200) částicového paprsku
5 dále obsahuje: druhý generátor (307 ) paprsků částic pro generování druhého paprsku (312 ) částic majícího druhé nabité částice a druhé čočky (319) objektivu pro soustředění paprsku (312) částic na předmět (304).
16. Zařízení (100, 200, 300) částicového paprsku dle jednoho z nároků 12 až 15, vyznačující se ίο tím, že zařízení (100, 200, 300) částicového paprskuje alespoň jedno z následujících: zařízení elektronového paprsku a zařízení iontového paprsku.
16 výkresů
Seznam vztahových značek
100 101 102 103 104 105 106 107 108 108A 109 110 111 112 113 114 115 116 116A 117 118 SEM zdroj elektronů extrakční elektroda anoda paprsek vodicí trubice první kondensační čočka druhá kondensační čočka čočka objektivu první clonová jednotka první clonový otvor druhá clonová jednotka póly cívka elektroda elektroda trubice předmět skenovacího zařízení první detektor protilehlé pole druhý detektor druhý clonový otvor 120 121 122 123 předmětová komora třetí detektor předmětová komora dalšího SEM předmětová oblast 200 201 202 203 204 205 206 207 208 209 209A zařízení částicového paprsku s korekční jednotkou sloupec paprsku částic zdroj elektronů extrakční elektroda anoda první elektrostatická čočka druhá elektrostatická čočka třetí elektrostatická čočka magnetická vychylovací jednotka jednotka pro vychylování prvního elektrostatického paprsku první vícepólová jednotka
-31 CZ 2019 -113 A3
209B 210 211A 211B 211C 211D 211E 211F 211G druhá vícepólová jednotka zařízení pro vychylování paprsku první magnetický sektor druhý magnetický sektor třetí magnetický sektor čtvrtý magnetický sektor pátý magnetický sektor šestý magnetický sektor sedmý magnetický sektor 213A 213B 213C 214 215 216 216A 216B 217 218 218A 218B 219 220 221 222 223 224 225 226 227 228 229 230 231 232 první zrcadlová elektroda druhá zrcadlová elektroda třetí zrcadlová elektroda elektrostatické zrcadlo čtvrtá elektrostatická čočka jednotka pro vychylování druhého elektrostatického paprsku třetí vícepólová jednotka čtvrtá vícepólová jednotka jednotka pro vychylování třetího elektrostatického paprsku pátá elektrostatická čočka pátá vícepólová jednotka šestá vícepólová jednotka první detektor paprsek vodicí trubice čočka objektivu magnetická čočka šestá elektrostatická čočka vzorkovací fáze předmět předmětová komora detekční dráha paprsku druhý detektor skenovacího zařízení filtrační elektroda analytická j ednotka další magnetické vychylovací zařízení 300 301 302 303 304 305 306 307 308 309 310 311 312 313 314 315 316 317 zařízení částicového paprsku sloupec prvního paprsku částic sloupec druhého paprsku částic předmětová komora předmět první optická osa druhá optická osa druhý generátor paprsků první elektroda druhá elektroda třetí elektroda paprsek vodicí trubice druhý částicový paprsek umístění kolimátoru první prstencová cívka uzda dírkovaná membrána detektor
-2CZ 2019 -113 A3
318 319 320 321 322 323 324 325 326 327 328 329 330 331 332 333 334 335 centrální otevírání druhá čočka objektivu magnetická čočka elektrostatická čočka druhá prstencová cívka vnitřní pól vnější pól konec koncová elektroda rastrové zařízení držák předmětu první paprsek částic první generátor paprsků extrakční elektroda kolimátor proměnná clona čočka prvního objektivu rastrová elektroda 500 detektor záření 600 601 602 603 604 605 606 606A 607 607A 608 608A 609 609A 610 610A 611 611A 612 612A 613 613A 614 615 616 617 618 619 snímač tlaku vakuový systém ve formě čerpacího systému omezovač tlaku první iontové čerpadlo první iontové čerpadlo vakuová komora první turbomolekulámí čerpadlo druhé turbomolekulámí čerpadlo první vakuová nádrž druhá vakuová nádrž první potrubí třetí potrubí první ventil třetí ventil první vakuové čerpadlo druhé vakuové čerpadlo druhé potrubí čtvrté potrubí druhý ventil čtvrtý ventil první měřicí jednotka tlaku druhá měřicí jednotka tlaku uzavírací komora dvířka uzavírací komory ventil uzavírací komory potrubí uzavírací komory ventil potrubí uzavírací komory měřicí jednotka tlaku uzavírací komory
700 řídící jednotka
701 procesor
800 montážní deska
801 tlumicí jednotka
CZ 2019 -113 A3
802 první tlaková nádrž 803 druhý tlaková nádrž 804 podlaha 805 potrubí první tlumící jednotky 806 potrubí druhé tlumící jednotky 807 ventil první tlumící jednotky 808 ventil druhé tlumící jednotky 809 první měřicí j ednotka tlaku tlumící j ednotky 810 druhá měřicí jednotka tlaku tlumící jednotky 811 čerpadlo OA optická osa OA1 první optická osa OA2 druhá optická osa OA3 třetí optická osa RT1 první zbývající časová perioda S1-S15 kroky způsobu S1A-S10A kroky způsobu S11A krok způsobu T čas TI první čas T2 druhý čas T3 třetí čas T4 čtvrtý čas T5 pátý čas T6 šestý čas T7 sedmý čas T10 desátý čas TT1 první prahová hodnota času v hodnoty tlaku VI první hodnota tlaku V2 druhá hodnota tlaku V3 třetí hodnota tlaku V4 čtvrtá hodnota tlaku V5 pátá hodnota tlaku V6 šestá hodnota tlaku V7 sedmá hodnota tlaku V10 desátá hodnota tlaku
CZ2019-113A 2018-03-01 2019-02-26 Způsob ovládání tlakového systému zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu a zařízení vykonávající tento způsob CZ309534B6 (cs)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102018203096.0A DE102018203096B9 (de) 2018-03-01 2018-03-01 Verfahren zum Betrieb eines Drucksystems für eine Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts und Vorrichtung zum Ausführen des Verfahrens

