CN2778468Y - 磨盘 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于首饰加工设备，尤其涉及一种用于研磨脆性材质球状首饰配件的磨盘，它包括相对应的上盘体和下盘体，在上盘体下表面和下盘体上表面对应设置环形的研磨槽，研磨槽的截面为半圆形，在下盘体的研磨槽底部开有环形沉积槽，下盘体上表面还开有穿通沉积槽延伸至下盘体外部的导流槽，因此研磨产生的金刚石碎屑、球状首饰配件的碎屑等由于重力自动落入沉积槽内，并通过导流槽及时地冲刷到盘体外部，从而提高了球状首饰配件研磨的质量和生产效率，尤其适合于脆性材质(如锗)的球状首饰配件。

Description

磨盘

技术领域

本实用新型属于首饰加工设备，尤其涉及一种用于研磨脆性材质球状首饰配件的磨盘。

背景技术

现有的磨盘包括相对应的上盘体和下盘体，上盘体下表面和下盘体上表面对应设置至少一个研磨槽，研磨槽的截面是半圆形，上下盘体扣合起来形成完整的圆研磨槽，使用时，在该槽内放置待研磨的球状首饰配件，使上下盘体相对转动，于是球状首饰配件在槽内转动并被研磨。

这种结构的磨盘，磨掉产生的碎屑仍然存集在研磨槽内，并且仍然与球状首饰配件发生磨擦，容易导致球状首饰配件的圆度差；尤其对于脆性材质(如锗)的球状首饰配件，存集在研磨槽中的碎屑对球状首饰配件的质量影响更大，不得不频繁中止研磨去清除碎屑，严重影响了研磨质量和生产效率。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种能够将研磨掉的碎屑及时导出的磨盘。

为达到上述目的，本实用新型包括相对应的上盘体和下盘体，在上盘体下表面和下盘体上表面对应设置环形的研磨槽，研磨槽的截面为半圆形，在下盘体的研磨槽底部开有环形沉积槽，下盘体上表面还开有穿通沉积槽延伸至下盘体外部的导流槽。

上述研磨槽至少有两个，以下盘体中心为圆心形成同心环；沉积槽开在研磨槽的最底部，宽度和深度都约为研磨槽宽度的五分之一；导流槽有三个，在下盘体表面呈辐射状，并在圆周内均匀分布。

上述盘体包括基体，基体上设置金刚石耐磨层。

本实用新型由于在研磨槽底部设置了沉积槽，从而能够使研磨掉的碎屑落入沉积槽中，从而避免了碎屑参与磨擦导致的研磨质量下降；另外，由于设置了穿通沉积槽与盘体外部的导流槽，因此碎屑还能够及时地、容易地被冲刷到盘体外部，从而提高了研磨的生产效率。

附图说明

图1是本实用新型下盘体立体图；

图2是图1所示A处的局部放大图；

图3是本实用新型下盘体俯视图；

图4是沿图3所示B-B的剖视图。

具体实施方式

本实用新型结构如图1、2、3、4所示，它包括相对应的上盘体1和下盘体2，盘体包括基体，基体表面镀有金刚石作为耐磨层，在上盘体1下表面和下盘体2上表面对应设置环形的研磨槽3，下盘体2上表面设置两个研磨槽3，它们以盘体中心为圆心形成同心环，研磨槽3的截面是半圆形，下盘体3的研磨槽3的底部开有环形的沉积槽4，沉积槽4开在研磨槽3的最底部，宽度和深度都约为研磨槽3宽度的五分之一；下盘体2上表面还开有穿通沉积槽4及盘体外部的导流槽5；导流槽5有三个，在下盘体2表面呈辐射状，并在圆周内均匀分布。

实际使用时，在研磨槽3内放置待研磨的球状首饰配件，使上下盘体相对转动，并向研磨槽3中不断注水以增加润滑，于是球状首饰配件在研磨槽3内转动并被研磨，研磨产生的金刚石碎屑、球状首饰配件的碎屑等由于重力自动落入沉积槽4内，然后在随水流进入导流槽5并流到下盘体2外部，如图2中箭头所示。

由于碎屑能够及时地、容易地被冲刷到盘体外部，从而提高了球状首饰配件研磨的质量和生产效率，尤其适合于脆性材质(如锗)的球状首饰配件。

Claims (7)

1.一种磨盘，它包括相对应的上盘体和下盘体，在上盘体下表面和下盘体上表面对应设置环行的研磨槽，研磨槽的截面为半圆形，其特征在于，在下盘体的研磨槽底部开有沉积槽，下盘体上表面还开有穿通沉积槽延伸至下盘体外部的导流槽。

2.根据权利要求1所述的磨盘，其特征在于，环形的研磨槽至少有两个，以下盘体中心为圆心形成同心环。

3.根据权利要求1所述的磨盘，其特征在于，沉积槽开在研磨槽的最底部，其宽度远小于研磨槽的内径。

4.根据权利要求3所述的磨盘，其特征在于，沉积槽宽度和深度均约为研磨槽内径的五分之一。

5.根据权利要求1、2或3所述的磨盘，其特征在于导流槽有三个，在下盘体表面呈辐射状，并在圆周内均匀分布。

6.根据权利要求1、2或3所述的磨盘，其特征在于上、下盘体分别包括基体，基体上设置耐磨层。

7.根据权利要求6所述的磨盘，其特征在于所述耐磨层为镀金刚石层。

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