CN2586974Y - 一种光学焦平面补偿机构 - Google Patents
一种光学焦平面补偿机构 Download PDFInfo
- Publication number
- CN2586974Y CN2586974Y CN 02288905 CN02288905U CN2586974Y CN 2586974 Y CN2586974 Y CN 2586974Y CN 02288905 CN02288905 CN 02288905 CN 02288905 U CN02288905 U CN 02288905U CN 2586974 Y CN2586974 Y CN 2586974Y
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- focal plane
- compensator
- mark
- alignment
- compensation mechanism
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 abstract 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Lenses (AREA)
Abstract
一种光学焦平面补偿机构,为一盘形的机械框架结构,在框架结构中,以显微物镜基线长度为直径的圆周上,分布着不同规格的光程补偿器,对径位置上的一对补偿器规格相同,其中一对的补偿量为零。本实用新型用于底面对准的双面光刻机的对准***上,通过改变显微镜物镜和对准标记之间一定厚度的光学介质来改变物镜的前工作距,实现掩摸上的标记与样片底面上标记的对准,在调焦过程中,摆动和侧向位移小,调焦判读客观准确,操作方便,结构简单、小巧,成本低。本实用新型也可用在非接触式的测量等其他领域。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种光学焦平面补偿机构。
背景技术
现有的光学焦面补偿机构采用的是机械式调焦机构,它是靠一个一维工件台前后移动显微物镜来实现,靠眼睛主观判断焦面,在调节过程中,工件台的导轨间隙会引起标记相对光学***的摆动和侧移,且焦面的判读存在着主观性误差。
实用新型内容
本实用新型的技术解决问题是:提供一种焦平面补偿机构,这种焦平面补偿机构是通过改变显微镜物镜和标记之间一定厚度的光学介质来改变物镜的前工作距方法来实现焦面调节,从而减小了标记相对光学***的侧向位移。
本实用新型的技术解决方案是:一种光学焦平面补偿机构,其特点于:它为一盘形的机械框架结构,在框架结构中,以显微物镜基线长度为直径的圆周上,分布着不同规格的光程补偿器,对径位置上的一对补偿器规格相同,其中一对的补偿量为零。
本实用新型安装在一个球面调平机构上,对准时,根据样片规格,先设定好显微物镜到掩摸间的间隙,选择匹配的补偿器对,将补偿器相对掩摸调平,这时,掩摸上的标记刚好位于显微物镜的焦平面上;记录下其成像位置后,放入样品,设定样品与掩摸之间的间隙并调平,选择补偿量为零的补偿器,显微物镜焦面下降,样品底面的标记刚好位于显微物镜焦平面上,达到焦面补偿的目的。
本实用新型与现有技术相比具有如下优点:取代机械调焦机构,改善了调焦过程中机械式调焦机构运动引起图像的侧向位移和焦面的判读的主观性误差,降低了其结构的复杂性和加工装调难度,降低制造成本。
本发明与现有技术相比有以下优点:
(1)调焦过程中,标记相对光学***摆动及侧向位移小;
(2)调焦判读客观准确,不受主观因素影响;
(3)其结构简单、小巧,降低了加工装调难度和成本。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的光程偿器结构示意图。
具体实施方式
如附图1所示,本实用新型是由机械框架结构1和光程补偿器2构成,在盘形的机械框架结构1中,以显微物镜基线长度为直径的圆周上,分布着不同规格的光程补偿器2,对径位置上的一对补偿器2规格相同,每对补偿器2的补偿量都是根据不同规格的样片及间隙来设计的,补偿器的补偿量是由其厚度决定的,假设样片厚度t,掩模与样片间间隙f,空气的折射率为1,根据平行平板玻璃的光学特性,为了使补偿前后物镜的工作面分别在样片和掩模底面上,补偿器的厚度为
补偿量Δ=t+f。其中,n为补偿器材料的折射率。根据不同的样片厚度t1、t2、t3…,得到相应的补偿器厚度d1、d2、d3...,从而获得不同的补偿量Δ1、Δ2、Δ3...,其中一对的补偿量为零。
如图2所示,光程补偿器2为有两个相互平行的折射平面构成的圆形的玻璃平行平板21结构,其介质材料22均匀,两平行平面23的面形为
平行度小于0.01秒。光程补偿器的工作原理为平行平板玻璃的成像原理:平行平板使像或物沿光轴向光线行进方向平移
n为平板材料的折射率,d为平板厚度。加入补偿器后,将物镜前工作距由样片底面拉伸到掩模底面。按补偿原理,从第一焦平面到第二焦平面,引起掩摸图像侧移的因素主要是:1.补偿器两平面不平行引起光轴偏转;2.补偿机构基准面与掩摸面不平行(即调平误差)引起光轴偏移;3.补偿器两平面与补偿机构基准面不平行光轴偏移。在这些因素中,因素1、3对于一装调好的补偿机构而言,是固定不变的,可作为***误差,加一个修正量来剔除掉。对于因素2,调平误差可做到小于0.01秒,补偿器厚度不超过3毫米,假设补偿器介质的折射率为n=1.5,这时侧向位移量δ=0.025um。远小于所需的对准精度。另外,此结构焦面调节由计算得出,不受主观因素影响。例如,在一次底面对准过程中,曝光样品厚度为0.5mm,曝光间隙为20μm,选择补偿器材料的折射率为n=1.5,厚度为1.08mm,其补偿量刚好为样品厚度和间隙之和。先记录掩模上的标记,如图2右边所示,放入光程补偿器2,将掩模标记调节至显微镜物镜的焦面上,用CCD记录下位置标记位置;放入样品,设定好间隙,选择补偿量为零的补偿器,显微物镜的焦面不需调节,刚好落在样品底面的标记上,如图2所示,这样就消除了机械调焦带来的侧移。
Claims (3)
1、一种光学焦平面补偿机构,其特征在于:它为一盘形的机械框架结构,在框架结构中,以显微物镜基线长度为直径的圆周上,分布着不同规格的光程补偿器,对径位置上的一对补偿器规格相同,其中一对的补偿量为零。