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ2019113A3 true CZ2019113A3 (cs) 2019-10-23
CZ309534B6 CZ309534B6 (cs) 2023-03-29

Family

ID=67622841

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ2019-113A CZ309534B6 (cs) 2018-03-01 2019-02-26 Způsob ovládání tlakového systému zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu a zařízení vykonávající tento způsob

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10546716B2 (cs)
CN (1) CN110223899B (cs)
CZ (1) CZ309534B6 (cs)
DE (1) DE102018203096B9 (cs)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102020111151B4 (de) 2020-04-23 2023-10-05 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zum Belüften und Abpumpen einer Vakuumkammer eines Teilchenstrahlgeräts, Computerprogrammprodukt und Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens
CN112212565A (zh) * 2020-10-19 2021-01-12 海信容声(广东)冰箱有限公司 一种冰箱及其控制方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10107910A1 (de) 2001-02-20 2002-08-22 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Teilchenstrahlsystem mit einem Spiegelkorrektor
NL1026547C2 (nl) * 2004-07-01 2006-01-03 Fei Co Apparaat voor het evacueren van een sample.
US7289863B2 (en) * 2005-08-18 2007-10-30 Brooks Automation, Inc. System and method for electronic diagnostics of a process vacuum environment
US7301157B2 (en) * 2005-09-28 2007-11-27 Fei Company Cluster tool for microscopic processing of samples
CN101461026B (zh) * 2006-06-07 2012-01-18 Fei公司 与包含真空室的装置一起使用的滑动轴承
EP2341525B1 (en) * 2009-12-30 2013-10-23 FEI Company Plasma source for charged particle beam system
US9679741B2 (en) * 2010-11-09 2017-06-13 Fei Company Environmental cell for charged particle beam system
US9105438B2 (en) * 2012-05-31 2015-08-11 Fei Company Imaging and processing for plasma ion source
DE202012007108U1 (de) * 2012-07-24 2012-08-22 Ellcie Industries Gmbh Vakuum-Vorrichtung
EP3176808B1 (en) * 2015-12-03 2019-10-16 Carl Zeiss Microscopy Ltd. Method for detecting charged particles and particle beam device for carrying out the method

Also Published As

Publication number Publication date
CN110223899B (zh) 2024-06-04
DE102018203096B4 (de) 2019-11-07
US10546716B2 (en) 2020-01-28
CZ309534B6 (cs) 2023-03-29
DE102018203096B9 (de) 2020-02-27
CN110223899A (zh) 2019-09-10
DE102018203096A1 (de) 2019-09-05
US20190295811A1 (en) 2019-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8912491B2 (en) Method of performing tomographic imaging of a sample in a charged-particle microscope
JP6253618B2 (ja) Ｅｂｓｐパターンの取得方法
US8115180B2 (en) Processing system
CZ2019113A3 (cs) Způsob ovládání tlakového systému zařízení pro snímání, analýzu a / nebo zpracování předmětu a zařízení vykonávající tento způsob
US7745785B2 (en) Sample inspection method, sample inspection apparatus, and sample holder
JP2016081929A (ja) 特殊な絞り板を備える荷電粒子顕微鏡
JP3934461B2 (ja) 電子顕微鏡のチャージアップ防止方法および電子顕微鏡
CN107301940B (zh) 用于分析物体的方法以及执行该方法的带电粒子束装置
US20170309448A1 (en) Three-dimensional imaging in charged-particle microscopy
US9349567B2 (en) Charged particle beam device
US9536701B2 (en) Radiation analyzer including a support for tilting an energy-dispersive radiation detector
US10504691B2 (en) Method for generating a composite image of an object and particle beam device for carrying out the method
JP2006236601A (ja) 軌道位置検出装置，組成分析装置，荷電粒子ビームの軌道調整方法及び位置座標検出装置
US10658152B1 (en) Method for controlling a particle beam device and particle beam device for carrying out the method
US10049855B2 (en) Detecting charged particles
EP3477682B1 (en) Improved sims secondary ion mass spectrometry technique
CN111243928A (zh) 用于检查标本的带电粒子显微镜和确定所述带电粒子显微镜的像差的方法
JP2012221954A (ja) 荷電粒子装置における放射線検出器の保護方法
US11393658B2 (en) Charged particle beam apparatus and sample observation method
CN113555266B (zh) 粒子束装置及其真空室的通气抽空方法、计算机程序产品
KR101648269B1 (ko) 하전입자빔 시스템 평가 플랫폼 장치 및 하전입자빔 시스템 평가방법
EP3855472A1 (en) Charged particle beam apparatus and adjustment method for charged particle beam apparatus
EP4379348A1 (en) Method for micromachining a biological sample for creating a lamella for analysis in a cryo-charged particle microscope
JP7210762B2 (ja) 薄膜破損検知機能、および荷電粒子線装置
CN115901815A (zh) 用于元素图绘制的方法和***