CN2922117Y - 晶片台角度调整装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种晶片台角度调整装置,包括静电卡盘基座、晶片台基座、密封法兰、导向座、运动轴、微电机,其中所述可旋转静电卡盘基座在晶片台基座上,晶片台基座固定在可旋转运动轴的一端,运动轴穿过导向座、密封法兰,运动轴的另一端连接微电机。本实用新型结构简单有效,控制容易,注入角度精度可以达到±0.1°。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种角度调整装置,尤其涉及一种晶片台角度调整装置。
背景技术
离子注入机是半导体工艺中离子掺杂的典型设备,离子源产生需要掺杂的离子束,离子束再经过质量分析、校正、加速,传输到处于靶室终端工艺腔体的晶片表面。
在工艺过程中,需要将晶片进行不同角度的离子注入以满足不同工艺的要求。晶片装夹在晶片台的静电卡盘上,因此,晶片角度变换是通过调整晶片台角度来实现的。
如何实现精确的注入角度控制,是离子注入机靶室设计中的难点问题之一,特别是目前广泛使用的大角度离子注入机,其注入角度精度要求达到±0.1°以内,难度更加突出。
发明内容
针对上述情况,本实用新型提供一种晶片台角度调整装置,可以有效的实现晶片台角度调整,满足精确控制注入角度的工艺要求。
本实用新型通过以下技术方案实现:晶片台角度调整装置,包括静电卡盘基座、晶片台基座、密封法兰、导向座、运动轴、微电机,其中所述可旋转静电卡盘基座在晶片台基座上,晶片台基座固定在可旋转运动轴的一端,运动轴穿过导向座、密封法兰,运动轴的另一端连接微电机。
本实用新型的有益效果是:
1.结构简单有效,控制容易;
2.注入角度精度可以达到±0.1°。
附图说明
图1是本实用新型的构造示意图。
图2是晶片台旋转到水平位置示意图。
其中:
1-静电卡盘基座
2-晶片台基座
3-密封法兰
4-导向座
5-运动轴
6-直线电机连接座
7-微电机
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步介绍,但不作为对本实用新型的限定。
其中所述可旋转静电卡盘基座在晶片台基座上,晶片台基座固定在可旋转运动轴的一端,运动轴穿过导向座、密封法兰,运动轴的另一端连接微电机。
如图1所示,静电卡盘基座1在晶片台基座2上,上面固定用于夹持晶片的静电卡盘(图中未示),同时,静电卡盘基座1可以相对晶片台基座2作0到90度的旋转运动;
密封法兰3实现垂直运动的动态密封,直线电机连接座6固定在运动轴5上,是与直线电机(图中未示)连接的部分;
微电机7与运动轴5的另外一端相连接,用于驱动运动轴5作轴向旋转运动;
图2是晶片台旋转到水平位置的示意图,通过控制运动轴5在轴向旋转的角度和晶片台静电卡盘基座在晶片台基座2上的旋转角度就可以实现晶片注入角度(0到60度)的任意调整。
本发明新型的特定实施例已对本实用新型的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言,在不背离本实用新型精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动,都构成对本实用新型专利的侵犯,将承担相应的法律责任。
Claims (1)
1.一种晶片台角度调整装置,其特征在于:包括静电卡盘基座、晶片台基座、密封法兰、导向座、运动轴、微电机,其中所述可旋转静电卡盘基座在晶片台基座上,晶片台基座固定在可旋转运动轴的一端,运动轴穿过导向座、密封法兰,运动轴的另一端连接微电机。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2006-03-17 CN CN 200620008183 patent/CN2922117Y/zh not_active Expired - Fee Related
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C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
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