2、根据权利要求1所述的光学焦平面补偿机构,其特征在于:所述的光程补偿器为圆形平板结构,平板面与盘形机械框架结构基准面平行。
3、根据权利要求2所述的光学焦平面补偿机构,其特征在于:所述的圆形平板结构为圆形玻璃平板结构,其中两玻璃平面平行,其内部介质材料均匀。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 02288905 CN2586974Y (zh) | 2002-11-26 | 2002-11-26 | 一种光学焦平面补偿机构 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 02288905 CN2586974Y (zh) | 2002-11-26 | 2002-11-26 | 一种光学焦平面补偿机构 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN2586974Y true CN2586974Y (zh) | 2003-11-19 |
Family
ID=33748623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 02288905 Expired - Fee Related CN2586974Y (zh) | 2002-11-26 | 2002-11-26 | 一种光学焦平面补偿机构 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN2586974Y (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013218020A (ja) * | 2012-04-05 | 2013-10-24 | Mitsutoyo Corp | ガラス厚補正アダプタ、及び対物レンズ |
-
2002
- 2002-11-26 CN CN 02288905 patent/CN2586974Y/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013218020A (ja) * | 2012-04-05 | 2013-10-24 | Mitsutoyo Corp | ガラス厚補正アダプタ、及び対物レンズ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW528881B (en) | Position measuring apparatus | |
CN105842995B (zh) | 曝光装置、移动体装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法 | |
KR101240130B1 (ko) | 노광 장치, 노광 방법, 및 마이크로 디바이스 제조 방법 | |
KR101240221B1 (ko) | 광학 시트 라미네이팅 방법, 광학 시트 라미네이팅 디바이스 및 이와 함께 이용된 프로그램, 및 디스플레이 디바이스 | |
KR102062509B1 (ko) | 주사 노광 장치 | |
CN201016713Y (zh) | 具有空气轴承转台的光学定中仪 | |
CN102645847A (zh) | 测量方法、测量设备、光刻设备及器件制造方法 | |
JP2001168000A (ja) | 露光装置の製造方法、および該製造方法によって製造された露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法 | |
CN1684002A (zh) | 平版印刷装置和器件制造方法 | |
CN103940377A (zh) | 光学镜头球心偏差测量装置 | |
CN101551508A (zh) | 像位置调整装置以及光学装置 | |
KR20170077190A (ko) | 노광 장치 및 노광 장치를 위한 조정 방법 | |
US5103257A (en) | Process for producing or inspecting micropatterns on large-area substrates | |
KR20070083543A (ko) | 투영 광학계, 노광 장치 및 노광 방법 | |
CN100395582C (zh) | 投影光学***和图形描画装置 | |
CN102736422B (zh) | 一种接近式逐场曝光装置与方法 | |
CN2586974Y (zh) | 一种光学焦平面补偿机构 | |
CN1462471A (zh) | 成像特性的测量方法和曝光方法 | |
CN108873274A (zh) | 一种大视场双远心镜头 | |
CN109884060A (zh) | 一种用于数字切片扫描仪的精密对焦装置 | |
JP5532698B2 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
CN114047676B (zh) | 纳米压印校准***、校准方法及纳米压印设备 | |
CN209727783U (zh) | 用于数字切片扫描仪的精密对焦装置 | |
US20210232051A1 (en) | Method for adusting a first element of a lithography apparatus towards a second element of a lithography apparatus by a tunable spacer | |
JP2009169255A (ja) | 露光装置及び基板の製造方法ならびにマスク |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C19 | Lapse of patent right due to non-payment of the annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |